JPH063716A - 第2高調波発生装置 - Google Patents

第2高調波発生装置

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JPH063716A
JPH063716A JP16103592A JP16103592A JPH063716A JP H063716 A JPH063716 A JP H063716A JP 16103592 A JP16103592 A JP 16103592A JP 16103592 A JP16103592 A JP 16103592A JP H063716 A JPH063716 A JP H063716A
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JP
Japan
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semiconductor laser
output
face
laser
nonlinear optical
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Application number
JP16103592A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuji Hiramatsu
靖二 平松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 波長選択幅が広くかつ作製が容易で実用的な
SHG装置を提供すること。 【構成】 端面に反射防止コーティングを有する入力用
半導体レーザーと、端面に基本波を反射する一方で、第
2高調波は透過する性質を有する反射コーティングを設
けてなる出力用共振ミラーとの間に、その各端面が交差
するようバルクまたは厚膜の非線形光学結晶を配置した
もの。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、第2高調波発生装置に
関し、とりわけ、光記録、レーザープリンタ等に使用さ
れて有用な第2高調波発生装置についての提案である。
【0002】
【従来の技術】第2高調波発生(以下、「SHG」とい
う)の方法としては、ガスレーザー等のレーザー光を入
射光としてこれをバルク非線形光学結晶などにより短波
長に変換することが一般的な手段と言える。この公知技
術の場合、高いSHG変換効率を得るためには基本波レ
ーザーの出力を大きくしなければならず、それ故に、装
置が大型になるという欠点があった。
【0003】こうした実情に鑑み、従来、SHGの変換
効率を向上させるための技術が盛んに研究され、例え
ば、レーザー共振器内に非線形光学結晶を配置した内部
共振型レーザーなどが提案されている。この提案技術
は、レーザー共振器内に固体レーザー結晶と非線形光学
結晶とを配置したものであり、励起光源としてフラッシ
ュランプ等を用いる装置であるから、固体レーザー結晶
による基本波発振出力を向上させるためには、前記フラ
ッシュランプのパワーを向上させなければならず、小型
化には困難があった。
【0004】さらに最近では、上掲の固体レーザーの励
起光源として、半導体レーザーを利用する方式のものも
提案されている(「日経ニューマテリアル」;No. 105
,p45〜55)。ここに掲載されているものによれば、
半導体レーザーのパワーが 100mWで波長532nm の緑色レ
ーザー光が3mW得られていて、大きさも長さ20mm程度と
極めて小型の実用的レーザーである。
【0005】また、特開平3−3286号公報の開示で
は、プレーナ技術により、レーザー共振器と非線形光導
波路とを同一平面上に配置してなる内部共振型レーザー
を提案している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、前記「日経ニューマテリアル」に示
された内部共振型レーザーは、励起用半導体レーザーに
ついては、レーザーの波長許容が 808〜810nm と狭い上
に、固体レーザー結晶において励起される基本波の発振
波長が1064nmと固定されていて融通がきかないという問
題点があった。一般に、固体レーザーの発振波長は、こ
の固体レーザー結晶中に固溶している不純物が励起され
