JPH06350799A - Closely contact type image sensor unit - Google Patents

Closely contact type image sensor unit

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JPH06350799A
JPH06350799A JP5138222A JP13822293A JPH06350799A JP H06350799 A JPH06350799 A JP H06350799A JP 5138222 A JP5138222 A JP 5138222A JP 13822293 A JP13822293 A JP 13822293A JP H06350799 A JPH06350799 A JP H06350799A
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Tetsuro Nakamura
哲朗 中村
Eiichiro Tanaka
栄一郎 田中
Shinji Fujiwara
愼司 藤原
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To simplify connecting wiring from a semiconductor image sensor to a circuit board, and to make the assembly adjustment of an optical system member such as a lens simple, highly precise and compact. CONSTITUTION:A circuit conductive layer 13 is arrayed on the surface of a first translucent substrate 12. An electrode terminal 16 of a semiconductor image sensor 14 overlapped on the surface of the substrate 12 in face-down is brought into contact with the circuit conductive layer 13. A lens plate 18 provided on the back face of the substrate 12 is incorporated with a convergent rod lens array 19. A light emitting body 22 such as an EL which illuminates an original surface is positioned between the rear surface of the lens plate 18 and a second translucent substrate 21, and the rear surface of the substrate 21 is acted as an original abutting surface.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、原稿面に光を当てて原
稿面上の光学画像を電気信号に変換する密着型イメージ
センサユニットに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact type image sensor unit for illuminating a document surface to convert an optical image on the document surface into an electric signal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の密着型イメージセンサユニットの
構成例を図2に示す。光電変換素子アレイ1を配列して
いる半導体イメージセンサ2は、基板3の裏面上に設け
られている。半導体イメージセンサ2の多数の電極端子
4と多数の回路導体層5とは、金やアルミニウム等の金
属細線6によってワイヤボンドされている。半導体イメ
ージセンサ2およびその周辺部は、透明ガラスからなる
カップ状封止材7によって覆われている。そして、集束
性ロッドレンズ8および発光体たるLEDアレイ9が、
ホルダ10とともに組み込まれている。11は原稿面を
示す。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an example of the structure of a conventional contact type image sensor unit. The semiconductor image sensor 2 in which the photoelectric conversion element array 1 is arranged is provided on the back surface of the substrate 3. A large number of electrode terminals 4 of the semiconductor image sensor 2 and a large number of circuit conductor layers 5 are wire-bonded by a fine metal wire 6 such as gold or aluminum. The semiconductor image sensor 2 and its peripheral portion are covered with a cup-shaped sealing material 7 made of transparent glass. Then, the converging rod lens 8 and the LED array 9 serving as a light emitter are
It is incorporated together with the holder 10. Reference numeral 11 indicates a document surface.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように構成された
従来の密着型イメージセンサユニットにおいては、複雑
なワイヤボンド工程を必要とするのみならず、集束性ロ
ッドレンズを組み込むにあたり、イメージセンサの光電
変換素子アレイとの軸合わせ調整が必要となる。
In the conventional contact type image sensor unit thus constructed, not only the complicated wire bonding process is required, but also the photoelectric sensor of the image sensor is used for incorporating the converging rod lens. Alignment adjustment with the conversion element array is required.

