JPH06329206A - Wafer cassette, band for carrying wafer cassette and shape detecting device theerefor - Google Patents
Wafer cassette, band for carrying wafer cassette and shape detecting device theereforInfo
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- JPH06329206A JPH06329206A JP11582393A JP11582393A JPH06329206A JP H06329206 A JPH06329206 A JP H06329206A JP 11582393 A JP11582393 A JP 11582393A JP 11582393 A JP11582393 A JP 11582393A JP H06329206 A JPH06329206 A JP H06329206A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、複数の半導体
ウエハが収納されるウエハカセット、このウエハカセッ
トを搬送するハンド、及び、ウエハカセットを形状検出
する装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to, for example, a wafer cassette for storing a plurality of semiconductor wafers, a hand for carrying the wafer cassette, and a device for detecting the shape of the wafer cassette.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体の製造の際には、各製造
プロセスを実行する製造装置の間でウエハが搬送され
る。ウエハは所定の枚数ずつウエハカセットに収納さ
れ、ウエハカセットに収納されたまま所定の搬送装置に
よって搬送される。そして、ウエハカセットを使用する
ことにより、多数のウエハの搬送を効率よく行うことが
できる。2. Description of the Related Art Generally, in manufacturing a semiconductor, a wafer is transferred between manufacturing apparatuses that execute respective manufacturing processes. A predetermined number of wafers are stored in the wafer cassette, and the wafers are transferred by a predetermined transfer device while being stored in the wafer cassette. Then, by using the wafer cassette, it is possible to efficiently carry a large number of wafers.
【0003】ウエハカセットやウエハカセットの搬送に
関する技術が、例えば以下の文献に示されている。 (1) 特開昭62−57882号公報 (2) 特開昭63−150932号公報 (3) 特開昭63−203464号公報 (4) 特開平1−155640号公報 (5) 特開平2−72650号公報 これらのうち、文献 (1)においては、ウエハカセットを
傾斜保持し、ウエハカセットの一壁面で支承させるカム
部材が設けられている。文献(2) には、ハンドの指の開
閉の手段として、形状記憶合金を用いる技術が示されて
いる。また、文献 (3)においては、ウエハカセットを搬
送する台車と、台車上の荷台との間に緩衝装置が取り付
けられている。文献(4) では、ウエハカセット把持用指
に縦置き用と横起き用の指が設けられている。そして、
文献(5) には、ウエハをカセットから搬出するとき、有
無センサと測距センサとによってウエハの姿勢状態を検
知する技術が示されている。Techniques relating to wafer cassettes and the transportation of wafer cassettes are disclosed in the following documents, for example. (1) JP-A-62-57882 (2) JP-A-63-150932 (3) JP-A-63-203464 (4) JP-A-1-155640 (5) JP-A-2- In Japanese Patent Laid-Open No. 72650, a cam member for holding the wafer cassette at an inclination and supporting it on one wall surface of the wafer cassette is provided in Document (1). Document (2) discloses a technique using a shape memory alloy as a means for opening and closing the fingers of a hand. Further, in the document (3), a shock absorber is attached between a carriage that conveys a wafer cassette and a loading platform on the carriage. In reference (4), the fingers for holding the wafer cassette are provided with a finger for vertical placement and a finger for horizontal rising. And
Document (5) discloses a technique of detecting the attitude state of a wafer by a presence sensor and a distance measuring sensor when the wafer is unloaded from the cassette.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の各文
献に示された技術には、それぞれ以下のような不具合が
ある。文献(2) のように、ウエハカセットを把持するた
めにハンドに指の開閉機構を設けた場合、開閉機構が発
塵の原因になる。また、文献(4) のように、ウエハカセ
ットを把持するために、ハンドの指でカセットを挟む機
構を採用すると、指とカセットの縁とが擦れるため、発
塵し易い。By the way, each of the techniques disclosed in the above-mentioned documents has the following problems. When the hand opening / closing mechanism is provided to hold the wafer cassette as in Reference (2), the opening / closing mechanism causes dust generation. Further, if a mechanism for sandwiching the cassette with the fingers of the hand is adopted to hold the wafer cassette as in Reference (4), dust is easily generated because the finger and the edge of the cassette rub against each other.
【0005】また、文献(5) のように、ウエハカセット
内のウエハの姿勢状態を検知する場合、ウエハの挿入時
に得られる情報は無い。また、シリコンウエハの表面は
一般に鏡面であるので、一般的な散乱光検出用のセンサ
を利用できない。このため、ウエハを検知できるセンサ
が限られ、センサのコスト低減が難しい。Further, when the attitude state of the wafer in the wafer cassette is detected as in Reference (5), there is no information obtained when the wafer is inserted. Moreover, since the surface of the silicon wafer is generally a mirror surface, a general sensor for detecting scattered light cannot be used. Therefore, the sensors that can detect the wafer are limited, and it is difficult to reduce the cost of the sensor.
【0006】さらに、文献(3) のように、搬送車側に防
振機構を取り付けると、台車装置が大型になり、搬送車
が走行するための空間を大きく確保しなければならな
い。また、製造装置側にウエハカセットを移載する際に
製造装置に振動が生じる場合には、更に別の防振機構を
設ける必要がある。Further, if a vibration isolation mechanism is attached to the side of the transport vehicle as in Reference (3), the trolley device becomes large in size, and a large space for the transport vehicle to travel must be secured. Further, when vibration occurs in the manufacturing apparatus when the wafer cassette is transferred to the manufacturing apparatus side, it is necessary to provide another vibration isolation mechanism.