て発光する波長によって決定される。従って、半導体レ
ーザーを利用する場合、固体レーザー結晶と非線形光学
効果を介して第2高調波を発生させて可視光レーザーと
するには、Nd固溶のYAG結晶やNd固溶のYVO4
結晶ぐらいしか利用できず、従って、特定の波長のSH
G光しか得られないという問題があった。
【0007】 次に、前記特開平3−3286号公報
に開示の技術では、光導波路を非線形光学素子としてい
るために、非常に狭い波長範囲と温度範囲しか利用する
ことができないことに加え、膜厚制御がオングストロー
ムオーダのため作製が難しく実用的ではないという問題
があった。しかし、この技術は、半導体レーザーを用い
ているので、この半導体レーザーの持つ広い波長範囲を
利用できるものの、導波路の形状とモード分散方式で位
相整合させようとしたとき、この半導体レーザーと非線
形光学素子の導波路との光の結合が悪く、発振効率が悪
いという問題もあった。
【0008】本発明の目的は、上述した従来技術が抱え
ている問題点を克服し、とくに波長選択幅が広くかつ作
製が容易で実用的なSHG装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上掲の目的を実現すべく
鋭意検討した結果、発明者は、広い波長選択幅を維持す
るために、入力用半導体レーザーの出力側端面に反射防
止コーティング(以下、これを「ARコート」という)
を設けることとし、また、実用性を高めるために、出力
用共振ミラーを前記半導体レーザー外部に設けると共
に、この出力用共振ミラーと半導体レーザーとの間に非
線形光学結晶を配置したものとすることが有効であると
の知見を得て本発明を完成した。
【0010】すなわち、本発明は、出力側端面に反射防
止コーティングを有する入力用半導体レーザーと、入力
側端面に基本波を反射する一方で、第2高調波は透過す
る性質を有する反射コーティングを設けてなる出力用共
振ミラーとの間に、その端面が光軸と交差するようバル
クまたは厚膜の非線形光学結晶を配置したことを特徴と
する第2高調波発生装置である。
【0011】本発明において、入力用に使用する半導体
レーザーとしては、ファブリ・ペロー型の半導体レーザ
ーやDBR型レーザー、とくに後者のものは、それの片
側のブラッグ反射領域を欠いて利用することができる。
本発明においては、かかる半導体レーザーとしてそれの
出力側端面に、スパッタ装置や真空蒸着装置を用いて誘
電体多層膜の前記「ARコート」を被成したものを用い
る。このARコートは、基本波の透過率が90%以上の
ものを用いることが効率のよいレーザー発振のためには
有効である。
【0012】次に、本発明で用いる共振ミラーは、その
入射側の端面に、基本波を完全反射すると同時に、高調
波に対しては反射防止作用を有する反射コーティング
(以下、これを「HRコート」という)を設けてなるも
のである。例えば、このミラーに被成した前記HRコー
トは、反射率が90%以上あると共に、透過率が90%
以上あるものを用いることが効率の良いレーザー発振の
ために必要である。なお、本発明において、この共振ミ
ラーは上記HRコーティングを透過率のよい石英ガラス
等の素材の端面, できれば凹面に施こしたものである
が、その他、上記HRコートを他の非線形光学材料の端
面に形成してもよい。
【0013】本発明にかかる第2高調波発生装置は、上
述した半導体と出力用共振ミラーとで構成される共振器
との間の光軸上に、非線形光学結晶を配置して構成され
ているものである。前記非線形光学結晶の配置方法とし
ては、結晶の各端面が光軸と直交するように配置するこ
とが望ましい。これは、光学系を複雑にしなくてもよい
からである。また、非線形光学結晶には、位相整合に適
した入射角度があるため、端面と光軸の角度は適当に調
整される。位相整合の角度は、光学軸に対する入射光の
角度で決まる。このため、結晶の切り出し方で端面と光
軸の角度が変わる。
【0014】この非線形光学結晶としては、LiNbO
3 、LiTaO3 、KNbO3 、KTiOPO4 (KT
P)、Ba2 NaNb5 15(BNN)、K3 Li2
515(KLN)、Ba2 LiNb5 15(BL
N)、ZnO、KTax Nb1-x3 (KTN)、Li
IO3 、Srx Ba1-x Nb2 6 (SBN)、BaT
