JPH0634218A - 極低温冷凍機 - Google Patents
極低温冷凍機Info
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- JPH0634218A JPH0634218A JP18704992A JP18704992A JPH0634218A JP H0634218 A JPH0634218 A JP H0634218A JP 18704992 A JP18704992 A JP 18704992A JP 18704992 A JP18704992 A JP 18704992A JP H0634218 A JPH0634218 A JP H0634218A
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- chamber
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- suction
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、極低温冷凍機において、油圧を用
いることなく駆動ピストンの制御や吸入,吐出弁の切替
制御を行えるようにすることを目的とする。 【構成】 圧縮機と膨張空間とを吸入/吐出切替弁を介
して連通させると共に、膨張空間の容積を駆動ピストン
により駆動されるディスプレーサによって可変とし、駆
動ピストンの上下空間に信号圧力切替機構を介して圧縮
機の吸入圧と吐出圧を交互に導入すると共に、信号圧力
切替機構の出力する第1,第2信号圧力に基づいて吸入
/吐出切替弁を切替制御した。尚、信号圧力切替機構
は、駆動ピストンの上死点および下死点において、出力
する第1,第2信号圧力を圧縮機の吸入圧と吐出圧のい
ずれかに切替設定する。
いることなく駆動ピストンの制御や吸入,吐出弁の切替
制御を行えるようにすることを目的とする。 【構成】 圧縮機と膨張空間とを吸入/吐出切替弁を介
して連通させると共に、膨張空間の容積を駆動ピストン
により駆動されるディスプレーサによって可変とし、駆
動ピストンの上下空間に信号圧力切替機構を介して圧縮
機の吸入圧と吐出圧を交互に導入すると共に、信号圧力
切替機構の出力する第1,第2信号圧力に基づいて吸入
/吐出切替弁を切替制御した。尚、信号圧力切替機構
は、駆動ピストンの上死点および下死点において、出力
する第1,第2信号圧力を圧縮機の吸入圧と吐出圧のい
ずれかに切替設定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、極低温冷凍機に関する
ものであり、例えばギフォードマクマホンサイクル式冷
凍機に適用できる。
ものであり、例えばギフォードマクマホンサイクル式冷
凍機に適用できる。
【0002】
【従来の技術】本発明に係わる従来技術として、例えば
特開平1−33476号公報に開示された「SQUID
用冷凍機の駆動装置」がある。この従来技術を図10に
基づいて説明すると、ディスプレーサ201はロッド2
02を介して駆動ピストン203によって往復駆動され
る。ここで、駆動ピストン203の両側空間204,2
05には高油圧が油圧制御弁206を介して交互に供給
される。また、シリンダ207内にディスプレーサ20
1によって画定される膨張空間208,209および空
間210は、図示しない圧縮機と吸入弁211および吐
出弁212を介して連通される。この吸入弁211およ
び吐出弁212にも、高油圧が油圧制御弁206を介し
て交互に供給されて、交互に開閉制御される。
特開平1−33476号公報に開示された「SQUID
用冷凍機の駆動装置」がある。この従来技術を図10に
基づいて説明すると、ディスプレーサ201はロッド2
02を介して駆動ピストン203によって往復駆動され
る。ここで、駆動ピストン203の両側空間204,2
05には高油圧が油圧制御弁206を介して交互に供給
される。また、シリンダ207内にディスプレーサ20
1によって画定される膨張空間208,209および空
間210は、図示しない圧縮機と吸入弁211および吐
出弁212を介して連通される。この吸入弁211およ
び吐出弁212にも、高油圧が油圧制御弁206を介し
て交互に供給されて、交互に開閉制御される。
【0003】ところが、以上のような従来技術の「SQ
UID用冷凍機の駆動装置」では、油圧を用いて駆動ピ
ストン203や吸入弁211および吐出弁212を制御
しているため、油圧シールを非常に高精度に保つ必要が
あり、油圧シール不良時にはSQUID用冷凍機の作動
不良が発生するおそれがある。
UID用冷凍機の駆動装置」では、油圧を用いて駆動ピ
ストン203や吸入弁211および吐出弁212を制御
しているため、油圧シールを非常に高精度に保つ必要が
あり、油圧シール不良時にはSQUID用冷凍機の作動
不良が発生するおそれがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明では、
極低温冷凍機において、油圧を用いることなく駆動ピス