【0007】各請求項の発明の目的とするところは、発
塵の少ないウエハカセット、ウエハカセット搬送用ハン
ド、及び、ウエハカセット形状検出装置を提供すること
にある。It is an object of the invention of each claim to provide a wafer cassette, a wafer cassette transfer hand, and a wafer cassette shape detecting device which generate little dust.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために請求項1の発明は、複数のウエハが収納さ
れるカセット部と、このカセット部を収容するボックス
と、このボックスに加わった振動を吸収する緩衝手段と
を具備したウエハカセットである。In order to achieve the above-mentioned object, the invention of claim 1 adds a cassette part for accommodating a plurality of wafers, a box for accommodating this cassette part, and this box. It is a wafer cassette provided with a shock absorbing means for absorbing vibration.
【0009】また、請求項2の発明は、複数のウエハが
収納される本体と、この本体に枢支されウエハが本体に
収納される際にウエハを案内しながら回動して本体に収
納されたウエハを保持するウエハガイドとを具備したウ
エハカセットである。Further, according to the invention of claim 2, a plurality of wafers are accommodated in the main body, and the wafers are pivotally supported by the main body to guide the wafers when the wafers are accommodated in the main body and are rotated while being accommodated in the main body. And a wafer guide for holding the wafer.
【0010】また、請求項3の発明は、ウエハカセット
に差し込まれる指と、膨張・収縮が自在であるとともに
膨張時に変形してウエハカセットに係合する変形部とを
具備したウエハカセット搬送用ハンドである。According to the invention of claim 3, a wafer cassette transfer hand comprising a finger to be inserted into the wafer cassette and a deformable portion which can be freely expanded and contracted and is deformed when expanded to engage with the wafer cassette. Is.
【0011】さらに、請求項4の発明は、ウエハカセッ
トを昇降させるカセットエレベ−タと、ウエハカセット
の昇降に伴ってウエハカセットの中に進入し、ウエハカ
セットの形状を検出する検出部とを具備したウエハカセ
ット形状検出装置である。そして、これらの発明によれ
ば、発塵を防止することができる。Further, the invention of claim 4 comprises a cassette elevator for raising and lowering the wafer cassette, and a detector for detecting the shape of the wafer cassette by entering the wafer cassette as the wafer cassette is raised and lowered. This is a wafer cassette shape detection device. And according to these inventions, dust generation can be prevented.
【0012】[0012]
【実施例】以下、本発明の各実施例を図1〜図14に基
づいて説明する。図1〜図3は本発明の第1実施例を示
すもので、図1中の符号1はウエハカセット搬送用ハン
ド(以下、ハンドと称する)である。このハンド1にお
いては、ハンドベ−ス2が可動ア−ム3の先端に連結さ
れており、このハンドベ−ス2には二本の指4、4が垂
設されている。ア−ム3はハンドベ−ス2を任意の位置
へ移動させ、ハンドベ−ス2はア−ム3に対して姿勢を
変化させる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3 show a first embodiment of the present invention, and reference numeral 1 in FIG. 1 denotes a wafer cassette transfer hand (hereinafter referred to as a hand). In this hand 1, a hand base 2 is connected to the tip of a movable arm 3, and two fingers 4, 4 are vertically provided on the hand base 2. The arm 3 moves the hand base 2 to an arbitrary position, and the hand base 2 changes its posture with respect to the arm 3.
【0013】指4、4は同一径の円柱状に成形されてお
り、これらの長さ(突出量)も等しく設定されている。
さらに、指4、4はハンドベ−ス2に固定されており、
互いに平行に延びている。そして、指4、4の間隔は常
に一定である。The fingers 4 and 4 are formed in a cylindrical shape having the same diameter, and their lengths (projection amounts) are also set to be equal.
Furthermore, the fingers 4 and 4 are fixed to the hand base 2,
They run parallel to each other. The distance between the fingers 4 and 4 is always constant.
【0014】各指4の先端には変形部5が設けられてい
る。変形部5は適度な弾性を有する材質からなるもの
で、その内部に流体導入用の空間を有している。変形部
5に対して所定の流体が任意に導入・排出され、変形部
5は内圧の変化に応じて自在に膨脹・収縮する。流体は
ハンドベ−ス2から供給され、指4を通って変形部5に
導かれる。ここで、流体は気体であっても、液体であっ
てもよい。A deformable portion 5 is provided at the tip of each finger 4. The deformable portion 5 is made of a material having appropriate elasticity and has a space for introducing a fluid therein. A predetermined fluid is arbitrarily introduced into and discharged from the deformable portion 5, and the deformable portion 5 freely expands and contracts according to the change in the internal pressure. The fluid is supplied from the hand base 2 and guided to the deforming portion 5 through the finger 4. Here, the fluid may be a gas or a liquid.