iO3 、PbTiO3 、KH2 PO4 (KDP)、KD
2 PO4 (KD* P)、NH4 2 PO4 (ADP)、
InPS4 、β−BaB2 4 (BBO)、LiB 3
5 (LBO)などを用いることができるが、なかでもβ
−BBOは、短波長まで光が透過し、広い波長範囲で位
相整合がとれ、比較的非線形光学定数が大きいので、本
発明にはとりわけ好適である。なお、この非線形光学結
晶としては、結晶を切り出したものでも、あるいは基板
上に100μm以上の厚膜にしたものを切り出したもの
を使用してもよい。
【0015】前記非線形光学結晶の光軸上にある両端面
には、基本波ならびに高調波に対してARコートを施し
たものでもよく、また上記したように、片側のみHRコ
ートを、そして他方の端面には基本波、高調波を透過す
るARコートを施してなるものを用いてもよい。この非
線形光学結晶のARコートとしては、基本波、高調波と
もに90%以上の透過率があることが効率のよいレーザ
ー発振には必要である。
【0016】なお、本発明装置の場合、一般に半導体レ
ーザーの出力光は広い広がり角を持っているので、半導
体レーザーと非線形光学結晶の間にレンズを置き、前記
半導体レーザーからの光を平行光または収束光にした方
が効率のよいレーザー発振を行なうのに好都合である。
【0017】
【作用】一般に、AlGaAs系の半導体レーザーは発
振波長が650nmから900nmまで発振することがで
き、また、InGaAsP系半導体レーザーは950nm
から1800nmまで発振することができる。このような
様々な波長が選択できる半導体レーザーより発振したレ
ーザー光は、一般には、半導体レーザーの端面をミラー
としてレーザー発振を行っているが、このままでは、非
線形光学材料を光軸上に配置しても内部共振器を形成で
きず、高調波への変換効率が低い。
【0018】本発明では、このような弊害を除くため
に、半導体レーザーにはARコートを施し、これとは別
に外部の共振ミラーによる共振器を設けてレーザー発振
を行うようにしたものである。このような構成にする
と、レーザー共振器内の光強度は、共振ミラーの反射率
をRとすると通常の共振器からでてくるレーザー光の
(1−R)-1倍になり、光強度が強いため高調波への変
換効率が飛躍的に良くなる。それ故に、本発明において
は、かかる共振器内の光軸上に非線形光学結晶を配置す
ることにより、小型で変換効率のよいSHGデバイスが
与えられる。さらに、非線形光学結晶に入射する光が集
光されている場合は、基本波の波長変動にも強くなり、
基本波の波長が変化した場合においてもあまりSHG出
力が低下するようなこともない。その上、本発明の構成
において、共振器内に配置する非線形光学結晶は、バル
クまたは厚膜材料を用いるので、温度変化に強いSHG
デバイスを得ることができる。
【0019】
【実施例】
実施例1 第2高調波発生装置(SHG装置)を構成する半導体レ
ーザーとして、発振波長が830nm、注入電流120mA
での出力が100mWの大きさの半導体レーザーの出力側
端面に、電子ビーム蒸着法でZnO2 膜によるARコー
トを0.11nm被成したものを用いた。このZnO2
を被成した半導体レーザーは830nmの光の透過率が9
8%で、ARコートとして十分なものと言えた。この半
導体レーザー1の出射側に当たる後方に、f=4mmのレ
ンズを配置し、半導体レーザー1からの光をコリメート
光とした。なお、このレンズ2の焦点位置は、正確に半
導体レーザーの出射端面に一致するように合わせた。そ
して、このレンズのさらにその後方には、f=5mmのレ
ンズを配置して前記コリメート光を集光することとし
た。次に、上記のレンズから10mm後方の位置には、8
30nmの基本波を97%反射し、そして415nmの高調
波を96%透過するHRコートを形成してなる出力用共
振ミラーを配置して共振器を構成した。この共振器につ
いて、他方の端面から出力される光の強度を測定したと
ころ、注入電流が80mAで86mWあり、この構成で共振
器が作製されていることを確認した。
【0020】そこで、上記共振器を用い、前記の第二の
レンズと出力用共振ミラーとの間のレンズ焦点位置に、
結晶の中心が来るように調整された長さ3mmのβ−BB
O結晶を配置してSHG装置とし、このSHG装置を用
いて前記半導体レーザーに、注入電流を80mAに維持し
