JPH06349275A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH06349275A
JPH06349275A JP5138498A JP13849893A JPH06349275A JP H06349275 A JPH06349275 A JP H06349275A JP 5138498 A JP5138498 A JP 5138498A JP 13849893 A JP13849893 A JP 13849893A JP H06349275 A JPH06349275 A JP H06349275A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
port
data
cell part
ports
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5138498A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Sakagami
上 健 二 坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP5138498A priority Critical patent/JPH06349275A/en
Publication of JPH06349275A publication Critical patent/JPH06349275A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To increase the number of ports while restraining the hardware resource from increasing, and to allow reduction of dead space in the placement of both cell array regions. CONSTITUTION:The semiconductor memory comprises a three port cell part 208 allowing simultaneous access of three ports and a single port cell part 201 having one access port connected commonly with at least a pair of bit lines b11, b11B. The cell part 201 is placed laterally whereas the cell part 208 is placed longitudinally so that the long side of the region placing the smaller single port cell part opposes the short side of the region placing the larger three port cell part. Most preferably, the long side of the single port cell placing region has same dimension as the short side of three port cell part placing region. The number of ports to be mixed may be determined arbitrarily. A cell part having more than three types of port may also be mixed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関する
もので、特にDSP(Digital Signal Processor)などの
情報処理装置に用いるデータRAMに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a data RAM used in an information processing device such as a DSP (Digital Signal Processor).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、複数個のアドレスで同時アクセス
が可能な複数ポートRAMが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a multi-port RAM capable of being simultaneously accessed by a plurality of addresses is known.

【0003】図4はその一例を示すものである。401
はその複数ポートを有するデータRAM、402,40
3はそれぞれRAM401からのリードデータを保持す
るレジスタ、404はレジスタ402,403に保持さ
れたデータに基づいて演算処理を行うALU、405は
ALU404の演算結果を保持するレジスタ、406は
レジスタ405からRAM401へのライトデータの転
送路を開閉するトライステートバッファ、407はこれ
ら記憶装置構成要素401〜406の制御を行うCPU
である。
FIG. 4 shows an example thereof. 401
Is a data RAM having multiple ports, 402, 40
Reference numeral 3 is a register for holding read data from the RAM 401, 404 is an ALU for performing arithmetic processing based on the data held in the registers 402, 403, 405 is a register for holding the operation result of the ALU 404, 406 is a register 405 to the RAM 401. A tri-state buffer that opens and closes a transfer path of write data to and from the CPU, 407 is a CPU that controls these storage device components 401 to 406.
Is.

【0004】この記憶装置にて、情報処理、例えばパイ
プライン演算処理が行われる場合について説明する。
A case where information processing, for example, pipeline arithmetic processing is performed in this storage device will be described.

【0005】まず、CPU407が、それぞれ12ビッ
トずつ独立したアドレスA1 〜A3のうち2個、例えば
A1 ,A2 を用いてRAM401に対しリードアクセス
を行う。すると、RAM401からの各アドレスからの
リードデータR1 ,R2 が各レジスタ402,403に
ストアされる。ALU404はそれらレジスタ402,
403に格納されたデータに基づいて演算処理を行い、
その結果をレジスタ405にストアする。CPU407
は、このレジスタ405へのデータセットが完了したこ
とを知ると、アドレスA1 〜A3 の少なくとも1個、例
えばA3 を用いてRAM401に対しライトアクセスを
行うと同時にトライステートバッファ406をon状態
とし、RAM401にレジスタ405の内容をライトす
る。その後、少なくとも前ステップでライトしたデータ
を含むデータリードのため、アドレスA1 〜A3 のうち
2個を用いてRAM401に対しリードアクセスを行
う。このようなサイクルを繰返すことでパイプライン演
算処理が達成されることとなる。パイプライン演算処理
の最終結果は、レジスタ405からトライステートバッ
ファ406を通して図外のデータバスへ送出されるか、
RAM401にいったん格納されることとなる。
First, the CPU 407 makes a read access to the RAM 401 by using two of the independent addresses A1 to A3 of 12 bits, for example, A1 and A2. Then, the read data R1 and R2 from the respective addresses from the RAM 401 are stored in the respective registers 402 and 403. The ALU 404 uses the registers 402,
Perform arithmetic processing based on the data stored in 403,
The result is stored in the register 405. CPU407
When it knows that the data set to the register 405 is completed, it performs write access to the RAM 401 by using at least one of the addresses A1 to A3, for example, A3, and at the same time turns the tri-state buffer 406 into the on state and the RAM 401 The contents of the register 405 are written in. After that, in order to read the data including at least the data written in the previous step, the read access to the RAM 401 is performed using two of the addresses A1 to A3. Pipeline operation processing is achieved by repeating such a cycle. The final result of the pipeline arithmetic processing is sent from the register 405 to the data bus (not shown) through the tri-state buffer 406, or
It is once stored in the RAM 401.

