JPH0694303B2 - Optical disk master processing device - Google Patents

Optical disk master processing device

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JPH0694303B2
JPH0694303B2 JP61213343A JP21334386A JPH0694303B2 JP H0694303 B2 JPH0694303 B2 JP H0694303B2 JP 61213343 A JP61213343 A JP 61213343A JP 21334386 A JP21334386 A JP 21334386A JP H0694303 B2 JPH0694303 B2 JP H0694303B2
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千春 小塩
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【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、流れ作業システムに関し、特にターンテーブ
ルによって回転駆動される光ディスク用原盤に対して各
々異なる作業をなす複数の装置を有する光ディスク用原
盤処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a line work system, and more particularly to an optical disk master processing apparatus having a plurality of devices that perform different operations on an optical disk master that is rotationally driven by a turntable.

背景技術 映像や音声情報等をディスク(円盤)状の記録媒体に記
録する方式として光学方式がある。この光学方式は、基
板となるガラス円盤にフォトレジストを塗布してレジス
ト原盤を作成し、このレジスト原盤のレジスト膜に微小
な点に集光したレーザビームを映像や音声情報等に応じ
て明滅させるいわゆるビットバイビット方式で照射感光
させ、しかる後にこれを現像して得られるピット(へこ
み)の長さ及びその繰返し周期により情報を記録するも
のである。
BACKGROUND ART An optical system is a system for recording video and audio information on a disc-shaped recording medium. In this optical method, a photoresist master is created by coating a photoresist on a glass disk that serves as a substrate, and a laser beam focused on a minute point on a resist film of the resist master is flickered according to video or audio information. Information is recorded by the length of pits (dents) obtained by exposing to light by a so-called bit-by-bit method, and then developing this, and the repetition cycle thereof.

かかる方式において、レジスト原盤を作成するまでに
は、ガラス原盤の洗浄、プライマ処理、フォトレジスト
の塗布及びベーキング(熱処理)等の処理が行なわれる
のであるが、これら一連の処理を行なうのに、従来は、
1つの処理工程に対して1つの装置を用意し、1工程が
終了する毎に人手によってガラス原盤を次の装置に移動
する方法が採られていたので、システム全体が大型化す
ると共に作業性に欠けるといる欠点があった。
In such a method, processes such as cleaning of the glass master, primer treatment, photoresist coating and baking (heat treatment) are performed before the resist master is prepared. Is
One method was prepared for one processing step, and the method of manually moving the glass master to the next apparatus each time one step was completed was adopted, so that the entire system becomes large and workability is improved. There was a defect that it was lacking.

そこで、光ディスク用原盤に対して異なる処理を施す数
の処理ユニットをクリーンルーム内で1つのラインに沿
って設けて、光ディスク用原盤を回転せしめるターンテ
ーブルを回転指示するターンテーブルユニットを順に処
理ユニット間を移動せしめる光ディスク処理装置が考え
られる。
Therefore, a number of processing units for performing different processes on the optical disk master are provided along one line in the clean room, and turntable units for rotating the turntable for rotating the optical disk master are sequentially arranged between the processing units. An optical disk processing device that can be moved is considered.

かかる光ディスク用原盤処理装置においては、エアフィ
ルターによって空気を濾過してクリーンルームの雰囲気
を形成するのであるが、かかる空気濾過によってもな
お、微細な塵埃が残留することは不可避である。そし
て、かかる微細な塵埃は、各処理工程において原盤表面
に付着して得られる光ディスクのドロップアウトの原因
となる。
In such an optical disk master processing apparatus, air is filtered by an air filter to form a clean room atmosphere. However, even with such air filtration, it is inevitable that fine dust remains. Then, such fine dust causes dropout of the optical disc obtained by adhering to the master surface in each processing step.

発明の概要 そこで、本発明は、全体としてコンパクトであり、しか
も処理過程において、空気中の塵埃の光ディスク用原盤
への付着を極力回避した光ディスク用原盤処理装置を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an optical disk master processing apparatus that is compact as a whole and that prevents dust in the air from adhering to the optical disk master as much as possible during the processing.

