JPH0643667A - Image retaining member and device using the member - Google Patents

Image retaining member and device using the member

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JPH0643667A
JPH0643667A JP3476691A JP3476691A JPH0643667A JP H0643667 A JPH0643667 A JP H0643667A JP 3476691 A JP3476691 A JP 3476691A JP 3476691 A JP3476691 A JP 3476691A JP H0643667 A JPH0643667 A JP H0643667A
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JP
Japan
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holding member
image holding
layer
group
resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP3476691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Sakai
清志 酒井
Naoto Fujimura
直人 藤村
Masayoshi Nakano
征孝 中野
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to US07/841,410 priority patent/US5272029A/en
Priority to EP92103487A priority patent/EP0501517B1/en
Priority to DE69216659T priority patent/DE69216659T2/en
Publication of JPH0643667A publication Critical patent/JPH0643667A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain an image retaining member with rapidly enhanced durability and having a stabilized potential characteristic by providing a surface layer contg. a high-m.p. polyester resin, a curing resin and a silicone-base interdigital graft polymer. CONSTITUTION:A protective layer 1 as the surface layer is formed at the outermost part of an image retaining member and is used to protect the inner layer. A photoconductive layer 2 is provided in the image retaining member or not. Since the protective layer 1 has excellent wear resistance and a small frictional resistance, the layer is useful as the surface protective layer for the image retaining member. Mixture of the high-m.p. polyester resin, curing resin and silicone-base interdigital graft polymer makes the surface layer more effective than ever, and the high-m.p. polymer resin has high crystallinity because of its high m.p. Consequently, the curing resin chain is uniformly and densely entangled with the high-m.p. polymer chain, and a highly durable surface layer is formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、静電像および/または
トナー画像を保持するための像保持部材に関し、詳しく
は耐久性に優れた像保持部材およびこれを用いた装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image holding member for holding an electrostatic image and / or a toner image, and more particularly to an image holding member having excellent durability and an apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】像保持部材には一般に電子写真感光体
と、その他の像保持部材、例えば多数回の転写が必要な
カラー複写機の中間転写部材および静電記録部材等の静
電像及び/又はトナー像を保持する部材がある。
2. Description of the Related Art Generally, an image holding member includes an electrophotographic photosensitive member and other image holding members such as an electrostatic image and / or an electrostatic image forming member such as an intermediate transfer member and an electrostatic recording member of a color copying machine requiring a large number of transfers. Alternatively, there is a member that holds the toner image.

【0003】電子写真感光体は所定の特性を得るためあ
るいは適用される電子写真プロセスの種類に応じて種々
の構成をとるものである。電子写真感光体の代表的なも
のとして支持体上に光導電層が形成されている感光体お
よび表面に保護層を備えた感光体があり広く用いられて
いる。支持体と光導電層から構成される感光体は最も一
般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電、画像露光お
よび現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用い
られる。また保護層を備えた感光体についてこの保護層
は光導電層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰
特性の改善、または、特定の電子写真プロセスに適用さ
れるため、等の目的のために設けられるものである。な
おこのような特定の電子写真プロセスの代表的な例は、
帯電時に支持体側から電荷を注入させて保護層と光導電
層の間にまで電荷を移動させることを利用した方式があ
ります。このような方式として代表的なものは、特公昭
42−23910号公報、特公昭43−24748号公
報等に開示されているように、1次帯電、1次帯電と逆
極性の2次帯電若しくはAC除電と同時画像露光および
全面露光によって静電像を形成する方式である。また、
上記方式において画像露光は2次帯電又はAC除電の前
若しくは後にされてもよい。全面露光は省略されてもよ
い。
The electrophotographic photosensitive member has various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of electrophotographic process applied. Typical electrophotographic photoreceptors are a photoreceptor having a photoconductive layer formed on a support and a photoreceptor having a protective layer on the surface thereof, which are widely used. The photoreceptor composed of a support and a photoconductive layer is used for image formation by the most common electrophotographic process, that is, charging, image exposure and development, and optionally transfer. Further, regarding the photoreceptor provided with a protective layer, this protective layer is for the purpose of protecting the photoconductive layer, improving the mechanical strength of the photoreceptor, improving the dark decay characteristics, or applying to a specific electrophotographic process. It is provided for. A typical example of such a specific electrophotographic process is
There is a method that uses the method of injecting electric charge from the support side at the time of charging and moving the electric charge between the protective layer and the photoconductive layer. As a typical example of such a method, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 42-23910 and Japanese Patent Publication No. 43-24748, primary charging, secondary charging having a polarity opposite to that of primary charging, or This is a method of forming an electrostatic image by AC neutralization, simultaneous image exposure and overall exposure. Also,
In the above method, image exposure may be carried out before or after secondary charging or AC neutralization. The whole surface exposure may be omitted.

【0004】また、他の方式として、米国特許第304
1167号公報に開示されているものが挙げられる。
Another method is US Pat. No. 304.
The one disclosed in Japanese Patent No. 1167 is cited.

【0005】電子写真感光体には所定の電子写真プロセ
スに適用されて、静電像が形成され、この静電像は現像
されて可視化される。
The electrophotographic photosensitive member is applied to a predetermined electrophotographic process to form an electrostatic image, and the electrostatic image is developed and visualized.

【0006】その他の像保持部材の代表的ないくつかは
次に説明される。
Some representative examples of other image bearing members are described next.

【0007】(1)電子写真感光体の繰返し使用性の改
善の目的で電子写真感光体に形成された静電像を他の像
保持部材に転写して現像を行い、次いでトナー画像は記
録体に転写される。(2)また、電子写真感光体に形成
された静電像に対応させて他の像保持部材に静電像を形
成させる他の電子写真プロセスとして、多数の微細な開
口を有するスクリーン状の電子写真感光体に所定の電子
写真プロセスによって静電像を形成し、この静電像を介
して他の像保持部材にコロナ帯電処理を行なうことによ
り、コロナのイオン流を変調させて静電像を他の像保持
部材に形成させて、これをトナー現像して記録体に転写
させて最終画像を形成するプロセスが挙げられる。
(3)また、他の電子写真プロセスによれば、電子写真
感光体もしくはその他の像保持部材に形成されたトナー
画像を直接記録体に転写しないでさらに他の像保持部材
に転写し、次いでこの像保持部材から記録体にトナーと
画像を転写して定着する。このプロセスはカラー画像の
形成あるいは高速複写に特に有効である。記録体は通
常、紙、フイルムといった屈曲性に富んだものが多く、
そのために、三色画像を正確に位置合わせをしながら記
録体に転写するよりも、変形を殆ど生ずることがないよ
うな材料で形成できる像保持部材に三色画像を転写し、
これを一度に記録体に転写した方がより正確に位置合わ
せされたカラー画像が形成される。また、複写の高速化
に対しても、トナー画像が像保持部材を経て記録体に転
写されることは有効である。(4)また、他のプロセス
として、多針電極に電気信号を印加して像保持部材表面
に、電気信号に応じた静電像を形成し、これを現像して
画像とすることができる。
(1) For the purpose of improving the reusability of the electrophotographic photosensitive member, the electrostatic image formed on the electrophotographic photosensitive member is transferred to another image holding member for development, and then the toner image is recorded on the recording member. Is transcribed to. (2) Further, as another electrophotographic process for forming an electrostatic image on another image holding member in correspondence with the electrostatic image formed on the electrophotographic photosensitive member, a screen-shaped electron having a large number of fine openings. An electrostatic image is formed on the photographic photosensitive member by a predetermined electrophotographic process, and the corona charging process is performed on another image holding member via this electrostatic image to modulate the ion current of the corona to form an electrostatic image. A process for forming a final image by forming the image on another image holding member, developing the toner with the toner, and transferring the toner to a recording medium is exemplified.
(3) According to another electrophotographic process, the toner image formed on the electrophotographic photosensitive member or other image holding member is not directly transferred to the recording body but is transferred to another image holding member and then The toner and the image are transferred and fixed from the image holding member to the recording medium. This process is particularly useful for color image formation or high speed copying. Usually, many recording materials are highly flexible, such as paper and film,
Therefore, rather than transferring the three-color image to the recording medium while accurately aligning the three-color image, the three-color image is transferred to an image holding member that can be formed of a material that hardly causes deformation,
Transferring this to the recording medium at one time forms a more accurately aligned color image. In addition, it is effective to transfer the toner image to the recording medium through the image holding member for the speeding up of copying. (4) As another process, an electric signal can be applied to the multi-needle electrode to form an electrostatic image according to the electric signal on the surface of the image holding member, and this can be developed into an image.

【0008】(1)〜(4)のような静電像形成プロセ
スに用いられる像保持部材は光導電層を必要としない。
The image holding member used in the electrostatic image forming process as described in (1) to (4) does not require a photoconductive layer.

【0009】このように、静電像又はトナー画像が形成
される像保持部材としては表面層が保護層又は光導電層
である電子写真感光体をはじめとして、一般に表面層が
絶縁層である各種の部材が用いられる。
As described above, as an image holding member on which an electrostatic image or a toner image is formed, various kinds of surface layers are generally insulating layers, including electrophotographic photoreceptors whose surface layers are protective layers or photoconductive layers. Members are used.

【0010】像保持部材は適用される記録プロセスに応
じた電気特性が要求されるが、像保持部材の耐久性は重
要な性質である。耐久性は像保持部材を繰返し使用する
場合に要求される性質である。
The image holding member is required to have electric characteristics according to the recording process to be applied, but the durability of the image holding member is an important property. Durability is a property required when the image holding member is repeatedly used.

【0011】即ち、像保持部材には、当然のことである
が、適用される電子写真プロセスに応じた所定の感度、
電気特性、更には、光学特性を備えていることが要求さ
れる。特に繰り返し使用可能な感光体にあってはその感
光体の表面層にはコロナ帯電、トナー現像、紙への転
写、クリーニング処理等の電気的、機械的外力が直接に
加えられるため、それらに対する耐久性が要求される。
具体的には、コロナ帯電時に発生するオゾンやNOx
よる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位増加、
及び摺擦による表面の摩耗や傷の発生等に対する耐久性
が要求される。
That is, as a matter of course, the image holding member has a predetermined sensitivity according to the electrophotographic process to be applied,
It is required to have electrical characteristics and also optical characteristics. Particularly in the case of a photoconductor that can be used repeatedly, the surface layer of the photoconductor is directly subjected to electrical and mechanical external forces such as corona charging, toner development, transfer to paper, and cleaning treatment. Sex is required.
Specifically, due to deterioration caused by ozone and NO x generated during corona charging, sensitivity decrease, potential decrease, residual potential increase,
Also, durability against abrasion and scratches on the surface due to rubbing is required.

【0012】更に、クリーニング性は重要な要素であ
り、クリーニング性を向上させる為には、摩擦抵抗を低
下させることが必須である。
Further, the cleaning property is an important factor, and it is essential to reduce the frictional resistance in order to improve the cleaning property.

【0013】像保持部材の表面は主として樹脂及び光導
電材料等によって構成されるため、特に樹脂の性能が重
要であり、上述の諸特性を満たす優れた樹脂が要望され
ていた。最近になりこれらを満足する樹脂としてポリカ
ーボネート樹脂が表面層のバインダー(結着剤)として
用いられる様になってきた。
Since the surface of the image holding member is mainly composed of a resin and a photoconductive material, the performance of the resin is particularly important, and an excellent resin satisfying the above-mentioned various characteristics has been demanded. Recently, as a resin satisfying these requirements, a polycarbonate resin has come to be used as a binder (binder) for the surface layer.

【0014】しかしながら、その耐久性はアクリル系の
樹脂を用いていた当時の通紙数千〜一万枚ぐらいの耐久
性が、ポリカーボネート樹脂を用いることによって五万
〜十万枚に延びたものの、無機感光体であるSe又はa
−Si(無定形Si)を用いた場合の耐久性三十万〜百
万枚には達することが出来なかった。
However, the durability is about 50,000 to 100,000 sheets, although the durability of several thousand to 10,000 sheets at the time when the acrylic resin was used was extended to 50,000 to 100,000 sheets by using the polycarbonate resin. Se or a that is an inorganic photoconductor
The durability when using -Si (amorphous Si) could not reach 300,000 to 1,000,000 sheets.

【0015】そこで従来の樹脂又は含沸素樹脂等を添加
して保護層を設ける研究が数多くなされているが、感光
層の構成上電荷の移動しない層を設けることに起因し
て、どうしても耐久使用によって残留電位(Vr)が増
加したり、感度が低下するという弊害が見られた。この
問題は保護層の膜厚を薄く例えば、2〜3μm以下に薄
くすることで改善はされるが、従来使用されている樹脂
では耐久使用による摩耗が依然として大きい−耐久性が
改善されない−という結果に終っている。
Therefore, many studies have been made to provide a protective layer by adding a conventional resin or a fluorinated resin, but due to the provision of a layer in which charge does not move due to the constitution of the photosensitive layer, it is inevitably used for durability. As a result, the residual potential (Vr) was increased and the sensitivity was lowered. This problem can be improved by making the thickness of the protective layer thin, for example, 2 to 3 μm or less, but the result is that the conventionally used resin still has large wear due to durable use-the durability is not improved. Has ended.

【0016】更に、ポリテトラフルオロエチレン(以
下、「PTFE」と略称することがある)を添加した樹
脂を保護層に用いる場合に、PTFEの良好なクリーニ
ング特性を引き出すためには柔らかい樹脂を使う必要が
ある。これは感光体の耐久使用と共に表面を少しずつ削
り、フレッシュなPTFEを表面に出す為であり、固い
バインダーではPTFEの効果がうまく発現しないため
である。しかしながら柔らかいバインダーを用いると、
PTFEの効果で保護層の耐久性は増すが、膜が柔らか
いためにクリーニングブレードによる摺擦によるキズ
や、衝撃による割れ(膜の剥離)が発生し易くなる。更
には転写紙の先端あるいは後端等、像保持部材と接触す
ると、その像保持部材の接触部分が、傷になってしまう
ので黒スジ状等の画像欠陥となる。又、耐久使用による
残留電位の増加及び感度低下の問題については通常の保
護層と全く同じ問題を残している。
Further, when a resin containing polytetrafluoroethylene (hereinafter sometimes abbreviated as "PTFE") is used for the protective layer, a soft resin must be used in order to bring out good cleaning characteristics of PTFE. There is. This is because the surface of the photoconductor is gradually scraped as it is used for a long time, so that a fresh PTFE is exposed on the surface, and the effect of PTFE is not well expressed with a hard binder. However, with a soft binder,
The effect of PTFE increases the durability of the protective layer, but since the film is soft, scratches due to rubbing with a cleaning blade and cracks (peeling of the film) due to impact are likely to occur. Further, when the transfer paper comes into contact with the image holding member such as the front end or the rear end of the transfer paper, the contact portion of the image holding member becomes scratched, resulting in image defects such as black stripes. Further, with respect to the problems of increase in residual potential and decrease in sensitivity due to durable use, the same problems as those of the ordinary protective layer remain.

【0017】また、耐摩耗性を改良するために高硬度の
樹脂の使用も考えられるが、ポリカーボネート等を表面
に用いた場合に比べて摩擦抵抗係数が数段大きくなり、
良好なクリーニング特性を得にくいといった点に改良の
余地がある。
It is also possible to use a resin having a high hardness to improve the wear resistance, but the coefficient of frictional resistance becomes several steps higher than that when polycarbonate or the like is used on the surface,
There is room for improvement in that it is difficult to obtain good cleaning characteristics.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】(1)耐久特性を更に
飛躍的に伸長させると共に、安定した電位特性をも備え
た像保持部材を提供すること。 (2)上記像保持部材の製造方法を提供すること。 (3)上記像保持部材を用いた各種装置を提供するこ
と。
(1) To provide an image holding member which is further extended in durability characteristics and has stable potential characteristics. (2) To provide a method for manufacturing the image holding member. (3) To provide various devices using the image holding member.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は高融点ポリエス
テル樹脂及び硬化樹脂及びシリコーン系クシ型グラフト
ポリマーを含有する表面層有することを特徴とする像保
持部材及びその製造方法に関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an image holding member having a surface layer containing a high melting point polyester resin and a cured resin, and a silicone type comb-type graft polymer, and a method for producing the same.

【0020】本発明の表面層を像保持部材に設けること
によって、耐久テストによる削れも殆ど無く、安定した
電位特性を示し、耐久使用後もキズによるスジ画像発生
及び部分的な削れによる濃度の傾きの無い像保持部材を
得ることができ、その結果良好な複写画像を得ることが
可能になった。
By providing the surface layer of the present invention on the image holding member, there is almost no abrasion due to the durability test and stable potential characteristics are exhibited, and even after the durable use, streak image generation due to scratches and density gradient due to partial abrasion are exhibited. It is possible to obtain an image holding member free from defects, and as a result, it is possible to obtain a good copy image.

【0021】本発明の像保持部材を図面に基づいて、以
下に説明する。ここで、図1〜図3は本発明の像保持部
材の内、表面層が保護層であるものの各種態様を示す模
式的断面図である。各図において、同一の符号は同一の
層を表わす。
The image holding member of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, FIGS. 1 to 3 are schematic cross-sectional views showing various aspects of the image holding member of the present invention in which the surface layer is a protective layer. In each figure, the same reference numeral represents the same layer.

【0022】同図において、1は保護層であり、像保持
部材の最外部に位置してその内側の層を保護する。2は
光導電層であるが、本発明の像保持部材中には前述した
如く存在しない場合もある。3は支持体である。4は電
荷輸送層、5は電荷発生層であって、これらの両層の上
下位置関係は何れでも構わない。
In the figure, reference numeral 1 denotes a protective layer, which is located at the outermost portion of the image holding member and protects the inner layer thereof. Reference numeral 2 is a photoconductive layer, but it may not be present in the image holding member of the present invention as described above. 3 is a support. Reference numeral 4 is a charge transport layer, and 5 is a charge generation layer. The upper and lower positions of these two layers may be in any positional relationship.

【0023】保護層1は耐摩耗性について格段に優れて
いるに拘らず、摩擦抵抗が小さいので、像保持部材の表
面保護層として極めて有用である。これは従来の単一種
の樹脂あるいは共重合体樹脂とは異なり、高融点ポリエ
ステル樹脂と硬化樹脂とシリコーン系クシ型グラフトポ
リマーとの混成がそれぞれの樹脂成分の特性を相乗的に
作用させ合った結果、従来にない効果を発現したものと
考えている。
The protective layer 1 is extremely useful as a surface protective layer of an image holding member because it has a small frictional resistance despite its markedly excellent abrasion resistance. This is different from the conventional single resin or copolymer resin, as a result of the mixture of the high melting point polyester resin, the cured resin and the silicone type comb-type graft polymer, which causes the characteristics of each resin component to act synergistically. , I think that it has brought about an effect that has never been seen before.

【0024】本発明の保護層1は極めて強靭であるので
薄膜化が可能であって、保護層の膜厚は3μm以下、望
ましくは0.1〜2μmに設定する。また、像保持部材
としては、必要に応じて光導電層2を有することが出来
る。
Since the protective layer 1 of the present invention is extremely tough, it can be made thin, and the thickness of the protective layer is set to 3 μm or less, preferably 0.1 to 2 μm. Further, as the image holding member, the photoconductive layer 2 can be provided if necessary.