【0006】そして、この記憶装置によれば、最大3ポ
ートの同時アクセスが可能である。例えば、レジスタ4
02,403にリードデータR1 ,R2 をストアするた
めにアドレスA1 ,A2 によってRAM401をアクセ
スしている時、同時にアドレスA3 を用いてRAM40
1をアクセスし、そのリードデータR3 をデータバスへ
送出することが可能とされているもので、それだけ高級
なアプリケーションの実行が可能である。
According to this storage device, it is possible to simultaneously access up to three ports. For example, register 4
When the RAM 401 is accessed by the addresses A1 and A2 in order to store the read data R1 and R2 in 02 and 403, the RAM 40 is simultaneously used by using the address A3.
Since it is possible to access 1 and send the read data R3 to the data bus, it is possible to execute high-grade applications.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、アプリケーシ
ョンによっては全ポートのうち一部のポートしか必要と
しない場合が多々ある。ポート数の増加は、メモリセル
1個あたりに接続されるビット線、ワード線などの金属
配線が増加、そして、チップ上でのパターン面積の増大
を伴い、更に消費電力の増大も伴ってくる。そのため、
一部のアプリケーションでしかフルにポートを使用しな
い場合、ハードウエア資源の冗長性が高まり、経済性を
考えた場合にはポート数を削減してそれより多くのポー
ト数を必要とする一部のアプリケーションの実行を犠牲
にするしかない。
However, depending on the application, there are many cases where only a part of all ports is required. The increase in the number of ports is accompanied by an increase in the number of metal lines such as bit lines and word lines connected to each memory cell, an increase in the pattern area on the chip, and an increase in power consumption. for that reason,
If only some applications fully use the ports, the redundancy of hardware resources will increase, and for economic reasons, the number of ports will be reduced and some of them will require more ports. There is no choice but to sacrifice application execution.

【0008】また、オンチップ化できるデータRAMの
メモリ容量がデータRAMのパターン面積で制限される
ため、必要なメモリ容量が確保できない場合もある。
Further, since the memory capacity of the data RAM that can be made on-chip is limited by the pattern area of the data RAM, the required memory capacity may not be secured in some cases.

【0009】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたもので、その目的とするところはハード
ウエア資源の増大を抑制しながらポート数の増大を図る
ことができる半導体記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of increasing the number of ports while suppressing an increase in hardware resources. To provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、m(正の整数)個のアクセスポートを有するmポー
トセル部と、n(mより大きい正の整数)個のアクセス
ポートを有するnポートセル部と、上記mポートセル部
と上記nポートセル部とに共通に接続される少なくとも
1対のビット線とを備えていることを特徴としている。
A semiconductor memory device of the present invention has an m port cell section having m (positive integer) access ports and n (a positive integer larger than m) access ports. It is characterized by comprising a port cell section and at least one pair of bit lines commonly connected to the m-port cell section and the n-port cell section.

【0011】そして、半導体基板上に、少なくとも一辺
において寸法を同じくする第1、第2の矩形領域を設
け、mポートセル部はその第1の矩形領域に形成し、n
ポートセル部は、第1の矩形領域と同一寸法の辺同士が
対向するようにレイアウト配置された第2の矩形領域に
形成するのが望ましい。
Then, first and second rectangular regions having the same size on at least one side are provided on the semiconductor substrate, and the m port cell portion is formed in the first rectangular region, and n
The port cell portion is preferably formed in the second rectangular area which is laid out so that the sides having the same dimensions as the first rectangular area face each other.

【0012】[0012]

【作用】本発明によれば、それぞれ相異なる数であるm
個、n個の各ポートを有するセル部を有し、これらを共
通のビット線で連結するようにしたため、nポートセル
部で必要最小限のポート数を確保し、それ以外はmポー
トセル部として構成することで、ハードウエア資源の増
大を抑制しながらポート数の増大を図ることができるこ
ととなる。
According to the present invention, different numbers m
Since there are cell parts each having n and n ports and these are connected by a common bit line, the n port cell part secures the necessary minimum number of ports, and the other parts are configured as m port cell parts. By doing so, it is possible to increase the number of ports while suppressing an increase in hardware resources.

【0013】また、mポートセル部とnポートセル部と
を少なくとも一辺において同一寸法を持つ矩形領域上に
形成し、その同一寸法の辺同士を対向させ、幅を揃えて
レイアウトすることで、両セル部の配置にあたってデッ
ドスペースが生ずるのを防ぐことができる。
Further, the m-port cell portion and the n-port cell portion are formed on a rectangular region having at least one side having the same size, and the sides having the same size are made to face each other and laid out so that both widths are uniform. It is possible to prevent a dead space from being generated when arranging.

