JPH0650598B2 - RAM / ROM selectable semiconductor memory device - Google Patents

RAM / ROM selectable semiconductor memory device

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JPH0650598B2
JPH0650598B2 JP19810385A JP19810385A JPH0650598B2 JP H0650598 B2 JPH0650598 B2 JP H0650598B2 JP 19810385 A JP19810385 A JP 19810385A JP 19810385 A JP19810385 A JP 19810385A JP H0650598 B2 JPH0650598 B2 JP H0650598B2
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rom
contacts
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ram
memory cell
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浩一 藤井
秀夫 東井
隆司 清玄寺
圭一 吉岡
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、読出し専用メモリ(以下「ROM」とい
う。)としても、書込み読出し可能なメモリ(以下「R
AM」という。)としても使用することのできるメモリ
セルを備えた半導体メモリ装置に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a read / write memory (hereinafter referred to as “ROM”), which is a writable / readable memory (hereinafter referred to as “R”).
AM ”. The present invention relates to a semiconductor memory device having a memory cell that can also be used as a).

(従来技術) 同一チップで可変データ部と固定データ部を必要とする
場合に、独立したRAMとROMを有するチップでは可
変データ部と固定デーフ部の比率によってメモリ領域に
無駄が生じる。そこで、メモリ領域を効率的に使用でき
るようにするために、フリップフロップと書込み読出し
用のゲートとなるMOSトランジスタによって構成され
るメモリセルを有する半導体メモリ装置において、フリ
ップフロップの駆動MOSトランジスタのゲートと共通
電位点の間にコンタクトを設けて、これを開いた状態で
使用するか、閉じた状態で使用するかによって、RAM
としてもROMとしても使用可能としたものが提案され
ている(特開昭55−160392号公報参照)。
(Prior Art) When a variable data part and a fixed data part are required in the same chip, a chip having an independent RAM and ROM wastes a memory area due to the ratio of the variable data part and the fixed data part. Therefore, in order to efficiently use the memory area, in a semiconductor memory device having a memory cell composed of a flip-flop and a MOS transistor serving as a writing / reading gate, the gate of the driving MOS transistor of the flip-flop is used. Depending on whether the contact is provided between the common potential points and is used in the open state or the closed state, the RAM is
Also, a ROM that can be used as a ROM has been proposed (see JP-A-55-160392).

しかし、そのメモリ装置ではメモリセルをRAMとした
場合でもROMとした場合でも1ビット分のメモリセル
としてしか使用できず、メモリセルの利用効率が低い欠
点を有する。
However, in that memory device, even if the memory cell is a RAM or a ROM, it can be used only as a memory cell for one bit, and there is a drawback that the utilization efficiency of the memory cell is low.

(目的) 本発明は同一メモリセルをRAMとしてもROMとして
も使用することができるようにするとともに、ROMと
して使用する場合には2倍の容量をもたせることができ
る半導体メモリ装置を提供することを目的とするもので
ある。
(Object) It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device in which the same memory cell can be used as both a RAM and a ROM, and when it is used as a ROM, the capacity can be doubled. It is intended.

(構成) 本発明の半導体メモリ装置は、フリップフロップと、一
対のビット線と、各ビット線に接続され書込み読出しの
際にゲートとなるMOSトランジスタとを備え、前記M
OSトランジスタが前記フリップフロップ又は一定電位
点のいずれかに接続できるようになっており、かつ、一
対のビット線内を選択するデコーダが接続できるように
なっていることを特徴とするものである。
(Structure) A semiconductor memory device of the present invention includes a flip-flop, a pair of bit lines, and a MOS transistor connected to each bit line and serving as a gate at the time of writing / reading.
The OS transistor can be connected to either the flip-flop or the constant potential point, and the decoder for selecting a pair of bit lines can be connected.

以下、実施例について具体的に説明する。Examples will be specifically described below.

第1図は本発明の一実施例のメモリセルを表わすもので
ある。
FIG. 1 shows a memory cell according to an embodiment of the present invention.