【0025】光導電層としては例えば、Se、a−S
i、ZnO、CdS等の無機光導電性を有する物質又は
有機染料、有機顔料、ポリシラン化合物等の有機光導電
性を有する物質が用いられる。さらに光導電層はその層
構成によって、支持体4上に先ず電荷発生層6、次いで
電荷輸送層5の順番に積層したもの、あるいは支持体4
上に先ず電荷輸送層5、次に電荷発生層6の順番に積層
したもの、あるいは電荷発生物質と電荷輸送物質を混在
させた1以上の層を有するもの等がある。またこれらの
層構成は最小限のもので、必要に応じて中間層を設けて
も差支え無い。本発明で用いた各層(保護層含む)に
は、必要に応じて他の成分を加えることが出来る。該成
分は低分子量物質であるか高分子量物質であるかを問わ
ない。
Examples of the photoconductive layer include Se and aS
A substance having an inorganic photoconductivity such as i, ZnO, CdS or a substance having an organic photoconductivity such as an organic dye, an organic pigment or a polysilane compound is used. Further, the photoconductive layer has a structure in which the charge generation layer 6 and the charge transport layer 5 are laminated in this order on the support 4, or the support 4 depending on the layer structure.
There is a layer in which the charge transport layer 5 and then the charge generation layer 6 are laminated in this order, or a layer having one or more layers in which a charge generation substance and a charge transport substance are mixed. Further, these layer configurations are the minimum, and an intermediate layer may be provided if necessary. Other components can be added to each layer (including the protective layer) used in the present invention, if necessary. It does not matter whether the component is a low molecular weight substance or a high molecular weight substance.

【0026】図4〜図6は本発明の像保持部材の内、表
面層が光導電層であるものの各種態様を示す模式的断面
図である。各図において、同一の符号は同一の層を表わ
す。
4 to 6 are schematic cross-sectional views showing various aspects of the image holding member of the present invention in which the surface layer is a photoconductive layer. In each figure, the same reference numeral represents the same layer.

【0027】同図において、6は光導電層であり、高融
点ポリエステル樹脂、硬化樹脂、シリコーン系クシ型グ
ラフトポリマー、電荷発生物質及び電荷輸送物質から形
成されている。3は支持体である。7は電荷輸送層であ
り、電荷輸送物質、高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹
脂及びシリコーン系クシ型グラフトポリマーから主とし
て形成されている。8は電荷発生層であり、電荷発生物
質から主として形成されている。9は電荷発生層であ
り、電荷発生物質、高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹
脂及びシリコーン系クシ形グラフトポリマーから主とし
て形成されている。10は電荷輸送層であり、電荷輸送
物質から主としてなる。
In the figure, 6 is a photoconductive layer, which is formed of a high melting point polyester resin, a cured resin, a silicone-type comb-type graft polymer, a charge generating substance and a charge transporting substance. 3 is a support. Reference numeral 7 denotes a charge transport layer, which is mainly formed of a charge transport material, a high melting point polyester resin and a cured resin, and a silicone-type comb-type graft polymer. Reference numeral 8 denotes a charge generation layer, which is mainly formed of a charge generation substance. Reference numeral 9 denotes a charge generation layer, which is mainly formed of a charge generation substance, a high melting point polyester resin and a cured resin, and a silicone-type comb-type graft polymer. Reference numeral 10 denotes a charge transport layer, which is mainly composed of a charge transport material.

【0028】光導電層としては例えば、Se、a−Si
(無定形Si)ZnO、CdS等の無機光導電性を有す
る物質又は有機染料、有機顔料、ポリシラン化合物等の
有機光導電性を有する物質が用いられる。さらに光導電
層はその層構成によって、支持体上に先ず電荷発生層、
次いで電荷輸送層の順番に積層したもの、あるいは支持
体上に先ず電荷輸送層、次に電荷発生層の順番に積層し
たもの、あるいは電荷発生物質と電荷輸送物質を混在さ
せた1以上の層を有するもの等がある。またこれらの層
構成は最小限のもので、必要に応じて中間層を設けても
差支え無い。
Examples of the photoconductive layer include Se and a-Si.
(Amorphous Si) An inorganic photoconductive substance such as ZnO or CdS or an organic photoconductive substance such as an organic dye, an organic pigment or a polysilane compound is used. Further, the photoconductive layer is, depending on its layer structure, first a charge generation layer on the support,
Then, a layer in which a charge transport layer is laminated in this order, a layer in which a charge transport layer is formed first on a support, then a layer in which a charge generation layer is formed in this order, or one or more layers in which a charge generation material and a charge transport material are mixed There are things that you have. Further, these layer configurations are the minimum, and an intermediate layer may be provided if necessary.

【0029】本発明の像保持部材の表面層例えば、上述
した如き、保護層1、光導電層6、電荷輸送層7及び電
荷発生層9の形成に用いる樹脂成分について説明する。
The surface layer of the image holding member of the present invention, for example, the resin component used for forming the protective layer 1, the photoconductive layer 6, the charge transport layer 7 and the charge generation layer 9 as described above will be described.

【0030】ポリエステルとは酸成分とアルコール成分
との縮合ポリマーであり、ジカルボン酸とグリコールと
の縮合あるいはヒドロキシ安息香酸等のヒドロキシ基と
カルボキシ基とを有する化合物の縮合によって得られる
重合体である。
The polyester is a condensation polymer of an acid component and an alcohol component, and is a polymer obtained by condensation of dicarboxylic acid and glycol or condensation of a compound having a hydroxy group and a carboxy group such as hydroxybenzoic acid.

【0031】酸成分としてテレフタル酸、イソフタル
酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、
コハク酸、アジピン酸、セバチン酸等の脂肪族ジカルボ
ン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸等の脂環族ジカルボン
酸、ヒドロキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸
等を用いることができる。
Aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid and naphthalene dicarboxylic acid as acid components,
Aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, and sebacic acid, alicyclic dicarboxylic acids such as hexahydroterephthalic acid, and oxycarboxylic acids such as hydroxyethoxybenzoic acid can be used.

【0032】グリコール成分としては、エチレングリコ
ール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンジメ
チロール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール等を使用することができる。
As the glycol component, ethylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, cyclohexanedimethylol, polyethylene glycol, polypropylene glycol or the like can be used.

【0033】なお、前記ポリエステル樹脂が実質的に線
状である範囲でペンタエリスリトール、トリメチロール
プロパン、ピロメリット酸及びこれらのエステル形成誘
導体等の多官能化合物を共重合させても良い。
Polyfunctional compounds such as pentaerythritol, trimethylolpropane, pyromellitic acid and their ester-forming derivatives may be copolymerized within the range where the polyester resin is substantially linear.

【0034】本発明に用いるポリエステル樹脂として
は、高融点ポリエステル樹脂を用いる。
As the polyester resin used in the present invention, a high melting point polyester resin is used.

【0035】高融点ポリエステル樹脂としては、オルソ
クロロフェノール中36℃で測定した極限粘度が0.4
dl/g以上、好ましくは0.5dl/g以上、更に好
ましくは0.65dl/g以上のものが用いられる。
The high melting point polyester resin has an intrinsic viscosity of 0.4 measured at 36 ° C. in orthochlorophenol.
dl / g or more, preferably 0.5 dl / g or more, and more preferably 0.65 dl / g or more are used.

【0036】好ましい高融点ポリエステル樹脂として
は、ポリアルキレンテレフタレート系樹脂が挙げられ
る。ポリアルキレンテレフタレート系樹脂は酸成分とし
て、テレフタール酸、グリコール成分として、アルキレ
ングリコールから主としてなるものである。
Preferred high melting point polyester resins include polyalkylene terephthalate resins. The polyalkylene terephthalate resin is mainly composed of terephthalic acid as an acid component and alkylene glycol as a glycol component.

【0037】その具体例としては、テレフタル酸成分と
エチレングリコール成分とから主としてなるポリエチレ
ンテレフタレート(PET)、テレフタル酸成分と1、
4−テトラメチレングリコール(1、4−ブチレングリ
コール)成分とから主としてなるポリブチレンテレフタ
レート(PBT)、テレフタル酸成分とシクロヘキサン
ジメチロール成分とから主としてなるポリシクロヘキシ
ルジメチレンテレフタレート(PCT)等を挙げること
ができる。他の好ましい高分子量ポリエステル樹脂とし
ては、ポリアルキレンナフタレート系樹脂を例示でき
る。ポリアルキレンナフタレート系樹脂は酸成分として
ナフタレンジカルボン酸成分とグリコール成分としてア
ルキレングリコール成分とから主としてなるものであっ
て、その具体例としては、ナフタレンジカルボン酸成分
とエチレングリコール成分とから主としてなるポリエチ
レンナフタレート(PEN)等を挙げることができる。
Specific examples thereof include polyethylene terephthalate (PET) mainly composed of a terephthalic acid component and an ethylene glycol component, a terephthalic acid component and 1,
Examples include polybutylene terephthalate (PBT) mainly composed of 4-tetramethylene glycol (1,4-butylene glycol) component, polycyclohexyl dimethylene terephthalate (PCT) mainly composed of terephthalic acid component and cyclohexane dimethylol component. it can. Examples of other preferable high molecular weight polyester resins include polyalkylene naphthalate resins. The polyalkylene naphthalate-based resin is mainly composed of a naphthalenedicarboxylic acid component as an acid component and an alkylene glycol component as a glycol component, and specific examples thereof include polyethylene naphthalene dicarboxylic acid component and an ethylene glycol component. Examples thereof include phthalate (PEN).

【0038】高融点ポリエステル樹脂としては、その融
点が好ましくは160℃以上、特に好ましくは200℃
以上のものである。
The high melting point polyester resin has a melting point of preferably 160 ° C. or higher, particularly preferably 200 ° C.
That is all.

【0039】高融点ポリエステル樹脂は、高融点である
が故に、結晶性が高い。この結果、硬化樹脂ポリマー鎖
と高融点ポリマー鎖との相互の絡み合いが均一かつ密に
なって、高耐久性の表面層を形成できるものと考えられ
る。低融点ポリエステル樹脂の場合には、結晶性が低い
ので、硬化樹脂ポリマー鎖との絡み合いの程度が大きい
所と小さい所が生じ、耐久性が劣るものと考えられる。
The high melting point polyester resin has high crystallinity because it has a high melting point. As a result, it is considered that the entanglement between the cured resin polymer chain and the high melting point polymer chain becomes uniform and dense, and a highly durable surface layer can be formed. In the case of a low-melting point polyester resin, since the crystallinity is low, there are places where the degree of entanglement with the cured resin polymer chain is large and places where the degree of entanglement is small, resulting in poor durability.

【0040】高融点ポリエステル樹脂としての特性を損
わない限り、他の熱可塑性樹脂、例えばポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリアリレート、ポリオキシメチレ
ン、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プ
ロピレン共重合体、ポリスチレン、スチレン・ブタジエ
ン共重合体の外、飽和ポリエステル樹脂のオリゴマー等
の少なくとも1種以上を配合することも出来る。
Other thermoplastic resins, such as polycarbonate, polyamide, polyarylate, polyoxymethylene, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, as long as they do not impair the properties of the high melting point polyester resin. In addition to polystyrene, styrene-butadiene copolymer, at least one kind of saturated polyester resin oligomer and the like can be blended.

【0041】本発明に用いる硬化樹脂成分を形成する硬
化性樹脂成分とは、熱又は好ましくは光重合開始剤もし
くは架橋剤及び紫外線の様な光照射等によって重合もし
くは架橋が生じる樹脂である。硬化性樹脂成分として
は、イオン重合性又は架橋性のものが特に好ましい。
The curable resin component forming the curable resin component used in the present invention is a resin which is polymerized or crosslinked by heat or preferably a photopolymerization initiator or a crosslinking agent and irradiation with light such as ultraviolet rays. As the curable resin component, an ionic polymerizable or crosslinkable one is particularly preferable.

【0042】イオン重合性又は架橋性のものは、空気中
の酸素によって重合又は架橋が妨げられないので、表面
層の厚さ方向に硬化が同じように進行し、より耐久性に
優れた表面層を形成するものと考えられる。このような
光イオン硬化性の樹脂としては、エポキシ樹脂、ウレタ
ン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂
及びシリコーン樹脂等が挙げられる。更に好ましくは、
カチオン重合性樹脂成分を挙げることができる。
Ion-polymerizable or cross-linkable ones do not prevent polymerization or cross-linking by oxygen in the air, so that curing proceeds in the same manner in the thickness direction of the surface layer, and the surface layer having more excellent durability. Is thought to form. Examples of such photoion-curable resin include epoxy resin, urethane resin, phenol resin, melamine resin, acrylic resin and silicone resin. More preferably,
A cationically polymerizable resin component can be mentioned.

【0043】カチオン重合性樹脂としては、1分子中に
オキシラン環を2個以上有するエポキシ樹脂を主成分と
するカチオン重合性樹脂の1種又は2種以上の混合物が
好ましい。この種のエポキシ樹脂としては、芳香族型エ
ポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂等が用いられる。
As the cation-polymerizable resin, one or a mixture of two or more cation-polymerizable resins whose main component is an epoxy resin having two or more oxirane rings in one molecule is preferable. As this type of epoxy resin, an aromatic epoxy resin, a novolac epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or the like is used.

【0044】この様な芳香族型エポキシ樹脂としては、
例えば、エピコート828、エピコート834、エピコ
ート836、エピコート1001、エピコート100
4、エピコート1007、エピコート190P、エピコ
ート191P(以上、油化シェルエポキシ社製品の商品
名)、DER331、DER332、DER661、D
ER664、DER667(以上、ダウケミカル社製品
の商品名)、アラルダイト260、アラルダイト28
0、アラルダイト6071、アラルダイト6084、ア
ラルダイト6097(以上、チバガイギー社製品の商品
名)等が挙げられ、それらは単独で又は混合して用いら
れる。
As such an aromatic epoxy resin,
For example, Epicoat 828, Epicoat 834, Epicoat 836, Epicoat 1001, Epicoat 100
4, Epicoat 1007, Epicoat 190P, Epicoat 191P (above, trade name of products of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), DER331, DER332, DER661, D
ER664, DER667 (trade names of Dow Chemical Company products), Araldite 260, Araldite 28
0, Araldite 6071, Araldite 6084, Araldite 6097 (these are trade names of products manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) and the like, and these may be used alone or in combination.

【0045】前記ノボラック型エポキシ樹脂としては、
例えばエピコート152、エピコート154(以上、油
化シェルエポキシ社製品の商品名)、アラルダイトEP
N1138、アラルダイトEPN1139、アラルダイ
トECN1235、アラルダイトECN1273、アラ
ルダイトECN1280、アラルダイトECN1299
(以上、チバガイギー社製品の商品名)等が挙げられ、
それらは単独で又は混合して用いられる。
As the novolac type epoxy resin,
For example, Epicoat 152, Epicoat 154 (these are trade names of oil-based shell epoxy products), Araldite EP
N1138, Araldite EPN1139, Araldite ECN1235, Araldite ECN1273, Araldite ECN1280, Araldite ECN1299
(These are the product names of Ciba-Geigy products)
They are used alone or as a mixture.

【0046】脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、ア
ラルダイトCY175、アラルダイトCY177、アラ
ルダイトCY179、アラルダイトCY192(以上、
チバガイギー社製品の商品名)、ERL4221、ER
L4229、ERL4234(以上、ユニオンカーバイ
ド社製品の商品名)等が挙げられ、それらは単独でまた
は混合して用いられる。
Examples of the alicyclic epoxy resin include Araldite CY175, Araldite CY177, Araldite CY179, Araldite CY192 (above,
Ciba-Geigy product name), ERL4221, ER
L4229, ERL4234 (these are trade names of products manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) and the like can be used alone or in combination.

【0047】その他のブタジエン系エポキシ樹脂等の使
用も可能であり、前記各種エポキシ樹脂を混合したもの
も使用し得る。
It is also possible to use other butadiene type epoxy resins and the like, and it is also possible to use a mixture of the above various epoxy resins.

【0048】本発明に用いられるカチオン重合性化合物
には、硬化特性を低下させない範囲内で単官能エポキシ
希釈剤を使用しても良い。この様な単官能エポキシ希釈
剤としては、例えばフェニルグリシジルエーテル、t−
ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。
For the cationically polymerizable compound used in the present invention, a monofunctional epoxy diluent may be used within a range that does not deteriorate the curing characteristics. Examples of such monofunctional epoxy diluents include phenyl glycidyl ether and t-
Butyl glycidyl ether and the like can be mentioned.

【0049】更に、カチオン重合性ビニル化合物を前記
エポキシ樹脂に混合して使用することも可能であり、そ
の様なカチオン重合性ビニル化合物としては、例えばス
チレン、アリルベンゼン、トリアリルイソシアネート、
トリアリルシアネート、ビニルエーテル、N−ビニルカ
ルバゾール、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。
Furthermore, it is also possible to use a cationically polymerizable vinyl compound mixed with the epoxy resin, and examples of such cationically polymerizable vinyl compound include styrene, allylbenzene, triallyl isocyanate,
Examples thereof include triallyl cyanate, vinyl ether, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone and the like.

【0050】本発明に用いる硬化樹脂の硬化処理は熱硬
化によることも出来るが、紫外線照射による光硬化を行
なうことが望ましい。
The curing treatment of the cured resin used in the present invention can be carried out by heat curing, but it is desirable to perform photocuring by irradiation of ultraviolet rays.

【0051】光硬化させるときは、光重合開始剤が添加
される。紫外線照射によりカチオン重合性化合物の重合
を開始させるルイス酸を遊離する光重合開始剤として
は、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、第V
Ib族又はVb族元素の光感応性芳香族オニウム塩等が
挙げられる。
When photocuring, a photopolymerization initiator is added. Examples of the photopolymerization initiator that releases a Lewis acid that initiates the polymerization of the cationically polymerizable compound by irradiation with ultraviolet rays include aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and Vth groups.
Examples thereof include photosensitive aromatic onium salts of Group Ib or Group Vb elements.

【0052】前記芳香族ジアゾニウム塩とは、次の一般
式(1)で表わされる化合物である:
The aromatic diazonium salt is a compound represented by the following general formula (1):

【0053】[0053]

【外16】 [式中、R1、R2は水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基、R3は水素原子、芳香族基、アミド基又は硫黄原
子により連結された芳香族基、Mは金属又は半金属、Q
はハロゲン原子をそれぞれ表わす。aは1〜6の数であ
り、しかも、a=(b−c)が成立し、bはc<b≦8
の関係を充足する数、cは2〜7の数でMの原子価に等
しい。]例えば、次の化合物を挙げることができる。
[Outside 16] [Wherein R 1 and R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, R 3 is a hydrogen atom, an aromatic group, an amide group or an aromatic group linked by a sulfur atom, M is a metal or a semimetal, and Q is
Each represents a halogen atom. a is a number from 1 to 6, and a = (bc) is established, and b is c <b ≦ 8.
Is a number satisfying the above relation, c is a number of 2 to 7, and is equal to the valence of M. ] For example, the following compounds can be mentioned.

