JPH0641112B2 - Optical disc master - Google Patents

Optical disc master

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JPH0641112B2
JPH0641112B2 JP61213342A JP21334286A JPH0641112B2 JP H0641112 B2 JPH0641112 B2 JP H0641112B2 JP 61213342 A JP61213342 A JP 61213342A JP 21334286 A JP21334286 A JP 21334286A JP H0641112 B2 JPH0641112 B2 JP H0641112B2
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、クリーンルーム内において平板状部材に対し
て所定の作業をなす装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for performing a predetermined operation on a flat plate-shaped member in a clean room.

背景技術 映像や音声情報等をディスク(円盤)状の記録媒体に記
録する方式として光学方式がある。この光学方式は、基
板となるガラス円盤にフォトレジストを塗布してレジス
ト原盤を作成し、このレジスト原盤のレジスト膜に微小
な点に集光したレーザビームを映像や音声情報等に応じ
て明滅させるいわゆるビットバイビット方式で照射感光
させ、しかる後にこれを現像して得られるピット(へこ
み)の長さ及びその繰返し周期により情報を記録するも
のである。
BACKGROUND ART An optical system is a system for recording video and audio information on a disc-shaped recording medium. In this optical method, a photoresist master is created by coating a photoresist on a glass disk that serves as a substrate, and a laser beam focused on a minute point on a resist film of the resist master is flickered according to video or audio information. Information is recorded by the length of pits (dents) obtained by exposing to light by a so-called bit-by-bit method, and then developing this, and the repetition cycle thereof.

かかる方式において、レジスト原盤を作成するまでに
は、ガラス原盤の洗浄、プライマ処理、フォトレジスト
の塗布及びベーキング(熱処理)等の処理が行なわれる
のであるが、レジスト原盤の作成工程等では極度に塵埃
を嫌うので、これらの処理はクリーンルーム(防塵室)
内で行なわれる。また、クリーンルーム内であってもフ
ィルタで除去しきれない微細なホコリ等が大気中に浮遊
しているので、これら微細なホコリ等が盤面上に付着し
ないようにガラス原盤やレジスト原盤に風を送りつつ各
作業が行なわれることになるが、風の流れに乱れ等が生
ずると風による十分な防塵効果が得られない場合があ
る。
In such a method, before the resist master is prepared, the glass master is cleaned, the primer is treated, the photoresist is applied, and the baking (heat treatment) is carried out. I dislike this, so these treatments are performed in a clean room (dust-proof room).
Done in. In addition, even in a clean room, fine dust that cannot be completely removed by the filter is floating in the atmosphere, so blow air to the glass master plate or resist master disc to prevent these fine dust particles from adhering to the surface. While each work is performed while the wind flow is disturbed, there are cases where the wind cannot provide sufficient dustproof effect.

発明の概要 本発明は、上述した点に鑑みなされたもので、風の流れ
を良好に維持することにより、風による十分な防塵効果
が得られる光ディスク用原盤の処理装置を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a processing apparatus for an optical disc master that can obtain a sufficient dustproof effect by the wind by maintaining a good flow of the wind. To do.

本発明による光ディスク用原盤の処理装置は、クリーン
ルーム内に配置された1つのライン上に、光ディスク用
原盤を支持する支持手段と、前記光ディスク用原盤に対
して所定の処理を施す複数の処理ユニットと、前記支持
手段を前記複数の処理ユニット間において移送せしめる
移送手段と、前記光ディスク用原盤の平板面に沿ってか
つ前記ラインと略直交する方向に流れる空気流を発生さ
せる空気流発生手段とを有し、前記複数の処理ユニット
は支柱によって前記支持手段の移動通路上方に支持され
ると共に、前記支柱は前記空気流の通路において前記支
持手段より下流側に設けられていることを特徴としてい
る。
An optical disk master processing apparatus according to the present invention includes a support means for supporting the optical disk master and a plurality of processing units for performing a predetermined process on the optical disk master on one line arranged in a clean room. A transfer means for transferring the support means between the plurality of processing units, and an air flow generating means for generating an air flow flowing along a flat plate surface of the optical disk master and in a direction substantially orthogonal to the line. However, the plurality of processing units are supported by a support above the moving passage of the supporting means, and the support is provided on the downstream side of the supporting means in the air flow passage.