【0004】また、LEDアレイによるスポット照明で
は、原稿面上の照度分布にばらつきを生じやすいという
課題があった。
Further, the spot illumination by the LED array has a problem that the illuminance distribution on the document surface tends to vary.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上述した課題を
解決するために、表面上に複数の回路導体層を配列して
いる第1の透光性基板と、第1の透光性基板の表面上に
設けられ、光電変換素子アレイの配列された受光面側に
複数の電極端子を配列している半導体イメージセンサ
と、第1の透光性基板の裏面上に設けられ、光電変換素
子アレイに対応した集束性ロッドレンズアレイを内蔵し
ているレンズプレートと、レンズプレートの裏面側に設
けられ、自体の裏面を原稿当接面としている第2の透光
性基板と、原稿照射用ランプとしての発光体とからな
り、半導体イメージセンサは、その受光面を第1の透光
性基板に向き合わせることによって自体の電極端子を前
記回路導体層に当接させており、レンズプレートと第2
の透光性基板との間に前記発光体が介在していることを
特徴とする密着型イメージセンサユニットが提供され
る。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a first light-transmitting substrate having a plurality of circuit conductor layers arranged on the surface thereof, and a first light-transmitting substrate. And a semiconductor image sensor having a plurality of electrode terminals arranged on the light receiving surface side on which the photoelectric conversion element array is arranged, and a photoelectric conversion element provided on the back surface of the first transparent substrate. A lens plate containing a converging rod lens array corresponding to the array, a second translucent substrate provided on the back surface side of the lens plate and having the back surface of the lens plate as an original contact surface, and an original irradiation lamp. The semiconductor image sensor has its light-receiving surface facing the first light-transmissive substrate so that its electrode terminals are brought into contact with the circuit conductor layer.
There is provided a contact-type image sensor unit characterized in that the light-emitting body is interposed between the transparent substrate and the transparent substrate.

【0006】発光体にELを用いることができる。ま
た、半導体イメージセンサを透光性の光硬化型絶縁樹脂
によって第1の透光性基板に固定することができる。さ
らに、第1の透光性基板と第2の透光性基板とをほぼ同
一の板厚にすることができる。
EL can be used for the light-emitting body. Further, the semiconductor image sensor can be fixed to the first transparent substrate with a transparent photo-curable insulating resin. Further, the first transparent substrate and the second transparent substrate can have substantially the same plate thickness.

【0007】[0007]

【作用】本発明によると、複数の回路導体層を表面上に
配列した第1の透光性基板の表面上に、半導体イメージ
センサが、その受光面を向き合わせたフェイスダウンの
姿勢で配設され、かつ、自体の電極端子を前記回路導体
層に当接させるので、電極端子と回路導体層との間にお
けるワイヤボンドは不要となる。
According to the present invention, the semiconductor image sensor is arranged on the surface of the first light-transmissive substrate having a plurality of circuit conductor layers arranged on the surface in a face-down posture with its light-receiving surfaces facing each other. In addition, since the electrode terminal of itself is brought into contact with the circuit conductor layer, wire bonding between the electrode terminal and the circuit conductor layer becomes unnecessary.

【0008】また、複数の集束性ロッドレンズアレイを
一体に内蔵したレンズプレートを用いるので、集束性ロ
ッドレンズを組み込むにあたっての光電変換素子アレイ
との個々の軸合わせが不要になる。さらに、発光体がレ
ンズプレートと第2の透光性基板との間に介在するの
で、これら板材を利用してEL等の面発光体を組み込む
ことができ、照度分布の均一化およびユニット全体のコ
ンパクト化が可能となる。
Further, since the lens plate integrally incorporating a plurality of converging rod lens arrays is used, it is not necessary to perform individual axis alignment with the photoelectric conversion element array when incorporating the converging rod lenses. Further, since the light emitter is interposed between the lens plate and the second light transmissive substrate, a surface light emitter such as an EL can be incorporated by using these plate materials, and the illuminance distribution can be made uniform and the entire unit can be made uniform. It can be made compact.

【0009】[0009]

【実施例】つぎに本発明の実施例を図面の参照により説
明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0010】図1に示すように、ガラスからなる第1の
透光性基板12は、その表面上に導電膜からなる複数の
回路導体層13を配列している。透光性基板12の表面
上に受光面を下向きにして積み重ねられている半導体イ
メージセンサ14は、その受光面に光電変換素子アレイ
15および複数の電極端子16を配列しており、電極端
子16が回路導体層13に当接している。透光性基板1
2と半導体イメージセンサ14とは、両者間に設けられ
た透光性の光硬化型絶縁樹脂層17によって一体に結合
されている。
As shown in FIG. 1, the first light-transmissive substrate 12 made of glass has a plurality of circuit conductor layers 13 made of a conductive film arranged on its surface. The semiconductor image sensor 14 stacked on the surface of the transparent substrate 12 with the light receiving surface facing downward has a photoelectric conversion element array 15 and a plurality of electrode terminals 16 arranged on the light receiving surface. It is in contact with the circuit conductor layer 13. Translucent substrate 1
The semiconductor image sensor 2 and the semiconductor image sensor 14 are integrally connected by a light-transmissive photo-curable insulating resin layer 17 provided therebetween.