て励起させたとき、出力用共振ミラーからは3.2mWの
波長415nmのレーザー光が得られた。このデバイスの
長さは21mmで小型であった。
【0021】次に、このSHG装置を恒温槽に入れ、温
度を0℃から60℃まで変化させてそのときの出力を測
定した。その結果、415nmのレーザー出力は、2.4
から3.2mWの間で変化しただけで、明らかに弱くなる
ようなことはなかった。
【0022】実施例2 SHG装置を構成する半導体レーザーとして、発振波長
が860nm、注入電流80mAでの出力が60mWの大きさ
の半導体レーザーの出力側端面に、真空蒸着によりZn
2 膜によるARコートを0.11nm被成したものを用
いた。このZnO2 膜を被成した半導体レーザーは、の
860nmの光の透過率が98%でARコートとして十分
な作用のものであった。
【0023】この半導体レーザーの出射側の後方に、f
=2mm長さ3mmのロッドレンズを配置した。レンズの焦
点位置は正確に半導体レーザーの出射端面に合わせた。
このロッドレンズではf=2mmの位置で集光が起きた。
次に、このレンズから5mm後方の位置には、入射側の凹
端面に860nmの基本波を97%反射すると共に、43
0nmの高調波を96%透過するHRコートを形成してな
る出力用共振ミラーを配置して共振器を構成した。この
共振器について、他の端面から出力される光の強度を測
定したところ、注入電流80mAで53mWあり、この構成
で立派な共振器が作製されていることを確認した。
【0024】そこで、上記共振器を用い、前記ロッドレ
ンズと出力用共振ミラーとの間のレンズの焦点位置に結
晶の中心がくるように調整された長さ3mmのKNbO3
結晶を配置してSHG装置とした。そこで、このSHG
装置の半導体レーザーに注入電流を80mAに励起させた
とき、出力ミラーからは2.4mWの波長430nmのレー
ザー光が得られた。このデバイスの長さは15mmで小型
であった。
【0025】次に、このSHG装置を恒温槽に入れ、温
度を0℃から40℃まで変化させてそのときの出力を測
定した。その結果、415nmのレーザー出力は1.0か
ら2.4mWの間で変化しただけで、明らかに弱くなるよ
うなことはなかった。
【0026】実施例3 SHG装置を構成する半導体レーザーとして、発振波長
が1.3μm、注入電流80mAでの出力が20mWの大き
さの半導体レーザーの出力側端面に、ARコートとして
真空蒸着によりZnO2 膜を0.11nm被成したものを
用いた。このZnO2 膜を用いた時の1.3μmの光の
透過率は98%で、ARコートとして十分な作用のもの
であった。
【0027】この半導体レーザーの後方に、f=2mm、
長さ3mmのロッドレンズを配置した。このロッドレンズ
の焦点位置は半導体レーザーの出射端面に正確に合わせ
た。このロッドレンズではf=2mmの位置で集光が起き
た。次に、このレンズのさらに5mm後方の位置には、入
射側の端面に1.3μmの基本波を96%反射すると共
に、0.65μmの高調波を97%透過するHRコート
を形成してなる出力用共振ミラーを配置して共振器を構
成した。この共振器について、他の端面から出力される
光の強度を測定したところ、注入電流80mAで16mWあ
り、この構成で立派な共振器が作製されていることを確
認した。
【0028】この共振器中には次のような非線形光学結
晶を配置した。すなわち、LiTaO3 基板上にLPE
法により成長させたLiNbO3 厚膜(120μm)を
設けてなる結晶を作製してその端面をカットし、さらに
端面を研磨して長さ3mmのSHG用非線形光学結晶とし
た。次に、この結晶の一端面にSiO2 を0.12μm厚み
に真空蒸着し、ARコートとした。次に、この結晶の他
端面を半導体レーザーのARコートのなされた所から2
0μmの位置にくるように配置した。さらに、この冷結
晶のもう一方の端面から100μmの位置に1.3μm
の基本波を96%反射すると共に、0.65μmの高調波
を97%透過する出力用共振ミラーを配置した。
【0029】次に、ロッドレンズと出力用共振ミラーの
間で、このロッドレンズの焦点位置に上記結晶の中心が
くるようにこの結晶を配置してSHG装置とした。この
SHG装置について、注入電流を80mAにしたとき、出
力ミラーからは600 μWの波長0.65μmの赤色レー
