JPH06504628A - UV/EB curable butyl copolymers for lithography and anti-corrosion coating applications - Google Patents

UV/EB curable butyl copolymers for lithography and anti-corrosion coating applications

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JPH06504628A
JPH06504628A JP4503210A JP50321092A JPH06504628A JP H06504628 A JPH06504628 A JP H06504628A JP 4503210 A JP4503210 A JP 4503210A JP 50321092 A JP50321092 A JP 50321092A JP H06504628 A JPH06504628 A JP H06504628A
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オーデット、ジェイ・ダグラス
マセルラース、ケネス・オーデル
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エクソン・ケミカル・パテンツ・インク
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 リソグラフィー及び腐食防止コーティング用途向けのUV/EB硬化性ブチルコ ポリマー 本発明は、リソグラフィー(lilhofrsph7) 、腐食防止、及びその 他のコーティング中に配合される、イソオレフィンとパラ−アルキルスチレンと の、紫外線(UV)及び電子ビーム(E B)反応性の官能化されたコポリマー に関する。さらに詳細に述べると、本発明は、輻射線硬化性を与えるためパラ− アルキルスチレンが官能化されている、そのようなコポリマー、コーティング、 そして、方法に関する。[Detailed description of the invention] UV/EB curable butylcoat for lithography and anti-corrosion coating applications polymer The present invention relates to lithography (lilhofrsph7), corrosion prevention, and its Isoolefins and para-alkylstyrenes incorporated in other coatings ultraviolet (UV) and electron beam (EB) reactive functionalized copolymers of Regarding. More specifically, the present invention provides radiation curable Such copolymers, coatings, in which alkylstyrenes are functionalized, And regarding the method.

発明の背景 ポリマー物質の架橋を引起こすため輻射線感受性の官能基を用いる技術は、特に 写真フィルムが感光性のポリマーで構成される写真工業において、発展中の技術 である。しかし、EB又はUV架橋性官能基をゴム弾性ポリマーに組込むことも 望ましい。そのような官能基を持つエラストマーは、輻射線硬化性、接着剤強度 及び温度、摩耗、溶媒及びオゾンに対する優れた抵抗を与えるために、感圧接着 剤及びコーティングにおいて用いることができた。Background of the invention Techniques that use radiation-sensitive functional groups to cause crosslinking of polymeric materials are particularly A developing technology in the photographic industry where photographic film is composed of light-sensitive polymers. It is. However, it is also possible to incorporate EB or UV crosslinkable functional groups into rubber elastic polymers. desirable. Elastomers with such functional groups are radiation curable, adhesive strength and pressure sensitive adhesive to give excellent resistance to temperature, abrasion, solvents and ozone It could be used in agents and coatings.

外部からの架橋剤を用いる方法には生来の困難さがいくつか伴う。そのような配 合物は、硬化処理を容易にするためエラストマーを光開始剤又は架橋剤で処理す ることを必要とする。これらの化合物の毒性及び揮発性のために製造上の困難さ 及び危険が伴うことがある。PSA及びコーティングは、外部の遊離ラジカルに よる架橋を容易にするため、ポリマーの主鎖内に反応性の強い不飽和部位を含む ことができるが、ポリマーにより異なるが、不飽和はまた、主鎖がラジカルの関 与する反応のため切断され得る部位を提供する。Methods using external crosslinking agents have some inherent difficulties. Such an arrangement The elastomer can be treated with a photoinitiator or crosslinking agent to facilitate the curing process. It requires that Manufacturing difficulties due to the toxicity and volatility of these compounds and may be dangerous. PSA and coatings are sensitive to external free radicals. Contains highly reactive unsaturated sites in the main chain of the polymer to facilitate crosslinking. Depending on the polymer, unsaturation also means that the backbone is free of radicals. provides a site that can be cleaved for the desired reaction.

セント、フレアー(SLCIsir)に与えられた、米国特許第4.556.4 64号は、ブロックAがポリスチレン/イソプレン又はポリスチレン/ブタジェ ンのコポリマーであり、ブロックBがポリイソプレンであるブロックポリマーA BAの配合物、ブロックBと相溶性のある粘着付与剤、及びブロックAと相溶性 のある架橋剤を含む、PSAとして使用するのに適切な輻射線硬化性接着剤組成 を開示している。U.S. Patent No. 4.556.4, awarded to St. Flair (SLCIsir). In No. 64, block A is polystyrene/isoprene or polystyrene/butadiene. block polymer A, in which block B is polyisoprene; A formulation of BA, a tackifier compatible with block B, and a tackifier compatible with block A. Radiation curable adhesive composition suitable for use as a PSA, comprising a crosslinking agent is disclosed.

これらの添加剤化合物を使用することなく架橋でき、ラジカルを含む反応中に分 解しない飽和ポリマー主鎖を有するPSA及びコーティングを得ることが望まし い。Can be cross-linked without the use of these additive compounds and can be dissociated during reactions involving radicals. It is desirable to obtain PSAs and coatings with saturated polymer backbones that do not stomach.

従って、別法として、例えば、輻射線感応性ビニル重合性コモノマーと共重合さ せることによって、輻射線反応性架橋剤をポリマー主鎖に組み入れることができ る。Therefore, alternatively, e.g. Radiation-reactive crosslinkers can be incorporated into the polymer backbone by Ru.

このようなコモノマーを大規模に製造することは一般に難しい。輻射線反応性官 能基を後重合工程においてポリマー主鎖にグラフト化させることもできるが、所 望の反応部位において適切な分子の接触を達成するのは困難であるため、得られ るポリマーは一般に低収率の不均一生成物である。ポリマーにおける光化学反応 の機構及び光開始剤の例が、本書に引用によって組み入れられている、J、F、 ラデク(Rsdek)の[メカニズムズ・オン・ホトフィジカル・プロセスズ・ アンド・ホトケミカル・リアクションズ・仁ハポリマーズφセオリー〇アンド・ アプリケイションズ(Mechxniu+s tri Phofoph7sic xlProcesses and Pholockeiicxl Rexcli on+ in Po17mersTheor7 znd Aplicalioi +l J 、第1I及び12章、J、ワイリ・アンド・サンズ(1,Wiler  & 5ons) 、1987、において適切に説明されている。It is generally difficult to produce such comonomers on a large scale. radiation-responsive agent Functional groups can also be grafted onto the polymer backbone in a post-polymerization step, but Because it is difficult to achieve proper molecular contacts at the desired reaction site, The resulting polymers are generally heterogeneous products with low yields. Photochemical reactions in polymers Mechanisms and examples of photoinitiators are incorporated herein by reference, J.F. Rsdek's Mechanisms on Photophysical Processes AND Photochemical Reactions・Jinha Polymersφ Theory〇and・ Applications (Mechxniu+stri Phophoph7sic xlProcesses and Pholockeiicxl Rexcli on+ in Po17mersTheor7 znd Apicalioi +l J, Chapters 1I and 12, J, Wile & Sons (1, Wiler & 5ons), 1987.

欧州特許出願第17,364号は、アリル・ベンゾイルベンゾエートコモノマー とモノエチレン性不飽和の重合可能コモノマーとのコポリマーを0.1乃至10 重量%組入れて製造された、UV光のような化学線の輻射により硬化されるコポ リマーを開示している。これらのポリマーは、被覆及び含浸用配合物において、 及び接着剤、コーキング及びシーラント配合物において有用であると記載されて いる。European Patent Application No. 17,364 describes the allyl benzoyl benzoate comonomer and a monoethylenically unsaturated polymerizable comonomer from 0.1 to 10 copo prepared by incorporating % by weight and cured by actinic radiation such as UV light. Rimmer is disclosed. These polymers are used in coating and impregnating formulations. and has been described as useful in adhesive, caulk and sealant formulations. There is.

ネッカーズ(Necker+)ほかに与えられた、米国特許第4.315.99 8号は請求核置換反応を経由して感光性の官能基を組み入れる、ポリマー物質を 開示している。このポリマー物質は、各種の光開始化学反応の不均一触媒の基盤 (platfo「m)として役立つ。U.S. Patent No. 4.315.99 to Necker+ et al. No. 8 is a polymeric material that incorporates photosensitive functional groups via a nuclear substitution reaction. Disclosed. This polymeric material is the basis for heterogeneous catalysis of various photoinitiated chemical reactions. (platfo 'm).

サトオ(Safe)ほかに与えられた米国特許第4、188.215号、フクタ ニ(FukuNni)ほかに与えられた第3.923.703号、ニシクボ(N ishikebo)ほかに与えられた第3.867、318号、アザミ(Axx ii)ほかに与えられた第3.694.3113号、及びレイノルズ(Rty+ olds)に与えられた第3.560.465号、及び英国特許第1.341. 004号はすべて、感光性の官能基を持つポリマー樹脂及び/又はそれらの樹脂 の製造方法に関する。これらの感光性樹脂は一般的に写真のフィルムに有用であ る。U.S. Pat. No. 4,188.215 to Safe et al., Fukuta No. 3.923.703 to FukuNni et al. Nos. 3.867 and 318 given to ishikebo and others, thistle (Axx ii) No. 3.694.3113 and Reynolds (Rty+ 3.560.465 and British Patent No. 1.341. No. 004 all contain polymer resins with photosensitive functional groups and/or those resins. Relating to a manufacturing method. These photopolymer resins are generally useful in photographic films. Ru.

ポリマーと感光性架橋剤のブレンドを含む感光性コーティングはマラテスタ(M alxfeslzlらの米国特許第3、86?、 271号に開示されている。A photosensitive coating containing a blend of a polymer and a photosensitive crosslinker is Malatesta (M alxfeslzl et al., U.S. Pat. No. 3,86? , No. 271.

この特許においては、共役ジエン含有ブチルゴムを特定の感光剤の助けにより紫 外線で硬゛化させる。ガラス支持体用のコーティングとして有用であると言われ る同様な組成物が、トビアス(T+l+1ttlらの米国特許第4,086,3 73号に、少なくともゴム状熱可塑性有機ポリマーと有機感光剤を含むものとし て開示されている。In this patent, conjugated diene-containing butyl rubber is produced with the help of a specific photosensitizer. Harden with external lines. Said to be useful as a coating for glass supports Similar compositions are disclosed by Tobias (T+l+1ttl et al., U.S. Pat. No. 4,086,3). No. 73 contains at least a rubbery thermoplastic organic polymer and an organic photosensitizer. are disclosed.

感光性ビニルモノマーは、スコールッチ(Skoaltchi)の米国特許第3 .429.852号及び第3,574,617号に開示されているが、ここでは 、置換ベンゾフェノンのエチレン性不飽和誘導体を、置換ベンゾフェノンをグリ ジルアクリレート又はグリジルメタクリレートのようなエチレン性不飽和反応体 と反応させることを含む方法によって製造する。得られるモノマーをその後単独 重合するか又は様々な従来的エチレン性不飽和モノマー、即ち、ビニルモノマー と共重合することができる。感光性コーテイング系は、有機溶媒又はエマルジョ ンから支持体上に固体ポリマーを付着させることによって製造させる。この感光 性コーティングは、例えば、リソグラフィー及び蝕刻(chemictl m1 lliBlを含む種々の用途に使用するのに特に適していると記載されている。Photosensitive vinyl monomers are disclosed in Skoaltchi, U.S. Pat. .. No. 429.852 and No. 3,574,617, but herein , ethylenically unsaturated derivatives of substituted benzophenones, Ethylenically unsaturated reactants such as dily acrylate or glycyl methacrylate produced by a method comprising reacting with. The resulting monomer is then isolated Polymerized or various conventional ethylenically unsaturated monomers, i.e. vinyl monomers It can be copolymerized with. Photosensitive coating systems are made using organic solvents or emulsions. It is manufactured by depositing a solid polymer from a polymer onto a support. This photosensitive The chemical coating can be applied, for example, by lithography and etching (chemical It is described as being particularly suitable for use in a variety of applications involving lliBl.

同様な概念がワイ二一(Wing7)の米国特許第4、1411.9117号に 開示されているが、ここでは、置換ベンゾフェノン又はアセトフェノンのモノエ チレン性不飽和誘導体を、ベンゾフェノン又はアセトフェノンをビニルベンジル ハリドと反応させることによって製造している。これらの誘導体を重合してホモ ポリマー又は広範囲の従来的エチレン性不飽和モノマーとのコポリマーを形成す る。得られるポリマーは、2.000乃至5.000オングストロームの波長を 有する紫外線のような輻射線に対して感応性であり、そのような輻射線に暴露さ れると容易に架橋又は硬化する。接着剤、結合剤、コーティング、及び含浸組成 物がこれらのポリマーから製造される。A similar concept is described in Wing7 U.S. Pat. No. 4,1411.9117. However, herein, substituted benzophenone or acetophenone monoesters are disclosed. Thyrenic unsaturated derivative, benzophenone or acetophenone to vinylbenzyl It is produced by reacting with halide. Polymerize these derivatives to make homogeneous polymers or copolymers with a wide range of conventional ethylenically unsaturated monomers. Ru. The resulting polymer has wavelengths between 2.000 and 5.000 angstroms. Sensitive to radiation such as ultraviolet light and exposed to such radiation It crosslinks or hardens easily when exposed to water. Adhesive, binder, coating, and impregnating compositions Products are manufactured from these polymers.

輻射線感応性官能基は印刷産業においてポリマー物質の架橋を誘導するために使 用されてきたが、ここでは、印刷板は初めに感光性を有するポリマーでコーティ ングされる。このような輻射線架橋性ポリマーは半導体又はその他の彫刻物品の 製造においてもフォトレジストとして広く使用されてきた。Radiation-sensitive functional groups are used in the printing industry to induce crosslinking of polymeric materials. The printing plate is first coated with a photosensitive polymer. will be processed. Such radiation-crosslinkable polymers are suitable for semiconductor or other engraved articles. It has also been widely used in manufacturing as a photoresist.

ポリマーを輻射線硬化性部分で官能化する方法がジョーンズ(1ones)の米 国特許第4.112.201号に開示されているが、ここでは、ペンダント状の 不飽和テトラ脂肪族第4窒素部分を有するブタジェン又はイソプレンコポリマー (例えば、アクリルエステル及びアクリルアミドから誘導されたもの)が水溶性 又は本貫的に分散性の硬化性コーティングとして有用である。このようなコーテ ィングは、保護及び/又は装飾用コーティング、紙のコーティング、織物繊維の コーティング、印刷版、フォトレジスト及びリソグラフィー用板の光硬化性像形 成材料、その他として有用である。これらのコーティングは、光、高エネルギー 輻射線、及びラジカル触媒の存在下に熱で硬化可能であり、不溶性の架橋コーテ ィングを形成すると記載されている。これらのポリマーは、アミノ化と後重合反 応によって製造される。同様に、ポリ(ビニルベンジルクロリド)のp−ヒドロ キシベンゾフェノン、p−ヒドロキシフルオレノン、カルバゾールカリウム、及 び類似物を含む感光性化合物による改質が、ベイリー(BsilrJ らのジャ ーナル・オン・アプライド・ポリマー・サイエンス;ポリマー−ケミストリー・ エディジョン(Jow+ntl of Applied Po17me+ 5c ie++ce: Po17+aerChsmitjty Ed、)、第17巻、 777〜182頁(1980)に開示されている。A method for functionalizing polymers with radiation-curable moieties was developed by Jones (1ones). It is disclosed in National Patent No. 4.112.201, but here, a pendant-shaped Butadiene or isoprene copolymers with unsaturated tetraaliphatic quaternary nitrogen moieties (e.g. those derived from acrylic esters and acrylamide) are water-soluble or as an inherently dispersive curable coating. coat like this Coatings include protective and/or decorative coatings, coatings on paper, textile fibers. Photocurable imaging for coatings, printing plates, photoresists and lithography plates It is useful as a component material, etc. These coatings are light, high energy An insoluble cross-linked coating that can be cured thermally in the presence of radiation and radical catalysts. It is described that it forms a ring. These polymers undergo amination and post-polymerization reactions. Manufactured by Similarly, p-hydro of poly(vinylbenzyl chloride) xybenzophenone, p-hydroxyfluorenone, carbazole potassium, and Modification with photosensitive compounds, including and the like, has been described by Bayley (BsilrJ et al. Nal on Applied Polymer Science; Polymer Chemistry Edijon (Jow+ntl of Applied Po17me+5c ie++ce: Po17+aerChsmitjty Ed,), Volume 17, 777-182 (1980).

アズマ(八11111)ほかのジャーナル・オン・アプライは、シス−1,4− ポリブタジェン及びシンナモイル基を含むペンダント状に結合した(penda n+)官能基を有するポリベンテナマーの性質及び製造方法を開示している。シ ンナモイル基のベンタナマーへの導入は、例えば、ヒドロキシメチル基を有する ポリペンテナマーを塩化シンナモイルと反応させることによる。シンナモモル化 ポリペンテナマーの感光性を含む関係が説明されている。Journal on Apply by Azuma (811111) and others is cis-1,4- A pendant compound containing polybutadiene and cinnamoyl groups The properties and method of preparation of polybentenamers having n+) functional groups are disclosed. S The introduction of a annamoyl group into a bentanamer has, for example, a hydroxymethyl group. By reacting polypentenamer with cinnamoyl chloride. Cinnamomolization Relationships involving the photosensitivity of polypentenamers are described.

いては、酸触媒の存在下の、桂皮酸のようなα、β−不飽和カルボン酸の、シス −1,4−ポリブタジェン、1,2−ポリブタジェン及びポ・jベンテアマーの ようiフボリジエンに対する付加反応が開示されている。不飽和のポリジエンに は、カルボン酸エステル基の組み込みと競合して環化が生じる。ポリマーの形態 学は環式セグメントと組み込まれたセグメントとの間で交互に変化しているブロ ック状のセグメントを示していると記載されている。このポリマーは二つのガラ ス転移温度を持ち、その組込み及び環化の程度は反応条件により制御できると記 載されてては、ペンダントシンナメート基を持つ、シス−1,4−ポリブタジェ ン及びポリペンテナマーのような、感光性環化ポリジエンの、ポリマー構造との 関係に関する研究を開示している。シンナメート基の光二量体化は基の移動度に より大きく影響され、環化の程度が増すほど、感光性が減少すると記載されてい る。For example, the cis reaction of an α,β-unsaturated carboxylic acid such as cinnamic acid in the presence of an acid catalyst. -1,4-polybutadiene, 1,2-polybutadiene and po-jbentheamer Addition reactions to fuboridienes are disclosed. to unsaturated polydiene cyclization occurs in competition with the incorporation of the carboxylic ester group. Polymer morphology The logic consists of blocks alternating between cyclic segments and embedded segments. It is stated that it shows a block-shaped segment. This polymer consists of two glass It is noted that the degree of incorporation and cyclization can be controlled by reaction conditions. Cis-1,4-polybutadiene with pendant cinnamate groups is listed. of photosensitive cyclized polydienes, such as polymers and polypentenamers, Discloses research on relationships. Photodimerization of the cinnamate group results in an increase in the mobility of the group. It has been stated that the greater the degree of cyclization, the more the photosensitivity decreases. Ru.

ら、ポリイソプレンを0−ジクロロベンゼン溶液中で無水マレイン酸と反応させ て、α−置置換無水フック酸基改質されたポリイソプレンを生成させ、さらに、 シンナメート基を組込むために、このポリイソプレンをピリジン中でヒドロキシ エチルシンナメートと反応させて改質することが知られている。反復基の75モ ル%までは容易に組込まれたと記iされCいる。改質されたポリイソプレンの感 光性は、遊離のカルボキシレート基の相互作用の故に、シンナメート改質のポリ ペンテナマーより大きいといわれた。この相互作用が、ポリマーセグメント(S Bme++t)の移動度に対する感光性の依存度を減少させた。et al., polyisoprene was reacted with maleic anhydride in 0-dichlorobenzene solution. to produce α-substituted anhydride hook acid group-modified polyisoprene, and further, To incorporate cinnamate groups, this polyisoprene was oxidized in pyridine. It is known to be modified by reacting with ethyl cinnamate. 75 moles of repeating group It was noted that up to 1% of the samples were easily incorporated. Modified polyisoprene feel The optical properties of cinnamate-modified polyesters are due to the interaction of free carboxylate groups. It is said to be larger than Pentenamer. This interaction causes the polymer segment (S The dependence of photosensitivity on the mobility of Bme++t) was reduced.

スチレンとイソブチレンとのコポリマーの製造及び使用は当業界において公知で ある。従って、プラスチックブレンド用の強靭な、ガラス質のポリスチレン含有 率の高いコポリマーから、衝撃改良剤などに用いるゴム質の、スチレン含有率の 低いコポリマーまでにわたるそのようなコポリマーは当業界においてよく知られ ている。The production and use of copolymers of styrene and isobutylene are known in the art. be. Therefore, tough, glassy polystyrene content for plastic blends From copolymers with high styrene content to rubbery materials used in impact modifiers, Such copolymers ranging up to low copolymers are well known in the art. ing.

過去において、スチレンとイソブチレンは、カチオン重合条件下でむしろ容易に 共重合され、全組成範囲に亘りこれらのコポリマーを産出していた。また、バワ ーズ(Pave rυに与えられた米国特許第3.948.1168号に示され ているように、共重合条件を変更することにより、ブロック状の、又はランダム で均一なコポリマーが製造できることも知られている。この特許は事実、イソブ チレン及びスチレンのようなカチオン重合性モノマーの2種類以上を含むランダ ムな均一ポリマーの製造を記述している。この開示はまた、各種のオレフィン化 合物の長いリストを含み、その中には、イソブチレン、スチレン、α−メチルス チレン及びその他のオレフィン化合物が含まれている。さらに、これらの化合物 は、ポリイソブチレン配列の表面特性を利用し、他の物質と組み合わせて接着剤 として、コーティングとして、アスファルトのブレンドとして、そして各種のプ ラスチップレンドにおいて使用することを含め、広く用いられている。In the past, styrene and isobutylene were rather easily synthesized under cationic polymerization conditions. were copolymerized to yield these copolymers over the entire composition range. Also, Bawa No. 3.948.1168 to Pave rυ By changing the copolymerization conditions, block-like or random It is also known that homogeneous copolymers can be produced using This patent is in fact Lander containing two or more types of cationically polymerizable monomers such as tyrene and styrene describes the production of uniform polymers. This disclosure also covers various olefinization contains a long list of compounds, including isobutylene, styrene, Contains tyrene and other olefin compounds. Additionally, these compounds takes advantage of the surface properties of polyisobutylene arrays and combines them with other materials to create adhesives. as a coating, asphalt blend, and various plastics. It is widely used, including in last tip rends.

′868号の特許において説明されているとおり、イソプレンを含むターポリマ ーを製造することもよく知られているが、ターポリマーの製造により、全体的な ポリ÷−の分子量が減少する。そのため、それらからの高分子量ポリマーの製造 は困難となり、そして、全体の生産工程が複雑になる。Terpolymers containing isoprene as described in the '868 patent It is also well known to produce terpolymers, but the overall The molecular weight of poly÷- decreases. Therefore, the production of high molecular weight polymers from them becomes difficult and the whole production process becomes complicated.

各種の官能化されたポリマーを製造することも試みられてきた。例えば、ハンケ イ(Hinke7)ほかに与えられた米国特許第3..145.187号は、塩 化ビニルポリマー、表面活性剤及び塩素化されたオレフィンポリマーを含むポリ マーブレンドを開示している。そして、このオレフィンポリマーには、多数の他 の化合物の中でも、イソブチレン及びスチレンならびに環アルキルスチレンを含 むことのできる、各種の物質のコポリマーが含まれ、その後このオレフィンポリ マーは公知の方法によって塩素化できると記載されている。Attempts have also been made to produce various functionalized polymers. For example, U.S. Patent No. 3, issued to Hinke et al. .. No. 145.187 is salt polyvinyl chloride polymers, surfactants and chlorinated olefin polymers. Discloses Marblend. And this olefin polymer has numerous other Among the compounds of These include copolymers of various materials that can be It is stated that the mer can be chlorinated by known methods.

文献によってもまた、イソブチレンとスチレンのコポリマーを製造するその他の 方法が開示されている。例えば、イソブチレンのハロメチルスチレンとの共重合 を開示する、バワーズはか、に与えられた米国特許第4、074.034号にお いて示すようなものである。この方法は、出発物質として、ビニルベンジルクロ リド及び類似物を必要とし、そして、モノマーが規定された条件の下で可溶性で ある溶媒又は混合溶媒系を用いる特定の連続式溶液プロセスを用いる。高価なビ ニルベンジルクロリド出発物質を用いる必要性は別にしても、これらの方法には また、重合中の連鎖の過度の枝別れ及びゲルの生成を伴うことなく、この方法に より組込むことのできる芳香族クロロメチル官能基の量の点、及び、カチオン重 合条件の下におけるベンジル塩素の反応性に起因す第16号、452〜459頁 (1969)の「イソブチレン・コポリマーズ・オン・ビニルベンジル・クロリ ド・アンド・イソプロペニルベンジル・クロリド」 (“l5obutylen eCopolYiers of Yin71benBI Chloride 1 1111110111O−pen71beu71 Chloride” )を参 照されたい。この中で、芳香族モノマーはパラ及びメタ異性体の混合物であると 記載されている。The literature also reveals other methods for producing copolymers of isobutylene and styrene. A method is disclosed. For example, copolymerization of isobutylene with halomethylstyrene Bowers, U.S. Pat. No. 4,074.034, issued to It is as shown below. This method uses vinylbenzyl chloride as the starting material. and the monomers are soluble under defined conditions. Certain continuous solution processes using certain solvents or mixed solvent systems are used. expensive vinyl Apart from the need to use nylbenzyl chloride starting material, these methods have Additionally, this method can be used without excessive chain branching and gel formation during polymerization. In terms of the amount of aromatic chloromethyl functional group that can be incorporated, and the cationic weight No. 16, pp. 452-459 due to the reactivity of benzylchlorine under (1969), “Isobutylene Copolymers on Vinylbenzyl Chloride” "Isopropenylbenzyl chloride" ("l5obutylen") eCopol Years of Yin71benBI Chloride 1 1111110111O-pen71beu71 Chloride”) I want to be illuminated. Among these, aromatic monomers are a mixture of para and meta isomers. Are listed.

イソブチレン/スチレンコポリマーのハロメチル化にも関心が持たれている。例 えば、サジコツ(51dykhoマ)ほかによる論文、「クロロメチレイジョン ・オンーアン・イソブチレンスチレン・コポリマー・アンド・サム・オン・イソ ・ケミカル・アクションズ」 (“Chloro−mNbyls目oa of  l+ob++t71eneslyrcoe C+pol)mer 1n+する。There is also interest in halomethylation of isobutylene/styrene copolymers. example For example, the paper by Sajikotsu et al., ``Chloromethylation ・On-an isobutylene styrene copolymer and some on iso ・Chemical Actions” (“Chloro-mNbyls eyes oa of l+ob++t71eneslyrcoe C+pol)mer 1n+.

ハリス(glatis)ほか、による記事、「ブロック・アンド・グラフト・コ ポリマーズ・オン・ビヴアロラクトン、、、、 、 J (”Block xn d Gttlj Copo17mers olおいて、著者らは、イソブチレン と、スチレンそして好ましくは、環メチル化スチレンとの共重合を論じている。Article by Harris (glatis et al.), “Block and Graft Co. Polymers on Bivalolactone, J (”Block xn In d Gttlj Copo17mers ol, the authors found that isobutylene copolymerization with styrene and, preferably, ring methylated styrene.

この記事は特に、約65/35の量比のメタ−及びパラ−メチルスチレンの混合 物を含むビニルトルエンとの及びパラメチルスチレンとの共重合を開示しており 、その目的は、自動酸化性の脂肪族不飽和を含まない、熱可塑性ゴム弾性ピヴア ロラクトンコポリマー系の製造である。この記事は、ビニルトルエンとパラ−メ チルスチレンの使用における違いを認識していない。そして、いずれにしても、 パラ−メチルスチレンを使用するときでさえも、未分別のコポリマーにおいて、 不均一な組成分布及び非常に広い分子量分布などの性質を持つコポリマーをもた らす条件を採用している。すなわち、箪4及び5表に記載されているように、未 分別のコポリマーにおいて、Mnは16.000、M w / M nは17. 45であり、そして、ポリマー中の4−メチルスチレン含有率はモノマー供給時 と較べるとかなり変化しており、また、分子量の関数として大幅に変化する。This article specifically describes a mixture of meta- and para-methylstyrene in a quantitative ratio of about 65/35. Discloses copolymerization with vinyltoluene and with paramethylstyrene containing , whose purpose is to create an autooxidizing, aliphatic unsaturation-free, thermoplastic rubber-elastic PIVA Production of rolactone copolymer system. This article is about vinyl toluene and Not aware of the difference in the use of tylstyrene. And in any case, In unfractionated copolymers, even when using para-methylstyrene, It has copolymers with properties such as non-uniform compositional distribution and very broad molecular weight distribution. conditions are adopted. In other words, as stated in Tables 4 and 5, In the fractionated copolymer, Mn is 16.000 and Mw/Mn is 17.000. 45, and the 4-methylstyrene content in the polymer was at the time of monomer supply. and varies significantly as a function of molecular weight.

最後に、イソブチレンとパラ−メチルスチレンとのコポリマーを論じているが、 それらの製造方法を論じていない記事もある。それらの記事には、サジコツ、ほ か、の[スタディズ・オン・オキシデイチヴ・サーマルφデグラデイション・オ ン・コポリマーズ・オン・イソブチレン・ウィズ・m−アンド・p−メチルスチ レン−イン拳アφソリュウション・オプψミネラルφオイルズ、」(“5tud ie+ ol 0td1fite Theretl Dggrsdsjion  ofCopo17mers ol Itobaf71e*e v目b m−go d p −Metb71−stytenes in t 5olution o fMincrsl 0ils 、 ” )Uch、Zap、Azerb、Un、 t、Ser。Finally, copolymers of isobutylene and para-methylstyrene are discussed; Some articles do not discuss how to make them. Those articles include sajikotsu, ho [Studies on Oxidative Thermal Degradation] Copolymers on isobutylene with m-and p-methylstyrene Len-Yin Ken Aφ Solution Op ψ Mineral φ Oils,” (“5tud ie+ol 0td1fite Theretl Dggrsdsjion ofCopo17mers ol Itobaf71e*e vth b m-go d p -Metb71-stytenes in t 5 solution o fMincrsl 0ils, “”) Uch, Zap, Azerb, Un, t, Ser.

K h u m、 、1975(3041,87〜92、及びその他のこのよう な記事が含まれる。さらに、トーマン(TOIll■)、はか、の「イソブチレ ンCポリマーズーアンドーコポリマーズ・ウィズ・コンドロールド・ストラクチ ュアー」(l5obi171ene Polymers sad Copoly iers withCoNrollcd 5ltocture’ ) 、 A  p p、7g/ 7 、339 、(1978年11月10日)において、イソ ブチレンのビニル芳香族モノマーとの共重合への言及がある。このように、イソ ブチレンとアルキルスチレンの、有用な分子量のコポリマーに対し、そして、特 にこの種類の官能化されたコポリマーであって、架橋が可能であるか、架橋でき なくても広い用途に使用できるものに対する研究が続けられている。K h u m, 1975 (3041, 87-92, and other such Contains articles. In addition, Toman (TOIll■), Haka,'s "Isobutylene" C Polymer Zooando Copolymers with Chondral Structure "(l5obi171ene Polymers sad Copoly iers withCoNrollcd 5ltocture’), A p p, 7g/7, 339, (November 10, 1978), iso There is reference to the copolymerization of butylene with vinyl aromatic monomers. In this way, iso For copolymers of butylene and alkylstyrene of useful molecular weights, and This type of functionalized copolymer can or cannot be crosslinked. Research continues into things that can be used for a wide range of purposes even without them.

飽和炭化水素の主鎖を持つポリマーが、環境及び老化に対し良好な抵抗性を持つ ことは公知であり、そのため広範な用途で非常に望まれている。さらに、主要量 のポリイソブチレンを含有するゴム質のコポリマーは、低い透過性、独特の緩衝 特性、及び低い表面エネルギーを持ち、そのため多くの用途で特に熱心に望まれ ていることもよく知られている。しかし、これらの飽和された炭化水素ポリマー の「不活性さ」、多くの他の物質との反応性の低いこと及び相溶性のないこと、 及びそれらを接着又は多くの他の物質と組み合わせて使用することが困難である ことなどが原因となって、多くの分野でそれらの使用が制限されている。Polymers with a saturated hydrocarbon backbone have good environmental and aging resistance This is well known and therefore highly desirable for a wide range of applications. Furthermore, the main quantity A rubbery copolymer containing polyisobutylene with low permeability and unique buffer properties. properties and low surface energy, making it especially highly desirable in many applications. It is also well known that However, these saturated hydrocarbon polymers 'inertness', low reactivity and incompatibility with many other substances, and that they are difficult to glue or use in combination with many other materials Due to these reasons, their use is restricted in many fields.

共に譲渡されている、1989年11月22日出願の米国出願第441,575 号は、また、共に出願中の、1989年10月3日出願、米国出願第416,5 03号の一部継続であり、第416、503号は、共に出願中の、1988年5 月27日出願、米国出願第199.665号及びそれの一部継続の、共に出願中 の、1989年lθ月3日出願、米国出願第416.713号との一部継続であ り、これらの開示は本書に引用済みであるが、この中で、次のことが理論付けら れた。すなわち、望ましい特定の官能基の制御された量をペンダント基として飽 和炭化水素主鎖上に導入すると、これらのポリマーが他の表面に接着し、及び/ 又は「グラフト化」又は架橋反応により他の官能性ポリマーと共に反応するか又 はそれらと相溶化されるので、用途が大幅に拡大する。さらに次ぎのことも理論 づけられた。すなわち、正しい種類と量のペンダントの官能基を導入することに より、これらの飽和炭化水素ポリマーが「塗装」又は被覆(コーティング)可能 となり、又はこれらのポリマーを他の物質に被覆でき、及び/又は他の物質と積 層するか、これらの物質中に分散させ、性質の望ましい組合わせを持つ複合物質 を産出できる。Co-assigned U.S. Application No. 441,575, filed Nov. 22, 1989. No. 416,5, filed Oct. 3, 1989, also co-pending. This is a partial continuation of No. 03, and Nos. 416 and 503 are both pending applications, May 1988 Filed on May 27, U.S. Application No. 199.665 and its continuation in part, both pending. filed on May 3, 1989, continuation in part of U.S. Application No. 416.713. These disclosures have been cited in this book, but the following is theorized: It was. That is, controlled amounts of specific desired functional groups can be saturated as pendant groups. When introduced onto a Japanese hydrocarbon backbone, these polymers adhere to other surfaces and/or or react with other functional polymers by "grafting" or crosslinking reactions, or can be made compatibilized with them, greatly expanding the range of applications. The next thing is also a theory was given. That is, introducing the correct type and amount of pendant functional groups. These saturated hydrocarbon polymers can be “painted” or coated. or these polymers can be coated and/or integrated with other materials. Composite materials with desirable combinations of properties layered or dispersed in these materials can be produced.

既に指摘したとおり、ベンジルのハロゲン官能基は、SN2型求核置換反応を経 由し多くの他の官能基に転化できる非常に活性な親電子物質を構成することはず っと以前から知られており、そしてこれらの反応例は化学文献に多く見られる。As already pointed out, the halogen functional group of benzyl undergoes an SN2 type nucleophilic substitution reaction. Therefore, it should constitute a highly active electrophile that can be converted into many other functional groups. Examples of these reactions can be found in the chemical literature.

次ぎのちのを含む多くの官能基に高い収率で選択的に転化することが報告されて いる:アルデヒド、カルボキシ、アミド、エーテル、エステル、チオエステル、 チオエーテル、アルコキシ、シアノメチル、ヒドロキシメチル、チオメチル、ア ミノメチル、カチオンのイオノマー(第四アンモニウム又は、ホスホニウム、S −イソチオウロニウム、又はスルホニウム塩)、アニオンのイオノマー(スルホ ネート、及びカルボキシレート塩)、など。さらに、文献は、ベンジルハロゲン (bcirylic htlogea)が、トリエタノールアミン、エチレンポ リアミン、マロネート、などのような多官能基の核分子との核置換により他の官 能基のクラスターに置換される例を多数開示している。It has been reported to selectively convert many functional groups in high yields, including the following: Contains: aldehyde, carboxy, amide, ether, ester, thioester, Thioether, alkoxy, cyanomethyl, hydroxymethyl, thiomethyl, a Minomethyl, cationic ionomer (quaternary ammonium or phosphonium, S -isothiouronium or sulfonium salts), anionic ionomers (sulfonium salts), anionic ionomers (sulfonium salts), nates, and carboxylate salts), etc. Furthermore, the literature describes benzyl halogen (bcirylic htlogea), triethanolamine, ethylene polymer Nuclear substitution with polyfunctional core molecules such as lyamine, malonate, etc. A number of examples are disclosed in which clusters of functional groups are substituted.

この既往の研究の殆どすべては、芳香族のハロメチル(又はベンジルの)官能基 を含む、簡単で微小な(すなわら、非ポリマーの)分子の場合である。しかし、 クロロメチルスチレン及び芳香族クロロメチル基を含むポリスチレンに対し他の 官能基を導入するための核置換反応に関する研究も多く存在する。この研究の多 くは、いろいろな量のベンジル塩素を含む「スチラゲル(slY目H1s) J 又は軽く架橋したポリスチレンとの反応を含む。ベンジルの塩素を含む微小分子 についてすでに報告されている核置換反応と同じ反応が「スチラゲル」において 数多く達成されているが、望ましい置換反応を促進するため、反応条件を変える ことが必要であり、特に、相移動触媒(phlst +rs+++fe+ ct js17st)をしばしば使用することが必要であった。ポリスチレンにおいて ベンジル塩素の関与する反応は簡単の微小分子における反応より達成が困難であ る。何故なら、反応体の一方(芳香族のクロロメチル部分)がもう一方の反応体 から離れた別のポリマーの相に入っているとき反応体間に必要な緊密な接触が非 常に難しいからである。ポリスチレン中でベンジル塩素の関与する反応において は、収率も一般的により低く、そして副反応はより優勢である。しかし、殆どの 研究は、「スチラゲル」に関するもであったから、ポリマーの溶解度を保持する ために、[クリーン(CI!III) Jな、即ち、選択性の非常に高い置換反 応における高い転化を必要としないのが一般的であった。クロロメチルスチレン 及びベンジル塩素を含む「スチラゲル」の関与するこの研究に関する最近の良い 論評が文献に見られる。マーセル刀ンブス(m’trcei Ctsps)ほか の「クロロメチルスチレン:シンセシス、ポリメリゼイション、トランスフオー メイション、アプリケイシコンズJ (”Cklorame(hTls(Ile ne:5IIlthes)s。Almost all of this past research has focused on aromatic halomethyl (or benzyl) functional groups. This is the case for simple, minute (i.e., non-polymeric) molecules, including but, For chloromethylstyrene and polystyrene containing aromatic chloromethyl groups, other There are also many studies on nuclear substitution reactions for introducing functional groups. Much of this research For example, "Stylagel (slY>H1s)" containing various amounts of benzyl chlorine or involving reactions with lightly crosslinked polystyrene. Micromolecule containing benzyl chlorine The same nuclear substitution reaction that has already been reported for Styragel Altering the reaction conditions to promote the desired substitution reaction, which has been achieved many times. In particular, phase transfer catalysts (phlst+rs+++fe+ct js17st) was often necessary. in polystyrene Reactions involving benzyl chlorine are more difficult to achieve than reactions with simple micromolecules. Ru. This is because one of the reactants (the aromatic chloromethyl moiety) interacts with the other reactant. The close contact required between the reactants is non-existent when the reactants are in separate polymeric phases apart from the Because it's always difficult. In reactions involving benzyl chlorine in polystyrene The yields are also generally lower and side reactions are more prevalent. However, most The research was also on "Styragel", which preserves the solubility of polymers. For this reason, [Clean (CI!III) Generally, high conversions in reaction were not required. Chloromethylstyrene Recent good news regarding this research involving “Styragel” containing benzyl chlorine and Commentaries can be found in the literature. Marcel Ctsps (m’trcei Ctsps) and others “Chloromethylstyrene: Synthesis, Polymerization, and Transformation” Mation, Applicacons J ("Cklorame(hTls(Ile ne:5IIlthes)s.

Po17meriz*tion、 Tnmslormtlion、Applic rlions ’)、レヴイユー・マクロモル、ダム。フィジックス(Reマ。Po17meriz*tion, Tnmslormtlion, Applic rlions’), Revueux Macromol, Dam. Physics (Rema.

M*c+omol、Chew、Ph7sics) 、C22(3) 、343〜 40?頁(1982〜83)及び JMJ フレケラト(prtcbel)の、 ケミカル・モディフィケイシコンψオン・ポリマーズ・ビア・フェーズトランス ファー・キャタリスツ・イン・クラウン・エーテルズ・アンド・フェーズ・トラ ンスファーOキャタリスツ拳イン・ポリマー命サイエンス、(ChmiCll  ModilicNion ol Pot mers wit PhueTexn tle+ Ca1ilHts in Crova !1hers tnd Ph 5seT+tuler C5HIH+t :n Po1y*er 5cieIl ce + )編集、マツトセウス(MItthev@)及びカネツカー(Cue cher)、発行、プレナム・プレス(Plrii働Pt!ss) 、NY、  1984、及びジエーンーピエール(Je■−Pier+e)モンテアード(M oajbesrd)ほかの「ケミカル・トランスフオーメイシコン・オン・クロ ロメチレイテッドφポリスチレン」(Chemicsl Ttmnslorms 目out of Chloromej7111edFo17r17re++e’  ) 、J MS−レヴイユー・マクロモル。M*c+omol, Chew, Ph7sics), C22(3), 343~ 40? Page (1982-83) and JMJ Frekerat (prtcbel), Chemical modification silicon ψ on polymers via phase transformer Far Catalysts in Crown Ethers and Phase Tigers Sphere O Catalyst Fist in Polymer Life Science, (ChmiCll) ModilicNion ol Potmers wit PhueTexn tle+ Ca1ilHts in Crova! 1hers tnd Ph 5seT+tuler C5HIH+t:n Po1y*er 5cieIl ce+), edited by Mattheus (MITthev@) and Kanetzker (Cue cher), published by Plenum Press, NY. 1984, and Je■-Pier+e Monteard (M oajbesrd) et al. "Romethylated φ Polystyrene" (Chemicals Ttmnslorms Eye out of Chloromej7111edFo17r17re++e’ ), J MS-Revieux Macromol.

ケム、フィジックス、(IMS−Rev、 MIcroiol、Pkys、)、 □ C−28(3&4) 、503〜592頁(198g)を参照されたい。Chem, Physics, (IMS-Rev, MIcroiol, Pkys,), □ C-28(3&4), pages 503-592 (198g).

既往の研究は、用途の広い、実質的に飽和された、ペンダントにより官能化され た、可溶性のコポリマーを製造するために請求核置換反応をイソブチレン/ノク シーメチルスチレン/パラ−ブロモメチルスチレンのターポリマーに適用してい ない。Previous studies have shown that versatile, substantially saturated, pendant-functionalized In addition, a nuclear substitution reaction was carried out using isobutylene/isobutylene to produce a soluble copolymer. Applicable to C-methylstyrene/para-bromomethylstyrene terpolymer. do not have.

発明の概要 本発明は、一つの態様において、輻射線硬化性コポリマーを含む、種々のリソグ ラフィー及び腐食防止の用途において使用するのに適するコーティング組成物の 発見である。「輻射線硬化性」という用語は、紫外線(UV)、電子ビーム(E B)、ガンマ線、可視光線、マイクロ波及び類似の輻射線にコポリマーを暴露す ることによって加硫することを意味する。この輻射線硬化性コポIJマーは、4 乃至7の炭素原子数のイソオレフィンとパラ−アルキルスチレンとのコポリマー を含み、輻射線反応性の官能基がパラ−アルキル基において置換されている。好 ましい実施態様において、イソオレフィンはイソブチレンを含み、そしてパラ− アルキルスチレンは、パラ−メチルスチレン及び/又は輻射線硬化性の官能化さ れたパラ−メチルスチレンを含む。このコポリマーは、UV又はEB輻射線を用 いて内部的に架橋でき、それ故、光開始剤又は架橋促進剤を必要としない。Summary of the invention In one embodiment, the present invention provides various lithographic materials comprising radiation-curable copolymers. Coating compositions suitable for use in roughy and corrosion protection applications It's a discovery. The term "radiation curable" refers to ultraviolet (UV), electron beam (E) B) Exposure of the copolymer to gamma rays, visible light, microwaves and similar radiation It means to vulcanize by. This radiation curable copo IJ mer has 4 Copolymers of isoolefins having from 7 to 7 carbon atoms and para-alkylstyrenes , wherein the radiation-reactive functional group is substituted on the para-alkyl group. good In a preferred embodiment, the isoolefin comprises isobutylene and para- The alkylstyrene may be para-methylstyrene and/or radiation-curable functionalized Contains para-methylstyrene. This copolymer can be prepared using UV or EB radiation. can be internally crosslinked and therefore do not require photoinitiators or crosslinking accelerators.

本発明の1つの実施態様によれば、輻射線硬化性コーティング組成物は、輻射線 反応性の官能化されたコポリマーを含む。この輻射線反応性の官能化されたコポ リマーは、4乃至7の炭素原子数のイソオレフィン及びパラ−アルキルスチレン を含み、このコポリマーの数平均分子量(Mn)は約5000以上であり、好ま しくは約5000乃至約5N、 000又はそれ以上であり、より好ましくは約 50.000乃至約300.000である。輻射線反応性の官能化されたコポリ マーはまた、重量平均分子量(Mw)のMnに対する比が約6以下であるのが好 ましいが、約4以下がより好ましく、約2.5以下が非常に好ましい。According to one embodiment of the invention, the radiation curable coating composition is Contains reactive functionalized copolymers. This radiation-reactive functionalized copo Limers include isoolefins and para-alkylstyrenes having 4 to 7 carbon atoms. The copolymer has a number average molecular weight (Mn) of about 5000 or more, and is preferably or about 5000 to about 5N, 000 or more, more preferably about 50,000 to about 300,000. Radiation-responsive functionalized copoly The polymer also preferably has a weight average molecular weight (Mw) to Mn ratio of about 6 or less. preferably, less than or equal to about 4 is more preferred, and less than or equal to about 2.5 is most preferred.