【0011】第1の透光性基板12の裏面上に設けられ
ているレンズプレート18は、集束性ロッドレンズアレ
イ19および遮光膜20を内蔵している。集束性ロッド
レンズアレイ19は、複数のロッドレンズをその軸に直
交する方向に配列した波板状のもので、その両側面に遮
光膜20が付設されている。レンズプレート18は、遮
光膜20を備えたロッドレンズアレイ19を透光性のプ
レート材で挟み込んで作製した一体化板状体であるの
で、ユニットの組み立て時における光電変換素子アレイ
15との軸合わせ調整は、素子単位で行う場合に比べて
格段に容易で、しかも、高い精度で軸合わせができる。
The lens plate 18 provided on the back surface of the first light transmissive substrate 12 contains a converging rod lens array 19 and a light shielding film 20. The converging rod lens array 19 is in the form of a corrugated plate in which a plurality of rod lenses are arranged in a direction orthogonal to the axis thereof, and light shielding films 20 are attached to both side surfaces thereof. Since the lens plate 18 is an integrated plate-like body made by sandwiching the rod lens array 19 having the light-shielding film 20 between translucent plate materials, it is aligned with the photoelectric conversion element array 15 at the time of assembling the unit. The adjustment is remarkably easier than the case where the adjustment is performed for each element, and moreover, the axes can be aligned with high accuracy.

【0012】レンズプレート18とその裏面側に設けら
れている第2の透光性基板21との間にEL(エレクト
ロルミネッセンス)からなる原稿照射用ランプとしての
発光体22が設けられている。第2の透光性基板21は
ガラスからなり、その裏面が原稿当接面となる。
Between the lens plate 18 and the second light-transmissive substrate 21 provided on the back side thereof, a light emitting body 22 as an original irradiation lamp made of EL (electroluminescence) is provided. The second light-transmissive substrate 21 is made of glass, and its back surface serves as a document contact surface.

【0013】半導体イメージセンサ14は、単結晶シリ
コン基板(ウエハ)に、フォトトランジスタ群またはフ
ォトダイオード群からなる光電変換素子アレイ15と、
CCD、MOSまたはバイポーラICからなるアクセス
回路(図示せず)とをつくり込んで得たものである。
The semiconductor image sensor 14 includes a photoelectric conversion element array 15 including a phototransistor group or a photodiode group on a single crystal silicon substrate (wafer).
It is obtained by incorporating an access circuit (not shown) composed of CCD, MOS or bipolar IC.

【0014】各電極端子16は、2層アルミニウム配線
のプロセスを適用して、スパッタリングによって形成し
た導電膜で、ウエハ表面からの突出長は数μmである。
Each electrode terminal 16 is a conductive film formed by sputtering using a two-layer aluminum wiring process, and the projection length from the wafer surface is several μm.

