JPH0641215A - Solution of cation generator - Google Patents

Solution of cation generator

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Publication number
JPH0641215A
JPH0641215A JP21732892A JP21732892A JPH0641215A JP H0641215 A JPH0641215 A JP H0641215A JP 21732892 A JP21732892 A JP 21732892A JP 21732892 A JP21732892 A JP 21732892A JP H0641215 A JPH0641215 A JP H0641215A
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JP
Japan
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group
formula
sulfonium salt
cation generator
generator solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP21732892A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomio Hamatsu
富三男 浜津
Minoru Yokoshima
実 横島
Takeshi Endo
剛 遠藤
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Nippon Kayaku Co Ltd
Sanshin Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Sanshin Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd, Sanshin Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP21732892A priority Critical patent/JPH0641215A/en
Publication of JPH0641215A publication Critical patent/JPH0641215A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the soln. which is excellent in storage stability at room temp. in a dark place and gives a cationically polymerizable org. compsn. by dissolving a sulfonium salt in a high-boiling ether compd. CONSTITUTION:The soln. is obtd. by dissolving 80-5 pts.wt. high-activity sulfonium salt of formula I (wherein R<1> is H, CH3, acetyl, methoxycarbonyl, benzoyl, etc.; R<2> and R<3> are each H, a halogen, or 1-4C alkyl; Q<1> is benzyl, p-methylbenzyl, p-nitrobenzyl, m-chlorobenzyl, alpha-naphthylmethyl, methyl, etc.; R<4> is methyl or ethyl; and X is SbF6, PF6, AsF6, or BF6) in an ether compd. having a b.p. of 120 deg.C or higher. If necessary, a sulfonium salt of formula II (wherein R<5> is H, CH3, acetyl, etc.; R<6> and R7 are each H, a halogen, or 1-4C alkyl; Q<2> is benzyl, etc.; R<8> is CH3 or C2H5; and Y is a halogen, a perchloric acid group, etc.) is added to the soln. as a stabilizer of one-component system.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は溶液化されたカチオン発
生剤に関する。詳しくは、カチオン重合性有機材料のた
めの熱および/または光潜在性硬化触媒の触媒溶液ある
いは室温硬化のための触媒型硬化剤溶液に関するもので
ある。本発明のカチオン発生剤溶液はカチオン重合性有
機材料、例えば、エポキシ樹脂、環状エーテル、ビニル
エーテル樹脂と混合調製され、貯蔵安定性に優れた熱お
よび/または光潜在性硬化触媒組成物を提供し、あるい
は2液で使用される硬化触媒溶液を提供する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a solubilized cation generator. More particularly, it relates to a catalyst solution of a heat and / or light latent curing catalyst for a cationically polymerizable organic material or a catalyst type curing agent solution for room temperature curing. The cation generator solution of the present invention is prepared by mixing with a cationically polymerizable organic material, for example, an epoxy resin, a cyclic ether or a vinyl ether resin to provide a thermal and / or photolatent curing catalyst composition having excellent storage stability, Alternatively, a curing catalyst solution to be used in two parts is provided.

【0002】[0002]

【従来の技術】カチオン重合性硬化触媒として、スルホ
ニウム塩を用いることは、例えば、日本国特許第952
498号,第887187号,第1311940号,第
1305282号,第1289446号,第14662
84号,第1511862号,第1618088号など
に記載されている。また本発明者らは、例えば特開平2
−196812号,特開平3−59001号,特開平3
−72569号,特開平3−205405号,特開平3
−237107号により、式I
Use of a sulfonium salt as a cationically polymerizable curing catalyst is disclosed, for example, in Japanese Patent No. 952.
No. 498, No. 887187, No. 131119, No. 1305282, No. 1289446, No. 14662.
No. 84, No. 1511862, No. 1618088 and the like. The inventors of the present invention have also disclosed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No.
-196812, JP-A-3-59001, JP-A-3
-72569, JP-A-3-205405, JP-A-3
No. 237107, the formula I

【0003】[0003]