好ましい実施態様によれば、本発明のリソグラフィー又は腐食防止組成物及び/ 又は方法において用いる好ましい官能化コポリマーは、約80乃至99.5重量 %のイソオレフィン及び約O15乃至20重量%のパラ−アルキルスチレンとを 含む弾性の輻射線反応性の官能化されたコポリマーであり、ここで、輻射線反応 性の官能化されたパラ−アルキルスチレンはパラ−アルキルスチレンの約0.5 乃至55モル%を構成する。しかし、ガラス質又は可塑性の物質が同様に製造さ れる別の実施態様によれば、輻射線反応性官能化コポリマーは、約lO乃至99 .5重量%のイソオレフィン、約0.5乃至90重量%のパラ−アルキルスチレ ン及び約0.5乃至55重量%の輻射線硬化性の官能化されたパラ−アルキルス チレンを含む。According to a preferred embodiment, the lithographic or corrosion inhibiting composition of the invention and/or or a preferred functionalized copolymer for use in the method is about 80 to 99.5 wt. % of isoolefins and about 15 to 20% of para-alkylstyrene by weight. an elastomeric, radiation-responsive functionalized copolymer comprising: The functionalized para-alkylstyrene is about 0.5% of para-alkylstyrene. It constitutes 55 mol%. However, vitreous or plastic materials may be manufactured as well. According to another embodiment, the radiation-responsive functionalized copolymer is about 10 to 99 .. 5% by weight isoolefin, about 0.5 to 90% by weight para-alkyl styrene and about 0.5 to 55% by weight of a radiation-curable functionalized para-alkyl group. Contains tyrene.

本発明のリソグラフィー又は腐食防止組成物及び/又は方法の好ましい実施態様 によれば、輻射線反応性官能化コポリマーは、次のようなアルキル基に結合した 輻射線反応性の官能基を持つパラ−アルキルスチレンを含む:−C−Y R′ 式中、R及びR′は、水素、アルキル、及びハロゲン化第1及び第2アルキルか ら独立に選ばれ、そして、Yは、エーテル、エステル、アミン又は別の種類の化 学結合を経由してコポリマーに結合する放射線反応性の官能基(単数又は複数) である。これらの輻射線反応性官能化コポリマーは、それ以外は、環の官能基又 はポリマーの主鎖上の官能基(すなわち、イソオレフィンの炭素上のもの)の形 態の別の官能基を実質的に存在含まないのが好ましい。Preferred embodiments of the lithographic or corrosion inhibiting compositions and/or methods of the present invention According to Contains para-alkylstyrene with a radiation-reactive functional group: -C-Y R' In the formula, R and R' are hydrogen, alkyl, and halogenated primary and secondary alkyl. and Y is an ether, ester, amine or another type of compound. radiation-reactive functional group(s) attached to the copolymer via a chemical bond; It is. These radiation-responsive functionalized copolymers are otherwise is the shape of the functional groups on the polymer backbone (i.e., those on the isoolefin carbons) Preferably, it is substantially free of other functional groups.

前述の輻射線反応性官能化コポリマーの製造に用いる、4乃至7の炭素原子数の イソオレフィンとパラ−アルキルスチレンとの前駆コポリマーは、イソオレフィ ン及びパラ−アルキルスチレンを、共重合反応器において、希釈剤及びルイス酸 触媒の存在における共重合反応条件の下で混合すること、及び触媒と錯体を生成 するか、又はイソオレフィン又はパラ−アルキルスチレンと共重合する可能性の ある不純物が共重合反応器内に実質的に含まれないように維持することにより製 造される。この方法により、前述の輻射線反応性官能化コポリマーを製造するた めの前駆コポリマーが、直接反応生成物として製造される。そしてこのものは、 重合されたままの状態において、実質的に均一な組成分布を持ち、そしてまた本 質的にイソオレフィン及びパラ−アルキルスチレンからなり、そして約5000 より大きい数平均分子量を持つ。このイソブチレン/パラ−メチルスチレン前駆 コポリマーは、好ましい希釈剤に溶解しないので、方法はスラリー重合プロセス である。しかし、イソブチレン/パラ−メチルスチレン前駆コポリマーが希釈剤 に溶解する別の実施態様において溶液重合プロセスを開示する。4 to 7 carbon atoms used in the preparation of the radiation-reactive functionalized copolymers described above. The precursor copolymer of isoolefin and para-alkylstyrene is an isoolefin. and para-alkylstyrene in a copolymerization reactor with a diluent and a Lewis acid. Mixing under copolymerization reaction conditions in the presence of a catalyst, and forming a complex with the catalyst or copolymerize with isoolefins or para-alkylstyrenes. manufactured by keeping certain impurities substantially free from the copolymerization reactor. will be built. This method was used to produce the radiation-reactive functionalized copolymers described above. A precursor copolymer is produced as a direct reaction product. And this thing is In the as-polymerized state, it has a substantially uniform composition distribution and also has a consists qualitatively of isoolefins and para-alkylstyrenes and about 5,000 have a higher number average molecular weight. This isobutylene/para-methylstyrene precursor Since the copolymer does not dissolve in the preferred diluent, the method is a slurry polymerization process. It is. However, isobutylene/para-methylstyrene precursor copolymer is the diluent. In another embodiment, a solution polymerization process is disclosed.

インオレフィン及びパラ−アルキルスチレンの前駆コポリマーは次に一部選択的 に臭素化されて、ベンジル臭素官能基を含む「ベースターポリマー」を生成する 。Precursor copolymers of inolefins and para-alkylstyrenes are then partially selective is brominated to produce a “base terpolymer” containing benzyl bromine functional groups. .

ベースターポリマーは、4乃至7の炭素原子数を持つイソオレフィン及び次ぎの 式で表されるパラ−アルキルスチレン: −C−1t R′ からなるコポリマーのベンジル水素の一つを、臭素及びラジカル開始剤の存在の 下で選択的に臭素化し、イソオレフィン及びパラ−アルキルスチレンの臭素化コ ポリマーを生成することにより製造される。そしてこのコポリマーはパラ−アル キルスチレンを次ぎのちの:(+) 又は R′ 或いは、(1)及び(2)の混合物として含み、式中、R及びR′は、水素、ア ルキル、及びハロゲン化第1及び第2アルキルから独立に選ばれ、そして、コポ リマーはそれ以外には、環の臭素又はポリマーの主鎖上の臭素を実質的に含まな い。選択的臭素化方法の一つの実施態様によれば、ラジカル開始剤は光又は熱で ある。別の実施態様によれば、ラジカル開始剤は約5乃至2500分の半減期を 持ち、そしてビス・アゾ化合物を含むのが好ましい。The base terpolymers include isoolefins having 4 to 7 carbon atoms and the following: Para-alkylstyrene represented by the formula: -C-1t R' One of the benzylic hydrogens of the copolymer consisting of bromine and the presence of a radical initiator Selective bromination of isoolefins and para-alkyl styrenes Manufactured by producing polymers. And this copolymer is para-alcoholic. After Kirstyrene: (+) or R' or as a mixture of (1) and (2), where R and R' are hydrogen, a independently selected from alkyl, and primary and secondary alkyl halides; The remer is otherwise substantially free of ring bromine or bromine on the polymer backbone. stomach. According to one embodiment of the selective bromination process, the radical initiator is photo- or thermally activated. be. According to another embodiment, the radical initiator has a half-life of about 5 to 2500 minutes. and preferably contains a bis-azo compound.

非常に活性の高い、そして用途の広い親電子物質であるベンジル臭素に対する輻 射線反応性の官能基の置換は核置換反応により達成され、所望の輻射線反応性の 官能基及び、所望により、−以上のその他の官能基が導入される。Convergence for benzylbromine, a highly active and versatile electrophile. Substitution of radiation-reactive functional groups is accomplished by nuclear substitution reactions, resulting in the desired radiation-responsiveness. A functional group and, if desired, - or more other functional groups are introduced.

本発明のリソグラフィー又は腐食防止コーティング及び/又は方法において用い られるペンダント輻射線反応性官能化コポリマーは、イソオレフィン及びパラ− アルキルスチレンからなる、輻射線反応性の核置換されたハロゲン化コポリマー として特徴つけられ、このコポリマーは、パラ−アルキルスチレンを以下の式: 又は(1) 、(2) 、及び/又は(3)及び/又は(4)の混合物として含 み、式中、R及びR′は、水素、アルキル、好ましくはC8乃至C2のアルキル 、そしてハロゲン化第1または第2アルキル、好ましくは、ハロゲン化第1又は 第2のC4乃至C2のアルキルからなS群から独立に選ばれ、そして、Xは塩素 及び臭素からなる群から選ばれ、好ましくは臭素であり、Yは、好ましくは、ベ ンジルハロゲンの一つの核置換を経由してポリマーに結合した新規の輻射線反応 性の−又は複数種類の官能基を表し、2は、輻射線反応性でなくてもよい随意に 加えられる−又は複数種類の官能基であって、ベンジルの/’%ロゲンの一つの 核置換を経由してポリマーに結合したものを表す。For use in lithography or corrosion protection coatings and/or methods of the invention The pendant radiation-reactive functionalized copolymers are made of isoolefins and para- Radiation-responsive nuclear-substituted halogenated copolymers of alkylstyrenes This copolymer is characterized as a para-alkylstyrene with the following formula: or as a mixture of (1), (2), and/or (3) and/or (4). In the formula, R and R' are hydrogen, alkyl, preferably C8 to C2 alkyl. , and halogenated primary or secondary alkyl, preferably halogenated primary or secondary alkyl independently selected from the group S consisting of the second C4 to C2 alkyl, and X is chlorine. and bromine, preferably bromine, and Y is preferably base. Novel radiation reaction linked to polymers via single nuclear substitution of halogen 2 is an optional functional group which does not have to be radiation-reactive. - or multiple types of functional groups added, one of the /'% rogens of benzyl Represents something bound to a polymer via nuclear substitution.

本発明の別の実施態様によれば、リソグラフィー、腐食防止、又はその他のコー ティングの製造方法は、物品の表面の少なくとも一部を上述の輻射線反応性コポ リマーを含む組成物でコーティングする工程、及び前記コーティングを電磁線輻 射に暴露してそこに架橋を導入する工程を含む。この方法は、さらに、暴露工程 の前にコーティング上に特定のパターンの像を形成して輻射線の貫通を選択的に ブロックする工程、及び暴露工程の後未架橋のコーティングを除去して架橋され たコーティングとして形成された像を発現させる工程を含むことができる。この 方法は、さらに、パターンマスクが架橋されたコーティング中に形成されている 除去工程の後物品の表面をエツチングする工程を含むことができる。According to another embodiment of the invention, lithography, corrosion protection, or other coatings may be used. The method of making a radiation-reactive coating comprises coating at least a portion of the surface of the article with the radiation-responsive coating described above. coating with a composition comprising a reamer and exposing said coating to electromagnetic radiation; exposure to radiation to introduce crosslinks therein. The method further includes an exposure step Selective penetration of radiation by forming a specific pattern of images on the coating before After the blocking step and the exposing step, the uncrosslinked coating is removed and the crosslinked developing the image formed as a coated coating. this The method further includes forming a patterned mask in the cross-linked coating. The step of etching the surface of the article after the removal step can be included.

本発明のさらに別の実施態様においては、輻射線架橋されたコーティング組成物 は、少なくとも一部が電磁線輻射によって架橋されている上述の架橋性輻射線反 応性官能化組成物を含む。この架橋されたコーティングは、印刷要素及びエツチ ングマスク又は耐腐食性、耐溶媒性、破砕防止用、及びその他の種類のコーティ ングとして有用である。In yet another embodiment of the invention, a radiation crosslinked coating composition is a cross-linking radiation reflector as described above, which is at least partially cross-linked by electromagnetic radiation. the functionalized composition. This crosslinked coating is used for printing elements and etching. anti-corrosion, solvent-resistant, anti-fracture, and other types of coatings. It is useful as a guideline.

本発明の別の実施態様は、上述の本発明の架橋したコーティング組成物をその少 なくとも一部に含む種々の物品を包含する。Another embodiment of the present invention provides that the crosslinked coating composition of the present invention described above is It includes various articles including at least some of them.

発明の詳細な説明 コーティング組成物は、好ましくはリソグラフィー、腐食防止、又はシーラント コーティングとしてのコーティング組成物は、一つ以上の輻射線反応性の官能基 により官能化された、イソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ−ブロモメチ ルスチレンベースターポリマーを含む。Detailed description of the invention The coating composition is preferably a lithography, corrosion protection, or sealant. The coating composition as a coating includes one or more radiation-reactive functional groups. isobutylene/para-methylstyrene/para-bromomethyl functionalized with Contains Rustyrene-based terpolymer.

A、輻射線反応性コポリマー コーティングは、次の式で表されるパラ−アルキルスチレンを含むイソオレフィ ンとパラ−アルキルスチレンの輻射線反応性コポリマーを含む: R′ 式中、Wは少なくともYを含み、そして、所望によりYと水素、X及びZの1つ 以上との混合物を含んでよく、ただし、R,R’ 、X、Y及び2は既に定義し たとおりである。輻射線反応性の置換パラ−アルキルスチレン(WがYであるも の)は、官能化コポリマーの約0.5乃至約55重量%を構成してよいが、約0 .5乃至約20重量%が好ましく、約0.5乃至約15重量%がより好ましく、 約1乃至約7重量%が特に好ましい。未置換のパラ−アルキルスチレン(Wが水 素である)は、官能化コポリマーの約0.5乃至約90重量%を構成してよいが 、約1乃至約20重量%が好ましく、そして約2乃至約10重量%が特に好まし い。ラジカルによりハロゲン化されたパラ−アルキルスチレン(WがXである) は、コポリマーの約55重量%までを構成してよいが、約20重量%以下が好ま しく、約15重量%以下がより好ましい。好ましい実施態様において、ハロゲン 化されたパラ−アルキルスチレンは、例えば、Y及び/又はZ基による核置換に より実質的に完全に転化され、その結果、輻射線反応性コポリマーはハロゲン化 パラ−アルキルスチレンを本質的に含まず、好ましくは、約1重量%以下の、よ り好ましくは約0.5重量%以下の、非常に好ましくは、約0.1重量%以下の 、そして、特に約0.02モル%以下の、ハロゲン化パラ−アルキルスチレンし か含まない。官能化されたパラ−アルキルスチレン(WがZである)は、官能化 コポリマーの0乃至約55重量%を構成してよいが、0乃至約20重量%が好ま しく、0乃至約15重量%がより好ましい。輻射線反応性コポリマーの残りの成 分は、一般的に、通常輻射線反応性コポリマーの約10乃至約99.5重量%、 好ましくは、約80乃至約99重量%、より好ましくは、約90乃至約98重量 %の範囲内のイソオレフィンを含む。輻射線反応性コポリマーのMnは約500 0乃至約500.000であり、好ましくは、約50.000乃至約300.0 00であり、非常に好ましくは、約50,000乃至約150.000である。A, radiation-reactive copolymer The coating is an isoolefin containing para-alkylstyrene of the formula: Contains a radiation-reactive copolymer of carbon and para-alkylstyrene: R' In the formula, W includes at least Y, and optionally Y and one of hydrogen, X, and Z. may include mixtures with the above, provided that R, R', X, Y and 2 are as defined above. That's right. Radiation-reactive substituted para-alkylstyrenes (where W is Y) ) may constitute from about 0.5% to about 55% by weight of the functionalized copolymer, but less than about 0% .. 5 to about 20% by weight is preferred, and about 0.5 to about 15% by weight is more preferred; About 1 to about 7% by weight is particularly preferred. Unsubstituted para-alkylstyrene (W is water) may constitute from about 0.5 to about 90% by weight of the functionalized copolymer. , from about 1 to about 20% by weight, and from about 2 to about 10% by weight is particularly preferred. stomach. Radically halogenated para-alkylstyrene (W is X) may constitute up to about 55% by weight of the copolymer, but preferably no more than about 20% by weight. more preferably about 15% by weight or less. In a preferred embodiment, halogen Para-alkyl styrenes can, for example, undergo nuclear substitution by Y and/or Z groups. more substantially completely converted and, as a result, the radiation-responsive copolymer is less halogenated. essentially free of para-alkylstyrene, preferably less than about 1% by weight; more preferably about 0.5% by weight or less, very preferably about 0.1% by weight or less , and especially up to about 0.02 mole % of halogenated para-alkylstyrenes. or not. Functionalized para-alkylstyrene (W is Z) may constitute 0 to about 55% by weight of the copolymer, preferably 0 to about 20% by weight. and more preferably from 0 to about 15% by weight. The remaining composition of the radiation-responsive copolymer Generally, from about 10 to about 99.5% by weight of the radiation-responsive copolymer, Preferably about 80 to about 99% by weight, more preferably about 90 to about 98% by weight % of isoolefins. The Mn of the radiation-reactive copolymer is approximately 500 0 to about 500.000, preferably about 50.000 to about 300.0 00, and most preferably from about 50,000 to about 150,000.

輻射線反応性官能基は、化学線、電子ビームの輻射により反応性となる各種の化 合物から誘導される。これらは、多くの異なる周知の分類からの光開始剤を含み 、光開始剤は、ベンジルハロゲンの残して行く基と、光開始剤部分を含む核性化 合物との間の核置換反応により、イソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ− ブロモメチルスチレンベースターポリマーに組込むことができる。Radiation-reactive functional groups include various chemical groups that become reactive when irradiated with actinic radiation or electron beams. derived from compounds. These include photoinitiators from many different well-known classes , the photoinitiator is a nucleated group containing a benzyl halogen leaving group and a photoinitiator moiety. Isobutylene/para-methylstyrene/para- Can be incorporated into bromomethylstyrene-based terpolymers.

代表的光開始剤は次のものを含む2 (蟲)芳香族のアルデヒド及びケトン、例えば、ベンゾフェノン、4−クロロベ ンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾキノン、ナツタキノン、 アントラキノン、2−クロロアントラキノン、ベンジリデンアセトフェノン、ア セトフェノン、プロピオフェノン、シクロプロピルフェニルケトン、ベンズアル デヒド、β−ナフチルフェニル・ケトン、β−ナフトアルデヒド、β−アセトナ フトン、2,3−ペンタンジオン、ベンジル(beoKil)、フルオレノン、 ベンズアントロン、ミヒラーズケトン(Michler’s ketone)  、ビス(パラヒドロキシベンジリデン)アセトン、ベンゾイン、デオキシベンゾ イン、クロロデオキシベンゾイン及び類似物、のようなもの、 (b)アルコキシ及びアシル置換芳香族化合物、例えば、2.2−ジメチルオキ シ−2−フェニル、1,3.5−トリアセチルベンゼン、2,5−ジェトキシス チルベン、及び類似物、のようなもの、 (C)ヘテロ芳香族化合物、例えば、チオキサントン及び類似物、のようなもの 、 (d)縮合環多環式芳香族化合物、例えば、アントラセン、ピレン及び類似物、 のようなもの、(e)N、N−二置換ジチオカルバメート、(1)共役不飽和脂 肪酸、例えば、キリ油酸及びそれらの誘導体、のようなもの、 (g1次の式で表される、α、β−不飽和芳香族カルボン酸: Ar−(C=CH) * −(CToC■)b−COOH■ R1+ 式中、R′はH,CN、及びNO2からなる群から選ばれ、a及びbは0又は1 であり、そしてArは、例えハ、フェニル、m−ニトロフェニル、p−クロロフ ェニル、アセトキシフェニル、スチリル、スチリルフェニル、p−メトキシフェ ニル、1−ナフチル、2−ナフチル、9−アントリル、2−フルフリル及び2− チェニルのようなアリール基であり、そして、例えば、ヒドロカービル、ニトロ 、クロロ、アルコキシ、アジド及びスルフォンアジドのような一以上の別の基で 置換されてもよい)[これらの芳香族カルボン酸の代表的な例は次ぎのちのを含 む;安息香酸、桂皮酸、m−ニトロ桂皮酸、p−クロロ桂皮酸、p−メトキシ桂 皮酸、カルコン(chxIcone)アクリル酸、p−フ二二しンビス(アクリ ル酸)、p−アジド安息香酸、p−スルフォンアジド安息香酸、α−シアノ桂皮 酸、シンナミリデン酢酸、シンナミリデンマロン酸、α−シアノシンナミリデン 酢酸、β−(11−ナフチルアクリル酸、β−(2)−フルフリル−アクリル酸 、α−シアノ−β−(2)−チェニルアクリル酸、β−(1)ナフチルアクリル 酸、β−(9)−アントリルアクリル酸及びそれ、らのエステル及び塩(例えば 、安息香酸ナトリウム)及び類似物]。Typical photoinitiators include2 (Insects) Aromatic aldehydes and ketones, such as benzophenone, 4-chlorobenzene Nzophenone, 4-hydroxybenzophenone, benzoquinone, natsutaquinone, Anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, benzylideneacetophenone, Cetophenone, propiophenone, cyclopropylphenyl ketone, benzal Dehyde, β-naphthylphenyl ketone, β-naphthaldehyde, β-acetona Futone, 2,3-pentanedione, benzyl (beoKil), fluorenone, Benzantrone, Michler's ketone , bis(parahydroxybenzylidene)acetone, benzoin, deoxybenzo such as in, chlorodeoxybenzoin and similar, (b) alkoxy and acyl substituted aromatic compounds, such as 2,2-dimethyloxy C-2-phenyl, 1,3.5-triacetylbenzene, 2,5-jetoxys such as tilbenes, and similar; (C) Heteroaromatic compounds, such as thioxanthone and the like. , (d) fused ring polycyclic aromatic compounds, such as anthracene, pyrene and the like; (e) N,N-disubstituted dithiocarbamates, (1) Conjugated unsaturated fats fatty acids, such as tung oil acid and their derivatives; (g1 α,β-unsaturated aromatic carboxylic acid represented by the following formula: Ar-(C=CH) *-(CToC■)b-COOH■ R1+ where R' is selected from the group consisting of H, CN, and NO2, and a and b are 0 or 1 and Ar is, for example, phenyl, m-nitrophenyl, p-chlorophenyl. phenyl, acetoxyphenyl, styryl, styryl phenyl, p-methoxyphenyl Nyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 9-anthryl, 2-furfuryl and 2- Aryl groups such as chenyl and, for example, hydrocarbyl, nitro , with one or more other groups such as chloro, alkoxy, azide and sulfone azide. (may be substituted) [Representative examples of these aromatic carboxylic acids include the following: Benzoic acid, cinnamic acid, m-nitrocinnamic acid, p-chlorocinnamic acid, p-methoxycinnamic acid Chalic acid, chxIcone, acrylic acid, p-phinyl bis(acrylic acid) acid), p-azidobenzoic acid, p-sulfoneazidobenzoic acid, α-cyanocinnamic acid Acid, cinnamylidene acetic acid, cinnamylidene malonic acid, α-cyanocinnamylidene Acetic acid, β-(11-naphthylacrylic acid, β-(2)-furfuryl-acrylic acid) , α-cyano-β-(2)-chenyl acrylic acid, β-(1) naphthylacrylic acid acids, β-(9)-anthryl acrylic acid and their esters and salts (e.g. , sodium benzoate) and similar].

(b)ニトロ芳香族化合物、例えば、ピクラミド、ニトロナフタレン、5−ニト ロアセナフチレン(nilroxcc−ngphlhlenc) 、2−ニトロ フルオレン及び類似物、のようなもの、 (i)染料化合物、例えば、ローズベンガル、アクリジンオレンジ、クロロフィ リン、クリスタルヴアイオレット、エオシンY1フルオレセイン、フラヴイン・ モノヌクレオチド、ヘマトポルフィリン、ヘミン、マラカイトグリーン、メチレ ンブルー、ローダミンB1クロロフイル、コシン(cosine) 、エルトロ シン(ertb+osiae)、メチレングリーン、トルイジンブルー、チオニ ン及び類似物、のようなもの、 (j)アジド含有化合物、例えば、アジドベンゼン、p−フ二二しンビスアジド 、p−アジドベンゾフェノン、4.4−ジアジドベンゾフェノン、4.4’−ジ アジドジフェニルメタン、4.4’−ジアジドスチルベン、4.4’−ジアジド カルコン、3.6−ジ(4′−アジドベンザル)シクロヘキサノン、2.6−ジ (4゛−アジドベンザル)−4−メチルシクロベキサノン及び類似物、のような もの、(k) ジアゾニウム塩ラジカル、例えば、p−ジアゾジフェニルアミン ・バラフォルムアルデヒド縮合物、l−ジアゾ−4−ジメチルアミノベンゼンヒ ドロフルオロボレート、1−ジアゾ−3−メチル−4−ジメチルアニリンスルフ ェート及び類似物、のようなもの、及び(1)上記の感光性基を含む多官能性化 合物、例えば、1.2−ナフトキノンジアジド、2,3.4−トリヒドロキシベ ンゾフェノン、ビス−(ナフトキノン−1,2−ジアド−5−スルホネート)、 2−(ナフトキノン−1,2−ジアジド−5〜スルホニルオキシ)−3−ヒドロ キシナフタレン、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸ノヴオラッ クエステル、±ブトキノン−1,2−ジアジド5−スルフアニリド、アジド安息 香酸、アジドフタール酸、及び類似物、のようなもの、及び (Il)金属キレート化合物、例えば、ベンゼンクロムトリカルボニル及び類似 物、のようなもの。(b) Nitroaromatic compounds, such as picramide, nitronaphthalene, 5-nitro Roacenaphthylene (nilroxcc-ngphhllenc), 2-nitro Fluorene and similar, such as (i) dye compounds, such as rose bengal, acridine orange, chlorophyll; Phosphorus, Crystalline Iolette, Eosin Y1 Fluorescein, Flavin Mononucleotide, hematoporphyrin, hemin, malachite green, methylene Blue, rhodamine B1 chlorophyll, cosine, eltro Syn(ertb+osiae), methylene green, toluidine blue, thioni and similar things, such as (j) Azide-containing compounds, such as azidobenzene, p-phenyl bisazide , p-azidobenzophenone, 4.4-diazidobenzophenone, 4.4'-di azidodiphenylmethane, 4.4'-diazidostilbene, 4.4'-diazide Chalcone, 3,6-di(4'-azidobenzal)cyclohexanone, 2,6-di (4'-azidobenzal)-4-methylcyclobexanone and similar (k) diazonium salt radical, e.g. p-diazodiphenylamine ・Rose formaldehyde condensate, l-diazo-4-dimethylaminobenzene Drofluoroborate, 1-diazo-3-methyl-4-dimethylaniline sulfate and (1) polyfunctionalizations containing photosensitive groups as described above. compounds, such as 1,2-naphthoquinone diazide, 2,3,4-trihydroxybenzene ndzophenone, bis-(naphthoquinone-1,2-diado-5-sulfonate), 2-(naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyloxy)-3-hydro Xinaphthalene, naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid Novolat Quester, ±butoquinone-1,2-diazide 5-sulfanilide, azide rest such as aromatic acid, azidophthalic acid, and the like, and (Il) Metal chelate compounds, such as benzenechromium tricarbonyl and similar Things, things like.

光開始剤に関する広範な説明が、削連のクチツクの刊行物に記載されている。こ れらの化合物は一般に、ハロゲン化されたイソオレフィン/パラ−アルキルスチ レンベースターポリマーを核置換を経由して官能化するための適切な反応性の部 分を含有するか、又はヒドロキシ又はカルボキシル基又はカルボキシレート塩又 はエステルのような適切な反応性の部分を組込むため容易に改質可能である。An extensive description of photoinitiators can be found in the Kuchitsuku publications of the Genren. child These compounds are generally halogenated isoolefins/para-alkyl styrene. Suitable reactive moieties for functionalizing ren-based terpolymers via nuclear substitution containing hydroxy or carboxyl groups or carboxylate salts or can be easily modified to incorporate suitable reactive moieties such as esters.

リソグラフィー用又は腐食防止用フィルムとしてのコーティングの性能は、輻射 線反応性官能化コポリマー又はコポリマーブレンドの含有率及び種類ならびに架 橋密度に依存する。架橋密度は、輻射線暴露及び輻射線反応性コポリマーの種類 と濃度の直接の関数である。官能基の種類を決定する重要な変数は、所望の官能 化の程度及びエネルギー吸収の波長を含む。感光性ポリマーはまた、添加剤及び /又はエキステンダーを含むコーティング組成物に含まれる別の成分の存在の下 で照射されたとき、良好な架橋応答を一般的に示さなければならない。The performance of the coating as a lithographic or corrosion protection film is The content and type of linearly functionalized copolymer or copolymer blend and crosslinking Depends on bridge density. Crosslink density depends on radiation exposure and type of radiation-reactive copolymer. and is a direct function of concentration. The key variable in determining the type of functional group is the desired functionality. including the degree of oxidation and the wavelength of energy absorption. Photopolymer also contains additives and / or in the presence of another component included in the coating composition, including the extender. should generally exhibit a good crosslinking response when irradiated with

例えば、シンナメート誘導体感光性ポリマーは、吸光度が強いから照射エネルギ ーを良く吸収する。それ故、UV反応性の官能基としてシンナメートを組込んで いるコーティング系は、より高いUV照射線量を必要とし、架橋深さはより浅い のが一般的である。これらの系は薄いコーティングにおいて最適であり、そして 、架橋をUV線に暴iiさiしる外i又は外殻に限定jへき用途において特に望 ましい。これに反し、ベンゾフェノンを組込んでいるPSAはその吸光度が弱い からUVエネルギーを余り吸収しない。そして、これらは光励起状態から高い水 素引き抜き反応性を持っている。その結果、ベンゾフェノンを含むコーティング 系は、低いUV照射線量しか必要とせず、架橋の深さはより深い。For example, cinnamate derivative photosensitive polymers have strong absorbance, so the irradiation energy is - absorbs well. Therefore, incorporating cinnamate as a UV-reactive functional group Coating systems that require higher UV radiation doses and shallower crosslinking depths is common. These systems are best suited for thin coatings and is particularly desirable in applications where crosslinking is limited to the outer shell or to the outer shell exposed to UV radiation. Delicious. On the contrary, PSA incorporating benzophenone has a weak absorbance. does not absorb much UV energy from And these are converted from photoexcited states to high water It has raw extraction reactivity. As a result, coatings containing benzophenone The system requires lower UV radiation doses and deeper crosslinking depths.

官能基の種類の選択は、官能基を励起させるために用いる輻射線の波長を考慮す ることも必要とする。UV波長に反応性のものには、シンナメート、ベンゾフェ ノン、チオキサントン、アントラキノン、ジチオカルバメート及び類似物が含ま れる。一方、例えば、ナフトキノン由来の感光性ポリマーは、可視光に敏感であ り、そして、キリ油酸誘導体は、ガンマ及び電子ビーム輻射のような高エネルギ ー輻射により架橋可能なポリマーの例である。The selection of the type of functional group takes into account the wavelength of the radiation used to excite the functional group. It is also necessary to Those that are sensitive to UV wavelengths include cinnamates and benzophene. Contains non-, thioxanthone, anthraquinone, dithiocarbamate and similar It will be done. On the other hand, photosensitive polymers derived from naphthoquinone, for example, are sensitive to visible light. and tung oil acid derivatives can be used for high energy radiation such as gamma and electron beam radiation. - is an example of a polymer that can be crosslinked by radiation.

コーティングの性能、例えば、種々の支持体への接着はまた、分子量、構造、及 びパラ−メチルスチレンの濃度の両者を含むポリマーの主鎖の組成、すなわち、 輻射線反応性コポリマーがゴム弾性状である度合(イソブチレンが多く、Tgが 低い)に対する熱可塑性状である度合(パラーメチルスチレが多(Tgが高い) に依存する。Coating performance, such as adhesion to various substrates, also depends on molecular weight, structure, and The composition of the polymer backbone, including both the concentration of para-methylstyrene and The degree to which the radiation-responsive copolymer is elastomeric (high in isobutylene, Tg The degree of thermoplasticity (high para-methyl styrene (high Tg)) Depends on.

ポリマーの主鎖中のパラ−メチルスチレン濃度を増すことは一般的にTgの全体 的な増加に貢献し、それ故、これは最適化における変数である。Increasing the concentration of para-methylstyrene in the polymer backbone generally increases the overall Tg. therefore, it is a variable in the optimization.

分子構造、すなわち、枝別れ分子対直鎖分子の最適化も同じく関連する。輻射線 硬化性コーティング系内に他の官能基を組込むことは、新しい変数を造りだし、 種々の異なる支持体に対するポリマーの構造及びその性質の最適化の制御をより 大きくさえしている。Optimization of molecular structure, ie branched versus linear molecules, is also relevant. radiation Incorporating other functional groups within the curable coating system creates new variables and Greater control over polymer structure and optimization of its properties for a variety of different supports It's even bigger.

輻射線反応性の架橋の取る経路は、組込まれた官能基の種類に依存する。例えば 、シンナメート誘導体コポリマー、例えば、シンナモイル(φCf1=CIl− C(0) −) ハU V開始時2+2の光源化付加を行うであろう。The route taken by radiation-reactive crosslinking depends on the type of functional group incorporated. for example , cinnamate derivative copolymers, e.g. cinnamoyl (φCf1=CIl- C(0) -) CU At the start of V, 2+2 light source additions will be performed.

連鎖A 連鎖B ÷CトC1l!刊−−←C11−CHz −)−C[I2 Cl2 O〇 一方、ベンゾイルベンゾエート誘導体では、Uv暴露の下で、遊離ラジカル架橋 が行われる。組込まれたベンゾフェノン部分は、ベンゾフェノン部分がUV輻射 線によって反応し、水素引き抜き機構を経由して結合状態のベンゾフェノン官能 基において遊離ラジカルを生成することで知られている光開始剤である。Chain A Chain B ÷CtoC1l! Published--←C11-CHz-)-C[I2 Cl2 O〇 On the other hand, in benzoyl benzoate derivatives, free radical cross-linking under Uv exposure will be held. The incorporated benzophenone part is UV-radiated. The benzophenone functionalizes in a bonded state via a hydrogen abstraction mechanism that reacts with It is a photoinitiator known for generating free radicals in groups.

N、N−二置換ジチオカルバメート誘導体においてもまたUV暴露時ラジカル架 橋が行われる。架橋は、ジチオカルバメートエステル官能基が照射の下で安定な ラジカルを生成し易く、そのため、イソブチレン起源のポリマーの場合に通常束 じる主鎖の開裂ではなく、ラジカル架橋及び他のラジカル化学反応を可能にでき ることに起因する。N,N-disubstituted dithiocarbamate derivatives also undergo radical crosslinking upon UV exposure. The bridge is done. Cross-linking occurs when the dithiocarbamate ester functional group is stable under irradiation. They tend to generate radicals and are therefore usually bundled in the case of polymers of isobutylene origin. This allows radical cross-linking and other radical chemical reactions rather than cleavage of the main chain. This is due to

キリ油脂肪酸は、キリ油から誘導されたエレオステアリン酸の豊富な、そして、 共役不飽和を含有する脂肪酸である。電子線照射に暴露すると、キリ油エステル で官能化されたコポリマーにおいて架橋が始まる。Tung oil fatty acids are derived from tung oil, rich in eleostearic acid, and It is a fatty acid containing conjugated unsaturation. When exposed to electron beam irradiation, tung oil ester Crosslinking begins in copolymers functionalized with .

アントラキノン−2−カルボキシレートエステルで官能化されたコポリマーは、 光開始剤のアントラキノンを含有する。Uv照射によりラジカル架橋が始まる。Copolymers functionalized with anthraquinone-2-carboxylate esters Contains the photoinitiator anthraquinone. Radical crosslinking is initiated by UV irradiation.

他の官能基は随意に存在してよい、そして、多数の官能基(その中の少なくとも 一つは輻射線反応性である)を含む単一の官能化されたペースコポリマー上に互 いに分散させるか、又は二種類以上の官能化されたコポリマーを互いにブレンド してもよい。官能基を追加することによりコーティング系に別の望ましい性質を 組込むことができる。例えば、輻射線硬化性の官能基に加え、アミンの官能基の 存在により、輻射線硬化性リソグラフィー用コーティングの水による乳化が容易 になる。また、アミン誘導体は、ベンゾフェノン光開始剤と併用され、引き抜き の容易な陽子を提供する。Other functional groups may optionally be present, and a number of functional groups, at least one is radiation-responsive) on a single functionalized pace copolymer containing or blend two or more functionalized copolymers together. You may. Adding functional groups can provide additional desirable properties to coating systems. Can be incorporated. For example, in addition to radiation-curable functional groups, amine functional groups The presence of water facilitates emulsification of radiation-curable lithographic coatings. become. Amine derivatives are also used in combination with benzophenone photoinitiators to provides easy protons.

官能基の混合の別の例として、ある種類の輻射線反応性官能基は、他の輻射線反 応性の基に対するエネルギー増幅器及び移動剤として作用し、そのため、周波数 範囲がより広く、エネルギー吸収度のより低い場合に、選択されたコーティング の感応性を増進できる。コーティング組成物中に存在する光励起性のアクロレイ ニウム(1ctoleiniam)塩官能基は、通常、高いUV吸光度、低いU V透過率及び狭いUV周波数の光開始範囲を持つシンナメート基に対するエネル ギー増幅器及び移動剤として作用する。光励起性官能基を加えることにより、シ ンナメート系において硬化深さを増し、及び/又はコーティングをより厚くでき る。As another example of mixing functional groups, one type of radiation-reactive functional group may be mixed with another type of radiation-reactive functional group. acts as an energy amplifier and transfer agent for the reactive groups, thus increasing the frequency Selected coatings for wider range and lower energy absorption can improve sensitivity. Photoexcitable acrolein present in coating composition Nictoleinium salt functional groups typically have high UV absorbance, low U energy for cinnamate groups with V transmittance and a narrow UV frequency photoinitiation range. Acts as a energy amplifier and transfer agent. By adding a photoexcitable functional group, the silicon Increasing cure depth and/or allowing thicker coatings with Ru.

輻射線反応性コポリマーは、一種類以上の輻射線反応性官能基を含むので、コー ティング組成物は、輻射線により硬化できる。ポリイソブチレンの主鎖内にラン ダムに分散しているペンダントのパラ−メチルスチレン基に直接光開始剤を組込 むことにより、ポリマーを輻射線により直接硬化できる。さらに、一種類以上の 輻射線硬化性官能基及び他の官能基を持つ、単一誘導コポリマー又は数種類のコ ポリマーのブレンドを用いて、特定の官能基を含むリソグラフィー又は腐食防止 系を特別に製造し、分類上極性のものであっても、非極性のものであっても、特 定の支持体に対する接着を増強することができる。例えば、カルボン酸官能基の 存在はアルミニウムへの接着を増進でき、一方、シラン官能基はガラスへの接着 を増進できる。さらに、シラン官能基は、有機珪素ポリマーフォトレジストコー ティングを必要とする半導体製造ブロセス、即ち、多層リソグラフィーにおいて 有用である。Radiation-responsive copolymers contain one or more radiation-responsive functional groups and therefore The coating composition can be cured by radiation. Runs within the main chain of polyisobutylene Incorporating photoinitiators directly into the pendant para-methylstyrene groups dispersed in the dam The polymer can be directly cured by radiation. Furthermore, one or more A single derivatized copolymer or several types of copolymers with radiation-curable functional groups and other functional groups. Lithography or corrosion protection containing specific functional groups using blends of polymers The system is specially manufactured, whether it is classified as polar or non-polar. Adhesion to certain substrates can be enhanced. For example, the carboxylic acid functional group The presence of silane functional groups can enhance adhesion to aluminum, while silane functional groups can enhance adhesion to glass. can be improved. In addition, silane functional groups can be used in organosilicon polymer photoresist coatings. In semiconductor manufacturing processes that require Useful.

当業者は通常、前述の官能基以外の有用な多くの官能基を組込んで、リソグラフ ィー用又は腐食防止用コーティングの系の実施態様を決定できるから、前述の説 明のための例を制限のためのものと考えるべきでないことは明らかである。Those skilled in the art will typically incorporate many useful functional groups other than those mentioned above to create a lithographic design. The above discussion can be used to determine the implementation of the coating system for corrosion protection or corrosion protection. It is clear that the illustrative examples should not be considered limiting.

B、その他の樹脂成分 本発明のリソグラフィー用又は腐食防止用コーティング組成物の選択的成分は、 UV又はEB反応性コポリマーとの使用に適切な粘着付与剤である。適切な粘着 付与剤は、コポリマー又はコポリマーブレンドと相溶性のある樹脂を含む。粘着 付与剤は、実質的な接着強度を与え、支持体の濡れを促進し、そして、コーティ ングの性能を一般的に強化するように、例えば、硬化された組成物の粘着性能対 温度性能を最適化するように選ばれる。B. Other resin components Selective components of the lithographic or anticorrosive coating compositions of the present invention include: Tackifier suitable for use with UV or EB reactive copolymers. proper adhesion The imparting agent includes a resin that is compatible with the copolymer or copolymer blend. adhesive The imparting agent provides substantial adhesive strength, promotes wetting of the substrate, and For example, the adhesive performance of the cured composition may be improved to generally enhance the adhesive performance of the cured composition. Selected to optimize thermal performance.

粘着付与剤は、UV又はEB反応性の−又は複数種類のポリマーの感光性及びゲ ル転化性能を実質的に妨げてはならないのが一般的である。Tackifiers are UV- or EB-reactive - or photosensitive polymers and gels. Generally, it should not substantially impede conversion performance.

本発明における使用に適切な粘着付与剤成分は、ESCOREZ又はWINGT ACK 95のような脂肪族又は芳香族の炭化水素樹脂を含む。WINGTAC K95は、軟化点が95℃の、ピペリレン及び2−メチル−2−ブテンのジエン −オレフィンコポリマーに対する商品名である。この樹脂は、60重量%のピペ リレン、10重量%のイソプレン、5重量%のシクロペンタジェン、15重量% の2−メチルブテン及び約10重量%のダイマーのカチオン重合により製造され る。米国特許第3.577、3911号を参照されたい。樹脂状コポリマーが2 0〜80重量%のピペリレン及び80〜20重量%の2−メチル−2−ブテンを 含む、一般的種類の同じ他の粘着付与樹脂を用いてよい。本発明の組成物におい ても有用な他の接着促進樹脂には、水素化ロジン、ロジンエステル、ポリテルペ ン、テルペンフェノール樹脂、及び混合オレフィンの重合体が含まれる。E S  CORE Z 53gG及びE CR−143H17)商品名の下に入手され る水素化炭化水素樹脂が好ましい。何故なら、粘着付与剤に存在する不飽和は、 接着剤が硬化するとき、輻射エネルギーの吸収のため、又は粘着付与剤が架橋反 応に参加するため、ポリマーのゲルへの転化を減少させるからである。これらの 粘着付与剤の環球式軟化点は一般的に、約10℃乃至約180℃、好ましくは、 約15℃乃至約75℃である。商品名ECR−Il+及びE CR−327の下 にエクソン・ケミカル・カンパニ(EIron Chuiul Co、)から入 手できる他の炭化水素粘着付与剤が、特に好ましいことも判明した。例えば、E CR−143H樹脂は、本書に引用済みの米国特許第4.916.192号に開 示するとうりC2のオレフィン/ジオレフィン供給物流れのカチオン重合により 製造される。Tackifier components suitable for use in the present invention include ESCOREZ or WINGT. Includes aliphatic or aromatic hydrocarbon resins such as ACK 95. WINGTAC K95 is a diene of piperylene and 2-methyl-2-butene with a softening point of 95°C. - is the trade name for the olefin copolymer. This resin contains 60% by weight Pipet Rylene, 10% by weight isoprene, 5% by weight cyclopentadiene, 15% by weight produced by cationic polymerization of 2-methylbutene and about 10% by weight of dimer. Ru. See US Patent No. 3.577,3911. The resinous copolymer is 2 0-80% by weight piperylene and 80-20% by weight 2-methyl-2-butene. Other tackifying resins of the same general type may be used, including. In the composition of the present invention Other adhesion-promoting resins that are also useful include hydrogenated rosins, rosin esters, and polyterpenes. These include polymers of esters, terpene phenolic resins, and mixed olefins. ES CORE Z 53gG and E CR-143H17) obtained under the trade name Preferred are hydrogenated hydrocarbon resins. This is because the unsaturation present in the tackifier is When the adhesive cures, it may be due to the absorption of radiant energy or because the tackifier is cross-linked. This is because it participates in the reaction and reduces the conversion of the polymer into a gel. these The ring and ball softening point of the tackifier generally ranges from about 10°C to about 180°C, preferably The temperature ranges from about 15°C to about 75°C. Under the product name ECR-Il+ and ECR-327 from Exxon Chemical Company (EIron Chuiul Co.) Other available hydrocarbon tackifiers have also been found to be particularly preferred. For example, E CR-143H resin is disclosed in U.S. Pat. No. 4.916.192, which is cited herein. By cationic polymerization of a C2 olefin/diolefin feed stream as shown Manufactured.

PSAの性質は粘着付与剤樹脂の選択により異なる。The properties of the PSA vary depending on the choice of tackifier resin.