トンの制御や吸入,吐出弁の切替制御を行えるようにす
ることを、その技術的課題とする。
極低温冷凍機において、油圧を用いることなく駆動ピス
トンの制御や吸入,吐出弁の切替制御を行えるようにす
ることを、その技術的課題とする。
【0005】
【0006】
【課題を解決するための手段】前述した本発明の技術的
課題を解決するために講じた本発明の技術的手段は、圧
縮機と、圧縮機と吸入/吐出切替弁を介して連通する膨
張空間と、膨張空間の容積を可変とするディスプレーサ
と、ディスプレーサとロッドを介して連結される駆動ピ
ストンとを有する極低温冷凍機において、信号圧力切替
機構は、駆動ピストンの上死点および下死点において、
出力する第1,第2信号圧力を圧縮機の吸入圧と吐出圧
のいずれかに切替設定し、駆動ピストンの上下空間に、
信号圧力切替機構を介して圧縮機の吸入圧と吐出圧を交
互に導入すると共に、信号圧力切替機構の出力する第
1,第2信号圧力に基づいて吸入/吐出切替弁を切替制
御したことである。
課題を解決するために講じた本発明の技術的手段は、圧
縮機と、圧縮機と吸入/吐出切替弁を介して連通する膨
張空間と、膨張空間の容積を可変とするディスプレーサ
と、ディスプレーサとロッドを介して連結される駆動ピ
ストンとを有する極低温冷凍機において、信号圧力切替
機構は、駆動ピストンの上死点および下死点において、
出力する第1,第2信号圧力を圧縮機の吸入圧と吐出圧
のいずれかに切替設定し、駆動ピストンの上下空間に、
信号圧力切替機構を介して圧縮機の吸入圧と吐出圧を交
互に導入すると共に、信号圧力切替機構の出力する第
1,第2信号圧力に基づいて吸入/吐出切替弁を切替制
御したことである。
【0007】
【作用】上述した本発明の技術的手段によれば、駆動ピ
ストンの上下空間に信号圧力切替機構を介して交互に導
入される圧縮機の吸入圧と吐出圧によって駆動ピストン
が往復動し、同時にディスプレーサが往復駆動される。
また、信号圧力切替機構が出力する第1,第2信号圧力
によって吸入/吐出切替弁を切替制御し、膨張空間に圧
縮機の吸入圧と吐出圧が交互に導入される。
ストンの上下空間に信号圧力切替機構を介して交互に導
入される圧縮機の吸入圧と吐出圧によって駆動ピストン
が往復動し、同時にディスプレーサが往復駆動される。
また、信号圧力切替機構が出力する第1,第2信号圧力
によって吸入/吐出切替弁を切替制御し、膨張空間に圧
縮機の吸入圧と吐出圧が交互に導入される。
【0008】
【実施例】以下、本発明の技術的手段を具体化した実施
例について添付図面に基づいて説明する。
例について添付図面に基づいて説明する。
【0009】図1に示すギフォードマクマホン式の極低
温冷凍機10において、圧縮機11は弁機構12を介し
て空間13と連通している。更に、この空間13は第1
蓄冷器14を介して第1膨張空間(膨張空間)15と連
通し、第1膨張空間15は第2蓄冷器16を介して第2
膨張空間(膨張空間)17と連通している。以上に示し
た系内には例えばヘリウムガス等の冷媒ガスが封入され
ている。また、空間13,第1膨張空間15および第2
膨張空間17は2段形のシリンダ20と2段形のディス
プレーサピストン(ディスプレーサ)21とによって区
画形成され、第1蓄冷器14および第2蓄冷器16はデ
ィスプレーサピストン21内に一体的に配設されてい
る。また、ディスプレーサピストン21はロッド26を
介して駆動機構22によって往復動され、この駆動機構
22は圧縮機11の吸入,吐出する冷媒ガスの差圧によ
って駆動力を発生するものである。尚、圧縮機11と弁
機構12とは吐出管23および吸入管24を介して接続
され、弁機構12と空間13とは接続管25を介して接
続されている。
温冷凍機10において、圧縮機11は弁機構12を介し
て空間13と連通している。更に、この空間13は第1
蓄冷器14を介して第1膨張空間(膨張空間)15と連
通し、第1膨張空間15は第2蓄冷器16を介して第2
膨張空間(膨張空間)17と連通している。以上に示し
た系内には例えばヘリウムガス等の冷媒ガスが封入され
ている。また、空間13,第1膨張空間15および第2
膨張空間17は2段形のシリンダ20と2段形のディス
プレーサピストン(ディスプレーサ)21とによって区
画形成され、第1蓄冷器14および第2蓄冷器16はデ
ィスプレーサピストン21内に一体的に配設されてい
る。また、ディスプレーサピストン21はロッド26を
介して駆動機構22によって往復動され、この駆動機構
22は圧縮機11の吸入,吐出する冷媒ガスの差圧によ
って駆動力を発生するものである。尚、圧縮機11と弁
機構12とは吐出管23および吸入管24を介して接続
され、弁機構12と空間13とは接続管25を介して接
続されている。
【0010】図2において、弁機構12および駆動機構
22を詳しく説明すると、まず、弁機構12は第1弁機
構部30,第2弁機構部50および第3弁機構部70か
ら構成される。
22を詳しく説明すると、まず、弁機構12は第1弁機
構部30,第2弁機構部50および第3弁機構部70か
ら構成される。
【0011】第1弁機構部30において、吐出管23と