【化3】 で表わされるスルホニウム塩は熱および/または光とい
った外部刺激によりカチオン種を発生し、カチオン重合
性有機材料を重合、硬化させることができることを開示
し、更に特願平3−301041号により、カチオン重
合触媒を用いた組成物の貯蔵安定性の改良のために、例
えば、式 II
[Chemical 3] It is disclosed that the sulfonium salt represented by can generate a cationic species by an external stimulus such as heat and / or light, and can polymerize and cure the cationically polymerizable organic material. Further, according to Japanese Patent Application No. 3-301041, For improving the storage stability of catalyzed compositions, for example, compounds of formula II

【0004】[0004]

【化4】 で表わされるスルホニウム塩を添加併用することについ
ても教示した。
[Chemical 4] It was also taught to additionally use a sulfonium salt represented by

【0005】ところで、カチオン重合性有機材料とスル
ホニウム塩からなる組成物を調製する際に有用であると
考えられる光開始剤とプロピレンカーボネートまたはエ
チレンカーボネートの混合物に関しては、特許第124
5439号に記載されている。しかしながら、プロピレ
ンカーボネートまたはエチレンカーボネートに対するス
ルホニウム塩の溶解性には限界があり、溶剤を多量に使
用する必要があるばかりでなく、これを用いたカチオン
重合性組成物の硬化においてはその溶媒に起因する比較
的長い硬化時間を要し、特に室温で硬化させる場合には
溶液中のプロピレンカーボネートまたはエチレンカーボ
ネートが未反応物として残り、硬化物の物性低下を引き
起こす。
By the way, a mixture of a photoinitiator and propylene carbonate or ethylene carbonate, which is considered to be useful in preparing a composition comprising a cationically polymerizable organic material and a sulfonium salt, is disclosed in Patent No. 124.
No. 5439. However, there is a limit to the solubility of the sulfonium salt in propylene carbonate or ethylene carbonate, and it is not only necessary to use a large amount of a solvent, but also in the curing of the cationically polymerizable composition using this, it is caused by the solvent. A relatively long curing time is required, and particularly when curing is performed at room temperature, propylene carbonate or ethylene carbonate in the solution remains as an unreacted product, which causes deterioration of physical properties of the cured product.

【0006】[0006]

【発明の構成】本発明者らは、前記したような問題点を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、カチオン発生剤の調
製のための溶剤として沸点が120℃以上の高沸点エー
テル化合物を用いることで、高濃度でカチオン発生剤あ
るいは必要に応じて安定剤を溶解させることが可能でカ
チオン重合性有機材料の一液化組成物を調製するのに有
効で適当な加熱条件下ですみやかに硬化物を与えること
を見出した。また室温で硬化させる目的の場合において
も用いたエーテル化合物が硬化物の網目構造に取り込ま
れ、優れた硬化物を与えることをも見出し、本発明の安
定なカチオン発生剤溶液を見出すに至った。
The present inventors have conducted extensive studies to solve the above problems, and as a result, use a high boiling point ether compound having a boiling point of 120 ° C. or higher as a solvent for preparing a cation generator. This makes it possible to dissolve a cation generator or a stabilizer if necessary at a high concentration, is effective for preparing a one-part composition of a cationically polymerizable organic material, and is a cured product immediately under appropriate heating conditions. Found to give. It was also found that the ether compound used was incorporated into the network structure of the cured product to give an excellent cured product even for the purpose of curing at room temperature, and the present inventors have found a stable cation generator solution of the present invention.

【0007】すなわち、本発明は、沸点が120℃以上
の高沸点エーテル化合物に下記式Iで表わされるスルホ
ニウム塩と必要に応じて下記式IIで表わされるスルホニ
ウム塩を溶解させることを特徴とするカチオン発生剤溶
液に関する。ただし、エーテル化合物はa重量部(a=
100−bであり、a≧20である。)、式Iで表わさ
れるスルホニウム塩はb重量部(5≦b≦80)、式II
で表わされるスルホニウム塩は式Iのスルホニウム塩に
対して 0.1〜20重量%である。
That is, the present invention is a cation characterized in that a sulfonium salt represented by the following formula I and, if necessary, a sulfonium salt represented by the following formula II are dissolved in a high boiling ether compound having a boiling point of 120 ° C. or higher. It relates to a generator solution. However, the ether compound is a part by weight (a =
100-b, and a ≧ 20. ), The sulfonium salt represented by the formula I is b parts by weight (5 ≦ b ≦ 80), the formula II
The sulfonium salt represented by is 0.1 to 20% by weight based on the sulfonium salt of the formula I.