特に重要なのは粘着付与剤のTgである。最適化研究の示すところによれば、通 常架橋密度に逆比例する粘着性に関連する性質が、PSA系のTgを最適化する ことにより改善できる。この点に関し粘着付与剤の選択は重要な変数である。例 えば、E CR−143H及びE CR−111粘着付与剤を等量ずつブレンド すると、各単独の粘着付与剤樹脂を組込んだPSA系より、ブレンドした粘着付 与剤を組込んだPSA系のほうが多くの粘着性の性質において優れている。粘着 付与剤の一般的な組成も、PSAの性質の最適化における有力な変数である。芳 香族化合物であることは相溶性にとり有利である。Particularly important is the Tg of the tackifier. Optimization research shows that Adhesion-related properties, which are inversely proportional to normal crosslink density, optimize the Tg of PSA systems This can be improved by The choice of tackifier is an important variable in this regard. example For example, blend equal amounts of E CR-143H and E CR-111 tackifiers. Then, from the PSA system incorporating each individual tackifier resin, the blended tackifier resin PSA systems incorporating agents are superior in many adhesive properties. adhesive The general composition of the imparting agent is also an influential variable in optimizing the properties of the PSA. Yoshi Being an aromatic compound is advantageous for compatibility.

本発明のコーティング組成物のその他の選択的成分は、輻射線不活性ポリマーで あって、その添加によって必要な輻射線感応性が妨害されないものである。輻射 線不活性* n=は低価格の二千ステンターとして作用するか又はその他の所望 の官能基を導入するのに使用できる。Other optional components of the coating compositions of the present invention are radiation-inactive polymers. and its addition does not interfere with the necessary radiation sensitivity. radiation Line inert *n=acts as a low cost 2,000 stent or other desired can be used to introduce functional groups.

C,コーティング組成物の製造及び使用法本発明の実施態様に基づ(コーティン グ系は、選択的に、粘着付与剤樹脂及びポリマーの両方を含む約50重量部まで の量でブレンドされた非輻射線反応性樹脂及び50重量部以上の一種類以上の輻 射線反応性官能基を含む官能化ポリマーを含み、ここで輻射線反応性成分の重量 部と非輻射線反応性成分の重量部の合計は100である。C. Method of Preparation and Use of Coating Compositions Based on Embodiments of the Invention (Coating Compositions) The tackifier system optionally includes up to about 50 parts by weight of both the tackifier resin and the polymer. a non-radiation-reactive resin blended in an amount of 50 parts by weight or more of one or more radiation comprises a functionalized polymer containing radiation-reactive functional groups, where the weight of the radiation-reactive component The sum of parts and parts by weight of the non-radiation-reactive component is 100.

その他の添加剤は、酸化防止剤、非ポリマーの無機又は有機粒状充填剤又は補強 材、カップリング剤、染料又は顔料、及びその他の輻射線架橋をほとんど妨害し ない添加物を含むことができる。Other additives include antioxidants, non-polymeric inorganic or organic particulate fillers or reinforcements. materials, coupling agents, dyes or pigments, and other radiation crosslinking. May contain no additives.

酸化防止剤又は安定剤は、約0.1乃至約3重量%、好ましくは、約0.1乃至 約1.5重量%、より好ましくは、約0.1乃至約1重量%、そして典型的には 約0.5重量%加えることができる。The antioxidant or stabilizer is about 0.1 to about 3% by weight, preferably about 0.1 to about 3% by weight. about 1.5% by weight, more preferably about 0.1 to about 1% by weight, and typically Approximately 0.5% by weight can be added.

増粘及び価格低下のために使用できる微粒状充填剤は、ガラス、シリカ、非晶質 S s O2、ヒユームドアルミナ、炭酸カルシウム、繊維及び類似品を含む。Particulate fillers that can be used for thickening and cost reduction include glass, silica, amorphous Including S s 2, fumed alumina, calcium carbonate, fibers and similar products.

適切な市販充填剤は、商品名、CAB −0−3I L、、 ZEO8I L3 5、AERO8I L R972、DUCRALID、などのちとに入手できる 。Suitable commercially available fillers include the trade names CAB-0-3I L, ZEO8I L3. 5. Available after AERO8I L R972, DUCRALID, etc. .

適切なカップリング剤は、例えば、シラン系化合物、有機チタン酸塩、有機ジル コニウム酸塩、有機ジルコアルミン酸塩、クロム錯体及び類似物のような有機金 属化合物を含む(しかし、これに限らない)。これらは一般的に、特定の用途に おいて関与する支持体及び/又は充填剤に基づいて、接着を促進するために選ば れる。Suitable coupling agents include, for example, silane compounds, organotitanates, organosyl Organic golds such as konates, organozircoaluminates, chromium complexes and similar including (but not limited to) compounds of the genus. These are generally used for specific purposes. selected to promote adhesion based on the support and/or filler involved in the process. It will be done.

適する染料には、Fuchsine(C142SIO) 、Cs1cosidG r!e@5(CI44090)、5olyent Yellow(CI4100 B)、及び類似物が含まれる。適する顔料には、二酸化チタン、コロイド炭素、 グラファイト、セラミック、クレー、燐光物質粒子、及び金属粒子、例えば、ア ルミニウム、磁性鉄、銅、及び類似物が含まれる。Suitable dyes include Fuchsine (C142SIO), Cs1cosidG r! e@5 (CI44090), 5olyent Yellow (CI4100 B), and the like. Suitable pigments include titanium dioxide, colloidal carbon, graphite, ceramic, clay, phosphor particles, and metal particles, e.g. Includes aluminum, magnetic iron, copper, and the like.

本発明のコーティング組成物は、所望によりコポリマーエマルジョン及びホット メルトも使用できるが、輻射線反応性コポリマーとその他の成分の有機溶媒溶液 として調製するのが好ましい。このコーティング組成物は、トルエンのような溶 媒中の約40%までの固体成分を含む溶液から支持体上に塗布することができ、 溶媒は輻射線暴露による架橋の前に蒸発により除去される。或いは、別の方法と して、成分を溶媒に混合し、混合物を乳化させ、そして、溶媒を蒸発させ、そし て、接着剤を50〜60重量%固体のエマルションとして支持体に塗布すること ができる。架橋の前に、従来の乾燥装置及び技術を用いて蒸発により水を除く。Coating compositions of the present invention optionally include copolymer emulsions and hot A solution of the radiation-reactive copolymer and other ingredients in an organic solvent, although a melt can also be used. Preferably, it is prepared as This coating composition is made from a solvent such as toluene. can be coated onto a support from a solution containing up to about 40% solids in the medium; The solvent is removed by evaporation prior to crosslinking by exposure to radiation. Or with another method to mix the ingredients in the solvent, emulsify the mixture, evaporate the solvent, and The adhesive is applied to the support as an emulsion of 50 to 60% solids by weight. Can be done. Prior to crosslinking, water is removed by evaporation using conventional drying equipment and techniques.

ホットメルト使用のために、コーティング組成物は、均一なブレンドが得られる まで溶融状態で輻射線反応性コポリマーをその他の成分とブレンドして製造でき る。For hot melt use, the coating composition provides a uniform blend Radiation-responsive copolymers can be blended with other ingredients in the molten state up to Ru.

この種の物質をブレンドする各種の方法は当業界で公知である。そして、均一な ブレンドを製造できる方法であればいずれも使用できる。代表的なブレンド装置 は、例えば、混合押出し機、練りロール機、バンバリーミキサ−、ブラベンダー 、などを含む。一般的に述べると、ブレンド成分は溶融状態で容易に混合し、そ して攪拌機を備えた加熱容器があればそれだけで十分である。成分を加える順序 は特にないが、一般的には、ポリマー樹脂をまず加え、そして容器内で溶融する まで加熱する。その後、選択的成分を加える。Various methods of blending materials of this type are known in the art. and uniform Any method that can produce a blend can be used. Typical blending equipment For example, a mixing extruder, a kneading roll machine, a Banbury mixer, a Brabender , etc. Generally speaking, the blend components mix easily in the molten state and A heating container equipped with a stirrer is sufficient. order of adding ingredients Although there is no specific method, generally the polymer resin is added first and then melted in a container. Heat until. Then add the optional ingredients.

ホットメルト接着剤を冷却し使用時に再加熱するか、又は、例えば、溝型ダイか らポンプ又は加圧押出しのための従来の装置を用い、受器又はメルトポットから 供給するなどして直接使用することができる。本発明の重要な特色は、ホットメ ルト配合物のメルトポット安定性が良いことであり、その結果、例えば、約6o 乃℃至約140℃のような一般的なホットメルト条件においては過早の硬化は殆 ど生じない。一般的に、150.000c p sのような高粘度も一般的に許 されるが、約100.000 c p sの目標粘度に対して十分であるように 加熱される。適するポット安定性に対しては、ホットメルトの粘度は、ポット温 度に8時間維持したとき20%より多く増加してはならない。Either the hot melt adhesive can be cooled and reheated at the time of use, or it can be from the receiver or melt pot using a pump or conventional equipment for pressure extrusion. It can be used directly by supplying it. An important feature of the invention is that The melt pot stability of the melt formulation is good, resulting in e.g. Under typical hot melt conditions such as temperatures between 140°C and 140°C, premature curing is almost impossible. It won't happen. In general, high viscosities such as 150.000cps are also generally acceptable. but sufficient for a target viscosity of approximately 100.000 cps heated. For suitable pot stability, the viscosity of the hot melt should be should not increase by more than 20% when maintained for 8 hours at a time.

フィルム、シート、板、及び成形物のようなコーティングされた物品の調製は、 選択された物品の表面の少なくとも一部を、輻射線反応性組成物の溶液、エマル ジョン、又はホットメルトでコーティングする初期工程を含む。どのような適す るコーティング(被覆)方法でも使用することができ、一方、複合体を含む適用 可能な支持体は、紙及び板紙;繊維ガラス:木;グラファイト;導電性金属、例 えば、銅、アルミニウム、亜鉛、及び鋼、その他;及びヒ化珪素又はヒ化ガリウ ムのような半導体支持体;ガラス及びセラミック;織物、天然及び合成の織布又 は不織布;エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、 スチレン、イソブチン、及びアクリロニトリルのホモポリマー及びコポリマーを 含む合成樹脂;ポリエチレンテレフタレート;ポリアミド;及びセルロースアセ テート及びセルロースブチレートのようなセルロースエステルから成ることがで きる。Preparation of coated articles such as films, sheets, plates, and moldings At least a portion of the surface of the selected article is coated with a solution, emulsion of a radiation-reactive composition. This includes an initial step of coating with hot melt or hot melt coating. What suits It can also be used in coating methods, whereas applications involving composites Possible supports are paper and paperboard; fiberglass: wood; graphite; conductive metals, e.g. For example, copper, aluminum, zinc, and steel, etc.; and silicon arsenide or gallium arsenide. Semiconductor supports such as glass and ceramics; textiles, natural and synthetic woven fabrics or is non-woven fabric; ethylene, propylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, homopolymers and copolymers of styrene, isobutyne, and acrylonitrile. Synthetic resins containing; polyethylene terephthalate; polyamide; and cellulose acetate It can consist of cellulose esters such as tate and cellulose butyrate. Wear.

後者のポリマー支持体は、種々の合成、天然、又は改質繊維のような充填剤又は 補強材、例えば、綿、セルロースアセテート、ビスコースレーヨン、及び紙;ガ ラス;及びポリアミド繊維のようなものを含むことができる。The latter polymeric support may be filled with fillers such as various synthetic, natural, or modified fibers or Reinforcements such as cotton, cellulose acetate, viscose rayon, and paper; and polyamide fibers.

これらの補強された支持体は、積層又は複合形態でもよい。These reinforced supports may be of laminated or composite form.

輻射線反応性コポリマー組成物のコーティングは、乾燥時にその厚さが約0.0 5乃至約IOミル(nil)の範囲になるように塗布される。湿ったポリマーコ ーティングの乾燥は、空気乾燥によって、又は実施者によって好まれるその他の 特定の乾燥方法を使用することによって行うことができる。輻射線反応性コーテ ィングを含む支持体は最終的に使用する前に長期間貯蔵することができる。The radiation-responsive copolymer composition coating has a dry thickness of about 0.0 The coating ranges from 5 to about IO mils (nil). wet polymer co Drying of the coating may be done by air drying or by any other method preferred by the practitioner. This can be done by using certain drying methods. Radiation reactive coat Supports containing coatings can be stored for long periods of time before final use.

架橋反応を行うのに使用される化学線の適する源は、カーボンアーク、水銀蒸気 アーク、及び蛍光太陽灯を含む。電子ビーム放射又は高エネルギー電離放射線は 、次のような適切な発生源から得られる:原子炉、共振変圧加速機、ヴアンドグ シーフ電子加速機、リナク(Lintc)電子加速機、ペタートロン、シンクロ トロン、サイクロトロン、又は類似物。これらの発生源からの放射は、電子、陽 子、中性子、重陽子、ガンマ線、X−線、α−粒子、及びβ−粒子のような電離 放射線を生成する。Suitable sources of actinic radiation used to carry out the crosslinking reaction are carbon arc, mercury vapor Includes arc and fluorescent solar lights. Electron beam radiation or high energy ionizing radiation , obtained from suitable sources such as: nuclear reactors, resonant transformer accelerators, Thief electron accelerator, Lintc electron accelerator, Pettertron, Synchro tron, cyclotron, or similar. Radiation from these sources includes electrons, Ionizing particles such as electrons, neutrons, deuterons, gamma rays, X-rays, α-particles, and β-particles Generate radiation.

架橋は、室温で行うのが好都合であるが、必要に応じ低温または高温で行うこと もできる。架橋反応が空気により阻止されることを防止し、モしてポリマーの酸 化による分解を防止するため、架橋反応を不活性な雰囲気の囲いの中で行うこと も本発明の精神及び範囲内である。Crosslinking is conveniently carried out at room temperature, but can be carried out at lower or higher temperatures if necessary. You can also do it. This prevents the crosslinking reaction from being inhibited by air and prevents the polymer from becoming acidic. The crosslinking reaction should be carried out in an inert atmosphere to prevent decomposition due to chemical reaction. are also within the spirit and scope of the invention.

必要な輻射線の量と種類は主として、使用する輻射線感受性官能基の種類と量、 コーティングの厚さ及び望まれる硬化の水準に依存する。EB輻射の適切な線量 は、約0.2メガラド乃至約20メガラド、好ましくは、約1メガラド乃至約1 メガラドを含む。適切なUV輻射線量は、約0.05乃至約2 1/at、好ま しくは約0.1乃至約I J/dを含む。The amount and type of radiation required depends primarily on the type and amount of radiation-sensitive functional groups used; It depends on the thickness of the coating and the level of curing desired. Appropriate dose of EB radiation from about 0.2 megarads to about 20 megarads, preferably from about 1 megarads to about 1 megarads. Including Megarad. A suitable UV radiation dose is from about 0.05 to about 21/at, preferably or about 0.1 to about IJ/d.

得られる架橋性組成物は、リソグラフィー、腐食防止、バリヤー、及び高い油、 グリース、及び溶媒抵抗、並びに架橋された母材に由来する強化された堅さを必 要とするその他の用途を含む広範囲の用途で使用できる。具体的に述べると、写 真、光化学的複写、平版印刷、及び凹版印刷のような光学的複写プロセスにおい て;超小型電子回路のような複雑な形及び/又はデザインをバイトを使用するこ となく彫刻又はエツチングすることが望ましいフォトエツチング−レジストマス クを必要とするプロセスにおいて;金属上の腐食防止フィルムとして;紙、板紙 、織物、プラスチック、ゴムを含む物品の耐水、耐油、及び/又は耐溶媒コーテ ィングとして;ガラス上の破砕防止コーティングとして;コーキング及びシーラ ントとして;及びその他において使用できる。The resulting crosslinkable composition is suitable for lithography, corrosion protection, barrier, and high oil, Requires grease and solvent resistance as well as enhanced stiffness derived from the cross-linked matrix. It can be used in a wide range of applications, including other applications where it is essential. To be more specific, In optical copying processes such as photocopying, photochemical copying, lithography, and intaglio printing. ; using tools to create complex shapes and/or designs such as microelectronic circuits; Photoetching - resist mass, which is preferably engraved or etched without In processes requiring corrosion protection; as a corrosion protection film on metal; paper, paperboard water-, oil-, and/or solvent-resistant coatings for articles containing textiles, plastics, and rubber. As a shatterproof coating on glass; Caulk and sealer can be used as an agent; and in other ways.

リソグラフィーは、一般に、種々の媒体間でパターンを転写するプロセスを意味 する。リソグラフィー用コーティングは、一般に、対象となるパターンの投射さ れた像を受けるのに適する輻射線感応性コーティングである。Lithography generally refers to the process of transferring patterns between various media do. Lithographic coatings are generally used to project patterns of interest. A radiation-sensitive coating suitable for receiving an image.

一旦投射されると、コーティング中に消去できない像が形成される。この投射さ れる像は、対象となる像のネガでもポジでもよい。典型的には、「投射」輻射線 に対して選択的に透明又は不透明の領域を有するそのパータンの「透明画(i「 ln璽pstenc7) Jが作られる。その透明画を通してコーティングを暴 露することによって、像の領域が選択的に架橋し、その結果、特定の溶媒現像液 中において(コーティングにもよるカリより溶解性が大きくなるか又は小さくな る。より溶解性が大きい、即ち、未架橋の領域は現像プロセス中に除去され、コ ーティング中にはパターンの像がより溶解性の小さい架橋したポリマーとして残 る。Once projected, an image is formed that cannot be erased during coating. This projection The image to be captured may be a negative or a positive image of the target image. Typically, "projection" radiation The pattern's "transparency" (i" lnpstenc7) J is created. Revealing the coating through its transparency Upon exposure, areas of the image are selectively cross-linked, so that certain solvent developers (depending on the coating, the solubility may be greater or less than potash) Ru. The more soluble, i.e., uncrosslinked, areas are removed during the development process and are During coating, the image of the pattern remains as a less soluble cross-linked polymer. Ru.

適する現像溶媒には、ペルクロロエチレン、塩化メチレン、二塩化メチレン、メ チルエチルケトン、n−プロパツール、トルエン、ベンゼン、酢酸エチル、及び 適用可能であれば水が含まれる。この操作に使用される溶媒液体は注意して選択 しなければならない。なぜならば、溶媒液体は未暴露の領域に対する良好な溶媒 作用を有していなければならないが、不溶化されたコポリマー及び支持体に対し てはほとんど作用してはならないからである。Suitable developer solvents include perchloroethylene, methylene chloride, methylene dichloride, methylene Tyl ethyl ketone, n-propanol, toluene, benzene, ethyl acetate, and Water is included if applicable. Carefully select the solvent liquid used for this operation Must. Because solvent liquids are good solvents for unexposed areas. must have an effect on the insolubilized copolymer and support. This is because it should have almost no effect.

現像溶媒は、使用される特定の溶媒にもよるが、約30秒乃至約3分間コーティ ングと接触させておくべきである。The developer solvent is coated for about 30 seconds to about 3 minutes, depending on the particular solvent used. should be kept in contact with the

このようにして現像されたポリマーコーティングは次ぎに新しい溶媒で洗浄され 、乾燥される。The polymer coating developed in this way is then washed with fresh solvent. , dried.

現像プロセスは、特に印刷の用途においては、下敷きの支持体をエツチングして 浮き彫りの像の領域の高さを増加させる工程、未架橋のコーティングを除去する 工程、及び指示体の親水性特性を変える工程を含む幾つかの異なる工程をさらに 含む。The development process, especially in printing applications, involves etching the underlying support. Process of increasing the height of the image area in relief, removing uncrosslinked coatings and several different steps including changing the hydrophilic properties of the indicator. include.

本発明は、架橋されたコーティングが一般にプレート上で一段高くなった印刷要 素として残る光化学的複写プロセスにおいて有用性を有する。インクは、乾式オ フセット印刷及び通常の活版印刷のように、プレートの一段高くなった部分によ って運ばれるか、又は凹版印刷、例えば、線及び逆網目版のように痛んだ部分に よって運ばれる。輻射線反応性層の厚さは、浮き彫りの像において望まれる厚さ の直接の関数であり、これは複写される対象、特に、非印刷領域の広がりに依存 する。そのような利用の別の例には、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、 複写パッド(+Iuplict口ng pxd)、マニホールドステンシルシー トコーティング(mgnHold 5tencil shegl−iag co xting)、平版印刷版、レリーフ版、グラビア版、写真製版、コロタイプ及 び平版印刷型要素、マゼンタスクリーン(migenlx 5crte++)、 スクリーンステンシル、網目板及び連続型の着色可能な像、ジアゾニウム塩とカ ップリング剤を含む蒸気の現像系において色形成体とカップリング剤を含む湿式 現像を使用する直接的ポジ及びネガ系が含まれる。The present invention allows cross-linked coatings to generally be placed on a raised printing surface on a plate. It has utility in photochemical copying processes where it remains as an element. The ink is dry-oiled. As in offset printing and regular letterpress printing, the raised part of the plate or on damaged areas such as intaglio printing, e.g. line and reverse mesh plates. Therefore, it is carried. The thickness of the radiation-responsive layer is the thickness desired in the relief image. is a direct function of the object being copied, especially the extent of the non-printing area do. Other examples of such uses include offset printing, silk screen printing, Copy pad (+Iuplict pxd), manifold stencil sheet Coating (mgnHold 5tencil shegl-iag co xting), lithographic printing plates, relief plates, gravure plates, photoengraving, collotype and and lithographic printing type element, magenta screen (migenlx 5crte++), Screen stencils, mesh plates and continuous colorable images, diazonium salts and carbon In a vapor development system containing a coupling agent, a wet type containing a color former and a coupling agent. Includes direct positive and negative systems that use development.

ネガ表面プレートの製造においては、コーティングされたプレートを真空焼き枠 にいれ、ネガをそれに正確に重ねる。枠を閉じ、強力な光源に暴露するために真 空で引いてネガをプレートに密着させる。光をネガの透明な領域を通して通過さ せプレートのコーティングを硬化させ、その後、プレートを枠から取り出して現 像する。In the production of negative surface plates, coated plates are placed in a vacuum baking frame. and place the negative on it exactly. Close the frame and expose to a strong light source Pull it empty to bring the negative into close contact with the plate. Passes light through the transparent area of the negative Allow the coating on the plate to cure, then remove the plate from the frame and display it. Image.

強腐食リソプレート(deep−etch 1lbo plug)の製造におい ては、コーティングをポジを通して光に暴露する。未架橋の領域を洗い流すが、 この場合、硬化された領域の機能はりツブレートとして作用することではなく、 ポジのステンシルを形成することであり、一方、像の領域は軽くエツチングされ ハードラッカーζ充填される。In the production of strongly corroded litho plates (deep-etch 1lbo plug) Then expose the coating to light through the positive. Wash away uncrosslinked areas, but In this case, the function of the hardened area is not to act as a beam plate; to form a positive stencil, while the image areas are lightly etched. Filled with hard lacquer ζ.

バイメタルプレートは、油と水が全ての金属を同じ容易さで濡らさないという事 実を利用する。鋼のような親油性の金属を像に使用し、例えばクロムのような親 水性の金属を非像領域に使用する。版の製造方法は、強腐食プロセスにおいて使 用したものに似ているが、エツチングの目的はクロムの薄層を除去して像を形成 するために暴露される剥きだしの銅を残すことである。Bimetallic plates mean that oil and water do not wet all metals with the same ease. Use the fruit. Lipophilic metals such as steel are used in the statues, and oleophilic metals such as chromium are Use water-based metal in non-image areas. The plate manufacturing method is It is similar to that used for etching, but the purpose of etching is to remove a thin layer of chromium to form an image. The idea is to leave bare copper exposed for use.

これらのリソグラフィー用コーティング組成物は、化学的及びその他のタイプの エツチング又は彫刻操作を行うためのレジスト層(即ち、フォトレジスト)とし ても有用である。パターンの転写と未架橋コーティングの除去の後、架橋したコ ーティングはエツチング工程用のマスクを含む。応用には、装飾用飾り板の製造 又は装飾的効果を作ること;自動彫刻機用のパターン、鋳造型、裁断及び打抜き ダイス、ネームスタンプ、点字用のレリーフマツプ、例えばフィルム上の速硬性 コーティング、テレビの燐光物質光結合剤、フィルム上の可変領域サウンドトラ ック、例えば輻射線感応性コーティングから製造されたダイによる板及び紙のエ ンボス化、そして特に印刷回路、その他のプラスチック製品及びマイクロチップ の製造におけるフォトレジストが含まれる。These lithographic coating compositions are compatible with chemical and other types of As a resist layer (i.e. photoresist) for performing etching or engraving operations. It is also useful. After transferring the pattern and removing the uncrosslinked coating, the crosslinked coating The etching process includes a mask for the etching process. Applications include the production of decorative plaques or to create decorative effects; patterns for automatic engraving machines, casting molds, cutting and punching. Relief maps for dies, name stamps, Braille, e.g. fast curing on film coating, television phosphor light binder, variable area soundtrack on film e.g. board and paper edging by dies made from radiation-sensitive coatings. Embossing and especially printed circuits, other plastic products and microchips Includes photoresists in the manufacture of.

半導体製造プロセスにおいては、例えば、暴露され現像されたレジストが、下に 敷かれた層及び/又は半導体支持体の二方性二、ブング用のマスクバク−ンにな る。In semiconductor manufacturing processes, for example, exposed and developed resist is As a mask backing for bidirectional dilatation of laid layers and/or semiconductor supports. Ru.

このエツチングは、典型的には、化学的に又はプラズマにより行われるが、マス クはこれらに対して不活性である。レジスト層の適当なパターンによる暴露と現 像は印刷要素を製造するための上述の方法と類似である。異方性エツチングに続 いて、レジスト層を、マスクポリマーが不活性ではない等方性プラズマ又は化学 的エツチングによって除去できる。This etching is typically done chemically or by plasma, but is inert against these. Exposure and development by appropriate pattern of resist layer The image is similar to the method described above for manufacturing printing elements. Following anisotropic etching The resist layer is removed using an isotropic plasma or chemical method in which the masking polymer is not inert. Can be removed by targeted etching.

本発明の輻射線硬化性コーティング組成物は、フィルム、シート、及びその他の 成形物に容易に成形することができ、その後、可視光、紫外線、又は高エネルギ ー輻射線のような活性な輻射線に暴露してポリマーを架橋させ、それによって、 耐腐食性、耐溶媒性、及びその他の保護用コーティングとして使用するために非 溶融性及び非溶解性にすることができる。The radiation curable coating compositions of the present invention can be used to coat films, sheets, and other coatings. Can be easily formed into molded products and then exposed to visible light, ultraviolet light, or high energy - Exposure to active radiation, such as radiation, crosslinks the polymer, thereby Non-corrosive for use as corrosion-resistant, solvent-resistant, and other protective coatings. Can be made soluble and non-soluble.

本発明のコーティング組成物は、水、海水、高pH及び低pH液体、及び類似物 を含む腐食を生じる液体又は気体と密着しているか、又は腐食性の環境に暴露さ れている種々の金属表面上の耐腐食性保護コーティングとして有用である。例に は、食物及び飲料容器の内張;製造工場、船、及び類似物中で使用される容器、 パイプ、種々雑多な装置の内張;及び自動車用の防錆コーティング、その他が含 まれる。The coating composition of the present invention can be applied to water, seawater, high pH and low pH liquids, and the like. in close contact with corrosive liquids or gases, including It is useful as a corrosion-resistant protective coating on a variety of metal surfaces. example linings of food and beverage containers; containers used in manufacturing plants, ships, and the like; Includes pipes, linings for miscellaneous equipment; anti-rust coatings for automobiles, etc. be caught.

その他の有用なコーティングとして、未架橋のコポリマーをフィルム形成結合剤 又は紙及び織物に使用するための種々のコーティング及び/又は含浸組成物の製 造における接着剤として使用でき、輻射後、これらは熱又は溶媒による除去に対 して抵抗性を持たせることができる。Other useful coatings include uncrosslinked copolymers as film-forming binders. or the preparation of various coating and/or impregnating compositions for use on paper and textiles. They can be used as adhesives in construction, and after irradiation they are resistant to removal by heat or solvents. can be made resistant.

このコポリマーは不織布又はウェブ用の結合剤として有用である。これらは不織 ウェブの全領域にわたって均一に、又は所定のパターン、例えば、規則的又は幾 分不規則な列の直線又は曲線の平行線の交差した組み合わせに沿って塗布できる 。含浸させた不織ウェブはその後、例えば、化学線にさらして存在するポリマー を架橋させ、それによって、処理された不織ウェブに水又は溶媒による分解に対 する抵抗性を多かれ少なかれ与えることができる。This copolymer is useful as a binder for nonwovens or webs. These are non-woven uniformly over the entire area of the web or in a predetermined pattern, e.g. regular or geometric Can be applied along intersecting combinations of straight or curved parallel lines in irregular rows . The impregnated nonwoven web is then exposed to, for example, actinic radiation to remove the polymers present. crosslinks the treated nonwoven web, thereby making it resistant to degradation by water or solvents. can provide more or less resistance.

ウェブのコーティングとして、本発明のコーティングをウェブの領域全体にわた って均一に塗布し、その後、光フィルター又は不透明スクリーンを通してウェブ を所定のパターンに架橋させ、それによって選択された領域のポリマーフィルム コーティングのみを架橋させることができる。スクリーンがけした暴露の後、コ ーティングの暴露されなかった部分を除去できる。As a web coating, the coating of the present invention is applied over the entire area of the web. to coat the web evenly and then pass it through a light filter or opaque screen. cross-linked in a predetermined pattern, thereby forming a polymer film in selected areas. Only the coating can be crosslinked. After screened exposure, unexposed parts of the coating can be removed.

このような方法において、本発明のコーティングは、「ウェットワイプ(vtt  wipe)J 、使い捨ておしめ、及び/又はおしめのカバークロスを製造す るのに使用できる。In such a method, the coating of the present invention can be applied to a “wet wipe” (vtt wipe) J, manufactures disposable diapers and/or diaper cover cloths. It can be used to

フィルターのスクリーンの使用によって、結合したおしめ又はおしめのカバーク ロスの種々の領域における架橋の程度を選択的に制御でき、それによって、例え ば、股の部分には水濡れによる分解に対する抵抗性を持たせ、一方、周辺部分は 30秒乃至2分間かそこら水に濡らすと分解できるようにすることができる。By using filter screens, bonded diapers or diaper cover blocks can be removed. The degree of cross-linking in different regions of the loss can be selectively controlled, thereby making it possible to For example, the crotch area should be resistant to decomposition due to moisture, while the surrounding area should be It can be made dissolvable by soaking in water for 30 seconds to 2 minutes or so.

さらに、本発明のコーティング組成物は、低粘度でシーラント及びコーキングと して使用でき、UV又はEB放射に暴露してガラス及びその他の脆い物質からな る物品の破砕防止保護コーティングとして硬化させることができる。Furthermore, the coating composition of the present invention has a low viscosity and is compatible with sealants and caulks. It can be used as It can be cured as a shatter-resistant protective coating on articles.

D、 輻射線官能化されたコポリマーの製造1、コポリマー前駆体の製造 本発明は、特定の重合条件下におけるイソオレフィン及びパラ−アルキルスチレ ンの重合により、直接反応生成物(すなわち、重合時のままの状態の)を含み、 そして、予想外に均一な組成分布を持つ、輻射線官能化され得る(臭素化及び核 置換を経由し)前駆コポリマーを製造できるという発見に一部基づいている。そ れ故、本書に記載する重合手順を用いることにより、本発明のコーティング組成 物に使用する新規の官能化されたコポリマーのポリマー主鎖、即ち、先駆コポリ マーが製造できる。これらのコポリマーは、輻射線反応性コポリマーも含め、ゲ ルパーミェーションクロマトグラフィー(G P C)で評価したところ、狭い 分子量分布及び実質的に均一な組成分布、即ち、全範囲に亘り組成が均一である ことを実証した。別の方法で述べると、前駆コポリマー生成物の約95重量%以 上が、組成物全体に対する平均のパラ−アルキルスチレン含有量の約10重量% 以内、そして好ましくは、約7重量%以内のパラ−アルキルスチレンを含有し、 そして好ましくは、コポリマー生成物の約97重量%以上が、組成物全体に対す る平均のパラ−アルキルスチレン含有量の約10重量%以内、好ましくは約7重 量%以内のパラ−アルキルスチレン含有量を有する。非常に好ましい実施態様に おいて、このことが次ぎの事実により実証される。すなわち、これらの官能化コ ポリマーのGPCにより得られた規格化された示差屈折率(DRI)と紫外線( U V)曲線が殆どの場合互いに重なり合い、実質的に単一な曲線に合流する。D. Preparation of radiation-functionalized copolymers 1. Preparation of copolymer precursors The present invention relates to isoolefins and para-alkyl styrene under specific polymerization conditions. containing direct reaction products (i.e. in their as-polymerized state), and can be radiation-functionalized (brominated and nucleated) with an unexpectedly uniform compositional distribution. It is based in part on the discovery that precursor copolymers can be made (via substitution). So Therefore, by using the polymerization procedure described herein, coating compositions of the present invention can be prepared. The polymer backbone of the novel functionalized copolymer for use in products, i.e., the precursor copolymer can be manufactured. These copolymers, including radiation-responsive copolymers, When evaluated by permeation chromatography (GPC), narrow Molecular weight distribution and substantially uniform composition distribution, i.e. uniform composition over the entire range This was demonstrated. Stated another way, more than about 95% by weight of the precursor copolymer product The upper one is about 10% by weight of the average para-alkylstyrene content based on the entire composition. and preferably up to about 7% by weight of para-alkylstyrene; And preferably, about 97% or more of the copolymer product is based on the total composition. within about 10% by weight of the average para-alkylstyrene content, preferably about 7% by weight of the average para-alkylstyrene content. The para-alkylstyrene content is within %. In a highly preferred embodiment This is demonstrated by the following fact. That is, these functionalized Normalized differential refractive index (DRI) obtained by GPC of polymers and ultraviolet light ( UV) The curves most often overlap each other and merge into a substantially single curve.

この実質的に均質な組成の一様さは特に組成物間の分布と関係する。すなわち、 本発明の前駆コポリマーの場合、どのような分子量の両分を選び出しても、その 中のパラ−アルキルスチレンの百分率又はパラ−アルキルスチレンのイソオレフ ィンに対する比は前述のように実質的に同じであろう。パラ−アルキルスチレン とイソブチンのようなイソオレフィンとの反応性比は1.0に近いから、これら のコポリマーの組成物内分布も均質であろう。すなわち、これらの前駆コポリマ ーは本質的にランダムコポリマーであり、どの特定のポリマー連鎖においてもパ ラ−アルキルスチレン及びイソオレフィンの単位はその連鎖全体に亘り本質的に ランダムに分布するであろう。This substantially homogeneous compositional uniformity is particularly relevant to the distribution among the compositions. That is, In the case of the precursor copolymer of the present invention, no matter what molecular weights are selected, the Percentage of para-alkylstyrene or isoolefin of para-alkylstyrene The ratios to ins will be substantially the same as described above. para-alkylstyrene Since the reactivity ratio between isoolefins such as isobutyne is close to 1.0, these The distribution of the copolymer within the composition will also be homogeneous. That is, these precursor copolymers are essentially random copolymers, with no pattern in any particular polymer chain. The units of alkylstyrene and isoolefin are essentially It will be randomly distributed.

これらの前駆コポリマーの性質により、従来のものより著しく優れた点が多くも たらされ、その中には、数平均分子量が一般的に約5000より大きい、有用な 官能化されたコポリマーが製造できることも含まれる。本発明のコーティング、 方法、及び物品において、輻射線反応性に官能化するのに有用な前駆コポリマー は、数平均分子量(Mn)が約5000乃至約500. OOQ、好ましくは、 約50.000乃至約300,000、より好ましくは、約O5,00G乃至約 150.000の組成的に均質なコポリマーを含む。これらの生成物は比較的狭 い分子量分布を示す。特に、これらの官能化コポリマーは約6以下のM w /  M n値を示すが、約4以下が好ましく、約2.5以下がより好ましい、そし て同時にこれらは最終目的の用途により異なる。The properties of these precursor copolymers offer many significant advantages over conventional ones. useful compounds having a number average molecular weight generally greater than about 5,000. It is also included that functionalized copolymers can be made. Coating of the present invention, Precursor copolymers useful for radiation-reactive functionalization in methods and articles has a number average molecular weight (Mn) of about 5000 to about 500. OOQ, preferably from about 50,000 to about 300,000, more preferably from about O5,00G to about 150,000 compositionally homogeneous copolymers. These products are relatively narrow It shows a narrow molecular weight distribution. In particular, these functionalized copolymers have an Mw/of about 6 or less. M indicates the n value, preferably about 4 or less, more preferably about 2.5 or less, and At the same time, these vary depending on the final intended use.

このように、パラ−メチルスチレン単位が前駆コポリマー全体に亘り分布する: −←CH2−CH−+〜 式中、R及びR′は水素、アルキル、好ましくはC1乃至C5アルキル、及びハ ロゲン化第1及び第2アルキル好ましくは、ハロゲン化C8乃至C,アルキルか らなる群から独立に選ばれる。Thus, para-methylstyrene units are distributed throughout the precursor copolymer: -←CH2-CH-+~ In the formula, R and R' are hydrogen, alkyl, preferably C1 to C5 alkyl, and Halogenated primary and secondary alkyl, preferably C8 to C, halogenated alkyl independently selected from the group consisting of

求核反応により、輻射線感受性コポリマーに官能化するために使用する前駆コポ リマーの製造に用いるモノマーの比に関し、このモノマー比の非常に広い範囲が 本発明に基づいて使用できることは本発明の著しい利点である。それ故、例えば 、約10乃至約99.5重量%、好ましくは、約80乃至約99重量%、そして 非常に好ましくは、約90乃至約98重量%のイソオレフィン又はイソブチレン 、そして、約0.5乃至約90重量%、好ましくは、約1乃至約20重量%、よ り好ましくは、約2乃至約10重量%のパラ−アルキルスチレン、好ましくは、 パラ−メチルスチレンを実際に含む前駆コポリマーを製造できる。一方、より高 い濃度のパラ−アルキルスチレンを含む熱可塑性物質を製造することも可能であ り、それ故、コポリマーは、約10乃至約99.5重量%のイソオレフィン、好 ましくは、イソブチレン及び約0.5乃至約90重量%、好ましくは、約1乃至 約90重量%のパラ−アルキルスチレン、好ましくは、バラ−メチルスチレンを 含む。Precursor copolymers used to functionalize radiation-sensitive copolymers by nucleophilic reactions Regarding the ratio of monomers used in the production of remer, this monomer ratio has a very wide range. It is a significant advantage of the present invention that it can be used in accordance with the present invention. Therefore, for example , about 10 to about 99.5% by weight, preferably about 80 to about 99% by weight, and Very preferably from about 90 to about 98% by weight isoolefin or isobutylene , and about 0.5 to about 90% by weight, preferably about 1 to about 20% by weight, and so on. more preferably about 2 to about 10% by weight para-alkylstyrene, preferably Precursor copolymers can be produced that actually contain para-methylstyrene. On the other hand, higher It is also possible to produce thermoplastics containing high concentrations of para-alkylstyrene. Therefore, the copolymer contains from about 10 to about 99.5% by weight isoolefin, preferably Preferably, isobutylene and about 0.5 to about 90% by weight, preferably about 1 to about 90% by weight. about 90% by weight para-alkylstyrene, preferably para-methylstyrene; include.

イソブチン及びバラ−メチルスチレンはカチオン条件の下で容易に共重合する。Isobutyne and para-methylstyrene readily copolymerize under cationic conditions.

この重合はルイス酸触媒により行うことができる。適切なルイス酸触媒(フリー デル−クラフッ触媒を含む)には、枝別れ及び性質の劣るゲル含有ポリマーをも たらす架橋を生じさせるアルキル化移動及び副反応を促進する傾向が非常に少な い良好な重合活性を示すものが含まれる。好ましい触媒は、ホウ素、アルミニウ ム、ガリウム、インジウム、チタン、ジルコニウム、スズ、バナジウム、ヒ素、 アンチモン及びビスマスを含む、元素の周期表の第Na、N及びV族からの金属 に基づくルイス酸である。策■a族のルイス酸は、一般式RmMXnで表される (式中、Mは側1族の金属であり、Rは、CI乃至C72のアルキル、アリール 、アルキルアリール、アリールアルキル及びシクロアルキル基からなる群から選 ばれる一価の炭化水素基であり、mは0乃至3からの数であり、Xは、弗素、塩 素、臭素及び沃素からなる群から独立に選ばれるハロゲンであり、mとnの合計 は3に等しい)。例には、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、三弗化ホウ素 、三塩化ホウ素、エチルアルミニウムジクロリド(El^1clx)、ジエチル アルミニウムクロリド(Et+^IcI ) 、エチルアルミニウムセスキクロ リド(E目、5AICI+、s) 、トリメチルアルミニウム、及びトリエチル アルミニウムが含まれるがこれに限らない。第■族のルイス酸は、一般式MX4 で表される(Mは第■族の金属であり、Xは配位子、好ましくは、ハロゲンであ る)。例には、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、又は四塩化スズが含まれる がこれに限らない。第V族のルイス酸は、一般式MX7で表される(式中、Mは 第V族の金属であり、Xは配位子であり、好ましくは、ハロゲンであり、そして yは、3乃至5の整数である)。例には、四塩化バナジウム及び三弗化アンチモ ンが含まれるがこれに限らない。This polymerization can be carried out using a Lewis acid catalyst. A suitable Lewis acid catalyst (free Dell-Krauff catalysts) also contain branched and gel-containing polymers with inferior properties. It has very little tendency to promote alkylation migration and side reactions that lead to crosslinking. This includes those showing good polymerization activity. Preferred catalysts include boron, aluminum aluminum, gallium, indium, titanium, zirconium, tin, vanadium, arsenic, Metals from groups Na, N and V of the periodic table of the elements, including antimony and bismuth It is a Lewis acid based on Strategy ■ Group a Lewis acids are represented by the general formula RmMXn (In the formula, M is a side group 1 metal, and R is alkyl or aryl of CI to C72. , alkylaryl, arylalkyl and cycloalkyl groups. m is a number from 0 to 3, and X is fluorine, salt A halogen independently selected from the group consisting of bromine, bromine, and iodine, and the sum of m and n is equal to 3). Examples include aluminum chloride, aluminum bromide, boron trifluoride , boron trichloride, ethylaluminum dichloride (El^1clx), diethyl Aluminum chloride (Et+^IcI), ethylaluminum sesquichloride Lido (E order, 5AICI+, s), trimethylaluminum, and triethyl Including, but not limited to, aluminum. Group Ⅰ Lewis acids have the general formula MX4 (M is a group II metal, X is a ligand, preferably a halogen) ). Examples include titanium tetrachloride, zirconium tetrachloride, or tin tetrachloride But it is not limited to this. Group V Lewis acids are represented by the general formula MX7, where M is is a Group V metal, X is a ligand, preferably a halogen, and y is an integer from 3 to 5). Examples include vanadium tetrachloride and antimony trifluoride. This includes, but is not limited to,

好ましいルイス酸触媒を、単独で又は助触媒例えば、無水のHF又はHCIのよ うなブレーンステッド酸、又は塩化ベンジル又は塩化第三ブチルのようなハロゲ ン化アルギル、と組み合わせC用(1でよい。特に最も好ましい触媒は、むしろ 弱いアルキル化触媒として分類される触媒であり、それ故、これらは前述の触媒 の中でも弱い方のルイス酸である。エチルアルミニウムジクロリド、そして好ま しくは、エチルアルミニウムジクロリドとジエチルアルミニウムクロリドの混合 物のようなこれらの最も好ましい触媒は、通常のアルキル化反応において通常好 まれる触媒ではない。何故なら、本発明の場合、前述のとうり、従来のアルキル 化反応を促進するため通常用いる触媒の場合に一層生じやすいインダニル環生成 のような副反応を最小にしたい希望が強いからである。このような触媒の使用量 は、製造するコポリマーに望まれる分子量及び分子量分布に依存するが、一般的 に、重合されるモノマーの合計量を基準にして、約20ppm乃至約1重量%、 好ましくは、約G、01]1乃至約O32重量%である。Preferred Lewis acid catalysts are used alone or in co-catalysts such as anhydrous HF or HCI. Brønsted acids, or halogens such as benzyl chloride or tert-butyl chloride. The most preferred catalyst is rather Catalysts that are classified as weak alkylation catalysts, therefore they are similar to the aforementioned catalysts. It is one of the weaker Lewis acids. Ethylaluminum dichloride, and preferred Alternatively, a mixture of ethylaluminum dichloride and diethylaluminum chloride These most preferred catalysts, such as It is not a catalyst. This is because, in the case of the present invention, as mentioned above, the conventional alkyl Indanyl ring formation is more likely to occur with catalysts commonly used to promote the reaction. This is because there is a strong desire to minimize side reactions such as. Usage amount of such catalyst depends on the desired molecular weight and molecular weight distribution of the copolymer being produced, but generally from about 20 ppm to about 1% by weight, based on the total amount of monomers to be polymerized; Preferably, from about G,01]1 to about O32% by weight.

モノマー、触媒成分及びポリマーの反応生成物に対する適切な希釈剤には、単独 で又は混合物として用いる一般的な種類の脂肪族及び芳香族炭化水素、及び、反 応域に供給する全希釈剤の容積で約100%までの量で炭化水素希釈剤と混合し て用いるC3乃至C6のハロゲン化炭化水素が含まれる。モノマーが選択された 希釈剤中で可溶性である場合、触媒もそれに必ずしも可溶性である必要はないの が一般的である。Suitable diluents for monomers, catalyst components and polymer reaction products include common types of aliphatic and aromatic hydrocarbons used in or as mixtures; Mix with the hydrocarbon diluent in an amount up to approximately 100% by volume of the total diluent supplied to the reaction area. This includes C3 to C6 halogenated hydrocarbons used in monomer selected If it is soluble in the diluent, the catalyst need not necessarily be soluble in it either. is common.

