JPH06508536A - 生体吸収性エレメント中の微細構造の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 生体吸収性エレメント中の微細構造の製造法本発明は、生体における医療用途に 使用する生体吸収性エレメントにおける微細構造の製造法に関する。該エレメン トは、例えば、ＷＯ２０１０７３０８号に記載されるような、エレメントを取り 囲む組織を分離し、ガイドすることにより再生させる方法による治癒過程に選択 的に影響させて使用できる。典型的には、該エレメントに使用する生体吸収性材 料はヒドロキシ酸、ヒドロキシエーテル酸、ラクトンおよびその環状ダイマー、 または環状カーボネートのようなモノマーの重合によって形成されるホモポリマ ーおよびコポリマーから得られる。かかるモノマーの例としては、グリコール酸 、乳酸、ε−カプロラクトン、トリメチレンカーボネート、バラジオキサノン、 １，５−ジオキモパン−２−オン、バレロラクトンおよびβ−ブチロラクトンが ある。エレメントはまた、ヒドロキシブチレートまたはヒドロキシブチレートお よびヒドロキシバレレートのいずれかのコポリマーとして知られる天然のポリマ ーからも得ることができる。該エレメントにおけるこれらの材料の使用は、これ らの材料が水との接触により分解し、それにより、代謝され、体から排泄される より小さな分子に崩壊するので好ましいものである。かくして、組織は障害な（ 治癒され、完全治癒後は体内に何の異物も残らず、これにより長期にわたり、例 えば、感染およびその他の合併症のような危険が除かれる。

生体組織の再生法に使用されるべきエレメントはまた、材料とは関係のないある 種の性能を有しなければならない。そのような性能には、１）エレメントは移植 部位に固定されるべきこと、２）エレメントは部分的に、または全体的に異なる 種類の組織を分離すべきであり、それにより、早期の一体化または２つの異なっ た組織が一体となる前のプレープログラムされた初期完全分離を可能にする、３ ）エレメントは長期にわたり、エレメント内への、またはそれを通す生長をブロ ックしなければならないこと、 が包含されつる。

このような性能はエレメントまたはその表面へ微細構造を組み込むことにより達 成できる。典型的には、この微細構造は数平方ミリメーター程度の大きいものか ら、数平方ミクロン程度の小さいものまでの寸法とすることができえ、また、０ 〜８０％、好ましくは２〜５０％の範囲の表面を覆うことができつる。該微細構 造は、相互に密接した位！または相互に、より離れた位置の微細構造域を含め、 連続模様または不連続模様とすることができる。該微細構造は、例えば、円形ま たは角形のような開口、溝および、例えば、盲孔のような「（ぼみ」のごとき種 々の形状を取ることができる。

関連する、または匹敵する微細構造を得るために使用できる従来技術には、打ち 抜き、凍結乾燥、予め配置した結晶の抽出または昇華、および遠赤外レーザー技 術が包含される。

機械的打ち抜きは、打ち抜くべき開口の横断寸法が７０μｍより小さい場合は打 ち抜きが困難であり、また、大きい寸法の場合も、多くの開口を小さい面積中に 作るときも困難である。機械的打ち抜きの成功は、開口を作るべき材料の機械的 特性およびエレメントの三次元的デザインに大いに依存している＠この技術の明 らかな制約は、エレメントを通過する開口が作れるだけであることである。

凍結乾燥技術によ九ば、エレメントの内部または表面に孔または「きめ」のラン ダムな模様が作れるだけである。抽出および昇華技術についても同様であり、結 晶を構造的かつ設計した様式で配置するのが困難である。昇華法は、昇華操作の 間に、予め配置した結晶の全てを除去するのに困難を来すことがあり・また・抽 出法は抽出操作後のエレメント中に水または有機溶媒の残留を来すことがあり、 除去に慎重を要する。さらに、エレメントの損傷または破壊なしに抽出法または 昇華法で結晶を完全に除去するのは困難である。