【0008】[0008]

【化5】 [Chemical 5]

【0009】[0009]

【化6】 (ここで、R1 ,R5 は水素、メチル基、アセチル基、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾ
イル基、ベンジルオキシカルボニル基のいずれかであ
り、R2 ,R3 ,R6 ,R7 はそれぞれ独立して水素、
ハロゲン、C1 〜C4 のアルキル基のいずれかであり、
1 ,Q2 はベンジル基、p−メチルベンジル基、o−
メチルベンジル基、m−メチルベンジル基、p−ニトロ
ベンジル基、o−ニトロベンジル基、m−ニトロベンジ
ル基、2,5−ジニトロベンジル基、p−クロロベンジ
ル基、m−クロロベンジル基、o−クロロベンジル基、
α−ナフチルメチル基、メチル基、エチル基のいずれか
であり、R4 ,R8 はメチル基、エチル基のいずれかで
ある。XはSbF6 ,PF6 ,AsF6 ,BF4 のいず
れかであり、Yはハロゲン、メチル硫酸、エチル硫酸、
p−トルエンスルホン酸、過塩素酸のいずれかであ
る。) 本発明で使用する高沸点エーテル化合物としては、メチ
ルカルビトール,エチルカルビトール,ブチルカルビト
ール,エチルカルビトールアセタート,ブチルカルビト
ールアセタート,ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル,ジエチレングリコールジエチルエーテル,ジシクロ
ヘキサン,18−クラウン−6のごときクラウンエーテ
ル,メチルセロソルブ,エチルセロソルブ,ブチルセロ
ソルブ等が挙げられ、1種もしくは2種以上を併用して
用いることができる。
[Chemical 6] (Here, R 1 and R 5 are hydrogen, a methyl group, an acetyl group,
A methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a benzoyl group, or a benzyloxycarbonyl group, wherein R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are each independently hydrogen,
Either halogen or a C 1 -C 4 alkyl group,
Q 1 and Q 2 are benzyl group, p-methylbenzyl group, o-
Methylbenzyl group, m-methylbenzyl group, p-nitrobenzyl group, o-nitrobenzyl group, m-nitrobenzyl group, 2,5-dinitrobenzyl group, p-chlorobenzyl group, m-chlorobenzyl group, o- Chlorobenzyl group,
It is either an α-naphthylmethyl group, a methyl group or an ethyl group, and R 4 and R 8 are either a methyl group or an ethyl group. X is any of SbF 6 , PF 6 , AsF 6 , and BF 4 , and Y is halogen, methylsulfate, ethylsulfate,
It is either p-toluenesulfonic acid or perchloric acid. ) Examples of the high boiling point ether compound used in the present invention include methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dicyclohexane, 18-crown. Examples thereof include crown ethers such as -6, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, and they can be used alone or in combination of two or more.

