JPH06504845A - 同時多数角度/多数波長の楕円偏光器および方法 - Google Patents
同時多数角度/多数波長の楕円偏光器および方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 65
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 claims description 51
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 38
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 241000282994 Cervidae Species 0.000 description 1
- 101100209986 Rattus norvegicus Slc18a1 gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 238000000711 polarimetry Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J4/00—Measuring polarisation of light
- G01J4/04—Polarimeters using electric detection means
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
- G01N21/211—Ellipsometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0641—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of polarization
- G01B11/065—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of polarization using one or more discrete wavelengths
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
Claims (42)
- 1.研究中の光学系と相互作用するように偏光を方向づけることおよび前記光学 系と相互作用した光の偏りの状態の変化を測定することからなり、単一のビーム 光からの偏光が異なる入射角で光学系と相互作用するように同時に方向づけられ 、かつ、偏りの状態の変化が前記複数の異なる入射角のそれぞれについて測定さ れる楕円偏光法。
- 2.前記光が、光学系の材料を通過することによって、前記研究中の光学系と相 互作用する請求項1記載の楕円偏光法。
- 3.前記光が、光学系の表面から反射することによって、前記研究中の光学系と 相互作用する請求項1記載の楕円偏光法。
- 4.前記光が、単一のビームからの円錐状偏光として、研究中の光学系の表面の 一カ所に方向づけられる請求項1記載の楕円偏光法。
- 5.入射角が少なくとも1〜2°の範囲にわたって変化する請求項1記載の楕円 偏光法。
- 6.入射角の範囲が2°から30°をこえる値までである請求項1記載の楕円偏 光法。
- 7.異なる入射角の光が、研究中の光学系上に光を集める少なくともひとつのレ ンズを介して平行な光を方向づけることにより与えられ、前記レンズが、少なく とも1〜2°の範囲にわたって変化する入射角で光を研究中の光学系上に集束さ せる、焦点距離比に対する有効開口を有している請求項1記載の楕円偏光法。
- 8.研究中の光学系との相互作用のために異なる入射角で方向づけられる光が、 概ね、楕円形の偏光である請求項1記載の楕円偏光法。
- 9.前記偏光が、反射させるために、前記研究中の光学システムの表面の同一の 場所に異なる入射角で同時に方向づけられる請求項1記載の楕円偏光法。
- 10.前記場所の直径が10ミクロン以下である請求項9記載の楕円偏光法。
- 11.前記偏光が単色光である請求項1記載の楕円偏光法。
- 12.前記偏光が2またはそれ以上の準単色波長領域からなり、ひとつを除く残 りすべての波長領域が所定の時間に排除される請求項1記載の楕円偏光法。
- 13.前記測定工程が、研究中の光学系と相互作用した光を、複数の異なる入射 角のそれぞれについて検出することを含む請求項1記載の楕円偏光法。
- 14.相互作用した光が、検出に先だって、少なくともひとつのレンズを通過す ることにより再び集められる請求項13記載の楕円偏光法。
- 15.複数の異なる入射角をもつ相互作用した光が同時に離れたところで検出さ れる請求項13記載の楕円偏光法。
- 16.複数の光検出手段が、相互作用した光を検出するために、前記偏光の入射 面内に配置されたアレイ内に設けられている請求項13記載の楕円偏光法。
- 17.検出した光の波長領域を準単色部分に制限することをさらに含む請求項1 3記載の楕円偏光法。
- 18.研究中の光学系と相互作用した光を分散させる工程および分散した光の入 射角の変化と波長の変化とを検出する工程をさらに含む請求項13記載の楕円偏 光法。
- 19.前記偏光が単色光である請求項13記載の楕円偏光法。
- 20.研究中の光学系と相互作用するように偏光を方向づける手段と前記光学系 と相互作用した光の偏りの状態の変化を測定する手段とからなり、前記偏光を方 向づける手段が、単一のビーム光からの偏光を異なる入射角で光学系上に同時に 方向づける手段を含んでおり、かつ、前記測定手段が、研究中の光学系と相互作 用した光の偏りの状態の変化を、複数の異なる入射角のそれぞれについて測定す る楕円偏光器。
- 21.前記異なる入射角が少なくとも1〜2°の範囲にわたって変化する請求項 20記載の楕円偏光器。
- 22.入射角の範囲が2°から30°をこえる値までである請求項20記載の楕 円偏光器。
- 23.前記同時に方向づける手段が、研究中の光学システム上に光を集める少な くともひとつのレンズを含んでおり、該少なくともひとつのレンズが少なくとも 1〜2°の範囲にわたって変化する入射角で光を研究中の光学系上に集束させる 、焦点距離比に対する有効開口を有している請求項20記載の楕円偏光器。
- 24.前記偏光を方向づける手段が、楕円形の偏光を研究中の光学系上に方向づ ける請求項20記載の楕円偏光器。
- 25.前記研究中の光学系上に異なる入射角で偏光を同時に方向づける手段が、 研究中の光学系上の同じ場所に異なる入射角で光を方向づける請求項20記載の 楕円偏光器。
- 26.前記偏光が単色光である請求項20記載の楕円偏光器。
- 27.前記方向づけ手段が、2またはそれ以上の準単色波長領域からなる偏光を 方向づけ、かつ、ひとつを除く残りすべての波長領域をある時間に選択的に排除 する手段をさらに含んでなる請求項20記載の楕円偏光器。
- 28.前記分析手段が、研究中の光学系と相互作用した光を複数の異なる入射角 のそれぞれで検出する複数の検出器を有してなる請求項20記載の楕円偏光器。
- 29.相互作用した光が前記検出手段によって検出される前に当該光を再び集め る少なくとも1枚のレンズをさらに有してなる請求項28記載の楕円偏光器。
- 30.前記複数の検出器が、相互作用した光を検出するために偏光の入射面内に 配置された光検出器のアレイのかたちをしている請求項28記載の楕円偏光器。