この方法は、用いた希釈剤中の生成ポリマーのスラリーの形で、又は均質な溶液 プロセスとして行うことができる。しかし、反応器内で粘度のより低い混合物が 生成され、そして、ポリマーの約40重量%までのスラリー濃度が可能であるか ら、スラリープロセスを採用するのが好ましい。スラリー濃度が高い場合、生成 ポリマーあたり再循環しなければならない反応物及び希釈剤が少なくなるから効 率のよい処理が可能である。例えば、33%のスラリー濃度の場合、ポリマーの 1単位あたり2単位の未反応の反応体及び希釈剤を再循環するだけでよい。This method can be carried out either in the form of a slurry of the resulting polymer in the diluent used or as a homogeneous solution. It can be done as a process. However, the lower viscosity mixture in the reactor slurry concentrations of up to about 40% by weight of polymer are possible. Therefore, it is preferable to adopt a slurry process. If the slurry concentration is high, More effective because less reactants and diluent must be recycled per polymer. Efficient processing is possible. For example, for a slurry concentration of 33%, the polymer Only 2 units of unreacted reactant and diluent need to be recycled per unit.

どのような場合でも、反応域に供給する希釈剤の量は、使用プロセス及び生成ポ リマーの分子量により異なるが、反応域から出る流出液中のポリマー濃度を約6 0重量%未満、好ましくは、約5乃至約35重量%の範囲内に維持するのに十分 でなければならない。ポリマー濃度の高すぎるのは、温度制御の不良、急速な反 応器の汚れ及びゲルの生成などの多くの理由から一般的に好ましくない。ポリマ ー濃度が高すぎると反応器内の濃度が増し、そして、適正な混合及び有効な熱伝 達を確保するため過剰な動力を要する。そのような不適正な混合及び熱伝達効果 の喪失は、結局反応器表面の汚れを招く局部的に高いモノマー濃度及び反応器内 のホットスポットをもたらす可能性がある。しかし、ジエン官能性のブチルゴム (例えば、イソブチン−イソプレンコポリマー)を製造するとき、高いポリマー 濃度においてゲルを生成するという従来技術の傾向は、官能性のコモノマーとし てパラ−メチルスチレンを用いる本発明によって実質的に消滅する。いずれにせ よ、単独で、又は混合物として用いてよい希釈剤の代表例は、プロパン、ブタン 、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、トルエン、ヘプタン、イソオクタン、 その他、及び塩化メチレン、クロロフォルム、四塩化炭素、塩化メチルなどの本 発明において特に有利な各種のハロ炭化水素溶媒を含み、そして塩化メチルが特 に好ましい。In any case, the amount of diluent fed to the reaction zone will depend on the process used and the production point. Depending on the molecular weight of the remer, the polymer concentration in the effluent leaving the reaction zone should be approximately 6 Sufficient to maintain less than 0% by weight, preferably within the range of about 5 to about 35% by weight. Must. Too high a polymer concentration may result in poor temperature control or rapid reaction. It is generally undesirable for a number of reasons, including reactor fouling and gel formation. Polymer - Too high a concentration will increase the concentration in the reactor and prevent proper mixing and effective heat transfer. Excessive power is required to secure the target. Such improper mixing and heat transfer effects This loss results in locally high monomer concentrations and inside the reactor, which eventually leads to fouling of the reactor surface. may lead to hot spots. However, diene-functional butyl rubber (e.g. isobutyne-isoprene copolymer), high polymer The tendency of the prior art to form gels at concentrations is substantially eliminated by the present invention using para-methylstyrene. In any case Typical examples of diluents that may be used alone or in mixtures are propane, butane, , pentane, cyclopentane, hexane, toluene, heptane, isooctane, Others, and books on methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, methyl chloride, etc. Includes a variety of halohydrocarbon solvents that are particularly advantageous in the invention, and methyl chloride is particularly preferred.

特定のモノマーを使用する場合でも(例えば、イソブチン及びパラ−メチルスチ レン)、供給物の組成分布がそれらの間でせ変化するにつれて、スラリー又は溶 液重合を維持するために、そこで使用されるモノマーの比が変化するとき、コポ リマーの溶解度に与える影響に基づき希釈剤を変えて用いる必要がある。いずれ にせよ、前述のとおり本発明のコポリマー前駆体を製造するにあたり重要なこと は、重合反応器から、不純物、すなわち、もし存在するなら触媒との錯体を生成 するか、イソオレフィン又はパラ−アルキルスチレンと重合し、ひいては、官能 化前の共重合反応体を製造するために必要な分子量の特性及び本発明のPSA又 はコーティング製品の優れた物理的性質を獲得することを妨げる不純物を除外す ることである。そうでないと、本発明の実質的に均質な組成分布及び/又は狭い 分子量分布を持つポリマーが製造できない。Even if specific monomers are used (e.g. isobutyne and para-methylstyrene) slurry or solution as the composition distribution of the feeds varies between them. When the ratio of monomers used therein changes to maintain liquid polymerization, the copolymerization Different diluents may need to be used depending on their effect on the solubility of the remer. Either However, as mentioned above, there are important points in producing the copolymer precursor of the present invention. produces impurities, i.e. complexes with the catalyst if present, from the polymerization reactor. or polymerize with isoolefins or para-alkylstyrenes, and thus The molecular weight characteristics necessary for producing the copolymerization reactant before polymerization and the PSA or PSA of the present invention. excludes impurities that prevent the coating product from obtaining good physical properties. Is Rukoto. Otherwise, the substantially homogeneous compositional distribution and/or narrow Polymers with molecular weight distribution cannot be produced.

特に重要なことは、これらの不純物が触媒毒物質、水分、及び例えば、メタ−ア ルキルスチレン及び類似物のようなその他の望ましくない共重合性モノマーを含 むことである。これらの不純物を系内に入れず、結局は、パラ−アルキルスチレ ンの純度を、約95.0重量%以上、好ましくは、約97.5重量%以上、そし て、イソオレフィンの純度を約99.5重量%以上、好ましくは、約99.8重 量%以上にすべきである。ここに使用する希釈剤の純度は約99.0重量%以上 、好ましくは、約99.8重量%以上である。Of particular importance, these impurities include catalyst poisons, moisture, and e.g. Contains other undesirable copolymerizable monomers such as alkylstyrene and similar It is to do so. These impurities are not introduced into the system, and in the end, para-alkyl styrene is purity of about 95.0% by weight or more, preferably about 97.5% by weight or more, and to increase the purity of the isoolefin to about 99.5% by weight or more, preferably about 99.8% by weight. The amount should be at least %. The purity of the diluent used here is approximately 99.0% by weight or more. , preferably about 99.8% by weight or more.

一般的に述べると、重合反応は、パラ−メチルスチレン及びイソブチンを、触媒 (ルイス酸触媒のような)及び希釈剤の存在の下で、重合反応器において、十分 に攪拌しながら、低分子量のポリマーの場合は約0℃未満の温度を含む共重合条 件の下で混合すること、及び所望の反応温度を維持するために重合熱を除く手段 を与えることにより行われる。特に、重合は、不活性ガス雰囲気及び実質的に水 分の無い状態におけるような、カチオン重合のバッチ(batch)条件の下で 行うことができる。重合が、ターボミキサー又はプロペラのような有効な攪拌手 段、ドラフトチューブ、外部冷却ジャケット、及び内部冷却コイル、又はその他 の重合熱除去の手段、モノマー、触媒及び希釈剤用入り口管、温度検出手段、保 持容器又は急冷タンクに連結する流出物溢流管を備えた邪魔板付きタンク式反応 器を用い、代表的な連続式重合方法により連続的に行われるのが好ましい。反応 器の空気及び水分をパージし、反応器に、乾燥、精製溶媒又は溶媒の混合物を装 入してから、モノマー及び触媒を導入しなければならない。Generally speaking, the polymerization reaction involves the use of para-methylstyrene and isobutyne as catalysts. in a polymerization reactor in the presence of a diluent (such as a Lewis acid catalyst) and a diluent. For low molecular weight polymers, the copolymerization conditions include temperatures below about 0°C, with stirring. mixing under conditions and means to remove the heat of polymerization to maintain the desired reaction temperature; This is done by giving In particular, the polymerization is carried out in an inert gas atmosphere and substantially in water. Under batch conditions of cationic polymerization, such as in the absence of It can be carried out. Polymerization is carried out using an effective stirring device such as a turbo mixer or propeller. stages, draft tubes, external cooling jackets, and internal cooling coils, or other means for removing polymerization heat, inlet pipes for monomer, catalyst and diluent, temperature detection means, storage baffled tank reaction with effluent overflow pipe connected to holding vessel or quench tank It is preferable to carry out the polymerization continuously using a typical continuous polymerization method using a vessel. reaction Purge the vessel of air and moisture and charge the reactor with a dry, purified solvent or mixture of solvents. The monomers and catalyst must then be introduced.

ブチルゴムの重合に通常用いる反応器は本発明のコポリマー中間体の重合反応に 用いるのに概して適切である。The reactor normally used for the polymerization of butyl rubber is used for the polymerization reaction of the copolymer intermediate of the present invention. Generally suitable for use.

これらの反応器は、基本的には大きな熱交換器であり、反応器の内容物は、重合 熱除去のため、沸騰しているエチレンで囲まれた熱交換チューブの列を経由し、 それから、中央のドラフトチューブを経由し効率の良い船舶型の羽根により急速 に循環する。触媒とモノマーは連続的に反応器に供給され、ポンプにより混合さ れる。反応器の流出物は、水蒸気加熱のフラッシュタンクに流れ出す。These reactors are essentially large heat exchangers, and the contents of the reactor are Via a row of heat exchange tubes surrounded by boiling ethylene for heat removal. It is then rapidly transported via a central draft tube by efficient ship-shaped vanes. circulates. Catalyst and monomer are continuously fed into the reactor and mixed by a pump. It will be done. The reactor effluent flows into a steam heated flash tank.

重合熱はまた、ポンプ装備の閉回路により除去できるが、この閉回路内で反応器 内容物が外部熱交換器を経由し連続的に循環する。The heat of polymerization can also be removed by a closed circuit equipped with pumps, within which the reactor The contents are continuously circulated via an external heat exchanger.

スラリー重合プロセスを行うとき、反応器は一般に、約−85℃乃至約−115 ℃、好ましくは、約−89℃乃至約−96℃に保たれる。溶液重合及びセメント 懸濁重合は約−40℃のようなはるかに高温で運転されるが、望まれるコポリマ ーの分子量及び用いる特定の触媒系により異なる。それ故、容認できる溶液重合 の温度範囲は、約−35℃乃至約−100℃、好ましくは、約−40℃乃至約− 80℃である。When conducting slurry polymerization processes, the reactor generally ranges from about -85°C to about -115°C. ℃, preferably from about -89°C to about -96°C. Solution polymerization and cement Suspension polymerization is operated at much higher temperatures, such as about -40°C, but the desired copolymer depending on the molecular weight of the catalyst and the particular catalyst system used. Therefore, acceptable solution polymerization The temperature range is from about -35°C to about -100°C, preferably from about -40°C to about - The temperature is 80°C.

全体的な滞留時間は、例えば、触媒の活性及び濃度、七ツマー濃度、反応温度、 及び望まれる分子量により異なるが、一般的に、約1分乃至約5時間、好ましく は、約10分乃至約60分である。The overall residence time depends on, for example, the activity and concentration of the catalyst, the 7mer concentration, the reaction temperature, and the desired molecular weight, but generally for about 1 minute to about 5 hours, preferably is about 10 minutes to about 60 minutes.

しかし、スラリー重合プロセスの場合一般的に、反応器がポリマーで徐々に汚れ るから、反応器を定期的に清掃のため生産から切離す必要がある。そこで、付き 垢ポリマーが可溶性であり、そのため反応器が溶媒洗浄により清掃でき、そして 、運転に戻れることが非常に重要である。反応器内に不溶性のゲルポリマーの堆 積は容認できない。それは、溶媒による洗浄が無効となり、そして、からである 。このような、反応器内のポリマーゲルの堆積を避ける必要性が、一般的に、ブ チルゴム(例えば、イソブチレン/イソプレンコポリマー)の製造において使用 できるジエンの量に関する制限要因の1つである。However, slurry polymerization processes typically cause the reactor to gradually become contaminated with polymer. As a result, the reactor must be periodically taken out of production for cleaning. So, with The dirt polymer is soluble so the reactor can be cleaned by solvent washing, and , it is very important to be able to return to driving. A deposit of insoluble gel polymer in the reactor. product is not acceptable. It is because solvent washing becomes ineffective and . The need to avoid such polymer gel build-up within the reactor is generally Used in the production of chill rubber (e.g. isobutylene/isoprene copolymers) This is one of the limiting factors on the amount of diene that can be produced.

本発明のバラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーはまた、溶液重合プロセ スにより製造されるとき、大きな利益をもたらす。パラ−メチルスチレンは、ジ エンのような激しい分子量抑圧特性をもたらさないから、そして、これらの新コ ポリマーの分子量に対する重合温度応答は、ジエン官能性コポリマーの場合より はるかに平らであるから、高分子量のポリマーがはるかに高温において(すなわ ち、ジエン官能性ブチルコポリマーの場合は約−90℃以下であるのに対して約 −40Tl:)製造できる。このように高い重合温度は、ポリマー濃度及び分子 量が同じとき非常に低い粘度をもたらす。詳しく述べると、今の場合、これらの 溶液重合を、約−35℃乃至約−100℃、好ましくは、約−40℃乃至約−8 0℃の温度で行うことが可能である。例えば、Mnが25. No未満の低分子 量のポリマーを本発明により製造するとき、温度は0℃程度まで高くしてよい、 又はMnが約500乃至1,000の極めて低分子量のポリマーの場合は約+I O’Cまでも高くしてよい。さらに、バラ−メチルスチレン/イソブチンコポリ マーの分子量分布は、ジエン官能性のブチルゴムよりはるかに狭く、そしてこの ことも、与えられた数平均分子量において、非常に低い溶液粘度をもたらす。The rose-methylstyrene/isobutyne copolymers of the present invention can also be used in solution polymerization processes. When manufactured by Para-methylstyrene is These new compounds do not have the severe molecular weight suppressing properties of ene. The polymerization temperature response to polymer molecular weight is more pronounced than for diene-functional copolymers. Because they are much flatter, higher molecular weight polymers behave better at much higher temperatures (i.e. In contrast, in the case of diene-functional butyl copolymers, the temperature is about -90°C or less; -40Tl:) Can be produced. Such high polymerization temperatures reduce polymer concentration and molecular The same amount results in a very low viscosity. To be more specific, in this case, these The solution polymerization is carried out at a temperature of about -35°C to about -100°C, preferably about -40°C to about -8°C. It is possible to carry out at a temperature of 0°C. For example, Mn is 25. Low molecules below No. When producing quantities of polymer according to the invention, the temperature may be as high as 0°C. or about +I for very low molecular weight polymers with Mn of about 500 to 1,000. You can even raise the O’C. In addition, rose-methylstyrene/isobutyne copolymer The molecular weight distribution of the polymer is much narrower than that of diene-functional butyl rubber, and this This also results in very low solution viscosities at a given number average molecular weight.

溶液重合は、特に本発明のバラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーの場合 、さらに利点を持つ。何故なら、前駆コポリマーが、重合後の化学的改質を行う のに適した望ましい溶液状態で生成されるからである。凝集状態において(すな わち、密閉式混合機、押出し機、などを用いて)、前駆ポリマーをハロゲン化し 、そして、それに核分子含有部分をグラフト(grxlj)することも可能であ るが、殆どの反応は、混合、熱伝達、望ましくない副生物の除去などの点で有利 なポリマー溶液において、より制御された方法でより容易に達成される。Solution polymerization is particularly suitable for the rose-methylstyrene/isobutyne copolymers of the present invention. , with further advantages. This is because the precursor copolymer undergoes post-polymerization chemical modification. This is because it is produced in a desirable solution state suitable for. In the agglomerated state (i.e., using an internal mixer, extruder, etc.) to halogenate the precursor polymer. , and it is also possible to graft a core molecule-containing part onto it (grxlj). However, most reactions have advantages in terms of mixing, heat transfer, removal of unwanted by-products, etc. is more easily achieved in a more controlled manner in polymer solutions.

重合方法はまた、いわゆる「セメント懸濁」重合方法の形で行うことができる。The polymerization process can also be carried out in the form of a so-called "cement suspension" polymerization process.

詳しく述べると、これらは、ポリマーは希釈剤にごく僅か溶け、そして、希釈剤 はポリマーに十分に溶け、その結果ポリマーの実質的すべてを含む第二の相が生 成するが、連続相、即ち、希釈剤相の粘度は十分低いので第二の相、即ち、ポリ マーに富んだ相はその中に分散できるように選ばれた希釈剤中で行われる重合反 応である。これらのセメント懸濁重合の1つの形式として、製造するポリマーに 対する低い方の臨界溶解温度が反応温度よりも低い希釈剤中で重合が行われる。Specifically, these are because the polymer is only slightly soluble in the diluent; is sufficiently soluble in the polymer that a second phase containing substantially all of the polymer is formed. However, the viscosity of the continuous phase, i.e., the diluent phase, is sufficiently low that the second phase, i.e., the polymer The polymerization reaction is carried out in a diluent chosen so that the mer-rich phase can be dispersed therein. Yes. One form of these cement suspension polymerizations involves adding The polymerization is carried out in a diluent whose lower critical solution temperature is lower than the reaction temperature.

低い方の臨界溶解温度とは、つまり、その温度以上ではポリマーはもはや溶媒中 に溶解できない温度として定義される。さらに、これらの方法によれば、ポリマ ーの溶液及び希釈剤の温度が上がれば、その温度以上ではポリマーがもはや溶解 できない温度に到達すると考えられる。この温度に保つなら、二相の分離が起こ り、一般的には、下の部分がより重い、ポリマーに富んだ相であり、上の部分が より軽い溶媒に富んだ相である。それ故、この現象は、前述の通常の溶液重合プ ロセスにおいて溶液からポリマーを分離するのに利用できる。とにかく、望まし い二相の「セメント懸濁」を達成するためには、軽い相は、低粘度を維持するた めポリマーに対し非常に劣った溶媒であり、そして、ポリマーに富んだ重い相は 分離し、そして、液体として挙動して軽い相内に分散できるだけの十分な溶媒を 含有することが必要である。このようなセメント懸濁方法の詳細な記述は、米国 特許第3.932.371号に開示されており、その開示は本書に引用によって 組み入れられている。The lower critical solution temperature is the temperature above which the polymer is no longer in the solvent. It is defined as the temperature at which the substance cannot be dissolved. Furthermore, according to these methods, polymer If the temperature of the solution and diluent increases, above that temperature the polymer will no longer dissolve. It is thought that the temperature reaches a temperature that cannot be reached. If kept at this temperature, separation of the two phases will occur. Generally, the lower part is a heavier, polymer-rich phase and the upper part is a heavier, polymer-rich phase. It is a lighter solvent-rich phase. Therefore, this phenomenon is similar to the conventional solution polymerization process mentioned above. It can be used to separate polymers from solutions in processes. Anyway, desirable To achieve a high two-phase "cement suspension", the light phase is used to maintain a low viscosity. is a very poor solvent for polymers, and the polymer-rich heavy phase is Enough solvent to separate and behave as a liquid and disperse within the lighter phase. It is necessary to contain A detailed description of such cement suspension methods can be found in the U.S. No. 3.932.371, the disclosure of which is incorporated herein by reference. It is incorporated.

2、ハロゲン化されたベースターポリマーの製造塊状で回収したポリマー及び溶 液重合プロセスで製造したポリマー(遍切な急冷及び残留モノマーの除去の後) の両方に対して行うことのできる重合後の化学改質反応の例は、本書に開示する 非常に用途の広いベンジルハロゲン官能性コポリマー成分を製造するためのノ) ロゲン化(例えば、ラジカル臭素化)である。ラジカルハロゲン化によるベンジ ルハロゲンの導入は驚くほど容易でありかつ非常に選択的な性質のものであり、 そしてベンジルハロゲンの用途は広いので、この反応が改質反応として非常に好 ましい。2. Production of halogenated base terpolymer Polymer recovered in bulk and dissolved Polymers produced by liquid polymerization process (after continuous quenching and removal of residual monomers) Examples of post-polymerization chemical modification reactions that can be carried out for both are disclosed herein. for producing highly versatile benzylhalogen-functional copolymer components) rogenation (eg, radical bromination). Venge by radical halogenation The introduction of halogens is surprisingly easy and highly selective in nature; Since benzyl halogen has a wide range of uses, this reaction is very suitable as a reforming reaction. Delicious.

ハロゲン化のような官能基導入反応は、前述の重合方法のいずれかにより製造さ れた前駆バラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーに対し、別途の重合後の 工程として行われる。そして、直接ハロゲン化、そして非常に好ましくはラジカ ルハロゲン化が好ましい反応である。Functionalization reactions such as halogenation can be performed by any of the polymerization methods mentioned above. For the precursor rose-methylstyrene/isobutyne copolymer, a separate post-polymerization It is done as a process. and direct halogenation, and very preferably radical halogenation is the preferred reaction.

前駆重合のコポリマー生成物を、そのようなハロゲン化の前に、触媒を失活させ 、及び/又は触媒残留物を除き、残留未転化モノマーを除き、そしてコポリマー をハロゲン化反応に都合の良い形態にするため適正な方法により処理することが 一般的に望ましい。The copolymer product of the prepolymerization is deactivated with the catalyst prior to such halogenation. , and/or remove catalyst residues, remove residual unconverted monomers, and remove copolymer can be processed by an appropriate method to make it into a form convenient for the halogenation reaction. Generally desirable.

反応器の流出物中の触媒を失活させることは、流出物が加温されたとき、低分子 量の末端の生成を伴う重合の継続、及び/又は分解及び架橋反応の発生を防止す るため殆ど常に望ましい。この失活は、従来の方法で達成できる。一般的に述べ ると、本発明のコポリマーを製造するとき通常使用するアルミニウム系の触媒の 場合、かつ、K1.を触媒効率が達成された場合、独立した触媒蔑留物除去工程 は必要ではない。しかし、この残留物の多くは従来の水を基本とする仕上げ処理 に伴い水の相に抽出される。Deactivation of the catalyst in the reactor effluent is caused by the formation of small molecules when the effluent is warmed. To prevent the continuation of polymerization with the formation of terminal ends and/or the occurrence of decomposition and crosslinking reactions. almost always desirable. This deactivation can be accomplished by conventional methods. generally stated Then, the aluminum-based catalyst commonly used when producing the copolymer of the present invention If, and K1. If the catalyst efficiency is achieved, an independent catalyst removal step is not necessary. However, much of this residue is removed from traditional water-based finishing processes. is extracted into the aqueous phase.

前駆コポリマー中の残留未転化モノマーは、ノ〜ロゲン化中に反応し、ハロゲン を消費すると共に一般的に望ましくない副生物を生成する。従って、未転化上ツ マ−の存在は、コポリマーに導入する所望の官能基の量の制御及び測定を困難に する。そこで、コポリマーが非常に高い転化率で重合される場合を除き、これら の残留モノマーを除去するのが通常である。未反応イソブチンは各種のストリッ ピング操作で容易に除かれるほど揮発性であるが、170℃という高い沸点のパ ラーメチルスチレンは、除去が非常に難しい。そこで、パラ−メチルスチレンを 非常に高い水準で重合し、その除去及び/又は再循環を不要にするか、少なくと も含まれる量を減少させるのが有利である。Residual unconverted monomers in the precursor copolymer react during halogenation and form halogens. and generally produce undesirable by-products. Therefore, the unconverted top The presence of polymers makes it difficult to control and measure the amount of desired functional groups introduced into the copolymer. do. Therefore, unless the copolymer is polymerized at very high conversion, these It is usual to remove residual monomers. Unreacted isobutyne can be removed using various strips. It is so volatile that it can be easily removed by pinging, but it has a high boiling point of 170°C. methylstyrene is very difficult to remove. Therefore, para-methylstyrene polymerizes to a very high level, making its removal and/or recycling unnecessary or at least It is also advantageous to reduce the amount included.

ハロゲン化反応そのものは、前駆コポリマーの凝集相において又は、溶液又は微 細に分散したスラリーに対し行うことができる。塊状ハロゲン化は、適正な混合 を与え、ハロゲン及び腐食性の反応副生物を処理できるように適切に設計した押 出し機又はその他の密閉式混合機を用いて行える。押出し機による塊状ハロゲン 化には、ハロゲン化の前に残留未反応パラ−メチルスチレンを従来の仕上げ操作 により完全に除去でき、そして、希釈剤のハロゲン化のような望ましくない副反 応の起こる可能性をなくする利点がある。不利な点は、溶液ハロゲン化のときよ りはるかに高価であり、そして高い馬力の反応器(すなわち、押出し機)が必要 であること及び溶液の場合より混合、熱制御、などが劣るため、均質性が悪く、 制御困難な条件の下でハロゲン化反応が行われることである。このような塊状ハ ロゲン化方法の詳細は米国特許第4.548.995号に開示されており、本書 に引用により組み入れられている。The halogenation reaction itself can be carried out either in the aggregated phase of the precursor copolymer or in solution or in a microorganism. It can be performed on finely dispersed slurry. Bulk halogenation requires proper mixing properly designed presses to provide halogen and corrosive reaction by-products. This can be done using a brewer or other internal mixer. Bulk halogen by extruder For halogenation, residual unreacted para-methylstyrene is removed using conventional finishing operations. can be completely removed by the This has the advantage of eliminating the possibility of a reaction occurring. The disadvantage is that solution halogenation are much more expensive and require high horsepower reactors (i.e., extruders). The homogeneity is poor due to the fact that it is a liquid and the mixing, heat control, etc. are inferior to that of a solution. The halogenation reaction is carried out under conditions that are difficult to control. This kind of lumpy Details of the rogogenation method are disclosed in U.S. Pat. No. 4,548,995, and this document Incorporated by reference.

溶液ハロゲン化は、良好な混合及びハロゲン化条件の制御が達成され、望ましく ないハロゲン化副生物の除去が一層容易であり、及びより広範囲のハロゲン化開 始剤を使用できるという点で有利である。不利な点は、ハロゲン化の前の残留す る未反応パラ−メチルスチレンを除く必要性、溶媒のハロゲン化を含む複雑な副 反応の存在、及びコポリマーを非溶液重合方法で製造する場合の溶解工程ならび に溶媒の除去、清浄化及び再循環を含む。このようなハロゲン化のための適切な 溶媒は低沸点の炭化水素(C4乃至C7)及びハロゲン化炭化水素を含む。Solution halogenation is desirable because good mixing and control of halogenation conditions is achieved. halogenated by-products are easier to remove, and a wider range of halogenated products can be removed. This is advantageous in that an initiator can be used. The disadvantage is that the remaining residue before halogenation complex side effects, including the need to remove unreacted para-methylstyrene and solvent halogenation. the presence of reactions and dissolution steps when the copolymer is produced by non-solution polymerization methods; including solvent removal, cleaning and recycling. Suitable for such halogenation Solvents include low boiling hydrocarbons (C4-C7) and halogenated hydrocarbons.

ハロゲン化はまた、コポリマーに対して貧溶媒である適切な希釈剤中に、コポリ マーが微細なスラリー又はセメント懸濁物となっている場合も可能である。これ は、粘度の観点から有利であり、ハロゲン化時の高い固体含有率が許されるが、 スラリー又は懸濁物が安定であり、反応器の表面で凝集したり、コーティングを つくる傾向の少ないことが必要である。高沸点のパラ−メチルスチレンを従来の 蒸留で除くのは実際的でないから、そして、溶媒のハロゲン化を完全に避けるこ とは困難であるから、溶液又はスラリーハロゲン化を行うときは、希釈剤及びハ ロゲン化条件を、希釈剤のハロゲン化を避けるように選ぶこと及び残留パラ−メ チルスチレンを許容できる水準まで減少させることが非常に重要である。Halogenation can also be added to the copolymer in a suitable diluent that is a poor solvent for the copolymer. It is also possible for the mer to be in the form of a fine slurry or cement suspension. this is advantageous from a viscosity point of view and allows a high solids content during halogenation, but The slurry or suspension is stable and does not agglomerate or form a coating on the reactor surface. It is necessary to have less tendency to create. The high-boiling point para-methylstyrene was replaced with conventional It is impractical to remove the solvent by distillation, and halogenation of the solvent must be completely avoided. When carrying out solution or slurry halogenation, it is difficult to The halogenation conditions should be selected to avoid halogenation of the diluent and the residual parameters should be It is very important to reduce tylstyrene to acceptable levels.

ハロゲン化の主要な(pri+uB)反応部位がまったく異なるから、前駆体の パラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマー中間体のハロゲン化と、イソブチ ン−イソプレン(ブチル)ゴムのハロゲン化は大幅に異なる。パラ−メチルスチ レン/イソブチンコポリマーにおいては、連鎖内(主鎖)オレフィンの不飽和は パラ−メチルスチレンからの影響を受けず、それで、主要な反応性ハロゲン化部 位は、結合されたパラ−メチルスチレン部分であり、これはブチルゴムにおける オレフィンの部位よりはるかに反応性が弱い。一般的なブチルゴムのハロゲン化 条件[例えば、低温(約+80℃未満のような)における炭化水素溶媒中の、そ して、短い接触時間(約10分未満のような)の、暗状態の非触媒反応コにおい ては、パラ−メチルスチレンコポリマーのハロゲン化は検出できない。さらに、 パラ−メチルスチレンコポリマーを極性の希釈剤中で塩素化することは可能であ るが、生成する塩素化された種はイソブチレン−イソプレン(ブチル)ゴムの場 合とまったく異なる。このような塩素化された種は、従来のコポリマーのオレフ ィン部位における塩素化とは異なり、芳香族の環及びポリマーの主鎖上の塩素な らびに好ましいベンジルの第一塩素化(pria+xr7bent71ic c hlo+1nxfioa)を含む。Because the main (pri+uB) reaction sites for halogenation are completely different, the precursor Halogenation of para-methylstyrene/isobutyne copolymer intermediate and isobutyne copolymer intermediate The halogenation of isoprene (butyl) rubber differs significantly. para-methylstyrene In ren/isobutyne copolymers, the intrachain (main chain) olefinic unsaturation is unaffected by para-methylstyrene, so the main reactive halogenated moiety position is the attached para-methylstyrene moiety, which is the Much less reactive than olefinic sites. Halogenation of common butyl rubber conditions [e.g., in hydrocarbon solvents at low temperatures (such as below about +80°C)] and a short contact time (such as less than about 10 minutes) in the dark, uncatalyzed reaction mixture. Therefore, halogenation of the para-methylstyrene copolymer cannot be detected. moreover, It is not possible to chlorinate para-methylstyrene copolymers in polar diluents. However, the chlorinated species produced are It is completely different from the case. Such chlorinated species Unlike chlorination at the polymer site, chlorine on the aromatic ring and polymer backbone is and preferred first chlorination of benzyl (pria+xr7bent71ic c hlo+1nxfioa).

パラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーのハロゲン化の場合、環の炭素の ハロゲン化は可能であるが、生成物はむしろ不活性であり、重要でない。しかし 、驚くべきことには、このパラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーに前述 の望まれる官能化を高い収率で過度のポリマーの分解、架橋又はその他の望まし くない副反応を伴うことなく、実際的な条件の下で導入できることが見出だされ た。In the case of halogenation of para-methylstyrene/isobutyne copolymers, the ring carbon Halogenation is possible, but the products are rather inert and unimportant. but , surprisingly, this para-methylstyrene/isobutyne copolymer has the aforementioned Excessive polymer degradation, cross-linking or other desired functionalization in high yields It has been found that it can be introduced under practical conditions without any side reactions. Ta.

このパラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーのハロゲン化を、特別に選ん だ反応条件、触媒、反応物及びその開始剤を使用せずに行うと、反応はまったく 起こらないか、又は各種の経路で進行し、そのため、多種類のハロゲン化物を生 成する。それ故、ヘキサン又はシクロヘキサンのような、低い誘電率の炭化水素 溶媒中のパラ−メチルスチレン/イソブチンコポリマーの溶液に30〜60℃で 約5分間、塩素又は臭素を暗状態で加えると、反応は本質的に起こらない。一方 、塩化メチレンのようなより極性の(誘電率がより高い)希釈剤中で塩素化反応 を行わせると、塩素化が起こるが、多くの異なる経路によることが明白であり、 そのため、多種類の塩素化物が生成する。これらには、環のメチル基の置換に由 来する非常に望ましいベンジルの第一塩素が一部含まれるが、大部分は望ましく ない塩素化物である。The halogenation of this para-methylstyrene/isobutyne copolymer was specially selected. However, when carried out under reaction conditions, without catalyst, reactants and their initiators, the reaction is completely Either it does not occur, or it progresses through various routes, and therefore produces many types of halides. to be accomplished. Therefore, hydrocarbons with low dielectric constants such as hexane or cyclohexane solution of para-methylstyrene/isobutyne copolymer in solvent at 30-60°C. When chlorine or bromine is added in the dark for about 5 minutes, essentially no reaction occurs. on the other hand , the chlorination reaction in a more polar (higher dielectric constant) diluent such as methylene chloride. When allowed to undergo chlorination, it is clear that chlorination occurs by many different routes; Therefore, many types of chlorinated products are generated. These include Although some of the highly desirable benzylic primary chlorine is present, most of the No chlorinated substances.

アルキル置換ベンゼンの側鎖のハロゲン化は、核の置換とは逆に、イオンの条件 でなくラジカルにより進められることが小分子のハロゲン化に関して知られてい る。Side chain halogenation of alkyl-substituted benzenes, contrary to nuclear substitution, is performed under ionic conditions. It is known that the halogenation of small molecules is carried out by radicals rather than by radicals. Ru.

それ故、フリーデル−クラフッ触媒(又は一般的には金属のハロゲン化触媒)の 回避、極性の希釈剤の回避、及び光化学的、熱的、又はその他の輻射線開始剤の 使用を含むこのようなラジカル条件が、このコポリマーの選択的ハロゲン化に好 ましいといえるかも分からない。しかし、ポリマーのハロゲン化は、特に、微少 な副反応でも極めて重要であるから、これらの小分子の場合と同じ経路を辿ると は限らないこともまた知られている。さらに、同時の水素置換を伴うラジカルハ ロゲン化において、本発明のコポリマー成分内の結合されたバラ−メチルスチリ ル部分上の、宵三水素は、第二水素より置換され易く、第二水素は第一ベンジル 水素より置換されやすいことは公知である。Therefore, Friedel-Krach catalysts (or metal halogenation catalysts in general) avoidance of polar diluents, and avoidance of photochemical, thermal, or other radiation initiators. Such radical conditions, including the use of I don't know if I can say it's good. However, halogenation of polymers, especially Even small side reactions are extremely important, so if we follow the same route as in the case of these small molecules, It is also known that there is no limit to In addition, radical halide with simultaneous hydrogen substitution In the chlorogenation, the combined rose-methylstyrene within the copolymer component of the invention The yoisami hydrogen on the le moiety is more easily substituted than the secondary hydrogen, and the secondary hydrogen is the primary benzyl It is known that hydrogen is more easily substituted than hydrogen.

しかし、むしろ驚くべきことには、本発明のコポリマー成分内の結合されたバラ −メチルスチリル部分のラジカル臭素化が非常に特異的であり、殆ど独占的にバ ラ−メチル基において起こり、望ましいベンジルの官能基を生成し得ることが見 出だされた。臭素化反応の高い特異性は反応条件の広い範囲に亘り維持できるが 、イオン反応経路を促進する要因(すなわち、極性の希釈剤、フリーデル−クラ フッ触媒、など)を回避することを条件とする。However, rather surprisingly, the combined rosettes within the copolymer components of the present invention - Radical bromination of the methylstyryl moiety is very specific and almost exclusively It has been found that the benzyl functionality can occur in It was brought out. Although the high specificity of the bromination reaction can be maintained over a wide range of reaction conditions, , factors promoting ionic reaction pathways (i.e., polar diluents, Friedel-Crafts) (fluorocatalysts, etc.) provided that they are avoided.

このようにして、本発明の前駆体のバラ−メチルスチレン/イソブチン共重合中 間体は、ペンタン、ヘキサン、又はヘプタンのような炭化水素溶媒中において、 光、熱又は選ばれたラジカル開始剤(条件により異なる、すなわち、特定の温度 条件に対し適正な半減期の特定のラジカル開始剤を選ばなければならない、そし て、一般的には、高いハロゲン化温度において、長い半減期が好ましい)をラジ カルハロゲン化の促進剤として用い、選択的に臭素化して、バラ−メチル基の置 換を経由し殆ど連鎖の開裂及び/又は架橋を伴うことなく殆ど独占的に望まれる ベンジル臭素の官能基を生成できる。理論に縛られることを望まないが、臭素化 反応は急速なラジカルの連鎖反応により進行し、連鎖反応は、臭素原子及び結合 されたバラ−メチルスチリル部分のバラ−メチル基から、水素原子が引き抜かれ て生成するベンジルのラジカルが交互に担い手になる。そこで、提唱する機構は 次の段階を含む。In this way, during the rose-methylstyrene/isobutyne copolymerization of the precursor of the present invention, In a hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, or heptane, light, heat or a selected radical initiator (depending on conditions, i.e. at a particular temperature) A specific radical initiator must be chosen with the appropriate half-life for the conditions, and (generally, a long half-life is preferred at high halogenation temperatures). It is used as a promoter of carhalogenation, selectively brominated and almost exclusively via conversion with little or no chain cleavage and/or cross-linking. A benzyl bromine functional group can be generated. Without wishing to be bound by theory, bromination The reaction proceeds by a rapid chain reaction of radicals, and the chain reaction consists of bromine atoms and bonds. A hydrogen atom is extracted from the rose-methyl group of the rose-methylstyryl moiety. The benzyl radicals generated alternately become carriers. Therefore, the proposed mechanism is It includes the following stages:

(1)置屋 Btt −* 28tl 熱又は光 トR→ 2ト (Rは開始ラジカルである)Btz + 1−+ RBr +  Br・L CH2・ CHz・ HzBr ラジカルの一方が系内のラジカル捕捉剤と反応するか、ラジカルが再結合又は不 均化反応により自壊するとき反応が停止する。(1) Okiya Btt-*28tl heat or light tR → 2t (R is the starting radical) Btz + 1-+ RBr + Br・L CH2・ Chz・ HzBr Either one of the radicals reacts with a radical scavenger in the system, or the radicals recombine or disintegrate. The reaction stops when it self-destructs due to the equalization reaction.

この反応は前記段階(1)に示すとうり、光化学的に、又は熱的に(CH,増感 剤を用いるか用いないで)、臭素ラジカルの生成により開始でき、又は、使用す るラジカル開始剤は、臭素ラジカル又は溶媒又はポリマーと無差別に反応する( すなわち、水素引抜きにより)ものでなく、選択的に臭素分子と反応するもので あればよい。This reaction can be carried out photochemically or thermally (CH, sensitized) as shown in step (1) above. (with or without agents), can be initiated by the generation of bromine radicals, or can be Radical initiators react indiscriminately with bromine radicals or solvents or polymers ( In other words, it reacts selectively with bromine molecules, rather than by hydrogen abstraction. Good to have.

引用する増感剤は、自身で低エネルギーの光子を吸収し、そして解離し、結局は 、臭素の解離を引き起こすような光化学的増感剤であり、ヨウ素のような物質を 含む。The cited sensitizer absorbs low-energy photons by itself, dissociates, and eventually , is a photochemical sensitizer that causes the dissociation of bromine, and is a photochemical sensitizer that causes the dissociation of bromine and substances such as iodine. include.

そこで、望まれる反応条件の下で半減期が約0.5乃至約2500分の開始剤を 用いるのが好ましく、そして、約IO乃至約300分がより好ましい。用いる開 始剤の量は通常、重量で約0.02から約0.3%まで変化する。好ましい開始 剤は、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス(2,4−ジメチルバレリル)ニ トリル、アゾビス(2−メチルブチロ)ニトリル及び類似物のようなビスアゾ化 合物である。その他のラジカル開始剤も使用できるが、前駆コポリマー又は溶媒 と反応してアルキルラジカルを生成するのでなく、選択的に臭素分子と反応して 臭素ラジカルを生成するような水素引抜きの比較的弱いラジカル開始剤を用いる のが好ましい。そのようにしないと、コポリマーの分子量が減少し、そして、架 橋のような望ましくない副反応が促進されやすい。Therefore, an initiator with a half-life of about 0.5 to about 2500 minutes under the desired reaction conditions is used. and more preferably from about IO to about 300 minutes. opening used The amount of initiator typically varies from about 0.02 to about 0.3% by weight. favorable start The agents include azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleryl)nitrile. Bisazotizations such as tolyl, azobis(2-methylbutyro)nitrile and similar It is a compound. Other radical initiators can also be used, but the precursor copolymer or solvent Rather than reacting with bromine to generate alkyl radicals, it selectively reacts with bromine molecules. Using a radical initiator with relatively weak hydrogen abstraction that generates bromine radicals is preferable. Otherwise, the molecular weight of the copolymer will decrease and cross-linking will occur. Undesirable side reactions such as bridge formation are likely to be promoted.

本発明のラジカル臭素化反応は非常に選択的であり、そして、殆ど独占的に望ま しいベンジル臭素官能基を生成する。事実、発生すると考えられる唯一の大きな 副反応は、ジブロモ誘導体を生成するパラ−メチル基の二置換であるが、この反 応といえども結合されたバラ−メチルスチリル部分の約60%より多くが一置換 され終わるまでは起こらない。それ故、バラ−メチルスチレン含有量の約60モ ル%まで、モノプロその形のベンジルの臭素官能基を希望量だけ本発明のコポリ マーに導入できる。さらに、前述のとうり、広い範囲にわたり、バラ−メチルス チレンの含有量を変えることができる。から、広い範囲に官能基を導入できる。The radical bromination reaction of the present invention is highly selective and almost exclusively desirable. generates a new benzyl bromine functional group. In fact, the only major A side reaction is the disubstitution of the para-methyl group to form the dibromo derivative; However, more than about 60% of the bound rose-methylstyryl moieties are monosubstituted. It won't happen until it's done. Therefore, approximately 60 moles of rose-methylstyrene content The desired amount of benzyl bromine functionality in the form of monopropylene is added to the copolymer of the invention, up to % It can be introduced to market. Furthermore, as mentioned above, rose methyl The content of tyrene can be varied. Therefore, functional groups can be introduced in a wide range.

したがって、本発明のハロゲン化コポリマー成分は以後の反応、例えば、架橋反 応において非常に有用である。プロミド放出基(b+osidtlcgriB  gtoap)が組込まれると、輻射線感受性求核化合物を用い、コポリマーを官 能化できる。Therefore, the halogenated copolymer component of the present invention can be used in subsequent reactions, e.g. It is very useful in applications. Promid releasing group (b+osidtlcgriB gtoap), the copolymer is functionalized using a radiation-sensitive nucleophile. can be improved.

臭素化中は、前述の停止反応を最少にし、停止に起因する副反応を最少にして長 時間の迅速なラジカル連鎖反応を起こさせ、各開始ごとに多くのベンジル臭素を 導入するのが望ましい。それ故、反応系の純度が重要であり、そして、過度の再 結合及び可能性のある架橋を避けるため、定常状態のラジカル濃度を十分低く維 持しなければならない。二次反応(臭素不在における)を伴うラジカル生成が継 続しないように臭素が消費されると直ぐ反応を急冷させなければならない。急冷 は、冷却、光源の遮断、稀薄苛性の添加、ラジカル捕捉剤の添加又はそれらの組 み合わせにより達成できる。During bromination, the above-mentioned termination reactions should be minimized, and side reactions due to termination should be minimized to ensure a long process. Allows rapid radical chain reactions to occur in time, producing more benzyl bromine with each initiation It is desirable to introduce it. Therefore, the purity of the reaction system is important and Keep the steady-state radical concentration low enough to avoid binding and possible cross-linking. Must have. Radical generation with secondary reactions (in the absence of bromine) continues. The reaction must be quenched as soon as the bromine is consumed to avoid continuation. rapid cooling cooling, blocking the light source, adding dilute caustic, adding radical scavengers, or a combination thereof. This can be achieved by combining.

結合されたパラ−メチルスチリル部分と反応又は置換する臭素の1モルあたり1 モルのHBrが生成するから、それが望ましくない副反応に加わるか又はその反 応の触媒とならないよう、反応中に、又は少なくともポリマーの回収中にこのH Brを中和するか、そうでなければ除去することもまた望ましい。そのような中 和又は除去は、一般的にHBrに対し過剰モルの苛性を用いる反応後の苛性洗浄 により達成できる。別の方法として、中和は、炭酸カルシウム粉末のような微粒 子の塩基(臭素とあまり反応しない)を臭素化反応中に分散状態で存在させHB rの生成次第吸収することによって達成できる。1 per mole of bromine that reacts with or replaces the attached para-methylstyryl moiety. Since moles of HBr are formed, it may participate in undesired side reactions or vice versa. This H is removed during the reaction or at least during polymer recovery so as not to catalyze the reaction. It is also desirable to neutralize or otherwise remove Br. In such a situation The addition or removal is typically a post-reaction caustic wash using a molar excess of caustic to HBr. This can be achieved by Alternatively, neutralization can be carried out using fine particles such as calcium carbonate powder. When a child base (which does not react much with bromine) is present in a dispersed state during the bromination reaction, HB This can be achieved by absorbing r as soon as it is generated.

HBrの除去は、不活性ガス(例えば、N2)を用い、好ましくは高温において ストリッピングすることによっても達成できる。Removal of HBr is performed using an inert gas (e.g. N2), preferably at elevated temperatures. This can also be achieved by stripping.