連通する高圧室31と吸入管24と連通する低圧室32
のいずれかを、接続管25と連通する室33と選択的に
連通するように室33内に弁体(吸入/吐出切替弁)3
4が摺接して収容されている。弁体34はロッド35,
36を介してピストン37,38と連結されている。
連通する高圧室31と吸入管24と連通する低圧室32
のいずれかを、接続管25と連通する室33と選択的に
連通するように室33内に弁体(吸入/吐出切替弁)3
4が摺接して収容されている。弁体34はロッド35,
36を介してピストン37,38と連結されている。
【0012】ピストン37,38はシリンダ39,40
内を摺接するもので、ピストン37によってシリンダ3
9内が室41,42に区画され、ピストン38によって
シリンダ40内が室43,44に区画されている。ここ
で、室41は高圧室31と常時連通し、室43は低圧室
32と常時連通している。
内を摺接するもので、ピストン37によってシリンダ3
9内が室41,42に区画され、ピストン38によって
シリンダ40内が室43,44に区画されている。ここ
で、室41は高圧室31と常時連通し、室43は低圧室
32と常時連通している。
【0013】第2弁機構部50において、吐出管23と
連通する高圧室51と吸入管24と連通する低圧室52
のいずれかを、信号圧管53と連通する室54と選択的
に連通するように室54内に弁体55が摺接して収容さ
れている。尚、信号圧管53に導入される圧力を第1信
号圧力とする。弁体55の図示上端はロッド56を介し
てピストン57と連結され、弁体55の図示下端はロッ
ド58が固設されている。ピストン57はシリンダ59
内を摺接するもので、ピストン57によってシリンダ5
9内が室60,61に区画され、室61に配設されたス
プリング62はピストン57を図示下方へと付勢してい
る。しかし、スプリング62は弁体55の初期位置を設
定するためにだけ必要とされているので、その付勢力は
小さく作動時における影響は無視できる。ここで、室6
0は低圧室52と常時連通している。また、室61には
信号圧管63の一端が接続されている。
連通する高圧室51と吸入管24と連通する低圧室52
のいずれかを、信号圧管53と連通する室54と選択的
に連通するように室54内に弁体55が摺接して収容さ
れている。尚、信号圧管53に導入される圧力を第1信
号圧力とする。弁体55の図示上端はロッド56を介し
てピストン57と連結され、弁体55の図示下端はロッ
ド58が固設されている。ピストン57はシリンダ59
内を摺接するもので、ピストン57によってシリンダ5
9内が室60,61に区画され、室61に配設されたス
プリング62はピストン57を図示下方へと付勢してい
る。しかし、スプリング62は弁体55の初期位置を設
定するためにだけ必要とされているので、その付勢力は
小さく作動時における影響は無視できる。ここで、室6
0は低圧室52と常時連通している。また、室61には
信号圧管63の一端が接続されている。
【0014】第3弁機構部70において、吐出管23と
連通する高圧室71と吸入管24と連通する低圧室72
のいずれかを、信号圧管73と連通する室74と選択的
に連通するように室74内に弁体75が摺接して収容さ
れている。尚、信号圧管73に導入される圧力を第2信
号圧力とする。弁体75の図示下端はロッド76を介し
てピストン77と連結され、弁体75の図示上端はロッ
ド78が固設されている。ピストン77はシリンダ79
内を摺接するもので、ピストン77によってシリンダ7
9内が室80,81に区画され、室81に配設されたス
プリング82はピストン77を図示下方へと付勢してい
る。しかし、スプリング82は弁体75の初期位置を設
定するためにだけ必要とされているので、その付勢力は
小さく作動時における影響は無視できる。ここで、室8
1は低圧室72と常時連通している。また、室80には
信号圧管83の一端が接続されている。
連通する高圧室71と吸入管24と連通する低圧室72
のいずれかを、信号圧管73と連通する室74と選択的
に連通するように室74内に弁体75が摺接して収容さ
れている。尚、信号圧管73に導入される圧力を第2信
号圧力とする。弁体75の図示下端はロッド76を介し
てピストン77と連結され、弁体75の図示上端はロッ
ド78が固設されている。ピストン77はシリンダ79
内を摺接するもので、ピストン77によってシリンダ7
9内が室80,81に区画され、室81に配設されたス
プリング82はピストン77を図示下方へと付勢してい
る。しかし、スプリング82は弁体75の初期位置を設
定するためにだけ必要とされているので、その付勢力は
小さく作動時における影響は無視できる。ここで、室8
1は低圧室72と常時連通している。また、室80には
信号圧管83の一端が接続されている。
【0015】駆動機構22において、シリンダ90内に
はロッド26が固設されるピストン(駆動ピストン)9
1が摺動可能に配設され図示上下方向に往復動する。シ
リンダ90内はピストン91によって室92,93に区
画され、室92には前述のロッド58の下端が出没可能