【0054】[0054]

【外17】 等が挙げられる。[Outside 17] Etc.

【0055】前記芳香族ハロニウム塩は一般式 [(R4d(R5eX] + f[MQg-(g-n) (2) [式中、R4は1価の芳香族有機基、R5は2価の芳香族
有機基、Xは例えば、I、Br、Cl等のハロゲン原
子、Mは金属又は半金属、Qはハロゲン原子を表わし、
dは0又は2、eは0又は1であり、gはh<g≦8の
関係を充足する数、かつ(d+e)は2又はXの原子価
に等しい。]で示される化合物であって、例えば、
The aromatic halonium salt is represented by the general formula [(R 4 ) d (R 5 ) e X] + f [MQ g ] -(gn) (2) [wherein R 4 is a monovalent aromatic organic compound]. A group, R 5 is a divalent aromatic organic group, X is a halogen atom such as I, Br and Cl, M is a metal or metalloid, Q is a halogen atom,
d is 0 or 2, e is 0 or 1, g is a number satisfying the relationship of h <g ≦ 8, and (d + e) is equal to 2 or X. ] The compound shown by these, for example,

【0056】[0056]

【外18】 等が挙げられる。[Outside 18] Etc.

【0057】更に、第VIb族元素又は第Vb族元素の
光感応性芳香族オニウム塩とは、一般式(3)で表わさ
れる化合物である: [(R6i(R7j(R8kY] + 1[MQm-(m-n)(3) [式中、R6は1価の芳香族有機基、R7はアルキル基、
シクロアルキル基、置換アルキル基から選ばれた1価の
脂肪族有機基、R8は脂肪族有機基及び芳香族有機基か
ら選ばれた複素環構造を構成する多価有機基、YはS、
Se、Teの第VIb族元素又はN、P、As、Sb及
びBiから選ばれた第Vb族元素、Mは金属又は半金
属、Qはハロゲン原子を表わす。iは0〜4の整数、j
は0〜2の整数、kは0〜2の整数であり、かつ、(i
+j+k)はYの原子価に等しく、Yが第VIb族のと
きは3、Yが第Vb族のときは4に等しく、i=(m−
n)が成立し、mはn<m≦8の関係を充足する数を表
わし、かつ、nは2〜7の整数でMの原子価に等し
い。]第VIb族元素のオニウム塩としては、例えば、
Further, the group VIb element or the photosensitive aromatic onium salt of the group Vb element is a compound represented by the general formula (3): [(R 6 ) i (R 7 ) j (R 8) k Y] + 1 [ MQ m] - (mn) (3) [ wherein, R 6 is a monovalent aromatic organic radical, R 7 is an alkyl group,
A monovalent aliphatic organic group selected from a cycloalkyl group and a substituted alkyl group, R 8 is a polyvalent organic group constituting a heterocyclic structure selected from an aliphatic organic group and an aromatic organic group, Y is S,
A Group VIb element of Se or Te or a Group Vb element selected from N, P, As, Sb and Bi, M represents a metal or a semimetal, and Q represents a halogen atom. i is an integer from 0 to 4, j
Is an integer of 0 to 2, k is an integer of 0 to 2, and (i
+ J + k) is equal to the valence of Y, is equal to 3 when Y is a VIb group, and is equal to 4 when Y is a Vb group, and i = (m-
n) holds, m represents a number satisfying the relationship of n <m ≦ 8, and n is an integer of 2 to 7 and is equal to the valence of M. Examples of the onium salt of the Group VIb element include, for example,

【0058】[0058]

【外19】 等が挙げられる。[Outside 19] Etc.

【0059】また、第Vb族元素のオニウム塩として
は、例えば、
The onium salt of the Vb group element is, for example,

【0060】[0060]

【外20】 等が挙げられる。[Outside 20] Etc.

【0061】本発明に使用される樹脂組成物は溶媒に溶
解し基材に塗布することが望ましい。
The resin composition used in the present invention is preferably dissolved in a solvent and applied to a substrate.

【0062】本発明に使用する潤滑材料としては、テフ
ロン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、塩化ビニル、ナイロン、ポリプロピレン、ポリオキ
シメチレン等の有機高分子粉体、黒鉛、二硫化モリブデ
ン、BN、SiN、Sb23、雲母、CdCl2、フタ
ロシアニン、弗化黒鉛、ZnS、ZnO等の固体潤滑
材、流動パラフィン、マイクロワックス(パラフィ
ン)、低分子量ポリエチレンワックス等の炭化水素系潤
滑材、ステアリン酸、ラウリン酸等の脂肪酸系潤滑材、
ステアリン酸アミド、パルミチン酸アミド、メチレンビ
スステアロアミド等の脂肪酸アミド系潤滑材、エチレン
グリコールモノステアレート、ブチルステアレート、硬
化ヒマシ油等のエステル系潤滑材、セチルアルコール、
ステアリルアルコール等のアルコール系潤滑材、ステア
リン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸類、シリコー
ン、塩素化ビフェニール、フルオロエステル、ポリクロ
ロトリフルオロエチレン、リン酸エステル、ポリフェニ
ルエーテル、ポリグリコール等の合成潤滑材等が挙げら
れる。
As the lubricating material used in the present invention, organic polymer powder such as Teflon, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, polyethylene, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, vinyl chloride, nylon, polypropylene, polyoxymethylene, etc., Solid lubricants such as graphite, molybdenum disulfide, BN, SiN, Sb 2 O 3 , mica, CdCl 2 , phthalocyanine, fluorinated graphite, ZnS, ZnO, liquid paraffin, micro wax (paraffin), low molecular weight polyethylene wax, etc. Hydrocarbon lubricants, fatty acid lubricants such as stearic acid and lauric acid,
Fatty acid amide lubricants such as stearic acid amide, palmitic acid amide, methylene bis stearoamide, ethylene glycol monostearate, butyl stearate, ester lubricants such as hydrogenated castor oil, cetyl alcohol,
Synthesis of alcohol-based lubricants such as stearyl alcohol, metal soaps such as zinc stearate and lead stearate, silicones, chlorinated biphenyls, fluoroesters, polychlorotrifluoroethylene, phosphoric acid esters, polyphenyl ethers, polyglycols, etc. Lubricants and the like can be mentioned.

【0063】これらの潤滑材は、1種または2種以上組
み合わせて用いても良い。
These lubricants may be used alone or in combination of two or more.

【0064】本発明によるシリコーン系クシ型グラフト
ポリマーは、下記一般式(1)および(2)から選ばれ
るシリコーンと下記一般式(3)のシリコーンとの縮合
反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基を有す
る化合物とを共重合させることによって得ることが出来
る。
The silicone-type comb-type graft polymer according to the present invention is polymerizable with a modified silicone which is a condensation reaction product of a silicone selected from the following general formulas (1) and (2) and a silicone of the following general formula (3). It can be obtained by copolymerizing with a compound having a functional group.

【0065】[0065]

【外21】 1〜R5はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基。nは正の整数。
[Outside 21] R 1 to R 5 are groups selected from alkyl groups and aryl groups. n is a positive integer.

【0066】[0066]

【外22】 6およびR7はアルキル基およびアリール基から選ばれ
る基。nは正の整数。
[Outside 22] R 6 and R 7 are groups selected from alkyl groups and aryl groups. n is a positive integer.

【0067】[0067]

【外23】 8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
およびアリール基から選ばれる基、R11はアルキル基お
よびアリール基から選ばれる基、Xはハロゲン原子およ
びアルコキシ基から選ばれる基、nは1〜3の整数。
[Outside 23] R 8 , R 9 and R 10 are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group and an aryl group, R 11 is a group selected from an alkyl group and an aryl group, X is a group selected from a halogen atom and an alkoxy group, n is an integer of 1 to 3.

【0068】本発明で用いられるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーは、主鎖に対してシリコーンを含有する
側鎖が技状にぶらさがった構造を有している。
The silicone-type comb-type graft polymer used in the present invention has a structure in which a silicone-containing side chain is technically dangling from the main chain.

【0069】前記一般式(1)及び(2)で示されるR
1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7はアルキル基又
はアリール基であり、これらは、置換基を有するもので
あってもよい。例えばアルキル基としてメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などであり、ハロゲン原子
などで置換されていても良い。また、アリール基として
はフェニル基、ナフチル基などであり、置換基を有して
も良い。好ましくはメチル基、フェニル基である。nは
平均重合度を示し、1以上1000以下、特には10以
上500以下が好適である。一般式(3)で示されるR
8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子としては弗素、
塩素、臭素、ヨウ素である。アルキル基、アリール基と
も置換基を有しても良く、アルキル基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基などである。アリ
ール基としてはフェニル基、ナフチル基などである。好
ましくは水素原子である。
R represented by the above general formulas (1) and (2)
1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are alkyl groups or aryl groups, which may have a substituent. For example, the alkyl group may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group or the like, which may be substituted with a halogen atom or the like. Further, the aryl group is a phenyl group, a naphthyl group or the like, and may have a substituent. Preferred are a methyl group and a phenyl group. n shows an average degree of polymerization, and is preferably 1 or more and 1000 or less, and particularly preferably 10 or more and 500 or less. R represented by the general formula (3)
8 , R 9 and R 10 are hydrogen atoms, fluorine is a halogen atom,
Chlorine, bromine and iodine. Both the alkyl group and the aryl group may have a substituent, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. It is preferably a hydrogen atom.

【0070】R11はアルキル基として、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などでありハロゲン原子な
どで置換されていても良い。アリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基などであり置換基を有しても良い。好
ましくはメチル基、フェニル基である。
R 11 is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, which may be substituted with a halogen atom or the like. The aryl group is a phenyl group, a naphthyl group or the like and may have a substituent. Preferred are a methyl group and a phenyl group.

【0071】Xはハロゲン原子として弗素、塩素、臭
素、ヨウ素であり、好ましくは塩素原子である。
X is a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine or iodine, preferably a chlorine atom.

【0072】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、プドキシ基などであり、置換基
を有しても良い。
The alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a pudoxy group and the like, which may have a substituent.

【0073】好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、2
−メトキシ−エトキシ基である。nは1〜3の整数であ
る。
Preferably, methoxy group, ethoxy group, 2
A methoxy-ethoxy group. n is an integer of 1 to 3.

【0074】一般式(1)〜(3)の具体例を以下に示
す。
Specific examples of the general formulas (1) to (3) are shown below.

【0075】[0075]

【外24】 [Outside 24]

【0076】[0076]

【外25】 [Outside 25]

【0077】[0077]

【外26】 [Outside 26]

【0078】[0078]

【外27】 [Outside 27]

【0079】[0079]

【外28】 [Outside 28]

【0080】[0080]

【外29】 [Outside 29]

【0081】[0081]

【外30】 [Outside 30]

【0082】[0082]

【外31】 [Outside 31]

【0083】[0083]

【外32】 [Outside 32]

【0084】[0084]

【外33】 [Outside 33]

【0085】[0085]

【外34】 [Outside 34]

【0086】[0086]

【外35】 [Outside 35]

【0087】[0087]

【外36】 [Outside 36]

【0088】一般式(1)および/または一般式(2)
で示されるシリコーンは、(1)と(2)の両方を一般
式(3)のシリコーンと反応させて変性シリコーンを形
成させてもよい。一般式(1)および(2)と一般式
(3)との縮合反応は、通常有機化学反応操作に従いき
わめて円滑に進行し、例えば特開昭58−167606
号公報、特開昭59−126478号公報に開示されて
いるように、その反応モル比や反応条件を制御する事で
安定な変性シリコーンを得ることができる。
General formula (1) and / or general formula (2)
The silicone represented by may react both of (1) and (2) with the silicone of the general formula (3) to form a modified silicone. The condensation reaction between the general formulas (1) and (2) and the general formula (3) usually proceeds extremely smoothly in accordance with the organic chemical reaction operation, and is described in, for example, JP-A-58-167606.
As disclosed in JP-A-59-126478 and JP-A-59-126478, stable modified silicone can be obtained by controlling the reaction molar ratio and reaction conditions.

【0089】重合性官能基を有する化合物としては、ケ
イ素原子を持たない重合性の単量体もしくは末端に重合
性の官能基を有する分子量が1000から10000程
度の比較的低分子量のポリマーからなるマクロモノマー
等が挙げられる。重合性単量体としては、オレフイン系
化合物の例としてエレチン、プロピレン、ブチレンの如
き低分子量直鎖状不飽和炭化水素、塩化ビニル、及びフ
ツ化ビニルの如きハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き
有機酸のビニルエステル、スチレン、スチレン置換体並
びにビニルピリジン及びビニルナフレンの如きその他の
ビニル芳香族化合物、アクリル酸、メタクリル酸、並び
にそれらのエステル、アミド及びアクリロニトリルを含
むアクリル酸、メタクリル酸の誘導体、N−ビニルカル
バゾール、N−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロ
ラクタムの如きN−ビニル化合物、ビニルトリエトキシ
シランの如きビニルケイ素化合物等がある。ジ置換エチ
レンも使用でき、その例としてフツ化ビニリデン、塩化
ビニリデン等である。又無水マレイン酸、マレイン酸及
びフマル酸のエステル等も用いることができる。
The compound having a polymerizable functional group is a macromolecule composed of a polymerizable monomer having no silicon atom or a polymer having a polymerizable functional group at the terminal and having a relatively low molecular weight of about 1,000 to 10,000. Examples thereof include monomers. As the polymerizable monomer, examples of olefin compounds include low molecular weight linear unsaturated hydrocarbons such as eletin, propylene and butylene, vinyl chloride, vinyl halides such as vinyl fluoride, and organic acids such as vinyl acetate. Vinyl esters, styrenes, styrene substitutes and other vinyl aromatic compounds such as vinyl pyridine and vinyl naphthylene, acrylic acid, methacrylic acid, and their acrylic acid, including amide and acrylonitrile, derivatives of methacrylic acid, N-vinyl There are N-vinyl compounds such as carbazole, N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam, and vinylsilicon compounds such as vinyltriethoxysilane. Di-substituted ethylene can also be used, examples of which include vinylidene fluoride and vinylidene chloride. Further, maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid esters can also be used.

【0090】また、重合性単量体は単独または2種以上
のモノマーを組み合わせて使用できる。
The polymerizable monomer may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0091】シリコーン系クシ型グラフトポリマーの重
合法としては、溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法
等のラジカル重合やイオン重合が適用できるが、溶液重
合法によるラジカル重合法が簡便で好ましい。
As a method for polymerizing the silicone-type comb-type graft polymer, radical polymerization such as solution polymerization method, suspension polymerization method, bulk polymerization method and the like can be applied, but the radical polymerization method by the solution polymerization method is simple and preferable. .

【0092】共重合比は変性シリコーンの含有率として
5〜90重量%が好ましく、10〜70重量%が更に好
ましい。得られた重合体の分子量は数平均分子量として
500から100000、特に1000から50000
が好ましい。
The copolymerization ratio of the modified silicone is preferably 5 to 90% by weight, more preferably 10 to 70% by weight. The polymer obtained has a number average molecular weight of 500 to 100,000, particularly 1,000 to 50,000.
Is preferred.

【0093】本発明の樹脂組成物を溶解する溶媒として
は、高融点ポリエステル樹脂を溶解する溶媒としては用
いられるものが使用できるが、一般に、クレゾール類、
クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、
トリクロロプロパン及びテトラクロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素、テトラフルオロエタノール、ヘキサフ
ルオロイソプロパノール等のフッ素含有アルコール等の
1種又は2種以上の混合溶媒が望ましい。
As the solvent for dissolving the resin composition of the present invention, those used as a solvent for dissolving the high melting point polyester resin can be used, but generally, cresols,
Chloroform, dichloroethane, tetrachloroethane,
One or a mixture of two or more kinds of halogenated hydrocarbons such as trichloropropane and tetrachlorobenzene and fluorine-containing alcohols such as tetrafluoroethanol and hexafluoroisopropanol is preferable.

【0094】特に好ましい溶媒はテトラフルオロエタノ
ール、ヘキサフルオロイソプロパノール等のフッ素含有
アルコール又はこれらの1種又は2種以上を含有する混
合溶媒である。これらのフッ素含有アルコールが常用の
塩素系溶媒に比して有利である点としては、それが電子
写真作製に影響を及ぼしにくく、高温、高湿度の環境に
おいても長時間の使用に耐える点である。
A particularly preferred solvent is a fluorine-containing alcohol such as tetrafluoroethanol or hexafluoroisopropanol, or a mixed solvent containing one or more of these. The advantage of these fluorine-containing alcohols over the conventional chlorine-based solvents is that they have little effect on electrophotographic production and can withstand long-term use even in high temperature and high humidity environments. .

【0095】高融点ポリエステル樹脂100重量部に対
する硬化性樹脂の配合比は3〜50重量部、好ましくは
8〜45重量部、更に好ましくは10〜40重量部であ
る。前記ルイス酸遊離型光重合開始剤の配合比は硬化樹
脂100重量部に対して、0.1〜50重量部、好まし
くは1〜30重量部である。またシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーの含有率は像保持部材表面層の重量分率
で0.01〜10%、好ましくは0.01〜5%であ
る。
The mixing ratio of the curable resin to 100 parts by weight of the high melting point polyester resin is 3 to 50 parts by weight, preferably 8 to 45 parts by weight, more preferably 10 to 40 parts by weight. The mixing ratio of the Lewis acid free type photopolymerization initiator is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cured resin. The content of the silicone-type comb-type graft polymer is 0.01 to 10%, preferably 0.01 to 5% by weight of the surface layer of the image holding member.

【0096】塗布方法としては、浸漬法、ロールコータ
ー、バーコーター、スプレー、ハケ塗り等の任意の方法
を用いることができる。特に、浸漬法(ディッピング方
式)は生ずる塗膜の均一性にも優れている点で、好まし
い。
As a coating method, an arbitrary method such as a dipping method, a roll coater, a bar coater, a spray or a brush coating can be used. In particular, the dipping method (dipping method) is preferable because the resulting coating film is excellent in uniformity.

【0097】紫外線の照射条件は室温から高分子量ポリ
エステル樹脂の分解温度までの温度、好ましくはガラス
転移点温度以上で、溶融開始温度以下の温度、特に好ま
しくはガラス転移点温度よりも20℃以上高い温度で溶
融開始温度よりも20℃低い温度以下。照射時間は60
秒以下、好ましくは30秒以下、更に好ましくは5〜1
5秒である。
The irradiation conditions of the ultraviolet rays are from room temperature to the decomposition temperature of the high molecular weight polyester resin, preferably the glass transition temperature or higher and the melting start temperature or lower, particularly preferably 20 ° C. or higher higher than the glass transition temperature. The temperature is lower than the melting start temperature by 20 ° C. or lower. Irradiation time is 60
Seconds or less, preferably 30 seconds or less, more preferably 5 to 1
5 seconds.