【0014】[0014]

【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
つつ説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1は本発明の一実施例に係るデータRA
Mの大略構成を示すものである。
FIG. 1 shows a data RA according to an embodiment of the present invention.
3 shows a schematic configuration of M.

【0016】この図において、101はアドレス1個ず
つでアクセス可能な1ポートセル部、102は3個のア
ドレスで同時アクセス可能な3ポートセル部、103は
ロウデコーダ、104はカラムデコーダ及びI/Oバッ
ファ、105は制御部である。1ポートセル部101は
アドレス領域の下位半分のワードで構成され、3ポート
セル部102はアドレス領域の上位半分のワードで構成
される。ロウデコーダ103はアドレスに従ってワード
線の選択制御を行うものであり、カラムデコーダ104
はアドレスに従ってビット線の選択制御を行うものであ
り、制御部105は、制御信号Cによりビット線のプリ
チャージ、リード/ライトイネーブルの制御を行う機
能、RAMの動作をクロック信号CLKに同期させる機
能、アドレスA1 〜A3 をロウアドレスとカラムアドレ
スとに分離して各デコーダ103,104に供給する機
能を有する。アドレスA1 はデータRAMのセル部10
1,102全アドレス領域にアクセスすることが可能で
ある。アドレスA2 ,A3 はデータRAMのセル部10
1、つまり下位半分のアドレス領域のみにアクセスする
ことが可能である。このデータRAMを1ポートとして
使う場合はアドレスA1 だけでアクセスするようになっ
ており、このときリード/ライトされるデータはリード
データR1 /ライトデータWとなる。データRAMは3
ポートとして使う場合はアドレスA1 〜A3 でアクセス
する。この時リード/ライトされるデータはリードデー
タR1 〜R3 とライトデータWとなる。
In this figure, 101 is a 1-port cell section that can be accessed by each address, 102 is a 3-port cell section that can be simultaneously accessed by three addresses, 103 is a row decoder, 104 is a column decoder and I / O buffer. , 105 are control units. The 1-port cell unit 101 is composed of words in the lower half of the address area, and the 3-port cell unit 102 is composed of words in the upper half of the address area. The row decoder 103 controls word line selection according to an address, and the column decoder 104
Controls the bit line according to the address, and the control unit 105 has a function of controlling the precharge and read / write enable of the bit line by the control signal C and a function of synchronizing the operation of the RAM with the clock signal CLK. , And has a function of separating the addresses A1 to A3 into row addresses and column addresses and supplying them to the respective decoders 103 and 104. The address A1 is the cell portion 10 of the data RAM
It is possible to access all 1,102 address areas. The addresses A2 and A3 are the cell portion 10 of the data RAM.
It is possible to access only 1, that is, the lower half address area. When this data RAM is used as one port, it is accessed only by the address A1, and the data read / written at this time are read data R1 / write data W. Data RAM is 3
When used as a port, access is made with addresses A1 to A3. At this time, the data read / written are read data R1 to R3 and write data W.

【0017】図2は図1に示すデータRAMのセル部1
01,102の構成を示すものである。
FIG. 2 shows a cell portion 1 of the data RAM shown in FIG.
The configuration of 01 and 102 is shown.

【0018】この図において、1ポートセル部101は
セル201を備え、このセル201はセルインバータ2
02,203とnchトランジスタ204,205とか
ら構成されている。セルインバータ202の入力端とセ
ルインバータ203の出力端との共通接続点はトランジ
スタ204のソース・ドレイン間(以下、信号伝送路と
いう。)の一端に接続され、同信号伝送路の他端はビッ
ト線bl1に接続され、セルインバータ202の出力端
とセルインバータ203の入力端との共通接続点はトラ
ンジスタ205の信号伝送路の一端に接続され、同信号
伝送路の他端はビット線bl1Bに接続されている。こ
れらトランジスタ204,205のゲートは対応するワ
ード線に接続されている。図示するものの場合にはワー
ド線wl1に接続されている。206,206´はビッ
ト線bl1,bl1Bのプリチャージを行うためのnc
hトランジスタであり、そのゲートはプリチャージ信号
線pr1に接続されている。
In this figure, the 1-port cell section 101 includes a cell 201, which is a cell inverter 2
02, 203 and nch transistors 204, 205. The common connection point between the input end of the cell inverter 202 and the output end of the cell inverter 203 is connected to one end between the source and drain of the transistor 204 (hereinafter referred to as a signal transmission line), and the other end of the signal transmission line is a bit. Connected to the line bl1, the common connection point between the output end of the cell inverter 202 and the input end of the cell inverter 203 is connected to one end of the signal transmission line of the transistor 205, and the other end of the signal transmission line is connected to the bit line bl1B. Has been done. The gates of these transistors 204 and 205 are connected to the corresponding word lines. In the case shown, it is connected to the word line wl1. 206 and 206 'are nc for precharging the bit lines bl1 and bl1B.
The h-transistor has its gate connected to the precharge signal line pr1.