とされ、室93には前述のロッド78の上端が出没可能
とされている。また、ピストン91の上下端面にはダン
パ94,95が配設されている。
はロッド26が固設されるピストン(駆動ピストン)9
1が摺動可能に配設され図示上下方向に往復動する。シ
リンダ90内はピストン91によって室92,93に区
画され、室92には前述のロッド58の下端が出没可能
とされ、室93には前述のロッド78の上端が出没可能
とされている。また、ピストン91の上下端面にはダン
パ94,95が配設されている。
【0016】信号圧管53は、室54と室42と連通す
ると共に、室54と室92とをオリフィス100を介し
て連通し、さらに室54と室80とを信号圧管83を介
して連通する。また、信号圧管73は、室74と室44
と連通すると共に、室74と室93とをオリフィス10
1を介して連通し、さらに室74と室61とを信号圧管
63を介して連通する。
ると共に、室54と室92とをオリフィス100を介し
て連通し、さらに室54と室80とを信号圧管83を介
して連通する。また、信号圧管73は、室74と室44
と連通すると共に、室74と室93とをオリフィス10
1を介して連通し、さらに室74と室61とを信号圧管
63を介して連通する。
【0017】尚、110,111,112,113,1
14,115はシールリングをそれぞれ示す。また、第
2弁機構部50および第3弁機構部70から信号圧力切
替機構が構成される。
14,115はシールリングをそれぞれ示す。また、第
2弁機構部50および第3弁機構部70から信号圧力切
替機構が構成される。
【0018】以上の構成を有する極低温冷凍機10の作
動について説明する。ギフォードマクマホン式の極低温
冷凍機10は、シリンダ20内において図4乃至図9の
状態変化を1サイクルとして繰り返す。まず、図4から
図5への状態変化は、弁体34が室33内を図示右端か
ら図示左端へと移動し、空間13と連通している接続管
25が吐出管23と連通するようになったときを示す。
この状態変化によって、空間13,第1膨張空間15お
よび第2膨張空間17に高圧の冷媒ガスが供給され、シ
リンダ20内全体の内部圧力は、図4の低圧状態から図
5の高圧状態へと移行する。また、このとき、ディスプ
レーサピストン21は図示上方へと向かって移動し、図
5の状態ではディスプレーサピストン21が略上死点に
位置する。
動について説明する。ギフォードマクマホン式の極低温
冷凍機10は、シリンダ20内において図4乃至図9の
状態変化を1サイクルとして繰り返す。まず、図4から
図5への状態変化は、弁体34が室33内を図示右端か
ら図示左端へと移動し、空間13と連通している接続管
25が吐出管23と連通するようになったときを示す。
この状態変化によって、空間13,第1膨張空間15お
よび第2膨張空間17に高圧の冷媒ガスが供給され、シ
リンダ20内全体の内部圧力は、図4の低圧状態から図
5の高圧状態へと移行する。また、このとき、ディスプ
レーサピストン21は図示上方へと向かって移動し、図
5の状態ではディスプレーサピストン21が略上死点に
位置する。
【0019】図5から図6を介する図7への状態変化
は、ディスプレーサピストン21が図示下方へと向かっ
て移動し、第1膨張空間15および第2膨張空間17の
容積が拡大しながら、シリンダ20内全体の内部圧力が
高圧状態に保たれるときを示す。また、この状態変化の
際、空間13内の冷媒ガスは第1蓄冷器14を介して予
冷された上で第1膨張空間15に移動し、第1膨張空間
15内の冷媒ガスは第2蓄冷器16を介して予冷された
上で第2膨張空間17に移動する。
は、ディスプレーサピストン21が図示下方へと向かっ
て移動し、第1膨張空間15および第2膨張空間17の
容積が拡大しながら、シリンダ20内全体の内部圧力が
高圧状態に保たれるときを示す。また、この状態変化の
際、空間13内の冷媒ガスは第1蓄冷器14を介して予
冷された上で第1膨張空間15に移動し、第1膨張空間
15内の冷媒ガスは第2蓄冷器16を介して予冷された
上で第2膨張空間17に移動する。
【0020】そして、図7から図8への状態変化は、弁
体34が室33内を図示左端から図示右端へと移動し、
空間13と連通している接続管25が吸入管24と連通
するようになったときを示す。この状態変化によって、
シリンダ内全体の内部圧力は、図7の高圧状態から図8
の低圧状態へと移行し、即ち膨張するので各膨張空間1
5,17に配設されたコールドヘッドにて冷凍を出力す
る。また、図8の状態ではディスプレーサピストン21
が略下死点に位置する。
体34が室33内を図示左端から図示右端へと移動し、
空間13と連通している接続管25が吸入管24と連通
するようになったときを示す。この状態変化によって、
シリンダ内全体の内部圧力は、図7の高圧状態から図8
の低圧状態へと移行し、即ち膨張するので各膨張空間1
5,17に配設されたコールドヘッドにて冷凍を出力す
る。また、図8の状態ではディスプレーサピストン21
が略下死点に位置する。
【0021】図8から図9を介する図4への状態変化