【0010】また、式Iで表わされるスルホニウム塩と
してはベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート,ベンジル−4
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロホスフェート,ベンジル−4−ヒドロキシフェニル
メチルスルホニウム テトラフルオロボレート,ベンジ
ルエチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート,ベンジル−4−ヒドロキシ
フェニルエチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェ
ート,ベンジル−4−メトキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート,ベンジル−4−
メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート,ベンジル−3−クロロ−4−ヒドロキシフ
ェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート(または、ヘキサフルオロホスフェート),ベンジ
ル−3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート(または、ヘキ
サフルオロホスフェート),4−アセトキシフェニルベ
ンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート(または、ヘキサフルオロホスフェート),ベンジ
ル−4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート(また
は、ヘキサフルオロホスフェート),ベンジル−4−エ
トキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート(または、ヘキサフル
オロホスフェート),ベンジルメチル−4−(エキトシ
カルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート(または、ヘキサフルオロホスフェ
ート),ベンジル−4−(ベンジルオキシカルボニルオ
キシ)フェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート(または、ヘキサフルオロホスフェー
ト),p−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート(ま
たは、ヘキサフルオロホスフェート),o−ニトロベン
ジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート(または、ヘキサフルオロ
ホスフェート),m−ニトロベンジル−4−ヒドロキシ
フェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート(または、ヘキサフルオロホスフェート),ジニ
トロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート(または、ヘキサ
フルオロホスフェート),4−ヒドロキシフェニルジメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート(ま
たは、ヘキサフルオロホスフェート),α−ナフチルメ
チル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート(または、ヘキサフルオロホ
スフェート),α−ナフチルメチル−4−(メトキシカ
ルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート(または、ヘキサフルオロホス
フェート),p−クロロベンジル−4−アセトキシフェ
ニルエチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネー
ト,4−メチルベンジル−4−メトキシカルボニルオキ
シ−3−クロロフェニルメチルスルホニウム テトラフ
ルオロボレート,4−フェノキシカルボニルオキシフェ
ニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート,4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート(または、ヘキサフルオ
ロホスフェート),4−メトキシカルボニルオキシフェ
ニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート(またはヘキサフルオロホスフェート)等を挙げる
ことができ、1種もしくは2種以上を併用して用いるこ
とができる。
The sulfonium salt represented by the formula I is benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4.
-Hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium tetrafluoroborate, benzylethyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4-hydroxyphenylethylsulfonium hexafluorophosphate, benzyl-4- Methoxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4-
Methoxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, benzyl-3-chloro-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), benzyl-3-methyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or , Hexafluorophosphate), 4-acetoxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), benzyl-4- (methoxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), benzyl -4-Ethoxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimo (Or hexafluorophosphate), benzylmethyl-4- (ethyloxycarbonyloxy) phenylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), benzyl-4- (benzyloxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoro Antimonate (or hexafluorophosphate), p-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), o-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or , Hexafluorophosphate), m-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonet (Or hexafluorophosphate), dinitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), α- Naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), α-naphthylmethyl-4- (methoxycarbonyloxy) phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), p- Chlorobenzyl-4-acetoxyphenylethylsulfonium hexafluoroarsenate, 4-methylbenzyl-4- Methoxycarbonyloxy-3-chlorophenylmethylsulfonium tetrafluoroborate, 4-phenoxycarbonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium
Hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate), 4-methoxycarbonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate (or hexafluorophosphate) and the like can be mentioned, and one or more kinds can be used in combination. it can.

【0011】更に、式IIで表わされる一液化組成物の安
定化のためのスルホニウム塩としては、例えばベンジル
−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム クロラ
イド,ベンジル−4−ヒドロキシフェニルエチルスルホ
ニウム クロライド,ベンジル−4−ヒドロキシフェニ
ルメチル メチルサルフェート,p−クロロベンジル−
4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム クロライ
ド,p−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチ
ルスルホニウム クロライド,o−メチルベンジル−4
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム クロライ
ド,m−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチ
ルスルホニウム クロライド,ベンジル−4−メトキシ
フェニルメチルスルホニウム クロライド,ベンジル−
3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウ
ム クロライド,ベンジル−3−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−tert−ブチルフェニルメチルスルホニウム ク
ロライド,α−ナフチルメチル−4−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウム クロライド,4−ヒドロキシフ
ェニルジメチル メチルサルフェート,4−(ベンジル
オキシカルボニルオキシ)フェニルジメチル メチルサ
ルフェートを挙げることができ、1種もしくは2種以上
を併用して用いることができる。
Further, examples of the sulfonium salt for stabilizing the one-liquefied composition represented by the formula II include benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, benzyl-4-hydroxyphenylethylsulfonium chloride and benzyl-4-. Hydroxyphenylmethyl methylsulfate, p-chlorobenzyl-
4-hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, p-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, o-methylbenzyl-4
-Hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, m-methylbenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, benzyl-4-methoxyphenylmethylsulfonium chloride, benzyl-
3-methyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, benzyl-3-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenylmethylsulfonium chloride, α-naphthylmethyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium chloride, 4-hydroxyphenyldimethyl Methylsulfate and 4- (benzyloxycarbonyloxy) phenyldimethyl methylsulfate can be mentioned, and one kind or a combination of two or more kinds can be used.

