JPH06326231A - Semiconductor device, manufacture thereof, and lead frame employed therein - Google Patents

Semiconductor device, manufacture thereof, and lead frame employed therein

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JPH06326231A
JPH06326231A JP5110260A JP11026093A JPH06326231A JP H06326231 A JPH06326231 A JP H06326231A JP 5110260 A JP5110260 A JP 5110260A JP 11026093 A JP11026093 A JP 11026093A JP H06326231 A JPH06326231 A JP H06326231A
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Japan
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resin
semiconductor device
package
chip
semiconductor chip
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Japanese (ja)
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Shigeyo Kusanagi
恵与 草▲なぎ▼
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Hitachi Ltd
Akita Electronics Systems Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Akita Electronics Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the moisture resistance from deteriorating due to voids in a semiconductor device having an LOC structure. CONSTITUTION:In the method for manufacturing a semiconductor device 1 by bonding a semiconductor chip 4 to the rear surface at the inner end part 5 of lead through an insulation tape 6 and then sealing the semiconductor chip 4 with a resin package 2, the resin flows better through the upper space than through the lower space of the chip 4 when the package 2 is formed by transfer molding in conventional structure, and the resin flowed through the lower space advances to the end part of the upper space thus generating a plenty of voids. Furthermore, the advanced resin blocks the air vent at the resin part containing a plenty of voids. In order to solve the problem, the flow rate of resin is substantially equalized between the upper and lower spaces and a fluid resistor 9 is applied to the rear surface of the chip 4 in the vicinity of a gate 25 so that the air vent is not blocked at the resin part at the tip of the upper and lower spaces.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置、特に半導体
チップの一面に金属製リードのインナーリード部分を接
続するとともに、半導体チップの電極とインナーリード
を電気的に接続したLOC(lead on chip)構造の半導
体装置およびその製造方法ならびにその製造方法に使用
するリードフレームに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, in particular, a LOC (lead on chip) in which an inner lead portion of a metal lead is connected to one surface of a semiconductor chip and an electrode of the semiconductor chip and an inner lead are electrically connected. The present invention relates to a semiconductor device having a structure, a manufacturing method thereof, and a lead frame used in the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】レジンパッケージ型半導体装置の一つと
して、半導体チップの一面に絶縁テープ(両面に接着剤
を塗布したポリイミド・テープ)を介して金属製リード
フレームのインナー・リードを接着し、インナー・リー
ドと半導体チップの電極を導電性のワイヤで接続したL
OC構造が知られている。LOC構造の半導体装置につ
いては、日経BP社発行「日経マイクロデバイス」19
91年2月号、同年2月1日発行、P89〜P97に記
載されている。この文献には、LOC構造を使った16
MDRAM(Dynamic Random Access Memory)向けSO
J(Small Outline J-Leaded)について記載されてい
る。この文献には、ダイ・パッド上にチップを搭載する
従来構造、リード上に絶縁テープを介してチップを搭載
するCOL(Chip on Lead)構造,チップ上に絶縁テー
プを介してリードを固定するLOC構造が図解されてい
る。また、この文献には、「チップ上全面に渡りリード
があるためモールド流れを妨げやすい。このためモール
ド時にチップ上下面へ同時に充填し,ボイドを発生させ
ない上下バランス,モールド条件をシュミレーションで
決定している。」旨記載されている。
2. Description of the Related Art As one of resin package type semiconductor devices, an inner lead of a metal lead frame is adhered to one surface of a semiconductor chip via an insulating tape (polyimide tape having adhesive applied on both sides).・ L that connects the lead and the electrode of the semiconductor chip with a conductive wire
The OC structure is known. For the semiconductor device of LOC structure, "Nikkei Microdevice" 19 issued by Nikkei BP
Issued on February 1, 1991, issued on February 1, the same year, and described in P89 to P97. This document uses 16 LOC structure.
SO for MDRAM (Dynamic Random Access Memory)
J (Small Outline J-Leaded) is described. This document describes a conventional structure in which a chip is mounted on a die pad, a COL (Chip on Lead) structure in which a chip is mounted on a lead via an insulating tape, and a LOC for fixing the lead on the chip via an insulating tape. The structure is illustrated. In addition, in this document, "Since there are leads over the entire surface of the chip, it is easy to impede the flow of the mold. Therefore, the upper and lower surfaces of the chip are filled at the same time at the time of molding, the upper and lower balances that do not generate voids, and the molding conditions are determined by simulation. "There is".