本発明の臭素化され、急冷処理されそして中和された、バラ−メチルスチレン/ イソブチンコポリマーの「ベースターポリマー」は、回収され、適正な安定剤の 添加を含む従来の方法により仕上げされ、Uv又はその他の輻射線反応性官能基 を組込むために後続する核置換反応において有用な、非常に望ましいそして用途 の広い残留基で官能化される飽和のコポリマーを生成する。Brominated, quenched and neutralized vara-methylstyrene of the invention/ The “base terpolymer” of the isobutyne copolymer is recovered and treated with the appropriate stabilizer. finished by conventional methods including the addition of UV or other radiation-reactive functional groups. Highly desirable and useful in subsequent nuclear substitution reactions to incorporate to produce a saturated copolymer functionalized with a wide range of residual groups.

特に、コポリマー分子中で第三ベンジル臭素はごく僅かしか生成しないから、そ こでは、脱ハロゲン化水素反応の可能性は殆どない。このため、安定性の良いハ ロゲン化ポリマーが生成する。さらに、環メチル基上の臭素の存在は、この生成 物にその他多くの重大な利点を与えている。この臭素が在るので、その部位にお いて他の官能基の置換による官能化が可能である。In particular, since only a small amount of tertiary benzyl bromine is produced in the copolymer molecule, Here, there is almost no possibility of dehydrohalogenation reaction. For this reason, a stable hardware A rogogenated polymer is produced. Furthermore, the presence of bromine on the ring methyl group makes this formation It confers many other important advantages on objects. Because this bromine is present, the area Functionalization by substitution with other functional groups is possible.

3、ベースターポリマーの核置換 ベンジルの臭素(ハロゲン)官能基をベースとして、本発明のリソグラフィー用 又は腐食防止用コーティング組成物に用いる、用途の広い、官能化された飽和コ ポリマーを製造することは極めて適切である。何故なら、この官能基を、広い範 囲の核分子との選択的求核置換に用いることができ、そのため、所望の種類と量 の官能基の殆どが、望ましくない副反応を伴うことなく、そして、ペンダントの ベンジジルハロゲン官能基を含有する飽和コポリマーの主鎖の分解及び/又は架 橋を回避するのに十分な緩和な条件の下で、導入できるからである。さらに、多 くの場合、ペンダントのベンジルハロゲンを、一部分だけ別の望ましい官能基に 転化し、残りを保持するか、又は後程残りのベンジルハロゲン官能基の一部をま た別の新しい官能基に転化して混合官能基を含むコポリマーを製造できる。混合 官能基は、一つの官能基を経由して他の官能性ポリマーとグラフト化させ、それ にまた、別の官能基を経由して架橋させるか、又はある表面と接!Iさせると− ・うような、性質の独特な組合わせを与えるのに有利である。3. Nuclear substitution of base terpolymer Based on the benzyl bromine (halogen) functional group, the lithographic use of the present invention or a versatile functionalized saturated coating composition for corrosion protection coating compositions. It is highly suitable to produce polymers. This is because this functional group can be used in a wide range of can be used for selective nucleophilic substitution with the surrounding core molecules, thus allowing the desired type and amount of most of the functional groups of the pendant without undesirable side reactions and Degradation and/or cross-linking of the backbone of saturated copolymers containing benzidyl halogen functional groups This is because it can be introduced under conditions that are mild enough to avoid bridges. In addition, many In many cases, the pendant benzyl halogen is partially converted to another desired functional group. convert and retain the remainder, or later remove some of the remaining benzyl halogen functionality. can be converted to other new functional groups to produce copolymers containing mixed functional groups. mixture The functional groups can be grafted via one functional group to another functional polymer; It can also be cross-linked via another functional group or in contact with a surface! If you let me- ・It is advantageous to provide a unique combination of properties, such as:

ラジカルハロゲン化された、イソブチレン/パラ−メチルスチレンコポリマーが 、各種の輻射線反応性の官能化された飽和コポリマーを製造するための、「理想 的な」ベースコポリマーであるが、その根源であるベンジルハロゲン官能基の特 性の一つは、このベンジルハロゲン官能基の受ける核置換反応の範囲が広いこと 、及びこれらの核置換反応の進行する条件が比較的緩和なことである。ベンジル ハロゲン官能基は、電子を提供できる核分子と適切な条件の下で反応できる非常 に活性の高い親電子物質で構成される。適切な核物質には、酸素、硫黄、窒素、 燐、炭素、ケイ素、及び特に、マグネシウム、リチウム、ナトリウム、及びカリ ウムを含む各種の金属を含む核物質が含まれる。適切なUV反応性の核物質には 、例えば、07反応性のカルボキシレートエステル、ジチオカルバメートエステ ル、及び類似物が含まれる。ベンジルハロゲン官能基と反応する核分子の種類が このように多いのと同じく重要なことは、これらの核置換反応が比較的緩和な条 件で進行することであり、その結果、イソブチレン/バラ−メチルスチレンコポ リマーの飽和された主鎖が関与する開裂又は架橋反応を伴うことなく所望の新し い官能基を導入するための置換反応を終りまで実行できる。Radically halogenated isobutylene/para-methylstyrene copolymer , an ``ideal'' method for producing various radiation-reactive functionalized saturated copolymers. It is a ``base copolymer'', but the characteristics of the benzyl halogen functional group that is its origin are One of the characteristics is that this benzyl halogen functional group undergoes a wide range of nuclear substitution reactions. , and that the conditions for these nuclear substitution reactions to proceed are relatively relaxed. benzil Halogen functional groups are highly reactive molecules that can react under appropriate conditions with nuclear molecules that can donate electrons. It is composed of electrophilic substances with high activity. Suitable nuclear materials include oxygen, sulfur, nitrogen, phosphorus, carbon, silicon, and especially magnesium, lithium, sodium, and potassium. This includes nuclear materials containing various metals, including um. Suitable UV-reactive nuclear materials include , e.g. 07 reactive carboxylate ester, dithiocarbamate ester and the like. The type of nuclear molecule that reacts with the benzyl halogen functional group is Just as importantly, these nuclear substitution reactions occur under relatively mild conditions. As a result, isobutylene/rose-methylstyrene copolymer The saturated backbone of the remer allows for the desired new release without cleavage or cross-linking reactions involving the saturated backbone. Substitution reactions for introducing new functional groups can be carried out to completion.

ベンジルハロゲン官能基の別の特性は、所望の置換反応が、望ましくない副反応 なしに進行することを可能にする選択性である。ベンジルハロゲン官能基は複雑 な脱離反応を伴わないクリーン(cleu)な置換反応を受ける。カップリング (coipliB)をもたらす副反応は僅かな量といえどもゲル化に繋がるから 、この特性は可溶性の高分子ポリマーの関与する反応において重要である。Another property of the benzylhalogen functionality is that the desired substitution reaction is accompanied by undesired side reactions. It is the selectivity that allows one to proceed without any. Benzylhalogen functionality is complex It undergoes a clean substitution reaction that does not involve an elimination reaction. Coupling Even if the side reaction leading to (coipliB) is only a small amount, it will lead to gelation. , this property is important in reactions involving soluble high molecular weight polymers.

簡単な分子の関与する反応(通常−官能基の)において、望ましい生成物の僅か に70%の収率でも、精製及び望ましくない生成物の分離が比較的容易であるか ら容認できる。既に架橋しているポリマー(例えば、「スチラゲル」)の関与す る反応において、望ましい生成物に対する低い収率も、出発ポリマーが既に不溶 性であるから、容認できる。しかし、分子あたり多くの官能基を含む、本発明の 可溶性高分子ポリマーの反応において、反応及び回収の間に溶解度を維持するた め、望まれる置換反応の99%以上を達成する必要がある。僅かな、(他の反応 においては)殆ど問題にならない量のゲル生成副反応が有用性を妨げる。さらに 、置換されたポリマーを精製し有害な副生物を除くことは通常非常に難しいか、 又は不可能である。このため、制御された条件の下でベンジルハロゲン官能基を 用い、高い収率の核置換反応を選択的な単一経路で達成できることが重要である 。改質のための「ベース」ポリマーとして、イソブチレン/パラ−メチルスチレ ン/パラ−ブロモメチルスチレンを使用すること、及び、適正な、そして制御さ れた条件の下で核置換反応を行うことにより、有用なペンダントの官能基を含有 する可溶性の、主鎖飽和のコポリマーが製造された。例には以下のものが含まれ る: (1)エステル(アセテート、ステアレート、リル−ト、エレオステアレート、 シンナメート、などを含む多くのエステル)、 (2)ヒドロ千シル(ベンジルハロゲンの代わりに直接結合したもの、又は別の 結合を介して結合したもの)、(3)カルボキシ、 (4) ニトリル、 (5)第四アンモニウム塩、 (6)第四ホスホニウム塩 (7)S−イソチウロニウム塩 (8)ジチオカルボキシレートエステル(9)メルカプタン (lO)カルボキシレートエステル及びフェルレートであって、ベンゾイルベン ゾエート、シンナメート、キリ油脂肪酸エステル、及びアントラキノン−2−カ ルボキシレート、で例証される輻射線反応性の官能基を含有するもの、及び (11) UV反応性のジチオカルバメートエステル。In reactions involving simple molecules (usually - functional), only a small fraction of the desired product is produced. Even with a yield of 70%, purification and separation of undesired products is relatively easy. It is acceptable. Any involving already cross-linked polymers (e.g. “styragel”) In reactions where the starting polymer is already insoluble, low yields for the desired product can also be caused It is acceptable because it is sexual. However, the present invention, which contains many functional groups per molecule, In the reaction of soluble polymers, it is necessary to maintain solubility during reaction and recovery. Therefore, it is necessary to achieve 99% or more of the desired substitution reaction. slight (other reactions) ) a negligible amount of gel-forming side reactions hinder its usefulness. moreover , it is usually very difficult to purify substituted polymers and remove harmful by-products, or Or it is impossible. For this reason, the benzylhalogen functionality can be extracted under controlled conditions. It is important to be able to achieve high-yield nuclear substitution reactions in a selective single route using . Isobutylene/para-methylstyrene as “base” polymer for modification The use of chlorine/para-bromomethylstyrene and Containing useful pendant functional groups by performing a nuclear substitution reaction under controlled conditions A soluble, backbone saturated copolymer was prepared. Examples include: Ru: (1) Esters (acetate, stearate, lylt, eleostearate, many esters, including cinnamate, etc.) (2) hydrothousyl (directly bonded in place of benzyl halogen or another (3) carboxy, (4) Nitrile, (5) quaternary ammonium salt, (6) Quaternary phosphonium salt (7) S-isothiuronium salt (8) Dithiocarboxylate ester (9) Mercaptan (lO) carboxylate esters and ferulates, benzoylben Zoates, cinnamates, tung oil fatty acid esters, and anthraquinone-2-carbon containing a radiation-reactive functional group, as exemplified by ruboxylate, and (11) UV-reactive dithiocarbamate ester.

イソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ−ブロモメチルスチレンターポリマ ーに対し核置換反応により製造できる、一般的には反応性誘導体、詳細には、輻 射線反応性誘導体に関しそのすべてを製造しなかったが、当業者は、輻射線反応 性を持つ官能基及び官能基の混合物を含む望まれるペンダントの官能基の大部分 を、本書に開示する原理を用い、各種の目的に合うように結合できることは明ら かである。二種以上の異なる種類の官能基の結合により、輻射線架橋性、乳化性 であり、及び/又は特定の支持体に対し優れた接着性を持つポリマーを製造でき るが、それは、適正な官能基の賢明な選択によりこれらの特性の各々が引き出さ れたときである。Isobutylene/para-methylstyrene/para-bromomethylstyrene terpolymer Generally, reactive derivatives, specifically reactive derivatives, which can be produced by nuclear substitution reactions against Although not all of the radiation-reactive derivatives have been manufactured, those skilled in the art will appreciate that the radiation-responsive derivatives are Most of the desired pendant functional groups include functional groups and mixtures of functional groups with clearly can be combined to suit a variety of purposes using the principles disclosed herein. That's it. Radiation crosslinking and emulsifying properties due to the combination of two or more different types of functional groups and/or can produce polymers with excellent adhesion to certain substrates. However, it is important that each of these properties can be brought out by judicious selection of the appropriate functional groups. This is the time when

本発明の用途の広い、ペンダントの、輻射線感受性の、主鎖の飽和した、可溶性 ポリマーを、選択的求核置換反応を経由して製造するための、「最重要」の要件 は次ぎのとうりである: (1)イソブチレン/パラ−ハロメチルスチレン/パラ−メチルスチレンベース ターポリマーを適正な、制御された条件の下で請求核置換に使用すること。ター ポリマーの組成を必要に応じ変更して、性質(すなわち、Tg1堅さ、柔軟性、 衝撃強さ、官能基の水準、など)の望ましい組合わせを生成できる。Inventive versatile, pendant, radiation-sensitive, backbone saturated, soluble The “top priority” requirements for producing polymers via selective nucleophilic substitution reactions is as follows: (1) Isobutylene/para-halomethylstyrene/para-methylstyrene base Use of terpolymers for claimed nuclear substitution under appropriate, controlled conditions. Tar The composition of the polymer can be modified as needed to improve the properties (i.e. Tg1 hardness, flexibility, desired combinations of impact strength, level of functionality, etc.).

(2)求核物質及び反応媒体を、ベースターポリマーに結合したベンジルハロゲ ンと核物質間の緊密な接触が達成できるように選ぶこと。場合により、この接触 が、ポリマー及び核分子に対し異なる溶媒、即ち、反応媒体を用い、そして反応 を促進するため適正な相移動触媒を採用することにより達成できることも認識す べきである。(2) Benzyl halogen with nucleophile and reaction medium attached to base terpolymer be chosen so that close contact between the material and the nuclear material can be achieved. In some cases, this contact uses different solvents, i.e., reaction media, for the polymer and the core molecule, and the reaction We also recognize that this can be achieved by employing appropriate phase transfer catalysts to promote Should.

(3)所望の核置換反応が緩和な条件において促進されるように反応部位におい て特定の溶媒和を達成すること。(3) At the reaction site so that the desired nuclear substitution reaction is promoted under mild conditions. to achieve specific solvation.

(4)反応の特異性を喪失させ、そして副反応を重大問題とし、及び/又は架橋 又は分解反応を起こさせる、強い「硬い」塩基又は高温のような「激しい」又は 「過酷な」反応物又は反応条件を避けること。(4) Loss of reaction specificity and make side reactions a serious problem, and/or crosslinking or “aggressive” or “hard” bases or high temperatures that cause decomposition reactions. Avoid "harsh" reactants or reaction conditions.

(5)所望の置換反応が、緩和な条件の下で迅速に起こり、望ましくない副反応 の可能性を避けるように核反応体及び促進剤を適正に選ぶこと。例えば、イソブ チレン/パラ−メチルスチレン/パラ−ブロモメチルスチレン「ベース」ターポ リマーのベンジル臭素を置換するためのエステル化反応においてカルボン酸の核 物質を用いるとき、カルボン酸の「硬い」イオン性の塩を核反応体として使用し ようとせず、むしろ請求核反応体としてのカルボン酸のカリウム塩と同時にカリ ウムイオンを溶媒和するために18クラウン−6を選び、そして望まれるエステ ル化置換反応を促進できるか、又は、適切な溶媒中のテトラブチルアンモニウム 対イオンを敏感な「柔らかい」酸として選び反応を促進できるであろう。(5) The desired substitution reaction occurs rapidly under mild conditions, resulting in undesirable side reactions. nuclear reactants and promoters should be chosen properly to avoid the possibility of For example, isobu Tyrene/para-methylstyrene/para-bromomethylstyrene "base" tarpo The carboxylic acid nucleus in the esterification reaction to replace the benzyl bromine in the remer. When using substances, “hard” ionic salts of carboxylic acids are used as nuclear reactants. rather than using potassium salts of carboxylic acids as nuclear reactants at the same time. Select 18 crown-6 to solvate the ions and the desired esthetics. or tetrabutylammonium in a suitable solvent capable of promoting the substitution reaction. The counterion could be chosen as a sensitive "soft" acid to facilitate the reaction.

(6)実施している核置換反応はそれ自身で、べ−スフポリマーの主鎖に結合し た状態のペンダントの核反応体を形成できること及びこれらの結合済みの核反応 体がベースターポリマー上の他の未反応のベンジル臭素を逐次に核的に「攻撃コ し、その結果、所望の既に結合済みの新しい官能基が消費されると同時に望まし くない架橋及びゲル化が生成することを認識することにより、逐次反応を最少に するような反応条件を選ぶこと。(6) The nuclear substitution reaction itself binds to the main chain of the base polymer. The ability to form pendant nuclear reactants in a state of The body sequentially nuclearally removes other unreacted benzylic bromines on the base terpolymer. As a result, the desired already attached new functional group is consumed while the desired Minimize sequential reactions by recognizing that undesirable crosslinking and gelation will occur. Choose reaction conditions that will

それ故、反応条件は請求核置換反応に用いられている未反応の核反応体が、非常 により強いか、又はより反応性の核分子であるか、又は、置換反応で生成される 結合済み核官能基より非常に過剰に存在するように反応条件を選ばなければなら ない。例えば、結合済みの塩基性の基は、塩基性の条件の下で、ベンジル臭素と さらに反応できる核部分となることを認識しなければならない。これらのポリマ ー内の基は、他のベンジル臭素と反応することができ、その結果、既に結合済み のペンダントの官能基が消費され、望ましくない架橋が生成する。Therefore, the reaction conditions are such that the unreacted nuclear reactants used in the claimed nuclear substitution reaction are a stronger or more reactive nuclear molecule or produced by a substitution reaction Reaction conditions must be chosen such that the attached nuclear functionality is present in significant excess. do not have. For example, a bound basic group can react with benzyl bromine under basic conditions. It must be recognized that it becomes a core part that can react further. These polymers The group within - can react with other benzylic bromines, resulting in already bonded pendant functional groups are consumed and undesirable crosslinks form.

その結果は、本発明の望ましいペンダント官能化ポリマーでなく、ゲル化したポ リマーである。本発明のベースターポリマーのベンジル臭素をメルカプタン基で 置換する試みにおいて、結合済みのSH(メルカプタン)基は、塩基性の条件に おいて、組み込まれた請求核反応体を形成し、そして、これらの組み込まれたメ ルカプチド基は他のベンジル臭素と反応し、その結果、既に組込み済みのペンダ ントメルカプタン官能基が消費され、望ましくないチオエーテル架橋が生成し、 本発明の望むペンダント官能化ポリマーではなくゲル化されたポリマーを生成す ることを認識しなければならない。The result is a gelled polymer rather than the desired pendant functionalized polymer of the present invention. It's Rimmer. The benzyl bromine of the base terpolymer of the present invention is replaced by a mercaptan group. In an attempt to replace the bonded SH (mercaptan) group, the bonded SH (mercaptan) group is exposed to basic conditions. to form incorporated claim nuclear reactants, and these incorporated members The rucaptide group reacts with other benzyl bromines, resulting in an already incorporated pendyl bromine. The mercaptan functional group is consumed and an undesired thioether crosslink is formed, To produce a gelled polymer rather than the desired pendant functionalized polymer of the present invention. We must recognize that.

同様に、本発明のペンダントヒドロキシ官能化ポリマーの製造時には、結合済み のヒドロキシ基は、強い塩基性の条件において請求核反応体を形成し、そして、 これらの結合済みアルコキシド基は逐次的にベースターポリマーの他の未反応の ベンジル臭素と反応し、その結果、既に結合済みのペンダントのヒドロキシ官能 基が消費され、エーテル架橋が生成し、本発明の望むペンダント官能化ポリマー でなくゲル化されたポリマーを生成することを認識しなければならない。Similarly, when making the pendant hydroxy-functionalized polymers of the present invention, the attached The hydroxyl group of forms a claimed nuclear reactant in strongly basic conditions, and These attached alkoxide groups are sequentially attached to other unreacted groups of the base terpolymer. reacts with benzylic bromine, resulting in the already bonded pendant hydroxy functionality. groups are consumed and ether crosslinks are formed, resulting in the desired pendant functionalized polymer of the present invention. It must be recognized that this produces a rather gelled polymer.

逐次反応の可能性を認識し、それらを最少にする条件を選ぶという最重要の要件 は、混合ペンダント官能基を持つ本発明のペンダントの輻射線反応性官能化飽和 ポリマーの製造が望まれる場合特に重要である。これらの混合官能基ポリマーに おいては、所望の官能基を保護し、そして逐次反応を避けるように官能基及び条 件を選ぶことが極めて重要である。The overriding requirement is to recognize the possibility of sequential reactions and choose conditions that minimize them. Radiation-reactive functionalization of pendants of the present invention with mixed pendant functional groups This is particularly important if the production of polymers is desired. These mixed functional polymers In order to protect the desired functional groups and avoid sequential reactions, the functional groups and It is extremely important to choose the right subject.

イソオレフィン及びパラ−アルキルスチレン−シラン誘導体ポリマーからなるポ リマーは、次に示すような、(N、N−ジメチル−3−アミノプロピル)シラン のような適切な核シラン反応体の使用にょる核置換により容易に製造できる別の 広い用途の物質の群を代表する:11 CH3 HzBr RI ClI2 式中、R,、R2及びR3は各独立に、水素、クロロ及びメトキシ、エトキシ、 などのような1乃至約5の炭素原子を有するアルコキシからなる群から選ばれる 。これらの誘導体の反応性は、存在するシラン種の数及び橿原により変化できる 。A polymer made of isoolefin and para-alkylstyrene-silane derivative polymer. The remer is a (N,N-dimethyl-3-aminopropyl)silane as shown below. Alternatives that can be readily prepared by nuclear substitution through the use of suitable nuclear silane reactants such as Representing a group of substances with wide applications: 11 CH3 HzBr RI ClI2 In the formula, R,, R2 and R3 are each independently hydrogen, chloro, methoxy, ethoxy, selected from the group consisting of alkoxy having 1 to about 5 carbon atoms, such as . The reactivity of these derivatives can vary depending on the number of silane species present and the Kashihara .

S i −CI結合を含むイソオレフィンとパラ−アルキルスチレンのポリマー は、水のように弱い核分子を含む各種の核物質に対して最も反応性がある。それ 故、これらの物質は大気への暴露により加硫できるので室温加硫性組成物(RT V)として非常に有用である。Polymer of isoolefin and para-alkylstyrene containing Si-CI bond is most reactive towards various types of nuclear materials, including weak nuclear molecules such as water. that Therefore, these materials can be vulcanized by exposure to the atmosphere and are therefore used as room temperature vulcanizable compositions (RT V) is very useful.

同様に、5i−0(アルキル)結合を含むこれらのぼりツーも、水も含む各!の 核分子と反応性がある(S i −CI程の反応性はないが)。上記のこの反応 性は、RTVの用途において、特に加硫時に中性の種の放出が好まれるとき、活 用される。このシラン物質の適正な用途は、シーラント及び接着剤を含み、そこ では、シラン官能基により架橋が可能となり、ガラスのような支持体への接着が 改善される。Similarly, these two that contain 5i-0 (alkyl) bonds also contain water! of It is reactive with nuclear molecules (although not as reactive as Si-CI). This reaction above properties are active in RTV applications, especially when release of neutral species during vulcanization is preferred. used. Proper uses of this silane material include sealants and adhesives, where , the silane functionality enables crosslinking and adhesion to supports such as glass. Improved.

5i−H結合を含むイソオレフィン及びパラ−アルキルスチレン−シラン誘導体 のポリマーは、独特な反応性を持つ。これらは、ベース的な三種類の反応を受け る。Isoolefins and para-alkylstyrene-silane derivatives containing 5i-H bonds These polymers have unique reactivity. These are subject to three basic types of reactions. Ru.

これらは、オクタン酸スズ、オクタン酸亜鉛、及びその他の金属塩の存在下で、 ヒドロキシル、又はシラノール官能化物質と反応して結合を造り、水素を生成す る。この反応はガラス、皮革、紙又は織物表面に疎水性を与えるのに使用できる 。These in the presence of tin octoate, zinc octoate, and other metal salts Reacts with hydroxyl or silanol functionalized materials to create bonds and generate hydrogen. Ru. This reaction can be used to impart hydrophobic properties to glass, leather, paper or textile surfaces. .

S i−H官能基はある種の遊離ラジカル又は貴金属触媒の存在下でオレフィン と反応する。この反応は付加硬化(RT V)又は低温加硫の用途を開くもので ある。これらのポリマーとポリブタジェン又はビニル官能性シリコーンのような 別のオレフィン含有ポリマーとの混合物は、イソオレフィン及びパラ−アルキル スチレンを含むポリマー及び別のポリマー間の分子間架橋系を急速に生成する。S i-H functional groups can be converted into olefins in the presence of certain free radicals or noble metal catalysts. reacts. This reaction opens up applications for addition curing (RTV) or low temperature vulcanization. be. These polymers such as polybutadiene or vinyl functional silicones Blends with other olefin-containing polymers include isoolefins and para-alkyl Rapidly generates an intermolecular crosslinking system between a styrene-containing polymer and another polymer.

イソオレフィン及びパラ−アルキルスチレン−ビニルシリコーン系を含むポリマ ーは、既存のシリコーン系より透過性の優れた、有用な熱安定性架橋系織を提供 する。Polymers containing isoolefins and para-alkylstyrene-vinyl silicone systems - provides a useful heat-stable cross-linked woven fabric with greater permeability than existing silicone systems do.

イソオレフィン及びパラ−アルキルスチレン誘導体からなるこれらの5i−Hポ リマーの第三の有用な反応は、ポリマー型の還元剤としてである。S i −H 化合物は、ニトロ芳香族、酸塩化物、アルデヒド及びケトンに対する活性のある 、緩和な、選択的還元剤として知られる。These 5i-H polymers consisting of isoolefins and para-alkylstyrene derivatives A third useful reaction for remers is as a reducing agent for polymeric types. S i -H The compound is active against nitroaromatics, acid chlorides, aldehydes and ketones. , known as a mild, selective reducing agent.

これらの反応体をポリマーに結合させると分離が容易になるという利点が生じ、 ポリマーは、低分子量の還元された種から容易に分離され、モして単離(iso lstin)する前に残留する反応体を加水分解する必要はない。別の利点は、 これらの還元が、ヘキサン、塩化メチレン及びジオキサンを含む広い範囲の溶媒 系において空気及び水分の存在下に行えることである。Attaching these reactants to polymers offers the advantage of easier separation; The polymer is easily separated from the lower molecular weight reduced species and isolated (iso There is no need to hydrolyze the remaining reactants prior to lstin). Another advantage is that These reductions are compatible with a wide range of solvents including hexane, methylene chloride and dioxane. This can be done in the presence of air and moisture in the system.

イソブチレン/パラ−メチルスチレン及びパラ−ブロモメチルスチレンを含む「 ベース」ターポリマーの選択的求核置換反応を経由して誘導される本発明の新規 の、範囲の広い、ペンダント官能化された、主鎖の飽和した、可溶性コポリマー を、実施例においては特定のペンダント官能基を取扱いながらさらに開示する。“Including isobutylene/para-methylstyrene and para-bromomethylstyrene” The novel invention derived via selective nucleophilic substitution reaction of base' terpolymers A wide range of pendant functionalized, backbone saturated, soluble copolymers of are further disclosed in the Examples, addressing specific pendant functional groups.

これらの実施例は、イソブチレンの豊富な低Tgエラストマーからパラ−メチル の豊富な高Tgプラスチック類まで、ならびにイソブチレン含有率の中間程度の 強靭な高衝撃組成物を含む広い範囲の性質を包含する。適正なペンダントの官能 基の存在により、この全範囲の生成物が、自動車及び電気製品などの外装用に「 塗装可能」となり、そして、接着性となり、又は他の支持体へのコーティングと して使用できるようになり、特に、主鎖の飽和したコポリマーの優れた耐環境性 が利点となる外部の用途に使用できる。さらに、これらの組成物は適正な官能基 の存在により、他の官能性ポリマー又は充填剤又は繊維と反応するか又は助けを 借りて反応し、性質の望ましい組合わせを備えた複合構造物(すなわち、積層物 、分散体、など)を形成することができる。These examples demonstrate that para-methyl isobutylene-rich low Tg elastomers up to high Tg plastics, which are abundant in Covers a wide range of properties including tough high impact compositions. The right pendant sensuality The presence of this group makes this whole range of products suitable for exterior applications such as automobiles and electrical appliances. Can be painted and adhesive or coated onto other substrates. The excellent environmental resistance of copolymers with saturated backbones allows them to be used as Can be used for external applications where this is an advantage. Additionally, these compositions contain appropriate functional groups. Reacts with or assists other functional polymers or fillers or fibers Composite structures (i.e. laminates) with desirable combinations of properties , dispersion, etc.).

本発明によれば、本書に開示し例証済みの、新規の、ペンダント輻射線反応性官 能化飽和コポリマーは、先ず、ペンダントに結合した親電子部分を一つ以上持つ 飽和した炭化水素主鎖を含むベースターポリマーを製造すること、つぎに1.ペ ンダントに結合した親電子部分との選択的求核置換反応を経由して、所望の、新 しい輻射線反応性官能基を結合させることにより、簡単にそして実用的に製造で きることが判明した。本発明ペンダント官能化コポリマー成分を製造するとき請 求核置換反応を経由して他の官能基と置換されるペンダントに結合した親電子部 分はベンジルハロゲン部分であることが望ましく、かつ重要であることが明らか になった。これらのペンダントに結合した親電子性のベンジルハロゲン部分が、 前述のラジカルハロゲン化によりランダムイソブチレン/パラ−メチルスチレン コポリマーに容易に挿入され、イソブチレン/パラ−メチルスチレン/及び臭素 化パラ−メチルスチレンを含むランダムな単位からなるベースターポリマーを生 成する。親電子性のベンジルハロゲン部分を含有するこのベースターポリマーが 「親ポリマー」となり、このものから、本発明の新規のペンダント官能化飽和コ ポリマーが、選択的求核置換反応を経由して製造される。In accordance with the present invention, a novel pendant radiation-responsive feature as disclosed and exemplified herein is disclosed. Energized saturated copolymers first have one or more electrophilic moieties attached to pendants. producing a base terpolymer comprising a saturated hydrocarbon backbone, then 1. Pe The desired, new By attaching new radiation-reactive functional groups, it can be manufactured easily and practically. It turned out that it is possible. When making the pendant functionalized copolymer component of the present invention, An electrophilic moiety attached to a pendant that is substituted with another functional group via a nucleophilic substitution reaction It is clear that the benzyl halogen moiety is desirable and important. Became. The electrophilic benzyl halogen moieties attached to these pendants are Random isobutylene/para-methylstyrene by the radical halogenation described above. Easily inserted into copolymers, isobutylene/para-methylstyrene/and bromine A base terpolymer consisting of random units containing chlorinated para-methylstyrene was produced. to be accomplished. This base terpolymer containing an electrophilic benzyl halogen moiety is ``parent polymer'' from which the novel pendant functionalized saturated copolymer of the present invention Polymers are produced via selective nucleophilic substitution reactions.

本発明のこれらの新規の、ペンダントの官能化されたポリマーは次ぎの「マー( “le+”)」単位を含む:1)結合されたイソブチレン単位 CH2 −C[I!−C− Hz b)結合されたp−アルキルスチレン単位−C−11 R′ C)結合された臭素化p−アルキル−スチレン単位(親電子性部分) −C−X R′ d)結合されたペンダントの輻射線反応性官能基、ベンジルハロゲンに対する核 置換により生成する−C−Y ■ R′ e)結合されたペンダントの非輻射線反応性官能基、ベンジルハロゲンに対する 核置換により生成する−C−2 R′ 式中、R及びR′は、水素、アルキル、及びハロゲン化第1及び第2アルキルか らなる群から独立に選ばれ、Xはハロゲン原子(臭素及び塩素が好ましく、臭素 が最も好ましい)であり、Yは1つのベンジルハロゲンの核置換を経由して結合 された「マー」単位Cが「マー」単位dになるように、ポリマーに結合した新し い輻射線反応性基を表し、そして2は一つのベンジルハロゲンの核置換を経由し て結合された「マー」単位Cが「マー」単位eになるようにポリマーに結合した 新しい非輻射線反応性基を表す。実際上、混合官能基を導入する場合、同じポリ マー内に数種の異なるY及び/又は2種が存在し得る。Y及び2は、ペンジルハ リドに電子を与え得る核反応体が本発明によるベースターポリマーと反応すると き、ポリマーに結合されていた「マー」単位Cのハロゲンに代わり、結合されて 残るものである。These novel, pendant functionalized polymers of the present invention “le+”)” unit: 1) linked isobutylene unit CH2 -C[I! -C- Hz b) linked p-alkylstyrene unit -C-11 R' C) attached brominated p-alkyl-styrene units (electrophilic moieties) -C-X R' d) a bonded pendant radiation-reactive functional group, a nucleus for benzyl halogen; -C-Y produced by substitution ■ R' e) non-radiation-reactive functional group of the attached pendant, to the benzyl halogen -C-2 produced by nuclear substitution R' In the formula, R and R' are hydrogen, alkyl, and halogenated primary and secondary alkyl. X is a halogen atom (preferably bromine and chlorine, bromine is the most preferred), and Y is bonded via one benzylhalogen nuclear substitution. The new bonded to the polymer such that the "mer" unit C becomes the "mer" unit d. 2 represents a radiation-reactive group, and 2 is formed via nuclear substitution of one benzyl halogen. The "mer" unit C bound to the polymer is bound to the polymer so that it becomes the "mer" unit e. Represents a new non-radiation-reactive group. In practice, when introducing mixed functional groups, There may be several different Y's and/or two's within the mer. Y and 2 are Penzilha When a nuclear reactant capable of donating electrons to the lid reacts with the base terpolymer according to the invention In place of the halogen in the “mer” unit C that was bonded to the polymer, It is what remains.

四種類(数種類の異なるY及び/又は2官能基が存在する場合はさらに多い)の 「マー」単位が、ランダムに結合して本発明の組成物の中における新規のペンダ ント輻射線反応性官能化主鎖飽和ポリマー成分を生成する。Four types (more if several different Y and/or difunctional groups are present) "Mer" units are randomly combined to form novel pendants in the compositions of the present invention. to produce a radiation-reactive functionalized backbone saturated polymer component.

ポリマー全体の数平均分子量は、< SOOから> 100、ooOまで変化で きる。各種の「マー」の量は次ぎのとおり変化できる: I)(インブチレン)「マー」単位 約10乃至約99.5重量%、 b)(p−アルキルスチレン)「マー」単位 約0.5乃至約90重量%、 cl (ラジカルで臭素化されたp−アルキルスチレン)「マー」単位 約0乃 至約55重量%、d) (ペンダントが輻射線反応性の官能性p−アルキルスチ レン)「マー」単位 約0.5乃至約55重量%、e) (ペンダントが非輻射 線反応性の官能性p−アルキルスチレン)「マー」単位 約0乃至約55重量% 。The number average molecular weight of the entire polymer can vary from <SOO to> 100, ooO. Wear. The amount of each type of "mer" can be varied as follows: I) (imbutylene) "mer" unit about 10 to about 99.5% by weight, b) (p-alkylstyrene) "mer" units about 0.5 to about 90% by weight, cl (radical brominated p-alkyl styrene) "mer" unit approximately 0~ up to about 55% by weight, d) (the pendant is a radiation-reactive functional p-alkyl styrene) Len) “mer” unit about 0.5 to about 55% by weight, e) (If the pendant is non-radiating linearly reactive functional p-alkylstyrene) “mer” units from about 0 to about 55% by weight .

実際には、混合官能基を導入する場合、数種類の異なるY及び/又は2種が同じ ポリマー内に存在する。Y及U隨xに2はペンジルハリドに電子を与え得る核反 応体が本発明によるベースターポリマーと反応するときハロゲンの代わりにポリ マーに結合して残るものであり、I)は約10乃至約99.5重量%、より好ま しくは、約80乃至約99重量%、そして最も好ましくは、約90乃至約98重 量%、b)は約0.5乃至約90重量%、より好ましくは、約1乃至約20重量 %、そして最も好ましくは、約2乃至約10重量%、d)は約0.5乃至約55 重量%、より好ましくは、約0.5乃至約20重量%、そして最も好ましくは、 約0.5乃至約15モル%、C)は約0乃至約55重量%、より好ましくは、約 0乃至約20重量%、そして最も好ましくは、約0乃至約15重量%、そしてC )は約0乃至約55重量%、より好ましくは、約0乃至約20重量%、そして最 も好ましくは、約0乃至約15重量%である。官能化されたポリマーの数平均分 子量は、約SON乃至約500.000.より好ましくは、約50.000乃至 約300.000、そし最も好ましくは約50.000乃至約150.000で ある。In practice, when introducing mixed functional groups, several different types of Y and/or two types of the same Present within the polymer. 2 for Y and U x is a nuclear reaction that can donate electrons to pendylhalide. When the reactant reacts with the base terpolymer according to the invention, the polyurethane is used instead of the halogen. and more preferably about 10 to about 99.5% by weight of I). preferably about 80 to about 99% by weight, and most preferably about 90 to about 98% by weight. % by weight, b) from about 0.5 to about 90% by weight, more preferably from about 1 to about 20% by weight %, and most preferably from about 2 to about 10% by weight, d) from about 0.5 to about 55 % by weight, more preferably from about 0.5 to about 20% by weight, and most preferably, about 0.5 to about 15 mol%, C) about 0 to about 55% by weight, more preferably about 0 to about 20% by weight, and most preferably about 0 to about 15% by weight, and C ) is about 0 to about 55% by weight, more preferably about 0 to about 20% by weight, and most preferably about 0 to about 20% by weight. Also preferably from about 0 to about 15% by weight. Number average of functionalized polymers The molecular mass ranges from about SON to about 500,000. More preferably about 50,000 to about 300,000, and most preferably about 50,000 to about 150,000 be.

本発明の実施態様の1つによれば、ペンジルハリドに電子を与え、そして請求核 置換反応を経由してハリドを取除き、そして、輻射線反応性官能基Y及び、所望 により、非輻射線反応性官能基2をハロゲンの除かれたベンジルの位置に結合さ せることの可能な核反応体は、Y又はYM又は2又はZMで表される(式中、M は水素、金属イオン又はアンモニウムイオンであり、そして、Y及び/又は2は 酸素、硫黄、ケイ素、炭素、窒素、燐又は各種の金属を含む簡単な核分子か、又 はY及び/又は2は分子量が< 1000の小分子であって請求核置換反応にお いてベンジルの位置に結合する簡単な核分子に加えて他の官能基を含んでいても よい小分子である)。According to one embodiment of the invention, the pendyl halide is endowed with electrons and the claimed nucleus The halide is removed via a substitution reaction and the radiation-reactive functional group Y and the desired The non-radiation-reactive functional group 2 is bonded to the benzyl position from which the halogen is removed. Nuclear reactants that can be expressed as Y or YM or 2 or ZM (wherein M is hydrogen, metal ion or ammonium ion, and Y and/or 2 are A simple nuclear molecule containing oxygen, sulfur, silicon, carbon, nitrogen, phosphorus or various metals, or Y and/or 2 are small molecules with a molecular weight <1000 and are suitable for the claimed nuclear substitution reaction. even if they contain other functional groups in addition to a simple core molecule that binds to the benzyl position. It is a good small molecule).

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−0−の結合をもたらす、酸素を含 む簡単な核物質の例は次ぎのちのを含むが、これに限らないニ ーOil アルコキシド又はフェノキシトにおけ803S スルフォネートにお けるもの。An oxygen-containing compound that brings about a -0- bond at the removed benzyl position of the halito ion. Examples of simple nuclear materials include, but are not limited to: - 803S sulfonate in oil alkoxide or phenoxide What to do.

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−8−の結合をもたらす、硫黄を含 む簡単な核物質の例は次ぎのちのを含む(しかし、これに限らない)ニーS−R チオレート及びチオフェルレートにおけるもの 一3b チオエーテルにおけるもの 一3CN チオシアネートにおけるもの。A sulfur-containing compound that brings about a -8- bond at the removed benzyl position of the halito ion. Examples of simple nuclear materials include (but are not limited to) the following: In thiolate and thioferlate -3b Thioether In 13CN thiocyanate.

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−Si−の結合をもたらす、珪素を 含み、n=1.2、又は3である簡単な核物質の例は次ぎのちのを含む(しかし 、これに限らない): 1l−5ib シランにおけるもの H−3ilIIR3−1ハロシランにおけるもの。Silicon is added to bring about a -Si- bond at the benzyl position from which the halito ion is removed. Examples of simple nuclear materials with n = 1.2, or 3 include (but , but not limited to): 1l-5ib in silane In H-3ilIIR3-1 halosilane.

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−C−の結合をもたらす、炭素を含 む簡単な核物質の例は次ぎのものを含む(しかし、これに限らない)ニーCN  シアナミドにおけるもの −C1h 有機リチウム(又はその他のアルカリ又はアルカリ土類金属)化合物 におけ るもの HC−(R) −(CO2R12マロネート及び一般的には、塩基条件の下で置 換基がメタンの炭素を活 性化し、炭素アルキル化反応を行わせ る、二又は三置換のメタン誘導体にお けるもの。A carbon-containing compound that brings about a -C- bond at the removed benzyl position of the halito ion. Examples of simple nuclear materials include (but are not limited to): In cyanamide -C1h Organolithium (or other alkali or alkaline earth metal) compound in things HC-(R)-(CO2R12 malonate and generally placed under basic conditions) The substituent activates the carbon of methane. and carry out carbon alkylation reaction. di- or tri-substituted methane derivatives What to do.

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−N−の結合をもたらす、窒素を含 み、n=1.2、又は3である簡単な核物質の例は次ぎのちのを含む(しかし、 これに限らない): )IN−C−Rアミドにおけるもの 薯 NN11ds−各種のアミンにおけるもの0 マレイミドにおけるもの 習 冒 る種の官能基であるもの −N=C・0 シアネートにおけるもの。A nitrogen-containing compound that brings about an -N- bond at the removed benzyl position of the halito ion. Examples of simple nuclear materials where n=1.2, or 3 include (but (including but not limited to): ) IN-C-R amide Yam NN11ds-In various amines 0 In maleimide Xi blasphemy The functional group of the species -N=C・0 in cyanate.

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−P−の結合をもたらす、燐を含み 、n=1.2、又は3である簡単な核物質の例は次ぎのちのを含む(しかし、こ れに限らない): P[lffiRa−m 各種のホスフィンにおけるもの。Contains phosphorus, resulting in a -P- bond at the removed benzyl position of the halito ion , n=1.2, or 3 include (but this (including but not limited to): P[lffiRa-m in various phosphines.

ハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に−M−の結合をもたらす、金属を含 む簡単な核物質の例は次ぎのちのを含む(しかし、これに限らない):Mg−( THF中のアントラセン錯体)Li−(適当に錯体化されたもの) Y及び/又はZが、< 1000のの分子量の小分子であって、求核置換反応に おいてハリトイオンの取除かれたベンジルの位置に結合される簡単な核部分に加 えて他の官能基を含む小分子である例は、次のものを含む(しかしこれに限らな い)ニトリエタノールアミン、イミノニ酢酸、イミノジアセトニトリル、イミノ ジエタノール、ビニルピリジン、シンナメート、エレオステアレート、リルアー ト、アクリレート、ベンゾイルベンゾエート、ペンゾイルフエル−ト、ジヒドロ キシベンゾフェノン、クラウンエーテル誘導体、クリプタンド誘導体、セルロー ス誘導体、糖誘導体、末端の核基を持つ低分子量のポリエチレンオキシド連鎖又 はポリプロピレンオキシド連鎖、など。Y及び/又は2が、ハリトイオンの取除 かれたベンジルの位置に結合される簡単な核物質に加えて他の官能基を含む条件 で行われるこれらの反応は、選択的求核置換反応により製造される本発明の新規 なペンダント官能化飽和ポリマーに組込み可能な官能基の種類及び範囲を大幅に 広げることに注目すべきである。この、多官能基のY及び/又はZ基を結合する 能力により、各種の分散剤(すなわち、潤滑油分散剤)において望まれているよ うに、極性基のクラスターを結合でき請求核置換反応では容易に達成できない官 能基(オレフィン又は共役未飽和のような)が結合でき;そして、キラル化合物 又はクリプタンドのクラウン化合物のような非常に複雑で特殊な官能基を結合さ せ、触媒などのような非常に専門化された用途に対し独特の性質を備えた本発明 の新規なペンダント官能化ポリマーを製造できる。A metal-containing compound that brings about a -M- bond at the removed benzyl position of the halito ion. Examples of simple nuclear materials include (but are not limited to): Mg-( anthracene complex in THF) Li- (appropriately complexed) Y and/or Z are small molecules with a molecular weight of <1000, and are suitable for nucleophilic substitution reactions. In addition to a simple core moiety bound to the removed benzyl position of the halide ion, Examples of small molecules that also contain other functional groups include (but are not limited to): b) Nitriethanolamine, iminodiacetic acid, iminodiacetonitrile, imino Diethanol, vinylpyridine, cinnamate, eleostearate, lylua acrylate, benzoyl benzoate, penzoyl felt, dihydro xybenzophenone, crown ether derivatives, cryptand derivatives, cellulose sugar derivatives, low molecular weight polyethylene oxide chains with terminal nuclear groups, is a polypropylene oxide chain, etc. Y and/or 2 are for removal of halito ions Conditions involving other functional groups in addition to the simple nuclear material attached to the benzyl position These reactions carried out in greatly expands the type and range of functional groups that can be incorporated into pendant functionalized saturated polymers. It should be noted that it expands. This multifunctional Y and/or Z group is bonded ability to achieve desired results in various dispersants (i.e., lubricant dispersants). It is possible to combine clusters of polar groups, which is not easily achieved by nuclear substitution reactions. Functional groups (such as olefins or conjugated unsaturated) can be attached; and chiral compounds or very complex and specialized functional groups such as the crown compound of cryptand. This invention has unique properties for highly specialized applications such as new pendant functionalized polymers can be produced.