【0015】第1の透光性基板12に板厚1.1mmの
ガラス平板を用い、その表面上に、AuまたはAg等の
金属を、膜厚3μm〜10μmに印刷して回路導体層1
3を形成する。また、この透光性基板12の表面上の所
定位置に、アクリレート系の透光性の光硬化型絶縁樹脂
層17をスタンピング法またはスクリーン印刷法等によ
って塗布形成し、その上に半導体イメージセンサ14
を、電極端子16が所定の回路導体層13に当接するよ
うにフェイスダウンの姿勢で積み重ねる。その後、半導
体イメージセンサ14に圧下力を与えながら、透光性基
板12を通して与えた紫外線で、光硬化型絶縁樹脂層1
7を硬化させる。その上に透明シリコーン等の合成樹脂
をディスペンサーで塗布して保護層(図示せず)を形成
しておく。
A glass plate having a plate thickness of 1.1 mm is used as the first light-transmissive substrate 12, and a metal such as Au or Ag is printed on the surface of the glass plate so as to have a film thickness of 3 μm to 10 μm.
3 is formed. Further, an acrylate-based light-transmissive photo-curable insulating resin layer 17 is applied and formed at a predetermined position on the surface of the light-transmissive substrate 12 by a stamping method or a screen printing method, and the semiconductor image sensor 14 is formed thereon.
Are stacked in a face-down posture so that the electrode terminals 16 come into contact with a predetermined circuit conductor layer 13. After that, while applying a pressing force to the semiconductor image sensor 14, the photocurable insulating resin layer 1 is irradiated with the ultraviolet rays applied through the transparent substrate 12.
Harden 7. A synthetic resin such as transparent silicone is applied thereon by a dispenser to form a protective layer (not shown).

【0016】第1の透光性基板12の裏面上にレンズプ
レート18を透明接着剤で固定し、レンズプレート18
の裏面のうち、光通路を避けた領域に膜厚1μm〜10
0μmのELを発光体22として設け、その裏面側に、
第1の透光性基板12と同じ板厚(1.1mm)のガラ
スからなる第2の透光性基板21を透明接着剤で固定す
る。
The lens plate 18 is fixed on the back surface of the first transparent substrate 12 with a transparent adhesive, and the lens plate 18
1 μm to 10 μm thick on the back surface of the
An EL element of 0 μm is provided as the light-emitting body 22, and on the back side thereof,
A second transparent substrate 21 made of glass having the same plate thickness (1.1 mm) as the first transparent substrate 12 is fixed with a transparent adhesive.

【0017】このように構成された密着型イメージセン
サユニットでは、発光体22から発せられた光が第2の
透光性基板21を透過して原稿面11を照らし、原稿面
11からの光情報が集束性ロッドレンズアレイ19によ
って正立等倍で光電変換素子アレイ15に導かれ、電気
信号に変換される。
In the contact-type image sensor unit having such a structure, the light emitted from the light-emitting body 22 passes through the second light-transmissive substrate 21 and illuminates the document surface 11, and the optical information from the document surface 11 is transmitted. Is guided to the photoelectric conversion element array 15 by an erecting equal-magnification by the converging rod lens array 19 and converted into an electric signal.

【0018】なお、本実施例で用いた半導体イメージセ
ンサ14の光電変換素子アレイ15は、フォトトランジ
スタからなる。また、走査回路のサイリスタシフトレジ
スタにはバイポーラICチップを使用した。
The photoelectric conversion element array 15 of the semiconductor image sensor 14 used in this embodiment is composed of phototransistors. A bipolar IC chip was used for the thyristor shift register of the scanning circuit.