【0098】照射条件は得られる架橋物の溶媒不溶解分
の量によって適宜選択される。紫外線としては、一般に
波長200〜500nm、好ましくは300〜400n
mのものが使用される。
Irradiation conditions are appropriately selected depending on the amount of the solvent-insoluble matter of the obtained crosslinked product. The ultraviolet ray generally has a wavelength of 200 to 500 nm, preferably 300 to 400 n.
m is used.

【0099】特定の樹脂成分からなる本発明の表面層は
その硬化物100mgを溶媒10mlに100℃で1時
間加熱攪拌溶解させた後、3Gのガラスフィルターで濾
過洗浄した後に残る不溶解部を130℃で恒温に達する
まで乾燥させた際の不溶解分(ゲル)が10重量%以
上、好ましくは15重量%以上、特に好ましくは20重
量%以上となる量まで紫外線照射を受けることによって
硬化が行なわれる。
The surface layer of the present invention consisting of a specific resin component was prepared by dissolving 100 mg of the cured product in 10 ml of a solvent with heating and stirring for 1 hour at 100 ° C., and then removing the undissolved portion remaining after filtering and washing with a 3G glass filter. Curing is performed by irradiating ultraviolet rays to an amount such that the insoluble matter (gel) when dried to reach a constant temperature at 0 ° C becomes 10% by weight or more, preferably 15% by weight or more, particularly preferably 20% by weight or more. Be done.

【0100】本発明における像支持部材の支持体として
は、例えば以下に示した形態のものを挙げることができ
る。
Examples of the support of the image support member according to the present invention include those having the forms shown below.

【0101】(1)アルミニウム、アルミニウム合金、
耐食綱(ステンレス綱)、銅等の金属を板形状またはド
ラム形状に形成したもの。
(1) Aluminum, aluminum alloys,
Corrosion-resistant steel (stainless steel), copper or other metal formed into a plate or drum shape.

【0102】(2)ガラス、樹脂、紙等の非導電性支持
体や前記(1)の導電性支持体上にアルミニウム、パラ
ジウム、ロジウム、金、白金等の金属を蒸着又はラミネ
ートすることにより薄膜を形成させたもの。
(2) A thin film formed by vapor-depositing or laminating a metal such as aluminum, palladium, rhodium, gold or platinum on a non-conductive support such as glass, resin or paper or the conductive support described in (1) above. Formed.

【0103】(3)ガラス、樹脂、紙等の非導電性支持
体や前記(1)の導電性支持体上に導電性高分子、酸化
スズ、酸化インジウム等の導電性化合物の層を蒸着する
か又は導電性もしくは非導電性高分子との分散塗料とし
て塗布することにより形成させたもの。
(3) A layer of a conductive compound such as a conductive polymer, tin oxide or indium oxide is vapor-deposited on a non-conductive support such as glass, resin or paper or the conductive support described in (1) above. Or, it is formed by applying it as a dispersion paint with a conductive or non-conductive polymer.

【0104】支持体と光導電層との中間にバリヤー機能
又は接着機能を有する下引き層を設けることもできる。
下引き層の膜厚は5μm以下、好ましくは0.1〜3μ
mが適当である。下引き層は例えば、カゼイン、ポリビ
ニルアルコール、ニトロセルロース、ポリアミド(ナイ
ロン6、ナイロン66、ナイロン610、共重合ナイロ
ン、N−アルコキシメチル化ナイロン等)、ポリウレタ
ン又は酸化アルミニウム等によって形成することができ
る。
An undercoat layer having a barrier function or an adhesive function may be provided between the support and the photoconductive layer.
The thickness of the undercoat layer is 5 μm or less, preferably 0.1 to 3 μm
m is suitable. The undercoat layer can be formed of, for example, casein, polyvinyl alcohol, nitrocellulose, polyamide (nylon 6, nylon 66, nylon 610, copolymer nylon, N-alkoxymethylated nylon, etc.), polyurethane, aluminum oxide, or the like.

【0105】本発明に用いられる有効な電荷発生物質と
しては、例えば以下のような物質が挙げられる。これら
の電荷発生物質は単独で用いてもよく、2種以上組み合
わせてもよい。
Examples of effective charge generating substances used in the present invention include the following substances. These charge generating substances may be used alone or in combination of two or more.

【0106】(1)アゾ系顔料:モノアゾ、ビスアゾ、
トリスアゾ等; (2)フタロシアニン系顔料:金属−フタロシアニン、
非金属フタロシアニン等; (3)インジゴ系顔料:インジゴ、チオインジゴ等 (4)ペリレン系顔料:ペリレン酸無水物、ペリレン酸
イミド等; (5)多環キノン系顔料:アンスラキノン、ピレンキノ
ン等の縮合環化合物; (6)スクワリリウム色素; (7)ピリリウム塩、チオピリリウム塩類; (8)トリフェニルメタン系色素; (9)セレン、非晶質シリコン等の無機物質。
(1) Azo pigments: monoazo, bisazo,
(2) Phthalocyanine-based pigment: metal-phthalocyanine,
(3) Indigo pigments: indigo, thioindigo, etc. (4) Perylene pigments: perylene anhydride, perylene imide, etc. (5) Polycyclic quinone pigments: condensed rings of anthraquinone, pyrenequinone, etc. Compounds: (6) squarylium dyes; (7) pyrylium salts, thiopyrylium salts; (8) triphenylmethane dyes; (9) inorganic substances such as selenium and amorphous silicon.

【0107】電荷発生物質を含有する層、すなわち、電
荷発生層6は前記のような電荷発性物質を例えば適当な
結着剤に分散し、これを支持体上に塗工することにより
形成させることができる。また、支持体4上に蒸着、ス
パッタ、CVD等の乾式法で薄膜を形成させることによ
っても作製することができる。
The layer containing the charge-generating substance, that is, the charge-generating layer 6 is formed by dispersing the above-mentioned charge-generating substance in, for example, a suitable binder, and coating this on a support. be able to. It can also be manufactured by forming a thin film on the support 4 by a dry method such as vapor deposition, sputtering or CVD.

【0108】上記結着剤(バインダー)としては広範囲
な結着性樹脂から選択でき、例えば、ポリカーボネート
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラ
ール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹
脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体
樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
The binder can be selected from a wide range of binder resins, for example, polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, butyral resin, polystyrene resin, polyvinyl acetal resin, diallyl phthalate resin, acrylic resin. , Methacrylic resin, vinyl acetate resin, phenol resin, silicone resin, polysulfone resin, styrene-butadiene copolymer resin, alkyd resin, epoxy resin, urea resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, and the like. It is not limited to.

【0109】これらは単独または共重合体として用いる
ことができる外に1種または2種以上混合して用いても
よい。電荷発生層中に含有される樹脂の量は80量%以
下、好ましくは、0〜40重量%に選ぶ。また電荷発生
層の膜厚は5μm以下、特に0.01μm〜1μmの膜
厚をもつ薄膜層とすることが好ましい。
These may be used alone or as a copolymer, and may be used alone or in combination of two or more. The amount of resin contained in the charge generation layer is selected to be 80% by weight or less, preferably 0 to 40% by weight. The thickness of the charge generation layer is 5 μm or less, and preferably a thin film layer having a thickness of 0.01 μm to 1 μm.

【0110】また、電荷発生層には種々の増感剤を添加
してもよい。
Various sensitizers may be added to the charge generation layer.

【0111】電荷輸送層は電荷発生層の上又は下に設け
られ、電界の存在下で電荷発生層から電荷キャリアを受
取り、これを輸送する機能を有している。電荷輸送層5
は電荷輸送物質を必要に応じて適当なバインダーと共に
溶剤中に溶解し、塗布することによって形成され、その
膜厚は一般的には5〜40μmであるが、15〜30μ
mが好ましい。
The charge transport layer is provided above or below the charge generation layer and has a function of receiving charge carriers from the charge generation layer in the presence of an electric field and transporting them. Charge transport layer 5
Is formed by dissolving a charge-transporting substance in a solvent together with a suitable binder as necessary and applying it, and its film thickness is generally 5 to 40 μm, but 15 to 30 μm.
m is preferred.

【0112】電荷輸送物質としては電子輸送物質と正孔
輸送物質があり電子輸送物質としては、例えば2,4,
7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラ
ニトロフルオレノン、クロラニル、テトラシアノキノジ
メタン等の電子吸引性物質やこれら電子吸引性物質を高
分子化したもの等が挙げられる。
The charge transport material includes an electron transport material and a hole transport material, and the electron transport material is, for example, 2, 4,
Examples thereof include electron-withdrawing substances such as 7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitrofluorenone, chloranil and tetracyanoquinodimethane, and polymers obtained by polymerizing these electron-withdrawing substances.

【0113】正孔輸送物質としては、ピレン、アントラ
セン等の多環芳香族化合物;カルバゾール、インドー
ル、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサ
ジアゾール、ピラゾール、ピラゾリン、チアジアゾー
ル、トリアゾール等の複素環化合物;p−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−N,N−ジフェニルヒドラゾン、
N,N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−
エチルカルバゾール等のヒドラゾン系化合物;α−フェ
ニル−4’−N,N−ジフェニルアミノスチルベン、5
−[4−(ジ−p−トリルアミノ)ベンジリデン]−5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン等のスチリル系
化合物;ベンジジン系化合物;トリアリールメタン系化
合物;トリフェニルアミンあるいは、これらの化合物か
らなる基を主鎖または側鎖に有するポリマー(例えばポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン
等)が挙げられる。
As the hole-transporting substance, polycyclic aromatic compounds such as pyrene and anthracene; heterocyclic compounds such as carbazole, indole, imidazole, oxazole, thiazole, oxadiazole, pyrazole, pyrazoline, thiadiazole and triazole; p- Diethylaminobenzaldehyde-N, N-diphenylhydrazone,
N, N-diphenylhydrazino-3-methylidene-9-
Hydrazone compounds such as ethylcarbazole; α-phenyl-4′-N, N-diphenylaminostilbene, 5
-[4- (di-p-tolylamino) benzylidene] -5
A styryl compound such as H-dibenzo [a, d] cycloheptene; a benzidine compound; a triarylmethane compound; triphenylamine or a polymer having a group composed of these compounds in its main chain or side chain (for example, poly-N). -Vinylcarbazole, polyvinylanthracene, etc.).

【0114】これらの有機電荷輸送物質の他にセレン、
セレン−テルル、アモルファスシリコン(α−Si)、
硫化カドミウム等の無機材料も用いることができる。
In addition to these organic charge transport materials, selenium,
Selenium-tellurium, amorphous silicon (α-Si),
Inorganic materials such as cadmium sulfide can also be used.

【0115】またこれらの電荷輸送物質は1種または2
種以上組み合わせて用いることができる。
These charge transport materials may be used alone or in combination.
A combination of two or more species can be used.

【0116】電荷輸送物質が成膜性を有していない場合
には適当なバインダー(結着性樹脂)を用いることがで
きる。バインダーとして具体的には、アクリル樹脂、ポ
リアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
スチレン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー樹
脂、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリアミド、
塩素化ゴム等の絶縁性樹脂又はエラストマー、ポリーN
−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン等の有
機光導電性ポリマー等が挙げられる。
When the charge transport material has no film-forming property, a suitable binder (binding resin) can be used. Specifically as the binder, acrylic resin, polyarylate, polyester, polycarbonate, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polysulfone, polyacrylamide, polyamide,
Insulating resin or elastomer such as chlorinated rubber, Poly N
Examples include organic photoconductive polymers such as vinylcarbazole and polyvinylanthracene.

【0117】本発明の別の具体例として、前述のアゾ顔
料と電荷輸送物質とを同一層に含有させた像保持部材を
挙げることができる。この際、前述の電荷輸送物質とし
てポリーN−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレ
ノンからなる電荷移動錯体を用いることもできる。
Another specific example of the present invention is an image holding member containing the above-mentioned azo pigment and charge transporting substance in the same layer. At this time, a charge transfer complex composed of poly-N-vinylcarbazole and trinitrofluorenone can be used as the above-mentioned charge transport material.

【0118】この例の像保持部材は前述のアゾ顔料と電
荷輸送物質とを適当な樹脂溶液中に分散させた液を支持
体上に塗布乾燥して形成させることができる。
The image-holding member of this example can be formed by applying a liquid prepared by dispersing the above-mentioned azo pigment and charge-transporting substance in a suitable resin solution onto a support and drying it.

【0119】本発明による光導電層を有する像保持部材
は電子写真感光体として電子写真複写機に使用するのみ
ならず、レーザービームプリンター、CRTプリンタ
ー、LEDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版
及びファクシミリ用のプリンター等の電子写真応用分野
にも広く用いることができる。
The image holding member having the photoconductive layer according to the present invention is used not only for electrophotographic copying machines as electrophotographic photoreceptors but also for laser beam printers, CRT printers, LED printers, liquid crystal printers, laser plate making and facsimiles. It can be widely used in electrophotographic application fields such as printers.

【0120】本発明の像保持部材の中で、光導電層を有
しない像保持部材の例としては、支持体上に静電潜像も
しくはトナー像を保持する目的で支持体の上に表面層、
又は支持体の上に誘電体層を介して表面層を設けたもの
で、表面層は高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹脂特
に、光イオン硬化樹脂を含み、さらにシリコーン系クシ
型グラフトポリマーを含む層として形成させられたもの
が挙げられる。
Among the image holding members of the present invention, examples of the image holding member having no photoconductive layer include a surface layer on the support for the purpose of holding an electrostatic latent image or a toner image. ,
Alternatively, a surface layer is provided on a support through a dielectric layer, and the surface layer contains a high melting point polyester resin and a curable resin, especially a photoion curable resin, and a layer containing a silicone-based comb-type graft polymer. The thing formed is mentioned.

【0121】光導電層を有しない像保持部材の応用例と
しては、トナー層もしくは静電潜像の中間転写部材又は
静電記録部材等が挙げられる。
Application examples of the image holding member having no photoconductive layer include a toner layer, an intermediate transfer member for an electrostatic latent image, an electrostatic recording member and the like.

【0122】図7に本発明の像保持部材を装着したドラ
ム型感光体を用いた一般的な転写式電子写真装置の概略
構成を示す。
FIG. 7 shows a schematic structure of a general transfer type electrophotographic apparatus using a drum type photoconductor on which the image holding member of the present invention is mounted.

【0123】図7において、41は像担持部材としての
ドラム型感光体であり、軸41aを中心に矢印方向に所
定の周速度で回転駆動される。該感光体41はその回転
過程で、帯電手段42によって、その周面に正又は負の
所定電位の均一帯電を受け、次いで露光部43におい
て、不図示の像露光手段により、光像露光L(スリット
露光、レーザービーム走査露光等)を受ける。これによ
り感光体周面に露光像に対応した静電潜像が順次形成さ
れる。
In FIG. 7, reference numeral 41 is a drum type photosensitive member as an image bearing member, which is rotationally driven around the shaft 41a in the direction of the arrow at a predetermined peripheral speed. During the rotation of the photoconductor 41, the peripheral surface of the photoconductor 41 is uniformly charged with a positive or negative predetermined potential by the charging means 42. Then, in the exposure section 43, the light image exposure L ( Slit exposure, laser beam scanning exposure, etc.). As a result, electrostatic latent images corresponding to the exposed images are sequentially formed on the peripheral surface of the photoconductor.

【0124】その静電潜像は、次で現像手段44でトナ
ー現像され、そのトナー現像像が転写手段45により、
不図示の給紙部から感光体41と転写手段45との間に
感光体41の回転と同期取りされて給送された転写材P
の面に順次転写される。
The electrostatic latent image is then developed with toner by the developing means 44, and the toner developed image is transferred by the transfer means 45.
A transfer material P fed from a sheet feeding unit (not shown) between the photoconductor 41 and the transfer means 45 in synchronization with the rotation of the photoconductor 41.
Are sequentially transferred to the surface.

【0125】像転写を受けた転写材Pは感光体面から分
離されて像定着手段48へ導入されて像定着を受け、複
写物(コピー)として機外へプリントアウトされる。
The transfer material P that has received the image transfer is separated from the surface of the photoconductor and is introduced into the image fixing means 48 to undergo the image fixing, and is printed out as a copy.

【0126】像転写後の感光体41の表面はクリーニン
グ手段46によって転写残りトナーの除去を受けて清浄
面化されて繰り返して像形成に使用される。
The surface of the photoconductor 41 after the image transfer is cleaned by the cleaning means 46 to remove the residual toner after transfer, and is repeatedly used for image formation.

【0127】感光体41の均一帯電手段42としてはコ
ロナ帯電装置が一般に広く使用されている。また、転写
装置45としても、コロナ転写手段が広く一般に使用さ
れている。電子写真装置して、上述の感光体41、現像
手段44及びクリーニング手段46等の構成要素のう
ち、複数のものを装置ユニットとして一体に結合して構
成し、このユニットを装置本体に対して着脱自在に構成
しても良い。例えば、感光体41とクリーニング手段4
6とを一体化して単一の装置ユニットとし、装置本体の
レール等の案内手段を用いて着脱自在の構成にしても良
い。この際に、上記の装置ユニットの方に帯電手段42
及び/又は現像手段44を伴って構成しても良い。
As the uniform charging means 42 for the photoconductor 41, a corona charging device is generally widely used. Also, as the transfer device 45, corona transfer means is widely and generally used. In the electrophotographic apparatus, a plurality of constituent elements such as the photoconductor 41, the developing unit 44, and the cleaning unit 46 described above are integrally combined as an apparatus unit, and the unit is attached to and detached from the apparatus main body. It may be configured freely. For example, the photoconductor 41 and the cleaning unit 4
6 and 6 may be integrated into a single device unit, and may be detachably configured by using guide means such as a rail of the device body. At this time, the charging means 42 is attached to the device unit.
And / or the developing unit 44 may be included.

【0128】また、光像露光Lは電子写真装置を複写機
又はプリンターとして使用する場合には、原稿からの反
射光、透過光又は原稿を読み取り信号化し、この信号に
よってレーザービームの走査、発光ダイオードアレイの
駆動又は液晶シャッターアレイの駆動等によって行なわ
れる。
When the electrophotographic apparatus is used as a copying machine or a printer, the light image exposure L is reflected light from a manuscript, transmitted light or a manuscript is read out and converted into a signal, and scanning of a laser beam and a light emitting diode are performed by this signal. This is performed by driving the array, driving the liquid crystal shutter array, or the like.

【0129】また、ファクシミリのプリンターとして使
用する場合には、光像露光Lは受信データをプリントす
る為の露光になる。第5図はこの場合の1例をブロック
図で示したものである。
When used as a facsimile printer, the optical image exposure L becomes an exposure for printing the received data. FIG. 5 is a block diagram showing an example of this case.

【0130】第5図において、コントローラ51は画像
読み取り部50とプリンター59を制御する。コントロ
ーラ51の全体はCPU57によって制御されている。
画像読み取り部からの読み取りデータは送信回路53を
通して相手局に送信される。
In FIG. 5, the controller 51 controls the image reading section 50 and the printer 59. The entire controller 51 is controlled by the CPU 57.
The read data from the image reading unit is transmitted to the partner station through the transmission circuit 53.