本発明による光ディスク用原盤処理装置は、クリーンル
ーム内に配置されるターンテーブルを所定回転数にて回
転駆動してこれに載置される光ディスク用原盤に対して
各々異なる作業をなす複数の装置を有する光ディスク用
原盤処理装置であって、前記ターンテーブル及びこれを
回転駆動する駆動源を含むターンテーブルユニットと、
前記ターンテーブルユニットを案内すべく前記複数の装
置間に亘って設けられた案内手段と、前記ターンテーブ
ルユニットを前記複数の装置間において移動せしめる駆
動手段とを備え、前記駆動源は前記ターンテーブルが各
装置間を移動する間においても前記ターンテーブルを回
転駆動し続けることを特徴としている。
The optical disk master processing apparatus according to the present invention has a plurality of devices that rotate a turntable arranged in a clean room at a predetermined number of rotations and perform different operations for the optical disk masters mounted on the turntable. An optical disk master processing apparatus, comprising: a turntable and a turntable unit including a drive source for rotationally driving the turntable;
The turntable unit includes guide means provided between the plurality of devices to guide the turntable unit, and drive means for moving the turntable unit between the plurality of devices. It is characterized in that the turntable is continuously driven to rotate while moving between the devices.

実 施 例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。Example Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、光ディスク用原盤の処理装置である本発明の
一実施例を示す斜視図であり、本装置は、ガラス原盤の
洗浄、プライマ処理及びフォトレジストの塗布の各処理
を行なういわゆるウェットステージとしての装置1と、
ガラス原盤の欠陥検査、レジスト原盤の欠陥検査及び膜
厚の測定を行なういわゆる検査ステージとしての装置2
と、プリベーク処理を行なういわゆるベーキングステー
ジとしての装置3とからなり、これら装置1〜3が一体
的に構成されてクリーンルーム(防塵室)内に設置され
る。本システムにおいては、ガラス原盤の洗浄及びプラ
イマ処理、ガラス原盤の欠陥検査、フォトレジストの塗
布、熱処理並びにレジスト原盤の検査及び膜厚の検査一
連の処理が流れ作業にて自動的に行なわれる構成となっ
ている。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention which is a processing apparatus for an optical disk master, and this apparatus is a so-called wet stage for carrying out each processing of cleaning a glass master, primer processing and photoresist coating. Device 1 as
Device 2 as a so-called inspection stage for inspecting glass masters for defects, resist masters for defect inspection, and film thickness measurement 2
And a device 3 as a so-called baking stage that performs a pre-baking process, and these devices 1 to 3 are integrally configured and installed in a clean room (dust-proof room). In this system, cleaning and primer treatment of glass master, glass master defect inspection, photoresist coating, heat treatment and resist master inspection and film thickness inspection Has become.

研磨,洗浄されたガラス原盤(図示せず)は、ウェット
ストック室4に一時的に貯蔵されて超音波洗浄等が行な
われて最良の状態に維持され、しかる後例えば自動的に
装置1に略水平状態で送り込まれ、この水平状態を維持
しつつ上述した一連の処理が行なわれる。一連の処理が
終了したガラス原盤は装置3から排出されることにな
る。装置1から装置3へのガラス原盤の流れに対して左
側の装置側方にはクリーンベンチ5が配置されており、
このクリーンベンチ5からは一連の処理が行なわれるガ
ラス原盤に対して略平行に風が送り込まれる。これによ
れば、クリーンルームのフィルタで除去しきれず、大気
中に浮遊している微細なホコリ等がガラス原盤の盤面に
付着するのを防止できることになる。なお、作業者はク
リーンベンチ5からの送風に対して各装置1〜3よりも
風下に位置して作業するようになる。
The polished and cleaned glass master (not shown) is temporarily stored in the wet stock chamber 4 and subjected to ultrasonic cleaning or the like to be kept in the best condition. The paper is fed in a horizontal state, and the series of processes described above is performed while maintaining this horizontal state. The glass master after the series of processing is discharged from the device 3. A clean bench 5 is arranged on the left side of the device with respect to the flow of the glass master disk from the device 1 to the device 3,
From this clean bench 5, wind is blown substantially parallel to the glass master disk on which a series of processes is performed. According to this, it is possible to prevent fine dust and the like that cannot be completely removed by the filter in the clean room and are floating in the atmosphere from adhering to the surface of the glass master. It should be noted that the worker is located below the devices 1 to 3 with respect to the air blown from the clean bench 5.