しかし、他の官能基を含むY及び/又は2基の結合においては、Y及び/又はZ 基が結合される核置換反応時に、より以上の注意を払い、新しい官能基が保護さ れ、予定外の架橋又はゲル化を生成する逐次反応により消費されないことを保証 する必要があることにも注意すべきである。ある場合には請求核置換反応が完了 するまで、保存されなければならない官能基を保護するのが望ましい。However, in the bonding of Y and/or two groups containing other functional groups, Y and/or Z During the nuclear substitution reactions in which the groups are attached, greater care is taken to ensure that the new functional groups are protected. to ensure that it is not consumed by sequential reactions that produce unplanned crosslinking or gelation. It should also be noted that it is necessary to In some cases, the requested nuclear substitution reaction is completed. It is desirable to protect functional groups that must be preserved until such time as possible.

この種の核置換反応の殆どは、本発明のペンダント官能化された可溶性コポリマ ーの製造に極めて有害な副反応にある程度悩まされる。それは、高分子のポリマ ーにおいては少量の副反応と言えども望ましくないゲル化を生じ製品の有用性を 大幅に減少させるからである請求核置換反応に本発明の独特なペースポリマーを 用いることの利点の一つは、望まれない副反応を殆ど消滅できることである請求 核置換反応は、幾つかの異なる機構により進行し、そして殆どの親電子物質の場 合、これらの異なる機構が異なる生成物又は異なる量の副反応をもたらすことが 知られている。Most of these types of nuclear substitution reactions can be achieved with the pendant functionalized soluble copolymers of the present invention. The production of these products suffers from some degree of extremely harmful side reactions. It is a high-molecular polymer In some cases, even a small amount of side reaction may cause undesirable gelation and reduce the usefulness of the product. The unique pace polymer of the present invention significantly reduces the claimed nuclear substitution reaction. One of the advantages of using this method is that undesired side reactions can be almost eliminated. Nuclear substitution reactions proceed by several different mechanisms and are common in most electrophiles. In these cases, these different mechanisms may lead to different products or different amounts of side reactions. Are known.

調和したSN2型機構で進行する反応は、Sml型の機構で進行する反応より、 望まれる生成物を多く産出するのが一般的である。本発明の結合されたベンジル のハロゲンを核置換の親電子部位として使用することの利点は、脱離反応がまっ たく防止され、その結果、Sxl型の機構で進行する反応でさえ望ましくない副 反応を伴うことなく選択的に所望の生成物をもたらすことである。Reactions that proceed with a harmonized SN2-type mechanism are more efficient than reactions that proceed with an Sml-type mechanism. Generally, higher yields of the desired product are obtained. Conjugated benzyl of the invention The advantage of using a halogen as an electrophilic site for nuclear substitution is that the elimination reaction As a result, even reactions proceeding by an Sxl-type mechanism are free from unwanted side effects. The objective is to selectively provide the desired product without reaction.

本発明の好ましいベンジル臭素を核置換の部位として用いる別の利点は、置換反 応が緩和な条件の下で進行する(ベンジル臭素は非常に不安定であるから)ため 、ポリマー主鎖の分解、又は反応体又は生成物の熱的再結合又は分解が回避でき ることである。本発明におけるように請求核置換のための結合された親電子部位 として、ベンジルハロゲン特にベンジル臭素を用いることにより、その他の機構 で進行するようなその他の副反応又は逐次反応が大幅に消滅され、その結果本発 明の可溶性のペンダント官能化コポリマーが選択的なSn2型の核置換反応によ り製造できるように反応体及び条件を選ぶこともできる。本発明の、輻射線反応 性ペンダント官能化された主鎖の飽和した可溶性ポリマーを製造するためには、 既述の6項目の「最重要」要件を注意深く守る必要がある。Another advantage of using the preferred benzylic bromine of the present invention as the site of nuclear substitution is that the substitution reaction Because the reaction proceeds under mild conditions (as benzylbromine is very unstable) , decomposition of the polymer backbone, or thermal recombination or decomposition of reactants or products can be avoided. Is Rukoto. Attached electrophilic site for claimed nuclear substitution as in the present invention By using benzyl halogen and especially benzyl bromine as Other side reactions or sequential reactions, such as those that proceed in Bright soluble pendant-functionalized copolymers are synthesized by selective Sn2-type nuclear substitution reactions. The reactants and conditions can also be selected to allow for the production of the same product. Radiation reaction of the present invention To prepare a backbone saturated soluble polymer with pendant functionalization, It is necessary to carefully adhere to the six "most important" requirements mentioned above.

本発明に基づく各種の、ペンダントの、輻射線反応性の、官能化された、可溶性 飽和コポリマーを製造するのに適切な正確かつ特定の条件は、導入する新しい官 能基、ならびにベースコポリマーの組成及びその他の要因に依存し、そして、各 々の場合について実際の条件を決めるために実験が必要なこともあるが、本書に 既述の最重要事項を常に考慮し守らなければならない。このことは、以下の特定 の実施例においてより明確になるが、一般的な反応条件の幾つかは最初に決める ことができる請求核置換反応は、ベースポリマー及び核反応体の両方が可溶性で ある溶媒系を用いる溶液中において、ベースポリマーが一つの相に溶解し核反応 体が別の相に溶解する二相の液体系において、二相の固体/液体系(すなわち、 ベースポリマーが核反応体を含有する液相中に分散している系)において、又は 反応体がベースポリマー中に溶解又は分散している凝集状態において行うことが できる。共通溶液の場合が非常に制御しやすく、好ましい場合である。しかし、 凝集反応は、適切な反応体及び反応条件が見出せるとき経済的に有利なことがあ る。Various pendant, radiation-reactive, functionalized, soluble, according to the invention The exact and specific conditions suitable for producing saturated copolymers depend on the new official being introduced. depends on the functional group, as well as the composition of the base copolymer and other factors, and each Although experimentation may be necessary to determine the actual conditions for each case, this book does not The most important points mentioned above must always be considered and observed. This means that the following specific Although it will become clearer in the examples, some of the general reaction conditions are determined at the outset. The claimed nuclear substitution reaction can be performed when both the base polymer and the nuclear reactant are soluble. In a solution using a certain solvent system, the base polymer dissolves in one phase and a nuclear reaction occurs. In a two-phase liquid system where a body dissolves in another phase, a two-phase solid/liquid system (i.e. systems in which the base polymer is dispersed in a liquid phase containing the nuclear reactants), or It can be carried out in a cohesive state where the reactants are dissolved or dispersed in the base polymer. can. The common solution is very easy to control and is the preferred case. but, Coagulation reactions can be economically advantageous when suitable reactants and reaction conditions are found. Ru.

中間的な二相系は、ある状況の下では有利であり、そして、ベースポリマー(親 電子物質を含む)及び核反応体の溶解度パラメータが異なり過ぎて共通の溶媒が 存在しない場合には必要である。これらの二相の場合、相間の境界面において核 置換反応を促進するため、又は核反応体をベースポリマー内の親電子部位に運ぶ ため相移動触媒を使用することはしばしば又は通常望ましい。Intermediate two-phase systems are advantageous under certain circumstances, and the base polymer (parent) The solubility parameters of nuclear reactants (including electronic materials) and nuclear reactants are so different that a common solvent is Required if not present. In the case of these two phases, the nucleus at the interface between the phases to promote substitution reactions or to transport nuclear reactants to electrophilic sites within the base polymer Therefore, it is often or usually desirable to use a phase transfer catalyst.

本発明のペンダント官能化ポリマーを製造する非常に好ましい方法は、ベンジル ハロゲンの親電子物質を導入するため、前述の、イソブチレン/パラ−メチルス チレンのランダムコポリマーをラジカルによりハロゲン化し、そして次に、ベー スのハロゲン化ポリマーを別途に回収することなく、同じ媒体において、逐次反 応により請求核置換反応を行って、望まれる新しい官能基を導入する方法である 。A highly preferred method of making pendant functionalized polymers of the invention is benzyl In order to introduce the halogen electrophile, the above-mentioned isobutylene/para-methyls A random copolymer of tyrene is radically halogenated and then base in the same medium without separate recovery of the halogenated polymer. This is a method of introducing a desired new functional group by performing a nuclear substitution reaction depending on the reaction. .

用いる核反応体の反応性及び反応条件により異なるが請求核置換反応は、約0℃ 乃至約200℃の温度で行えるが、この温度は請求核反応体、ベースポリマー及 び官能化された生成ポリマーの熱安定性によって!11限される。Although it varies depending on the reactivity of the nuclear reactants used and the reaction conditions, the claimed nuclear substitution reaction is carried out at approximately 0°C. temperatures ranging from about 200°C to about 200°C, depending on the claimed nuclear reactants, base polymer and and the thermal stability of the resulting functionalized polymer! 11 limited.

通常、約0℃乃至約150℃の温度が好ましい。反応時間は通常(しかし、そう でない場合もある請求核置換反応を完結させる(すなわち、親電子物質又は核反 応体を使い果たす)ように選ばれ、そして、数秒乃至2〜3日である。通常、2 〜3分乃至数時間の反応時間が好ましい。反応温度及びその他の条件は都合の良 い反応時間が可能なように設定される。Typically, temperatures of about 0°C to about 150°C are preferred. Reaction times are usually (but so Completion of the claimed nuclear substitution reaction (i.e. electrophile or nuclear reaction) that may not be possible The period of time ranges from a few seconds to 2-3 days. Usually 2 Reaction times of ˜3 minutes to several hours are preferred. The reaction temperature and other conditions are controlled as convenient. The reaction time is set to allow for a long reaction time.

広い範囲、の溶媒/又は溶媒混合物が請求核置換反応用の媒体として用いられ、 そして、溶液、分散又は凝集反応のいずれかを決めるのがこの要素である。溶媒 の選択にあたり多くの要素が重要である。反応条件の下で不活性であること、生 成物から容易に除去できること、プロセスにおける再使用のため容易に再循環で きること、使用条件において毒性の低いこと、環境に対する健康上の問題が最小 であること、使用するのに経済的であること、などが必要である。さらに、溶媒 は、行われる反応に有利な反応環境を提供する必要がある。すなわち、溶媒は、 反応体を、必要なだけ緊密に溶液接触させなければならず、そして望まれる反応 経路に沿う中間状態のため溶媒和を安定にすべきである。要求される妥協を最も 有効に達成するため一1一つの溶媒:士取扱いの容易なベースポリマーの良い溶 媒であり、他の溶媒は核反応体の良い溶媒であり、及び/又は反応の中間体に対 し溶媒和を安定にするような、溶媒混合物を用いるのが必要であるか、又は望ま しい場合が多い。ランダムなインブチレン/パラ−メチルスチレンコポリマーに ベンジルハロゲンの親電子物質を導入するためのラジカルハロゲン化反応、なら びに新しいペンダントの官能基を導入するための核置換反応の両方に適切な溶媒 系を選び、その結果、ハロゲン化されたベースポリマーを別途に回収する必要な しに逐次反応を可能にするのが非常に好ましい。A wide range of solvents/or solvent mixtures can be used as the medium for the claimed nuclear substitution reaction; This element determines whether the reaction is a solution, dispersion, or aggregation reaction. solvent Many factors are important in choosing. be inert under the reaction conditions; be easily removed from the product and easily recycled for reuse in the process. low toxicity under conditions of use and minimal environmental health hazards. It needs to be economical to use, etc. Furthermore, the solvent must provide a favorable reaction environment for the reaction to be carried out. That is, the solvent is The reactants must be in solution contact as intimately as necessary and the desired reaction Intermediate states along the path should make the solvation stable. make the most of the compromises required To achieve this effectively, a single solvent is required: a good solubility of the base polymer that is easy to handle; the other solvent is a good solvent for the nuclear reactants and/or for the intermediates of the reaction. It is necessary or desirable to use solvent mixtures that stabilize the solvation. There are many cases where Random inbutylene/para-methylstyrene copolymer Radical halogenation reaction to introduce electrophile of benzyl halogen, if A suitable solvent for both nuclear substitution reactions and for introducing new pendant functional groups. system, resulting in the need for separate recovery of the halogenated base polymer. It is highly preferred to allow sequential reactions.

この逐次反応経路に特に適切な溶媒は、ベースポリマーの組成にある程度依存す るが、イソブチレンの多いゴム弾性のベースポリマーの場合、低沸点の飽和炭化 水素(C4〜Cy)又はハロゲン化された炭化水素(C+〜C7)である。(つ ぎの請求核置換反応のとき請求核反応体を溶解し、持ち込むため、ならびに核置 換反応のために溶媒和を安定にするためには、低沸点のアルコール(ci〜C4 )のようなより極性の補助溶媒を加えることが望ましい場合が多い。ベンゼン、 トルエン及びクロロベンゼンのような芳香族の溶媒は一般的にベースポリマーの 全組成範囲に対し良い溶媒であり、多くの核置換反応に有利な反応媒体であるが 、他の問題をもたらすことが多い(すなわち、ラジカルハロゲン化時のベンゼン の毒性或いはトルエンの高い反応性のために、逐次反応経路のこの第一段階にお ける反応媒体としてはこれらは適さなくなる)。好ましい溶媒組成はベースポリ マーの組成が変わると変化する、そして、反応を溶液中で、又は分散体中で行い たいかにより異なる。一般的に述べると、パラ−メチルスチレンをより多く含み 、より強靭な、Tgのより高い本発明のベースポリマーの場合、ある程度の芳香 族性又はハロゲンを含む溶解度パラメータのより高い溶媒が溶液反応に対し要求 される。Particularly suitable solvents for this sequential reaction route will depend in part on the composition of the base polymer. However, in the case of rubber-elastic base polymers containing a large amount of isobutylene, low boiling point saturated carbonization Hydrogen (C4-Cy) or halogenated hydrocarbon (C+-C7). (Tsu In order to dissolve and bring in the desired nuclear reactant during the desired nuclear substitution reaction, and to carry out the nuclear placement reaction. In order to stabilize the solvation for the conversion reaction, low-boiling alcohols (ci-C4 ) is often desirable. benzene, Aromatic solvents such as toluene and chlorobenzene are commonly It is a good solvent for a whole range of compositions and is a favorable reaction medium for many nuclear substitution reactions. , which often leads to other problems (i.e. benzene during radical halogenation) Due to the toxicity of toluene or the high reactivity of toluene, this first step of the sequential reaction pathway is (This makes them unsuitable as reaction media for The preferred solvent composition is changes when the composition of the mer changes, and the reaction is carried out in solution or in a dispersion. It depends on how big it is. Generally speaking, it contains more para-methylstyrene. , for the tougher, higher Tg base polymers of the present invention, some degree of aroma Solvents with higher solubility parameters containing polyhydric or halogens are required for solution reactions. be done.

求核置換反応を別途に考慮する場合も、同様な注意が必要である。この反応を溶 液中で行うためには、ベースポリマー(その組成により異なるが)に対する良い 溶媒が必要であり、そして請求核反応体に対する補助溶媒も望ましいか又は必要 である。ベースポリマーに対し良い溶媒は、逐次反応に適切であるとして記載し た溶媒と同様であるが、ラジカルハロゲン化時の不活性さは要求されないからよ り広い範囲の溶媒を考慮してよい。低沸点の飽和炭化水素(C4〜C7)又はハ ロゲン化炭化水素(CI−C7)及び芳香族炭化水素又はナフテンが好ましい。Similar precautions are required when considering nucleophilic substitution reactions separately. This reaction For working in liquid, a good solution for the base polymer (depending on its composition) A solvent is required and a co-solvent for the claimed nuclear reactant is also desirable or necessary. It is. A good solvent for the base polymer is listed as suitable for sequential reactions. Although it is similar to the solvent used for radical halogenation, it is better because inertness during radical halogenation is not required. A wide range of solvents may be considered. Low boiling point saturated hydrocarbons (C4-C7) or ha Preference is given to logenated hydrocarbons (CI-C7) and aromatic hydrocarbons or naphthenes.

溶媒の極性を強くしたい場合、テトラヒドロフランを使用してよい、又はジメチ ルフォルムアミド又はジメチルスルフィドのような良好な溶媒和剤を用いてもよ い。後者の溶媒はまた、多くの核反応体に対し良い溶媒であり請求核反応体を溶 解してベースポリマーの溶液に加えるため、アルコール又はケトンと共に用いて よい。If you want to make the solvent more polar, you can use tetrahydrofuran or dimethyl Good solvating agents such as diformamide or dimethyl sulfide may also be used. stomach. The latter solvent is also a good solvent for many nuclear reactants and can dissolve the claimed nuclear reactant. used with alcohols or ketones to dissolve and add to the base polymer solution. good.

求核反応体の溶液(ベースポリマーに用いた溶媒と混和性のある溶媒)を急速に 攪拌しながらベースポリマー溶液に加えるこの方法は、しばしば請求核反応体の 微細な分散体を生じ、その結果、求核反応体が、添加後に生成する混合溶媒中で 完全に溶解しない場合でも、なお、本質的な溶液の核置換反応が起こり得る。な ぜならば、求核反応体は、反応の進行とともに、溶液濃度を補充するため反応中 に溶解するからである。A solution of the nucleophilic reactant (in a solvent that is miscible with that used for the base polymer) is rapidly This method of adding to the base polymer solution with stirring often A fine dispersion is produced, so that the nucleophilic reactant is dissolved in the mixed solvent formed after addition. Even if complete dissolution is not achieved, substantial solution nuclear displacement reactions may still occur. Na Therefore, the nucleophilic reactant is added during the reaction to replenish the solution concentration as the reaction progresses. This is because it dissolves in

より極端な場合、すなわち請求核反応体がベースポリマーの溶媒と混和性のある 補助溶媒に溶解しない場合、又は混合溶媒(ベースポリマーを溶液状態に保持す る)中の核反応体の溶解度が低すぎる場合、このとき、二相反応が行われ、ベー スポリマーは一つの相に溶解しており請求核反応体は別の相に存在する。このよ うな場合、反応体間の境界面接触を十分に与えるため良好な攪拌が不可欠であり 、そして、ベースポリマー上のベンジルハロゲン親電子部位に核反応体を運ぶの を援助するため、相移動触媒が一般的に望ましい。例は、シアン化カリウム、亜 硫酸ナトリウム、又はニトリロ三酢酸のような極性の高い水溶性求核反応体であ る。これらの二相反応において有用な、相移動触媒の例は、次を含む(しかし、 これに限らない):テトラブチルアンモニウムプロミド、テトラブチルアンモニ ウムビスルフェート、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエ チルアンモニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムプロミド、クラウンエー テル、シブタンド(c7pluds) 、アドゲン(Adieu) 464、な ど。これらと同じ種類の物質が、反応部位に特定の溶媒和を与えることにより、 −相の溶液反応において速度を上昇させるため有益であることがある。In a more extreme case, i.e. when the claimed nuclear reactant is miscible with the solvent of the base polymer If the co-solvent does not dissolve or the mixed solvent (which keeps the base polymer in solution) If the solubility of the nuclear reactants in the The sppolymer is dissolved in one phase and the claimed nuclear reactant is present in another phase. This way In such cases, good agitation is essential to provide sufficient interfacial contact between the reactants. , and transport the nuclear reactant to the benzylhalogen electrophile site on the base polymer. Phase transfer catalysts are generally desirable. Examples are potassium cyanide, highly polar water-soluble nucleophilic reactants such as sodium sulfate or nitrilotriacetic acid. Ru. Examples of phase transfer catalysts useful in these two-phase reactions include (but are not limited to) (but not limited to): Tetrabutylammonium bromide, Tetrabutylammonium umbisulfate, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrier tylammonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, crown a Tel, Sibutand (c7pluds), Adieu 464, etc. degree. These same types of substances, by providing a specific solvation of the reaction site, It may be beneficial to increase the rate in -phase solution reactions.

最も都合の良い反応条件は、凝集反応を行うことであり、その時、求核反応体は ベースポリマー中に溶解するか分散する。高い固体含有率における作業は、溶媒 の取扱い及び再循環のコストを消滅させる。しかし、凝集反応は、押出し機のよ うな高価な、効率の悪い反応機の使用を必要とする。押出し機は非常に高粘度の 系において混合が可能であるが、反応媒体を制限し、そのため極限られた核置換 反応のみが可能であり、そして、これらの反応であっても、反応中は制限された 条件及び不十分な混合状態が生じがちであるから、副反応がより含まれ易い。The most favorable reaction conditions are to carry out an aggregation reaction, when the nucleophilic reactants are Dissolve or disperse in the base polymer. Working at high solids content requires solvent eliminates the costs of handling and recycling. However, the flocculation reaction requires the use of expensive and inefficient reactors. The extruder has a very high viscosity Although mixing is possible in the system, it limits the reaction medium and therefore only limited nuclear substitution. Only reactions are possible, and even these reactions are limited during the reaction. Side reactions are more likely to occur because conditions and insufficient mixing conditions are more likely to occur.

本発明のペンダント官能化ポリマーの製造において、すでに説明した一般的な反 応の考察に加え請求核置換反応に影響すると知られている(当業者に)要素が、 本発明に実質的に影響することなく適用される。このように、反応の経路及び活 性化エネルギーは特定の溶媒和又は触媒により制御でき、そして、望ましくない 反応は遮蔽、などにより防止できる。In the preparation of the pendant functionalized polymers of the present invention, the general reaction described above In addition to specific considerations, factors known (to those skilled in the art) to influence the claimed nuclear substitution reaction include: It applies without materially affecting the invention. In this way, the reaction route and activity The sexualization energy can be controlled by specific solvation or catalysts and can be Reactions can be prevented by shielding, etc.

実施例 これらの実施例は臭化ベンジルコポリマーの幾つかの誘導体の特定の製造とそれ らのリソグラフィー(Iilh−ogr!pbr) 、腐食防止、及びその他の コーティングの用途における使用を説明する。Example These examples illustrate the specific preparation of several derivatives of benzyl bromide copolymers and their lithography (Iilh-ogr! pbr), corrosion protection, and other Describe its use in coating applications.

ゲルは、接着剤中のゴムの不溶性残渣を意味し、還流トルエン中約72時間可溶 性のポリマーを溶媒で徹底的に抽出し、その後残っている残渣を乾燥し、秤量す ることによって測定される。Gel refers to the insoluble residue of the rubber in the adhesive, soluble in refluxing toluene for approximately 72 hours. Thoroughly extract the reactive polymer with a solvent, then dry the remaining residue and weigh. It is measured by

コーティングは、ポリマー又は配合物をトルエン中に溶解し、マイラー(MYL AR)又は剥離紙上にナイフコーティングすることによって調製された。その後 、コーティングを乾燥し、照射した。コーティングの厚さは典型的には1.sミ ル(3,81/1000c+a) テあった。UVI射は、アメリカン・ウルト ラバイオレット・ミニーコンベヤライズド・硬化装置(AierictlσII tsr+olel Mfn+−ConyBorired Coring 57s jeil上で行った。UV照射量は、EITによって製造されたUVA硬化放射 計を使用して測定した。EB架橋は、エナージー・サイエンス・CB−150・ エレクトロカーテン・電子ビーム加速機DnerB 5cience CB−1 50EIectroci+f1ii !lactamBeIIAccelera tor)上で行った。The coating is made by dissolving the polymer or formulation in toluene and using Mylar (MYL). AR) or by knife coating on release paper. after that , the coating was dried and irradiated. The coating thickness is typically 1. sumi Le (3,81/1000c+a) There was. UVI shooting is American ultimate Laviolette Minnie Conveyorized Curing Equipment (AierictlσII tsr+olel Mfn+-ConyBorired Coring 57s It was done on Jeil. UV irradiation dose is UVA curing radiation produced by EIT Measured using a meter. EB crosslinking is carried out by Energy Science CB-150. Electro curtain/electron beam accelerator DnerB 5science CB-1 50EIectroci+f1ii! lactamBeII Accelera tor).

サンプルのイソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ−ブロモメチルスチレン ベースターポリマーを以下のようにして調製した。Sample of isobutylene/para-methylstyrene/para-bromomethylstyrene The base terpolymer was prepared as follows.

温度計、攪拌機、及び滴下ロートを備えた500 ifの反応フラスコを酸素及 び水分を含まない窒素雰囲気下のグローブボックス中に据え付けて、制御された 温度の液体窒素で冷却された熱伝達洛中に浸漬することによってフラスコを一9 8℃まで冷却した。この反応器に、381i、6gの精製乾燥塩化メチル(純度 :99.8%) 、47.4gの精製乾燥蒸留重合縁イソブチレン(純度:99 .9%)、及び2.6gの精製乾燥真空蒸留パラ−メチルスチレン(全モノマー の2.5モル%)を投入した。塩化メチル中0.19重量%のエチルアルミニウ ムジクロリド(EADC)から成る触媒溶液の17 mlを、攪拌しながらそし て反応器を熱伝達浴中に浸漬することによって温度を保つようにしながら、12 分間にわたって滴下ロートから供給物ブレンドにゆっくりと滴下した。冷却しよ うとしたにもかかわらず、発熱的重合反応のために、反応器の温度は一98℃か ら一80℃まで上昇し、やや黄褐色の液体中のポリマーのスラリーが形成した。A 500-if reaction flask equipped with a thermometer, stirrer, and addition funnel was heated to installed in a glove box under a moisture-free nitrogen atmosphere to provide a controlled Incubate the flask by immersing it in a heat transfer chamber cooled with liquid nitrogen at a temperature of 19 Cooled to 8°C. To this reactor was added 381i, 6 g of purified dry methyl chloride (purity :99.8%), 47.4g of purified dry distilled polymerized isobutylene (purity: 99%) .. 9%), and 2.6 g purified dry vacuum distilled para-methylstyrene (all monomers 2.5 mol%) was added. 0.19% by weight of ethyl aluminum in methyl chloride 17 ml of a catalyst solution consisting of chloride (EADC) was then added with stirring. 12 hours while maintaining the temperature by immersing the reactor in a heat transfer bath. Slowly drip into the feed blend from the addition funnel over a period of minutes. Let's cool down However, due to the exothermic polymerization reaction, the reactor temperature remained at 198°C. The temperature rose to -80°C, forming a slurry of polymer in a slightly tan liquid.

ポリマーの幾らかは攪拌機及び反応器の壁土に凝集した。251の冷メタノール を添加することによって反応器を急冷し、透明な無色の液体中の白色ポリマーの 凝集した塊を得た。塩化メチルを蒸発分離し、メタノール中でポリマーを混練り し洗浄することによってポリマーを回収した。0.2重量%のブチル化ヒドロキ シトルエン(BHT)を酸化防止剤として添加して、ポリマーを80℃の真空オ ーブン中で乾燥した。SOgの乾燥した白色不透明で強靭でゴム状のポリマーを 回収した。転化率はポリマーの定量的回収に関して100%だった。触媒効率は EADCの1g当たり約1550gのポリマーであった。回収されたポリマーは 、458,000の粘度平均分子量(Mv)を有しており、5.2重量%(2, 5モル%)のパラ−メチルスチレンを含んでいた。紫外線(UV)及び屈折率( R1)検出器を使用するゲルパーミェーションクロマトグラフィー(G P C )分析は、全分子量範囲にわたってパラ−メチルスチレンが均一に分布している ことを示したが、このことは組成的に均質なコポリマーが形成されたことを示し ている。Some of the polymer aggregated on the stirrer and reactor walls. 251 cold methanol of the white polymer in a clear colorless liquid by quenching the reactor by adding A cohesive mass was obtained. Evaporate the methyl chloride and knead the polymer in methanol. The polymer was recovered by washing. 0.2% by weight of butylated hydroxy Citoluene (BHT) was added as an antioxidant and the polymer was heated in a vacuum oven at 80°C. Dry in oven. The dry white opaque, tough and rubbery polymer of SOg Recovered. Conversion was 100% with quantitative recovery of polymer. The catalyst efficiency is There was approximately 1550 g of polymer per gram of EADC. The recovered polymer is , has a viscosity average molecular weight (Mv) of 458,000, and has a viscosity average molecular weight (Mv) of 5.2% by weight (2, 5 mol %) of para-methylstyrene. Ultraviolet (UV) and refractive index ( R1) Gel permeation chromatography (GPC) using a detector ) analysis shows that para-methylstyrene is uniformly distributed over the entire molecular weight range. This indicates that a compositionally homogeneous copolymer was formed. ing.

GPCは、ライン上にウォーターズ・ラムグーマックス(Isle’s Lxm bdt−Msx)481 LC型UV分光光度計を備えたウォーターズ150− CALC/GPC[ミリポア・コーポレーション(Millipote Co+ porNioi)コを使用して行った。GPC uses Water's Lamgo Max (Isle's Lxm) on the line. bdt-Msx) 481 Waters 150- with LC type UV spectrophotometer CALC/GPC [Millipote Co+ porNioi) was used.

ベックマン−インク(Beckisi Inc、)の1部門であるコンピュータ ー・インクワイアリ−・システムズ(ComputorlBair75Ysle 旧)によって開発された特注ソフトを使用してデータの収集と分析を行った。テ トラヒドロフランを移動相として種々の流速(しかし、一般に 1.Oa+I/ 分)で使用した。装置をUVに対して約254 niの波長で30℃で運転した 。ポリイソブチン主鎖は、この波長における芳香族環と比較して、少ない吸収を 有する。使用したカラムは、αスチラゲル(SIHBel)ウォーターズ(Wr tus)又はシャデックス(Sksdex) (昭和電工)であった。広い多孔 性範囲のカラムのセットを103から4XIO’の分子量を有する狭い分子量分 布のポリスチレン基準サンプルを使用して較正した。汎用キャリブレーション( wniygtstl ctlib+s目on)を使用して、ポリイソブチレン主 鎖について分子量を報告した。UVと示差屈折計の検出器からの出力を定量的に 比較して平均からの組成の偏差を計算することができる。一般に、粘度平均分子 量は20℃におけるジイソブテン中での分離測定に基づく。Computer, a division of Beckisi Inc. - Inquiry Systems (ComputerlBair75Ysle) Data collection and analysis were performed using custom software developed by (formerly). Te Various flow rates using trahydrofuran as the mobile phase (but generally 1.Oa+I/ minutes) was used. The apparatus was operated at 30°C at a wavelength of approximately 254 ni for UV. . The polyisobutyne backbone exhibits less absorption compared to aromatic rings at this wavelength. have The column used was α Stiragel (SIHBel) Waters (Wr tus) or Sksdex (Showa Denko). wide pores A set of columns with a narrow molecular weight range from 103 to 4XIO' Calibration was performed using a polystyrene reference sample of fabric. General purpose calibration ( Using wniygtstl ctlib + sth on), polyisobutylene main Molecular weights were reported for the chains. Quantitative output from UV and differential refractometer detectors By comparison, the deviation of the composition from the average can be calculated. In general, the viscosity average molecule Amounts are based on separation measurements in diisobutene at 20°C.

上述のようにして調製されたパラメチルスチレンとイソブチンの高分子量ランダ ム均一コポリマーを、2リツトルの攪拌羽とジャケット付きの樹脂製フラスコ中 の乾燥ノルマルヘキサンに溶解したが、このフラスコは4つ首フラスコトップで 臭素化用に組み立てられていた。空気駆動タービン混合機を使用して十分な混合 を与え、温度計と熱伝対を使用して温度を測定し制御したが、後述するように、 温度は制御された温度の熱伝達流体をジャケットを通して循環させることによっ て調節した。フラスコの首の1つは臭素溶液を含む滴下ロートを取り付けるため に使用し、臭素溶液を反応器に滴下した。ロートと反応器をホイルで包んで光が 入らないようにした。High molecular weight lander of paramethylstyrene and isobutyne prepared as described above. The homogeneous copolymer was placed in a 2 liter resin flask equipped with a stirring blade and jacket. was dissolved in dry n-hexane, but this flask had a four-necked flask top. It was assembled for bromination. Thorough mixing using air-driven turbine mixer , and measured and controlled the temperature using a thermometer and thermocouple, but as explained later, Temperature is controlled by circulating a controlled temperature heat transfer fluid through the jacket. I adjusted it. One of the necks of the flask is used to attach the dropping funnel containing the bromine solution. The bromine solution was added dropwise to the reactor. Wrap the funnel and reactor in foil and let the light shine. I tried not to enter.

端に焼結されたガラスのフリットを有する窒素噴出器(nitrates ba bblCr)を首の1に取り付け、フリットを反応器中の溶液に浸漬して窒素を 散布したが、その速度はロトメーターを使用して設定し調節した。4つめの首を プラスチックチューブによって突出トラップ(k m e c k −0: i  ! + It F r +−”a−7,77,に接続して、反応中に数インチ の水の正圧を維持し、反応中に生じる全てのHBrおよび臭素蒸気を吸収し中和 した。Nitrogen injector with sintered glass frit at the end bblCr) on neck 1 and immerse the frit in the solution in the reactor to flush out nitrogen. The rate was set and regulated using a rotometer. the fourth neck A protruding trap (k m e c k -0: i ! + It F r +-” Connect to a-7, 77, several inches during the reaction. Maintain a positive pressure of water to absorb and neutralize all HBr and bromine vapors generated during the reaction. did.

臭素溶液は、秤量した臭素を滴下ロート中の純粋なモレキュラーシーブで乾燥し たn−へキサン(本質的にオレフィンを含まないもの)に添加し、混合して30 %未満の溶液を形成することによって調製した。(光を防ぐために)ホイルで包 んだ臭素の滴下ロートを攪拌され温度制御され窒素パージされた反応器に取り付 け、500ワツトのタングステンライトを反応器の直ぐ側に取り付けた。The bromine solution is prepared by drying a weighed amount of bromine over pure molecular sieves in a dropping funnel. n-hexane (essentially olefin-free) and mixed for 30 minutes. Prepared by forming a solution of less than %. wrapped in foil (to prevent light) The bromine addition funnel was attached to a stirred, temperature-controlled, nitrogen-purged reactor. A 500 watt tungsten light was installed immediately adjacent to the reactor.

反応器を40℃まで加熱し、臭素溶液を滴下した。臭素の投入量はコポリマーの 5重量%であった。臭素を添加すると反応が急速に起こったが、これは急速なH Brの発生と溶液の色の急速な消滅によって示された。臭素を2分間にわたって 添加し、臭素の添加を開始してから10分後に過剰の苛性アルカリによって反応 を止めた。反応を止めた溶液をその捩水で洗浄し、上述したように、アルコール 析出と真空オーブン乾燥によって臭素化コポリマーを回収した。乾燥の前に、B HTとテトラメチルチウラムジスルフィドを安定化剤として0.1重量%の濃度 でコポリマーに混入した。回収した臭素化コポリマーはジイソブチレンに可溶で あり、254.000のMVを有し、ディータート分析(D i e t c目 utly+is)で測定して1.26重量%の臭素を有していた。4001H! のNMRを使用した分析によって0.9モル%の臭化ベンジル基の存在すること が示され、その他の臭素化構造は検出できなか一ノた。The reactor was heated to 40°C and the bromine solution was added dropwise. The amount of bromine input is It was 5% by weight. The reaction occurred rapidly when bromine was added, but this was due to the rapid H This was indicated by the evolution of Br and the rapid disappearance of the color of the solution. Bromine for 2 minutes 10 minutes after starting the addition of bromine, react with excess caustic alkali. stopped. The quenched solution was washed with water and washed with alcohol as described above. The brominated copolymer was recovered by precipitation and vacuum oven drying. Before drying, B HT and tetramethylthiuram disulfide as stabilizers at a concentration of 0.1% by weight. mixed into the copolymer. The recovered brominated copolymer is soluble in diisobutylene. Yes, it has an MV of 254.000, and Dietert analysis (D It had 1.26% by weight of bromine as determined by utly+is). 4001H! The presence of 0.9 mol% benzyl bromide groups by analysis using NMR of was shown, and no other brominated structures could be detected.

UVとRIの検出器を使用するGPC分析は臭素化コポリマーが均一で、均質な 組成分布を有する狭い分子量分布(M w / M n =約2)の官能性コポ リマーであること第4アンモニウム塩基を含むペンダント官能化イソブチレン/ パラメチルスチレンコポリマーの調製実施例2A この例においては、ランダムイソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ−ブロ モメチルスチレンベースターポリマーの強靭なイオン架橋第4アンモニウム塩誘 導体を調製した。ベースターポリマーを実施例1の方法に従って調製した。2. 4モル%のバラ−メチルスチレンを含み、30のムーニー粘度(ML(H8)1 0℃)を有するランダムイソブチレン/バラ−メチルスチレンコポリマーを、市 販の1800ガロン(6813,7リツトル)ブチル重合反応器中で重合し、そ の後、I(laガロン(37154リツトル)ガラス内張フォードラ−(Pfs adler) B r反応器中のへキサン溶液中でV A Z O52M始剤を 使用してラジカル臭素化を行い、2.6重量%の臭素を含み29のムーニー粘度 を有するベースターポリマーを得た。このベースターポリマーの組成は、■、4 モル%のバラ−ブロモメチルスチレン(0,1モル%の二臭素化バラ−メチルス チレンを含む)、11.9モル%の非臭素化バラ−メチルスチレン、及び97. 7モル%のイソブチレンであった(61%のバラ−メチルスチレン[マー(me r)J単位という比較的高い臭素化水準のために、少量の二臭素化とわずかな分 子量損失が存在した)。この核置換反応において、450gのベースターポリマ ーを5リツトルの樹脂製フラスコrpノ2800gのトルエン中に溶解して13  g51i量%のポリマー溶液を調製したが、このフラスコはわずかな窒素パー ジ下にあり、還流凝縮器を経由してスクラバーと噴出器(tal+bler)に 接続されていた。その後、700 gのイソプロパツールに溶解した47.2g のトリエチルアミンを攪拌しながらゆっくりと添加し、8G/20のトルエン/ イソプロパツール溶媒ブレンド中の11.4重量%のベースターポリマーの溶液 を得たが、ベンジル臭素1モル当たり3モルのトリエタノールアミンのモル比率 であった。GPC analysis using UV and RI detectors shows that the brominated copolymer is uniform and homogeneous. Functional copolymer with narrow molecular weight distribution (Mw/Mn=about 2) with composition distribution Pendant functionalized isobutylene containing a quaternary ammonium base being a remer/ Preparation of paramethylstyrene copolymer Example 2A In this example, random isobutylene/para-methylstyrene/para-bromo Tough ionic cross-linked quaternary ammonium salt derivative of momethylstyrene-based terpolymer A conductor was prepared. A base terpolymer was prepared according to the method of Example 1. 2. Contains 4 mol% rose-methylstyrene and has a Mooney viscosity of 30 (ML(H8)1 A random isobutylene/rose-methylstyrene copolymer with Polymerization was carried out in a commercially available 1800 gallon (6813,7 liter) butyl polymerization reactor; After that, I (la gallon (37154 liters) glass-lined Fordler (Pfs) adler) B r reactor with V A Z O52M initiator in hexane solution. Radical bromination was carried out using A base terpolymer having the following was obtained. The composition of this base terpolymer is mol% rose-bromomethylstyrene (0.1 mol% dibrominated rose-bromomethylstyrene) styrene), 11.9 mole % non-brominated rose-methylstyrene, and 97. 7 mol% isobutylene (61% rose-methylstyrene [me r) Due to the relatively high bromination level of J units, a small amount of dibromination and a small fraction molecular weight loss was present). In this nuclear substitution reaction, 450 g of base terpolymer 13 by dissolving it in 2800 g of toluene in a 5 liter resin flask A polymer solution of g51i mass % was prepared, but this flask was It is located under the reflux condenser and goes to the scrubber and blower (tal+bler). It was connected. Then, 47.2 g dissolved in 700 g of isopropanol of triethylamine was slowly added with stirring, and 8G/20 of toluene/ Solution of 11.4% by weight base terpolymer in isopropanol solvent blend was obtained, with a molar ratio of 3 moles of triethanolamine per mole of benzylbromine. Met.

溶液をその後攪拌しながられずかな窒素パージ下約85〜86℃の還流温度まで 加熱した。溶液を6時間攪拌し還流し、その後窒素雰囲気中で冷却した。サンプ ルのアリコートについての試みは、水又は水/アルコール(70/30)混合物 とともに振盪すると溶液が乳化し、従って、洗浄できないことを示した。エマル ジョンのpHは8だった。酸性化したときも、さらにNaOH溶液でpHを10 〜11まで上げたときでさえも、エマルジョンは安定なままであり、溶液は依然 として十分に分離しなかった。The solution is then stirred under a slight nitrogen purge to a reflux temperature of about 85-86°C. Heated. The solution was stirred and refluxed for 6 hours, then cooled under nitrogen atmosphere. sump Attempts were made on aliquots of water or water/alcohol (70/30) mixture. When shaken with water, the solution emulsified and therefore could not be washed. emal John's pH was 8. When acidified, further adjust the pH to 10 with NaOH solution. Even when raised to ~11, the emulsion remains stable and the solution is still It wasn't separated enough.

従って、この官能化ポリマーはイソプロパツール中での析出と混練りによって回 収され、トルエン/イソプロパツールブレンド中に再溶解し、イソプロパツール 中で析出させることによって未反応のトリエチルアミンからさらに分離した。0 .2重量%のBHTを酸化防止剤として混合した後、精製官能化ポリマーを70 .5℃で真空オーブン乾燥した。回収し乾燥したポリマーはスポンジ様で、僅か に黄色がかっている極めて強靭なイオン架橋エラストマーであった。ベンジル臭 素の核置換によってベースターポリマーに結合したペンダントのカチオン性第4 アンモニウム塩基は自己会合して強靭イオン架橋エラストマーを生じた。これは 炭化水素又はアルコール中には不溶性であったが、溶媒和作用によってイオン架 橋を切断する90/loのトルエン/イソプロパツール混合溶媒中には容易に溶 解した請求核置換反応を以下に示す。Therefore, this functionalized polymer can be recycled by precipitation and kneading in isopropanol. isopropanol and redissolved in a toluene/isopropanol blend. It was further separated from unreacted triethylamine by precipitation in a medium. 0 .. After mixing 2% by weight of BHT as an antioxidant, the purified functionalized polymer was .. It was dried in a vacuum oven at 5°C. The recovered and dried polymer is sponge-like and has a slight It was an extremely tough ionic crosslinked elastomer with a yellowish color. benzyl odor A pendant cationic quaternary compound attached to the base terpolymer by elementary nuclear substitution. The ammonium base self-associated to produce a tough ionically crosslinked elastomer. this is Although insoluble in hydrocarbons or alcohols, ion crosslinking occurs through solvation. Easily soluble in a 90/lo toluene/isopropanol mixed solvent that cuts bridges. The interpreted nuclear substitution reaction is shown below.

以下にまとめた分析は、ベンジル臭素の本質的に完全な置換が起こってペンダン ト第4アンモニウム塩官能化ポリマーが生じたことを示した。The analysis summarized below shows that essentially complete substitution of the benzyl bromine has occurred and the pendant It was shown that a quaternary ammonium salt functionalized polymer was produced.

M v 270.000 27G、 000Br重量% 2.6 2.2 N重量% 0,34 MR ベンジルBrモル% 1.4− 第4 モル% 1.4 パラメチルスチレンモル% 0.9 0.9プロトンNMR分光器(spccl rogrsph)は臭素に隣接するベンジル水素による4 47 ppmでの共 鳴の消失と2つの新たな共鳴の出現を示したが、1つは第4窒素に隣接するベン ジル水素による4、lppmでのものであり、もう1つは第4窒素に隣接するメ チレン水素による3、5ppmでのものであった。バラ−メチルスチレン「マー 」単位に繋がれたバラメチル水素による2、3ppmでの共鳴は核置換反応によ っては変化しなかった。Mv 270.000 27G, 000Br weight% 2.6 2.2 N weight% 0.34 M.R. Benzyl Br mol% 1.4- 4th mol% 1.4 Paramethylstyrene mol% 0.9 0.9 Proton NMR spectrometer (spccl rogrsph) is co-coupled with benzylic hydrogen adjacent to bromine at 447 ppm. The resonance disappeared and two new resonances appeared, one of which was due to the bend adjacent to the quaternary nitrogen. one at 4,1 ppm due to dihydrogen, and the other at 4,1 ppm due to nitrogen It was at 3.5 ppm with tyrene hydrogen. rose-methylstyrene The resonance at 2 to 3 ppm due to the disparate methyl hydrogen connected to the ``unit'' is due to a nuclear substitution reaction. There was no change.

結合された「マー」単位のプロトンNMR共鳴CHz−C)lx この実施例の乾燥したペンダント官能化ポリマーの一部を90/ 10のトルエ ン/イソプロパツール混合溶媒中に溶解して15重量%溶液を得た。この溶液を ガラス板上にキャストし、溶媒を蒸発させて強靭なゴム状フィルムを付着させた 。70℃の真空オーブン中で乾燥を完了させた@ガラスに対して優れた接着性を 有する極めて強靭なイオン架橋フィルムをこのようにして付着させた。このフィ ルムは混合炭化水素/アルコール溶媒ブレンドで再び溶解できた。同様にして、 浸漬によって溶液を支持体に含浸させ、その後溶媒ブレンドを蒸発させることに よって、強靭なイオン架橋エラストマーを種々の多孔買支持体(即ち、粗い織布 )上に付着させて、強靭なイオン架橋エラストマーで被覆された防水布を製造し た。この防水布は、使用されたとき水滴に耐え、流し去り、耐水性であった。こ のエラストマーは、第4アンモニウム塩の特徴である高い殺菌特性を有すること も期待された。この第4アンモニウム塩官能化ポリマーは、高い強度、靭性、耐 水性、殺菌特性、環境抵抗性、及び良好な老化特性が有利である多くの水に基づ く接着剤及び結合剤のの用途においても有用であろう。これは、耐水性、環境抵 抗性、良好な接着性、及びカチオン性アイオノマーの腐食防止特性が望ましい金 属上への腐食防止コーティングとしても良好に機能するであろう。(抽出性、毒 性、コスト、その他の付随する問題をともなう)加硫剤を添加する必要なく、或 いは加熱加硫工程を施すことなく、イオン性自己会合によって自己架橋する能力 は、このカチオン性官能化ポリマーの非常に望ましい特性である。Proton NMR resonance of the bound “mer” unit CHz-C)lx A portion of the dried pendant functionalized polymer of this example was dissolved in 90/10 toluene. A 15% by weight solution was obtained by dissolving in a mixed solvent of chlorine/isopropanol. This solution It was cast onto a glass plate and the solvent was evaporated to form a tough rubbery film. . Excellent adhesion to glass after drying in a vacuum oven at 70°C An extremely tough ionically crosslinked film was deposited in this way. This fi The lume could be redissolved with a mixed hydrocarbon/alcohol solvent blend. Similarly, Impregnation of the solution into the support by immersion followed by evaporation of the solvent blend Therefore, tough ionically crosslinked elastomers can be used in a variety of porous substrates (i.e., coarse woven fabrics). ) to produce a waterproof fabric coated with a tough ionic crosslinked elastomer. Ta. This waterproof fabric withstood water droplets, shed water, and was water resistant when used. child The elastomer has the high bactericidal properties characteristic of quaternary ammonium salts. was also expected. This quaternary ammonium salt functionalized polymer has high strength, toughness, and Many water-based It may also be useful in adhesive and bonding applications. It is water resistant, environmentally resistant Gold resistance, good adhesion, and corrosion protection properties of cationic ionomers are desirable. It would also work well as a corrosion-inhibiting coating on metal. (extractability, poison without the need for the addition of vulcanizing agents (with associated problems of performance, cost, and other Ability to self-crosslink through ionic self-association without heat vulcanization is a highly desirable property of this cationically functionalized polymer.