【0015】図2は、ハンド1によって保持されるウエ
ハカセット6を示している。このウエハカセット6は、
複数のウエハ(図示しない)が収納される本体7と、こ
の本体7の開口縁部に形成されたフランジ部8とを有し
ている。本体7には、複数のウエハを同心的に並べて収
納できるよう、ウエハ収納用の空間9が形成されてい
る。本体7の内壁には、ウエハの周縁部の一部に係合し
てウエハの姿勢を決めるためのガイド溝10…が複数形
成されている。そして、この溝10…により、ウエハが
所定間隔を保ちながら保持される。FIG. 2 shows the wafer cassette 6 held by the hand 1. This wafer cassette 6 is
It has a main body 7 for accommodating a plurality of wafers (not shown), and a flange portion 8 formed on the opening edge of the main body 7. A space 9 for housing a wafer is formed in the main body 7 so that a plurality of wafers can be concentrically arranged and housed. A plurality of guide grooves 10 are formed on the inner wall of the main body 7 to engage with a part of the peripheral edge of the wafer to determine the attitude of the wafer. Then, the wafers are held by the grooves 10 while keeping a predetermined interval.
【0016】なお、本体7がウエハを保持するための構
造として、一般的な種々の構造を採用できる。また、図
2においては、図面を簡略化するために、ウエハの図示
が省略されている。As the structure for holding the wafer by the main body 7, various general structures can be adopted. Further, in FIG. 2, the illustration of the wafer is omitted in order to simplify the drawing.
【0017】フランジ部8は本体7の側方、すなわちウ
エハの並び方向に対して直角な方向へ突出している。さ
らに、フランジ部8の厚さは、ハンド1の指4、4の直
径よりも大きく設定されている。フランジ部8には指挿
入用の穴11、11が形成されている。この穴11、1
1は互い平行に延びており、フランジ部8の側面12、
12に真円状に開口している。The flange portion 8 projects laterally of the main body 7, that is, in a direction perpendicular to the wafer arrangement direction. Further, the thickness of the flange portion 8 is set to be larger than the diameter of the fingers 4 and 4 of the hand 1. The flange portion 8 is formed with holes 11 for inserting fingers. These holes 11, 1
1 extend parallel to each other, and the side surface 12 of the flange portion 8,
12 has a perfect circular opening.
【0018】つぎに、上述のハンド1の作用を説明す
る。まず、ハンド1はハンドベ−ス2をウエハカセット
6に近付け、フランジ部8に対向させる。さらに、指
4、4がフランジ部8の穴11、11に同心的に向けら
れ、ハンドベ−ス2が更にフランジ8に近付けられて、
図3に示すように、指4、4が穴11、11に挿入され
る。この際、指4、4の変形部5、5は収縮している。Next, the operation of the above-mentioned hand 1 will be described. First, the hand 1 brings the hand base 2 close to the wafer cassette 6 and faces the flange portion 8. Further, the fingers 4 and 4 are concentrically directed to the holes 11 and 11 of the flange portion 8, and the hand base 2 is brought closer to the flange 8,
As shown in FIG. 3, the fingers 4 and 4 are inserted into the holes 11 and 11. At this time, the deformed portions 5 and 5 of the fingers 4 and 4 are contracted.
【0019】つぎに、変形部5、5が膨張し、穴11、
11の出口の周縁部の形状に応じて変形する。変形部
5、5はウエハカセット6に係合し、ウエハカセット6
がハンド1に係止する。そして、ア−ム3がウエハカセ
ット6を保持したまま移動し、ウエハカセット6が所定
の位置(例えば、次工程の製造装置)へ搬送される。Next, the deformed portions 5 and 5 expand and the holes 11 and
It deforms according to the shape of the peripheral portion of the outlet of 11. The deforming portions 5 and 5 are engaged with the wafer cassette 6,
Locks on hand 1. Then, the arm 3 moves while holding the wafer cassette 6, and the wafer cassette 6 is conveyed to a predetermined position (for example, a manufacturing apparatus in the next step).
【0020】ウエハカセット6を解放する際には、変形
部5、5が収縮し、指4、4が穴11、11から抜き出
される。ここで、各指4及び各穴11の互いの直径は、
指4が穴11に挿入された時に、ウエハカセット6がが
たつかないよう設定されている。When the wafer cassette 6 is released, the deformed portions 5 and 5 contract and the fingers 4 and 4 are pulled out from the holes 11 and 11. Here, the mutual diameter of each finger 4 and each hole 11 is
The wafer cassette 6 is set so as not to rattle when the finger 4 is inserted into the hole 11.
【0021】すなわち、上述のハンド1は、指4、4に
形成された変形部5、5を膨張させてウエハカセット6
に係止させるので、指4、4を開閉させることなくウエ
ハカセット6を保持することができる。したがって、開
閉機構が不要であり、開閉機構を原因とする発塵を防止
できる。さらに、開閉機構を省略できるので、ハンド1
の小型化が可能である。That is, in the hand 1 described above, the deformed portions 5 and 5 formed on the fingers 4 and 4 are expanded to expand the wafer cassette 6.
The wafer cassette 6 can be held without opening and closing the fingers 4 and 4. Therefore, the opening / closing mechanism is unnecessary, and dust generation due to the opening / closing mechanism can be prevented. Further, since the opening / closing mechanism can be omitted, the hand 1
Can be miniaturized.
【0022】また、穴11、11に指4、4を挿入する
ことによってウエハカセット6が保持されるので、穴1
1、11を形成できれば、ウエハカセット自体の形状は
制限されない。したがって、種々の形状のウエハカセッ
トを保持することが可能である。Since the wafer cassette 6 is held by inserting the fingers 4 and 4 into the holes 11 and 11,
As long as 1 and 11 can be formed, the shape of the wafer cassette itself is not limited. Therefore, it is possible to hold wafer cassettes of various shapes.