【0019】集束性ロッドレンズアレイ19を無調整で
組み込んだ密着型イメージセンサユニットの分解能は、
MTF(Modulationー Transfer ー Fanction )値が約6
0%(4lp/mm)と高い値を示した。また、発光体
に薄膜ELを用いたことにより、原稿面照度のばらつき
は、従来15%であっものを5%に下げることができ
た。さらに、ユニット全体の体積を従来に比べて半減さ
せることができた。
The resolution of the contact image sensor unit in which the converging rod lens array 19 is incorporated without adjustment is
MTF (Modulation-Transfer-Fanction) value is about 6
It showed a high value of 0% (4 lp / mm). Further, by using the thin film EL as the light emitter, the variation in the illuminance on the original surface was 15%, which was conventionally 5%. Furthermore, the volume of the entire unit could be halved compared to the conventional one.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上のように本発明によると、半導体イ
メージセンサの電極端子を回路導体層に接触させて接続
効果を得るので、金属細線を用いたワイヤーボンドが不
要となる。また、半導体イメージセンサにバンプ電極を
形成する必要もなく、回路導体層を設けた透光性基板に
高い精度で実装することが可能となる。さらに光学系に
おいても、無調整で集束性ロッドレンズを組み込むこと
ができるのみならず、面発光となし得るので、感度のば
らつきが小さく、コンパクトにして低コストの密着型イ
メージセンサユニットを得ることが可能となる。
As described above, according to the present invention, since the electrode terminal of the semiconductor image sensor is brought into contact with the circuit conductor layer to obtain the connection effect, the wire bond using the fine metal wire is unnecessary. In addition, it is not necessary to form bump electrodes on the semiconductor image sensor, and the semiconductor image sensor can be mounted with high accuracy on a translucent substrate provided with a circuit conductor layer. Further, in the optical system, not only the focusing rod lens can be incorporated without adjustment but also surface emission can be achieved, so that it is possible to obtain a compact and low-cost contact image sensor unit with small variation in sensitivity. It will be possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例におけるイメージセンサユニ
ットの側断面図。
FIG. 1 is a side sectional view of an image sensor unit according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来のイメージセンサユニットの側断面図。FIG. 2 is a side sectional view of a conventional image sensor unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 第1の透光性基板 13 回路導体層 14 半導体イメージセンサ 15 光電変換素子アレイ 16 電極端子 17 光硬化型絶縁樹脂層 18 レンズプレート 19 ロッドレンズアレイ 21 第2の透光性基板 22 発光体 12 1st translucent substrate 13 Circuit conductor layer 14 Semiconductor image sensor 15 Photoelectric conversion element array 16 Electrode terminal 17 Photocurable insulating resin layer 18 Lens plate 19 Rod lens array 21 Second translucent substrate 22 Light emitter

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面上に複数の回路導体層を配列してい
る第1の透光性基板と、 第1の透光性基板の表面上に設けられ、光電変換素子ア
レイの配列された受光面側に複数の電極端子を配列して
いる半導体イメージセンサと、 第1の透光性基板の裏面上に設けられ、光電変換素子ア
レイに対応した集束性ロッドレンズアレイを内蔵してい
るレンズプレートと、 レンズプレートの裏面側に設けられ、自体の裏面を原稿
当接面としている第2の透光性基板と、 原稿照射用ランプとしての発光体とからなり、 半導体イメージセンサは、その受光面を第1の透光性基
板に向き合わせることによって自体の電極端子を前記回
路導体層に当接させており、レンズプレートと第2の透
光性基板との間に前記発光体が介在していることを特徴
とする密着型イメージセンサユニット。
1. A first light-transmissive substrate having a plurality of circuit conductor layers arranged on the surface thereof, and a light-receiving device provided on the surface of the first light-transmissive substrate and having a photoelectric conversion element array arranged therein. A semiconductor image sensor in which a plurality of electrode terminals are arranged on the surface side, and a lens plate provided on the back surface of the first translucent substrate and having a focusing rod lens array corresponding to the photoelectric conversion element array built therein. And a light-transmitting substrate provided on the back side of the lens plate, the back side of which is the original contact surface, and a light emitter serving as a document irradiation lamp. The semiconductor image sensor has a light receiving surface. Is brought into contact with the circuit conductor layer by facing the first translucent substrate, and the light emitter is interposed between the lens plate and the second translucent substrate. Adhesion type image that is characterized by Jisensa unit.
【請求項2】 発光体がELであることを特徴とする請
求項1記載の密着型イメージセンサユニット。
2. The contact type image sensor unit according to claim 1, wherein the light emitter is EL.
【請求項3】 半導体イメージセンサが透光性の光硬化
型絶縁樹脂によって第1の透光性基板に固定されている
ことを特徴とする請求項1記載の密着型イメージセンサ
ユニット。
3. The contact type image sensor unit according to claim 1, wherein the semiconductor image sensor is fixed to the first light-transmitting substrate with a light-transmitting photocurable insulating resin.
【請求項4】 第1の透光性基板と第2の透光性基板と
がほぼ同一の板厚を有していることを特徴とする請求項
1記載の密着型イメージセンサユニット。
4. The contact image sensor unit according to claim 1, wherein the first transparent substrate and the second transparent substrate have substantially the same plate thickness.
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