赤外レーザー技術は長年にわたり、ｃ０２およびＮｄ・ＹＡＧレーザーの形で使 用されている。各１０．６および１．０６μＩの波長で操作されるこのようなレ ーザーの典型的な使用は切断または孔あけの目的であり、材料にビームを当て、 溶融および燃焼または蒸発させる。その波長が電磁スペクトルの赤外部にあるビ ームは格子振動により材料内部に高い熱を生じる。この微細構造作製の原理は、 ポリラクタイドまたはポリイコライドのような熱感受性ポリマーとの組合わせで は使用できない。なぜなら、作製される微細構造が高い熱により破壊され、また は微細構造周辺の材料がひどく分解され、大量の水の吸収ついで膨潤による移植 後のエレメントの寸法安定性を低下させる。上記技術の全ては、それらが所望の 形状および寸法の微細構造製造の目的に使用できないという制約または不利な点 を持９ている。

８０年代に、エキシマレーザ−技術が開発された。これらのレーザーは、３０８ ．２４８および１９３ｎｍのごとき紫外線の範囲における離散的波長を有するパ ルスビームにて作動するが、それらの波長に限定されるものではない。かかる光 の高フォトンエネルギーは、はとんどの有機分子において化学結合を切断するの に必要なのと同じオーダーのものである。当該微細構造を作るべき材料の分子が 、用いる特定波長の吸光係数が高い化学構造を有するならば、該材料に到達する これらのレーザーの出力エネルギーのほとんどは、該材料中で起こるであろう光 化学結合の切断過程によって消費され、該エネルギーの非常に低い割合しか該材 料を加熱する熱エネルギーに変換されないであろう。かかる加熱の結果、影響を 受けるべきでない加工中のエレメントの部分もしくは領域は、分解されるか、あ るいは融解され得る。従って、低レベルの熱エネルギーに変換されるエネルギー の割合を保持するのは非常に重要である。これは、特に、前記した一群の脂肪族 ポリエステルもしくはポリカーボネートのごとき熱感受性材料の場合に当てはま る。光アブレーション過程、例えば、光による表面からの材料の除去の開始は、 該材料の表面におけるレーザービームのエネルギー密度にも依存する。アブレー ンヨン過程を開始させるためには、閾値エネルギーと呼ばれるある種の障壁を克 服しなければならない。該閾値エネルギーは、形成される大多数の分子による圧 力が、排除すべき分解された材料のために十分に高いレベルまでとなるように、 該材料の表面層における十分な数の結合を切断するのに要するパルス当たりのエ ネルギー密度である。該技術は、数年間、芳香族ポリエステル、例えば、ポリエ チレンテレフタレート、芳香族ポリカーボネートおよびポリイミドのごときその 繰り返し単位に芳香族基を含有するポリマーに使用さてきたが、典型的なエキシ マレザーの波長において高吸光係数を有するこれらのタイプの材料もまた高熱安 定性を有するポリマーとして公知である。かかるポリマーはＷＯ２７１０３０２ １で言及されており、そこでは、繊維および同様のエレメントにおいて、上昇お よび下降形状の微細構造を生成するエキシマレーザ−の使用方法を記載している 。

その場合の典型的な深さもしくは高さは０．１ないし２μｍの範囲であるが、１ ０μｍも記載されている。上昇または下降の間隔は１ないし５μｍの範囲である 〇レーザーのエネルギー密度は５ないし５００ｍＪ／ｃｍ”、好ましくは、２０ ２０−５Ｏ／ｃｍ”の範囲である。微細構造に伴う該繊維の比表面積の増加の結 果、優れた濾過特性および高い染料吸収能も有する構造が得られる。該構造は、 医学、外科縫合材料、補綴品および人工静脈の分野で有利性を提供することが要 求される。

インプランテーションに用いられ、生体内で水と接触して加水分解されるポリマ ーで作られたエレメント（加水分解生成物は周囲の組織によって吸収され、代謝 され、排出される）である生体吸収性エレメントは、通常、脂肪族ポリエステル および脂肪族ポリ、カーボネートまたはそれらの共重合体を含む群から選択され る少なくとも１種のポリマーの主要部分（通常少なくとも７０重量％）よりなる 材料で作られている。かかるポリマーの例は、ポリラクチド、ポリグリコリド、 ポリ−ε−カプロラクトン、ポリ−バレロラクトン、ポリ−ヒドロキシブチレー ト、ポリ−１，４−ジオキサン−２−オソ、ポリ−１，５−ジオキセバンー２− オン、ポリ−トリメチレンカーボネートまたはそれらの共重合体もしくはブレン ドである。脂肪族ポリエステルであるこれらの材料は、２００ｎｍを超える紫外 領域に非常に弱い紫外線吸収結合を有する。また、それらは、熱に暴露されたと きに非常に不安定であることが知られている。軟らかい材料を得るために、該材 料を可塑化する場合はなおさら不安定である。通常、前記ポリマーに選択される 可塑剤は、アセチル化もしくは非アセチル化クエン酸エステルのエチル、ブチル およびヘキシルエステル、トリアセチンまたは前記モノマーの１つから作られた 工ないし１０の繰り返し単位のオリゴマーであるが、かかる選択はこれらの材料 を限定するものではない。