実施例2B この例においては、カチオン性第4アンモニウム塩基を含むペンダント官能化さ れた主にイソブチレンに基づくコポリマーを調製し、乳化剤を含まない安定なラ テックスに転化した。45.000のMvを有し、2モル%のバラ−クロロメチ ルスチレン「マー」単位を含むイソブチレンベースポリマーを70/30のトル エン/イソプロパツール溶媒ブレンドに溶解し、2ガロン(7,57082リツ トル)の容器中で1晩振盪することによって35重量%溶液を形成した。この溶 液を、(ベンジル塩素の量に基づいて)化学量論量の1.4倍のトリエチルアミ ンとともに5リツトルの「エル(elf)J樹脂製フラスコに投入したが、この フラスコは実施例2人に記載したように組み立てられていた。溶液を攪拌しなが ら4時間82℃に加熱して核置換反応を完了させた。分析用のペンダント官能化 コポリマーのサンプルの回収の概略は実施例2人に記載されている。回収工程は 、イソプロパツール中での析出と混練り、トルエン/イソプロパツール中への再 溶解、及びイソプロパツール中での再析出を含み、その後、酸化防止剤としての 0.2重量%のBHTと混合して70℃で真空オーブン乾燥する。精製し乾燥し たペンダント官能化コポリマーは、極めて強靭な白色の小片であり、トルエンに は不溶性であるが、90/1Gのトルエン/イソプロパツール溶媒ブレンドには 容易に溶解することによって示されるようにイオン架橋していた。分析は、ベン ジル塩素から第4アンモニウム塩基への完全な転化が起こったことを示した。回 収されたコポリマーは0.48重量%の窒素を含んでおり、NMR分析は2モル %の塩化ベンジルトリエチルアンモニウム塩基の存在を示した。Example 2B In this example, a pendant functionalization containing a cationic quaternary ammonium base is used. A stable emulsifier-free emulsifier-free emulsifier-free emulsifier-free emulsifier-based copolymer was prepared based primarily on isobutylene. Transformed into Tex. with a Mv of 45.000 and 2 mol% of para-chloromethane An isobutylene-based polymer containing Rustyrene “mer” units was prepared at 70/30 Torr. 2 gallons (7,57082 liters) A 35% by weight solution was formed by shaking overnight in a 100ml container. This melt The solution was diluted with 1.4 times the stoichiometric amount of triethylamine (based on the amount of benzyl chlorine). I put it in a 5 liter "ELF J" resin flask along with the bottle, but this The flask was assembled as described in Example 2. Do not stir the solution. The mixture was then heated to 82° C. for 4 hours to complete the nuclear substitution reaction. Pendant functionalization for analysis A summary of copolymer sample recovery is described in Example 2. The collection process is , precipitation and kneading in isopropanol, reconstitution in toluene/isopropanol including dissolution and redeposition in isopropanol and subsequent use as an antioxidant. It is mixed with 0.2% by weight of BHT and dried in a vacuum oven at 70°C. purified and dried The pendant-functionalized copolymer is an extremely tough white flake that reacts well with toluene. is insoluble, but in a 90/1G toluene/isopropanol solvent blend. It was ionically crosslinked as indicated by easy dissolution. Analysis Ben It was shown that complete conversion of dichlorine to quaternary ammonium base had occurred. times The copolymer obtained contained 0.48% nitrogen by weight, and NMR analysis showed that 2 mol. % of benzyltriethylammonium chloride base.

冷却された反応流出溶液の残りは、蒸留水と40/60の水/溶液体積比率にな るように単純に混合して、安定な水中油型エマルシコンを得た。このエマルジョ ンを、初めに分散器(dispe+sst++rLその後、コロイドミルを使用 して精製して非常に安定な微細粒産生ラテックスを得た。この生ラテックスを窒 素下攪拌しながら加熱することによってストリップして溶媒と水の一部を除去し て、50%の固体を含む安定な完成ラテックスを得た。このラテックスの製造に おいて乳化剤は必要なかった。製造及びストリッピングは、乳化剤として添加さ れた石鹸を含むラテックスの製造、ストリンピング、及び濃縮において通常経験 される問題を生じることなく、簡単に達成された。The remainder of the cooled reaction effluent solution is combined with distilled water in a 40/60 water/solution volume ratio. A stable oil-in-water emulsicon was obtained by simply mixing to obtain a stable oil-in-water emulsicon. This emulsion First, use a dispersion machine (dispe+sst++rL) and then use a colloid mill. After purification, a very stable fine-grained latex was obtained. This raw latex is Remove some of the solvent and water by stripping by heating with stirring. A stable finished latex containing 50% solids was obtained. To manufacture this latex No emulsifier was required. Manufacturing and stripping are added as emulsifiers. Typical experience in manufacturing, stripping, and concentrating latex, including soaps easily achieved without any problems.

この完成ラテックスからのキャスティングは乾燥して、実施fl12Aの溶液キ ャストフィルムについて記載したような、透明な、疎水性の、強靭なイオン架橋 フィルムを形成した。この乳化剤を含まないカチオン性ラテックスは、この強靭 なイオン架橋カチオン官能化ポリマーの、浸漬製品、結合剤、不織物、コーティ ング、放射線架橋性感圧接着剤、その他を含む用途の主体(host)における 使用を可能にする。この強靭なイオン架橋カチオン官能化ポリマーはその優れた 老化及び環境抵抗性、並びにその他の特異な性質によって有利であろう。Castings from this finished latex were dried and used in the solution mold of run fl12A. Transparent, hydrophobic, strong ionic cross-linking as described for cast films A film was formed. This cationic latex, which does not contain emulsifiers, has this strong Dip products, binders, nonwovens, and coatings of ionically crosslinked, cationically functionalized polymers. In the host of applications including adhesives, radiation crosslinkable pressure sensitive adhesives, etc. enable use. This tough, ionically cross-linked, cationically functionalized polymer has excellent It may be advantageous due to aging and environmental resistance, as well as other unique properties.

実施例3 第4ホスホニウム塩基を含むペンダント官能化イソブチレン/置換バラ−メチル スチレンコポリマーの調製この例においては、カチオン性第4ホスホニウム塩基 を含むペンダント官能化された主としてイソブチレンに基づくコポリマーを調製 し、乳化剤を含まない安定なラテックスに転化した。17.000のMvを有し 、1.9モル%のバラ−クロロメチルスチレン「マー」単位を含むイソブチレン ベースポリマーを75/25のへブタン/イソプロピルアルコール溶媒ブレンド に窒素雰囲気下溶解し、5リツトルの「エル」樹脂製フラスコ中40重量%のポ リマー溶液を形成した。この反応器は、乾燥水冷低温フィンガ(dB +Cε− C65!ε、ICG!a 、1B=t) C凝縮物がフラスコに還流されるよう に組み立てられている)を通して、排出気体用のスクラバーと反応器の数インチ の水の正圧を維持するための噴出器へ連結されていた。ゆっくりとした乾燥窒素 の流れを系を通して維持して、反応体を乾燥不活性雰囲気下に保った。25℃で 攪拌しながら、乾燥窒素雰囲気を維持しつつ、(ベンジル塩素に基づいて)化学 量論量の2倍のトリエチルホスフィンを、イソプロパツール中の67重量%溶液 として、密閉された滴下ロートから滴下した。混合物をを攪拌しながら77℃の 還流温度に加熱し、窒素下攪拌しながら2時間還流させ、その後冷却した。ペン ダント官能化ポリマーのサンプルを分析用に得られた透明流出溶液から回収した 。こり回収工程は、イソプロパツール中での析出と混練り、ヘキサン/イソプロ パツール溶媒中への再溶解、及びイソプロパツール中からの再析出を含み、その 後、酸化防止剤としてのG、2重量%のBHTと混合して70℃で真空オーブン 乾燥する。非常に低い分子量にもかかわらず、回収されたポリマーは、強靭な弾 性イオン架橋ポリマーであり、軟質で粘着性で半液体の出発ベースターポリマー とは非常に異なっていた。分析は、このポリマーが0.95モル%の燐を含んで いることを示したが、このことはベンジル塩素から第4ホスホニウム塩基への約 50%の転化が起こったことを示している。Example 3 Pendant functionalized isobutylene/substituted para-methyl containing quaternary phosphonium bases Preparation of styrene copolymers In this example, the cationic quaternary phosphonium base Preparation of pendant functionalized primarily isobutylene-based copolymers containing It was converted into a stable latex containing no emulsifier. It has a Mv of 17.000 , isobutylene containing 1.9 mol% rose-chloromethylstyrene "mer" units The base polymer is a 75/25 hebutane/isopropyl alcohol solvent blend. 40% by weight of the pot in a 5 liter "L" resin flask. A reamer solution was formed. This reactor is equipped with dry water-cooled low temperature fingers (dB +Cε- C65! ε、ICG! a, 1B=t) so that the C condensate is refluxed into the flask. several inches of the scrubber and reactor for exhaust gases through the was connected to a squirt to maintain a positive pressure of water. slow dry nitrogen was maintained through the system to keep the reactants under a dry, inert atmosphere. at 25℃ Chemical (based on benzylchlorine) while stirring and maintaining a dry nitrogen atmosphere Twice the stoichiometric amount of triethylphosphine in a 67% wt solution in isopropanol It was added dropwise from a sealed dropping funnel. Heat the mixture to 77°C with stirring. It was heated to reflux temperature and refluxed for 2 hours with stirring under nitrogen, then cooled. pen A sample of Danto-functionalized polymer was collected from the resulting clear effluent solution for analysis. . The dust recovery process involves precipitation and kneading in isopropanol, hexane/isopropanol This includes re-dissolution into Patur solvent and redecipitation from isopropanol. After that, G as an antioxidant was mixed with 2% by weight of BHT and placed in a vacuum oven at 70°C. dry. Despite its very low molecular weight, the recovered polymer has strong elastic properties. a flexible, sticky, semi-liquid starting base terpolymer was very different. Analysis shows that this polymer contains 0.95 mol% phosphorus. This indicates that the transition from benzyl chlorine to the quaternary phosphonium base is approximately This indicates that 50% conversion has occurred.

求核置換反応からの冷却された溶液の残りは、蒸留水と40/60の水/溶液体 積比率になるように単純に混合して、安定な水中油型エマルジョンを得た。この エマルシコンを、実施例2Bと同様にして、精製し、その後ストリップし、濃縮 して、50重量%の固体を含む、安定で、乳化剤を含まない、微細粒度のカチオ ン性ラテックスを得た。実施例2Bと同様に、このラテックスの製造及びストリ ッピングは、問題を生じることなく容易に達成され、このラテックスからのキャ スティングは乾燥して、すでに概略を説明したような広範囲の用途において有用 な疎水性の透明で強靭なイオン架橋弾性フィルムを形成した。The remainder of the cooled solution from the nucleophilic substitution reaction is mixed with distilled water and a 40/60 water/solution solution. A stable oil-in-water emulsion was obtained by simply mixing at the same volume ratio. this Emulsicone was purified and then stripped and concentrated as in Example 2B. A stable, emulsifier-free, fine-grained cation containing 50% solids by weight. obtained latex. The production and stripping of this latex was similar to Example 2B. Capping is easily accomplished without any problems, and capping from this latex is When dried, sting is useful in a wide range of applications, such as those already outlined. A hydrophobic, transparent, and tough ionically crosslinked elastic film was formed.

このラテックスのペンダント官能化ポリマーは請求核置換反応が完全に進行しな かったので、ベンジル塩素と塩化第4ホスホニウム塩基を含む混合官能基を含ん でいた。しかしながら、1モル%の塩化第4ホスホニウム塩基の存在は安定な乳 化剤を含まないラテックスの製造を可能にするのに適しており、付着ポリマーフ ィルム中にオイてイオン架橋をもたらすのに適していた。ベンジル塩素の存在は 、多くの方法で形成される永久的な共有架橋を可能にするか、又はこの有用なペ ンダント官能化ポリマーに関して行われるその他の反応を可能にするだろう。The pendant functionalized polymer in this latex is designed to prevent the nuclear substitution reaction from proceeding completely. Because of the high It was. However, the presence of 1 mol% of quaternary phosphonium chloride base does not result in stable milk production. It is suitable for allowing the production of latex without additives and is suitable for the production of adhesive polymer films. It was suitable for forming ionic crosslinks in the film. The presence of benzyl chlorine is , allow permanent covalent crosslinks to be formed in a number of ways, or This would allow for other reactions to be performed on the dandy-functionalized polymer.

この核置換反応を以下に示す。This nuclear substitution reaction is shown below.

CH2CH2 分析は、この反応が劣化や架橋をともなうことなく行われ、この実験の条件下で 、50%のベンジル塩素から塩化第4ホスホニウム塩の基への転化が達成された ことを示した。より長い反応時間及び/又はより高い反応温度によってか、又は より好ましい反応媒体を選択することによって、より高い転化率が達成できただ ろう。CH2CH2 The analysis shows that this reaction occurs without degradation or cross-linking and under the conditions of this experiment. , 50% conversion of benzylic chloride to quaternary phosphonium chloride salt groups was achieved. It was shown that by longer reaction times and/or higher reaction temperatures; or Higher conversions could be achieved by selecting a more favorable reaction medium. Dew.

実施例2及び3は、全て、種々のカチオン性ペンダント官能基を含む本発明の主 鎖飽和ペンダント官能化コポリマーが本発明の方法に従って容易に調製できるこ と、及びそれらが様々な用途において有用な特性の組み合わせを有していること を示している。ペンダントカチオン基は自己乳化特性を付与して乳化剤を含まな いカチオン性ラテックスの容易な製造を可能することができ、またペンダントカ チオン基は乾燥付着フィルム中で自己会合して適当な溶媒和によって可逆的なイ オン架橋をもたらす。Examples 2 and 3 all contain various pendant cationic functional groups. It has been demonstrated that chain saturated pendant functionalized copolymers can be easily prepared according to the method of the present invention. and that they have a combination of properties that are useful in a variety of applications. It shows. The pendant cationic groups provide self-emulsifying properties and are free from emulsifiers. It enables the easy production of cationic latex and also allows for the production of pendant The thionic groups self-associate in the dry deposited film and undergo reversible ionic reaction by appropriate solvation. resulting in on-crosslinking.

2種類のカチオン性ペンダント官能化コポリマーを例示してきたが(即ち、第4 アンモニウム塩及び第4ホスホニウム塩)、スルホニウム塩のようなその他のも のも、例えば請求核試薬として以下に示すようなチオエーテルを使用して可能で ある。Although two types of cationic pendant functionalized copolymers have been illustrated (i.e. Ammonium salts and quaternary phosphonium salts), others such as sulfonium salts It is also possible, for example, using thioethers as shown below as nuclear reagents. be.

一←CHz−C)I H−−←CHx−CHH−Cth CHI2 BI S”lh Br− これらのカチオン性ペンダント官能化コポリマーの特性は、結合されるカチオン 基の種類によって、並びに存在するR基と対イオンによって、変化させ制御する ことができるので広範囲の特性が可能である。従って、本発明者らはトリエチル 第4アンモニウム塩及びホスホニウム塩しか例示していないが、その他のR基を 有する第4塩も容易に製造され、改良された特性を付与する。一般に、R基が小 さくなるにつれて(即ち、エチルからメチル)、イオン会合は強くなり切断が難 しくなるが、R基が大きくなるにつれて、疎水性は改善される。特性は対イオン (即ち、塩素、臭素、重硫酸塩、その他)によっても大きく影響を受ける。同様 に、S−イソチオウロニウム塩の特性は請求核試薬として、(本願の実施例で使 用されたように)チオ尿素そのものが使用されたか、又は置換チオ尿素が使用さ れたかに、大きく依存する。1←CHz-C)I H--←CHx-CHH-Cth CHI2 BI S"lh Br- The properties of these cationic pendant functionalized copolymers are that the attached cations Vary and control depending on the type of group as well as the R group and counter ion present. A wide range of properties is possible. Therefore, the inventors found that triethyl Although only quaternary ammonium salts and phosphonium salts are illustrated, other R groups may also be used. Quaternary salts with 100% are also easily prepared and provide improved properties. Generally, the R group is small As the size decreases (i.e. from ethyl to methyl), the ionic association becomes stronger and difficult to cleave. However, as the R group becomes larger, the hydrophobicity improves. The characteristic is counterion (i.e., chlorine, bromine, bisulfate, etc.). similar In addition, the properties of the S-isothiouronium salt as a claimed nuclear reagent (used in the examples of this application) whether thiourea itself was used (as in A lot depends on how strong it is.

イオン架橋の強さと水素結合特性は、いずれも、塩を調製するために使用された 置換チオ尿素のR基がより大きくかつ長くなるにつれて、小さくなっていく。ま た、R基そのものがその他の官能基を含んでその他の有用な官能基を含むカチオ ン性塩を調製することができる。例えば請求核試薬として、トリエタノールアミ ンを使用してヒドロキシル官能基を有する第4アンモニウム塩を含むペンダント 官能化ポリマーを調製して、その他の反応を可能にするか又は接着又は分散作用 を促進する、など。Both ionic crosslink strength and hydrogen bonding properties were used to prepare the salts. As the R groups of substituted thioureas become larger and longer, they become smaller. Ma In addition, the R group itself contains other functional groups and cations containing other useful functional groups. salts can be prepared. For example, as a claimed nuclear reagent, triethanolamine pendants containing quaternary ammonium salts with hydroxyl functionality using Functionalized polymers can be prepared to enable other reactions or for adhesion or dispersion effects. promote, etc.

→CH2−Ca1−÷−−ヒCH2−CH−÷−:N [CH2CH20H]  3+ l 1C)I2CH! Or N” [C1hCH20[1] a Br−さらに、本明細書中には例示 されていないが、ペンダントアニオン性基を結合させて、カルボキシレート又は スルホネートのようなアニオン性ペンダント官能化ポリマーを調製することも可 能であることは、当業者には自明のことである。→CH2-Ca1-÷--CH2-CH-÷-:N [CH2CH20H] 3+ l 1C) I2CH! Or N” [C1hCH20[1] a Br-Furthermore, in this specification, examples are However, by attaching a pendant anionic group, carboxylate or It is also possible to prepare anionic pendant functionalized polymers such as sulfonates. It is obvious to those skilled in the art that this is possible.

官能化イソブチレン/パラメチルスチレンコポリマーの調製 実施例4A この例においては請求核試薬としてジエチルジチオカルバミド酸ナトリウムを使 用する核置換によって、ペンダントジチオカルバメートエステル官能基をランダ ムイソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ−ブロモメチルスチレンベースタ ーポリマーに結合させた。反応性の電子性ベンジル臭素を含むベースターポリマ ーを既に説明したようにして調製した。出発ポリマーを実施例1と同様にして調 製した。これは3.3モル%のパラ−メチルスチレンを含み、68.000の粘 度平均分子量を有していた。ポリマーを40℃で光開始剤を使用してヘキサン中 の15%溶液としてラジカル臭素化して、65.000の粘度平均分子量を有し 、4.3重量%の臭素を含むベースターポリマーを得た。このベースターポリマ ーの組成は、96.7モル%のイソブチレン、2.6モル%のパラ−ブロモメチ ルスチレン、及び0.7モル%のパラ−メチルスチレンであった。高い臭素化水 準が達成されたために、幾らかの二臭素化パラ−メチルスチレンが存在した。こ の核置換反応において、200gのベースターポリマーを窒素雰囲気下の5リツ トルの樹脂製フラスコ中の2100 gのトルエン中に溶解して8.7重量%の ポリマー溶液を調製した。Preparation of functionalized isobutylene/paramethylstyrene copolymer Example 4A In this example, sodium diethyldithiocarbamate is used as the charging nuclear reagent. Randomize the pendant dithiocarbamate ester functionality by nuclear substitution using Muisobutylene/para-methylstyrene/para-bromomethylstyrene base star - attached to a polymer. Base star polymer containing reactive electronic benzylic bromine was prepared as previously described. The starting polymer was prepared as in Example 1. Manufactured. It contains 3.3 mol% para-methylstyrene and has a viscosity of 68,000 It had a high average molecular weight. The polymer was prepared in hexane using a photoinitiator at 40 °C. Radically brominated as a 15% solution of , a base terpolymer containing 4.3% by weight of bromine was obtained. This base star polymer The composition is 96.7 mol% isobutylene, 2.6 mol% para-bromomethyl Rustyrene, and 0.7 mole % para-methylstyrene. Highly brominated water Some dibrominated para-methylstyrene was present because the standard was achieved. child In the nuclear substitution reaction, 200 g of the base terpolymer was reacted with 5 liters of 8.7% by weight dissolved in 2100 g of toluene in a toluene resin flask. A polymer solution was prepared.

その後、700gのイソプロピルアルコールに溶解した22gのジエチルジチオ カルバミド酸ナトリウムを攪拌しながら室温でゆっくりと添加し、75/25の トルエン/イソプロパツール溶媒ブレンド中の6.6重量%のポリマーの溶液を 得たが請求核試薬はBr1モル当たり1.2モルの比率であった。溶液を攪拌し ながら窒素雰囲気下80℃で6時間加熱して請求核置換反応を完了させ、その後 、冷却した。しかしながら、1時間後と3時間後に取り出したサンプルは、80 ℃で1時間後に既に反応が終了したことを示した。冷却した溶液を数回水洗して 臭化ナトリウム副生成物及びその他の水溶性物を除去し、その後、上述の実施例 と同様に、イソプロパツール中での析出と混練りによってポリマーを回収した。Then add 22 g of diethyldithio dissolved in 700 g of isopropyl alcohol. Slowly add the sodium carbamate at room temperature with stirring and add 75/25 A 6.6 wt% solution of the polymer in a toluene/isopropanol solvent blend The obtained nuclear reagent had a ratio of 1.2 moles per mole of Br. stir the solution heating at 80°C for 6 hours under a nitrogen atmosphere to complete the nuclear substitution reaction, and then , cooled. However, the samples taken after 1 hour and 3 hours had 80 After 1 hour at 0.degree. C., the reaction was already shown to be complete. Wash the cooled solution several times with water. The sodium bromide by-product and other water solubles were removed and then the example described above Similarly, the polymer was recovered by precipitation and kneading in isopropanol.

結合したジチオカルバメートエステル基そのものがポリマー結合安定剤として作 用するので、ポリマーは安定剤を添加することなく70℃の真空オーブン中で乾 燥した。回収したポリマーは強靭な僅かに黄色がかつているエラストマーであり 、ヘキサン中に完全に溶解した。以下にまとめた分析は、ベンジル臭素からジチ オカルバメートエステルへの非常に高い転化率が達成されたことを示した。The attached dithiocarbamate ester group itself acts as a polymer bond stabilizer. The polymer was dried in a vacuum oven at 70°C without the addition of stabilizers. It was dry. The recovered polymer is a tough, slightly yellow elastomer. , completely dissolved in hexane. The analysis summarized below shows that benzyl bromine to dithi It was shown that a very high conversion to ocarbamate ester was achieved.

−トCH2−CH刊− B「 言 hc−S−C−N [Etl 2 M v 65.00G 65.000 Br重量% 4.3 o、 a 硫黄重量% 2,97 N重量% 0.65 MR ベンジルBrモル% 2.6− ジチオカルバメート 2.6 エステルモル% プロトンNMRスペクトルは、ベンジル臭素官能基からペンダントジチオカルバ メートエステル官能基への定量的転化を示す化学分析を確認した。-ToCH2-CH publication- B" words hc-S-C-N [Etl 2 M v 65.00G 65.000 Br weight% 4.3 o, a Sulfur weight% 2,97 N weight% 0.65 M.R. Benzyl Br mol% 2.6- Dithiocarbamate 2.6 Ester mole% The proton NMR spectrum shows the pendant dithiocarba from the benzyl bromine functional group. Chemical analysis was confirmed showing quantitative conversion to mate ester functionality.

結合されたペンダント官能性ジチオカルバメートエステル「マー」単位のプロト ンNMR共鳴プロトン 共鳴(ppm) この実験は請求核置換を経由して、ベースターポリマー中のベンジル臭素官能基 のペンダントジチオカルノくメートエステル官能基への容易な転化が可能である ことを示した。結合したペンダントジチオカルバメートエステル官能基は、組み 込みのポリマーに対する酸化防止保護並びに加硫及び共加硫(cotalc■1 txtion)活性をもたらし、後述するラジカル反応での使用を可能にする。Prototype of attached pendant functional dithiocarbamate ester “mer” unit NMR resonance proton resonance (ppm) This experiment claims that the benzyl bromine functionality in the base terpolymer via nuclear substitution can be easily converted into pendant dithiocarnocomate ester functional groups. It was shown that The attached pendant dithiocarbamate ester functionality is Antioxidant protection against polymers including vulcanization and co-vulcanization (cotalc 1 txtion) activity and enables use in the radical reaction described below.

実施例4B この例においては、イソブチレン/バラ−メチルスチレン/バラ−ブロモメチル スチレンベースターポリマーを調製し、逐次的反応経路によって、中間体ベース ターポリマーの別個の単離と回収を行うことなく、ペンダントジチオカルバメー トエステル官能基を含むコポリマーに転化した。中間体ベースターポリマーの回 収がいらないこの逐次的反応経路は当然経済的に有利である。Example 4B In this example, isobutylene/vala-methylstyrene/vala-bromomethyl Styrene-based terpolymers were prepared and intermediate-based Pendant dithiocarbamates without separate isolation and recovery of the terpolymer was converted into a copolymer containing ester functional groups. Intermediate-based terpolymer times This sequential reaction route, which does not require a reaction, is naturally economically advantageous.

2.4モル%のバラ−メチルスチレンを含み、3Gのムーニー粘度を有するイソ ブチレン/バラ−メチルスチレンランダムコポリマー(実施例2Aで使用したの と同じコポリマー)を窒素雰囲気下のヘキサン中に溶解して17重量%の溶液を 形成し、酸掃去剤としての懸濁物中で攪拌されているアトマイト (ATOMI TEI ClCo18重量%を加えて、不透明な白色の僅かに粘稠な溶液を得た 。これを窒素雰囲気下で攪拌しながら60℃まで加熱した。この溶液を120ワ ツトのスポットライトで照らし、僅かに窒素パージしながら60℃で攪拌を続け て、ポリマーに基づいて6.5重量%の臭素をヘキサン中の20重量%溶液とし て添加した。臭素を添加するにつれて溶液は鮮やかな橙色/赤色に変化したが、 この色はラジカル臭素化反応が起こると急速に消えた。溶液が不透明にもかかわ らず、光開始臭素化は急速に進行したので、臭素の色は完全に消え、5分以内に ライトを消した。臭素化ペースタ−ポリ素化溶液のサンプルを取り出し、その後 、臭素1モル当たり1モルのジエチルジチオカルバミド酸ナトリウムをイソプロ パツール中5重量%溶液として添加し、H/ 20のヘキサン/イソプロパツー ル溶媒ブレンドを得たが、この溶液を60℃の高温で攪拌して核置換反応を行わ せた。反応の進行に従って15分間隔で取り出したサンプルは、0.5時間以内 に反応が終了したことを示した。サンプルおよび最終溶液を希釈HCI(1%) で数回水洗し、過剰のClCO3をCxC1zに転化し、それ及びその他の水溶 性物を水性洗浄液中に除去した。この溶液をさらに数回水で洗浄して微量の酸を 除去し、その後、上述の実施例と同様に、イソプロパツール中での析出と混練り によってポリマーを回収した。An isocontaining material containing 2.4 mol% rose-methylstyrene and having a Mooney viscosity of 3G. Butylene/rose-methylstyrene random copolymer (as used in Example 2A) copolymer) in hexane under a nitrogen atmosphere to give a 17% by weight solution. Atomite (ATOMI) formed and stirred in suspension as an acid scavenger TEI ClCo 18% by weight was added to obtain an opaque white slightly viscous solution. . This was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen atmosphere. Apply this solution to 120 watts. Continue stirring at 60°C under a slight nitrogen purge while illuminating with a spotlight. 6.5% by weight of bromine based on the polymer as a 20% by weight solution in hexane. and added. As bromine was added, the solution turned bright orange/red; This color quickly disappeared when the radical bromination reaction took place. Even if the solution is opaque However, the photoinitiated bromination proceeded rapidly, so that the bromine color completely disappeared within 5 minutes. I turned off the light. Brominated Paster - Take a sample of the polyination solution and then , 1 mole of sodium diethyldithiocarbamate per mole of bromine is Added as a 5% solution by weight in Patur, H/20 hexane/isopropyl This solution was stirred at a high temperature of 60°C to carry out the nuclear displacement reaction. I set it. Samples taken at 15 minute intervals as the reaction progresses within 0.5 hours. indicated that the reaction was complete. Dilute the sample and final solution with HCI (1%) Wash several times with water to convert excess ClCO3 to CxC1z, and add it and other water-soluble The solids were removed into an aqueous wash solution. Wash this solution several more times with water to remove trace amounts of acid. followed by precipitation and kneading in isopropanol as in the example above. The polymer was recovered by

この逐次反応の第1の工程において、出発コポリマーの結合したバラ−メチルス チレン部分が光開始ラジカル臭素化によってバラ−ブロモメチルスチレン部分に 転化され、副生成物のHBrは分散した炭酸カルシウムとの反応によって除去さ れる。In the first step of this sequential reaction, the starting copolymer has a The styrene moiety is converted to a bara-bromomethylstyrene moiety by photoinitiated radical bromination. The by-product HBr is removed by reaction with dispersed calcium carbonate. It will be done.

Brz → 2 B「。Brz → 2 B".

開始 CHa ・CFh ・Ch C[12Br ラジカル連鎖臭素化工程 2HB++ClCO3−+C5Brz十〇zCh酸掃法 逐次反応の第2の工程において、ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム求核試 薬は電子性のベンジル臭素と反応して所望のペンダント官能化生成物を生成する 。start CHa・CFh ・Ch C[12Br Radical chain bromination process 2HB++ClCO3-+C5Brz10zCh acid scavenging method In the second step of the sequential reaction, sodium diethyldithiocarbamate nucleophile The drug reacts with electronic benzylic bromine to generate the desired pendant functionalized product .

[H] 2N−C−5−”Nx + CH2r −’i−C1h−CH刊− HzC−5−C−N[Efl12 量 以下にまとめた分析は、中間体ベースターポリマーが1.2モル%のベンジル臭 素官能基を含み、一方、最終ペンダント官能化生成物が0.9モル%のジチオカ ルバメートエステルペンダント官能基と0.3モル%のベンジル臭素官能基の残 りを含んでいることを示した。[H] 2N-C-5-”Nx + CH2r -’i-C1h-CH publication- HzC-5-C-N[Efl12 amount The analysis summarized below shows that the intermediate based terpolymer has a benzyl odor of 1.2 mol%. containing elementary functional groups, while the final pendant functionalized product contains 0.9 mol% dithioca rubamate ester pendant functional group and 0.3 mol% benzyl bromine functional group residue. It was shown that it contains

Mw 28,000 28.0G0 2g、0110B「重量% 2.0 G、  5 8重量% 1・O N重量% 0.2 NMR PMSモル% 2.3 1.1 1. IBrPMSモル% 1.2 0.3 ジチオカルバ メート モル% 0.9 この混合官能基ポリマーは酸化防止剤を添加しなくても安定であり、促進化酸化 亜鉛及び/又は従来の硫黄加硫系を使用して加硫可能であった。このポリマーは 天然ゴムとのブレンドにおいて良好な共加硫も示した。このコポリマーのフィル ムはUV照射にさらされると劣化せずに架橋したが、これは高イソブチレン含量 のポリマーがUV照射にさらされたときに劣化が生じるのとは対照的であった。Mw 28,000 28.0G0 2g, 0110B "Weight% 2.0G, 5 8% by weight 1.O N weight% 0.2 NMR PMS mol% 2.3 1.1 1. IBrPMS mol% 1.2 0.3 dithiocarba Mate mol% 0.9 This mixed functional polymer is stable without the addition of antioxidants and is capable of accelerated oxidation. It could be vulcanized using zinc and/or conventional sulfur vulcanization systems. This polymer is It also showed good co-vulcanization in blends with natural rubber. This copolymer fill The film crosslinked without degradation when exposed to UV irradiation, but this was due to the high isobutylene content. This was in contrast to the degradation that occurred when the polymers were exposed to UV radiation.

照射下の架橋は、ジチオカルバメートエステル官能基が照射にさらされると安定 なラジカルを容易に形成でき、イソブチレンベースポリマーにおいて通常束じる 主鎖の開裂ではなく、ラジカル架橋及びその他のラジカル化学反応を可能にする ことに起因する。Crosslinking under irradiation is stable when the dithiocarbamate ester functional group is exposed to irradiation. can easily form radicals and are usually bundled in isobutylene-based polymers. Enables radical cross-linking and other radical chemical reactions rather than backbone cleavage This is due to this.

l光 H2C−3−C−N[H]2 ■ 一←CH2−CH−’J− 1hC1・5−C−N[El]2 カップリング挿入反応、その他による架橋UV劣化を防ぎ及び/又はラジカル条 件下に制御された架橋を与えるというジチオカルバメートエステル官能基のこの 能力は、屋根ふき、塗装、白色タイヤのサイドウオール、その他のような屋外で の用途において非常に価値がある。そのような用途においては、劣化し表面の粘 着性が大きくなるイソブチレンベースコポリマーはそれらの有用性が損なわれて しまう。l light H2C-3-C-N[H]2 ■ 1←CH2−CH−’J− 1hC1・5-CN[El]2 Prevent cross-linking UV deterioration due to coupling insertion reaction, etc. and/or This dithiocarbamate ester functionality provides controlled cross-linking under conditions. Ability to apply outdoors such as roofing, painting, white tire sidewalls, etc. of great value in applications. In such applications, deterioration and surface viscosity Isobutylene-based copolymers with increased adhesion may have their usefulness compromised. Put it away.

実施例4に の例においては、はぼ等量のジチオカルバメートエステル官能基とベンジル臭素 官能基を含むペンダント官能化イソブチレンベースコポリマーを、中間体ベース ターポリマーの回収を行うことなく、逐次的反応経路によって調製した。In Example 4 In the example, approximately equal amounts of dithiocarbamate ester functionality and benzyl bromine Pendant functionalized isobutylene-based copolymers containing functional groups are It was prepared by a sequential reaction route without recovery of the terpolymer.

4.5モル%のパラ−メチルスチレンを含み、34のムーニー粘度を有するイソ ブチレン/パラ−メチルスチレンランダムコポリマーの500gを窒素雰囲気下 5リットルの樹脂製フラスコ中の2833gのn−ヘキサン中に溶解して15重 量%の溶液を得た。酸掃去剤として、45gのオミャコーブ(OMYACORB ) UFT炭酸カルシウムを攪拌して不透明な白色懸濁物を得た。その後、この 溶液を攪拌しながら60℃に加熱し、120ワツトのスポットライトで照らした 。35gの臭素(ポリマーに基づいて7重量%)をヘキサン中の25重量%溶液 として添加し、ラジカル臭素化を行わせ、ベースターポリマーを製造した。臭素 化反応は5分以内に終了した。臭素化ベースターポリマーのキャラクタライゼー ション用のサンプルを取り出した後、600gのイソプロパツールに溶解された (83/17のヘキサン/イソプロパツール溶媒ブレンドを与える)30gのジ エチルジチオカルバミド酸ナトリウム(臭素1モル当たり0.9モル)を添加し て請求核置換反応を行った。この溶液を60℃の高温で0.5時間攪拌して反応 を完了させた。溶液を冷却し、酸洗浄した後、実施例4Bと同様にしてアルコー ル析出によってポリマーを回収した。逐次反応は既に説明したように進行した。An isocontaining material containing 4.5 mol% para-methylstyrene and having a Mooney viscosity of 34. 500g of butylene/para-methylstyrene random copolymer under nitrogen atmosphere Dissolved in 2833 g of n-hexane in a 5 liter resin flask to yield 15 % solution was obtained. As an acid scavenger, 45 g OMYACORB ) UFT calcium carbonate was stirred to obtain an opaque white suspension. Then this The solution was heated to 60°C with stirring and illuminated with a 120 watt spotlight. . 35 g of bromine (7% by weight based on polymer) in a 25% by weight solution in hexane A base terpolymer was produced by adding the base terpolymer as a radical bromination agent. bromine The reaction was completed within 5 minutes. Characterization of brominated-based terpolymers After removing the sample for sorption, it was dissolved in 600 g of isopropanol. (gives an 83/17 hexane/isopropanol solvent blend) Sodium ethyldithiocarbamate (0.9 mol per mol of bromine) was added. A claimed nuclear substitution reaction was carried out. This solution was stirred at a high temperature of 60°C for 0.5 hours to react. completed. After the solution was cooled and washed with acid, it was washed with alcohol as in Example 4B. The polymer was recovered by precipitation. The sequential reactions proceeded as previously described.

以下にまとめた分析は、中間体ベースターポリマーが2.2モル%の臭素を含み 、一方、最終ペンダント混合官能化生成物が0.7モル%のベンジル臭素官能基 と0.7モル%のジチオカルノくメートエステル官能基とを含んでいることを示 した。The analysis summarized below shows that the intermediate base terpolymer contains 2.2 mol% bromine. , while the final pendant mixed functionalization product contains 0.7 mol % benzyl bromine functionality. and 0.7 mol% of dithiocarnocmate ester functional groups. did.

ムーニー 34 33.5 33 Br重量% 2.2 1. O5 S重量% 0.77 N重量% 0,17 NMR FMSモル% 4.5 3.1 3.18rPMSモル% 1.4 0.7 ジチオカルバメート エステル モル% −0,7 これらの例は、ペンダントジチオカルバメートエステル官能基が核置換反応によ って本発明のベースターポリマーに容易に導入できることを示した。ベンジル臭 素官能基とジチオカルバメートエステルペンダント官能基との両方を含む安定な 混合官能基ポリマーを所望の官能基の比率で製造でき、経済的な逐次反応経路を 利用できる。Moony 34 33.5 33 Br weight% 2.2 1. O5 S weight% 0.77 N weight% 0,17 NMR FMS mol% 4.5 3.1 3.18rPMS mol% 1.4 0.7 dithiocarbamate Ester mol% -0,7 These examples show that pendant dithiocarbamate ester functional groups are It was shown that it can be easily introduced into the base terpolymer of the present invention. benzyl odor A stable compound containing both elementary functional groups and dithiocarbamate ester pendant functional groups. Mixed functional polymers can be prepared with desired functional group ratios, allowing for economical sequential reaction routes. Available.

実施例5 種々のエステル官能基を含むペンダント官能化イソブチレン/パラメチルスチレ ンコポリマーの調製実施例5A この例においては請求核試薬として桂皮酸塩を使用する核置換によって、シンナ メートエステル官能基をランダムイソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ− ブロモメチルスチレンベースターポリマーに結合させた。Example 5 Pendant functionalized isobutylene/paramethylstyrene containing various ester functional groups Preparation of Copolymer Example 5A In this example, by nuclear substitution using cinnamate as the charging nuclear reagent, the Random mate ester functional group isobutylene/para-methylstyrene/para- attached to a bromomethylstyrene-based terpolymer.

この実施例において使用されたベースターポリマーは実施例4A及び4Bにおい て使用されたものと同じであり、0.9モル%の臭素化パラ−メチルスチレン、 1.4モル%のパラ−メチルスチレン、及び97.7モル%のイソブチレンを含 み、135.000のMvを有した。The base terpolymers used in this example were those of Examples 4A and 4B. 0.9 mol% brominated para-methylstyrene, Contains 1.4 mol% para-methylstyrene and 97.7 mol% isobutylene. It had a Mv of 135.000.

求核置換反応において、750gのベースターポリマーを、窒素雰囲気上攪拌し て、接続された空気凝縮器を備えた5リツトルの樹脂製フラスコ中の3000  gのトルエン中に溶解して20重量%のポリマー溶液を調製した。次ぎに、35 .4gの桂皮酸(臭素1モル当たり1.5モル)、メタノール中の40重量%テ トラブチルアンモニウムヒドロキシド溶液の77.3g(酸1モル当たり0.5 モル)、及び9.6gの50重量%水酸化ナトリウム水溶液(酸1モル当たり0 ,5モル)を攪拌して添加し、得られたエマルジョンを攪拌を続けながら86℃ の還流温度まで加熱した。この溶液を86℃で3時間還流して反応を完了させた が、反応の進行を監視するために、還流の開始時と還流の0.5時間後と1.5 時間後にサンプルを取り出した。反応中溶液は次第に透明になっていった。3時 間後、溶液は透明な明るいベージュ色だった。最終溶液とサンプルに酸洗浄、塩 基洗浄、及び中性洗浄を施した。その後、上述の実施例と同様に、イソプロパツ ール中での析出と混練りによって回収し、0.2重量%のBHTを酸化防止剤と して混入して70℃で真空オーブン乾燥した。プリンストン−ガンマ・チック( Primceton−Gtmig Tecb)臭素分析器を使用して分析を行っ た。反応の程度に対して出発ポリマー中に残留する臭素に関して以下にまとめた が、これは核置換反応がゆっくりと進行し、還流3時間後も完了してなかったこ とを示している。In a nucleophilic substitution reaction, 750 g of the base terpolymer was stirred under a nitrogen atmosphere. 3000 in a 5 liter resin flask with an air condenser connected. A 20% by weight polymer solution was prepared by dissolving in 10 g of toluene. Next, 35 .. 4 g of cinnamic acid (1.5 moles per mole of bromine), 40 wt. 77.3 g of trabutylammonium hydroxide solution (0.5 g per mole of acid) mol), and 9.6 g of a 50% by weight aqueous sodium hydroxide solution (0 per mol of acid) , 5 mol) with stirring, and the resulting emulsion was heated to 86°C with continued stirring. The mixture was heated to reflux temperature. The solution was refluxed at 86°C for 3 hours to complete the reaction. but at the beginning of reflux, 0.5 h after reflux, and 1.5 h to monitor the progress of the reaction. Samples were removed after an hour. During the reaction, the solution gradually became clear. 3 o'clock After a while, the solution was clear and light beige in color. Acid wash and salt on final solution and sample Base cleaning and neutral cleaning were performed. Then, similar to the above example, isopropyl 0.2% by weight of BHT was recovered by precipitation in a mold and kneaded as an antioxidant. The mixture was mixed and dried in a vacuum oven at 70°C. Princeton - Gamma Chick ( Analysis was performed using a Primeceton-Gtmig Tecb) bromine analyzer. Ta. The following is a summary of the bromine remaining in the starting polymer with respect to the degree of reaction: However, this is because the nuclear substitution reaction progressed slowly and was not completed even after 3 hours of reflux. It shows.

反応の進行 臭素重量% 出発ベースターポリマー l、60 還流開始時 1.37 0.5時間後 1.08 1.5時間後 0.91 3時間後(最終) 0.54 還流3時間後の最終生成物は0.8モル%のシンナメートエステルと0.1モル %のベンジル臭素を含んだ請求核置換反応は約90%完了した。Progress of reaction Bromine weight% Starting base terpolymer l, 60 At the start of reflux 1.37 0.5 hours later 1.08 1.5 hours later 0.91 3 hours later (final) 0.54 After 3 hours of reflux, the final product contains 0.8 mol% cinnamate ester and 0.1 mol % benzylbromine, the claimed nuclear substitution reaction was about 90% complete.

r Hi 導入されたシンナメートエステル官能基の量を定量するためにプロトンNMR分 光分析を使用した。r Hi Proton NMR fraction was used to quantify the amount of cinnamate ester functionality introduced. Optical analysis was used.

もちろん、新しい芳香族プロトンもスペクトルグラフ中に存在した。Of course, new aromatic protons were also present in the spectrograph.

この実験は、適切な条件下の核置換反応によって、ペンダントカルボン酸エステ ル官能基を本発明のベースターポリマーに導入できることを示した。シンナメー トエステル官能基は、ポリマーを照射したときに、化学線放射factintc  目dictlionlによって架橋を生じさせることができる。This experiment attempts to synthesize pendant carboxylic acid esters by nuclear substitution reaction under appropriate conditions. It has been shown that functional groups can be introduced into the base terpolymer of the present invention. Shinname The toester functional group emits actinic radiation when the polymer is irradiated. Crosslinking can be caused by eye diction.