次に、装置1〜3の具体的な構造について第2図乃至第
4図を参照しつつ説明する。
Next, specific structures of the devices 1 to 3 will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

ガラス原盤6はターンテーブル7により略水平に担持さ
れる。ターンテーブル7、駆動源であるモータ8及び当
該モータの回転駆動力をターンテーブル7に伝達するベ
ルト9等を含むターンテーブルユニット10は、装置本体
11の上面に各装置1〜3間に亘って互いに平行に配置さ
れた一対のガイドレール12a,12b上に載置され、リニア
ベアリング(図示せず)を介して各装置1〜3間を移動
自在な構成となっている。また、装置本体11の上面には
ガイドレール12a,12bと平行にボールねじ13がターンテ
ーブルユニット10のほぼ移動範囲に亘って回転自在に設
けられており、このボールねじ13にはターンテーブルユ
ニット10に取り付けられたボールナット14が螺合してい
る。そして、ボールねじ13が送りモータ15によって回転
駆動されることにより、その回転方向に応じた方向にタ
ーンテーブルユニット10が移動できることになる。
The glass master 6 is supported by the turntable 7 substantially horizontally. The turntable unit 10, which includes the turntable 7, the motor 8 that is a drive source, and the belt 9 that transmits the rotational driving force of the motor to the turntable 7, is a device main body.
It is mounted on a pair of guide rails 12a and 12b arranged in parallel to each other on the upper surface of 11 and moves between the devices 1 to 3 via a linear bearing (not shown). It has a flexible structure. Further, a ball screw 13 is provided on the upper surface of the apparatus main body 11 in parallel with the guide rails 12a and 12b so as to be rotatable over substantially the moving range of the turntable unit 10. The ball nut 14 attached to is screwed. Then, by rotating the ball screw 13 by the feed motor 15, the turntable unit 10 can be moved in a direction according to the rotation direction.

ターンテーブルユニット10においては、第4図に示すよ
うに、ターンテーブル7は軸方向に貫通孔16aを有する
スピンドル16の上端部に嵌着されている。スピンドル16
はベアリング17を介してハウジング18により回転自在に
保持されており、その下端部には大プーリ19が固定さ
れ、この大プーリ19とモータ8の回転軸に固定された小
プーリ21とに架設されたベルト9を介してモータ8によ
り回転駆動される、いわゆるベルトドライブ構成となっ
ている。このベルトドライブ構成によれば、スピンドル
16の最下端に固定されたバキュームシール20の交換を容
易に行なうことができることになる。すなわち、ダイレ
クトドライブ構成の場合には、バキュームシール20を交
換する際に、モータ等の重量物を取り外さなければなら
なく大変であるが、ベルトドライブ構成の場合はその必
要がないので、バキュームシール20の交換を極めて容易
に行ない得るのである。
In the turntable unit 10, as shown in FIG. 4, the turntable 7 is fitted to the upper end of a spindle 16 having a through hole 16a in the axial direction. Spindle 16
Is rotatably held by a housing 18 via a bearing 17, and a large pulley 19 is fixed to the lower end of the large pulley 19 and a small pulley 21 fixed to the rotation shaft of the motor 8. It has a so-called belt drive structure in which it is rotationally driven by the motor 8 via the belt 9. According to this belt drive configuration, the spindle
The vacuum seal 20 fixed to the lowermost end of 16 can be easily replaced. That is, in the case of the direct drive structure, when replacing the vacuum seal 20, it is difficult to remove heavy objects such as the motor, but in the case of the belt drive structure, it is not necessary. Can be exchanged very easily.