は、ディスプレーサピストン21が図示上方へと向かっ
て移動し、第1膨張空間15および第2膨張空間17の
容積が縮小しながら、シリンダ20内全体の内部圧力が
低圧状態に保たれるときを示す。また、この状態変化の
際、第2膨張空間17内の冷媒ガスは第2蓄冷機16を
冷却して第1膨張空間15に移動し、第1膨張空間15
内の冷媒ガスは第1冷却器14を冷却して空間13に移
動する。
は、ディスプレーサピストン21が図示上方へと向かっ
て移動し、第1膨張空間15および第2膨張空間17の
容積が縮小しながら、シリンダ20内全体の内部圧力が
低圧状態に保たれるときを示す。また、この状態変化の
際、第2膨張空間17内の冷媒ガスは第2蓄冷機16を
冷却して第1膨張空間15に移動し、第1膨張空間15
内の冷媒ガスは第1冷却器14を冷却して空間13に移
動する。
【0022】次に、図2乃至図3に戻って吸入/吐出切
替弁,信号圧力切替機構および駆動ピストンの各部の作
動について説明する。
替弁,信号圧力切替機構および駆動ピストンの各部の作
動について説明する。
【0023】図2の状態は図9の状態を示し、駆動ピス
トン91が上昇する途中であって、空間13が吸入管2
4と連通するように弁体34は室33内において図示右
端に位置している。ここで、第2弁機構部50では、室
61内の高圧冷媒ガスとスプリング62の付勢力に基づ
いて弁体55が室54の図示下端に位置し、信号圧管5
3は吸入管24と連通して低圧冷媒ガスが導入された状
態となっている。この低圧冷媒ガスはオリフィス100
を介して室92に導入されると共に、室42および室8
0にも導入されている。尚、ロッド58の図示下端は室
92内に突出している。一方、第3弁機構部70では、
室74内の高圧冷媒ガスとスプリング82の付勢力に基
づいて弁体75が室74の図示下端に位置し、信号圧管
73は吐出管23と連通して高圧冷媒ガスが導入された
状態となっている。この高圧冷媒ガスはオリフィス10
1を介して室93に導入されると共に、室44および室
61にも導入されている。尚、ロッド78の図示上端は
室93内から没している。
トン91が上昇する途中であって、空間13が吸入管2
4と連通するように弁体34は室33内において図示右
端に位置している。ここで、第2弁機構部50では、室
61内の高圧冷媒ガスとスプリング62の付勢力に基づ
いて弁体55が室54の図示下端に位置し、信号圧管5
3は吸入管24と連通して低圧冷媒ガスが導入された状
態となっている。この低圧冷媒ガスはオリフィス100
を介して室92に導入されると共に、室42および室8
0にも導入されている。尚、ロッド58の図示下端は室
92内に突出している。一方、第3弁機構部70では、
室74内の高圧冷媒ガスとスプリング82の付勢力に基
づいて弁体75が室74の図示下端に位置し、信号圧管
73は吐出管23と連通して高圧冷媒ガスが導入された
状態となっている。この高圧冷媒ガスはオリフィス10
1を介して室93に導入されると共に、室44および室
61にも導入されている。尚、ロッド78の図示上端は
室93内から没している。
【0024】従って、駆動ピストン91の上部空間であ
る室92には低圧冷媒ガスが導入され、下部空間である
室93には高圧冷媒ガスが導入されているので、その差
圧によって駆動ピストン91は上昇する。また、室42
に低圧冷媒ガスが導入され、室44に高圧冷媒ガスが導
入されているので、その差圧によって弁体34は室33
内において図示右端に位置している。尚、第2弁機構部
50において、室61に導入された高圧冷媒ガスを受け
るピストン57の受圧面積は、室51に導入された高圧
冷媒ガスを受ける弁体55の受圧面積よりも大きいた
め、駆動ピストン91がロッド58の図示下端を押し上
げはじめるまでは、弁体55は室54内において図示下
端に位置する。一方、第3弁機構部70において、室7
1と連通する室74の弁体75上側に高圧冷媒ガスが導
入され、室80に低圧冷媒ガスが導入されているので、
後に室80に高圧冷媒ガスが導入されるまでは、その差
圧によって弁体75は室74内において図示下端に位置
する。
る室92には低圧冷媒ガスが導入され、下部空間である
室93には高圧冷媒ガスが導入されているので、その差
圧によって駆動ピストン91は上昇する。また、室42
に低圧冷媒ガスが導入され、室44に高圧冷媒ガスが導
入されているので、その差圧によって弁体34は室33
内において図示右端に位置している。尚、第2弁機構部
50において、室61に導入された高圧冷媒ガスを受け
るピストン57の受圧面積は、室51に導入された高圧
冷媒ガスを受ける弁体55の受圧面積よりも大きいた
め、駆動ピストン91がロッド58の図示下端を押し上
げはじめるまでは、弁体55は室54内において図示下
端に位置する。一方、第3弁機構部70において、室7
1と連通する室74の弁体75上側に高圧冷媒ガスが導
入され、室80に低圧冷媒ガスが導入されているので、
後に室80に高圧冷媒ガスが導入されるまでは、その差
圧によって弁体75は室74内において図示下端に位置
する。
【0025】そして、駆動ピストン91の上昇に伴って