【0019】3ポートセル部102はセル208を備
え、このセル208はセルインバータ209,210と
スイッチ用のnchトランジスタ211〜216とから
構成されている。
The 3-port cell unit 102 includes a cell 208, which is composed of cell inverters 209 and 210 and nch transistors 211 to 216 for switching.

【0020】トランジスタ211,212のゲートはワ
ード線wl2に接続されている。セルインバータ209
の入力端とセルインバータ210の出力端との共通接続
点は、トランジスタ211の信号伝送路の一端に接続さ
れ、同信号伝送路の他端は上記セルインバータ202,
203と共通のビット線bl1に接続されている。セル
インバータ209の出力端とセルインバータ210の入
力端との共通接続点はトランジスタ212の信号伝送路
の一端に接続され、同信号伝送路の他端は上記セルイン
バータ202,203と共通のビット線bl1Bに接続
されている。
The gates of the transistors 211 and 212 are connected to the word line wl2. Cell inverter 209
The common connection point between the input end of the cell inverter 210 and the output end of the cell inverter 210 is connected to one end of the signal transmission path of the transistor 211, and the other end of the signal transmission path is connected to the cell inverter 202,
It is connected to the bit line bl1 common to 203. The common connection point between the output end of the cell inverter 209 and the input end of the cell inverter 210 is connected to one end of the signal transmission line of the transistor 212, and the other end of the signal transmission line is a bit line common to the cell inverters 202 and 203. It is connected to bl1B.

【0021】トランジスタ213のゲートにはセルイン
バータ209の入力端とセルインバータ210の出力端
との共通接続点が接続され、トランジスタ214のゲー
トにはセルインバータ209の出力端とセルインバータ
210の入力端との共通接続点が接続されており、これ
らトランジスタ213,214の信号伝送路は互いに直
列に接続されている。トランジスタ215のゲートはワ
ード線wl4に接続され、このトランジスタ215の信
号伝送路の一端はビット線bl2に接続され、他端はト
ランジスタ213の信号伝送路の他端と接続されてい
る。トランジスタ216のゲートはワード線wl3に接
続され、このトランジスタ216の信号伝送路の一端は
ビット線bl2Bに接続され、他端はトランジスタ21
4の他端と接続されている。207,207´はビット
線bl2,bl2Bのプリチャージ用nchトランジス
タであり、それらのゲートはプリチャージ信号線pr2
に接続されている。
A common connection point between the input terminal of the cell inverter 209 and the output terminal of the cell inverter 210 is connected to the gate of the transistor 213, and the output terminal of the cell inverter 209 and the input terminal of the cell inverter 210 are connected to the gate of the transistor 214. And a common connection point with the signal transmission paths of the transistors 213 and 214 are connected in series with each other. The gate of the transistor 215 is connected to the word line wl4, one end of the signal transmission line of the transistor 215 is connected to the bit line bl2, and the other end is connected to the other end of the signal transmission line of the transistor 213. The gate of the transistor 216 is connected to the word line wl3, one end of the signal transmission path of this transistor 216 is connected to the bit line bl2B, and the other end is connected to the transistor 21.
4 is connected to the other end. Reference numerals 207 and 207 'denote nch transistors for precharging the bit lines bl2 and bl2B, and their gates are precharge signal lines pr2.
It is connected to the.

【0022】リード制御部はセンスアンプ217と出力
バッファ218〜221とを含んでいる。センスアンプ
217はビット線bl1,bl1Bのデータをセンスす
るものであり、その出力はバッファ218を介して外部
データバスへ出力される。このバッファ218はトライ
ステートバッファからなり、リードイネーブル信号線r
eによってon/off制御される。出力バッファ21
9,220はインバータにより構成されており、両者は
ビット線bl2において縦続接続されている。出力バッ
ファ221もインバータにより構成されており、ビット
線bl2Bに接続されている。
The read control unit includes a sense amplifier 217 and output buffers 218 to 221. The sense amplifier 217 senses data on the bit lines bl1 and bl1B, and its output is output to the external data bus via the buffer 218. This buffer 218 is composed of a tri-state buffer and has a read enable signal line r.
It is controlled on / off by e. Output buffer 21
Reference numerals 9 and 220 are composed of inverters, and both of them are connected in cascade on a bit line bl2. The output buffer 221 is also composed of an inverter and is connected to the bit line bl2B.