【0131】相手局から受けたデータは受信回路52を
通してプリンター59に送られる。画像メモリ56に
は、所定の画像データが記憶される。プリンタコントロ
ーラ58はプリンター59を制御している。54は電話
である。
The data received from the partner station is sent to the printer 59 through the receiving circuit 52. The image memory 56 stores predetermined image data. The printer controller 58 controls the printer 59. 54 is a telephone.

【0132】回線55から受信された画像(回線を介し
て接続されたリモート端末からの画像情報)は受信回路
52で復調された後に、CPU57で画像情報の復号処
理が行なわれて順次画像メモリ56に格納される。そし
て、少なくとも1頁分の画像が画像メモリ56に格納さ
れると、その頁の画像記録を行なう。CPU57は画像
メモリ56から1頁分の画像情報を読み出してプリンタ
ーコントローラ58に復号化された1頁分の画像情報を
送出する。プリンターコントローラ58はCPU57か
らの1頁分の画像情報を受け取ると、その頁の画像情報
記録を行なうべく、プリンター59を制御する。なお、
CPU57はプリンター59による記録中に次の頁分の
受信を行なっている。
The image received from the line 55 (image information from the remote terminal connected via the line) is demodulated by the receiving circuit 52, and then the CPU 57 decodes the image information to successively process the image memory 56. Stored in. When an image for at least one page is stored in the image memory 56, the image of that page is recorded. The CPU 57 reads out the image information for one page from the image memory 56 and sends the decoded image information for one page to the printer controller 58. When the printer controller 58 receives the image information for one page from the CPU 57, the printer controller 58 controls the printer 59 to record the image information of the page. In addition,
The CPU 57 is receiving the next page during recording by the printer 59.

【0133】以上の様に、本発明の像保持部材を装着し
た電子写真装置をプリンターとして、画像の受信と記録
とが行なわれ得る。
As described above, an electrophotographic apparatus equipped with the image holding member of the present invention can be used as a printer to receive and record images.

【0134】[0134]

【実施例】【Example】

実施例1−1 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これにアルコキシメチル化ナイロンの5
%メタノール溶液を浸漬法で塗布して、膜厚1μmの下
引き層(中間層)を設けた。
Example 1-1 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a base, on which an alkoxymethylated nylon 5 was added.
% Methanol solution was applied by a dipping method to form an undercoat layer (intermediate layer) having a film thickness of 1 μm.

【0135】次に下記構造式の顔料を10部(重量部、
以下同様)、ポリビニルブチラール8部
Next, 10 parts by weight of a pigment having the following structural formula (parts by weight,
The same applies hereinafter), 8 parts of polyvinyl butyral

【0136】[0136]

【外37】 およびシクロヘキサノン50部を直径1mmのガラスビ
ーズ100部を用いたサンドミル装置で20時間混合分
散した。この分散液にメチルエチルケトン70〜120
(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、100℃で5
分間乾燥して0.2μmの電荷発生層を形成させた。
[Outside 37] And 50 parts of cyclohexanone were mixed and dispersed in a sand mill apparatus using 100 parts of glass beads having a diameter of 1 mm for 20 hours. Methyl ethyl ketone 70-120 was added to this dispersion.
(Appropriately) parts are added and coated on the undercoat layer, and the mixture is applied at 100 ° C for 5
It was dried for a minute to form a 0.2 μm charge generation layer.

【0137】次にこの電荷発生層の上に下記構造式スチ
リル化合物10部と
Next, on the charge generation layer, 10 parts of the following styryl compound represented by the structural formula:

【0138】[0138]

【外38】 ビスフェノールZ型ポリカーボネート10部をモノクロ
ルベンゼン65部に溶解した。この溶液をディッピング
法によって基体上に塗布し、120℃で60分間の熱風
乾燥させて、20μm厚の電荷輸送層を形成させた。
[Outside 38] 10 parts of bisphenol Z-type polycarbonate was dissolved in 65 parts of monochlorobenzene. This solution was applied onto a substrate by a dipping method and dried with hot air at 120 ° C. for 60 minutes to form a 20 μm thick charge transport layer.

【0139】次にこの電荷輸送層の上に以下の方法で膜
厚1.0μmの保護層を設けた。
Next, a protective layer having a thickness of 1.0 μm was formed on the charge transport layer by the following method.

【0140】酸成分としてテレフタル酸を、またグリコ
ール成分としてエチレングリコールを用いて得られた高
融点ポリエチレンテレフタレート(A)(極限粘度0.
70dl/g、融点258℃(示差熱測定器を用いて1
0℃/分の昇温速度で測定した。また、測定サンプルは
5mgで測定しようとするポリエステル樹脂を280℃
で溶融後、0℃の氷水で急冷して作成した。以下の実施
例において同じ)、ガラス転移点温度70℃)100部
とエポキシ樹脂(B)[エポキシ当量160;芳香族エ
ステルタイプ;商品名:エピコート190P(油化シェ
ルエポキシ社製)]30部とをフェノールとテトラクロ
ロエタン(1:1)混合液100mlに溶解させた。次
いで、光重合開始剤としてトリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート(C)3部を添加し次いで
変性シリコーンとして一般式(1)−1:n平均30及
び(3)−48、変性シリコーン30部を用い、共重合
単量体としてメチルメタクリレート70部を用いて合成
したシリコーン系クシ型グラフトポリマー2部を添加
し、樹脂組成物溶液を調製した。
A high melting point polyethylene terephthalate (A) obtained by using terephthalic acid as an acid component and ethylene glycol as a glycol component (intrinsic viscosity of 0.
70 dl / g, melting point 258 ° C (1 using a differential calorimeter)
It measured at the temperature rising rate of 0 degree-C / min. Also, the measurement sample is 5 mg, and the polyester resin to be measured is 280 ° C.
It was prepared by melting after melting at 0.degree. C. and quenching with ice water at 0.degree. The same in the following examples), glass transition temperature 70 ° C.) 100 parts, and epoxy resin (B) [epoxy equivalent 160; aromatic ester type; trade name: Epicoat 190P (produced by Yuka Shell Epoxy Co.)] 30 parts Was dissolved in 100 ml of a mixed solution of phenol and tetrachloroethane (1: 1). Then, 3 parts of triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (C) was added as a photopolymerization initiator, and then 30 parts of modified silicones of general formulas (1) -1: n average 30 and (3) -48 were used. A resin composition solution was prepared by adding 2 parts of a silicone-based comb type graft polymer synthesized by using 70 parts of methyl methacrylate as a comonomer.

【0141】光の照射条件としては、2kw高圧水銀灯
(30w/cm)を20cm離した位置から130℃で
8秒間照射して硬化させた。
As the light irradiation conditions, a 2 kw high-pressure mercury lamp (30 w / cm) was irradiated at 130 ° C. for 8 seconds from a position 20 cm apart to cure the light.

【0142】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機[商品名:NP−3525(キヤノン社製)]に装
着し、温度24℃及び相対湿度55%で通紙60万枚の
耐久テストを行った。結果を表1−1に示す。
The photoconductor drum thus manufactured was mounted on a copying machine [trade name: NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], and a durability test was conducted on 600,000 sheets of paper at a temperature of 24 ° C. and a relative humidity of 55%. went. The results are shown in Table 1-1.

【0143】比較例1−1 実施例1−1で用いた保護層を用いない以外には実施例
1−1と同様の感光体を作製し、実施例1−1と同様に
耐久テストを行った。結果を表1−1に示す。
Comparative Example 1-1 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the protective layer used in Example 1-1 was not used, and a durability test was conducted in the same manner as in Example 1-1. It was The results are shown in Table 1-1.

【0144】比較例1−2 実施例1−1で用いた保護層の代りに、電荷輸送層(C
TL)で用いたものと同じバインダーとして、ビスフェ
ノールZ型ポリカーボネート4部とモノクロルベンゼン
70部、PTFE微粉末1部をサンドミルで10時間混
合分散して塗工液を作製した。この塗工液をスプレー法
でCTL上に膜厚1.0μmになるように塗布して保護
層とし、実施例1−1と同様に耐久テストを行った。そ
の結果を表1−1に示す。
Comparative Example 1-2 Instead of the protective layer used in Example 1-1, a charge transport layer (C
As a binder used in TL), 4 parts of bisphenol Z type polycarbonate, 70 parts of monochlorobenzene, and 1 part of PTFE fine powder were mixed and dispersed in a sand mill for 10 hours to prepare a coating liquid. This coating solution was applied onto the CTL by spraying so as to have a film thickness of 1.0 μm to form a protective layer, and a durability test was conducted in the same manner as in Example 1-1. The results are shown in Table 1-1.

【0145】比較例1−3 比較例1−2で用いた保護層の膜厚が12.0μmにな
るように塗工液を再調合し、スプレーで塗布して厚さ1
2.0μmの保護層を設け、実施例1−1と同様に耐久
テストを行った。結果を表1−1に示す。
Comparative Example 1-3 A coating solution was re-prepared so that the protective layer used in Comparative Example 1-2 had a thickness of 12.0 μm, and spray-applied to a thickness of 1
A protective layer having a thickness of 2.0 μm was provided, and a durability test was conducted as in Example 1-1. The results are shown in Table 1-1.

【0146】この様にして作成した感光体ドラムを複写
機[商品名:NP−3525(キヤノン社製)]に装着
して実施例1−1と同様に通紙60万枚の耐久テストを
行った。結果を表1−1に示す。
The photoconductor drum thus prepared was mounted on a copying machine [trade name: NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], and a durability test of 600,000 sheets of paper was conducted in the same manner as in Example 1-1. It was The results are shown in Table 1-1.

【0147】実施例1−2 酸成分としてテレフタル酸を、グリコール成分としてエ
チレングリコール80モル%とポリエチレングリコール
[分子量1000]20モル%を用いて得られた高融点
ポリエステル樹脂(極限粘度0.68dl/g、融点2
10℃、ガラス転移温度68℃)を用い、シリコーン系
クシ型グラフトポリマーを変性シリコーンとして一般式
(1)−2:n平均30及び(3)−47、変性シリコ
ーン30部を用い、共重合単量体としてメチルメタクリ
レート80部を用いて合成したシリコーン系クシ型グラ
フトポリマー3部を添加した以外には実施例1−1と同
様の実験を行った。結果を表1−1に示す。
Example 1-2 High melting point polyester resin obtained by using terephthalic acid as an acid component and 80 mol% of ethylene glycol and 20 mol% of polyethylene glycol [molecular weight 1000] as a glycol component (intrinsic viscosity 0.68 dl / g, melting point 2
10 ° C., glass transition temperature 68 ° C.), the silicone-type comb-type graft polymer is used as a modified silicone, and the general formulas (1) -2: n average 30 and (3) -47 are used, and 30 parts of the modified silicone is used. An experiment similar to that of Example 1-1 was performed, except that 3 parts of a silicone-type comb-type graft polymer synthesized by using 80 parts of methyl methacrylate as a monomer was added. The results are shown in Table 1-1.

【0148】実施例1−3 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール63モル%とポリエチレングリコール
37モル%との混合物を用いて得られた高融点ポリエス
テル樹脂(極限粘度0.67dl/g、融点195℃、
ガラス転移温度65℃)を用いた外には実施例1−1と
同様の実験を行った。その結果を表1−1に示す。
Example 1-3 High melting point polyester resin obtained by using terephthalic acid as an acid component and a mixture of 63 mol% of ethylene glycol and 37 mol% of polyethylene glycol as a glycol component (intrinsic viscosity 0.67 dl / g, Melting point 195 ° C,
The same experiment as in Example 1-1 was performed except that the glass transition temperature of 65 ° C. was used. The results are shown in Table 1-1.

【0149】実施例1−4 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール50モル%とポリエチレングリコール
50モル%との混合物を用いて得られた高融点ポリエス
テル樹脂(極限粘度0.66dl/g、融点180℃、
ガラス転移温度64℃)を用いた外には実施例1−2と
同様の実験を行った。その結果を表1−1に示す。
Example 1-4 High melting point polyester resin (intrinsic viscosity 0.66 dl / g, obtained by using terephthalic acid as an acid component and a mixture of 50 mol% of ethylene glycol and 50 mol% of polyethylene glycol as a glycol component) Melting point 180 ° C,
The same experiment as in Example 1-2 was performed except that the glass transition temperature of 64 ° C. was used. The results are shown in Table 1-1.

【0150】実施例1−5 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール40モル%とポリエチレングリコール
60モル%との混合物を用いて得られた高融点ポリエス
テル樹脂(極限粘度0.64dl/g、融点161℃、
ガラス転移温度60℃)を用い、さらにシリコーン系ク
シ型グラフトポリマーを変性シリコーンとして一般式
(2)−26:n平均300、及び(3)−58、変性
シリコーン20部を用い、共重合単量体としてスチレン
/メチルメタクリレート=30部/50部を用いて合成
したシリコーン系クシ型グラフトポリマー3部を添加し
た以外には実施例1−1と同様の実験を行った。結果を
表1−1に示す。
Example 1-5 High melting point polyester resin (intrinsic viscosity 0.64 dl / g, obtained by using terephthalic acid as an acid component and a mixture of 40 mol% of ethylene glycol and 60 mol% of polyethylene glycol as a glycol component) Melting point 161 ° C.,
Glass transition temperature of 60 ° C.), the silicone-type comb-type graft polymer is used as a modified silicone, and general formulas (2) -26: n average 300, and (3) -58, and 20 parts of modified silicone are used, and a copolymerization monomer is used. The same experiment as in Example 1-1 was carried out except that 3 parts of the silicone-type comb-type graft polymer synthesized by using styrene / methyl methacrylate = 30 parts / 50 parts as a body was added. The results are shown in Table 1-1.

【0151】実施例1−6 熱硬化樹脂としてエポキシ樹脂[エポキシ当量184〜
194;ビスフェノール系;商品名:エピコート828
(油化シェルエポキシ社製)]を用いた以外には実施例
1−5と同様の実験を行った。結果を表1−1に示す。
Examples 1-6 Epoxy resin [epoxy equivalent 184-
194; Bisphenol type; Trade name: Epikote 828
(Oilized Shell Epoxy Co., Ltd.)] was used, and the same experiment as in Example 1-5 was performed. The results are shown in Table 1-1.

【0152】実施例1−7 実施例1−1で用いたエポキシ樹脂の量を10部にした
以外には実施例1−1と同様の感光体を作製して同例と
同様に耐久テストを行った。結果を表1−1に示す。用
いた保護層の膜厚は0.8μmであった。
Example 1-7 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the amount of the epoxy resin used in Example 1-1 was changed to 10 parts. went. The results are shown in Table 1-1. The protective layer used had a thickness of 0.8 μm.

【0153】実施例1−8 実施例1−1で用いた高圧水銀灯光を5秒間照射した以
外には実施例1−5と全く同様の感光体を作製して同例
と同様に耐久テストを行った。結果を表1−1に示す。
用いた保護層の膜厚は0.9μmであった。
Example 1-8 Except for irradiating the high pressure mercury lamp light used in Example 1-1 for 5 seconds, a photosensitive member exactly the same as in Example 1-5 was prepared and a durability test was conducted in the same manner as in the same example. went. The results are shown in Table 1-1.
The protective layer used had a thickness of 0.9 μm.

【0154】実施例1−9 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例1−1で用いたアルコキ
シメチル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗
布し、膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。次に
電荷発生物質であるε型Cu−PC3部と電荷輸送物質
である次の構造式のヒドラゾン化合物6部、
Example 1-9 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a base. A 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon used in Example 1-1 was applied thereto by a dipping method to form an undercoat layer (intermediate layer) having a film thickness of 1 μm. Next, 3 parts of ε-type Cu-PC which is a charge generating substance and 6 parts of a hydrazone compound of the following structural formula which is a charge transporting substance,

【0155】[0155]

【外39】 実施例1−1で用いたビスフェノールZ型ポリカーボネ
ート6部及びモノクロルベンゼン50部をサンドミルで
30時間混合分散して塗工液を作製した。この塗工液を
基体上にスプレー法で塗布し、膜厚が20μmの感光層
を形成させた。
[Outside 39] 6 parts of the bisphenol Z-type polycarbonate used in Example 1-1 and 50 parts of monochlorobenzene were mixed and dispersed in a sand mill for 30 hours to prepare a coating liquid. This coating solution was applied onto a substrate by a spray method to form a photosensitive layer having a film thickness of 20 μm.

【0156】次にこの感光層の上に実施例1−1と同様
にして膜厚1.0μmの保護層を形成させ、同様にその
耐久テストを行った。その結果を表1−1に示す。
Then, a protective layer having a thickness of 1.0 μm was formed on this photosensitive layer in the same manner as in Example 1-1, and the durability test was conducted in the same manner. The results are shown in Table 1-1.

【0157】実施例1−10 実施例1−1の電荷発生層と電荷輸送層との層構成順序
を逆にした以外には実施例1−1と同様の感光体を作製
して、同例と同様にその耐久テストを行った。結果を表
1−1に示す。用いた保護層の膜厚は0.9μmであっ
た。
Example 1-10 A photoconductor similar to that of Example 1-1 was prepared except that the order of the layer constitution of the charge generation layer and the charge transport layer of Example 1-1 was reversed. The durability test was performed in the same manner as in. The results are shown in Table 1-1. The protective layer used had a thickness of 0.9 μm.

【0158】実施例1−11 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例1−1で用いたアルコキシ
メチル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗布
し、膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。
Example 1-11 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a substrate, and a 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon used in Example 1-1 was applied thereto by a dipping method to give a film thickness. An undercoat layer (intermediate layer) of 1 μm was provided.

【0159】次に、Cu−Kα線のX線回折におけるブ
ラック角2θ±0.2°が9.0°、14.2°、2
3.9°及び27.1°に強いピークを有する結晶系の
オキソチタニウムフタロシアニン顔料を10部ポリビニ
ルブチラール8部及びシクロヘキサノン50部を直径1
mmのガラスビーズ100部を用いたサンドミル装置で
20時間混合分散した。
Next, the black angles 2θ ± 0.2 ° in the X-ray diffraction of Cu-Kα rays are 9.0 °, 14.2 °, and 2
Crystalline oxotitanium phthalocyanine pigment having strong peaks at 3.9 ° and 27.1 ° 10 parts polyvinyl butyral 8 parts and cyclohexanone 50 parts diameter 1
The mixture was mixed and dispersed for 20 hours by a sand mill device using 100 parts of glass beads of mm.

【0160】この分散液にメチルエチルケトン70〜1
20(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、100℃
で5分間乾燥して0.2μmの電荷発生層を形成させ
た。
70 to 1 of methyl ethyl ketone was added to this dispersion.
20 (appropriate) parts are added and coated on the undercoat layer at 100 ° C.
And dried for 5 minutes to form a 0.2 μm charge generation layer.

【0161】次にこの電荷発生層の上に下記構造式のス
チリル化合物10部と
Next, on the charge generation layer, 10 parts of a styryl compound having the following structural formula was added.