【0003】一方、工業調査会発行「電子材料」198
7年8月号、昭和62年8月1日発行、P73〜P79
には、プラスチック・パッケージについて記載されてい
る。この文献には、トランスファ成形において、「プレ
ヒータで予熱されたタブレットをポット内に投入する。
トランスファ先端のプランジャによって(カル→ランナ
→ゲート→キャビティ→エアベント)の順に注入され
る。ランナサイズおよび形状によって流動抵抗をなく
し,エアの巻き込みを極限に押え,ゲートは注入角度,
サイズのコントロールでボイド,金線流れなどの不良低
減を図り,エアベントの設置は充填性(成形外観)向上
の重要なファクタとなっている。図1のオーバランナ,
ダミーキャビティはさらに成形品のボイド,金線流れ不
良を低減する手段で現在製作されているモールド型には
何らかの方法で採用されているようである。」旨記載さ
れている。
On the other hand, "Electronic Materials" issued by the Industrial Research Group 198
Issued in August 1972, issued on August 1, 1987, P73-P79
Describes a plastic package. In this reference, in transfer molding, "a tablet preheated by a preheater is put into a pot.
It is injected in the order of (cal → runner → gate → cavity → air vent) by the plunger at the transfer tip. Flow resistance is eliminated by the runner size and shape, air entrapment is suppressed to a minimum, and the gate has an injection angle,
By controlling size, defects such as voids and gold wire flow are reduced, and the installation of air vents is an important factor for improving the filling property (molding appearance). The overrunner of Figure 1,
The dummy cavity is a means to reduce voids in the molded product and defective flow of the gold wire, and it seems that the dummy cavity is used in some way in the currently manufactured mold. Is stated. "

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】LOC構造の半導体装
置は、半導体チップ上のレジン、厳密にはリードの上面
側のレジン(以下、チップ上レジンと称する)の厚さに
比較して、リードの下側のレジン(以下、チップ下レジ
ンと称する)の厚さが厚くなっている。また、前記文献
にも指摘されているように、LOC構造は、チップ上全
面にリードがあるため、その製造におけるトランスファ
モールド時、チップ上面側のレジンの流れが妨げられ
る。モールド上・下型によって形成されるキャビティに
おいては、前記チップ下レジンを形成するための下空間
の厚さが、チップ上レジンを形成するための上空間より
も厚いことと、チップの下面は平坦で流動抵抗が低いこ
とによって、ゲートからキャビティ内に注入されたレジ
ンは、上空間を流れるレジンよりも速く流れ、上空間に
回り込む現象が発生する。上空間では、ゲートから直接
流れて流入するレジンと、下空間から回り込むレジンと
によって流れが乱れる。この結果、気泡(ボイド)がキ
ャビティ内に残留してしまう。また、下空間を流れるレ
ジンが上空間に回り込む際、チップを押し上げる現象も
生じ、チップやリードの姿勢が崩れたまま封止が完了す
ることもある。チップやリードの姿勢の崩れ(アンバラ
ンス)は、チップやリードを覆うレジンの厚さが局所的
に薄くなり、耐湿性の低下を引き起こす原因となる。
The semiconductor device of the LOC structure has a structure in which a lead on the semiconductor chip, strictly speaking, a resin on the upper surface side of the lead (hereinafter, referred to as "on-chip resin") is compared with the thickness of the lead. The thickness of the lower resin (hereinafter referred to as "chip lower resin") is increased. Further, as pointed out in the above-mentioned document, since the LOC structure has leads on the entire surface of the chip, the flow of the resin on the upper surface side of the chip is obstructed during transfer molding in the manufacturing thereof. In the cavity formed by the upper and lower molds, the lower space for forming the lower chip resin is thicker than the upper space for forming the upper resin, and the lower surface of the chip is flat. Since the flow resistance is low, the resin injected from the gate into the cavity flows faster than the resin flowing in the upper space, and a phenomenon of wrapping around the upper space occurs. In the upper space, the flow is disturbed by the resin flowing directly from the gate and flowing in from the lower space. As a result, bubbles (voids) remain in the cavity. Further, when the resin flowing in the lower space goes around to the upper space, the phenomenon of pushing up the chip may occur, and the sealing may be completed while the posture of the chip or the lead is collapsed. The imbalance of the posture of the chip or the lead causes the thickness of the resin covering the chip or the lead to be locally thin, which causes a decrease in moisture resistance.