【0023】なお、本実施例においては、指4、4の先
端に変形部5、5が設けられているが、指4、4の全体
に膨張・収縮が可能な材料を用い、指4、4自体を膨張
させても、同様な効果を奏することができる。In this embodiment, the deformed portions 5 and 5 are provided at the tips of the fingers 4 and 4, but the fingers 4 and 4 are made of a material that can expand and contract. Even if 4 is expanded, the same effect can be obtained.
【0024】また、製造装置に同様に指4、4を設けれ
ば、製造装置上でウエハカセット6を保持することがで
きる。図4〜図6は本発明の第2実施例を示しており、
図4中の符号21はウエハカセット形状検出装置(以
下、検出装置と称する)である。この検出装置21はウ
エハ移載装置22と組合わされており、ウエハのウエハ
カセット23への収納作業に先立って、ウエハカセット
23のガイド溝34…の形状を検出する。ここで、本実
施例においては、ウエハ移載装置22として、一般的な
ハンドを有する種々のものを採用できるので、図4中で
ウエハ移載装置22は概略的に示されている。If the manufacturing apparatus is provided with the fingers 4 and 4, the wafer cassette 6 can be held on the manufacturing apparatus. 4 to 6 show a second embodiment of the present invention,
Reference numeral 21 in FIG. 4 is a wafer cassette shape detection device (hereinafter referred to as a detection device). The detection device 21 is combined with the wafer transfer device 22 and detects the shape of the guide grooves 34 ... Of the wafer cassette 23 prior to the work of storing the wafers in the wafer cassette 23. Here, in this embodiment, as the wafer transfer device 22, various devices having a general hand can be adopted, and therefore the wafer transfer device 22 is schematically shown in FIG.
【0025】検出装置21はカセットエレベ−タ24と
検出部25とを有している。カセットエレベ−タ24に
おいては、カセットステ−ジ(以下、ステ−ジと称す
る)26が昇降体27、27(一方のみ図示)を介して
本体28に取付けられており、このステ−ジ26は昇降
体27、27とともに自在に昇降する。ステ−ジ26の
中央には円孔29が形成されており、本体28に垂設さ
れた支柱30が円孔29を通過している。The detector 21 has a cassette elevator 24 and a detector 25. In the cassette elevator 24, a cassette stage (hereinafter referred to as a stage) 26 is attached to a main body 28 via lifting bodies 27, 27 (only one of which is shown). It can move up and down freely with the lifting bodies 27, 27. A circular hole 29 is formed in the center of the stage 26, and a column 30 vertically provided on the main body 28 passes through the circular hole 29.
【0026】支柱30の上端には検出部25が備えられ
ている。検出部25は、四つの光学式距離センサ(以
下、距離センサと称する)31…を有しており、これら
は等間隔で放射状に配置されている。各距離センサ31
は、検出光を発するとともに、この検出光の反射光を受
ける。そして、距離センサ31は、検出光と反射光との
関係に基づいて、対象物との距離を検知する。なお、距
離センサ31として、一般的な種々のものを利用するこ
とが可能である。A detector 25 is provided at the upper end of the column 30. The detection unit 25 has four optical distance sensors (hereinafter referred to as distance sensors) 31, ..., which are arranged radially at equal intervals. Each distance sensor 31
Emits detection light and receives reflected light of this detection light. Then, the distance sensor 31 detects the distance to the object based on the relationship between the detected light and the reflected light. As the distance sensor 31, various general ones can be used.
【0027】図5はウエハカセット23を示している。
このウエハカセット23には、真円状の検出部通過用孔
32、32が同心的に開口している。そして、このウエ
ハカセット23は、検査装置21のステ−ジ26に横向
きに載せられ、カセットエレベ−タ24によって昇降さ
せられる。FIG. 5 shows the wafer cassette 23.
The wafer cassette 23 has concentric circular detection unit passage holes 32, 32 concentrically opened. Then, the wafer cassette 23 is placed sideways on the stage 26 of the inspection device 21 and moved up and down by the cassette elevator 24.
【0028】ステ−ジ26の昇降に伴って、矢印Aで示
すように、検出部25が検出部通過用孔32を通ってウ
エハカセット23に進入する。各距離センサ31…は、
図6に示すように、ウエハカセット23の内壁33に検
出光を照射して反射光を受ける。そして、ステ−ジ26
が動かされて検出光がウエハカセット23の内壁33に
走査され、各距離センサ31…の検出結果に基づいて、
ウエハカセット23のガイド溝34…の形状が検出され
る。As the stage 26 moves up and down, as shown by an arrow A, the detecting section 25 enters the wafer cassette 23 through the detecting section passage hole 32. Each distance sensor 31 ...
As shown in FIG. 6, the inner wall 33 of the wafer cassette 23 is irradiated with the detection light and receives the reflected light. And stage 26
Is moved to scan the inner wall 33 of the wafer cassette 23 with the detection light, and based on the detection results of the distance sensors 31 ...
The shapes of the guide grooves 34 ... Of the wafer cassette 23 are detected.