本発明は、２４８ｎｍの最大波長および少な（とも２００ｍＪ／ｃｍ”の材料表 面におけるエネルギー密度で作動させるエキシマレーザ−の使用により、脂肪族 ポリエステルもしくは脂肪族ポリカーボネートまたはそれらの共重合体を含めた 群から選択される少なくとも１種のポリマーの主要部分から構成される材料より なる生体吸収性エレメントに微細構造を生成させる方法を提供する。　この方法 により、該エレメントにおける最小の分解が達成され、高吸水性という問題を低 減化させる。高吸水性は膨潤に至り、該エレメントの変形を引き起こし、これは 、特にグリコリドとラクチドとの共重合体の場合に顕著であり、また純粋なポリ ラクチドの場合もそうである。医療装置への微細構造の取込は、通常、１または それを超える特別の目的を有しており、これらのうちい（っかは前記した。ある 期間を超えてこれらの構造の形状を維持することが重要である。吸収性ポリマー は、ポリマー材料の機械的強度が、加水分解生成物および吸収された水により内 部から該材料に作用する力および圧力よりも低くなる時点まで分子量が加水分解 によって低下して−しまうと、変形を開始することが通常知られている。再吸収 のこの過程における最初の段階は水の摂取であり、これは、該エレメントにおい て応力の解放および容積の変化、膨潤を引き起こし、従って、該エレメントは変 形を開始し、続いている加水分解のため後の段階において断片に破壊される。イ ンプランテーションに用いる予備成形したエレメントの寸法安定性のこの問題は 、低分子量ポリマーを含有するポリマー材料で作られたエレメントでより顕著で あり、従って、微細構造の取込のためにレーザービームにエレメントを暴露する 間において、該エレメントにおける熱分解またはいずれかの種類の分解を最小化 するのは特に興味あるものである。レーザービームによって加工されるべきでな い領域であまりにも分解が起こるならば、該エレメントの寸法安定性は大いに低 下するであろう。

製造された微細構造は、生長組織を首尾よくガイドするよう機能するために移植 後のある期間にわたって寸法安定性を有していなければならない。多くの用途に おいて、エレメントはポリグリコライドおよびポリラクタイドの堅いホモまたは コポリマーよりもむしろ柔軟な可鍛性物質で製造されるべきである。ポリグリコ ライド、ポリラクタイドおよびそれらのコポリマーまたはブレンドを可塑化し、 柔軟性および可鍛性を持たせることができる。しかし、可塑剤を用いることの欠 点は、水の吸収による物質の膨潤である。水の吸収度は、用いる可塑剤およびポ リマーの選択により調整することができる。あらゆる場合において、膨潤はまた 、主要マトリックス成分として用いるポリマーの分子量に依存する。かくして、 微細構造を作製させるためのレーザー処理は、微細構造が作製されるべき場所以 外の別の箇所で（広範な）鎖切断を生じさせないことが非常に重要であり、すな わち、熱の蓄積による材料の熱分解は最小限に保持しなければならない。

添付図面に関して、 図１はエキシマレーザ−を２４８ｎｍで操作することで製造された微細構造を有 するエレメントの顕微鏡写真であり、図２はエキシマレーザ−を２４８ｎｍで操 作することで製造され、生理食塩水中に２４時間浸漬させた微細構造を有するエ レメントの顕微鏡写真であり、図３は図２に示される型のエレメントであって、 生理食塩水中に１５日間浸漬させたエレメントの顕微鏡写真であり、図４はエキ ツマレーザーを１９３ｎｍで操作することで製造された微細構造を有するエレメ ントの顕微鏡写真であり、図５はエキシマレーザ−を１９３ｎｍで操作すること で製造された、別の形状の微細構造を有するエレメントの顕微鏡写真であり、図 ６は該微細構造の製造用のレーザーと光学装置の略図であり、図７は溶融速度ま たはアブレート深度（ミクロン／レーザーパルス）ＶＳ。