【0162】[0162]

【外40】 実施例1−1で用いたビスフェノールZ型ポリカーボネ
ート10部をモノクロルベンゼン65部に溶解した。こ
の溶液をディッピング法によって基体上に塗布し、12
0℃で60分間の熱風乾燥させて、20μm厚の電荷輸
送層を形成させた。
[Outside 40] 10 parts of the bisphenol Z type polycarbonate used in Example 1-1 was dissolved in 65 parts of monochlorobenzene. This solution is applied onto a substrate by a dipping method,
It was dried with hot air at 0 ° C. for 60 minutes to form a 20 μm thick charge transport layer.

【0163】次にこの電荷輸送層の上に以下の方法で膜
厚1.0μmの保護層を設けた。酸成分としてテレフタ
ル酸を、またグリコール成分として1,4−テトラメチ
レングリコールを用いて得られた高融点ポリブチレンテ
レフタレート(PBT)(A)(極限粘度0.72dl
/g、融点22.4℃、ガラス転移点温度35℃)10
0部と実施例1−1で用いたエポキシ樹脂(B)30部
とをフェノールとテトラクロロエタン(1:1)混合液
100mlに溶解させた。次いで、光重合開始剤として
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト(C)3部を添加し、さらにシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーとして、変性シリコーンとして一般式
(1)−7:n平均30、(3)−63、変性シリコー
ン15部、共重合単量体スチレン85部を用いて合成し
たものを2部添加して、樹脂組成物溶液を調製した。
Next, a protective layer having a thickness of 1.0 μm was provided on the charge transport layer by the following method. High melting point polybutylene terephthalate (PBT) (A) obtained by using terephthalic acid as an acid component and 1,4-tetramethylene glycol as a glycol component (intrinsic viscosity 0.72 dl
/ G, melting point 22.4 ° C, glass transition temperature 35 ° C) 10
0 part and 30 parts of the epoxy resin (B) used in Example 1-1 were dissolved in 100 ml of a mixed solution of phenol and tetrachloroethane (1: 1). Then, 3 parts of triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (C) was added as a photopolymerization initiator, and as a silicone-based comb-type graft polymer, a modified silicone of the general formula (1) -7: n average 30, (3) was used. A resin composition solution was prepared by adding 2 parts of what was synthesized using −63, modified silicone 15 parts, and comonomer styrene 85 parts.

【0164】光の照射条件としては、2kw高圧水銀灯
(30w/cm)を20cm離した位置から130℃で
8秒間照射して硬化させた。
As the light irradiation conditions, a 2 kw high-pressure mercury lamp (30 w / cm) was irradiated at 130 ° C. for 8 seconds from a position 20 cm away to cure the light.

【0165】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機[商品名:NP−3525(キヤノン社製)]に装
着して実施例1−1と同様に通紙60万枚の耐久テスト
を行った。結果を表1−2に示す。
The photoconductor drum thus manufactured was mounted on a copying machine [trade name: NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], and a durability test of 600,000 sheets of paper was carried out in the same manner as in Example 1-1. It was The results are shown in Table 1-2.

【0166】比較例1−4 実施例1−11における保護層を用いなかった以外には
実施例1−11と同様の感光体を作製し、実施例1−1
と同様に耐久テストを行った。その結果を表1−2に示
す。
Comparative Example 1-4 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1-11 except that the protective layer in Example 1-11 was not used.
A durability test was conducted in the same manner as in. The results are shown in Table 1-2.

【0167】比較例1−5 実施例1−11で用いた保護層の代りに、電荷輸送層
(CTL)で用いたものと同じバインダーとして、実施
例1−1で用いたビスフェノールZ型ポリカーボネート
4部とモノクロルベンゼン70部、PTFE微粉末1部
をサンドミルで10時間混合分散して塗工液を作製し
た。この塗工液をスプレー法でCTL上に膜厚1.0μ
mになるように塗布して保護層とし、実施例1−11と
同様に耐久テストを行った。その結果を表1−2に示
す。
Comparative Example 1-5 Instead of the protective layer used in Example 1-11, the same binder as used in the charge transport layer (CTL) was used, and bisphenol Z type polycarbonate 4 used in Example 1-1 was used. Part, 70 parts of monochlorobenzene, and 1 part of PTFE fine powder were mixed and dispersed in a sand mill for 10 hours to prepare a coating liquid. This coating solution is sprayed onto the CTL to give a film thickness of 1.0μ.
Then, a durability test was conducted in the same manner as in Example 1-11 by applying the coating solution so that the coating film had a thickness of m to form a protective layer. The results are shown in Table 1-2.

【0168】比較例1−6 比較例1−5で用いた保護層の膜厚が12.0μmにな
るように塗工液を再調合し、スプレーで塗布して厚さ1
2.0μmの保護層を設けた。
Comparative Example 1-6 The coating solution was re-prepared so that the protective layer used in Comparative Example 1-5 had a thickness of 12.0 μm, and spray-applied to a thickness of 1
A 2.0 μm protective layer was provided.

【0169】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機[商品名:NP−3525(キヤノン社製)]に装
着して実施例1−11と同様に通紙60万枚の耐久テス
トを行った。結果を表1−2に示す。
The photoconductor drum thus manufactured was mounted on a copying machine [trade name: NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], and a durability test of 600,000 sheets of paper was conducted in the same manner as in Example 1-11. It was The results are shown in Table 1-2.

【0170】比較例1−7 実施例1−1で用いた高融点ポリエチレンテレフタレー
トのかわりに軟化点163℃(非結晶性のため融点をも
たない)のポリエステル樹脂(バイロン200:東洋紡
績株式会社製)を用いた以外は実施例1−1と同様の感
光体ドラムを作製し特性を評価した。結果を表1−1に
示す。
Comparative Example 1-7 Instead of the high melting point polyethylene terephthalate used in Example 1-1, a polyester resin having a softening point of 163 ° C. (which has no melting point because it is amorphous) (Vylon 200: Toyobo Co., Ltd.) A photosensitive drum similar to that of Example 1-1 was manufactured except for using the same), and the characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1-1.

【0171】実施例1−12 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてシ
クロヘキサンジメチロールを用いて得られた高融点ポリ
シクロヘキサンジメチレンテレフタレート(PCT)樹
脂(極限粘度0.66dl/g、融点290℃、ガラス
転移温度80℃)を用いた外は実施例1−11と同様の
実験を行った。結果を表1−2に示す。
Example 1-12 High-melting point polycyclohexanedimethylene terephthalate (PCT) resin obtained by using terephthalic acid as an acid component and cyclohexanedimethylol as a glycol component (intrinsic viscosity 0.66 dl / g, melting point 290 ° C., The same experiment as in Example 1-11 was performed except that a glass transition temperature of 80 ° C. was used. The results are shown in Table 1-2.

【0172】実施例1−13 酸成分として1,10−ナフタレンジカルボン酸及びグ
リコール成分としてエチレングリコールとを用いて得ら
れた高融点ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN)
(極限粘度0.69dl/g、融点280℃、ガラス転
移温度85℃)を用いた外は実施例1−11と同様の実
験を行った。結果を表1−2に示す。
Example 1-13 High melting point polyethylene naphthalate resin (PEN) obtained by using 1,10-naphthalenedicarboxylic acid as an acid component and ethylene glycol as a glycol component.
The same experiment as in Example 1-11 was carried out except that (intrinsic viscosity 0.69 dl / g, melting point 280 ° C., glass transition temperature 85 ° C.) was used. The results are shown in Table 1-2.

【0173】実施例1−14 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分として
1,4−テトラメチレングリコール63モル%とポリエ
チレングリコール37モル%との混合物を用いて得られ
た高融点ポリエステル樹脂(極限粘度0.67dl/
g、融点190℃、ガラス転移温度15℃)を用いた以
外は実施例1−11と同様の実験を行った。その結果を
表1−2に示す。
Example 1-14 High melting point polyester resin obtained by using a mixture of terephthalic acid as an acid component and 63 mol% of 1,4-tetramethylene glycol as a glycol component and 37 mol% of polyethylene glycol (having an intrinsic viscosity of 0). .67 dl /
g, melting point 190 [deg.] C., glass transition temperature 15 [deg.] C.) The same experiment as in Example 1-11 was carried out. The results are shown in Table 1-2.

【0174】実施例1−15 硬化樹脂として、実施例1−6で用いたエポキシ樹脂を
用いた以外には実施例1−11と同様の実験を行った。
その結果を表1−2に示す。
Example 1-15 An experiment similar to that of Example 1-11 was conducted, except that the epoxy resin used in Example 1-6 was used as the cured resin.
The results are shown in Table 1-2.

【0175】実施例1−16 実施例1−11で用いたエポキシ樹脂の量を10部にし
た以外には実施例1−11と全く同様の感光体を作製し
て耐久テストを行った。結果を表1−2に示す。用いた
保護層の厚さは0.9μmであった。
Example 1-16 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1-11 except that the amount of the epoxy resin used in Example 1-11 was changed to 10 parts, and a durability test was conducted. The results are shown in Table 1-2. The protective layer used had a thickness of 0.9 μm.

【0176】実施例1−17 実施例1−11で用いた高圧水銀灯を5秒間照射した以
外には実施例1−11と同様の感光体を作製して耐久テ
ストを行った。結果を表1−2に示す。用いた保護層の
膜厚は1.0μmであった。
Example 1-17 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1-11 except that the high pressure mercury lamp used in Example 1-11 was irradiated for 5 seconds, and a durability test was conducted. The results are shown in Table 1-2. The protective layer used had a thickness of 1.0 μm.

【0177】実施例1−18 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例1−11で用いたアルコ
キシメチル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で
塗布し、膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。次
に電荷発生物質である実施例1−11で用いた顔料3部
を電荷輸送物質である実施例1−1で用いたスチリル化
合物6部、実施例1−11で用いたビスフェノールZ型
ポリカーボネート6部及びモノクロルベンゼン50部を
サンドミルで30時間混合分散して塗工液を作製した。
この塗工液を基体上にスプレー法で塗布し、膜厚20μ
mの感光層を形成させた。
Example 1-18 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a base. A 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon used in Examples 1-11 was applied to this by a dipping method to form an undercoat layer (intermediate layer) having a film thickness of 1 μm. Next, 3 parts of the pigment used in Example 1-11, which is a charge generating substance, 6 parts of the styryl compound used in Example 1-1, which is a charge transporting substance, and 6 parts of the bisphenol Z-type polycarbonate used in Examples 1-11. Parts and 50 parts of monochlorobenzene were mixed and dispersed in a sand mill for 30 hours to prepare a coating liquid.
This coating solution is applied on the substrate by a spray method to give a film thickness of 20 μm.
m photosensitive layer was formed.

【0178】次に、この感光層の上に実施例1−11と
同様にして膜厚1.0μmの保護層を形成させ、同様に
その耐久テストを行った。結果を表1−2に示す。
Then, a protective layer having a thickness of 1.0 μm was formed on the photosensitive layer in the same manner as in Example 1-11, and the durability test was conducted in the same manner. The results are shown in Table 1-2.

【0179】実施例1−19 実施例1−11の電荷発生層と電荷輸送層との層構成順
序を逆にした以外には実施例1−11と同様の感光体を
作製して、その耐久テストを行った。結果を表に示す。
用いた保護層の膜厚は0.8μmであった。
Example 1-19 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1-11 except that the order of the layer structure of the charge generation layer and the charge transport layer in Example 1-11 was reversed, and the durability was evaluated. I did a test. The results are shown in the table.
The protective layer used had a thickness of 0.8 μm.

【0180】実施例1−20 実施例1−11で用いたフェノールとテトラクロルエタ
ン(1:1)混合液100mlの代わりにヘキサフルオ
ロイソプロパノール100mlを用いた以外には実施例
1−11と同様にして感光体を作製し、同例と同様の耐
久テストを行った。その結果を表1−2に示す。
Example 1-20 Same as Example 1-11 except that 100 ml of hexafluoroisopropanol was used instead of 100 ml of the mixed solution of phenol and tetrachloroethane (1: 1) used in Example 1-11. A photoconductor was produced in this manner, and the same durability test as in the same example was conducted. The results are shown in Table 1-2.

【0181】実施例1−21及び1−22 実施例1−11の感光体と実施例1−20の感光体とを
温度30℃及び相対湿度85%の環境において、複写機
[商品名:NP−3525(キヤノン社製)]を用いて
実施例1−11と同様に通紙10万枚の耐久テストを行
った。結果を表1−2に示す。
Examples 1-21 and 1-22 The photoconductor of Example 1-11 and the photoconductor of Example 1-20 were placed in a copying machine [trade name: NP under the environment of temperature 30 ° C. and relative humidity 85%]. -3525 (manufactured by Canon Inc.)] was used to perform a durability test on 100,000 sheets of paper passing in the same manner as in Example 1-11. The results are shown in Table 1-2.

【0182】[0182]

【表1】 [Table 1]

【0183】[0183]

【表2】 [Table 2]

【0184】実施例2−1 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これにアルコキシメチル化ナイロンの5
%メタノール溶液を浸漬法で塗布し、膜厚1μmの下引
き層(中間層)を設けた。
Example 2-1 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a base, on which 5 parts of an alkoxymethylated nylon was used.
% Methanol solution was applied by a dipping method to form an undercoat layer (intermediate layer) having a film thickness of 1 μm.

【0185】次に下記構造式の顔料を10部(重量部、
以下同様)及びポリビニルブチラー
Next, 10 parts by weight of a pigment having the following structural formula (parts by weight,
The same shall apply hereinafter) and polyvinyl butyrers

【0186】[0186]

【外41】 ル8部及びシクロヘキサノン50部を直径1mmのガラ
スビーズ100部収容のサンドミル装置で20時間混合
分散した。この分散液にメチルエチルケトン70〜12
0(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、100℃で
5分間の乾燥をして0.2μmの電荷発生層(CGL)
を形成させた。次に、この電荷発生層の上に下記構造式
のヒドラゾン130部を用いて
[Outside 41] 8 parts and 50 parts of cyclohexanone were mixed and dispersed in a sand mill apparatus containing 100 parts of glass beads having a diameter of 1 mm for 20 hours. Methyl ethyl ketone 70-12
0 (appropriate) part is added and coated on the undercoat layer, dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a 0.2 μm charge generation layer (CGL).
Was formed. Next, using 130 parts of hydrazone having the following structural formula on this charge generation layer,

【0187】[0187]

【外42】 以下の手法で、調製した樹脂液に混合溶解(ヒドラゾン
と樹脂成分との混合比は1:1)し、塗工液とした。こ
の塗工液をディッピング法によって、電荷発生層上に塗
布及び光照射して、膜厚20μmの電荷輸送層(CT
L)を作成した。
[Outside 42] By the following method, the prepared resin liquid was mixed and dissolved (the mixing ratio of hydrazone and the resin component was 1: 1) to obtain a coating liquid. This coating solution is applied onto the charge generation layer by a dipping method and irradiated with light to form a charge transport layer (CT having a thickness of 20 μm).
L) was prepared.

【0188】樹脂液は酸成分としてテレフタル酸を、グ
リコール成分としてエチレングリコールを用いて得られ
た高融点ポリエチレンテレフタレート(A)(極限粘度
0.70dl/g、融点258℃、ガラス転移点温度7
0℃)100部とエポキシ樹脂(B)[エポキシ当量1
60;芳香族エステルタイプ;商品名:エピコート19
0P(油化シェルエポキシ社製)]30部とをフェノー
ルとテトラクロロエタン(1:1)混合液100mlに
溶解させた。
The resin liquid is a high melting point polyethylene terephthalate (A) obtained by using terephthalic acid as an acid component and ethylene glycol as a glycol component (intrinsic viscosity 0.70 dl / g, melting point 258 ° C., glass transition temperature 7
0 ° C.) 100 parts and epoxy resin (B) [epoxy equivalent 1
60; Aromatic ester type; Trade name: Epicoat 19
30 parts of 0P (produced by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) were dissolved in 100 ml of a mixed solution of phenol and tetrachloroethane (1: 1).

【0189】次いで、光重合開始剤としてトリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート(C)3部
を添加し、さらに実施例1−1で用いたシリコーン系ク
シ型グラフトポリマー2部を添加して、樹脂組成物溶液
を調製した。
Then, 3 parts of triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (C) was added as a photopolymerization initiator, and further 2 parts of the silicone type comb-type graft polymer used in Example 1-1 was added to the resin composition. A product solution was prepared.

【0190】このようにして調製した塗工液をディッピ
ング法によって、電荷発生層上に塗布及び光照射して、
膜厚20μmの電荷輸送層(CTL)を作成した。
The coating liquid thus prepared was applied onto the charge generation layer by dipping and irradiated with light,
A charge transport layer (CTL) having a film thickness of 20 μm was created.

【0191】光の照射条件としては、2kw高圧水銀灯
(30w/cm)を20cm離した位置から130℃で
8秒間照射して硬化させた。
As the light irradiation conditions, a 2 kw high-pressure mercury lamp (30 w / cm) was irradiated at 130 ° C. for 8 seconds from a position 20 cm away to cure the light.

【0192】この様にして作製した感光体ドラムを複写
機[商品名:NP−3525(キヤノン(株)製)]に
装着して、温度24℃及び相対湿度55%の環境で通紙
60万枚の耐久テストを行った。結果を表2−1に示
す。
The photoconductor drum thus manufactured was mounted on a copying machine [trade name: NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], and a paper feed of 600,000 was applied in an environment of a temperature of 24 ° C. and a relative humidity of 55%. The durability test of the sheet was performed. The results are shown in Table 2-1.

【0193】実施例2−2 酸成分としてテレフタル酸を、グリコール成分としてエ
チレングリコール80モル%とポリエチレングリコール
[分子量1000]20モル%を用いて得られた高融点
ポリエステル樹脂(極限粘度0.68dl/g、融点2
10℃、ガラス転移温度68℃)を用い、さらに実施例
1−2で用いたシリコーン系クシ型グラフトポリマー3
部を添加した外には、実施例2−1と同様の実験を行っ
た。結果を表2−1に示す。
Example 2-2 High melting point polyester resin obtained by using terephthalic acid as an acid component and 80 mol% of ethylene glycol and 20 mol% of polyethylene glycol [molecular weight 1000] as a glycol component (intrinsic viscosity 0.68 dl / g, melting point 2
10 ° C., glass transition temperature 68 ° C.), and the silicone-based comb-type graft polymer 3 used in Example 1-2.
The same experiment as in Example 2-1 was performed except that the parts were added. The results are shown in Table 2-1.

【0194】実施例2−3 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール63モル%とポリエチレングリコール
[分子量1000]37モル%との混合物を用いて得ら
れた高融点ポリエステル樹脂(極限粘度0.67dl/
g、融点195℃、ガラス転移温度65℃)を用いた外
には、実施例2−1と同様の実験を行った。結果を表2
−1に示す。
Example 2-3 High melting point polyester resin obtained by using a mixture of terephthalic acid as an acid component and 63 mol% of ethylene glycol and 37 mol% of polyethylene glycol [molecular weight 1000] as a glycol component (intrinsic viscosity: 0. 67 dl /
g, melting point 195 ° C., glass transition temperature 65 ° C.), but the same experiment as in Example 2-1 was performed. The results are shown in Table 2.
-1.