【0029】検出部25の検出結果に基づいてウエハ移
載装置22が駆動され、ウエハが所定のガイド溝に挿入
される。また、ウエハの搬出の際にも、検出部25の検
出結果が利用され、ウエハカセット23の形状の情報に
基づいて、ウエハ移載装置22が駆動される。ウエハの
移動経路は、ウエハがウエハカセット23にできる限り
接触しないよう決定されている。The wafer transfer device 22 is driven based on the detection result of the detector 25, and the wafer is inserted into a predetermined guide groove. Also, when the wafer is unloaded, the detection result of the detection unit 25 is used, and the wafer transfer device 22 is driven based on the information on the shape of the wafer cassette 23. The movement path of the wafer is determined so that the wafer does not come into contact with the wafer cassette 23 as much as possible.
【0030】すなわち、上述のような検出装置21にお
いては、ウエハの挿入・搬出に先立ってウエハカセット
23の形状が検出されるので、ウエハカセット23の形
状を認識したうえで、ウエハの挿入・搬出を行うことが
できる。したがって、ウエハがウエハカセット23に擦
れることを防止でき、発塵を低減できる。この結果、信
頼性の高いウエハ移載が可能になる。That is, in the detecting device 21 as described above, the shape of the wafer cassette 23 is detected prior to the insertion / unloading of the wafer. Therefore, after the shape of the wafer cassette 23 is recognized, the insertion / unloading of the wafer is performed. It can be performed. Therefore, the wafer can be prevented from rubbing against the wafer cassette 23, and dust generation can be reduced. As a result, highly reliable wafer transfer becomes possible.
【0031】検出部通過用孔32が在れば、異なる種類
のウエハカセットの形状検出も可能である。搬送装置の
ハンドにセンサを設ける必要がないので、搬送装置の小
型化が可能である。If the detection unit passage hole 32 is provided, it is possible to detect the shapes of different types of wafer cassettes. Since it is not necessary to provide a sensor on the hand of the carrier, the carrier can be downsized.
【0032】また、挿入・搬出の度にウエハカセット2
3の形状検出を行えば、ガイド溝34…の形状劣化に関
わらずに、ウエハとウエハカセット23との接触を防止
できる。In addition, the wafer cassette 2 is loaded and unloaded each time.
By detecting the shape of No. 3, the contact between the wafer and the wafer cassette 23 can be prevented regardless of the deterioration of the shape of the guide grooves 34.
【0033】なお、搬送装置のハンド部に検出部25を
組合わせ、ウエハカセットを昇降させれば、本実施例と
同様の効果を奏することが可能である。図7〜図10は
本発明の第3実施例を示しており、各図中の符号41は
ウエハカセットを示している。このウエハカセット41
は、複数のウエハ42…が収納されるカセット部43
と、このカセット部43を覆うボックス44とを有して
おり、カセット部43とボックス44との間には緩衝手
段45…が設けられている。ボックス44は矩形に成形
されており、上部46を開放している。そして、ボック
ス44の上部46から、カセット部43の出入口47が
露出している。By combining the detection unit 25 with the hand unit of the transfer device and moving the wafer cassette up and down, the same effect as that of this embodiment can be obtained. 7 to 10 show a third embodiment of the present invention, and the reference numeral 41 in each drawing shows a wafer cassette. This wafer cassette 41
Is a cassette part 43 for accommodating a plurality of wafers 42 ...
And a box 44 that covers the cassette portion 43, and buffer means 45 ... Is provided between the cassette portion 43 and the box 44. The box 44 is formed in a rectangular shape, and the upper portion 46 is open. The doorway 47 of the cassette unit 43 is exposed from the upper portion 46 of the box 44.
【0034】緩衝手段45…は、ボックス44の側部と
底部とに配設されており、カセット部43の側部と底部
とに連結されている。そして、緩衝手段45…はボック
ス44の中で、カセット部43を浮き上がらせた状態で
支持している。ここで、緩衝手段45として、例えばコ
イルスプリング等のような一般的な種々の緩衝のための
手段を採用できる。The buffering means 45 are arranged on the side and bottom of the box 44, and are connected to the side and bottom of the cassette 43. Then, the buffering means 45 ... Supports the cassette portion 43 in a floating state in the box 44. Here, as the buffering means 45, various general buffering means such as a coil spring can be adopted.
【0035】ウエハカセット41は、図10に示すよう
に製造装置48の受台49に載置される。ボックス44
の底部には位置決め孔50、51が設けられており、受
台49に突設されたガイド51、51と磁石52とが、
これら位置決め孔50、51に挿入される。ガイド5
1、51は互いの間にカセット部43を受け入れる。ま
た、磁石52は、カセット部43に取付けられた磁性体
製の板53(例えば鉄板等)を吸着している。The wafer cassette 41 is placed on the pedestal 49 of the manufacturing apparatus 48 as shown in FIG. Box 44
Positioning holes 50 and 51 are provided at the bottom of the base, and the guides 51 and 51 and the magnet 52 projecting from the pedestal 49 are
It is inserted into these positioning holes 50 and 51. Guide 5
1, 51 receive the cassette part 43 between each other. Further, the magnet 52 attracts a magnetic plate 53 (for example, an iron plate) attached to the cassette unit 43.