その図示上面がロッド58の図示下端を押し上げると、
弁体55は室54内において図示上方へと移動をはじ
め、信号圧管53は直ちに吐出管23と連通して高圧状
態となる。この結果、室42および室80が高圧とな
る。すると、ピストン77の受圧面積は弁体75の受圧
面積よりも大きいため、弁体75は室74内において図
示上方へと移動をはじめ、信号圧管73は直ちに吸入管
24と連通して低圧状態となる。この結果、室44およ
び室62が低圧となる。従って、室44に低圧冷媒ガス
が導入され、室42に高圧冷媒ガスが導入されるので、
その差圧によって弁体34は室33内において図示左端
へと移動する。このため、空間13は吸入管24との連
通を妨げられ吐出管23と連通する。尚、オリフィス1
00によって室92への高圧導入は遅れを生じるため、
しばらくの間室92内は低圧状態のままであり、オリフ
ィス101によって室93への低圧導入は遅れを生じる
ため、しばらくの間室93内は高圧状態のままである。
従って、駆動ピストン91は上死点まで移動した後、室
92には高圧冷媒ガスが導入され、室93には低圧冷媒
ガスが導入されるので、その差圧によって駆動ピストン
91は下降をはじめる。このようにして、図9,図4,
図5,図6の状態変化が起こる。尚、図3の状態は図6
の状態を示し、駆動ピストン91が下降する途中であ
る。
その図示上面がロッド58の図示下端を押し上げると、
弁体55は室54内において図示上方へと移動をはじ
め、信号圧管53は直ちに吐出管23と連通して高圧状
態となる。この結果、室42および室80が高圧とな
る。すると、ピストン77の受圧面積は弁体75の受圧
面積よりも大きいため、弁体75は室74内において図
示上方へと移動をはじめ、信号圧管73は直ちに吸入管
24と連通して低圧状態となる。この結果、室44およ
び室62が低圧となる。従って、室44に低圧冷媒ガス
が導入され、室42に高圧冷媒ガスが導入されるので、
その差圧によって弁体34は室33内において図示左端
へと移動する。このため、空間13は吸入管24との連
通を妨げられ吐出管23と連通する。尚、オリフィス1
00によって室92への高圧導入は遅れを生じるため、
しばらくの間室92内は低圧状態のままであり、オリフ
ィス101によって室93への低圧導入は遅れを生じる
ため、しばらくの間室93内は高圧状態のままである。
従って、駆動ピストン91は上死点まで移動した後、室
92には高圧冷媒ガスが導入され、室93には低圧冷媒
ガスが導入されるので、その差圧によって駆動ピストン
91は下降をはじめる。このようにして、図9,図4,
図5,図6の状態変化が起こる。尚、図3の状態は図6
の状態を示し、駆動ピストン91が下降する途中であ
る。
【0026】図3の状態では、駆動ピストン91が下降
する途中であって、空間13が吐出管23と連通するよ
うに弁体34は室33内において図示左端に位置してい
る。
する途中であって、空間13が吐出管23と連通するよ
うに弁体34は室33内において図示左端に位置してい
る。
【0027】ここで、第2弁機構部50では、室54内
の弁体55下側の高圧冷媒ガスの付勢力に基づいて弁体
55が室54の図示上端に位置し、信号圧管53は吐出
管23と連通して高圧冷媒ガスが導入された状態となっ
ている。この高圧冷媒ガスはオリフィス100を介して
室92に導入されると共に、室42および室80にも導
入されている。尚、ロッド58の図示下端は室92内か
ら没している。一方、第3弁機構部70では、室80内
の高圧冷媒ガスの付勢力に基づいて弁体75が室74の
図示上端に位置し、信号圧管73は吸入管24と連通し
て低圧冷媒ガスが導入された状態となっている。この低
圧冷媒ガスはオリフィス101を介して室93に導入さ
れると共に、室44および室61にも導入されている。
尚、ロッド78の図示上端は室93内に突出している。
の弁体55下側の高圧冷媒ガスの付勢力に基づいて弁体
55が室54の図示上端に位置し、信号圧管53は吐出
管23と連通して高圧冷媒ガスが導入された状態となっ
ている。この高圧冷媒ガスはオリフィス100を介して
室92に導入されると共に、室42および室80にも導
入されている。尚、ロッド58の図示下端は室92内か
ら没している。一方、第3弁機構部70では、室80内
の高圧冷媒ガスの付勢力に基づいて弁体75が室74の
図示上端に位置し、信号圧管73は吸入管24と連通し
て低圧冷媒ガスが導入された状態となっている。この低
圧冷媒ガスはオリフィス101を介して室93に導入さ
れると共に、室44および室61にも導入されている。
尚、ロッド78の図示上端は室93内に突出している。
【0028】従って、駆動ピストン91の上部空間であ
る室92には高圧冷媒ガスが導入され、下部空間である
室93には低圧冷媒ガスが導入されているので、その差
圧によって駆動ピストン91は下降する。また、室44
に低圧冷媒ガスが導入され、室42に高圧冷媒ガスが導
入されているので、その差圧によって弁体34は室33
内において図示左端に位置している。尚、第2弁機構部
50において、室51と連通する室54の弁体55下側