【0195】実施例2−4 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール50モル%とポリエチレングリコール
[分子量1000]50モル%との混合物を用いて得ら
れた高融点ポリエステル樹脂(極限粘度0.66dl/
g、融点180℃、ガラス転移温度64℃)を用た以外
には、実施例2−2と同様の実験を行った。結果を表2
−1に示す。
Example 2-4 High melting point polyester resin obtained by using a mixture of terephthalic acid as an acid component and 50 mol% of ethylene glycol as a glycol component and 50 mol% of polyethylene glycol [molecular weight 1000] (intrinsic viscosity: 0. 66 dl /
g, melting point 180 ° C., glass transition temperature 64 ° C.), except that the same experiment as in Example 2-2 was performed. The results are shown in Table 2.
-1.

【0196】実施例2−5 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール40モル%とポリエチレングリコール
[分子量1000]60モル%との混合物を用いて得ら
れた高融点ポリエステル樹脂(極限粘度0.64dl/
g、融点161℃、ガラス転移温度60℃)を用い、さ
らに実施例1−5で用いたシリコーン系クシ型グラフト
ポリマー3部を添加した外には、実施例2−1と同様の
実験を行った。結果を表2−1に示す。
Example 2-5 High melting point polyester resin obtained by using a mixture of terephthalic acid as an acid component and 40 mol% of ethylene glycol and 60 mol% of polyethylene glycol [molecular weight 1000] as a glycol component (intrinsic viscosity: 64 dl /
g, melting point 161 ° C., glass transition temperature 60 ° C.), and the same experiment as in Example 2-1 was performed except that 3 parts of the silicone-based comb-type graft polymer used in Example 1-5 was further added. It was The results are shown in Table 2-1.

【0197】実施例2−6 光硬化樹脂としてエポキシ樹脂[エポキシ当量184〜
194;ビスフェノール系;商品名:エピコート828
(油化シェルエポキシ社製)]を用いた以外には、実施
例2−5と同様の実験を行った。結果を表2−1に示
す。
Example 2-6 Epoxy resin [epoxy equivalent 184-
194; Bisphenol type; Trade name: Epikote 828
(Oilized Shell Epoxy Co., Ltd.)] was used, and the same experiment as in Example 2-5 was performed. The results are shown in Table 2-1.

【0198】比較例2−1 実施例2−1で用いた電荷輸送層の樹脂液の代わりにビ
スフェノール型ポリカーボネート130部とモノクロロ
ベンゼン900部を用いて電荷輸送層を作成し、実施例
2−1と同様に耐久テストを行った。結果を表2−1に
示す。
Comparative Example 2-1 A charge transport layer was prepared by using 130 parts of bisphenol type polycarbonate and 900 parts of monochlorobenzene instead of the resin liquid of the charge transport layer used in Example 2-1, and Example 2-1. A durability test was conducted in the same manner as in. The results are shown in Table 2-1.

【0199】比較例2−2 比較例2−1で用いた感光体の耐久特性を向上させる為
に従来から知られているPTFE微粉末を用いた保護層
を以下の様に設けて、耐久テストを行った。結果を表2
−1に示す。
Comparative Example 2-2 In order to improve the durability characteristics of the photoconductor used in Comparative Example 2-1, a protective layer using a conventionally known PTFE fine powder was provided as follows, and a durability test was conducted. I went. The results are shown in Table 2.
-1.

【0200】ここで用いた保護層は上記ビスフェノール
Z型ポリカーボネート4部とモノクロロベンゼン70
部、PTFE粉末1部をサンドミルで10時間混合分散
して塗工液を作成した。この塗工液をスプレー法でCT
L上に膜厚1.0μmになる様に塗布して保護層とし
た。
The protective layer used here was 4 parts of the above-mentioned bisphenol Z type polycarbonate and monochlorobenzene 70.
Parts and 1 part of PTFE powder were mixed and dispersed in a sand mill for 10 hours to prepare a coating liquid. CT this coating solution by spraying
A protective layer was formed by coating L so as to have a film thickness of 1.0 μm.

【0201】比較例2−3 比較例2−2で用いた保護層の膜厚が12.0μmにな
る様に塗工液を再調合し、スプレーで塗布して膜厚1
2.0μmの保護層を設け、耐久テストを行った。その
結果を表2−1に示す。
Comparative Example 2-3 A coating solution was re-prepared so that the protective layer used in Comparative Example 2-2 had a film thickness of 12.0 μm, and spray-applied to give a film thickness of 1
A 2.0 μm protective layer was provided and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-1.

【0202】比較例2−4 実施例2−1で用いた高融点ポリエチレンテレフタレー
トのかわりに軟化点163℃(非結晶性のため融点をも
たない)のポリエステル樹脂(バイロン200:東洋紡
績株式会社製)を用いた以外は実施例2−1と同様の感
光体ドラムを作製し特性を評価した。結果を表2−1に
示す。
Comparative Example 2-4 Instead of the high melting point polyethylene terephthalate used in Example 2-1, a polyester resin having a softening point of 163 ° C. (has no melting point because it is amorphous) (Byron 200: Toyobo Co., Ltd.) A photoconductor drum similar to that of Example 2-1 except that the same was used, and the characteristics were evaluated. The results are shown in Table 2-1.

【0203】実施例2−7 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例2−1で用いたアルコキ
シメチル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗
布し、膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。次
に、この中間層の上に下記構造式のスチリル化合物10
部と
Example 2-7 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a base. A 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon used in Example 2-1 was applied to this by a dipping method to form an undercoat layer (intermediate layer) having a film thickness of 1 μm. Next, a styryl compound 10 having the following structural formula was formed on the intermediate layer.
Department and

【0204】[0204]

【外43】 ポリメチルメタクリレート10部をTHF65部に溶解
した。この溶液を浸漬法で塗布し、125℃で70分間
の熱風乾燥させて膜厚15μmの電荷輸送層を作成し
た。
[Outside 43] 10 parts of polymethylmethacrylate was dissolved in 65 parts of THF. This solution was applied by a dipping method and dried with hot air at 125 ° C. for 70 minutes to form a charge transport layer having a film thickness of 15 μm.

【0205】次に、この電荷輸送層の上に下記構造式の
顔料10部と実施例2−1で用いた電荷輸送層の樹脂分
7部に相当する樹脂液を加え、サンドミルで20時間混
合分散し、塗工液とした。この塗工液を用いて膜厚0.
8μmの電荷発生層を作成し、耐久テストを行った。結
果を表2−1に示す。
Next, 10 parts of the pigment having the following structural formula and a resin solution corresponding to 7 parts of the resin component of the charge transport layer used in Example 2-1 were added to the charge transport layer and mixed in a sand mill for 20 hours. It was dispersed and used as a coating liquid. Using this coating solution, a film thickness of 0.
An 8 μm charge generation layer was formed and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-1.

【0206】[0206]

【外44】 [Outside 44]

【0207】実施例2−8 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例2−1で用いたアルコキシ
メチル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗布
して膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。
Example 2-8 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a substrate, and a 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon used in Example 2-1 was applied to the substrate by a dipping method to give a film thickness. An undercoat layer (intermediate layer) of 1 μm was provided.

【0208】次に電荷発生物質であるε型Cu−PC3
部と電荷輸送物質である実施例2−1で用いたヒドラゾ
ン化合物6部と実施例2−1で用いた電荷輸送層の樹脂
分10部に相当する樹脂液を加え、サンドミルで30時
間混合分散し塗工液を調製した。この塗工液を用いて膜
厚18μmの感光層を作成し、耐久テストを行った。そ
の結果を表2−1に示す。
Next, ε-type Cu-PC3 which is a charge generating substance
Parts and 6 parts of the hydrazone compound used in Example 2-1 which is a charge transport material and a resin solution corresponding to 10 parts of the resin component of the charge transport layer used in Example 2-1 are added and mixed and dispersed in a sand mill for 30 hours. A coating liquid was prepared. Using this coating solution, a photosensitive layer having a film thickness of 18 μm was formed and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-1.

【0209】実施例2−9 実施例2−1で用いたエポキシ樹脂の量を10部に変え
た以外には実施例2−1と同様の感光体を作製して耐久
テストを行った。結果を表2−1に示す。
Example 2-9 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 2-1 except that the amount of the epoxy resin used in Example 2-1 was changed to 10 parts, and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-1.

【0210】実施例2−10 実施例2−1で用いた高圧水銀灯光を6秒間照射した以
外には実施例2−1と全く同様の感光体を作製して耐久
テストを行った。結果を表2−1に示す。
Example 2-10 Except for irradiating the high pressure mercury lamp light used in Example 2-1, for 6 seconds, a photoconductor identical to that of Example 2-1 was prepared and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-1.

【0211】実施例2−11 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例2−1のアルコキシメチル
化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗布し、膜
厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。
Example 2-11 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a substrate, and a 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon of Example 2-1 was applied thereto by a dipping method to form a film having a thickness of 1 μm. An undercoat layer (intermediate layer) was provided.

【0212】次に構造式2−(1)の顔料を10部(重
量部、以下同様)及びポリビニルブチラール8部及びシ
クロヘキサノン50部を直径1mmのガラスビーズ10
0部収容のサンドミル装置で20時間混合分散した。こ
の分散液にメチルエチルケトン70〜120(適宜)部
を加えて下引き層上に塗布し、100℃で5分間乾燥し
て厚さ0.2μmの電荷発生層(CGL)を形成させ
た。次に、この電荷発生層の上に実施例2−1で用いた
ヒドラゾン130部を用いて以下の手法で、調製した樹
脂液に混合溶解し、塗工液とした。この塗工液をディッ
ピング法によって、電荷発生層上に塗布及び光照射し
て、膜厚20μmの電荷発生層(CTL)を作成した。
Next, 10 parts (parts by weight, the same applies hereinafter) of the pigment of Structural Formula 2- (1), 8 parts of polyvinyl butyral and 50 parts of cyclohexanone were added to glass beads 10 having a diameter of 1 mm.
The mixture was mixed and dispersed for 20 hours by a sand mill device containing 0 part. 70 to 120 (appropriate) parts of methyl ethyl ketone was added to this dispersion and applied on the undercoat layer, and dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a charge generation layer (CGL) having a thickness of 0.2 μm. Next, 130 parts of hydrazone used in Example 2-1 was mixed and dissolved in the prepared resin liquid on the charge generation layer by the following method to obtain a coating liquid. This coating solution was applied onto the charge generation layer by a dipping method and irradiated with light to form a charge generation layer (CTL) having a film thickness of 20 μm.

【0213】樹脂液は酸成分としてテレフタル酸及びグ
リコール成分として1,4−テトラメチレングリコール
(1,4−ブタンジオール)を用いて得られた高融点ポ
リブチレンテレフタレート(PBT)(A)(極限粘度
0.72dl/g、融点224℃、ガラス転移点温度3
5℃)100部と実施例2−1で用いたエポキシ樹脂
(B)30部とをフェノールとテトラクロロエタン
(1:1)混合液100mlに溶解させた。
The resin liquid is a high melting point polybutylene terephthalate (PBT) (A) obtained by using terephthalic acid as an acid component and 1,4-tetramethylene glycol (1,4-butanediol) as a glycol component. 0.72 dl / g, melting point 224 ° C, glass transition temperature 3
100 parts of 5 ° C.) and 30 parts of the epoxy resin (B) used in Example 2-1 were dissolved in 100 ml of a mixed solution of phenol and tetrachloroethane (1: 1).

【0214】次いで、光重合開始剤としてトリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート(C)3部
を添加し、さらに実施例1−11で用いたシリコーン系
クシ型グラフトポリマー3部を添加して、樹脂組成物溶
液を調製した。
Then, 3 parts of triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (C) as a photopolymerization initiator was added, and further 3 parts of the silicone-type comb-type graft polymer used in Examples 1-11 was added to give a resin composition. A product solution was prepared.

【0215】このようにして調製した塗工液をディッピ
ング法によって、電荷発生層上に塗布及び光照射して、
膜厚20μmの電荷輸送層(CTL)を作成した。
The coating solution thus prepared was applied onto the charge generation layer by a dipping method and irradiated with light,
A charge transport layer (CTL) having a film thickness of 20 μm was created.

【0216】光の照射条件としては、2kw高圧水銀灯
(30w/cm)を20cm離した位置から130℃で
8秒間照射して硬化させた。
As the light irradiation conditions, a 2 kw high-pressure mercury lamp (30 w / cm) was irradiated for 20 seconds at 130 ° C. from a position 20 cm away to cure.

【0217】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機[NP−3525(キヤノン(株)製)]に装着し
て、温度24℃及び相対湿度55%の環境で通紙60万
枚の耐久テストを行った。結果を表2−2に示す。
The photoconductor drum thus manufactured was mounted on a copying machine [NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], and the durability of 600,000 sheets of paper was passed in an environment of a temperature of 24 ° C. and a relative humidity of 55%. I did a test. The results are shown in Table 2-2.

【0218】実施例2−12 酸成分としてテレフタル酸を、グリコール成分としてシ
クロヘキサンジメチロールを用いて得られた高融点ポリ
シクロヘキサンジメチレンテレフタレート[(PC
T);極限粘度0.66dl/g;融点290℃、ガラ
ス転移温度80℃]を用いた外には、実施例2−11と
同様の実験を行った。その結果を表2−2に示す。
Example 2-12 High-melting point polycyclohexanedimethylene terephthalate [(PC obtained by using terephthalic acid as an acid component and cyclohexanedimethylol as a glycol component)
T); intrinsic viscosity 0.66 dl / g; melting point 290 ° C, glass transition temperature 80 ° C], but the same experiment as in Example 2-11 was performed. The results are shown in Table 2-2.

【0219】実施例2−13 酸成分として1,10−ナフタレンジカロボン酸及びグ
リコール成分としてエチレングリコールを用いて得られ
た高融点ポリエチレンナフタレート(PEN)(極限粘
度0.69dl/g、融点280℃、ガラス転移温度8
5℃)を用いた外には、実施例2−11と同様の実験を
行った。結果を表2−2に示す。
Example 2-13 High melting point polyethylene naphthalate (PEN) obtained by using 1,10-naphthalenedicarbobonic acid as an acid component and ethylene glycol as a glycol component (intrinsic viscosity 0.69 dl / g, melting point) 280 ° C, glass transition temperature 8
The same experiment as in Example 2-11 was performed except that (5 ° C.) was used. The results are shown in Table 2-2.

【0220】実施例2−14 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分として
1,4−テトラメチレングリコール63モル%とポリエ
チレングリコール(分子量1000)27モル%を用い
て得られた高融点ポリエステル樹脂(極限粘度0.67
dl/g、融点190℃、ガラス転移温度15℃)を用
いた外には、実施例2−11と同様の実験を行った。結
果を表2−2に示す。
Example 2-14 High melting point polyester resin obtained by using terephthalic acid as an acid component, 63 mol% of 1,4-tetramethylene glycol as a glycol component and 27 mol% of polyethylene glycol (molecular weight 1000) (intrinsic viscosity 0.67
dl / g, melting point 190 ° C., glass transition temperature 15 ° C.) was used, and the same experiment as in Example 2-11 was performed. The results are shown in Table 2-2.

【0221】実施例2−15 硬化樹脂として実施例2−6で用いたエポキシ樹脂を用
いた以外には実施例2−11と同様の実験を行った。結
果を表2−2に示す。
Example 2-15 An experiment similar to that of Example 2-11 was conducted, except that the epoxy resin used in Example 2-6 was used as the cured resin. The results are shown in Table 2-2.

【0222】実施例2−16 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例2−11のアルコキシメ
チル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗布
し、膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。次に、
この中間層の上に実施例2−7で用いたスチリル化合物
10部と実施例2−7で用いたポリメチルメタクリレー
ト10部をTHF65部に溶解した。この溶液を浸漬法
で塗布し、125℃で70分間の熱風乾燥させて膜厚1
5μmの電荷輸送層を作成した。
Example 2-16 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a base. A 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon of Example 2-11 was applied thereto by a dipping method to form an undercoat layer (intermediate layer) having a film thickness of 1 μm. next,
On this intermediate layer, 10 parts of the styryl compound used in Example 2-7 and 10 parts of polymethylmethacrylate used in Example 2-7 were dissolved in 65 parts of THF. This solution is applied by a dipping method and dried with hot air at 125 ° C. for 70 minutes to give a film thickness of 1
A 5 μm charge transport layer was created.

【0223】次に、この電荷輸送層の上に実施例2−7
で用いた顔料10部と実施例2−11で用いた電荷輸送
層の樹脂分7部に相当する樹脂液を加え、サンドミルで
20時間混合分散し、塗工液とした。この塗工液を用い
て膜厚0.8μmの電荷発生層を作成し、耐久テストを
行った。結果を表2−2に示す。
Then, Example 2-7 was formed on the charge transport layer.
10 parts of the pigment used in Example 2 and a resin solution corresponding to 7 parts of the resin component of the charge transport layer used in Example 2-11 were added, and mixed and dispersed in a sand mill for 20 hours to obtain a coating solution. A charge generation layer having a film thickness of 0.8 μm was formed using this coating solution, and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-2.

【0224】実施例2−17 外径80mm×長さ360mmのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例2−11で用いたアルコキ
シメチル化ナイロンの5%メタノール溶液を浸漬法で塗
布して膜厚1μmの下引き層(中間層)を設けた。
Example 2-17 An aluminum cylinder having an outer diameter of 80 mm and a length of 360 mm was used as a substrate, and a 5% methanol solution of the alkoxymethylated nylon used in Example 2-11 was applied thereto by a dipping method to form a film thickness. An undercoat layer (intermediate layer) of 1 μm was provided.

【0225】次に電荷発生物質であるε型Cu−PC3
部と電荷輸送物質である実施例2−1で用いたヒドラゾ
ン化合物6部と実施例2−11で用いた電荷輸送層の樹
脂分10部に相当する樹脂液とを加え、サンドミルで3
0時間混合分散し塗工液を調製した。この塗工液を用い
て膜厚18μmの感光層を作成し、耐久テストを行っ
た。その結果を表2−2に示す。
Next, ε-type Cu-PC3 which is a charge generating substance
Parts and 6 parts of the hydrazone compound used in Example 2-1 which is a charge-transporting substance, and a resin solution corresponding to 10 parts of the resin component of the charge-transporting layer used in Examples 2-11 were added, and the mixture was mixed with a sand mill to obtain
A coating solution was prepared by mixing and dispersing for 0 hours. Using this coating solution, a photosensitive layer having a film thickness of 18 μm was formed and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-2.

【0226】実施例2−18 実施例2−11で用いたエポキシ樹脂の量を10部にし
た以外には実施例2−11と同様の感光体を作製して耐
久テストを行った。結果を表2−2に示す。
Example 2-18 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 2-11 except that the amount of the epoxy resin used in Example 2-11 was changed to 10 parts, and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-2.

【0227】実施例2−19 実施例2−11で用いた高圧水銀灯光を6秒間照射した
以外には実施例2−11と同様の感光体を作製して耐久
テストを行った。結果を表2−2に示す。
Example 2-19 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 2-11 except that the high pressure mercury lamp light used in Example 2-11 was irradiated for 6 seconds, and a durability test was conducted. The results are shown in Table 2-2.