【0036】すなわち、上述のようなウエハカセット4
1においては、カセット部43がボックス44に収容さ
れ、カセット部43とボックス44との間に緩衝手段4
5…が備えられているので、ボックス44に作用した振
動が緩衝部45によって吸収され、カセット部43に伝
わる前に減衰する。したがって、搬送装置や製造装置に
防振機能を付加しなくても、カセット部43に収納され
たウエハに振動が伝わることを防止できる。そして、ウ
エハの破損や発塵を防止することができる。That is, the wafer cassette 4 as described above
1, the cassette unit 43 is housed in the box 44, and the buffer unit 4 is provided between the cassette unit 43 and the box 44.
.. are provided, the vibration acting on the box 44 is absorbed by the buffer portion 45 and is attenuated before being transmitted to the cassette portion 43. Therefore, it is possible to prevent the vibration from being transmitted to the wafers stored in the cassette unit 43 without adding a vibration damping function to the transfer device or the manufacturing device. Further, it is possible to prevent the wafer from being damaged or dust.
【0037】また、作業者がウエハカセット41を直接
搬送する場合にも、ウエハに振動が伝わることを防止で
きる。さらに、搬送装置に防振機構を付加する必要がな
くなるので、搬送装置の小型化が可能になる。Further, even when the operator directly conveys the wafer cassette 41, it is possible to prevent the vibration from being transmitted to the wafer. Furthermore, since it is not necessary to add a vibration isolation mechanism to the transport device, the transport device can be downsized.
【0038】また、図示しないが、ボックス44に第1
実施例の指挿入用孔11、11を設け、指4、4の長さ
や間隔を適宜変更すれば、第1実施例のハンド1を利用
することが可能である。Although not shown, the first box 44
If the finger insertion holes 11 of the embodiment are provided and the lengths and intervals of the fingers 4 and 4 are appropriately changed, the hand 1 of the first embodiment can be used.
【0039】なお、本実施例においては、緩衝部45と
してコイルスプリング等が利用されているが、例えば、
カセット部43とボックス44との間に粘性流体を充填
しても、ボックス44に作用した振動を吸収することが
できる。In this embodiment, a coil spring or the like is used as the buffer portion 45.
Even if a viscous fluid is filled between the cassette portion 43 and the box 44, the vibration acting on the box 44 can be absorbed.
【0040】さらに、ボックス44の上部46を密閉す
れば、さらに防塵効果が高まる。図11〜図14は本発
明の第4実施例を示しており、図11中の符号61はウ
エハカセットである。このウエハカセット61は、複数
のウエハ62…が収納される本体63と、各ウエハを案
内して保持するウエハガイド64…とを有している。Further, if the upper portion 46 of the box 44 is sealed, the dustproof effect is further enhanced. 11 to 14 show a fourth embodiment of the present invention, and the reference numeral 61 in FIG. 11 denotes a wafer cassette. The wafer cassette 61 has a main body 63 for accommodating a plurality of wafers 62, and a wafer guide 64 for guiding and holding each wafer.
【0041】ウエハガイド64は円弧状の棒体からなる
もので、図12に示すように、その長手方向の途中の部
位で本体63に枢支されている。さらに、ウエハガイド
64は、図13に示すように二つ一組で、ウエハ62の
外周面に接してウエハ62を保持する。The wafer guide 64 is composed of an arcuate rod body, and is pivotally supported by the main body 63 at an intermediate portion in the longitudinal direction as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 13, a pair of wafer guides 64 holds the wafer 62 in contact with the outer peripheral surface of the wafer 62.
【0042】ウエハカセット61には、ウエハガイド6
4の一部を受け入れる長孔65…が形成されている。図
14に示すようにウエハガイド64の断面は台形であ
り、ウエハガイド64の他の一部は、本体63の内壁に
形成された係合溝66に対して、自在に係脱する。The wafer cassette 6 includes a wafer guide 6
4 are formed to receive the elongated holes 65 ... As shown in FIG. 14, the wafer guide 64 has a trapezoidal cross section, and the other part of the wafer guide 64 freely engages with and disengages from the engagement groove 66 formed in the inner wall of the main body 63.
【0043】つぎに、このウエハカセット61の作用を
説明する。まず、図12に示すように本体63にウエハ
62が収納されていない場合、ウエハガイド64の状態
は自由であり、ウエハガイド64は枢支点67を中心と
して自在に回動する。この場合、ウエハガイド64の手
前側の部分(ウエハカセット61の開口部68に近い側
の部分)69は、長孔65に入り込んでおり、奥側の部
分70は、ウエハカセット61内に突出している。Next, the operation of the wafer cassette 61 will be described. First, as shown in FIG. 12, when the wafer 62 is not housed in the main body 63, the state of the wafer guide 64 is free, and the wafer guide 64 freely rotates about the pivot point 67. In this case, the front side portion of the wafer guide 64 (the portion near the opening 68 of the wafer cassette 61) 69 has entered the elongated hole 65, and the rear side portion 70 projects into the wafer cassette 61. There is.
【0044】一方、図13に示すようにウエハ62が本
体63に収納される場合、ウエハガイド64は、ウエハ
62が本体63に進入するにしたがってウエハ62によ
り押される。そして、ウエハガイド64は枢支点67を
中心として回動しながらウエハ62を案内し、ウエハガ
イド64の奥側の部分70が、係合溝66に係合する。
このとき、ウエハガイド64の手前側の部分69は、本
体63の内部に突出する。On the other hand, when the wafer 62 is stored in the main body 63 as shown in FIG. 13, the wafer guide 64 is pushed by the wafer 62 as the wafer 62 enters the main body 63. Then, the wafer guide 64 guides the wafer 62 while rotating around the pivot point 67, and the portion 70 on the back side of the wafer guide 64 engages with the engagement groove 66.