に高圧冷媒ガスが導入され、室61に低圧冷媒ガスが導
入されているので、後に室61に高圧冷媒ガスが導入さ
れるまでは、その差圧によって弁体55は室54内にお
いて図示上端に位置する。一方、第3弁機構部70にお
いて、室80に導入された高圧冷媒ガスを受けるピスト
ン77の受圧面積は、室71に導入された高圧冷媒ガス
を受ける弁体75の受圧面積よりも大きいため、駆動ピ
ストン91がロッド78の図示上端を押し下げはじめる
までは、弁体75は室74内において図示上端に位置す
る。
る室92には高圧冷媒ガスが導入され、下部空間である
室93には低圧冷媒ガスが導入されているので、その差
圧によって駆動ピストン91は下降する。また、室44
に低圧冷媒ガスが導入され、室42に高圧冷媒ガスが導
入されているので、その差圧によって弁体34は室33
内において図示左端に位置している。尚、第2弁機構部
50において、室51と連通する室54の弁体55下側
に高圧冷媒ガスが導入され、室61に低圧冷媒ガスが導
入されているので、後に室61に高圧冷媒ガスが導入さ
れるまでは、その差圧によって弁体55は室54内にお
いて図示上端に位置する。一方、第3弁機構部70にお
いて、室80に導入された高圧冷媒ガスを受けるピスト
ン77の受圧面積は、室71に導入された高圧冷媒ガス
を受ける弁体75の受圧面積よりも大きいため、駆動ピ
ストン91がロッド78の図示上端を押し下げはじめる
までは、弁体75は室74内において図示上端に位置す
る。
【0029】そして、駆動ピストン91の下降に伴って
その図示下面がロッド78の図示上端を押し下げると、
弁体75は室74内において図示下方へと移動をはじ
め、信号圧管73は直ちに吐出管23と連通して高圧状
態となる。この結果、室44および室61が高圧とな
る。すると、ピストン57が室61内の高圧冷媒ガスの
付勢力を受け、弁体55は室54内において図示下方へ
と移動をはじめ、信号圧管53は直ちに吸入管24と連
通して低圧状態となる。この結果、室42および室80
が低圧となる。従って、室42に低圧冷媒ガスが導入さ
れ、室44に高圧冷媒ガスが導入されるので、その差圧
によって弁体34は室33内において図示右端へと移動
する。このため、空間13は吐出管23との連通を妨げ
られ吸入管24と連通する。尚、オリフィス100によ
って室92への低圧導入は遅れを生じるため、しばらく
の間室92内は高圧状態のままであり、オリフィス10
1によって室93への高圧導入は遅れを生じるため、し
ばらくの間室93内は低圧状態のままである。従って、
駆動ピストン91は下死点まで移動した後、室92には
低圧冷媒ガスが導入され、室93には高圧冷媒ガスが導
入されるので、その差圧によって駆動ピストン91は上
昇をはじめる。このようにして、図6,図7,図8,図
9の状態変化が起こる。
その図示下面がロッド78の図示上端を押し下げると、
弁体75は室74内において図示下方へと移動をはじ
め、信号圧管73は直ちに吐出管23と連通して高圧状
態となる。この結果、室44および室61が高圧とな
る。すると、ピストン57が室61内の高圧冷媒ガスの
付勢力を受け、弁体55は室54内において図示下方へ
と移動をはじめ、信号圧管53は直ちに吸入管24と連
通して低圧状態となる。この結果、室42および室80
が低圧となる。従って、室42に低圧冷媒ガスが導入さ
れ、室44に高圧冷媒ガスが導入されるので、その差圧
によって弁体34は室33内において図示右端へと移動
する。このため、空間13は吐出管23との連通を妨げ
られ吸入管24と連通する。尚、オリフィス100によ
って室92への低圧導入は遅れを生じるため、しばらく
の間室92内は高圧状態のままであり、オリフィス10
1によって室93への高圧導入は遅れを生じるため、し
ばらくの間室93内は低圧状態のままである。従って、
駆動ピストン91は下死点まで移動した後、室92には
低圧冷媒ガスが導入され、室93には高圧冷媒ガスが導
入されるので、その差圧によって駆動ピストン91は上
昇をはじめる。このようにして、図6,図7,図8,図
9の状態変化が起こる。
【0030】
【発明の効果】上述したように本発明の極低温冷凍機で
は、信号圧力切替機構を介して交互に導入される圧縮機
の吸入圧と吐出圧によって駆動ピストンおよびディスプ
レーサが往復駆動されると共に、信号圧力切替機構が出
力する第1,第2信号圧力によって吸入/吐出切替弁を
切替制御し、膨張空間に圧縮機の吸入圧と吐出圧が交互
に導入されるため、極低温冷凍機の運転制御は圧縮機の
みでよく、駆動ピストンの駆動速度や吸入/吐出切替弁
の切替時期は圧縮機の吸入圧および吐出圧によって自動
的に制御される。従って、極低温冷凍機の制御が容易と
なり、信号圧力切替機構および吸入/吐出切替弁は冷媒
ガスによって作動制御されるため、油による汚染などの
心配がない。
は、信号圧力切替機構を介して交互に導入される圧縮機
の吸入圧と吐出圧によって駆動ピストンおよびディスプ
レーサが往復駆動されると共に、信号圧力切替機構が出
力する第1,第2信号圧力によって吸入/吐出切替弁を