エネルギー密度またはフルーエンシー（ｍＪ／ｃｍりを示すグラフであり、およ び 図８はテーパ角（ラジアン）ＶＳ、エネルギー密度またはフルーエンノー（ｍ　 Ｊ　／　ｃ　ｍ”）を示すグラフであって、さらにテーパ角を示す概略図も示さ れている。

実施例が記載されており、それを実施すると、典型的な直径が２００ＡＬｍで、 ホール間の中心距離が典型的には４００μｍであるホールが製造される。１００ μｍ厚の可塑化ポリ乳酸のフィルム表面に、該ホールを亀甲型に配置した。２種 類の組成を用いた： １）　１５重量％のアセチルトリーｎ−ブチルクエン酸で可塑化した、７５重量 ％のポリーｄ、１−乳酸および１０重量％のポリ−ニー乳酸、および２）　２０ 重量にのエチル末端処理した乳酸オリゴマーで可塑化した８０重量％のポリーｄ 、１−乳酸 これらの実験で用いた波長は３０８．２４８および１９３ｎｍであり、パルス数 は低く、典型的には５Ｈｚ以下に保持した。３０８ｎｍでは、アブレーション過 程は開始せず、その表面にホールは形成されなかった。

レーザー光の波長が２４８または１９３ｎｍである場合、光アブレーションが前 記の２種類の両方の異なるタイプのフィルムにて生じた。しかし、２種類の異な る波長を用いた場合、その結果において著しい違いがあり、２４８ｎｍは低パル ス数で良質のホールを製造した。しかし、図１から分かるように、パルス数の増 大は、材料が溶融したため、エツジが明らかに丸みを帯びたホールを製造した。

さらに、ガスポケットがあると考えられ、ホールの回りに小さな泡を見つけるこ とができた。これらのガスポケットは、材料組成２で明白であり、確かにポリマ ーの熱分解によるものであるが、通常、これらの種類の材料中に見られる、残り の水によるものかもしれず、材料の加熱で蒸発する。熱分解により形成された蒸 気またはガスが材料中で膨張し、泡を形成する。

製造されたホールを肉眼検査により判断した場合に良好な結果が得られるように 、ポリマーフィルムは裏材料、例えば、スチール、ガラスまたはいずれの不活性 材料に備えてレストを有していなければならず、それがポリマーフィルム中に蓄 積された熱を吸収させ、移動させうる。低パルス数で製造させた微細構造および 適切に選択した裏材料を有するフィルムのｒｉｎ　ｖｉｔｒｏＪにおける寸法安 定性を試験するのに、フィルムを、ｐＨ７，４のリン酸緩衝生理食塩水中に入れ 、３７℃でインキュベートした。このような試験の結果を図２に示す。１日後、 各ホールの周辺で不透明な環を容易に見つけることができた。ホールの壁帯に近 いまたはその壁帯の材料にて見られるこの不透明色は、典型的には水の吸収によ り脂肪族ポリエステル中にて形成され、レーザービームにより影響を受けた領域 でかなり急速な多量の水が吸収されたことを意味する。これについての説明は、 レーザービームに当たっていない材料中に蓄積される熱により生じる熱分解によ るものであり、ポリー乳酸ポリマー中に多量の遊離鎖末端を生成する。極性であ る鎖末端が該ポリマー中により親水性の雰囲気をもたらし、かくして、速やかな 水の吸収が生じ得る。

第３図は、ちょうどよい時に、典型的には、５〜１５日目に、これによって、材 料が膨潤し始めると微細構造が変形し、最後に該構造が破壊されることを示す。

肉眼検査によって良好に見える微細構造を作ることが可能である場合でさえ、２ ４８止エキシマ−レーザーを使用することによって、これらの構造は、熱効果の 影響下で起こるポリ、マー組成物の化学的変化によって当該エレメントの移植直 後に変形し始める。