【0023】ライト制御部はライトイネーブル/デセイ
ブル制御用のnchトランジスタ221,222及び入
力バッファ223,224からなっている。トランジス
タ221,222のゲートはライトイネーブル信号線w
eに接続され、ビット線bl2にはトランジスタ221
の信号伝送路の一端が接続され、ビット線bl2Bには
トランジスタ222の信号伝送路の一端が接続されてい
る。バッファ223,224はインバータとして構成さ
れ、両者はバッファ223をライトデータw入力端側に
して縦続接続されている。トランジスタ221の他端は
バッファ224の出力端に接続され、トランジスタ22
2の他端はバッファ223,224の共通接続点に接続
されている。
The write control section comprises nch transistors 221 and 222 for write enable / disable control and input buffers 223 and 224. The gates of the transistors 221 and 222 are write enable signal lines w
transistor 221 connected to the bit line bl2.
One end of the signal transmission path of the transistor 222 is connected to the bit line bl2B. The buffers 223 and 224 are configured as inverters, and both are connected in cascade with the buffer 223 as the write data w input end side. The other end of the transistor 221 is connected to the output end of the buffer 224.
The other end of 2 is connected to the common connection point of the buffers 223 and 224.

【0024】以上のように構成された本実施例のデータ
RAMは次のように動作する。
The data RAM of this embodiment constructed as described above operates as follows.

【0025】プリチャージ信号pr1,pr2、ワード
線wl1〜wl4、re、weは全てアクティブ“H”
である。 [1] データRAMを1ポートとして使いデータのリ
ードを行う場合 プリチャージ信号pr1でビット線bl1,bl1Bを
プリチャージする。プリチャージ後、アドレスA1 によ
りワード線wl1(またはwl2)が選択されアクティ
ブとなる。
Precharge signals pr1 and pr2 and word lines wl1 to wl4, re and we are all active "H".
Is. [1] When data is read by using the data RAM as one port The precharge signal pr1 precharges the bit lines bl1 and bl1B. After precharging, the word line wl1 (or wl2) is selected by the address A1 and becomes active.

【0026】仮に、ワード線wl1 が選択されたとする
と、セル201のトランジスタ204,205がonと
なり、セルインバータ202,203の非反転データ及
び反転データがビット線bl1,bl1Bに送出され、
そのデータがセンスアンプ217で増幅され、リードイ
ネーブル信号線reが“H”になっていることを条件
に、リードデータR1 の1ビットをなすリードデータと
して出力端r1から出力される。
If the word line wl1 is selected, the transistors 204 and 205 of the cell 201 are turned on, and the non-inverted data and the inverted data of the cell inverters 202 and 203 are sent to the bit lines bl1 and bl1B.
The data is amplified by the sense amplifier 217, and is output from the output terminal r1 as read data forming 1 bit of the read data R1 on condition that the read enable signal line re is "H".

【0027】また、ワード線wl2が選択されたとする
と、セル208のトランジスタ209,210の非反転
データ及び反転データがビット線bl1,bl1Bに送
出され、そのデータがセンスアンプ217で増幅され、
リードイネーブル信号線reが“H”になっていること
を条件に出力端r1 からリードデータとして出力され
る。 [2] データRAMを1ポートとして使いデータのラ
イトを行う場合 プリチャージ信号pr1でビット線bl1,bl1Bを
プリチャージする。プリチャージ後、リード時と同様に
アドレスA1 によりワード線wl1(またはwl2)が
選択されアクティブとなる。
If the word line wl2 is selected, the non-inverted data and inverted data of the transistors 209 and 210 of the cell 208 are sent to the bit lines bl1 and bl1B, and the sense amplifier 217 amplifies the data.
It is output as read data from the output terminal r1 on condition that the read enable signal line re is "H". [2] When data is written using the data RAM as one port The bit lines bl1 and bl1B are precharged by the precharge signal pr1. After precharging, the word line wl1 (or wl2) is selected and activated by the address A1 as in the case of reading.

【0028】また、ライトイネーブル信号線weを
“H”とし、入力端wよりライトデータを入力する。す
ると、バッファ223,224によってその非反転デー
タがトランジスタ221を通じてビット線bl1に入力
され、同時にバッファ223によって反転データがビッ
ト線bl1Bに入力される。
Further, the write enable signal line we is set to "H", and the write data is input from the input terminal w. Then, the buffers 223 and 224 input the non-inverted data to the bit line bl1 through the transistor 221, and at the same time, the buffer 223 inputs the inverted data to the bit line bl1B.

【0029】例として、ビット線bl1への入力が
“H”、ビット線bl1Bへの入力が“L”の場合を考
えると、ビット線bl1はプリチャージレベル、つまり
“H”が保持され、ビット線bl1Bはレベルが“L”
に降下する。
As an example, when the input to the bit line bl1 is "H" and the input to the bit line bl1B is "L", the bit line bl1 is held at the precharge level, that is, "H", and the bit The level of line bl1B is "L"
Descend to.

【0030】ここで、ワード線wl1が選択されたとす
ると、セル201のインバータ202の出力が“L”、
インバータ203の出力が“H”で安定するため、セル
201にはビット線bl1側へ“H”、ビット線bl1
B側へ“L”を出力状態が書込まれることとなる。
If the word line wl1 is selected, the output of the inverter 202 of the cell 201 is "L",
Since the output of the inverter 203 is stable at "H", the cell 201 has "H" toward the bit line bl1 side,
The output state of "L" is written to the B side.