【0012】本発明のカチオン発生剤溶液のエーテル化
合物/スルホニウム塩(I)/スルホニウム塩(II)の
好ましい混合割合は、エーテル化合物が30〜70重量部、
カチオン発生剤であるスルホニウム塩(I)が70〜30重
量部である。また、必要に応じて、安定剤としてスルホ
ニウム塩(II)が添加されるが、その割合は、スルホニ
ウム塩(I)の使用量に対して 0.5〜10重量%が好まし
い。
The preferred mixing ratio of the ether compound / sulfonium salt (I) / sulfonium salt (II) in the cation generator solution of the present invention is 30 to 70 parts by weight of the ether compound,
70 to 30 parts by weight of the sulfonium salt (I) which is a cation generator. If necessary, a sulfonium salt (II) is added as a stabilizer, and the proportion thereof is preferably 0.5 to 10% by weight based on the amount of the sulfonium salt (I) used.

【0013】[0013]

【作用】本発明により120℃以上の高沸点エーテル化
合物を用いたカチオン発生剤溶液によるカチオン重合性
有機材料組成物の硬化においては、カチオン重合末期に
例えば成長末端カルベニウムイオンへのエーテル化合物
中の酸素原子の攻撃によるオキソニウム塩の形成が起こ
り、エーテル化合物が硬化体中に取り込まれるために硬
化物物性に悪い影響を及ぼさないものと考えられる。ま
た、硬化時に成長末端とエーテル化合物の間で移動反応
が起こり、新たなカチオン種(H+ )が発生するため速
い硬化反応を起こすものと考えられる。本発明の高沸点
エーテル化合物に安定剤として式Iで表わされるスルホ
ニウム塩と式IIで表わされるスルホニウム塩を併用して
調製されたカチオン発生剤溶液を用いたカチオン重合性
組成物は、暗所下で貯蔵安定性に優れ、加熱あるいは紫
外線等のエネルギー線の照射で短時間に硬化物を形成す
ることが可能で、更に式Iで表わされる高活性なスルホ
ニウム塩と高沸点エーテル化合物からなるカチオン発生
剤溶液とカチオン重合性物質からなる組成物は室温です
みやかに硬化物を形成することが可能で電気電子部品,
注型品,接着剤,塗料等に広く応用可能である。
According to the present invention, in the curing of the cationically polymerizable organic material composition with the cation generator solution using the high boiling point ether compound of 120 ° C. or higher, at the end of the cationic polymerization, for example, the ether compound in the growth terminal carbenium ion is converted into the ether compound. It is considered that the formation of an oxonium salt due to the attack of oxygen atoms occurs and the ether compound is incorporated into the cured product, so that the physical properties of the cured product are not adversely affected. Further, it is considered that a transfer reaction occurs between the growth terminal and the ether compound during curing, and new cation species (H + ) are generated, so that a rapid curing reaction occurs. A cationically polymerizable composition using a cation generator solution prepared by using the sulfonium salt represented by the formula I and the sulfonium salt represented by the formula II in combination with the high-boiling point ether compound of the present invention as a stabilizer is prepared in the dark. It has excellent storage stability and can form a cured product in a short time by heating or irradiation with energy rays such as ultraviolet rays. Furthermore, cation generation consisting of a highly active sulfonium salt represented by the formula I and a high boiling ether compound. A composition consisting of an agent solution and a cationically polymerizable substance can form a cured product promptly at room temperature.
It is widely applicable to cast products, adhesives, paints, etc.

【0014】[0014]

【実施例】以下、実施例にて本発明を詳細に説明するが
本発明は以下のもののみに限定されるものではない。
The present invention is described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following.