実施例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。Example Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、例えばレジスト原盤の作成装置に適用された
本発明の一実施例を示す斜視図であり、本システムは、
光ディスク用原盤であるガラス原盤の洗浄、プライマ処
理及びフォトレジストの塗布の各処理を行なういわゆる
ウェットステージとしての装置1と、ガラス原盤の欠陥
検査、レジスト原盤の欠陥検査及び膜厚の測定を行なう
いわゆる検査ステージとしての装置2と、プリベーク処
理を行なういわゆるベーキングステージとしての装置3
とからなり、これら1〜3が一体的に構成されてクリー
ンルーム内に設置される。本システムにおいては、ガラ
ス原盤の洗浄及びプライマ処理、ガラス原盤の欠陥検
査、フォトレジストの塗布、熱処理並びにレジスト原盤
の検査及び膜厚の検査の一連の処理が流れ作業にて自動
的に行なわれる構成となっている。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention applied to, for example, a resist master forming apparatus.
An apparatus 1 as a so-called wet stage that performs cleaning of a glass master, which is a master for an optical disk, primer processing, and coating of photoresist, and a so-called wet stage, which performs defect inspection of the glass master, defect inspection of the resist master, and film thickness measurement. Device 2 as an inspection stage and device 3 as a so-called baking stage for performing a pre-baking process
And 1 to 3 are integrally configured and installed in a clean room. In this system, a series of processes including glass master cleaning and primer treatment, glass master defect inspection, photoresist coating, heat treatment, resist master inspection and film thickness inspection are automatically performed in a flow operation. Has become.

研磨,洗浄されたガラス原盤(図示せず)は、ウェット
ストック室4に一時的に貯蔵されて超音波洗浄等が行な
われて最良の状態に維持され、しかる後例えば自動的に
装置1に略水平状態で送り込まれ、この水平状態を維持
しつつ上述した一連の処理が行なわれる。一連の処理が
終了したガラス原盤は装置3から排出されることにな
る。装置1から装置3へのガラス原盤の流れに対して左
側の装置側方にはクリーンベンチ5が配置されており、
このクリーンベンチ5からは一連の処理が行なわれるガ
ラス原盤に対して略平行に風が送り込まれる。これによ
れば、クリーンルームのフィルタで除去しきれず、大気
中に浮遊している微細なホコリ等がガラス原盤の盤面に
付着するのを防止できることになる。なお、作業者はク
リーンベンチ5からの送風に対して各装置1〜3よりも
風下に位置して作業するようになる。
The polished and cleaned glass master (not shown) is temporarily stored in the wet stock chamber 4 and subjected to ultrasonic cleaning or the like to be kept in the best condition. The paper is fed in a horizontal state, and the series of processes described above is performed while maintaining this horizontal state. The glass master after the series of processing is discharged from the device 3. A clean bench 5 is arranged on the left side of the device with respect to the flow of the glass master disk from the device 1 to the device 3,
From this clean bench 5, wind is blown substantially parallel to the glass master disk on which a series of processes is performed. According to this, it is possible to prevent fine dust and the like that cannot be completely removed by the filter in the clean room and are floating in the atmosphere from adhering to the surface of the glass master. It should be noted that the worker is located below the devices 1 to 3 with respect to the air blown from the clean bench 5.

次に、装置1〜3の具体的な構造について第2図乃至第
4図を参照しつつ説明する。
Next, specific structures of the devices 1 to 3 will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