【0031】ワード線wl2が選択された場合も同様
に、セル208にはビット線bl1側へ“H”、ビット
線bl1B側へ“L”を出力状態が書込まれることとな
る。 [3] データRAMを3ポートとして使い1ライト、
2リードを同時に行う場合 プリチャージ信号pr1,pr2でビット線bl1,b
l1B,bl2,bl2Bをプリチャージする。
Similarly, when the word line wl2 is selected, "H" is output to the bit line bl1 side and "L" is output to the bit line bl1B side in the cell 208. [3] 1 write using data RAM as 3 ports,
When two reads are performed simultaneously Bit lines bl1 and b with precharge signals pr1 and pr2
Precharge 11b, bl2 and bl2B.

【0032】プリチャージ後、ライトイネーブル信号線
weを“H”とし、入力端wよりライトデータを入力す
る。すると、バッファ223,224によってその非反
転データがトランジスタ221を通じてビット線bl1
に入力され、同時にバッファ223によって反転データ
がビット線bl1Bに入力される。このとき、アドレス
A1 によりワード線wl2が選択されアクティブになる
と、ビット線bl1,bl1Bのデータがwl2で選択
されたセル208にライトされる。
After precharging, the write enable signal line we is set to "H" and the write data is input from the input terminal w. Then, the buffers 223 and 224 cause the non-inverted data to pass through the transistor 221 to the bit line bl1.
To the bit line bl1B by the buffer 223 at the same time. At this time, when the word line wl2 is selected and activated by the address A1, the data on the bit lines bl1 and bl1B is written to the cell 208 selected by wl2.

【0033】同じくプリチャージ後、アドレスA2 ,A
3 によりワード線wl3,wl4が選択され、アクティ
ブとなると、ワード線wl3,wl4で選択されたセル
208のデータがビット線bl2,bl2Bに出力さ
れ、リードデータR2 ,R3 の1ビットを構成するデー
タが出力端子r2,r3端子から出力される。
Similarly, after precharging, addresses A2 and A
When the word lines wl3 and wl4 are selected by 3 and become active, the data of the cell 208 selected by the word lines wl3 and wl4 is output to the bit lines bl2 and bl2B, and the data forming one bit of the read data R2 and R3. Is output from the output terminals r2 and r3.

【0034】以上のように本実施例によれば、それぞれ
相異なる数である1個、3個の各ポートを有するセル部
201,208を有し、これらを共通のビット線bl
1,bl1Bで連結するようにしたため、3ポートセル
部208で必要最小限の同時アクセス容量を確保し、そ
れ以外は1ポートセル部201として構成することで、
ハードウエア資源の増大を抑制しながらポート数の増大
を図ることができることとなる。
As described above, according to the present embodiment, the cell portions 201 and 208 having the respective numbers of 1 and 3 which are different from each other are provided, and these are shared by the common bit line bl.
Since 1 and bl1B are connected, the minimum required simultaneous access capacity is ensured in the 3-port cell unit 208, and the others are configured as the 1-port cell unit 201.
It is possible to increase the number of ports while suppressing an increase in hardware resources.

【0035】次に図3は上記セル部201,208の半
導体基板上へのレイアウト例を示すものである。
Next, FIG. 3 shows an example of the layout of the cell portions 201 and 208 on the semiconductor substrate.

【0036】図示するところから明らかなように、結論
から言うと、図3(b)に示すレイアウトが望ましいこ
ととなる。
As is clear from the drawing, the conclusion is that the layout shown in FIG. 3B is desirable.

【0037】すなわち、1ポートセル部201が形成さ
れる1ポートセル部配置領域301と、3ポートセル部
208が形成される3ポートセル部配置領域302とは
両者共に長方形とされているが、図3(a)に示すレイ
アウトは両領域301,302を共に横長に配置するも
のである。そのため、セル部201の側方に、このセル
201,208の長辺の差寸法とセル部201の短辺寸
法との積に相当するデッドスペースが生じてしまう。
That is, both the 1-port cell part arrangement region 301 in which the 1-port cell part 201 is formed and the 3-port cell part arrangement region 302 in which the 3-port cell part 208 is formed are both rectangular, but FIG. In the layout shown in (), both areas 301 and 302 are arranged horizontally. Therefore, a dead space corresponding to the product of the difference between the long sides of the cells 201 and 208 and the short side of the cell 201 is formed on the side of the cell portion 201.