ザー光が得られた。なお、この装置の長さは15mmで小
型であった。次に、この装置を恒温槽に入れ、温度を0
℃から40℃まで変化させてそのときの出力を測定し
た。その結果、0.65μmのレーザー出力は、460
μWから600μWの間で変化しただけで、明らかに弱
くなるようなことはなかった。
【0030】比較例 SHG装置の半導体レーザーとして、市販の発振波長が
860nm、注入電流80mAでの出力が60mWの大きさの
半導体レーザーの出力側の端面に、ARコートとして真
空蒸着によりZnO2 膜を0.11nm被成したものを用
いた。このZnO2 膜を用いた半導体レーザーの860
nmの光の透過率は98%でARコートとして十分な作用
のものであった。
【0031】また、LiTaO3 基板上にLPE法によ
り成長させたLiNbO3 薄膜を用いてモード分散型の
SHG素子を作製した。LiNbO3 薄膜はTE0 モー
ドからTM0 モードへ位相整合がとれるように正確に
1.68μmとした。また、この素子の長さは3mmであ
る。そして、この素子の片側端面には860nmの基本波
を反射し、430nmの高調波を透過するコーティングを
施し、もう一方の端面には860nmの基本波、430nm
の高調波ともに透過するコーティングを施した。このよ
うなコーティングを有する素子の860nmの片側透過率
は96%で反射率は97%であった。また430nmの透
過率は95%であった。
【0032】この素子の860nm基本波、430nm高調
波ともに透過するコーティング付与面を、上記ARコー
トの施された半導体レーザー素子の端面に2μmの位置
まで近接させ、この半導体レーザーに80mAの電流を注
入したところ、半導体レーザーのもう一方の端面から出
力される光の強度を測定したところ、12mWあり共振器
が作製されていることを確認した。この素子から出力さ
れる波長430nmのレーザー光の出力を測定したところ
76μWであった。次に、このデバイスを恒温槽に入
れ、温度を0℃から40℃まで変化させて出力を測定し
た。その結果、430nmのレーザー出力は温度が21℃
から23.4℃までしか確認することができなかった。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、小
型で変換効率と温度安定性に優れた、しかも波長選択幅
の広い極めて実用的な第2高調波発生装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の第2高調波発生素子の模式
図。
【符号の説明】
1 半導体レーザー 2 レンズ 3 基本波 4 活性層 5 非線形光学素子 6 出力ミラー 7 SHG光 8 ARコート

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 出力側端面に反射防止コーティングを有
    する入力用半導体レーザーと、入力側端面に基本波を反
    射する一方で、第2高調波は透過する性質を有する反射
    コーティングを設けてなる出力用共振ミラーとの間に、
    その各端面が光軸と交差するようバルクまたは厚膜の非
    線形光学結晶を配置したことを特徴とする第2高調波発
    生装置。
JP16103592A 1992-06-19 1992-06-19 第2高調波発生装置 Pending JPH063716A (ja)

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JP16103592A JPH063716A (ja) 1992-06-19 1992-06-19 第2高調波発生装置

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JP16103592A JPH063716A (ja) 1992-06-19 1992-06-19 第2高調波発生装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6481788B1 (en) 1999-11-17 2002-11-19 Mazda Motor Corporation Upper body structure for a vehicle

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