第４図および第５図は、レーザーが１９３龍ｍで操作された場合の結果を示し、 第５図は、長方形の穴を示す。結果は、全（異なったものになり、５３Ｈｚまで のパルス速度でさえ、穴の周囲には熱損傷は全く検出されなかった。いずれの形 態の基材も使用する必要はなく、ｒｉｎ　ｖｉｔｒｏＪインキュベーションによ って、吸水が未処理フィルムについてと同様に非常に多かったことが判明した。

これは、１９３ｒ＋ｍでの増大した熱およびＵＶ光の散乱による分解が非常に低 いこと、ならびにエネルギーのほとんどが融触工程のために使用されることを示 す。当該穴は、非常に正確であり、これらのタイプのポリマーにおいて通常予想 される膨潤と同様に、微細構造の膨潤は、２０日後に観察されない。

第６図は、エレメントの表面上に、ある種のパターンおよび微細構造を生じさせ るために使用するレーザーおよび光学装置の略図を示す。レーザー１０からの光 は、レーザー光を隠蔽するのに使用する金属製マスク１２の表面の上でミラーユ ニット１１によって走査する。該マスクの像は、視野レンズ１３および結像レン ズ１４によって、処理されるべきエレメントの表面上に投影される。ｘ−ｙテー ブル１５の使用によって、該エレメントは、大きい対象物を走査でき、同時に、 所望の光融蝕工程が起こるのに必要なエネルギー密度を維持できるような方法で 移動され得る。

さらにまた、処理されるべきエレメントの表面上に投影されたマスクの焦点を維 持することは、前記のような高感度材料を処理する場合に非常に重要なことであ る。焦点を維持するために、マスクおよびレンズ間の距離ならびにレンズおよび 処理されるべきエレメント間の距離を一定に維持することが必要である。これは 、レンズおよびエレメント間の距離が高精度に一定に維持されるように、フレー ムに堅固にエレメントを保持するか、または、ある構造上にそれを支持すること によって行うことができる。かかるフレームまたは支持体は、金属または同等の 材料から製造されるのが好ましい。

前記のような投影−システムを使用する代わりに、エレメントと密接に接触して いるマスクを有することによって、微細構造をエレメント中に製造することがで き、これによって、光の焦点を合わせることの問題が除外される。該マスクは、 レーザー光が該マスクに命中した場合に該マスクから発生する外来粒子によるエ レメントの汚染の危険性を最小限にするために、表面から、典型的には０〜５龍 、好ましくは、０〜１市持ち上げることもできる。かかる汚染は、典型的には、 マスクが金属製である場合には金属ダストである。

以下の実施例は、前記組成物の純粋な可塑化ポリラクチドにおいて、前記性質を 有する微細構造を生じさせるために、エキシマ−レーザーを使用することの適用 を説明する。

実施例１ ３５０龍の焦点距離を有する球面レンズによって、２０Ｘ１０ｍｍに囲まれた面 積でレーザーパルス当たり約２００ｍＪのエネルギーを放出する、１９３龍ｍで 操作する（フッ化アルゴンガス充填）エキンマーレーザー、クエステク（Ｑ　ｕ ｅｓｔｅｋ）２４４０からの光の焦点を合わせた。該光を、大きさが約７Ｘ３． ５ｍｍの点に拡大した。この点で、光のエネルギー密度は、８００ＩｌｌＪ／Ｃ １に近づいた。切断操作の間じゅう、マスクがポリマー材料に対して動かないよ うに基剤に支持されたポリマーに接近してクランプしたベリリウム銅合金製また は他の金属材料製の適切なマスクの表面上に、この弱化した光を落とした。マス クおよびポリマー材料間の距離は、１００〜２００μｍであった。大きい面積の ポリマーを処理するために、より小さい寸法のレーザー光横断面に対して平行な 方向で光の前後に後者の２つのアイテムを動かすことによって、該光をマスクお よびポリマー上に走査した。切断工程は、光が全面にわたってフィルムを通過す るのが観察されるまで続けた。材料に対する熱損傷が生じないように、充分に低 いレベルにレーザーパルス速度を維持するように注意した。厚さ１３０μｍのポ リラクチドフィルムについては、３０Ｈｚの最大パルス速度を使用した。