【0038】そこで、小さい方の1ポートセル部配置領
域301の長辺と大きい方の3ポートセル部配置領域3
02の短辺とを対向させるように、前者301を横長、
後者302を縦長に配置する。このとき、1ポートセル
部配置領域301の長辺と3ポートセル部配置領域30
2の短辺とが同じである場合、理想的で図3(b)に示
すようにデッドスペースが全く生じないこととなる。
Therefore, the longer side of the smaller one-port cell portion arrangement area 301 and the larger three-port cell portion arrangement area 3
The former 301 is horizontally long so that the short side of 02 is opposed to
The latter 302 is arranged vertically. At this time, the long side of the 1-port cell part placement region 301 and the 3-port cell part placement region 30
When the short side of 2 is the same, it is ideal and no dead space occurs as shown in FIG. 3 (b).

【0039】なお、1ポートセル部配置領域301の長
辺と3ポートセル部配置領域302の短辺とが同じでな
くとも、デッドスペース削減の効果は得られる。
Even if the long side of the 1-port cell part arrangement region 301 and the short side of the 3-port cell part arrangement region 302 are not the same, the dead space reduction effect can be obtained.

【0040】また、上記実施例では1ポート及び3ポー
トのセル部を混在させるケースであるが、そのポート数
は任意に決めることができる。また、2種のポートのセ
ル部を混在させるに限らず、ポート数が3種以上のセル
部を混在させるようにしても良い。
In the above embodiment, the case where the cell parts of 1 port and 3 ports are mixed is provided, but the number of ports can be arbitrarily determined. Further, the cell parts of two types of ports are not limited to be mixed, and the cell parts having three or more types of ports may be mixed.

【0041】更に、データRAMの周辺回路として、外
部制御信号によりアドレスデコード方法を変更する機能
を付加することにより、各ポート数のセル部として割当
てるアドレス領域をデータRAM使用中に変更すること
も可能である。つまり、一の処理と他の処理とで3ポー
ト同時アクセスの対象となるアドレス領域が異なってい
る場合でも、外部制御信号の状態によって、異なるアド
レス値でもハードウエア的には同じ場所を指すようにデ
コード方法を変更すればソフトウエア的には異なるアド
レス領域を各ポート数のセル部として割当てることがで
きることとなるのである。
Furthermore, by adding a function of changing the address decoding method by an external control signal as a peripheral circuit of the data RAM, it is possible to change the address area allocated as the cell portion of each port number while the data RAM is in use. Is. That is, even if the address areas targeted for simultaneous 3-port access are different between one process and another process, different address values may point to the same location in terms of hardware depending on the state of the external control signal. By changing the decoding method, it is possible to assign different address areas in terms of software as the cell portion of each port number.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、そ
れぞれ相異なる数であるm個、n個の各ポートを有する
セル部を有し、これらを共通のビット線で連結するよう
にしたため、nポートセル部で必要最小限のポート数を
確保し、それ以外はmポートセル部として構成すること
で、ハードウエア資源の増大を抑制しながらポート数の
増大を図ることができることとなる。
As described above, according to the present invention, there is provided a cell portion having m and n ports which are respectively different numbers, and these are connected by a common bit line. , The n-port cell section secures the required minimum number of ports, and the rest is configured as the m-port cell section, whereby it is possible to increase the number of ports while suppressing an increase in hardware resources.

【0043】また、mポートセル部とnポートセル部と
を少なくとも一辺において同一寸法を持つ矩形領域上に
形成し、その同一寸法の辺同士を対向させ、幅を揃えて
レイアウトすることで、両セルアレイ領域の配置にあた
ってデッドスペースが生ずるのを防ぐことができる。
Further, by forming the m-port cell portion and the n-port cell portion on a rectangular region having the same size on at least one side, and arranging the sides having the same size so as to face each other and arranging the widths to be the same, both cell array regions are formed. It is possible to prevent a dead space from being generated when arranging.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るデータRAMの大略構
成を示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a data RAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すデータRAMのセル部の構成を示す
回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a cell portion of the data RAM shown in FIG.

【図3】図1、2に示すセル部のレイアウト配置例を示
す説明図。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example layout layout of the cell section shown in FIGS.