切替制御し、膨張空間に圧縮機の吸入圧と吐出圧が交互
に導入されるため、極低温冷凍機の運転制御は圧縮機の
みでよく、駆動ピストンの駆動速度や吸入/吐出切替弁
の切替時期は圧縮機の吸入圧および吐出圧によって自動
的に制御される。従って、極低温冷凍機の制御が容易と
なり、信号圧力切替機構および吸入/吐出切替弁は冷媒
ガスによって作動制御されるため、油による汚染などの
心配がない。
【図1】本発明実施例の極低温冷凍機の構成図を示す。
【図2】図1における要部拡大構成図を示す。
【図3】図2とは異なる状態の図1における要部拡大構
成図を示す。
成図を示す。
【図4】図1における極低温冷凍機の状態図を示す。
【図5】図1における極低温冷凍機の状態図を示す。
【図6】図1における極低温冷凍機の状態図を示す。
【図7】図1における極低温冷凍機の状態図を示す。
【図8】図1における極低温冷凍機の状態図を示す。
【図9】図1における極低温冷凍機の状態図を示す。
【図10】従来技術のSQUID用冷凍機の駆動装置の
構成図を示す。
構成図を示す。
10 極低温冷凍機、 11 圧縮機、 15 第1膨張空間(膨張空間)、 17 第2膨張空間(膨張空間)、 21 ディスプレーサピストン(ディスプレーサ)、 26 ロッド、 34 弁体(吸入/吐出切替弁)、 91 ピストン(駆動ピストン)。
Claims (1)
- 【請求項1】 圧縮機と、前記圧縮機と吸入/吐出切替
弁を介して連通する膨張空間と、 前記膨張空間の容積を可変とするディスプレーサと、 前記ディスプレーサとロッドを介して連結される駆動ピ
ストンとを有する極低温冷凍機において、 信号圧力切替機構は、前記駆動ピストンの上死点および
下死点において、出力する第1,第2信号圧力を前記圧
縮機の吸入圧と吐出圧のいずれかに切替設定し、 前記駆動ピストンの上下空間に、信号圧力切替機構を介
して前記圧縮機の吸入圧と吐出圧を交互に導入すると共
に、 前記信号圧力切替機構の出力する第1,第2信号圧力に
基づいて前記吸入/吐出切替弁を切替制御したことを特
徴とする極低温冷凍機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18704992A JPH0634218A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 極低温冷凍機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18704992A JPH0634218A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 極低温冷凍機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0634218A true JPH0634218A (ja) | 1994-02-08 |
Family
ID=16199284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18704992A Pending JPH0634218A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | 極低温冷凍機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0634218A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009053371A1 (de) * | 2009-11-14 | 2011-05-19 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Pneumatische Steuervorrichtung für einen Verdränger |
US10790082B2 (en) | 2017-07-25 | 2020-09-29 | Fanuc Corporation | Reactor having base having securing notches |
-
1992
- 1992-07-14 JP JP18704992A patent/JPH0634218A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009053371A1 (de) * | 2009-11-14 | 2011-05-19 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Pneumatische Steuervorrichtung für einen Verdränger |
US10790082B2 (en) | 2017-07-25 | 2020-09-29 | Fanuc Corporation | Reactor having base having securing notches |
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