ガラス原盤6はターンテーブル7により略水平に担持さ
れる。ターンテーブル7、駆動源であるモータ8及び当
該モータの回転駆動力をターンテーブル7に伝達するベ
ルト9等を含むターンテーブルユニット10は、装置本
体11の上面に各装置1〜3間に亘って互いに平行に配
置された一対のガイドレール12a,12b上に載置さ
れ、リニアベアリング(図示せず)を介して各装置1〜
3間を移動自在な構成となっている。また、装置本体1
1の上面にはガイドレール12a,12bと平行にボー
ルねじ13がターンテーブルユニット10のほぼ移動範
囲に亘って回転自在に設けられており、このボールねじ
13にはターンテーブルユニット10に取り付けられた
ボールナット14が螺合している。そして、ボールねじ
13が送りモータ15によって回転駆動されることによ
り、その回転方向に応じた方向にターンテーブルユニッ
ト10が移動できることになる。
The glass master 6 is supported by the turntable 7 substantially horizontally. A turntable unit 10 including a turntable 7, a motor 8 that is a drive source, and a belt 9 that transmits the rotational driving force of the motor to the turntable 7 is provided on the upper surface of the device body 11 and extends between the devices 1 to 3. Each of the devices 1 to 1 is mounted on a pair of guide rails 12a and 12b arranged in parallel to each other, and a linear bearing (not shown) is interposed therebetween.
It is configured so that it can move freely between the three. In addition, the device body 1
A ball screw 13 is rotatably provided on the upper surface of the plate 1 in parallel with the guide rails 12a and 12b so as to be rotatable over substantially the movement range of the turntable unit 10. The ball screw 13 is attached to the turntable unit 10. The ball nut 14 is screwed. Then, by rotating the ball screw 13 by the feed motor 15, the turntable unit 10 can be moved in a direction corresponding to the rotation direction.

ターンテーブルユニット10においては、た4図に示す
ように、ターンテーブル7は軸方向に貫通孔16aを有
するスピンドル16の上端部に嵌着されている。スピン
ドル16はベアリング17を介してハウジング18によ
り回転自在に保持されており、その下端部には大プーリ
19が固定され、この大プーリ19とモータ8の回転軸
に固定された小プーリ21とに架設されたベルト9を介
してモータ8により回転駆動される。いわゆるベルトド
ライブ構成となっている。このベルトドライブ構成によ
れば、スピンドル16の最下端に固定されたバキューム
シール20の交換を容易に行なうことができることにな
る。すなわち、ダイレクトドライブ構成の場合には、バ
キュームシール20を交換する際に、モータ等の重量物
を取り外さなければならなく大変であるが、ベルトドラ
イブ構成の場合はその必要がないので、バキュームシー
ル20の交換を極めて容易に行ない得るのである。
In the turntable unit 10, as shown in FIG. 4, the turntable 7 is fitted on the upper end of the spindle 16 having a through hole 16a in the axial direction. The spindle 16 is rotatably held by a housing 18 via a bearing 17, and a large pulley 19 is fixed to the lower end of the spindle 16, and a large pulley 19 and a small pulley 21 fixed to the rotation shaft of the motor 8 are provided. It is rotationally driven by a motor 8 via a belt 9 installed. It has a so-called belt drive configuration. With this belt drive structure, the vacuum seal 20 fixed to the lowermost end of the spindle 16 can be easily replaced. That is, in the case of the direct drive structure, when replacing the vacuum seal 20, it is difficult to remove heavy objects such as the motor, but in the case of the belt drive structure, it is not necessary. Can be exchanged very easily.

ターンテーブル7の周りには、最大径のガラス原盤6よ
りも大なる径の受け台21が固定状態で設けられてお
り、この受け台21にはガラス原盤6のサイズを検出す
るための例えば2個のサイズセンサ22a,22bがそ
の半径方向に配列されている。また、受け台21の中央
孔近傍には、ガラス原盤6の種類を検出するための例え
ば2個の種類センサ23a,23bが設けられている。
スピンドル16の上端部には、センターキャップ24が
冠着されている。
A pedestal 21 having a diameter larger than that of the glass master 6 having the maximum diameter is fixedly provided around the turntable 7, and the pedestal 21 has, for example, 2 to detect the size of the glass master 6. The individual size sensors 22a and 22b are arranged in the radial direction. Further, for example, two type sensors 23a and 23b for detecting the type of the glass master 6 are provided near the center hole of the pedestal 21.
A center cap 24 is attached to the upper end of the spindle 16.