- 31.前記アレイが、その軸が入射面内に延びる線状の光検出器のアレイである 請求項30記載の楕円偏光器。
- 32.前記検出器が、半導体チップ上に一体化された固体感光検出器である請求 項30記載の楕円偏光器。
- 33.相互作用した光を分散させる手段および分散した光の入射角の変化と波長 の変化とを検出する手段をさらに有してなる請求項20記載の楕円偏光器。
- 34.前記偏光が多色光である請求項33記載の楕円偏光器。
- 35.前記偏光を方向づける手段が共通の光軸に沿って進む光を提供するように それぞれ配置された複数の光源からなる請求項20記載の楕円偏光器。
- 36.複数の光源の少なくともひとつからの偏光が研究中の光学系に到達するの を防止する手段をさらに有してなる請求項35記載の楕円偏光器。
- 37.前記防止手段が、シャッター、前記少なくともひとつの光源を消す手段お よびブロックフィルターからなる群のうちのひとつである請求項36記載の楕円 偏光器。
- 38.楕円偏光法のためのサンプルを配列する方法であって、単一のビーム光か らの偏光を異なった入射角で前記サンプルの表面に方向づけて、複数の異なる入 射角のそれぞれに対し前記表面から反射された光を検出するべく前記光を検出器 のアレイ上に反射させることからなり、かつ、前記サンプルの表面に方向づけら れた光ビームの所定の領域内の光線を消滅させる工程、該消滅の結果検出器のア レイのどの領域が反射光によって照射されていないかを決定する工程、および検 出器の正しい領域が反射光によって照射されないようにサンプルの位置に必要な 調整を施す工程を含む、サンプルを配列する方法。
- 39.研究中の光システムと相互作用した光の振幅比tanΨの変化および位相 差Δの変化を前記複数の入射角のそれぞれに対して決定することを含む請求項1 記載の楕円偏光法。
- 40.前記複数の異なる入射角のそれぞれが、狭い範囲の相互作用した光の入射 角である請求項1記載の楕円偏光法。
- 41.前記測定手段が、研究中の光システムと相互作用した光の振幅比tanΨ の変化および位相差Δの変化を前記複数の入射角のそれぞれに対して決定しうる 請求項20記載の楕円偏光器。
- 42.前記複数の異なる入射角のそれぞれが、狭い範囲の相互作用した光の入射 角である請求項20記載の楕円偏光器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US64010091A | 1991-01-11 | 1991-01-11 | |
US640,100 | 1991-01-11 | ||
PCT/US1992/000280 WO1992012404A1 (en) | 1991-01-11 | 1992-01-10 | Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06504845A true JPH06504845A (ja) | 1994-06-02 |
JP3360822B2 JP3360822B2 (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=24566845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50454292A Expired - Lifetime JP3360822B2 (ja) | 1991-01-11 | 1992-01-10 | 同時多数角度/多数波長の楕円偏光器および方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0566657B1 (ja) |
JP (1) | JP3360822B2 (ja) |
KR (1) | KR100203345B1 (ja) |
AT (1) | ATE169400T1 (ja) |
CA (1) | CA2099491A1 (ja) |
DE (1) | DE69226514T2 (ja) |
WO (1) | WO1992012404A1 (ja) |
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JP2002031510A (ja) * | 2000-05-02 | 2002-01-31 | Leica Microsystems Jena Gmbh | 楕円偏光計を備えた光学的測定装置 |
JP2002071462A (ja) * | 2000-05-26 | 2002-03-08 | Soc De Production & De Recherches Appliquees | チャンバ内等に含まれる試料の楕円偏光測定方法および装置 |
US7053991B2 (en) | 2000-10-03 | 2006-05-30 | Accent Optical Technologies, Inc. | Differential numerical aperture methods |
JP2010101898A (ja) * | 2005-01-20 | 2010-05-06 | Zygo Corp | オブジェクト表面の特徴を求める干渉計 |
JP2019144237A (ja) * | 2018-02-09 | 2019-08-29 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | 偏光測定装置、偏光測定方法及び光配向方法 |
WO2021085442A1 (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | 横河電機株式会社 | フーリエ分光分析装置 |
JP2021071303A (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | 横河電機株式会社 | フーリエ分光分析装置 |
US11927483B2 (en) | 2019-10-29 | 2024-03-12 | Yokogawa Electric Corporation | Fourier spectrophotometer with polarization multiplexing optical system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR930703594A (ko) | 1993-11-30 |
CA2099491A1 (en) | 1992-07-12 |
WO1992012404A1 (en) | 1992-07-23 |
EP0566657A4 (ja) | 1994-04-13 |
DE69226514T2 (de) | 1999-04-08 |
EP0566657A1 (en) | 1993-10-27 |
JP3360822B2 (ja) | 2003-01-07 |
ATE169400T1 (de) | 1998-08-15 |
EP0566657B1 (en) | 1998-08-05 |
DE69226514D1 (de) | 1998-09-10 |
KR100203345B1 (ko) | 1999-06-15 |
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