【図4】従来の複数ポートデータRAMの構成を示すブ
ロック図。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a conventional multi-port data RAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 1ポートセル部 102 3ポートセル部 103 ロウデコーダ 104 カラムデコーダ及びI/Oバッファ 105 リード/ライト制御部 201 1ポートセル部のセル 206,206´,207,207´ ビット線プリチ
ャージ制御用nchトランジスタ 208 3ポートセル部のセル 217 センスアンプ 218〜221 リードデータ出力用バッファ 223,224 ライトデータ入力用バッファ 301 1ポートセル部配置領域 302 3ポートセル部配置領域 R1 ,R2 ,R3 リードデータ W ライトデータ A1 1ポートアクセス用12ビットアドレス A2 ,A3 3ポートアクセス用11ビットアドレス bl1,bl1B 1ポート、3ポートセル部共通のビ
ット線 bl2,bl2B 3ポートセル部用のビット線 pr1,pr2 プリチャージ信号線 r1 ,r2 ,r3 リードデータ出力端 re リードイネーブル信号線 we ライトイネーブル信号線 wl1,wl2,wl3,wl4 ワード線 w ライトデータ入力端
101 1-Port Cell Section 102 3-Port Cell Section 103 Row Decoder 104 Column Decoder and I / O Buffer 105 Read / Write Control Section 201 1-Port Cell Section Cell 206, 206 ′, 207, 207 ′ Bit Line Precharge Control Nch Transistor 208 3 Cell of cell part 217 Sense amplifier 218 to 221 Read data output buffer 223, 224 Write data input buffer 301 1 Port cell part arrangement area 302 3 Port cell part arrangement area R1, R2, R3 Read data W Write data A1 1 port access 12-bit address A2, A3 11-bit address for 3-port access bl1, bl1B 1-port, common bit line for 3-port cell part bl2, bl2B Bit line for 3-port cell part pr1, pr2 Pre Charge signal line r1, r2, r3 read data output end re read enable signal line we write enable signal line wl1, wl2, wl3, wl4 word line w write data input end

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】m(正の整数)個のアクセスポートを有す
るmポートセル部と、 n(mより小さい正の整数)個のアクセスポートを有す
るnポートセル部と、 前記mポートセル部と前記nポートセル部とに共通に接
続される少なくとも1対のビット線とを備えていること
を特徴とする半導体記憶装置。
1. An m-port cell section having m (positive integer) access ports, an n-port cell section having n (a positive integer smaller than m) access ports, the m-port cell section and the n-port cell. And at least one pair of bit lines commonly connected to the semiconductor memory device.
【請求項2】半導体基板上に設けられ、mポートセル部
が形成された第1の矩形領域と、 前記半導体基板上に設けられ、かつ前記第1の矩形領域
の短辺とその長辺とが対向するようにレイアウト配置さ
れ、nポートセル部が形成された第2の矩形領域とを備
えていることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装
置。
2. A first rectangular area provided on a semiconductor substrate in which an m port cell portion is formed, and a short side and a long side of the first rectangular area provided on the semiconductor substrate. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a second rectangular region in which the layout is arranged so as to face each other and an n-port cell portion is formed.
【請求項3】第1の矩形領域の短辺と第2の矩形領域の
長辺とが同一寸法とされていることを特徴とする請求項
2記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the short side of the first rectangular area and the long side of the second rectangular area have the same size.
JP5138498A 1993-06-10 1993-06-10 Semiconductor memory Pending JPH06349275A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5138498A JPH06349275A (en) 1993-06-10 1993-06-10 Semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5138498A JPH06349275A (en) 1993-06-10 1993-06-10 Semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06349275A true JPH06349275A (en) 1994-12-22

Family

ID=15223529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5138498A Pending JPH06349275A (en) 1993-06-10 1993-06-10 Semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06349275A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4400767A1 (en) * 1994-01-13 1995-07-20 Lohmann Therapie Syst Lts Method and device for dosing flowable preparations
US7024524B2 (en) 2002-12-10 2006-04-04 Renesas Technology Corp. Semiconductor storage

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4400767A1 (en) * 1994-01-13 1995-07-20 Lohmann Therapie Syst Lts Method and device for dosing flowable preparations
US7024524B2 (en) 2002-12-10 2006-04-04 Renesas Technology Corp. Semiconductor storage

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5305280A (en) Semiconductor memory device having on the same chip a plurality of memory circuits among which data transfer is performed to each other and an operating method thereof
US7289372B1 (en) Dual-port memory array using shared write drivers and read sense amplifiers
JPH09265775A (en) Semiconductor storage device
US3968480A (en) Memory cell
US5229971A (en) Semiconductor memory device
JPS6128198B2 (en)
JPH0485788A (en) Multi-port cache memory
JPH0464991A (en) Semiconductor memory
US5796659A (en) Semiconductor memory device
JPH06349275A (en) Semiconductor memory
JPS5954096A (en) Dynamic mosram
JP2004110887A (en) Data reading circuit of semiconductor device and data reading method
US6219296B1 (en) Multiport memory cell having a reduced number of write wordlines
JPS63300492A (en) Semiconductor memory device
JPH1021687A (en) Semiconductor memory device
JPS6356897A (en) Memory-mounted gate array
US6717882B1 (en) Cell circuit for multiport memory using 3-way multiplexer
JPH056685A (en) Read-only semiconductor memory
JPH0514359B2 (en)
US6278646B1 (en) Multi-array memory device, and associated method, having shared decoder circuitry
US6868033B2 (en) Dual array read port functionality from a one port SRAM
JP3076056B2 (en) Multi-port memory
JPH0713859B2 (en) Multiport memory device
JPH01112592A (en) Semiconductor storage device
GB2361340A (en) Read out for a multi-port memory

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20011026