本発明において、実施例１記載のレーザー装置を用いて、生じる微細構造の形状 へのレーザーエネ、ルギーの影響を調べた。微細構造は、工ないし８００μｍ、 好ましくは１０ないし４００μｍ間隔の連続的もしくは非連続的なパターンでエ レメント表面を覆う打ち抜き穴、ブラインド穴または溝の形態であってもよい。

詳しくは、かかる微細構造は、エレメントまたはエレメントの一部分を貫通する 穴であってもよい。フィルムまたは箔状のエレメントを越えての栄養摂取に必要 な穴は、工ないし３０μｍの範囲の直径であるのが適当である。エレメントの定 着および合体を目的とする組織のエレメント内への成長にとって、３０〜１００ ０μｍ、そして特に５０ないし５００μｍというディメンションが非常に便利で あることがわかった。言及した形態の生体吸収性材料において工ないし２０００ ０μｍ、好ましくは５〜１０００μｍのディメンションの微細構造を形成するた めには、光切断工程の敷居エネルギー値を越える必要がある。形成された微細構 造の形状に対する異なるエネルギー密度の影響を、図７および８を参考にして述 べる。グラフ中の材料の略号は以下の内容を表す：ＣＫ１２Ｚ：１５重量％のク エン酸アセチルトリーｎ−ブチルで可塑化した７５重量％のポリ−ｄ、Ｉ−乳酸 および１０重量％のポリ−１−乳酸、ＴＭ４Ｄ：２０重量％のエチル末端処理し た乳酸オリゴマーで可塑化した８０重量％のポリ−ｄ、１−乳酸 典型的には、図７に示すように、純粋または可塑化したポリラクチドに対する敷 居エネルギー、すなわち１パルス当たりのエネルギー密度は、約２００ｍＵ／ｃ ｍ”である。エネルギー密度の上限（約１２００ｍＪ／ｃｍ”）も存在し、この 値以上では、熱の影響が出始め、材料除去の効果も減少するという事実により、 この値が設定されている。該微細構造を形成する目的ならば、加工すべきエレメ ント表面において、２００ないし１２００ｍＪ／ｃｍ”、好ましくは４００ない し１０１００Ｏ／ｃｍ”の間のエネルギーを有することが必要である。切削用− ザーにより形成されたすべての構造は先細り（テーパー）型である。すなわち穴 の入り口端は、つねに出口端よりも広い面積を有する。図８に示すように、テー パー角は材料の組成およびビームのエネルギー密度に依存する。図８に示すよう に、低エネルギー訃度ではテーパー角は非常に大きくなりつるが、エネルギー密 度が増大するにつれて、テーパー角は小さくなるであろう。形成すべき微細構造 の形状およびその目的に応じて、エネルギー密度を適切なレベルに調節すること が必要である。例えば、３００ｍＪ／ｃｍ”のエネルギー密度を用いることによ り、１００μｍ厚のエレメントに直径１００μｍの円形の穴または貫通孔が形成 され、その出口直径は約２０μｍであるが、一方、８００ｍＪ／ａｍ”のエネル ギー密度を用いる場合には、出口直径は９０μｍとなるであろう。それゆえ、所 望の微細構造のディメンションを伴う適切な切削速度を与えるエネルギーを選択 することが必要である。５０μｍまでの深さの穴が必要とされるより薄いエレメ ントについては、かかるエネルギー密度は、３００ないし５００ｍＪ／ｃｍ２の 範囲であることがわかり、２５０Ｉｔｍまでの深さの穴が必要とされるより厚い エレメントについては、５００ないし１０１００Ｏ／ａｍ”の範囲、好ましくは ７００ないし９００ｍＪ／ｃｍ”の範囲であることがわかる。ポリラクチドにつ いては、８００ｍＪ／ｃｍ”のエネルギー密度を用いると、テーパー角は、典型 的に２５０μｍまたはそれ以下の深さの穴を有する構造に対する許容範囲内であ る。

エレメントを様々に貫通する穴の形状の微細構造を、加工すべきエレメント表面 上にマスクの映像を投影する手法（図６に示すような装置のごとき）を用いるこ とにより形成する、さらなる実施例を示す。