At this time, the front side portion 69 of the wafer guide 64 projects into the main body 63.
【0045】この結果、各ウエハ62が、二つのウエハ
ガイド64、64により挟まれ、容易に動かないよう保
持される。すなわち、このウエハカセット61において
は、ウエハガイド64によって保持されるので、ウエハ
62の振動を防止することができる。したがって、搬送
装置がウエハカセットを搬送する際に、ウエハ62が破
損したり、発塵したりすることを防止できる。As a result, each wafer 62 is sandwiched by the two wafer guides 64, 64 and held so as not to move easily. That is, in this wafer cassette 61, since it is held by the wafer guide 64, the vibration of the wafer 62 can be prevented. Therefore, it is possible to prevent the wafer 62 from being damaged or generating dust when the transfer device transfers the wafer cassette.
【0046】さらに、作業者がウエハカセット61を直
接搬送する場合にも、ウエハ62に振動が伝わることを
防止できる。また、搬送装置に防振機構を付加する必要
がなくなるので、搬送装置の小型化が可能になる。Further, even when the operator directly conveys the wafer cassette 61, it is possible to prevent the vibration from being transmitted to the wafer 62. Further, since it is not necessary to add a vibration isolation mechanism to the transfer device, the transfer device can be downsized.
【0047】なお、本実施例では、ウエハの振動を防止
するためにウエハガイド64…が用いられているが、例
えば、ウエハガイド64…を省略し、本体63の係合溝
65に粘性流体を充填しても、同様にウエハ62の振動
を防止できると考えられる。この場合、ウエハ62を搬
出する際には、粘性流体が係合溝65から放出される。In the present embodiment, the wafer guides 64 are used to prevent the vibration of the wafer. However, for example, the wafer guides 64 are omitted and a viscous fluid is applied to the engaging groove 65 of the main body 63. Even if filled, it is considered that the vibration of the wafer 62 can be similarly prevented. In this case, when the wafer 62 is unloaded, the viscous fluid is discharged from the engagement groove 65.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上説明したように請求項1の発明は、
複数のウエハが収納されるカセット部と、このカセット
部を収容するボックスと、このボックスに加わった振動
を吸収する緩衝手段とを具備したウエハカセットであ
る。As described above, the invention of claim 1 is
It is a wafer cassette provided with a cassette part for accommodating a plurality of wafers, a box for accommodating the cassette part, and a damping means for absorbing vibration applied to the box.
【0049】また、請求項2の発明は、複数のウエハが
収納される本体と、この本体に枢支されウエハが本体に
収納される際にウエハを案内しながら回動して本体に収
納されたウエハを保持するウエハガイドとを具備したウ
エハカセットである。In the invention of claim 2, a plurality of wafers are accommodated in the main body, and when the wafers are pivotally supported by the main body and the wafers are accommodated in the main body, the wafers are rotated while being guided to be accommodated in the main body. And a wafer guide for holding the wafer.
【0050】また、請求項3の発明は、ウエハカセット
に差し込まれる指と、膨張・収縮が自在であるとともに
膨張時に変形してウエハカセットに係合する変形部とを
具備したウエハカセット搬送用ハンドである。According to the third aspect of the present invention, the wafer cassette hand is provided with a finger to be inserted into the wafer cassette, and a deformable portion which can be freely expanded and contracted and is deformed when expanded to engage with the wafer cassette. Is.
【0051】さらに、請求項4の発明は、ウエハカセッ
トを昇降させるカセットエレベ−タと、ウエハカセット
の昇降に伴ってウエハカセットの中に進入し、ウエハカ
セットの形状を検出する検出部とを具備したウエハカセ
ット形状検出装置である。したがって、これらの発明に
よれば、発塵を防止できるという効果がある。Further, the invention of claim 4 comprises a cassette elevator for raising and lowering the wafer cassette, and a detector for detecting the shape of the wafer cassette by entering the wafer cassette as the wafer cassette is raised and lowered. This is a wafer cassette shape detection device. Therefore, according to these inventions, there is an effect that dust generation can be prevented.
【図1】本発明の第1実施例の搬送用ハンドを示す斜視
図。FIG. 1 is a perspective view showing a carrying hand according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施例のウエハカセットを示す斜
視図。FIG. 2 is a perspective view showing a wafer cassette according to the first embodiment of the present invention.
【図3】ウエハカセットがハンドによって保持された状
態を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a state where the wafer cassette is held by a hand.
【図4】本発明の第2実施例の形状検出装置を示す構成
図。FIG. 4 is a configuration diagram showing a shape detection device according to a second embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第2実施例のウエハカセットを示す斜
視図。FIG. 5 is a perspective view showing a wafer cassette according to a second embodiment of the present invention.
【図6】形状検出の様子を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state of shape detection.
【図7】本発明の第3実施例のウエハカセットを示す構
成図。FIG. 7 is a configuration diagram showing a wafer cassette of a third embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第3実施例のウエハカセットの平面
図。FIG. 8 is a plan view of a wafer cassette according to a third embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第3実施例のウエハカセットの断面
図。FIG. 9 is a sectional view of a wafer cassette according to a third embodiment of the present invention.