【0015】実施例1,比較例1 p−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート15.0g
と4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム メチ
ル硫酸1.0gをメチルカルビトール10gに加え、室
温で撹拌したところ、すみやかに溶解し、均一な透明溶
液となった。なお、メチルカルビトールの代わりにプロ
ピレンカーボネートを用いたところ長時間撹拌しても安
全に溶解せず、完全に溶解させるにはプロピレンカーボ
ネート30gを要した。
Example 1, Comparative Example 1 p-Nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 15.0 g
1.0 g of 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methylsulfate was added to 10 g of methyl carbitol, and the mixture was stirred at room temperature. As a result, it quickly dissolved and became a uniform transparent solution. When propylene carbonate was used instead of methyl carbitol, it did not dissolve safely even after stirring for a long time, and 30 g of propylene carbonate was required to completely dissolve it.

【0016】実施例2〜4,比較例2 実施例1に準じて調製したカチオン発生剤溶液を用いて
脂環式エポキシ樹脂セロキサイド2021(ダイセル化
学工業(株)製)の組成物を調製し、この組成物を遮光
下1か月間25℃に放置し、粘度,硬化性(高圧水銀
灯,2KW,80W/cm,1灯,8cm下の所を各組成物
を硬化塩ビ板の上にスピンコーターで約5μmになる様
に塗布したものを通過させ塗布面のタックが無くなるま
で紫外線を照射した。タックが無くなるまでの照射量
(mJ/cm2 )で表わした。)について評価した。その結
果を表1に示す。
Examples 2 to 4 and Comparative Example 2 A composition of alicyclic epoxy resin Celoxide 2021 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was prepared by using the cation generator solution prepared according to Example 1. This composition was allowed to stand at 25 ° C for 1 month under light-shielding, and the viscosity and curability (high pressure mercury lamp, 2KW, 80W / cm, 1 lamp, 8cm below each composition were spin coated on a hardened PVC plate. The coated material was passed through so as to have a thickness of about 5 μm, and ultraviolet rays were irradiated until the tack on the coated surface disappeared, which was expressed by the irradiation amount (mJ / cm 2 ) until the tack disappeared. The results are shown in Table 1.

【0017】[0017]

【表1】 実施例5〜16,比較例3〜7 実施例1に準じて調製されたカチオン発生剤溶液を用い
てエピコート815(ビスフェノールA型エポキシ樹脂
油化シェルエポキシ製)の組成物を調製し、この組成
物を遮光下40℃に放置した。組成物の粘度を調製直後
と1か月後で測定した(25℃)。また、調製直後およ
び40℃で1か月間保存後の組成物のゲル化時間をJI
SC2104に準じ、日新科学(株)ゲル化テスター
GT−JIS型を用いて所定温度で測定した。結果を表
2,表3に示す。
[Table 1] Examples 5 to 16 and Comparative Examples 3 to 7 Using the cation generator solution prepared according to Example 1, a composition of Epicoat 815 (bisphenol A type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Epoxy) was prepared, and this composition was prepared. The product was left at 40 ° C. in the dark. The viscosity of the composition was measured immediately after preparation and one month later (25 ° C.). In addition, the gelation time of the composition immediately after preparation and after storage at 40 ° C. for 1 month is determined by JI.
According to SC2104, Nisshin Scientific Co., Ltd. gelation tester
It was measured at a predetermined temperature using a GT-JIS type. The results are shown in Tables 2 and 3.

【0018】[0018]

【表2】 [Table 2]

【0019】[0019]

【化7】 [Chemical 7]

【0020】[0020]

【表3】 [Table 3]

【0021】[0021]

【化8】 実施例17〜22,比較例8〜11 種々の高活性なスルホニウム塩のエーテル化合物への溶
解度を25℃で測定した結果を表4,表5に示す。
[Chemical 8] Examples 17 to 22 and Comparative Examples 8 to 11 Tables 4 and 5 show the results of measuring the solubility of various highly active sulfonium salts in ether compounds at 25 ° C.