1,2は負荷抵抗素子としてのP型MOSトランジス
タ、3,4は駆動N型MOSトランジスタであり、MO
Sトランジスタ3,4のソースがGND端子に接続さ
れ、MOSトランジスタ1,2のソースが電源Vcc端子
に接続されている。MOSトランジスタ1,3のドレイ
ンの節点NとMOSトランジスタ2,4のゲートとが
接続され、MOSトランジスタ2,4のドレインの節点
とMOSトランジスタ1,3のゲートとが接続され
ることにより、MOSトランジスタ1,2,3,4によ
りフリップフロップが構成されている。
Reference numerals 1 and 2 are P-type MOS transistors as load resistance elements, and 3 and 4 are drive N-type MOS transistors.
The sources of the S transistors 3 and 4 are connected to the GND terminal, and the sources of the MOS transistors 1 and 2 are connected to the power supply Vcc terminal. By connecting the drain node N 1 of the MOS transistors 1 and 3 to the gates of the MOS transistors 2 and 4, and connecting the drain node N 2 of the MOS transistors 2 and 4 to the gates of the MOS transistors 1 and 3. , MOS transistors 1, 2, 3, and 4 form a flip-flop.

13,14はビット線であり、ビット線13にはN型M
OSトランジスタ5のドレインが接続され、ビット線1
4にはN型MOSトランジスタ6のドレインが接続され
ている。MOSトランジスタ5,6は書込み・読出しの
際にゲートとなるMOSトランジスタである。15はワ
ード線であり、ワード線15はMOSトランジスタ5,
6のゲートに接続されている。
13 and 14 are bit lines, and the bit line 13 has an N-type M
The drain of the OS transistor 5 is connected to the bit line 1
The drain of the N-type MOS transistor 6 is connected to 4. The MOS transistors 5 and 6 are MOS transistors that serve as gates when writing / reading. 15 is a word line, and the word line 15 is a MOS transistor 5,
It is connected to the gate of 6.

MOSトランジスタ5のソースにはコンタクト7が設け
られ、フリップフロップの節点Nにはコンタクト11
が設けられている。9はGND端子につながるコンタク
トである。コンタクト7と9、コンタクト7と11はメ
タル配線を形成することにより接続できるように配置さ
れている。また、MOSトランジスタ6のソースにはコ
ンタクト8が設けられ、フリップフロップの節点N
はコンタクト12が設けられている。10はGND端子
につながるコンタクトである。これらのコンタクトもコ
ンタクト8と10、コンタクト8と12がメタル配線を
形成することにより接続できるように配置されている。
A contact 7 is provided at the source of the MOS transistor 5, and a contact 11 is provided at the node N 1 of the flip-flop.
Is provided. Reference numeral 9 is a contact connected to the GND terminal. The contacts 7 and 9 and the contacts 7 and 11 are arranged so that they can be connected by forming a metal wiring. A contact 8 is provided at the source of the MOS transistor 6, and a contact 12 is provided at the node N 2 of the flip-flop. Reference numeral 10 is a contact connected to the GND terminal. These contacts are also arranged so that the contacts 8 and 10 and the contacts 8 and 12 can be connected by forming a metal wiring.

第2図にはメモリセルとデコーダを示す。17は第1図
で示されたメモリセルである。ワード線15にはXデコ
ーダ18が接続されている。一方、一対のビット線1
3,14にはそれぞれMOSトランジスタ22,24が
挿入されており、これらのMOSトランジスタ22,2
4のゲートにはYデコーダ20が接続されている。
FIG. 2 shows a memory cell and a decoder. Reference numeral 17 is the memory cell shown in FIG. An X decoder 18 is connected to the word line 15. On the other hand, a pair of bit lines 1
MOS transistors 22 and 24 are inserted in 3 and 14, respectively.
The Y decoder 20 is connected to the gate of the No. 4.