第2図及び第3図において、装置1は装置本体11に対
して上下動するカップ25を備えている。このカップ2
5は通常はターンテーブルユニット10の移動を妨げな
いように上昇位置に保持され、各処理を行なう場合に連
結部26(第1図に示す)を介して直線駆動モータ27
により下降駆動される。カップ25の駆動源としては、
直線駆動モータ27に限定されるものではなく、要はカ
ップ25を上下駆動できるものであれば良い。下降した
カップ25はターンテーブルユニット10における受け
台21の周縁部に嵌合して密閉状態を維持する。この状
態において、ターンテーブル7上にバキュームポンプ2
8により真空吸着されたガラス原盤6は、モータ8によ
り回転駆動されつつカップ25内に設けられたノズル
(図示せず)から噴射される洗浄液によって洗浄され、
しかる後プライマ処理が行なわれる。洗浄及びプライマ
処理が行なわれたガラス原盤6はターンテーブルユニッ
ト10がガイドレール12a,12bに沿って移動する
ことにより装置2へ移送される。
2 and 3, the device 1 includes a cup 25 that moves up and down with respect to the device body 11. This cup 2
5 is normally held in a raised position so as not to hinder the movement of the turntable unit 10, and a linear drive motor 27 is provided via a connecting portion 26 (shown in FIG. 1) when performing each processing.
Driven downward by. As a drive source of the cup 25,
It is not limited to the linear drive motor 27, and in essence, any drive capable of vertically driving the cup 25 may be used. The lowered cup 25 is fitted to the peripheral edge of the pedestal 21 of the turntable unit 10 to maintain a hermetically sealed state. In this state, the vacuum pump 2 is placed on the turntable 7.
The glass master 6 vacuum-adsorbed by 8 is cleaned by a cleaning liquid sprayed from a nozzle (not shown) provided in the cup 25 while being rotationally driven by a motor 8.
Then, the primer process is performed. The glass master 6 that has been cleaned and primed is transferred to the apparatus 2 as the turntable unit 10 moves along the guide rails 12a and 12b.

装置2は検査ユニット(作業ユニット)29を有してお
り、この検査ユニット29は装置本体11に対して2本
の支柱30a,30bによって支持されると共に、フー
ド31によって覆われている。2本の支柱30a,30
bはダクトとしての作用もなし、ガラス原盤6よりも風
下に位置するように、即ちクリーンベンチ5と反対側に
位置するように設けられる。これによれば、クリーンベ
ンチ5からガラス原盤6に対して平行に送出される風の
流れに乱れを生じることがなく、良好にガラス原盤6の
盤面へのホコリ等の付着防止を行なうことができること
になる。装置2では、装置1で洗浄及びプライマ処理が
行なわれたガラス原盤6に傷等の欠陥がないか否かの検
査が、更に装置3で熱処理されたレジスト原盤の盤面上
に傷等の欠陥がないか否かの検査が行なわれると同時
に、レジスト膜の膜厚の測定も検査ユニット29によっ
て行なわれる。
The device 2 has an inspection unit (working unit) 29. The inspection unit 29 is supported by the device main body 11 by two columns 30a and 30b and is covered by a hood 31. Two columns 30a, 30
b does not act as a duct, and is provided so as to be located further downwind than the glass master 6, that is, so as to be located on the opposite side of the clean bench 5. According to this, the flow of the air blown in parallel from the clean bench 5 to the glass master 6 is not disturbed, and it is possible to favorably prevent adhesion of dust and the like to the surface of the glass master 6. become. In the apparatus 2, it is checked whether or not the glass master 6 cleaned and primed in the apparatus 1 has a defect such as a scratch and the like. The inspection unit 29 also measures the film thickness of the resist film at the same time that the inspection is performed.