【0022】[0022]

【表4】 [Table 4]

【0023】[0023]

【表5】 実施例23 実施例19で得られたカチオン発生剤溶液および、それ
を室温で1か月保存した後のカチオン発生剤溶液をそれ
ぞれエピコート815 100重量部に対して1.9重
量部用いて、すみやかに撹拌し、ガラス板上に約0.1
mmに塗布し、室温で放置した。その結果、どちらの場合
も5時間後にタックフリーとなった。
[Table 5] Example 23 Using the cation generator solution obtained in Example 19 and the cation generator solution after storing it at room temperature for 1 month, 1.9 parts by weight to Epicoat 815 (100 parts by weight), respectively, was used. Stir to about 0.1 on a glass plate.
It was applied to the plate and left at room temperature. As a result, in both cases, it became tack-free after 5 hours.

【0024】比較例12 比較例8で得られたカチオン発生剤溶液をエピコート8
15 100重量部に対して2.82重量部用いて実施
例23と同じ方法で硬化性を評価したところ48時間も
表面がべとついていた。
Comparative Example 12 The cation generator solution obtained in Comparative Example 8 was epicoat 8
When the curability was evaluated by the same method as in Example 23 using 2.82 parts by weight per 15 parts by weight of 100, the surface was sticky for 48 hours.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る高沸点エー
テル化合物を用いて溶解させたカチオン発生剤溶液は、
スルホニウム塩に対して高い溶解性を有し、このカチオ
ン発生剤溶液を用いたカチオン重合性有機材料組成物は
室温暗所下で貯蔵安定性に優れ、加熱あるいはUV光な
どのエネルギー線の照射で短時間に重合硬化することが
可能である。また、高活性なスルホニウム塩からなるカ
チオン発生剤溶液を用いたカチオン重合性組成物は室温
ですみやかに硬化することが可能である。よって、所期
の目的を達成することができる。
As described above, the cation generator solution prepared by dissolving the high boiling point ether compound according to the present invention is
It has a high solubility in sulfonium salts, and the cation-polymerizable organic material composition using this cation generator solution has excellent storage stability in the dark at room temperature, and can be heated or irradiated with energy rays such as UV light. It is possible to polymerize and cure in a short time. Further, a cationically polymerizable composition using a cation generator solution containing a highly active sulfonium salt can be rapidly cured at room temperature. Therefore, the intended purpose can be achieved.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 沸点が120℃以上のエーテル化合物20
〜95重量部に、式I 【化1】 で表わされるスルホニウム塩80〜5 重量部を溶解させる
ことを特徴とするカチオン発生剤溶液(上記式中、R1
は水素、メチル基、アセチル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルオ
キシカルボニル基のいずれかであり、R2 ,R3 はそれ
ぞれ独立して水素、ハロゲン、C1 〜C4 のアルキル基
のいずれかであり、Q1 はベンジル基、p−メチルベン
ジル基、o−メチルベンジル基、m−メチルベンジル
基、p−ニトロベンジル基、o−ニトロベンジル基、m
−ニトロベンジル基、ジニトロベンジル基、p−クロロ
ベンジル基、m−クロロベンジル基、o−クロロベンジ
ル基、α−ナフチルメチル基、メチル基、エチル基のい
ずれかであり、R4 はメチル基、エチル基のいずれかで
ある。XはSbF6 ,PF6 ,AsF6 ,BF4 のいず
れかである)。
1. An ether compound having a boiling point of 120 ° C. or higher 20
~ 95 parts by weight of Formula I A cation generator solution characterized by dissolving 80 to 5 parts by weight of a sulfonium salt represented by the formula (in the above formula, R 1
Is hydrogen, a methyl group, an acetyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a benzoyl group, or a benzyloxycarbonyl group, and R 2 and R 3 are independently hydrogen, halogen, and C 1 to C 4 Q 1 is any of alkyl groups, and benzyl group, p-methylbenzyl group, o-methylbenzyl group, m-methylbenzyl group, p-nitrobenzyl group, o-nitrobenzyl group, m
-Nitrobenzyl group, dinitrobenzyl group, p-chlorobenzyl group, m-chlorobenzyl group, o-chlorobenzyl group, α-naphthylmethyl group, methyl group, ethyl group, R 4 is a methyl group, It is one of the ethyl groups. X is any of SbF 6 , PF 6 , AsF 6 , and BF 4 .
【請求項2】 請求項1記載のカチオン発生剤溶液に、