一対のビット線13,14は適当な位置で切断されてい
る。この切断位置は任意に設定することができる。ビッ
ト線13の切断位置にはコンタクト26,34が設けら
れており、またこの切断位置の近傍にはMOSトランジ
スタ23が配置され、そのMOSトランジスタ23のソ
ース・ドレインにもコンタクト28,36が設けられて
いる。これらのコンタクト26,28,34,36は、
コンタクト26と34の間、又はコンタクト26と28
の間及びコンタクト34と36の間がメタル配線を形成
するとにより接続できるように配置されている。ビット
線14の切断位置にもコンタクト30,38が設けられ
ており、この切断位置の近傍にはMOSトランジスタ2
5が配置され、MOSトランジスタ25のソース・ドレ
インにもコンタクト32,40が設けられている。これ
らのコンタクト30,32,38,40も、コンタクト
30と38の間、又はコンタクト30と32の間及びコ
ンタクト38と40の間がメタル配線を形成することに
より接続できるように配置されている。
The pair of bit lines 13 and 14 are cut at appropriate positions. This cutting position can be set arbitrarily. Contacts 26 and 34 are provided at the cutting position of the bit line 13, and a MOS transistor 23 is arranged near the cutting position, and contacts 28 and 36 are also provided at the source and drain of the MOS transistor 23. ing. These contacts 26, 28, 34, 36 are
Between contacts 26 and 34 or contacts 26 and 28
And the contacts 34 and 36 are arranged so that they can be connected by forming a metal wiring. Contacts 30 and 38 are also provided at the cutting position of the bit line 14, and the MOS transistor 2 is provided near the cutting position.
5 is arranged, and contacts 32 and 40 are also provided to the source / drain of the MOS transistor 25. These contacts 30, 32, 38, 40 are also arranged so that they can be connected by forming metal wiring between the contacts 30 and 38, or between the contacts 30 and 32 and between the contacts 38 and 40.

44はインバータ42を備えた1ビット相当のデコーダ
である。MOSトランジスタ23のゲートはこのデコー
ダ44の反転出力に接続され、MOSトランジスタ25
のゲートはこのデコーダ44の非反転出力である入力端
子46に接続されている。
Reference numeral 44 is a 1-bit equivalent decoder equipped with an inverter 42. The gate of the MOS transistor 23 is connected to the inverted output of the decoder 44, and the MOS transistor 25
Is connected to the input terminal 46 which is the non-inverted output of the decoder 44.

このメモリセルをRAMとして使用する場合は、第1図
においてコンタクト7と11、8と12をそれぞれ接続
し、第2図においてコンタクト26と34、コンタクト
30と28をそれぞれ接続する。コンタクトの接続はマ
スクを用いてメタル配線を形成することにより行なう。
そして、Xデコーダ18により行方向のRAMセル群を
指定し、Yデコーダ20により列方向のRAMセル群を
指定することによって任意のアドレスを指定することが
できる。
When this memory cell is used as a RAM, contacts 7 and 11, 8 and 12 are connected in FIG. 1, and contacts 26 and 34 and contacts 30 and 28 are connected in FIG. The contact is connected by forming a metal wiring using a mask.
An arbitrary address can be designated by designating a row-direction RAM cell group by the X decoder 18 and a column-direction RAM cell group by the Y decoder 20.

一方、このメモリセルをROMとして使用する場合に
は、第1図においてはMOSトランジスタ5のコンタク
ト7をメタル配線でコンタクト9に接続するかしないか
によって「0」又は「1」に固定された一方のROMが
形成され、MOSトランジスタ6のコンタクト8をメタ
ル配線でコンタクト10に接続するかしないかによって
「0」又は「1」に固定された他方のROMが形成され
る。このように、1個のメモリセルから2個のROMが
形成される。また、第2図においては、ビット線13側
ではコンタクト26と28の間及びコンタクト34と3
6の間を接続し、ビット線14側ではコンタクト30と
32の間及びコンタクト38と40の間を接続する。そ
の結果、Xデコーダ18とYデコーダ20によりメモリ
セル内の2個のROMが選択され、加えてデコーダ44
によってそのうちの1個が選択されることになる。デコ
ーダ44はYデコーダの能力を1ビット分増す。
On the other hand, when this memory cell is used as a ROM, it is fixed to "0" or "1" in FIG. 1 depending on whether the contact 7 of the MOS transistor 5 is connected to the contact 9 by a metal wiring. ROM is formed, and the other ROM fixed to "0" or "1" is formed depending on whether the contact 8 of the MOS transistor 6 is connected to the contact 10 by a metal wiring. In this way, two ROMs are formed from one memory cell. Further, in FIG. 2, between the contacts 26 and 28 and between the contacts 34 and 3 on the bit line 13 side.
6 are connected, and between the contacts 30 and 32 and between the contacts 38 and 40 on the bit line 14 side. As a result, the two ROMs in the memory cell are selected by the X decoder 18 and the Y decoder 20, and the decoder 44 is added.
Will select one of them. Decoder 44 increases the Y decoder capability by one bit.