ターンテーブル7の周りには、最大径のガラス原盤6よ
りも大なる径の受け台21が固定状態で設けられており、
この受け台21にはガラス原盤6のサイズを検出するため
の例えば2個のサイズセンサ22a,22bがその半径方向に
配列されている。また、受け台21の中央孔近傍には、ガ
ラス原盤6の種類を検出するための例えば2個の種類セ
ンサ23a,23bが設けられている。スピンドル16の上端部
には、センターキャップ24が冠着されている。
Around the turntable 7, a pedestal 21 having a diameter larger than that of the glass master 6 having the largest diameter is fixedly provided.
On this cradle 21, for example, two size sensors 22a, 22b for detecting the size of the glass master 6 are arranged in the radial direction. Further, for example, two type sensors 23a and 23b for detecting the type of the glass master 6 are provided in the vicinity of the center hole of the receiving table 21. A center cap 24 is attached to the upper end of the spindle 16.

第2図及び第3図において、装置1は装置本体11に対し
て上下動するカップ25を備えている。このカップ25は通
常はターンテーブルユニット10の移動を妨げないように
上昇位置に保持され、各処理を行なう場合に連結部26
(第1図に示す)を介して直線駆動モータ27により下降
駆動される。カップ25の駆動源としては、直線駆動モー
タ27に限定されるものではなく、要はカップ25を上下駆
動できるものであれば良い。下降したカップ25はターン
テーブルユニット10における受け台21の周縁部に嵌合し
て密閉状態を維持する。この状態において、ターンテー
ブル7上にバキュームポンプ28により真空吸着されたガ
ラス原盤6は、モータ8により回転駆動されつつカップ
25内に設けられたノズル(図示せず)から噴射される洗
浄液によって洗浄され、しかる後プライマ処理が行なわ
れる。洗浄及びプライマ処理が行なわれたガラス原盤6
はターンテーブルユニット10がガイドレール12a,12bに
沿って移動することにより装置2へ移送される。
2 and 3, the device 1 includes a cup 25 that moves up and down with respect to the device body 11. The cup 25 is normally held in a raised position so as not to hinder the movement of the turntable unit 10, and the connecting portion 26 is used when performing each process.
The linear drive motor 27 is driven downward via (shown in FIG. 1). The drive source of the cup 25 is not limited to the linear drive motor 27, and any drive capable of vertically driving the cup 25 may be used. The lowered cup 25 is fitted to the peripheral portion of the pedestal 21 of the turntable unit 10 to maintain the sealed state. In this state, the glass master 6 vacuum-adsorbed on the turntable 7 by the vacuum pump 28 is rotated by the motor 8 while being rotated.
It is cleaned with a cleaning liquid sprayed from a nozzle (not shown) provided in 25, and then a primer treatment is performed. Glass master 6 that has been cleaned and primed
Is transferred to the device 2 as the turntable unit 10 moves along the guide rails 12a and 12b.

装置2は検査ユニット29を有しており、この検査ユニッ
ト29は装置本体11に対して2本の支柱30a,30bによって
支持されると共に、フード31によって覆われている。2
本の支柱30a,30bはダクトとしての作用もなし、ガラス
原盤6よりも風下に位置するように、即ちクリーンベン
チ5と反対側に位置するように設けられる。これによれ
ば、クリーンベンチ5からガラス原盤6に対して平行に
送出される風の流れに乱れを生じることがなく、良好に
ガラス原盤6の盤面へのホコリ等の付着防止を行なうこ
とができることになる。装置2では、装置1で洗浄及び
プライマ処理が行なわれたガラス原盤6に傷等の欠陥が
ないか否かの検査が、更に装置3で熱処理されたレジス
ト原盤の盤面上に傷等の欠陥がないか否かの検査が行な
われると同時に、レジスト膜の膜厚の測定も検査ユニッ
ト29によって行なわれる。
The device 2 has an inspection unit 29, and the inspection unit 29 is supported on the device body 11 by two columns 30a and 30b and is covered by a hood 31. Two
The pillars 30a and 30b of the book also do not function as ducts, and are provided so as to be located leeward of the glass master 6, that is, so as to be located on the opposite side of the clean bench 5. According to this, the flow of the air blown in parallel from the clean bench 5 to the glass master 6 is not disturbed, and it is possible to favorably prevent adhesion of dust and the like to the surface of the glass master 6. become. In the apparatus 2, it is checked whether or not the glass master 6 cleaned and primed in the apparatus 1 has a defect such as a scratch and the like. The inspection unit 29 also measures the thickness of the resist film at the same time that the inspection is performed.