一方、装置3はベーキングユニット(作業ユニット)3
2を有しており、このベーキングユニット32は装置本
体11に対して2本の支柱33a,33bによって支持
されると共に、フード34によって覆われている。2本
の支柱33a,33bは装置2の場合と同様に、ダクト
としての作用もなし、かつガラス原盤6よりも風下に位
置するように設けられている。この装置3では、フォト
レジストが塗布されたレジスト原盤に対して遠赤外線に
よるプリベーク処理が行なわれる。このプリベーク処理
においては、放射温度計35によりレジスト原盤の表面
温度が検出され、この検出温度に基づいて表面温度のコ
ントロールが行なわれる。
On the other hand, the device 3 is a baking unit (working unit) 3
The baking unit 32 is supported by the two columns 33a and 33b with respect to the apparatus main body 11 and is covered by the hood 34. As in the case of the device 2, the two columns 33a and 33b do not function as ducts, and are provided so as to be located leeward of the glass master 6. In this apparatus 3, a pre-baking process using far infrared rays is performed on a resist master disk coated with a photoresist. In this pre-baking process, the radiation thermometer 35 detects the surface temperature of the resist master, and the surface temperature is controlled based on the detected temperature.

装置2,3におけるフード31,34は各々、第1図か
ら特に明らかなように、クリーンベンチ5側の端部にお
いて、その上面が下方に向って傾斜しかつ両側面が中央
に向って傾斜した構成となっている。これによれば、第
1図及び第3図に矢印で示すように、クリーンベンチ5
から送出された風が各フード31,34の上面及び両側
面の傾斜面に沿って下流方向に良好に流れるので、各装
置の周辺における風の流れに乱れを生じることがないの
である。
As is particularly apparent from FIG. 1, the hoods 31 and 34 in the devices 2 and 3 respectively have the upper surface inclined downward and the both side surfaces inclined toward the center at the end portion on the clean bench 5 side. It is composed. According to this, as shown by the arrows in FIGS. 1 and 3, the clean bench 5
Since the air sent from the air flows satisfactorily in the downstream direction along the upper surfaces of the hoods 31 and 34 and the inclined surfaces on both side surfaces, the air flow around each device is not disturbed.

また、先述したように、検査ユニット29,フード31
及びベーキングユニット32,フード34を支持する支
柱30a,30b及び33a,33bが、ターンテーブ
ルユニット11により担持搬送されるガラス原盤6より
も風下に位置するように設けられ、支柱30a,30b
及び33a,33bは、第3図に示すように、装置本体
11の上面に形成された保持孔37a,37b及び38
a,38bにより保持される。一方、本装置が作業者に
対して左右に例えば一対配置され、両側から風を送り込
むようなシステムにした場合、一方の装置では支柱30
a,30b及び33a,33bがガラス原盤6よりも風
上に位置すると共に、フード31,34の傾斜面が風下
側に位置し、風のスムーズな流れを妨げることになって
しまう。そこで、その対策として、保持孔37a,37
b及び38a,38bによる支柱30a,30b及び3
3a,33bの保持を着脱自在とし、反対側にも保持孔
39a,39b及び40a,40bを穿設しておき、支
柱30a,30b及び33a,33bの取付位置を適宜
選択することにより、第5図に示すように、常に支柱3
0a,30b及び33a,33bがガラス原盤6よりも
風下に位置すると共に、フード31,34の傾斜面が風
上側に位置するように設定することができることにな
る。
In addition, as described above, the inspection unit 29, the hood 31
The columns 30a, 30b and 33a, 33b for supporting the baking unit 32 and the hood 34 are provided so as to be located leeward of the glass master 6 carried and conveyed by the turntable unit 11, and the columns 30a, 30b.
3, 33a and 33b are holding holes 37a, 37b and 38 formed in the upper surface of the apparatus main body 11 as shown in FIG.
It is held by a and 38b. On the other hand, in the case where the present device is a system in which, for example, a pair is arranged on the left and right with respect to the operator and air is blown from both sides, the support 30
The a, 30b and 33a, 33b are located on the windward side of the glass master 6, and the inclined surfaces of the hoods 31, 34 are located on the leeward side, which hinders the smooth flow of the wind. Therefore, as a countermeasure, the holding holes 37a, 37
b and 38a, 38b, columns 30a, 30b and 3
By making the holding of 3a, 33b detachable, holding holes 39a, 39b and 40a, 40b on the opposite side, and appropriately selecting the mounting positions of the columns 30a, 30b and 33a, 33b, As shown in the figure, always support column 3
It is possible to set so that 0a, 30b and 33a, 33b are located on the leeward side of the glass master 6, and the inclined surfaces of the hoods 31, 34 are located on the upwind side.