更に、式 II 【化2】 で表わされるスルホニウム塩を式Iのスルホニウム塩に
対して 0.1〜20重量%溶解させることを特徴とするカチ
オン発生剤溶液(上記式中、R5 は水素、メチル基、ア
セチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ベンゾイル基、ベンジルオキシカルボニル基のいず
れかであり、R6 ,R7 はそれぞれ独立して水素、ハロ
ゲン、C1 〜C4 のアルキル基のいずれかであり、Q2
はベンジル基、p−メチルベンジル基、o−メチルベン
ジル基、m−メチルベンジル基、p−ニトロベンジル
基、o−ニトロベンジル基、m−ニトロベンジル基、ジ
ニトロベンジル基、p−クロロベンジル基、m−クロロ
ベンジル基、o−クロロベンジル基、α−ナフチルメチ
ル基、メチル基、エチル基のいずれかであり、R8 はメ
チル基、エチル基のいずれかである。Yはハロゲン、メ
チル硫酸、エチル硫酸、p−トルエンスルホン酸、過塩
素酸のいずれかである)。
2. The cation generator solution according to claim 1,
Furthermore, the formula II 0.1 to 20% by weight of a sulfonium salt represented by the formula I is dissolved in a cation generator solution (wherein R 5 is hydrogen, a methyl group, an acetyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a benzoyl group, or a benzyloxycarbonyl group, R 6, R 7 is a independently hydrogen, halogen, or an alkyl group having C 1 ~C 4, Q 2
Are benzyl group, p-methylbenzyl group, o-methylbenzyl group, m-methylbenzyl group, p-nitrobenzyl group, o-nitrobenzyl group, m-nitrobenzyl group, dinitrobenzyl group, p-chlorobenzyl group, It is any one of m-chlorobenzyl group, o-chlorobenzyl group, α-naphthylmethyl group, methyl group and ethyl group, and R 8 is either methyl group or ethyl group. Y is any one of halogen, methylsulfate, ethylsulfate, p-toluenesulfonic acid, and perchloric acid).
【請求項3】 式Iで表わされるスルホニウム塩がベン
ジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネートである請求項1記載のカチ
オン発生剤溶液。
3. The cation generator solution according to claim 1, wherein the sulfonium salt represented by the formula I is benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate.
【請求項4】 式Iで表わされるスルホニウム塩がベン
ジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネートであり、式IIで表わされる
スルホニウム塩が4−ヒドロキシフェニルジメチルスル
ホニウム メチル硫酸塩である請求項2記載のカチオン
発生剤溶液。
4. The sulfonium salt represented by the formula I is benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, and the sulfonium salt represented by the formula II is 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methylsulfate. The cation generator solution described.
【請求項5】 式Iで表わされるスルホニウム塩が4−
ヒドロキシフェニル−p−ニトロベンジルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネートである請求項1
記載のカチオン発生剤溶液。
5. The sulfonium salt of formula I is 4-
Hydroxyphenyl-p-nitrobenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate.
The cation generator solution described.
【請求項6】 式Iで表わされるスルホニウム塩が4−
ヒドロキシフェニル−p−ニトロベンジルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネートであり、式IIで
表わされるスルホニウム塩が4−ヒドロキシフェニルジ
メチルスルホニウム メチル硫酸塩である請求項2記載
のカチオン発生剤溶液。
6. The sulfonium salt of formula I is 4-
The cation generator solution according to claim 2, which is hydroxyphenyl-p-nitrobenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate and the sulfonium salt represented by the formula II is 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methylsulfate.
【請求項7】 エーテル化合物がエチルカルビトールで
ある請求項1または2記載のカチオン発生剤溶液。
7. The cation generator solution according to claim 1, wherein the ether compound is ethyl carbitol.
【請求項8】 エーテル化合物がメチルカルビトールで
ある請求項1または2記載のカチオン発生剤溶液。
8. The cation generator solution according to claim 1 or 2, wherein the ether compound is methyl carbitol.
【請求項9】 エーテル化合物がジエチレングリコール
ジメチルエーテルである請求項1または2記載のカチオ
ン発生剤溶液。
9. The cation generator solution according to claim 1, wherein the ether compound is diethylene glycol dimethyl ether.
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