一方、装置3はベーキングユニット32を有しており、こ
のベーキングユニット32は装置本体11に対して2本の支
柱33a,33bによって支持されると共に、フード34によっ
て覆われている。2本の支柱33a,33bは装置2の場合と
同様に、ダクトとしての作用もなし、かつガラス原盤6
よりも風下に位置するように設けられている。この装置
3では、フォトレジストが塗布されたレジスト原盤に対
して遠赤外線によるプリベーク処理が行なわれる。この
プリベーク処理においては、放射温度計35によりレジス
ト原盤の表面温度が検出され、この検出温度に基づいて
表面温度のコトロールが行なわれる。
On the other hand, the apparatus 3 has a baking unit 32, and the baking unit 32 is supported on the apparatus main body 11 by two columns 33a and 33b and is covered by a hood 34. As in the case of the device 2, the two columns 33a and 33b do not act as ducts, and the glass master 6 is used.
It is provided to be located leeward. In this apparatus 3, a pre-baking process using far infrared rays is performed on a resist master disk coated with a photoresist. In this pre-baking process, the surface temperature of the resist master is detected by the radiation thermometer 35, and the surface temperature is controlled based on the detected temperature.

装置2,3におけるフード31,34は各々、第1図から特に明
らかなように、クリーンベンチ5側の端部において、そ
の上面が下方に向って傾斜しかつ両側面が中央に向って
傾斜した構成となっている。これによれば、第1図及び
第3図に矢印で示すように、クリーンベンチ5から送出
された風が各フード31,34の上面及び両側面の傾斜面に
沿って下流方向に良好に流れるので、各装置の周辺にお
ける風の流れに乱れを生じることがないのである。
As is particularly apparent from FIG. 1, the hoods 31 and 34 in the devices 2 and 3 respectively have the upper surfaces inclined downward and the both side surfaces inclined toward the center at the end portion on the clean bench 5 side. It is composed. According to this, as shown by the arrows in FIGS. 1 and 3, the wind blown out from the clean bench 5 satisfactorily flows in the downstream direction along the upper surfaces of the hoods 31, 34 and the inclined surfaces of both side surfaces. Therefore, the flow of wind around each device is not disturbed.

また、先述したように、検査ユニット29,フート31及び
ベーキングユニット32,フード34を支持する支柱30a,30b
及び33a,33bが、ターンテーブルユニット11により担持
搬送されるガラス原盤6よりも風下に位置するように設
けられ、支柱30a,30b及び33a,33bは、第3図に示すよう
に、装置本体11の上面に形成された保持孔、37a,37b及
び38a,38bにより保持される。一方、本装置が作業者に
対して左右に例えば一対配置され、両側から風を送り込
むようなシステムにした場合、一方の装置では支柱30a,
30b及び33a,33bがガラス原盤6よりも風上に位置すると
共に、フード31,34の傾斜面が風下側に位置し、風のス
ムーズな流れを妨げることになってしまう。そこで、そ
の対策として、保持孔37a,37b及び38a,38bよる支柱30a,
30b及び33a,33bの保持を着脱自在とし、反対側にも保持
孔39a,39b及び40a,40bを穿設しておき、支柱30a,30b及
び33a,33bの取付位置を適宜選択することにより、第5
図に示すように、常に支柱30a,30b及び33a,33bがガラス
原盤6よりも風下に位置すると共に、フード31,34の傾
斜面が風上側に位置するように設定することができるこ
とになる。
Further, as described above, the columns 30a and 30b that support the inspection unit 29, the foot 31, the baking unit 32, and the hood 34.
And 33a, 33b are provided so as to be located leeward of the glass master 6 carried and conveyed by the turntable unit 11, and the support columns 30a, 30b and 33a, 33b are, as shown in FIG. It is held by holding holes 37a, 37b and 38a, 38b formed in the upper surface of the. On the other hand, when this device is arranged, for example, in a pair on the left and right with respect to the operator, and the system is such that air is blown in from both sides, the support 30a,
30b and 33a, 33b are located on the windward side of the glass master 6, and the inclined surfaces of the hoods 31, 34 are located on the leeward side, which hinders the smooth flow of the wind. Therefore, as a countermeasure against this, the support holes 30a, 37b and the columns 30a, 38a, 38b
By holding the 30b and 33a, 33b detachable, holding holes 39a, 39b and 40a, 40b are also formed on the opposite side, by appropriately selecting the mounting positions of the columns 30a, 30b and 33a, 33b, Fifth
As shown in the drawing, the columns 30a, 30b and 33a, 33b can be set so that they are always located on the leeward side of the glass master 6, and the inclined surfaces of the hoods 31, 34 are located on the windward side.