第2図において、装置本体11にはターンテーブルユニ
ット10の移動位置を検出するために、例えば6個の位
置センサ36a〜36fがターンテーブルユニット10
の移動方向に沿って配列されている。6個の位置センサ
36a〜36fは各装置1〜3に2個づつ対応するよう
に設けられており、これら各センサ36a〜36fの各
出力の組合わせからターンテーブルユニット10の移動
位置が検出されるのである。すなわち、第6図に示すよ
うに、位置センサ36a,36bのみがオン状態にある
ときは装置1に、位置センサ36c,36dのみがオン
状態にあるときは装置2に、位置センサ36e,36f
のみがオン状態にあるときは装置3にそれぞれターンテ
ーブルユニット10が位置することを検出できるのであ
る。また、ターンテーブルユニット10が移動路の両端
に位置する場合には位置センサ36a又は36fのみが
オン状態にあり、装置間に位置する場合には位置センサ
36b,36cのみ又は36d,36eのみがオン状態
となるのである。
In FIG. 2, for example, six position sensors 36a to 36f are provided on the device body 11 in order to detect the moving position of the turntable unit 10.
Are arranged along the moving direction of. The six position sensors 36a to 36f are provided so as to correspond to each of the devices 1 to 2, and the moving position of the turntable unit 10 is detected from the combination of the outputs of the sensors 36a to 36f. It is. That is, as shown in FIG. 6, when only the position sensors 36a and 36b are in the ON state, the device 1 is provided. When only the position sensors 36c and 36d are provided in the device 2, the position sensors 36e and 36f are provided.
It is possible to detect the position of the turntable unit 10 in each of the devices 3 when only one of them is in the ON state. Further, when the turntable unit 10 is located at both ends of the moving path, only the position sensor 36a or 36f is in the ON state, and when it is located between the devices, only the position sensors 36b and 36c or only 36d and 36e are turned on. It becomes a state.

従って、位置センサ36a〜36fの各出力の組合わせ
からターンテーブルユニット10の移動位置を検出する
ことにより、当該ユニット10を各装置の作業位置に確
実に停止せしめることができ、又ユニット10の移動中
に例えば停電があった場合、停電復旧後の検出位置から
その後ユニット10が移動すべき方向を判断できるの
で、停電復旧後でもスムーズに作業を継続できることに
なる。
Therefore, by detecting the movement position of the turntable unit 10 from the combination of the outputs of the position sensors 36a to 36f, the unit 10 can be reliably stopped at the working position of each device, and the movement of the unit 10 can be performed. For example, if there is a power failure, the direction in which the unit 10 should move after that can be determined from the detection position after the power failure is restored, so that the work can be smoothly continued even after the power failure is restored.

以上説明した構成において、ターンテーブルユニット1
0の移動及びその停止位置の制御、各装置1〜3におけ
る各作業をなすための動作制御、ターンテーブルの速度
制御等は例えばマイクロコンピュータからなるシステム
コントローラ(図示せず)により一括して行なわれる。
In the configuration described above, the turntable unit 1
The movement of 0 and the stop position thereof, the operation control for performing each work in each of the devices 1 to 3, the speed control of the turntable, etc. are collectively performed by a system controller (not shown) including a microcomputer, for example. .

次に、本システムにおいて実行される作業手順を第7図
のフローチャートに従って説明する。
Next, the work procedure executed in this system will be described with reference to the flowchart of FIG.