【図10】ウエハカセットが製造装置に置かれた状態を
示す断面図。FIG. 10 is a sectional view showing a state where the wafer cassette is placed in the manufacturing apparatus.
【図11】本発明の第4実施例のウエハカセットを示す
斜視図。FIG. 11 is a perspective view showing a wafer cassette according to a fourth embodiment of the present invention.
【図12】本発明の第4実施例のウエハカセットの空の
状態を示す断面図。FIG. 12 is a sectional view showing an empty state of a wafer cassette according to a fourth embodiment of the present invention.
【図13】本発明の第4実施例のウエハカセットにウエ
ハが収納された状態を示す断面図。FIG. 13 is a sectional view showing a state where wafers are stored in a wafer cassette according to a fourth embodiment of the present invention.
【図14】ウエハガイドと係合溝とを示す断面図。FIG. 14 is a sectional view showing a wafer guide and an engagement groove.
1…ウエハカセット搬送用ハンド、4、4…指、5、5
…変形部、6…ウエハカセット、21…ウエハカセット
形状検出装置、23…ウエハカセット、24…カセット
エレベ−タ、25…検出部、41…ウエハカセット、4
2…ウエハ、43…カセット部、44…ボックス、45
…緩衝手段、61…ウエハカセット、62…ウエハ、6
3…本体、64…ウエハガイド。1 ... Wafer cassette transport hand, 4, 4 ... Fingers, 5, 5
Deformation section, 6 ... Wafer cassette, 21 ... Wafer cassette shape detection device, 23 ... Wafer cassette, 24 ... Cassette elevator, 25 ... Detection section, 41 ... Wafer cassette, 4
2 ... Wafer, 43 ... Cassette part, 44 ... Box, 45
... buffer means, 61 ... wafer cassette, 62 ... wafer, 6
3 ... Main body, 64 ... Wafer guide.
Claims (4)
と、このカセット部を収容するボックスと、このボック
スに加わった振動を吸収する緩衝手段とを具備したウエ
ハカセット。1. A wafer cassette comprising: a cassette unit for storing a plurality of wafers; a box for storing the cassette unit; and a cushioning unit for absorbing a vibration applied to the box.
本体に枢支され上記ウエハが本体に収納される際に上記
ウエハを案内しながら回動して上記本体に収納された上
記ウエハを保持するウエハガイドとを具備したウエハカ
セット。2. A body for accommodating a plurality of wafers and a wafer accommodated in the body, which is pivotally supported by the body and rotates while guiding the wafer when the wafer is accommodated in the body. A wafer cassette having a wafer guide for holding.
張・収縮が自在であるとともに膨張時に変形して上記ウ
エハカセットに係合する変形部とを具備したウエハカセ
ット搬送用ハンド。3. A wafer cassette transfer hand comprising a finger to be inserted into a wafer cassette and a deformable portion which can be expanded and contracted and is deformed when expanded to engage with the wafer cassette.
レベ−タと、上記ウエハカセットの昇降に伴って上記ウ
エハカセットの中に進入し、上記ウエハカセットの形状
を検出する検出部とを具備したウエハカセット形状検出
装置。4. A wafer cassette shape comprising: a cassette elevator for raising and lowering a wafer cassette; and a detection unit for entering the wafer cassette as the wafer cassette is raised and lowered and detecting the shape of the wafer cassette. Detection device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11582393A JPH06329206A (en) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | Wafer cassette, band for carrying wafer cassette and shape detecting device theerefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11582393A JPH06329206A (en) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | Wafer cassette, band for carrying wafer cassette and shape detecting device theerefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06329206A true JPH06329206A (en) | 1994-11-29 |
Family
ID=14671995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11582393A Pending JPH06329206A (en) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | Wafer cassette, band for carrying wafer cassette and shape detecting device theerefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06329206A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991016599A1 (en) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Reliance Electric Ltd. | System for measuring length of sheet |
WO2007052672A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Asyst Technologies Japan, Inc. | Vibration isolation mechanism for article receiving container |
CN110783241A (en) * | 2018-07-25 | 2020-02-11 | 株式会社迪思科 | Cartridge holder |
CN117059541A (en) * | 2023-10-12 | 2023-11-14 | 沈阳元创半导体有限公司 | Wafer loader with silicon wafer box clamping and in-place detecting device |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP11582393A patent/JPH06329206A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991016599A1 (en) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Reliance Electric Ltd. | System for measuring length of sheet |
WO2007052672A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Asyst Technologies Japan, Inc. | Vibration isolation mechanism for article receiving container |
JP2007123673A (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Asyst Shinko Inc | Vibration-proof mechanism for article storage container |
CN110783241A (en) * | 2018-07-25 | 2020-02-11 | 株式会社迪思科 | Cartridge holder |
CN110783241B (en) * | 2018-07-25 | 2024-02-23 | 株式会社迪思科 | Box holder |
CN117059541A (en) * | 2023-10-12 | 2023-11-14 | 沈阳元创半导体有限公司 | Wafer loader with silicon wafer box clamping and in-place detecting device |
CN117059541B (en) * | 2023-10-12 | 2023-12-08 | 沈阳元创半导体有限公司 | Wafer loader with silicon wafer box clamping and in-place detecting device |
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