第2図において、装置本体11にはターンテーブルユニッ
ト10の移動位置を検出するために、例えば6個の位置セ
ンサ36a〜36fがターンテーブルユニット10の移動方向に
沿って配列されている。6個の位置センサ36a〜36fは各
装置1〜3に2個づつ対応するように設けられており、
これら各センサ36a〜36fの各出力の組合わせからターン
テーブルユニット10の移動位置が検出されるのである。
すなわち、第6図に示すように、位置センサ36a,36bの
みがオン状態にあるときは装置1に、位置センサ36c,36
dのみがオン状態にあるときは装置2に、位置センサ36
e,36fのみがオン状態にあるときは装置3にそれぞれタ
ーンテーブルユニット10が位置することを検出できるの
である。また、ターンテーブルユニット10が移動路の両
端に位置する場合には位置センサ36a又は36fのみがオン
状態にあり、装置間に位置する場合には位置センサ36b,
36cのみ又は36d,36eのみがオン状態となるのである。
In FIG. 2, for example, six position sensors 36a to 36f are arranged in the apparatus body 11 along the moving direction of the turntable unit 10 in order to detect the moving position of the turntable unit 10. The six position sensors 36a to 36f are provided so as to correspond to each of the devices 1 to 3 by two,
The movement position of the turntable unit 10 is detected from the combination of the outputs of the sensors 36a to 36f.
That is, as shown in FIG. 6, when only the position sensors 36a and 36b are in the ON state, the position sensors 36c and 36c are provided to the device 1.
When only d is in the ON state, the position sensor 36
When only e and 36f are in the ON state, it can be detected that the turntable unit 10 is located in the device 3, respectively. Further, when the turntable unit 10 is located at both ends of the moving path, only the position sensor 36a or 36f is in the ON state, and when it is located between the devices, the position sensor 36b,
Only 36c or 36d and 36e are turned on.

従って、位置センサ36a〜36fの各出力の組合わせからタ
ーンテーブルユニット10の移動位置を検出することによ
り、当該ユニット10を各装置の作業位置に確実に停止せ
しめることができ、又ユニット10の移動中に例えば停電
があった場合、停電復旧後の検出位置からその後ユニッ
ト10が移動すべき方向を判断できるので、停電復旧後で
もスムーズに作業を継続できることになる。
Therefore, by detecting the moving position of the turntable unit 10 from the combination of the outputs of the position sensors 36a to 36f, the unit 10 can be reliably stopped at the working position of each device, and the movement of the unit 10 For example, when there is a power failure, the direction in which the unit 10 should move after that can be determined from the detection position after the power failure is restored, so that the work can be smoothly continued even after the power failure is restored.

以上説明した構成において、ターンテーブルユニット10
の移動及びその停止位置の制御、各装置1〜3における
各作業をなすための動作制御、ターンテーブルの速度制
御等は例えばマイクロコンピュータからなるシステムコ
ントローラ(図示せず)により一括して行なわれる。
In the configuration described above, the turntable unit 10
Control of the movement and stop position thereof, operation control for performing each work in each of the devices 1 to 3, speed control of the turntable, etc. are collectively performed by a system controller (not shown) including a microcomputer, for example.

次に、本装置において実行される作業手順を第7図のフ
ローチャートに従って説明する。
Next, the work procedure executed in this apparatus will be described with reference to the flowchart of FIG.