先ず、装置1においては、ターンテーブル7上にガラス
原盤が載置されると、カップ25が降下してターンテー
ブルユニット10における受け台21に嵌合して密閉状
態を維持し、この状態においてガラス原盤の洗浄が行な
われ(ステップS1)、続いてプライマ処理が行なわれ
る(ステップS2)。洗浄及びプライマ処理が行なわれ
たガラス原盤はターンテーブル7上に載置されたままタ
ーンテーブルユニット10の移動に伴って装置2へ移動
し、ここでガラス原盤の欠陥検査が行なわれる(ステッ
プS3)。検査を通過したガラス原盤は再び装置1へ移
送され、フォトレジストが塗布され(ステップS4)、
レジスト原盤となる。このレジスト原盤はターンテーブ
ルユニット10の移動に伴って装置2を経て装置3へ移
動し、ここで遠赤外線によるプリベーク処理が行なわれ
る(ステップS5)。熱処理が行なわれたレジスト原盤
は再び装置2へ移送され、レジスト原盤の欠陥検査及び
レジスト膜の膜厚の測定が行なわれる(ステップS
6)。以上の手順により、レジスト原盤を作成するため
の一連の処理が完了する。
First, in the device 1, when the glass master is placed on the turntable 7, the cup 25 descends and fits into the pedestal 21 of the turntable unit 10 to maintain a hermetically sealed state. The master is washed (step S1), and then the primer process is performed (step S2). The glass master that has been cleaned and primed moves to the device 2 as the turntable unit 10 moves while being placed on the turntable 7, and the defect inspection of the glass master is performed there (step S3). . The glass master that has passed the inspection is again transferred to the apparatus 1 and coated with a photoresist (step S4),
It becomes the resist master. As the turntable unit 10 moves, this resist master moves to the device 2 and then to the device 3, where the prebaking process by far infrared rays is performed (step S5). The heat-treated resist master is transferred to the apparatus 2 again, and defect inspection of the resist master and measurement of the resist film thickness are performed (step S).
6). Through the above procedure, a series of processes for forming the resist master disk is completed.

ここで、各装置1〜3では、ターンテーブル7が回転駆
動されることによって各作業が行なわれるのは勿論であ
るが、本システムにおいては、ターンテーブル7は各装
置間を移動する間も回転駆動され、回転が持続されるよ
うになっている。これによれば、ガラス原盤(又はレジ
スト原盤)が常時回転駆動されることになるので、盤面
上へのホコリ等の付着を防止できることになる。また、
各装置においてターンテーブル7の立上げ時間が不要と
なるので、各作業への移行をスムーズに行なうことがで
きることになる。
Here, in each of the devices 1 to 3, it goes without saying that each work is performed by rotationally driving the turntable 7, but in the present system, the turntable 7 rotates while moving between the devices. It is driven so that it can continue to rotate. According to this, since the glass master disk (or resist master disk) is constantly driven to rotate, it is possible to prevent adhesion of dust or the like on the board surface. Also,
Since the turn-up time of the turntable 7 is not required in each device, it is possible to smoothly shift to each work.

なお、上記実施例においては、光ディスク用原盤として
ガラス原盤を用いてレジスト原盤を作成する装置に適用
した場合について説明したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、種々の平板状部材に対して所定の作業
をなす装置全てに適用し得るものである。
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to the apparatus for producing the resist master using the glass master as the master for the optical disk has been described, but the present invention is not limited to this and various flat plate members can be used. On the other hand, it can be applied to all devices that perform a predetermined work.

また、上記実施例では、複数の装置が一体化された場合
について説明したが、単体の装置にも適用し得ることは
勿論である。
Further, in the above embodiment, the case where a plurality of devices are integrated has been described, but it goes without saying that the invention can be applied to a single device.

発明の効果 以上説明したように、本願発明による光ディスク用原盤
の処理装置においては、光ディスク用原盤の原盤)面に
対して平行になるような空気流を発生させることで、原
盤の表面近傍に層流もしくは層流に近い空気流れを形成
し、浮游状態にあるホコリ等をこの流れに乗せて下流へ
流し除去することによって、原盤表面への付着を完全に
防止することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, in the optical disk master processing apparatus according to the present invention, an air flow that is parallel to the (master) surface of the optical disk master is generated to generate a layer near the surface of the master. By forming an air flow close to a laminar flow or a laminar flow, and dust and the like in a floating state are placed on this flow and flowed downstream to be removed, adhesion to the master surface can be completely prevented.

また、空気流をラインに対して略直交する方向とするこ
とにより、浮游状態にあるホコリの除去を最短経路にて
効率良く行うことができる。
Further, by making the air flow in a direction substantially orthogonal to the line, it is possible to efficiently remove dust in a floating state in the shortest path.