実施例5B この例においては、脂肪酸としてリルン酸(ライトコ・コーポレーション(Wi tco Corporationl製のインダスト’) −ン(INDUS丁R εEll) 120)中の市販C18脂肪酸を使用する核置換によって、ペンダ ント脂肪酸エステル官能基をランダムイソブチレン/パラ−メチルスチレン/パ ラ−ブロモメチルスチレンベースターポリマーに結合させた。使用されたベース ターポリマーは30のムーニー粘度を有しており、2モル%のパラ−ブロモメチ ルスチレン、5モル%のパラ−メチルスチレン、及び93モル%のイソブチレン を含んでいた。Example 5B In this example, the fatty acid is lylunic acid (Liteco Corporation (Wi INDUS Corporation manufactured by tco Corporation. penda by nuclear substitution using commercially available C18 fatty acids in Random isobutylene/para-methylstyrene/para-methylstyrene was attached to a bromomethylstyrene-based terpolymer. used base The terpolymer has a Mooney viscosity of 30 and contains 2 mol% para-bromomethyl. Rustyrene, 5 mol% para-methylstyrene, and 93 mol% isobutylene It contained.

求核置換反応において、500gのベースターポリマーを、窒素雰囲気下、空気 凝縮器の接続されている5リツトルの樹脂製フラスコ中の21133 gのトル エン中に溶解して15重量%のポリマー溶液を調製した。次ぎに、63.3gの インダストリーン12Gアマニ脂肪酸(臭素1モル当たり1.2モル)を、メタ ノール中の40重量%テトラブチルアンモニウムヒドロキシド溶液の72.8g (酸1モル当たり0.5モル)、及び9gの50重量%水酸化ナトリウム水溶液 (酸1モル当たり0.5モル)と−緒に添加した。形成したエマルジョンは不透 明でやや黄色がかつていた。In a nucleophilic substitution reaction, 500 g of the base terpolymer was added to air under a nitrogen atmosphere. 21133 g Torr in a 5 liter resin flask connected to a condenser A 15% by weight polymer solution was prepared by dissolving in Ene. Next, 63.3g of Industrin 12G flaxseed fatty acids (1.2 moles per mole of bromine) 72.8 g of a 40% by weight solution of tetrabutylammonium hydroxide in alcohol (0.5 mol per mol of acid), and 9 g of 50% by weight aqueous sodium hydroxide solution (0.5 mol per mol of acid). The emulsion formed is opaque It used to be bright and slightly yellow.

次ぎに、これを攪拌しながら窒素雰囲気下87℃の還流温度まで加熱した。この エマルジョンを2時間還流したが、反応の進行を監視するために、還流の開始時 と還流の0.5時間後と1時間後にサンプルを取り出した。反応中溶液は次第に 透明になっていき、水が蒸留され凝縮器に入っていった。最終溶液は透明で明る い黄色だった。反応サンプルと最終反応流出液とに酸洗浄、塩基洗浄、及び中性 洗浄を施し、その後、前と同様に、ポリマーをイソプロパツール中で析出させ、 真空オーブン乾燥した。Next, this was heated to a reflux temperature of 87° C. under a nitrogen atmosphere while stirring. this The emulsion was refluxed for 2 hours, but at the beginning of reflux to monitor the progress of the reaction. Samples were taken after 0.5 and 1 hour of reflux. During the reaction the solution gradually It became clear and the water was distilled and went into the condenser. The final solution is clear and bright It was a bright yellow color. Acid wash, base wash, and neutralization of reaction samples and final reaction effluent Washing is applied, after which the polymer is precipitated in isopropanol as before, Vacuum oven dried.

出発ポリマー中に残留する臭素に関する実施例5Aと同じ分析を以下にまとめた が、これはCl11脂肪酸との核置換反応が桂皮酸塩との反応よりも速く、1時 間で本質的に完了したことを示した。C17炭化水素に結合した請求核試薬が、 より短いアリール基に結合したカルボキシレート基よりも、ベースターポリマー に結合したベンジル臭素求電子試薬との必要な緊密な接触をより容易に達成した ことは明らかである。The same analysis as in Example 5A regarding bromine remaining in the starting polymer is summarized below. However, this is because the nuclear substitution reaction with Cl11 fatty acid is faster than the reaction with cinnamate, and it takes about 1 hour. showed that it was essentially completed in between. The claimed nuclear reagent bound to the C17 hydrocarbon is the base terpolymer than the carboxylate group attached to the shorter aryl group. The necessary close contact with the benzylbromine electrophile bound to was more easily achieved. That is clear.

反応の進行 臭素重量% 出発ベースターポリマー 3.0 還流開始時 1.06 0.5時間後 0.45 1.5時間後 0.29 3時間後(最終) 0.23 MMR分析は、再終生成物が2モル%のエステルを含み、ベンジル臭素を本質的 に含まないことを示したが、このことは核置換反応が完了していることを示す。Progress of reaction Bromine weight% Starting base terpolymer 3.0 At the start of reflux 1.06 0.5 hours later 0.45 1.5 hours later 0.29 3 hours later (final) 0.23 MMR analysis shows that the re-terminated product contains 2 mol% ester and essentially no benzyl bromine. This shows that the nuclear substitution reaction has been completed.

(臭素分析器によって測定された少量の残留臭素含有率はおそらく回収工程中に 完全に洗浄されなかった無機の臭素を表すものである。)NMRスペクトル(以 下に示す)は、5.08 ppm1こおけるベンジルエステルプロトンによる共 鳴と5.3〜5.5ppmにおけるCl11鎖中のオレフィン性プロトンによる 広い複雑な共鳴を示している。(The small residual bromine content measured by the bromine analyzer probably occurred during the recovery process. It represents inorganic bromine that has not been completely washed away. ) NMR spectrum (hereinafter (shown below) is co-coupled with benzyl ester protons at 5.08 ppm1. due to the olefinic proton in the Cl11 chain at 5.3-5.5 ppm. It shows a wide and complex resonance.

比較すると、実施例5Aのシンナメートエステルのベンジルエステルプロトンは シンナメートエステル中に存在する共役性のために5.2ppmにおいてよりフ ィールドの高い共鳴を示した。By comparison, the benzyl ester proton of the cinnamate ester of Example 5A is Due to the conjugation present in the cinnamate ester, it is more concentrated at 5.2 ppm. It showed high field resonance.

この実施例の完全に転化されたアマニ油酸エステル誘導体は完全に可溶性のまま であり、配合され典型的加硫条件下で酸化亜鉛又は促進化酸化亜鉛(これらは出 発材料の臭素化「ベース」ターポリマーについては有効である)とともに加熱し ても加硫架橋の証拠を示さず、これは残留ベンジル臭素が存在しないことのもう 1つの証拠である。しかしながら、この官能化ポリマーは、以下の典型的硫黄加 硫系と配合して硬化したとき、良好な加硫を示した。The fully converted linseed oleate derivative of this example remains fully soluble. Zinc oxide or accelerated zinc oxide (these are (effective for brominated “base” terpolymers) showed no evidence of vulcanization crosslinking, indicating the absence of residual benzyl bromine. This is one piece of evidence. However, this functionalized polymer It exhibited good vulcanization when cured in combination with sulfur systems.

ポリマー 100 硫黄 1.25 M、タッグ(丁odds) 1.50 アルタツクス(^1tIt1 1.00酸化亜鉛 3.00 従って、ペンダント脂肪酸側鎖中に不飽和が存在することによって、この例の官 能化エステル誘導体を加硫するのに従来的硫黄加硫系を使用−することができる 。ペンダント不飽和は、また、天然ゴム又はSBRのような高不飽和汎用ゴムと の共加硫を可能にする。標準的オゾン抵抗試験においてこのエステル誘導体の硫 黄加硫したサンプルを試験したところ、飽和ベースターポリマー加硫ゴムの顕著 なオゾン抵抗特性を保有していることを示した。側鎖中のペンダント不飽和は、 このように、オゾン抵抗性に悪影響を与えることなく、従来的硫黄加硫活性この 例においては、脂肪酸が共役不飽和を含むペンダント脂肪酸エステル官能基をベ ースターポリマーに結合させた。使用された脂肪酸はキリ油から誘導されたもの であり、ニレオステアリン酸に富んでいた。ベースターポリマーは32のムーニ ー粘度を有しており、3.6重量%の臭素、2.2モル%のパラ−ブロモメチル スチレン、2.7モル%のパラ−メチルスチレン、及び95.1モル%のイソブ チレンを含んでいた請求核置換反応において、666gの「湿潤」ベースターポ リマー小片(乾燥重量500 g )を、空気凝縮器の接続されている5リツト ルの樹脂製フラスコ中の2833 gのトルエン中に溶解して分散した水を含む 15重量%のポリマー溶液を調製した請求核置換反応において「湿潤」小片を使 用することは、臭素化「ベース」ターポリマーをペンダント官能化ポリマーに転 化する前に仕上げする必要性を省くので有利である。Polymer 100 Sulfur 1.25 M, Tag (Ding odds) 1.50 Altax (^1tIt1 1.00 Zinc oxide 3.00 Therefore, the presence of unsaturation in the pendant fatty acid side chain contributes to the functional Conventional sulfur vulcanization systems can be used to vulcanize the activated ester derivatives. . Pendant unsaturation can also be used with highly unsaturated general purpose rubbers such as natural rubber or SBR. enables co-vulcanization of The sulfur content of this ester derivative in the standard ozone resistance test When yellow-vulcanized samples were tested, it was found that the saturated base terpolymer vulcanizate showed significant It was shown that it possesses excellent ozone resistance characteristics. Pendant unsaturation in the side chain is Thus, conventional sulfur vulcanization activity can be used without adversely affecting ozone resistance. In the example, the fatty acid bases a pendant fatty acid ester functional group containing conjugated unsaturation. - attached to star polymer. The fatty acids used were derived from tung oil. and was rich in nireostearic acid. The base terpolymer is 32 mooni -viscosity, 3.6% by weight of bromine, 2.2% by mole of para-bromomethyl Styrene, 2.7 mol% para-methylstyrene, and 95.1 mol% isobutylene. In the claimed nuclear substitution reaction that involved tyrene, 666 g of "wet" base tarpo Add small pieces of reamer (500 g dry weight) to the 5 liters connected to the air condenser. Contains water dissolved and dispersed in 2833 g of toluene in a plastic flask Using the "wet" pieces in a nuclear substitution reaction in which a 15% by weight polymer solution was prepared. The use of This is advantageous because it eliminates the need for finishing before converting.

このポリマー溶液に、76gのキリ油酸(臭素1モル当たり約1.2モル)、メ タノール中の40重量%テトラブチルアンモニウムヒドロキシド溶液の87.4 g(酸1モル当たり0.5モル)、及び43gの50重量%水酸化ナトリウム水 溶液(酸1モル当たり0.2モル)を添加して、乳白色のエマルジョンを得た。To this polymer solution was added 76 g of tung oil acid (approximately 1.2 moles per mole of bromine), 87.4 of a 40% by weight solution of tetrabutylammonium hydroxide in tanol g (0.5 mol per mol of acid), and 43 g of 50% by weight aqueous sodium hydroxide. The solution (0.2 mol per mol of acid) was added to give a milky white emulsion.

これを約84℃の還流温度まで加熱した。反応混合物を一定の攪拌の下に1時間 還流し、その後、前述したように冷却し、洗浄し、回収した。同様に、還流の開 始時と還流の0.5時間後にサンプルを取り出した。This was heated to reflux temperature of about 84°C. The reaction mixture was kept under constant stirring for 1 hour. Refluxed, then cooled, washed and collected as described above. Similarly, the opening of reflux Samples were taken at the beginning and after 0.5 hours of reflux.

以下の臭素分析によって示されるように、置換反応はこれらの条件下で急速に進 行した。The substitution reaction proceeds rapidly under these conditions, as shown by the bromine analysis below. I went.

反応の進行 臭素重量% 出発ベースターポリマー 3.6 還流開始時 0.78 0.5時間後 0.56 3時間後(最終) 0.4O NMRスペクトル(以下に示す)は、5.08 Nmにおけるベンジルエステル プロトンによる共鳴、残留ベンジル臭素による4、47 ppm1こおける幾ら かの残留共鳴、及びC10酸のオレフィン性プロトンによる5、3〜6.4 p pa+lこおける一連の共鳴(共役不飽和共鳴は>s、9ppmにおける高いフ ィールドの共鳴である)を示している。最終生成物は、1.9モル%のエステル と0.2モル%の残留ベンジル臭素を含んでいた。これはトルエン中に完全に可 溶性であり、出発ベースターポリマーと同じ31のムーニー粘度を有していた。Progress of reaction Bromine weight% Starting base terpolymer 3.6 At the start of reflux 0.78 0.5 hours later 0.56 3 hours later (final) 0.4O The NMR spectrum (shown below) shows the benzyl ester at 5.08 Nm Resonance due to protons, how much at 4,47 ppm 1 due to residual benzyl bromine 5, 3 to 6.4 p due to the residual resonance and the olefinic proton of the C10 acid. A series of resonances at pa+l (conjugated unsaturated resonances are >s, high frequency at 9 ppm) This is the resonance of the field. The final product contains 1.9 mol% ester and 0.2 mol% of residual benzyl bromine. This is completely possible in toluene. It was soluble and had the same Mooney viscosity of 31 as the starting base terpolymer.

ペンダント共役不飽和の高い活性にもかかわらず、この官能化ポリマーは乾燥又 は貯蔵中に架橋する傾向を示さずに良好な安定性を有していた。しかしながら、 結合した共役不飽和は、硫黄加硫系を使用して容易に加硫又は不飽和ゴムとの共 加硫を行うことができた。この共役不飽和は、電子ビーム照射下の良好な架橋と 屋外で日光にさらされたときの酸化表面硬化ももたらした。これは屋根の塗装の ような屋外での塗装において非常に望ましい性質である。この共役不飽和はラジ カル反応においても非常に活性であり、従って、ラジカル重合性モノマーとのグ ラフト反応を可能にする。この非常に活性なキリ油酸エステル誘導体は広範囲の 用途において有用である。Despite the high activity of the pendant conjugated unsaturation, this functionalized polymer does not dry or had good stability with no tendency to crosslink during storage. however, Combined conjugated unsaturation can be easily vulcanized using sulfur vulcanization systems or combined with unsaturated rubbers. Vulcanization could be performed. This conjugated unsaturation results in good crosslinking under electron beam irradiation. It also resulted in oxidative surface hardening when exposed to sunlight outdoors. This is roof painting This is a highly desirable property for outdoor applications such as painting. This conjugate unsaturation is It is also very active in chemical reactions, and therefore, it is highly active in reactions with radically polymerizable monomers. Enable raft reactions. This highly active kyryoyl acid ester derivative has a wide range of Useful in applications.

種々のカルボン酸との核置換反応を、リシノール酸、その他を使用して、ヒドロ キシのようなその他の多くの官能性側鎖を結合させるのに使用できることは明ら かで実施例1と同様にして調製されたペースイソブチレン/パラ−メチルスチレ ン/パラ−ブロモメチルスチレンターポリマー中間体から出発して、UV光開始 剤のベンゾフェノンを4−ベンゾイルベンゾエートエステル誘導体として前記タ ーポリマーに組み入れた。Nuclear substitution reactions with various carboxylic acids have been performed using ricinoleic acid, etc. It is clear that it can be used to attach many other functional side chains such as Pace isobutylene/para-methylstyrene prepared in the same manner as in Example 1. Starting from an intermediate/para-bromomethylstyrene terpolymer intermediate, UV light initiation The agent benzophenone is converted into a 4-benzoylbenzoate ester derivative as described above. – Incorporated into polymers.

窒素雰囲気下で操作される、機械式攪拌機、ホースコネクター、窒素でパージさ れたセプタム(1ξpjum)を備えた2501のガラス製反応容器に、801 のトルエンに溶解されている10gのベースターポリマー(ムーニー粘度−32 ,1,88重量%の臭素)を入れた。第2のフラスコ中において、窒素雰囲気下 、0.51gの4−ベンゾイル安息香酸とテトラブチルアンモニウムヒドロキシ ド(2,2ml、メタノール中LM)を251のトルエンに溶解し、その後この 溶液の体積を半分に減少させることによって、テトラブチルアンモニウムと4− ベンゾイルベンゾエートのトルエン溶液を調製した。次ぎに、さらに0.09g の4−ベンゾイル安息香酸を251のトルエンに溶解して、これを第2の溶液が 弱塩基性になるまで滴下した。この溶液を第1の溶液に添加した。この混合物の 温度を70℃まで上昇させ、6時間反応させた。終了後、ポリマーをメタノール から析出させ、真空オーブン中、1 mmH!s 40℃で乾燥した。4−ベン ゾイルベンゾエート含有率についての分析(NMR,IR)は、4−ブロモメチ ルスチレンから4−ベンゾイルベンゾエートエステルへの完全な転化を示した。Mechanical stirrer, hose connector, nitrogen purged, operated under nitrogen atmosphere 801 was added to a 2501 glass reaction vessel equipped with a septum (1ξ pjum). 10 g of base terpolymer (Mooney viscosity -32 , 1,88% by weight of bromine). In the second flask under a nitrogen atmosphere. , 0.51 g of 4-benzoylbenzoic acid and tetrabutylammonium hydroxy (2.2 ml, LM in methanol) was dissolved in 251 toluene, then this Tetrabutylammonium and 4- A toluene solution of benzoyl benzoate was prepared. Next, another 0.09g of 4-benzoylbenzoic acid was dissolved in 251 of toluene, and this was added to the second solution. The solution was added dropwise until it became weakly basic. This solution was added to the first solution. of this mixture The temperature was raised to 70°C and the reaction was continued for 6 hours. After finishing, dissolve the polymer in methanol. It was deposited from a vacuum oven at 1 mmH! s Dry at 40°C. 4-Ben Analysis (NMR, IR) for zoylbenzoate content was Complete conversion of rustyrene to 4-benzoylbenzoate ester was shown.

この官能化ポリマーは、32のムーニー粘度を有し、0.75モル%の4−ベン ゾイルベンゾエートエステルを含んでいた。フィルム(1,5ミル)を剥離紙上 に形成し、UV照射にさらした。この官能化ポリマーは、第1表から分かるよう に、低吸収水準で良好な架橋応答を示した。This functionalized polymer has a Mooney viscosity of 32 and 0.75 mol% 4-benzene. Contains zoyl benzoate ester. Film (1,5 mil) on release paper and exposed to UV radiation. As can be seen from Table 1, this functionalized polymer showed good crosslinking response at low absorption levels.

実施例8〜11 以下の実施例においては、3−ベンゾイルベンゾエート(実施例8)、2−ベン ゾイルベンゾエート(実施例9)、4−ヒドロキシベンゾフェノン(実施例10 )、及びアントラキノン−2−カルボキシレート(実施例II)の誘導体官能化 コポリマーを実施例7に従って核置換反応によって調製して、光開始剤のベンゾ フェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、又はアントラキノンを組み入れた。実施 例1と同様にして調製されたペースイソブチレン/パラ−メチルスチレン/パラ −ブロモメチルスチレンターポリマーは全く同一であり、32のムーニー粘度と 1.88重量%の臭素を有していた。UV−官能化コポリマーは0.75モル% のエステルを含んでいた。各々の反応において、2.0gのベースターポリマー を使用した。3−ベンゾイル安息香酸の初期量は0.11gであり、リドマス紙 を中和するのにさらに0.02g加えた。2−ベンゾイル安息香酸の使用量は3 −ベンゾイル安息香酸の場合と同じだった。アントラキノン−2−カルボン酸の 量は0.12gであり、4−ヒドロキシベンゾフェノンの量は0.09gであっ た。Examples 8-11 In the following examples, 3-benzoyl benzoate (Example 8), 2-benzoyl benzoate (Example 8), Zoylbenzoate (Example 9), 4-hydroxybenzophenone (Example 10) ), and derivative functionalization of anthraquinone-2-carboxylate (Example II) A copolymer was prepared by nuclear substitution reaction according to Example 7 and the photoinitiator benzo Incorporated phenone, hydroxybenzophenone, or anthraquinone. implementation Pace isobutylene/para-methylstyrene/para prepared as in Example 1 - Bromomethylstyrene terpolymers are identical and have a Mooney viscosity of 32. It had 1.88% bromine by weight. UV-functionalized copolymer 0.75 mol% It contained esters. In each reaction, 2.0 g of base terpolymer It was used. The initial amount of 3-benzoylbenzoic acid was 0.11 g, An additional 0.02 g was added to neutralize. The amount of 2-benzoylbenzoic acid used is 3 - Same as for benzoylbenzoic acid. anthraquinone-2-carboxylic acid The amount was 0.12g, and the amount of 4-hydroxybenzophenone was 0.09g. Ta.

ゲル化の研究のために、フィルム(1,5ミル)を剥離紙上に形成した。第1表 のデータは、これらの例の光開始グラフトポリマーも低いUV吸収水準での顕著 な架橋応答を有することを示した。For gelation studies, films (1.5 mil) were formed on release paper. Table 1 The data show that the photoinitiated graft polymers of these examples also have significant effects at low UV absorption levels. It was shown that it had a strong crosslinking response.

第 I 表 7 4−ベンゾイルベンゾエート 94 95 958 3−ベンゾイルベンゾ エート 90 89 1199 2−ベンゾイルベンゾニー) 68 112  7911 1ントラキノン−2−カルボ牛シレー) 83 85 8g1 トル エン抽出後の不溶性物質のパーセント実施例12〜19 実施例5Aと同様にして製造したシンナメート官能化コポリマーに対して、可変 量のコーティングの厚さとUV暴露量においてゲル形成の水準を測定するために 試験を行った。ベースターポリマーは約135.000のMvを有しており、0 .9モル%の臭素化パラ−メチルスチレンを含む2.3モル%のパラ−メチルス チレンから構成されていた。これは臭素化及び逐次的求核置換反応を経由して実 施例5Aのポリマーに転化されたが、これは0.1モル%のパラ−ブロモメチル スチレンと0.8モル%のシンナメートエステルを含んでいた。このシンナメー ト官能化コポリマーをUV開始2+2光環状付加を経由して架橋させた。結果を 第■表に示す。Table I 7 4-benzoylbenzoate 94 95 958 3-benzoylbenzo ate 90 89 1199 2-benzoylbenzony) 68 112 7911 1-nthraquinone-2-carbo beef shill) 83 85 8g1 Torr Percentage of insoluble material after ene extraction Examples 12-19 For the cinnamate-functionalized copolymer prepared similarly to Example 5A, the variable to determine the level of gel formation in the amount of coating thickness and amount of UV exposure. The test was conducted. The base terpolymer has a Mv of approximately 135.000 and 0 .. 2.3 mol% para-methylstyrene containing 9 mol% brominated para-methylstyrene It was composed of tyrene. This is accomplished via bromination and sequential nucleophilic substitution reactions. was converted to the polymer of Example 5A, which contained 0.1 mol% para-bromomethyl It contained styrene and 0.8 mole percent cinnamate ester. This thin name The functionalized copolymers were crosslinked via UV-initiated 2+2 photocycloaddition. results It is shown in Table ■.

そのデータから、高いUV暴露量と低い重量%の官能基を有する薄いコーティン グにおいて最も高い程度の架橋が生じたことが分かる。From that data, thin coatings with high UV exposure and low wt% functional groups It can be seen that the highest degree of cross-linking occurred in the sample.

第 ■ 表 +2 0.8 0.3 0.09 44+3 0.8 0.3 0.17 51 14 0.8 0.3 0.25 34IS O,80,30,4219 +6 0.8 0.6 0.14 6917 0.8 0.6 0.17 73 180.8 0.6 0.37 64 +9 0.8 0.6 0.57 36実施例20〜21 以下の実施例においては、実施例1Oからの4−ヒドロキシベンゾフェノン官能 化コポリマーを亜鉛メッキされたスチール板上の腐食防止コーティングとして使 用した。■Table +2 0.8 0.3 0.09 44+3 0.8 0.3 0.17 51 14 0.8 0.3 0.25 34IS O,80,30,4219 +6 0.8 0.6 0.14 6917 0.8 0.6 0.17 73 180.8 0.6 0.37 64 +9 0.8 0.6 0.57 36 Examples 20-21 In the following examples, the 4-hydroxybenzophenone functionality from Example 1O copolymers as anti-corrosion coatings on galvanized steel plates. used.

初めに、実施例1Gのポリマーをトルエン中に溶解し、その後、2枚の亜鉛メッ キされたスチール板上に塗布した。First, the polymer of Example 1G was dissolved in toluene, then two sheets of zinc plating It was applied on a scratched steel plate.

溶媒を蒸発させると1ミルの厚さのフィルム状コーティングが得られた。1枚の 板には0.24J#のUV照射を施して架橋させたが、もう一方の板は架橋させ なかった。Evaporation of the solvent resulted in a 1 mil thick film coating. 1 piece One plate was cross-linked by 0.24 J# UV irradiation, but the other plate was not cross-linked. There wasn't.

5%NaC1の塩浴に10日間浸漬した後、板の腐食抵抗性を観察した。両方の 板が亜鉛メッキされたスチール板を腐食から保護していたが、架橋されていない フィルムを有する板は保護フィルムコーティングの外側の端の下に腐食の侵入を 示していた。フィルムコーティングを架橋することの利点は腐食と非極性溶媒に 対する改善された抵抗性である。このような材料の潜在的用途は自動車産業にお ける腐食防止である。The corrosion resistance of the plates was observed after immersion in a 5% NaCl salt bath for 10 days. both The plate protected the galvanized steel plate from corrosion, but it was not cross-linked. Boards with a film protect against corrosion penetration under the outer edge of the protective film coating. It was showing. The advantages of crosslinking film coatings are corrosion and non-polar solvents. improved resistance to Potential applications for such materials include the automotive industry. This prevents corrosion.

実施例22 以下の例においては、実施例10からの4−ヒドロキシベンゾフェノン官能化コ ポリマーをリソグラフィーの用途におけるコーティングとして使用した。実施例 20〜21に記載したようにして、1ミルの厚さのフィルムを厚紙支持体の上に コーティングした。乾燥したフィルムに0,25VdのUV光を写真のネガを通 して照射して、コーティング中にステンシル型の像を形成した。トルエン中で現 像して未架橋のポリマーを除去することによって像を発現させた。Example 22 In the following example, the 4-hydroxybenzophenone functionalized copolymer from Example 10 The polymer was used as a coating in lithographic applications. Example A 1 mil thick film was deposited onto a cardboard support as described in 20-21. Coated. UV light of 0.25 Vd is passed through the photographic negative onto the dry film. and irradiated to form a stencil-type image in the coating. present in toluene The image was developed by imaging and removing uncrosslinked polymer.

本発明の詳細な説明は例示的なものであり、当業者にはそれらの様々な改良が容 易に思い付(であろう。添付の請求の範囲の範囲及び精神に含まれるそのような 改良は本発明に包含されるものである。The detailed description of the invention is illustrative and various modifications thereof will occur to those skilled in the art. Any such invention that comes within the scope and spirit of the appended claims may readily occur to you. Modifications are intended to be encompassed by this invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1.リソグラフィー用コーティングであって、4乃至7の炭素原子のイソオレフ ィンとパラ−アルキルスチレンコモノマーとの輻射線架橋された官能化ポリマー であって、実質的に均一な組成分布を有する官能化ポリマーを含むリソグラフィ ー用の像であって、コモノマーがパラ−アルキルスチレンのパラ−アルキル基に おいて輻射線反応性基によって官能化され、前記ポリマーは前記官能化ポリマー の輻射によって架橋されている像を含む、コーティング。 2.官能化ポリマーが少なくとも約5000の数平均分子量を有する、請求項1 のコーティング。 3.官能化ポリマーが約5000乃至500,000の数平均分子量を有する、 請求項1のコーティング。 4.官能化ポリマーが約6以下の重量平均分子量の数平均分子量に対する比率を 有する、請求項1のコーティング。 5.官能化ポリマーの少なくとも約95重量%が前記官能化ポリマーの平均パラ −アルキルスチレン含有率の約10重量%以内のパラ−アルキルスチレン含有率 を有する、請求項1のコーティング。 6.イソオレフィンがイソブチレンを含み、パラ−アルキルスチレンがパラ−メ チルスチレンを含む、請求項1のコーティング。 7.官能化ポリマーが約5000以上の数平均分子量を有する、請求項6のコー ティング。 8.官能化ポリマーが約6以下の重量平均分子量の数平均分子量に対する比率を 有する、請求項7のコーティング。 9.イソオレフィンとパラ−アルキルスチレンが官能化ポリマー中に、イソオレ フィンが前記ポリマーの約10乃至99.5重量%を構成しパラ−アルキルスチ レンが前記ポリマーの約0.5乃至90重量%を構成するような量で存在する、 請求項1のコーティング。 10.イソオレフィンがイソブチレンを含み、パラ−アルキルスチレンがパラ− メチルスチレンを含む、請求項9のコーティング。 11.官能化ポリマーがパラ−アルキルスチレンを▲数式、化学式、表等があり ます▼ のように含み、ここでR及びR′は、独立して、水素、アルキル、ハロゲン化第 1及び第2アルキル基から成る群から選択され、Yは水素と輻射線反応性官能基 の混合物を含む、請求項1のコーティング。 12.R及びR′が、独立して、水素、C1〜C5アルキル、ハロゲン化C1〜 C5第1及び第2アルキル基から成る群から選択される、請求項11のコーティ ング。 13.輻射線反応性官能基が、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4 −ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾキノン、ナフタキノン、アントラキノン、 2−クロロアントラキノン、ベンジリデンアセトフェノン、アセトフェノン、プ ロピオフェノン、シクロプロピルフェニルケトン、ベンズアルデヒド、β−ナフ チルフェニルケトン、β−ナフトアルデヒド、β−アセトナフトン、2,3−ペ ンタンジオン、ベンジル(benzil)、フルオレノン、ベンズアントロン、 ミヒラーケトン、ビス(パラヒドロキシベンジリデン)アセトン、ベンゾイン、 デオキシベンゾイン、及びクロロデオキシベンゾインから成る群から選択される 求核的に置換された光開始剤を含む、請求項11のコーティング。 14.輻射線反応性官能基が、求核的に置換されたチオキサントンを含む、請求 項11のコーティング。 15.輻射線反応性官能基が、N,N−二置換ジチオカルバミド酸及びそれらの エステル及び塩から成る群から選択される求核的に置換された光開始剤を含む、 請求項11のコーティング。 16.輻射線反応性官能基が、キリ油酸及びそのエステル及び塩から成る群から 選択される求核的に置換された光開始剤を含む、請求項11のコーティング。 17.輻射線反応性官能基が、安息香酸、桂皮酸、m−ニトロ桂皮酸、p−クロ ロ桂皮酸、p−メトキシ桂皮酸、カルコンアクリル酸、p−フェニレンビス(ア クリル酸)p−アジド安息香酸、p−スルホンアジデ安息香酸、α−シアノ桂皮 酸、シンナミリデン酢酸、シンナミリデンマロン酸、α−シアノシンナミリデン 酢酸、β−(1)−ナフチルアクリル酸、β−(2)−フルフリルアクリル酸、 α−シアノ−β−(2)−チエニルアクリル酸、β−(1)−ナフチルアクリル 酸、β−(9)−アントリルアクリル酸、及びそれらのエステル及び塩から成る 群から選択される光開始剤を含む、請求項11のコーティング。 18.ポリマーとブレンドされた粘着付与剤の約5乃至約95重量部をさらに含 み、ここで、ポリマーと粘着付与剤の重量部の合計が100である、請求項1の コーティング。 19.粘着付与剤が約30乃至約70重量部を構成する、請求項18のコーティ ング。 20.パラ−アルキルスチレンが官能化ポリマー中に▲数式、化学式、表等があ ります▼ のように含まれ、ここでR及びR′は、独立して、水素、アルキル、ハロゲン化 第1及び第2アルキル基から選択され、Wは水素、X、Y、及びZから選択され 、ここで、Xは塩素又は臭素、Yは輻射線反応性官能基、及びZは、酸素、硫黄 、珪素、窒素、炭素、又はナトリウム、カリウム、リチウム、及びマグネシウム から選択される金属を含む非輻射線反応性官能基であり、Wが水素であるパラ− アルキルスチレンは前記ポリマーの約0.5乃至約99.5重量%を構成し、W がYであるパラ−アルキルスチレンは前記ポリマーの約0.5乃至約55重量% を構成し、WがXであるパラ−アルキルスチレンは前記ポリマーの0乃至5重量 %を構成し、そしてWがZであるパラ−アルキルスチレンは前記ポリマーの0乃 至55重量%を構成し、前記官能化ポリマーは約5000以上の数平均分子量を 有する、請求項1のコーティング。 21.Wが水素であるパラ−アルキルスチレンは前記官能化ポリマーの約1乃至 約2重量%を構成し、WがYであるパラ−アルキルスチレンは前記ポリマーの約 0.5乃至約55重量%を構成し、WがXであるパラ−アルキルスチレンは前記 ポリマーの約20重量%以下を構成し、そしてWがZであるパラ−アルキルスチ レンは前記ポリマーの0乃至約55重量%を構成し、前記ポリマーは約5000 乃至約500,000の数平均分子量と約6以下の重量平均分子量の数平均分子 量に対する比率を有する、請求項20のコーティング。 22.Wが水素であるパラ−アルキルスチレンは前記官能化ポリマーの約2乃至 約10重量%を構成し、WがYであるパラ−アルキルスチレンは前記ポリマーの 約0.5乃至約55重量%を構成し、WがXであるパラ−アルキルスチレンは前 記ポリマーの約15重量%以下を構成し、そしてWがZであるパラ−アルキルス チレンは前記ポリマーの0乃至約55重量%を構成し、前記ポリマーは約500 0乃至約500,000の数平均分子量と約6以下の重量平均分子量の数平均分 子量に対する比率を有する、請求項20のコーティング。 23.Wが水素であるパラ−アルキルスチレンは前記官能化ポリマーの約1乃至 約7重量%を構成し、WがYであるパラ−アルキルスチレンは前記ポリマーの約 0.5乃至約55重量%を構成し、そしてWがXであるパラ−アルキルスチレン は前記ポリマーの約1重量%以下を構成し、前記ポリマーは約5000乃至約5 00,000の数平均分子量と約6以下の重量平均分子量の数平均分子量に対す る比率を有する、請求項20のコーティング。 24.官能化ポリマーがWがXであるパラ−アルキルスチレンを本質的に含まな い、請求項20のコーティング。 25.WがXであるパラ−アルキルスチレンがポリマーの約1重量%以下しか構 成しない、請求項20のコーティング。 26.表面にリソグラフィー用の像を形成する方法であって、 (1)4乃至7の炭素原子のイソオレフィンとパラ−アルキルスチレンコモノマ ーを含む輻射線架橋性官能化ポリマーあって、実質的に均一な組成分布を有し、 コモノマーがパラ−アルキルスチレンのパラアルキル基において輻射線架橋性基 で官能化されている官能化ポリマーで物品の表面の少なくとも一部をコーティン グする工程、及び (b)前記表面を特定パターンの輻射線に暴露して、リソグラフィー用の像にポ リマーを架橋させる工程、を含む、方法。 27.暴露工程の前に、前記表面上に前記パターンの像を形成する工程をさらに 含み、前記像形成工程は電磁波輻射の透過を選択的に防ぐことを含む、請求項2 6の方法。 28.ポリマーの一部が暴露工程のあと架橋していない、請求項27の方法。 29.架橋していないポリマーを除去して架橋したポリマーのパターンを現像す る工程をさらに含む、請求項28の方法。 30.前記除去工程が前記表面を溶媒で洗浄することを含む、請求項29の方法 。 31.前記表面を架橋したコーティングを通してエッチングして前記パターンを 前記表面に転写することをさらに含む、請求項29の方法。 32.エッチングした表面から架橋したコーティングを除去する工程をさらに含 む、請求項31の方法。 33.前記除去工程が前記コーティングの化学的又はプラズマ処理を含む、請求 項32の方法。 34.前記コーティング工程がポリマーの溶液を前記表面に塗布し、溶媒を除去 して前記ポリマーのフィルムを表面上に残すことを含む、請求項26の方法。 35.前記コーティング工程がポリマーのホットメルトを前記表面に塗布するこ とを含む、請求項26の方法。 36.架橋用の輻射が紫外線、電子ビーム、又はガンマ線放射を含む、請求項2 6の方法。 37.物品が、金属、紙、木、プラスチック、布、ガラス、セラミック、グラフ ァイト、又はそれらの複合物を含む、請求項26の方法。 38.請求項26の方法で製造された、腐食及び溶媒に対する抵抗性を有するバ リヤーコーティングを有する物品。 39.請求項26の方法で製造された、リソグラフィー用の像を有する表面。 40.請求項29の方法で製造された、エッチングに対する抵抗性のパターン付 けされたコーティングを有する物品。 41.請求項29の方法で製造された、印刷要素を有する物品。 42.請求項31の方法で製造された、エッチングされた物品。 43.請求項32の方法で製造された、エッチングされた物品。[Claims] 1. A lithographic coating comprising an isoolefin of 4 to 7 carbon atoms. Radiation-crosslinked functionalized polymers of phosphorus and para-alkyl styrene comonomers lithography comprising a functionalized polymer having a substantially uniform compositional distribution, - image of the comonomer attached to the para-alkyl group of the para-alkylstyrene. wherein said polymer is functionalized with a radiation-reactive group in said functionalized polymer. A coating containing an image that has been cross-linked by radiation. 2. Claim 1 wherein the functionalized polymer has a number average molecular weight of at least about 5000. coating. 3. the functionalized polymer has a number average molecular weight of about 5000 to 500,000; The coating of claim 1. 4. The functionalized polymer has a weight average molecular weight to number average molecular weight ratio of about 6 or less. The coating of claim 1 comprising: 5. At least about 95% by weight of the functionalized polymer satisfies the average parameter of the functionalized polymer. - para-alkylstyrene content within about 10% by weight of the alkylstyrene content; 2. The coating of claim 1, comprising: 6. Isoolefins include isobutylene and para-alkylstyrenes include para-alkylstyrenes. 2. The coating of claim 1, comprising tylstyrene. 7. 7. The code of claim 6, wherein the functionalized polymer has a number average molecular weight of about 5000 or more. Ting. 8. The functionalized polymer has a weight average molecular weight to number average molecular weight ratio of about 6 or less. 8. The coating of claim 7, comprising: 9. Isoolefins and para-alkylstyrenes are present in functionalized polymers. The fins constitute about 10 to 99.5% by weight of the polymer and include para-alkyl styrene. the polymer is present in an amount such that it constitutes about 0.5 to 90% by weight of the polymer; The coating of claim 1. 10. The isoolefin contains isobutylene, and the para-alkylstyrene contains para-alkylstyrene. 10. The coating of claim 9, comprising methylstyrene. 11. Functionalized polymers make para-alkylstyrene ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Masu▼ where R and R' are independently hydrogen, alkyl, halogenated selected from the group consisting of primary and secondary alkyl groups, and Y is a hydrogen- and radiation-reactive functional group. 2. The coating of claim 1, comprising a mixture of. 12. R and R' are independently hydrogen, C1-C5 alkyl, halogenated C1- The coating of claim 11 selected from the group consisting of C5 primary and secondary alkyl groups. Ng. 13. The radiation-reactive functional group is benzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4 -Hydroxybenzophenone, benzoquinone, naphthaquinone, anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, benzylidene acetophenone, acetophenone, protein Ropiophenone, cyclopropylphenyl ketone, benzaldehyde, β-naph Tylphenyl ketone, β-naphthaldehyde, β-acetonaphthone, 2,3-pene ntandione, benzil, fluorenone, benzanthrone, Michler's ketone, bis(parahydroxybenzylidene)acetone, benzoin, selected from the group consisting of deoxybenzoin and chlorodeoxybenzoin 12. The coating of claim 11, comprising a nucleophilically substituted photoinitiator. 14. Claims wherein the radiation-reactive functional group comprises a nucleophilically substituted thioxanthone Item 11 Coating. 15. The radiation-reactive functional group is N,N-disubstituted dithiocarbamic acids and their a nucleophilically substituted photoinitiator selected from the group consisting of esters and salts; The coating of claim 11. 16. the radiation-reactive functional group is from the group consisting of tung oil acid and its esters and salts; 12. The coating of claim 11, comprising a selected nucleophilically substituted photoinitiator. 17. The radiation-reactive functional group is benzoic acid, cinnamic acid, m-nitrocinnamic acid, p-chloro cinnamic acid, p-methoxycinnamic acid, chalcone acrylic acid, p-phenylene bis(alpha) Acrylic acid) p-azidobenzoic acid, p-sulfonazidebenzoic acid, α-cyanocinnamic acid Acid, cinnamylidene acetic acid, cinnamylidene malonic acid, α-cyanocinnamylidene Acetic acid, β-(1)-naphthyl acrylic acid, β-(2)-furfuryl acrylic acid, α-cyano-β-(2)-thienyl acrylic acid, β-(1)-naphthyl acrylic acid acid, consisting of β-(9)-anthryl acrylic acid, and their esters and salts. 12. The coating of claim 11, comprising a photoinitiator selected from the group. 18. further comprising about 5 to about 95 parts by weight of a tackifier blended with the polymer. The method of claim 1, wherein the sum of parts by weight of the polymer and the tackifier is 100. coating. 19. 19. The coating of claim 18, wherein the tackifier comprises about 30 to about 70 parts by weight. Ng. 20. Para-alkyl styrene is present in the functionalized polymer. I'm here▼ where R and R' are independently hydrogen, alkyl, halogenated selected from primary and secondary alkyl groups, and W is selected from hydrogen, X, Y, and Z. , where X is chlorine or bromine, Y is a radiation-reactive functional group, and Z is oxygen, sulfur. , silicon, nitrogen, carbon, or sodium, potassium, lithium, and magnesium a non-radiation-reactive functional group containing a metal selected from para- The alkylstyrene comprises from about 0.5 to about 99.5% by weight of the polymer; The para-alkylstyrene in which is Y represents about 0.5% to about 55% by weight of the polymer. and W is X, the para-alkylstyrene constitutes % and W is Z of the polymer. up to 55% by weight, and the functionalized polymer has a number average molecular weight of about 5000 or more. The coating of claim 1 comprising: 21. The para-alkylstyrene in which W is hydrogen is about 1 to 10% of the functionalized polymer. The para-alkyl styrene, comprising about 2% by weight and where W is Y, accounts for about 2% by weight of the polymer. The para-alkylstyrene constituting 0.5 to about 55% by weight and in which W is para-alkyl styrene comprising up to about 20% by weight of the polymer and where W is Z Wren constitutes 0 to about 55% by weight of the polymer, and the polymer contains about 5000% A number average molecular weight of from about 500,000 to a weight average molecular weight of about 6 or less. 21. The coating of claim 20, having a ratio to amount. 22. The para-alkylstyrene in which W is hydrogen is about 2 to 30% of the functionalized polymer. The para-alkylstyrene comprising about 10% by weight and where W is Y is of the polymer. The para-alkylstyrene comprising about 0.5 to about 55% by weight and where W is para-alkyls comprising up to about 15% by weight of the polymer and wherein W is Z The tyrene comprises 0 to about 55% by weight of the polymer, and the polymer has about 500% by weight. Number average molecular weight of 0 to about 500,000 and a weight average molecular weight of about 6 or less 21. The coating of claim 20, having a molecular weight to molecular weight ratio. 23. The para-alkylstyrene in which W is hydrogen is about 1 to 10% of the functionalized polymer. The para-alkyl styrene comprising about 7% by weight and W is Y represents about 7% by weight of the polymer. para-alkylstyrene comprising 0.5 to about 55% by weight and W is X comprises about 1% by weight or less of the polymer, and the polymer comprises about 5,000 to about 5% by weight of the polymer. For a number average molecular weight of 00,000 and a weight average molecular weight of about 6 or less 21. The coating of claim 20, having a ratio of: 24. The functionalized polymer is essentially free of para-alkylstyrene, where W is 21. The coating of claim 20. 25. The para-alkylstyrene in which W is X constitutes less than about 1% by weight of the polymer. 21. The coating of claim 20, comprising: 26. A method of forming a lithographic image on a surface, the method comprising: (1) Isoolefins of 4 to 7 carbon atoms and para-alkylstyrene comonomers a radiation-crosslinkable functionalized polymer having a substantially uniform composition distribution; The comonomer is a radiation-crosslinkable group in the para-alkyl group of the para-alkylstyrene. coating at least a portion of the surface of the article with a functionalized polymer that is functionalized with a step of (b) exposing said surface to a specific pattern of radiation to form a lithographic image; crosslinking the remer. 27. prior to the exposing step, further comprising forming an image of the pattern on the surface. 3. The imaging step comprises selectively preventing transmission of electromagnetic radiation. Method 6. 28. 28. The method of claim 27, wherein a portion of the polymer is not crosslinked after the exposing step. 29. Remove the non-crosslinked polymer and develop the crosslinked polymer pattern. 29. The method of claim 28, further comprising the step of: 30. 30. The method of claim 29, wherein the removing step includes washing the surface with a solvent. . 31. etching the pattern through the cross-linked coating on the surface; 30. The method of claim 29, further comprising transferring to the surface. 32. further comprising removing the cross-linked coating from the etched surface. 32. The method of claim 31. 33. Claim wherein said removing step comprises chemical or plasma treatment of said coating. The method of Section 32. 34. The coating step applies a solution of a polymer to the surface and removes the solvent. 27. The method of claim 26, comprising: leaving a film of the polymer on a surface. 35. The coating step includes applying a hot melt of a polymer to the surface. 27. The method of claim 26, comprising: 36. Claim 2, wherein the crosslinking radiation comprises ultraviolet radiation, electron beam, or gamma radiation. Method 6. 37. If the item is metal, paper, wood, plastic, cloth, glass, ceramic, or graphite, 27. The method of claim 26, comprising: 38. A corrosion and solvent resistant rubber produced by the method of claim 26. Articles with rear coating. 39. A lithographically imaged surface produced by the method of claim 26. 40. Etching resistant patterned product produced by the method of claim 29. Articles with a painted coating. 41. 30. An article having a printed element produced by the method of claim 29. 42. 32. An etched article produced by the method of claim 31. 43. 33. An etched article produced by the method of claim 32.
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