先ず、装置1においては、ターンテーブル7上にガラス
原盤が載置されると、カップ25が降下してターンテーブ
ルユニット10における受け台21に嵌合して密閉状態を維
持し、この状態においてガラス原盤の洗浄が行なわれ
(ステップS1)、続いてプライマ処理が行なわれる(ス
テップS2)。洗浄及びプライマ処理が行なわれたガラス
原盤はターンテーブル7上に載置されたままターンテー
ブルユニット10の移動に伴って装置2へ移動し、ここで
ガラス原盤の欠陥検査が行なわれる(ステップS3)。検
査を通過したガラス原盤は再び装置1へ移送され、フォ
トレジストが塗布され(ステップS4)、レジスト原盤と
なる。このレジスト原盤はターンテーブルユニット10の
移動に伴って装置2を経て装置3へ移動し、ここで遠赤
外線によるプリベーク処理が行なわれる(ステップS
5)。熱処理が行なわれたレジスト原盤は再び装置2へ
移送され、レジスト原盤の欠陥検査及びレジスト膜の膜
厚の測定が行なわれる(ステップS6)。以上の手順によ
り、レジスト原盤を作成するための一連の処理が完了す
る。
First, in the device 1, when the glass master is placed on the turntable 7, the cup 25 descends and fits into the pedestal 21 of the turntable unit 10 to maintain a hermetically sealed state. The master is washed (step S1), and then a primer treatment is performed (step S2). The cleaned and primed glass master moves to the device 2 as the turntable unit 10 moves while being placed on the turntable 7, where the glass master is inspected for defects (step S3). . The glass master that has passed the inspection is again transferred to the apparatus 1 and coated with a photoresist (step S4) to become a resist master. As the turntable unit 10 moves, this resist master moves through the device 2 to the device 3 where the prebaking process with far infrared rays is performed (step S).
Five). The heat-treated resist master is transferred again to the apparatus 2, where defect inspection of the resist master and measurement of the resist film thickness are performed (step S6). Through the above procedure, a series of processes for forming the resist master disk is completed.

ここで、各装置1〜3では、ターンテーブル7が回転駆
動されることによって各作業が行なわれるのは勿論であ
るが、本システムにおいては、ターンテーブル7は各装
置間を移動する間も回転駆動され、回転が持続されるよ
うになっている。これによれば、ガラス原盤(又はレジ
スト原盤)が常時回転駆動されることになるので、盤面
上へのホコリ等の付着を防止できることになる。また、
各装置においてターンテーブル7の立上げ時間が不要と
なるので、各作業への移行をスムーズに行なうことがで
きることになる。
Here, in each of the devices 1 to 3, it goes without saying that each work is performed by rotationally driving the turntable 7, but in the present system, the turntable 7 rotates while moving between the devices. It is driven so that it can continue to rotate. According to this, since the glass master disk (or resist master disk) is constantly driven to rotate, it is possible to prevent adhesion of dust or the like on the board surface. Also,
Since the turn-up time of the turntable 7 is not required in each device, it is possible to smoothly shift to each work.