【0228】実施例2−20 実施例2−11で用いたフェノールとテロラクロロエタ
ン(1:1)混合液100mlの代わりにヘキサフルオ
ロイソプロパノール100mlを用いた以外には、実施
例2−11と同様の感光体を作製し、同例と同様に耐久
テストを行った。結果を表2−2に示す。
Example 2-20 The same as Example 2-11 except that 100 ml of hexafluoroisopropanol was used instead of 100 ml of the phenol / terolachloroethane (1: 1) mixture used in Example 2-11. A photoconductor was prepared and a durability test was conducted in the same manner as in the same example. The results are shown in Table 2-2.

【0229】実施例2−21及び2−22 実施例2−11の感光体と実施例2−20の感光体とを
複写機[商品名:NP−3525(キヤノン社製)]に
装着し、温度30℃及び相対湿度85%の環境におい
て、通紙10万枚の耐久テストを行った。結果を表2−
2に示す。
Examples 2-21 and 2-22 The photoconductor of Example 2-11 and the photoconductor of Example 2-20 were mounted on a copying machine [trade name: NP-3525 (manufactured by Canon Inc.)], An endurance test of 100,000 sheets of paper was conducted in an environment of a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 85%. The results are shown in Table 2-
2 shows.

【0230】[0230]

【表3】 [Table 3]

【0231】[0231]

【表4】 [Table 4]

【0232】[0232]

【発明の効果】本発明による像保持部材は、高融点ポリ
エステル樹脂及び硬化樹脂及びシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーを含有する表面層を有することにより、耐
久テストによる削れも殆ど無く、安定した電位特性を示
し、耐久使用後もキズによるスジ画像発生及び部分的な
削れによる濃度の傾きの無い像保持部材を得ることがで
き、その結果良好な複写画像を得ることが可能になっ
た。
The image-holding member according to the present invention has a surface layer containing a high melting point polyester resin and a cured resin and a silicone-type comb-type graft polymer, so that the image holding member has almost no abrasion due to a durability test and has stable potential characteristics. As shown in the figure, it is possible to obtain an image holding member which is free from streak images due to scratches and has no density gradient due to partial abrasion even after durable use, and as a result, it is possible to obtain good copied images.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の構成を備えた像保持部材の模式的断面
図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an image holding member having a configuration of the present invention.

【図2】本発明の構成を備えた他の像保持部材の模式的
断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of another image holding member having the configuration of the present invention.

【図3】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of still another image holding member having the configuration of the present invention.

【図4】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of still another image holding member having the configuration of the present invention.

【図5】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view of still another image holding member having the configuration of the present invention.

【図6】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of still another image holding member having the configuration of the present invention.

【図7】一般的なドラム型電子写真感光体を装着した転
写式電子写真装置の概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a transfer type electrophotographic apparatus equipped with a general drum type electrophotographic photosensitive member.

【図8】上記電子写真装置をプリンターとして使用した
ファクシミリ方式のブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram of a facsimile system using the electrophotographic apparatus as a printer.

Claims (38)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高融点ポリエステル樹脂、硬化樹脂及び
潤滑剤を含有することを特徴とする像保持部材。
1. An image holding member containing a high melting point polyester resin, a cured resin and a lubricant.
【請求項2】 該潤滑剤がシリコン系であることを特徴
とする請求項1の像保持部材。
2. The image holding member according to claim 1, wherein the lubricant is silicon-based.
【請求項3】 該潤滑剤が下記一般式(1)および
(2)から選ばれるシリコーンと下記一般式(3)のシ
リコーンとの縮合反応生成物である変性シリコーンと重
合性官能基を有する化合物とを共重合させて得られるシ
リコーン系クシ型グラフトポリマーを含有することを特
徴とする像保持部材。 【外1】 (R1〜R5はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基、nは正の整数。) 【外2】 (R6およびR7はアルキル基およびアリール基から選ば
れる基、nは正の整数。) 【外3】 (R8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基およびアリール基から選ばれる基、R11はアルキル基
およびアリール基から選ばれる基、Xはハロゲン原子お
よびアルコキシ基から選ばれる基、nは1〜3の整
数。)
3. A compound having a polymerizable silicone and a modified silicone, which is a condensation reaction product of a silicone selected from the following general formulas (1) and (2) and a silicone of the following general formula (3). An image holding member comprising a silicone-type comb-type graft polymer obtained by copolymerizing with. [Outer 1] (R 1 to R 5 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) (R 6 and R 7 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) (R 8 , R 9 and R 10 are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group and an aryl group, R 11 is a group selected from an alkyl group and an aryl group, and X is a group selected from a halogen atom and an alkoxy group. , N is an integer of 1 to 3.)
【請求項4】 高融点ポリエステル樹脂が160℃以上
の融点を有する請求項1の像保持部材。
4. The image holding member according to claim 1, wherein the high melting point polyester resin has a melting point of 160 ° C. or higher.
【請求項5】 硬化樹脂が高融点ポリエステル樹脂10
0重量部に対して3〜50重量部含まれていることを特
徴とする請求項1に記載の像保持部材。
5. The high melting point polyester resin 10 as the cured resin.
The image holding member according to claim 1, wherein the image holding member is contained in an amount of 3 to 50 parts by weight with respect to 0 parts by weight.
【請求項6】 高融点ポリエステル樹脂がポリエチレン
テレフタレート樹脂であることを特徴とする請求項1に
記載の像保持部材。
6. The image holding member according to claim 1, wherein the high melting point polyester resin is a polyethylene terephthalate resin.
【請求項7】 高融点ポリエステル樹脂がポリブチレン
テレフタレート樹脂であることを特徴とする請求項1に
記載の像保持部材。
7. The image holding member according to claim 1, wherein the high melting point polyester resin is a polybutylene terephthalate resin.
【請求項8】 高融点ポリエステル樹脂がポリシクロヘ
キサンジメチレンテレフタレート樹脂であることを特徴
とする請求項1に記載の像保持部材。
8. The image holding member according to claim 1, wherein the high melting point polyester resin is a polycyclohexanedimethylene terephthalate resin.
【請求項9】 高融点ポリエステル樹脂がポリエチレン
ナフタレート樹脂であることを特徴とする請求項1に記
載の像保持部材。
9. The image holding member according to claim 1, wherein the high melting point polyester resin is a polyethylene naphthalate resin.
【請求項10】 硬化樹脂が光イオン硬化されたエポキ
シ樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の像保持
部材。
10. The image holding member according to claim 1, wherein the curable resin is a photoion-cured epoxy resin.
【請求項11】 硬化樹脂が光イオン硬化されたエポキ
シ樹脂である請求項2の像保持部材。
11. The image holding member according to claim 2, wherein the curable resin is a photoion-cured epoxy resin.
【請求項12】 グラフトポリマーの含有率が像保持部
材表面層の重量分率で0.01〜10%である特許請求
の範囲第1項の像保持部材。
12. The image-holding member according to claim 1, wherein the content of the graft polymer is 0.01 to 10% by weight of the surface layer of the image-holding member.
【請求項13】 表面層が保護層である請求項1の像保
持部材。
13. The image holding member according to claim 1, wherein the surface layer is a protective layer.
【請求項14】 上記保護層の膜厚が3.0μm以下で
あることを特徴とする請求項11の像保持部材。
14. The image holding member according to claim 11, wherein the protective layer has a thickness of 3.0 μm or less.
【請求項15】 上記像保持部材が少なくとも前記保護
層と光導電層とを有することを特徴とする請求項11の
像保持部材。
15. The image holding member according to claim 11, wherein the image holding member has at least the protective layer and a photoconductive layer.
【請求項16】 上記感光層として有機系光導電層を有
することを特徴とする請求項13の像保持部材。
16. The image holding member according to claim 13, further comprising an organic photoconductive layer as the photosensitive layer.
【請求項17】 上記有機系光導電層が電荷発生層と電
荷輸送層の積層体であることを特徴とする請求項14の
像保持部材。
17. The image holding member according to claim 14, wherein the organic photoconductive layer is a laminate of a charge generation layer and a charge transport layer.
【請求項18】 表面層が保護層であって、有機系光導
電層を有する請求項2の像保持部材。
18. The image holding member according to claim 2, wherein the surface layer is a protective layer and has an organic photoconductive layer.
【請求項19】 表面層が有機系光導電層である請求項
1の像保持部材。
19. The image holding member according to claim 1, wherein the surface layer is an organic photoconductive layer.
【請求項20】 有機系光導電層が電荷輸送層である請
求項17の像保持部材。
20. The image holding member according to claim 17, wherein the organic photoconductive layer is a charge transport layer.
【請求項21】 有機系光導電層が電荷発生層である請
求項17の像保持部材。
21. The image holding member according to claim 17, wherein the organic photoconductive layer is a charge generation layer.
【請求項22】 表面層が有機系光導電層である請求項
2の像保持部材。
22. The image holding member according to claim 2, wherein the surface layer is an organic photoconductive layer.
【請求項23】 表面層を有する像保持部材の製造方法
において、該表面層を溶媒中に少なくとも高融点ポリエ
ステル樹脂及び光硬化性樹脂及び下記一般式(1)およ
び(2)から選ばれるシリコーンと下記一般式(3)の
シリコーンとの縮合反応生成物である変性シリコーンと
重合性官能基を有する化合物とを共重合させて得られる
シリコーン系クシ型グラフトポリマー。 【外4】 (R1〜R5はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基、nは正の整数。) 【外5】 (R6およびR7はアルキル基およびアリール基から選ば
れる基、nは正の整数。) 【外6】 (R8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基およびアリール基から選ばれる基、R11はアルキル基
およびアリール基から選ばれる基、Xはハロゲン原子お
よびアルコキシ基から選ばれる基、nは1〜3の整
数。)が均一に溶解された塗工液を塗工し、次いで光硬
化させ形成することを特徴とする像保持部材の製造方
法。
23. A method for producing an image holding member having a surface layer, wherein the surface layer comprises a high melting point polyester resin and a photocurable resin in a solvent, and a silicone selected from the following general formulas (1) and (2). A silicone-type comb-type graft polymer obtained by copolymerizing a modified silicone, which is a condensation reaction product of silicone of the following general formula (3), with a compound having a polymerizable functional group. [Outside 4] (R 1 to R 5 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) (R 6 and R 7 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) (R 8 , R 9 and R 10 are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group and an aryl group, R 11 is a group selected from an alkyl group and an aryl group, and X is a group selected from a halogen atom and an alkoxy group. , N is an integer of 1 to 3) is applied to form a uniform coating solution and then photocured to form the image holding member.
【請求項24】 高融点ポリエステル樹脂が160℃以
上の融点を有する請求項21の像保持部材の製造方法。
24. The method for producing an image holding member according to claim 21, wherein the high melting point polyester resin has a melting point of 160 ° C. or higher.
【請求項25】 前記光硬化性樹脂がエポキシ樹脂であ
ることを特徴とする請求項21に記載の像保持部材の製
造方法。
25. The method of manufacturing an image holding member according to claim 21, wherein the photocurable resin is an epoxy resin.
【請求項26】 前記グラフトポリマーの含有率が像保
持部材表面層の重量分率で0.01〜10%である特許
請求の範囲第21項の像保持部材の製造方法。
26. The method for producing an image holding member according to claim 21, wherein the content of the graft polymer is 0.01 to 10% by weight of the surface layer of the image holding member.
【請求項27】 前記塗工液中に、光照射によってルイ
ス酸を遊離する光重合開始剤が存在することを特徴とす
る請求項21の像保持部材の製造方法。
27. The method for producing an image holding member according to claim 21, wherein a photopolymerization initiator that liberates a Lewis acid upon irradiation with light is present in the coating liquid.
【請求項28】 前記塗工液に用いた溶媒がフッ素含有
アルコールを含有することを特徴とする請求項21の像
保持部材の製造方法。
28. The method of manufacturing an image holding member according to claim 21, wherein the solvent used in the coating liquid contains a fluorine-containing alcohol.
【請求項29】 帯電手段、現像手段およびクリーニン
グ手段の少なくとも1つを、高融点ポリエステル樹脂及
び光硬化樹脂及び下記一般式(1)および(2)から選
ばれるシリコーンと下記一般式(3)のシリコーンとの
縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基を
有する化合物とを共重合させて得られるシリコーン系ク
シ型グラフトポリマー。 【外7】 (R1〜R5はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基、nは正の整数。) 【外8】 (R6およびR7はアルキル基およびアリール基から選ば
れる基、nは正の整数。) 【外9】 (R8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基およびアリール基から選ばれる基、R11はアルキル基
およびアリール基から選ばれる基、Xはハロゲン原子お
よびアルコキシ基から選ばれる基、nは1〜3の整
数。)を有する表面層を有する像保持部材とともに一体
に支持してユニットを形成し、装置本体に着脱自在の単
一ユニットとしたことを特徴とする装置ユニット。
29. A high melting point polyester resin and a photocurable resin, and a silicone selected from the following general formulas (1) and (2) and at least one of the following general formula (3): A silicone-type comb-type graft polymer obtained by copolymerizing a modified silicone, which is a condensation reaction product with silicone, with a compound having a polymerizable functional group. [Outside 7] (R 1 to R 5 are groups selected from alkyl groups and aryl groups, and n is a positive integer.) [Ex. 8] (R 6 and R 7 are groups selected from alkyl groups and aryl groups, and n is a positive integer.) (R 8 , R 9 and R 10 are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group and an aryl group, R 11 is a group selected from an alkyl group and an aryl group, and X is a group selected from a halogen atom and an alkoxy group. , N is an integer of 1 to 3) together with an image holding member having a surface layer to form a unit, which is a single unit that is detachably attached to the apparatus main body.
【請求項30】 高融点ポリエステル樹脂が160℃以
上の融点を有する請求項27の装置ユニット。
30. The apparatus unit according to claim 27, wherein the high melting point polyester resin has a melting point of 160 ° C. or higher.
【請求項31】 表面層が保護層および有機光導電層か
ら選ばれた層である請求項28の装置ユニット。
31. The device unit according to claim 28, wherein the surface layer is a layer selected from a protective layer and an organic photoconductive layer.
【請求項32】 上記グラフトポリマーの含有率が像保
持部材表面層の重量分率で0.01〜10%である特許
請求の範囲第28項の装置ユニット。
32. The apparatus unit according to claim 28, wherein the content of the graft polymer is 0.01 to 10% by weight of the surface layer of the image holding member.
【請求項33】 高融点ポリエステル樹脂及び光硬化樹
脂及び下記一般式(1)および(2)から選ばれるシリ
コーンと下記一般式(3)のシリコーンとの縮合反応生
成物である変性シリコーンと重合性官能基を有する化合
物とを共重合させて得られるシリコーン系クシ型グラフ
トポリマー。 【外10】 (R1〜R5はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基、nは正の整数。) 【外11】 (R6およびR7はアルキル基およびアリール基から選ば
れる基、nは正の整数。) 【外12】 (R8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基およびアリール基から選ばれる基、R11はアルキル基
およびアリール基から選ばれる基、Xはハロゲン原子お
よびアルコキシ基から選ばれる基、nは1〜3の整
数。)を有する表面層を有する像保持部材、潜像形成手
段、形成した潜像を現像する手段および現像した像を転
写材に転写する手段を有することを特徴とする電子写真
装置。
33. A high-melting-point polyester resin, a photocurable resin, and a modified silicone which is a condensation reaction product of a silicone selected from the following general formulas (1) and (2) and a silicone of the following general formula (3): A silicone-type comb-type graft polymer obtained by copolymerizing with a compound having a functional group. [Outside 10] (R 1 to R 5 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) [Ex. 11] (R 6 and R 7 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) (R 8 , R 9 and R 10 are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group and an aryl group, R 11 is a group selected from an alkyl group and an aryl group, and X is a group selected from a halogen atom and an alkoxy group. , N is an integer of 1 to 3), a latent image forming member, a latent image forming means, a means for developing the formed latent image, and a means for transferring the developed image to a transfer material. Electrophotographic device.
【請求項34】 高融点ポリエステル樹脂が160℃以
上の融点を有する請求項31の電子写真装置。
34. The electrophotographic apparatus according to claim 31, wherein the high melting point polyester resin has a melting point of 160 ° C. or higher.
【請求項35】 上記グラフトポリマーの含有率が像保
持部材表面層の重量分率で0.01〜10%である特許
請求の範囲第31項の電子写真装置。
35. The electrophotographic apparatus according to claim 31, wherein the content of the graft polymer is 0.01 to 10% by weight of the surface layer of the image holding member.
【請求項36】 高融点ポリエステル樹脂及び光硬化樹
脂及び下記一般式(1)および(2)から選ばれるシリ
コーンと下記一般式(3)のシリコーンとの縮合反応生
成物である変性シリコーンと重合性官能基を有する化合
物とを共重合させて得られるシリコーン系クシ型グラフ
トポリマー。 【外13】 (R1〜R5はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基、nは正の整数。) 【外14】 (R6およびR7はアルキル基およびアリール基から選ば
れる基、nは正の整数。) 【外15】 (R8、R9、R10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基およびアリール基から選ばれる基、R11はアルキル基
およびアリール基から選ばれる基、Xはハロゲン原子お
よびアルコキシ基から選ばれる基、nは1〜3の整
数。)を有する表面層を有する像保持部材、潜像形成手
段、形成した潜像を現像する手段および現像した像を転
写材に転写する手段を備えた電子写真装置およびリモー
ト端末からの画像情報を受信する受信手段を有すること
を特徴とするファクシミリ。
36. A high-melting-point polyester resin, a photocurable resin, and a modified silicone which is a condensation reaction product of a silicone selected from the following general formulas (1) and (2) and a silicone of the following general formula (3): A silicone-type comb-type graft polymer obtained by copolymerizing with a compound having a functional group. [Outside 13] (R 1 to R 5 are groups selected from an alkyl group and an aryl group, and n is a positive integer.) (R 6 and R 7 are groups selected from alkyl groups and aryl groups, and n is a positive integer.) (R 8 , R 9 and R 10 are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group and an aryl group, R 11 is a group selected from an alkyl group and an aryl group, and X is a group selected from a halogen atom and an alkoxy group. , N is an integer of 1 to 3), an electrophotographic apparatus provided with an image holding member having a surface layer having a surface layer having an integer of 1 to 3, latent image forming means, means for developing the formed latent image and means for transferring the developed image to a transfer material. And a facsimile having a receiving means for receiving image information from a remote terminal.
【請求項37】 高融点ポリエステル樹脂が160℃以
上の融点を有する請求項34のファクシミリ。
37. The facsimile machine according to claim 34, wherein the high melting point polyester resin has a melting point of 160 ° C. or higher.
【請求項38】 上記グラフトポリマーの含有率が像保
持部材表面層の重量分率で0.01〜10%である特許
請求の範囲第34項のファクシミリ。
38. The facsimile machine according to claim 34, wherein the content of the graft polymer is 0.01 to 10% by weight of the surface layer of the image holding member.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013205499A (en) * 2012-03-27 2013-10-07 Mitsubishi Chemicals Corp Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor cartridge, and image forming apparatus

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