実施例２：ルモニクス（Ｌｕｍｏｎｉｃｓ）切削器６００型の切削用レーザーの ビーム（１９３ｎｍにおいて約２００ｍＪのエネルギー）のサイズを適当な光学 装置を用いて調節し、適当なマスク表面において１００ｍＪ／ｃｍ”のエネルギ ー密度が得られるようにした。フィールドレンズおよび映像化レンズからなる光 学投影装置を組み立てて高分子表面にマスクの縮小映像を発生させた。１３０μ ｍ厚のポリ乳酸フィルムを切断する特別な例については、３倍率の直線的縮小装 置を用いた。この材料については、ポリラクチドフィルムを、ケイ素ガラスの窓 のついたカセットに保持し、ポリラクチドをつねに滅菌環境に維持しておいた。

ポリマー上の広い面積を覆うために、移動ミラーを用いて適当な点状または線状 のスキャンパターンでマスク・上をスキャンした。この工程の間、ポリマーに対 応する３倍縮小サイズのパターンもスキャンした。ポリマーフィルムを貫通して 完全に所望の構造が形成されるまで、この工程を続行した。用いるレーザーパル ス速度は、材料に熱によるダメージを生じさせないレベル以下にパワー人力を保 つために、スキャンされるポリマーフィルムの面積およびスキャン速度に依存し た。例えば、２０Ｘ１０ｍｍの面積のスキャンすべきポリマーに対しては、レー ザーパルス速度を３０Ｈｚ以下に保った。

溶蝕速度（ミクロン／ショット） テーパ角（ラジアン） 国際調査報告 国際調査報告 フロントページの続き （８１）指定国　ＥＰ（ＡＴ、ＢＥ、ＣＨ，ＤＥ。

ＤＫ、ＥＳ、ＦＲ，ＧＢ、ＧＲ，ＩＴ、ＬＵ、ＭＣ，ＮＬ、ＳＥ）、０Ａ（ＢＦ 、ＢＪ、ＣＦ、ＣＧ、ＣＩ、ＣＭ、ＧＡ、ＧＮ、ＭＬ、ＭＲ，ＳＮ、ＴＤ、ＴＧ ）、ＡＴ、　ＡＵ、　ＢＢ、　ＢＧ、　ＢＲ，ＣＡ、　ＣＨ，Ｃ３，ＤＥ。

ＤＫ、　ＥＳ、　ＦＩ、　ＧＢ、　ＨＵ、ＪＰ、　ＫＰ、　ＫＲ，ＬＫ、　ＬＵ 、　ＭＧ、　ＭＮ、　ＭＷ、　ＮＬ、　Ｎｏ、　ＰＬ、　Ｒ○、　ＲＵ、ＳＤ、 ＳＥ、　ＵＳ （７２）発明者　ランズピー、フィル イギリス国、オックスフォード・オーエックス８・８エルエツチ、ロングハンボ ーロウ、ハンボーロウ・パーク、イグジテック（番地の表示なし）

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. １．最大波長２４８ｎｍで操作されるエクシーマー・レーザーを用いて微細構造 を完成させることを特徴とする、グリコール酸、乳酸、ε−カプロラクトン、ト リメチレンカーボネート、パラジオキサノン、１，５−ジオキセパン−２−オン 、バレロラクトンおよびβ−ブチロラクトンを包含するモノマー群から選択され る、脂肪族ポリエステルおよび脂肪族ポリカーボネートならびにそれらのコポリ マーまたはブレンドを包含する群から選択される少なくとも１つのポリマーの主 要部から構成される材料からなる生体吸収性エレメントにおける微細構造の製造 法。
2. ２．エクシーマー・レーザーが、加工物におけるエネルギー密度１２００ｍＪ／ ｃｍ２以下を生じるように操作される請求項１記載の製造法。
3. ３．エクシーマー・レーザーが、１９３ｎｍの波長で操作される請求項２記載の 製造法。
4. ４．エクシーマー・レーザーが、２４８ｎｍの波長で操作される請求項２記載の 製造法。
5. ５．加工物におけるエネルギー密度を４００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲に保 持する請求項１〜４いずれか１つに記載の製造法。
6. ６．エクシーマー・レーザーによって製造される微細構造の寸法が１〜２０００ μｍの範囲である請求項１〜５いずれか１つに記載の製造法。
7. ７．エクシーマー・レーザーによって製造される微細構造の寸法が３０〜１００ ０μｍである請求項１〜５いずれか１つに記載の製造法。