発明の効果 以上説明したように、本発明による光ディスク用原盤処
理装置においては、各々異なる作業をなす複数の装置が
一体化され、ターンテーブル及びこれを回転駆動する駆
動源を含むターンテーブルユニットが複数の装置間に亘
って移動自在に設けられていると共に、各装置間を移動
するときもターンテーブルが回転駆動される構成となっ
ているので、各装置の一体化によるシステム全体のコン
パクト化及び作業性の向上が図れると共に、被作業体で
ある光ディスク用ガラス原盤の盤面へのホコリ等の付着
を防止できることにもなる。
Effects of the Invention As described above, in the optical disk master processing device according to the present invention, a plurality of devices performing different operations are integrated, and a plurality of turntable units including a turntable and a drive source for rotationally driving the turntable are provided. Since it is movably provided between the devices, and the turntable is driven to rotate even when the devices are moved, the overall system can be made compact and work by integrating the devices. In addition to the improvement of the property, it is possible to prevent adhesion of dust or the like to the surface of the glass master disk for an optical disk, which is the work piece.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は例えばレジスト原盤の作成装置に適用された本
発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び第3図は第1
図における各装置の具体的な構造を示す一部断面を含む
正面図及び一部断面を含む平面図、第4図は第2図及び
第3図におけるターンテーブルユニットの具体的な構造
を示す断面図、第5図は作業者に対して本装置を左右に
一対配置した場合の構成を示す平面図、第6図は第2図
における位置センサの各動作状態とターンテーブルユニ
ットの移動位置との関係を示す図、第7図はレジスト原
盤を作成するための作業手順を示すフローチャートであ
る。 主要部分の符号の説明 1,2,3……装置、5……クリーンベンチ 6……ガラス原盤、7……ターンテーブル 10……ターンテーブルユニット 11……装置本体、25……カップ 29……検査ユニット 30a,30b,33a,33b……支柱 32……ベーキングユニット 31,34……フード 36a〜36f……位置センサ
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention applied to, for example, a resist master forming apparatus, and FIGS.
The front view including the partial cross section which shows the concrete structure of each apparatus in a figure, and the top view which contains a partial cross section, FIG. 4 is the cross section which shows the concrete structure of the turntable unit in FIG. 2 and FIG. 5 and 5 are plan views showing a configuration in which a pair of the present apparatus is arranged on the left and right with respect to an operator, and FIG. 6 shows the respective operating states of the position sensor and the moving position of the turntable unit in FIG. FIG. 7 shows the relationship, and FIG. 7 is a flowchart showing the work procedure for producing a resist master. Explanation of symbols of main parts 1,2,3 …… Device, 5 …… Clean bench 6 …… Glass master, 7 …… Turntable 10 …… Turntable unit 11 …… Device body, 25 …… Cup 29 …… Inspection unit 30a, 30b, 33a, 33b …… Brace 32 …… Baking unit 31,34 …… Hood 36a to 36f …… Position sensor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 滋 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 小塩 千春 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 長田 和彦 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−223623(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Shigeru Kono 2680 Nishi Hanawa, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Pioneer Video Co., Ltd. Incorporated (72) Inventor Kazuhiko Nagata 2680 Nishi Hanawa, Tatomi-cho, Nakakoma-gun, Yamanashi Pioneer Video Co., Ltd. (56) Reference JP-A-59-223623 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】クリーンルーム内に配置されるターンテー
ブルを所定回転数にて回転駆動してこれに載置される光
ディスク用原盤に対して各々異なる作業をなす複数の装
置を有する光ディスク用原盤処理装置であって、前記タ
ーンテーブル及びこれを回転駆動する駆動源を含むター
ンテーブルユニットと、前記ターンテーブルユニットを
案内すべく前記複数の装置間に亘って設けられた案内手
段と、前記ターンテーブルユニットを前記複数の装置間
において移動せしめる駆動手段とを備え、前記駆動源は
前記ターンテーブルユニットが各装置間を移動する間に
おいても前記ターンテーブルを回転駆動し続けることを
特徴とする光ディスク用原盤処理装置。
1. An optical disk master processing apparatus comprising a plurality of devices for rotationally driving a turntable arranged in a clean room at a predetermined number of rotations and performing different operations for the optical disk masters mounted thereon. A turntable unit including the turntable and a drive source for rotationally driving the turntable, guide means provided between the plurality of devices for guiding the turntable unit, and the turntable unit. An optical disk master processing device comprising: drive means for moving the plurality of devices, and the drive source continues to rotate and drive the turntable even while the turntable unit moves between the devices. .
JP61213343A 1986-09-10 1986-09-10 Optical disk master processing device Expired - Fee Related JPH0694303B2 (en)

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NL8702157A NL8702157A (en) 1986-09-10 1987-09-10 FLOW TREATMENT SYSTEM.
US07/094,994 US4850791A (en) 1986-09-10 1987-09-10 Flow processing system
US07/416,001 US5002455A (en) 1986-09-10 1989-10-02 Flow processing system

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59223623A (en) * 1983-06-01 1984-12-15 Daiichi Kogyo Kk Direction change device of baggage on endless conveyor

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JPS6371019A (en) 1988-03-31

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