さらに、処理ユニットを支持する支柱を、空気流の通路
において光ディスク用原盤より下流側に配置したこと
で、支柱近傍に生じる乱流状態が原盤領域の空気流れに
影響を及ぼすことはなく、浮游状態にあるホコリを完全
に除去することができる。
In addition, the support column that supports the processing unit is located downstream of the optical disk master in the air flow path, so that the turbulent flow conditions that occur in the vicinity of the support will not affect the air flow in the master area. It is possible to completely remove the dust in.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は例えばレジスト原盤の作成装置に適用された本
発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び第3図は第1
図における各装置の具体的な構造を示す一部断面を含む
正面図及び一部断面を含む平面図、第4図は第2図及び
第3図におけるターンテーブルユニットの具体的な構造
を示す断面図、第5図は作業者に対して本装置を左右に
一対配置した場合の構成を示す平面図、第6図は第2図
における位置センサの各動作状態とターンテーブルユニ
ットの移動位置との関係を示す図、第7図はレジスト原
盤を作成するための作業手順を示すフローチャートであ
る。 主要部分の符号の説明 1,2,3……装置、5……クリーンベンチ 6……ガラス原盤、7……ターンテーブル 10……ターンテーブルユニット 11……装置本体、25……カップ 29……検査ユニット 30a,30b,33a,33b……支柱 32……ベーキングユニット 31,34……フード 36a〜36f……位置センサ
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention applied to, for example, a resist master forming apparatus, and FIGS.
The front view including the partial cross section which shows the concrete structure of each apparatus in a figure, and the top view which contains a partial cross section, FIG. 4 is the cross section which shows the concrete structure of the turntable unit in FIG. 2 and FIG. 5 and 5 are plan views showing a configuration in which a pair of the present apparatus is arranged on the left and right with respect to an operator, and FIG. 6 shows the respective operating states of the position sensor and the moving position of the turntable unit in FIG. FIG. 7 shows the relationship, and FIG. 7 is a flowchart showing the work procedure for producing a resist master. Explanation of symbols of main parts 1, 2, 3 ... Device, 5 ... Clean bench 6 ... Glass master, 7 ... Turntable 10 ... Turntable unit 11 ... Device body, 25 ... Cup 29 ... Inspection unit 30a, 30b, 33a, 33b ... Support 32 ... Baking unit 31, 34 ... Hood 36a-36f ... Position sensor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 21/304 D 8831−4M (72)発明者 河野 滋 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 小塩 千春 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 長田 和彦 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (56)参考文献 実開 昭53−17885(JP,U)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H01L 21/027 21/304 D 8831-4M (72) Inventor Shigeru Kono Nishi, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Prefecture 2680 Hanawa Pioneer Video Co., Ltd. (72) Inventor Chiharu Oshio Nishinashi, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Prefecture 2680 Waiwa Pioneer Video Co., Ltd. Ionia Video Co., Ltd. (56) References: Actual Development Sho 53-17885 (JP, U)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】クリーンルーム内に配置された1つのライ
ン上に、光ディスク用原盤を支持する支持手段と、前記
光ディスク用原盤に対して所定の処理を施す複数の処理
ユニットと、前記支持手段を前記複数の処理ユニット間
において移送せしめる移送手段と、前記光ディスク用原
盤の平板面に沿ってかつ前記ラインと略直交する方向に
流れる空気流を発生させる空気流発生手段とを有し、前
記複数の処理ユニットは支柱によって前記支持手段の移
動通路上方に支持されると共に、前記支柱は前記空気流
の通路において前記支持手段より下流側に設けられてい
ることを特徴とする光ディスク用原盤の処理装置。
1. A support means for supporting an optical disk master, a plurality of processing units for performing a predetermined process on the optical disk master, and the supporting means on one line arranged in a clean room. A plurality of processing units, and a transfer unit for transferring between the plurality of processing units, and an air flow generation unit for generating an air flow flowing along a flat plate surface of the optical disk master and in a direction substantially orthogonal to the line. An apparatus for processing an optical disk master, wherein the unit is supported above a moving passage of the supporting means by a supporting pillar, and the supporting pillar is provided on a downstream side of the supporting means in the air flow passage.
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US07/094,994 US4850791A (en) 1986-09-10 1987-09-10 Flow processing system
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