実施例ではメモリセルをCMOS型で構成しているが、
NMOS型で構成してもよい。
In the embodiment, the memory cell is of CMOS type,
It may be of NMOS type.

また、実施例はコンタクトを設け、メタル配線の形成に
よってメモリセルをRAM又はROMに設定できるよう
にしている。
Further, in the embodiment, a contact is provided so that the memory cell can be set to the RAM or the ROM by forming the metal wiring.

本発明におけるメモリセルはまた、ゲートアレイに適用
することもできる。その場合、実施例でコンタクトが設
けられている位置のうち必要な位置にマスクを用いてコ
ンタクトホールを形成した後、さらにマスクを用いてメ
タル配線を形成する。
The memory cell of the present invention can also be applied to a gate array. In that case, after forming a contact hole using a mask at a necessary position among the positions where the contact is provided in the embodiment, a metal wiring is further formed using the mask.

ゲートアレイではYデコーダの構成を変更することは容
易である。したがって、RAMにした場合とROMにし
た場合とでビット線が変化する本発明のメモリ装置をゲ
ートアレイで使用することは有効である。
In the gate array, it is easy to change the configuration of the Y decoder. Therefore, it is effective to use the memory device of the present invention in which a bit line changes depending on whether it is a RAM or a ROM in a gate array.

(効果) 以上説明したように、本発明はメモリセル上及びデコー
ダ部の僅から配線の設定により、1個のメモリセルより
RAMならば1ビット、ROMならば2倍の2ビットを
形成することができ、RAM・ROM共用のメモリセル
として面積効率が高くなる。
(Effect) As described above, according to the present invention, by setting a slight amount of wiring on the memory cell and on the decoder section, one memory cell can form one bit in the RAM and two bits in the ROM can be doubled. Therefore, the area efficiency is improved as a memory cell for both RAM and ROM.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例で使用されるメモリセルを示
す回路図、第2図は本発明の一実施例をデコーダととも
に示す回路図である。 1〜6……MOSトランジスタ、 7〜12,26,28,30,32,34,36,3
8,40……コンタクト、 13,14……ビット線、 15……ワード線、 18……Xデコーダ、 20……Yデコーダ、 44……デコーダ。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a memory cell used in an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention together with a decoder. 1 to 6 ... MOS transistor, 7 to 12, 26, 28, 30, 32, 34, 36, 3
8, 40 ... Contact, 13, 14 ... Bit line, 15 ... Word line, 18 ... X decoder, 20 ... Y decoder, 44 ... Decoder.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 7210−4M H01L 27/10 433 (72)発明者 吉岡 圭一 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (56)参考文献 実開 昭61−93896(JP,U)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location 7210-4M H01L 27/10 433 (72) Inventor Keiichi Yoshioka 1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo No. 6 Within Ricoh Co., Ltd. (56) Bibliography SHO 61-93896 (JP, U)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フリップフロップと、一対のビット線と、
各ビット線に接続さ書込み読出しの際にゲートとなるM
OSトランジスタとを備え、 前記MOSトランジスタが前記フリップフロップ又は一
定電位点のいずれかに接続できるようになっており、か
つ、 一対のビット線内を選択するデコーダが接続できるよう
になっていることを特徴とする半導体メモリ装置。
1. A flip-flop, a pair of bit lines,
M connected to each bit line to serve as a gate for writing and reading
An OS transistor is provided, the MOS transistor can be connected to either the flip-flop or the constant potential point, and a decoder for selecting a pair of bit lines can be connected. A characteristic semiconductor memory device.
JP19810385A 1985-09-02 1985-09-06 RAM / ROM selectable semiconductor memory device Expired - Fee Related JPH0650598B2 (en)

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US07/224,268 US4855803A (en) 1985-09-02 1988-07-26 Selectively definable semiconductor device

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JPS6258493A JPS6258493A (en) 1987-03-14
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