【0005】本発明の目的は、チップ上レジンとチップ
下レジンとの厚さに大きな隔たりがある半導体装置の製
造におけるトランスファモールドにおいて、パッケージ
内にボイドを残留させない製造方法およびリードフレー
ムを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a manufacturing method and a lead frame in which voids do not remain in a package in transfer molding in manufacturing a semiconductor device in which a resin on a chip and a resin under a chip have a large difference in thickness. It is in.

【0006】本発明の他の目的は、耐湿性に優れたLO
C構造やCOL構造からなる半導体装置を提供すること
にある。本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかに
なるであろう。
Another object of the present invention is to provide LO excellent in moisture resistance.
It is to provide a semiconductor device having a C structure or a COL structure. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。すなわち、本発明のLOC構造の半
導体装置は、レジンからなるパッケージと、前記パッケ
ージの内外に亘って延在する複数の金属製のリードと、
前記パッケージ内の複数のリード内端部の下面に両面に
接着剤を塗布した絶縁テープを介して接着される半導体
チップと、前記パッケージ内において前記半導体チップ
の電極とリード内端を電気的に接続するワイヤとからな
る半導体装置であり、かつチップ上レジンに対してチッ
プ下レジンの厚さが厚いものであって、前記パッケージ
のレジンが注入された側の半導体チップ下面には部分的
に絶縁テープからなる流動抵抗体が貼り付けられてい
る。
The outline of the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the LOC structure semiconductor device of the present invention includes a package made of a resin, a plurality of metal leads extending inside and outside the package,
A semiconductor chip that is adhered to the lower surfaces of the inner ends of the leads in the package through an insulating tape whose both surfaces are coated with an adhesive, and the electrodes of the semiconductor chip and the inner ends of the leads are electrically connected in the package. A semiconductor device composed of a wire, and a resin under the chip is thicker than a resin on the chip, and an insulating tape is partially formed on a lower surface of the semiconductor chip of the package on which the resin is injected. A flow resistor consisting of is attached.

【0008】本発明によるLOC構造の半導体装置の製
造方法においては、リードフレームのリード内端部の下
面に両面に接着剤を塗布した絶縁テープを介して半導体
チップを接着する工程と、前記リードフレームをトラン
スファモールド上・下型に挟んだ後ゲートからレジンを
キャビティ内に注入してパッケージを形成する工程とを
有するが、前記キャビティにおいて半導体チップの上空
間に比較して下空間が厚いことから、前記ゲート側寄り
の半導体チップの下面に流動抵抗となる流動抵抗体を貼
り付ける工程を有する。前記流動抵抗体は、前記上空間
および下空間を流れるレジンの速さが均一となるような
流動抵抗体としての厚さを持っている。また、前記モー
ルド上・下型によって、エアーベントに連なるフローキ
ャビティが形成されている。キャビティ内に流入し、キ
ャビティから溢れ出たレジンはエアーベントを通ってフ
ローキャビティ内に流入する。
In the method of manufacturing a semiconductor device having a LOC structure according to the present invention, a step of adhering a semiconductor chip through an insulating tape having an adhesive applied on both sides to the lower surface of the lead inner end of the lead frame, and the lead frame. And a step of forming a package by injecting a resin into the cavity from the gate after sandwiching between the transfer mold upper and lower molds, since the lower space is thicker than the upper space of the semiconductor chip in the cavity, There is a step of adhering a flow resistance body serving as a flow resistance to the lower surface of the semiconductor chip near the gate side. The flow resistance body has a thickness as a flow resistance body such that the speed of the resin flowing through the upper space and the lower space becomes uniform. In addition, the upper and lower molds form a flow cavity connected to the air vent. The resin flowing into the cavity and overflowing from the cavity flows into the flow cavity through the air vent.

【0009】本発明の他の実施例によるLOC構造の半
導体装置は、レジンからなるパッケージと、前記パッケ
ージの内外に亘って延在する複数の金属製のリードと、
前記パッケージ内の複数のリード内端部の一面に絶縁性
接着体を介して接続される半導体チップとを有するとと
もに、前記半導体チップ上のリードはその途中から先端
に亘って薄くなっている。
A semiconductor device having a LOC structure according to another embodiment of the present invention includes a package made of resin, a plurality of metal leads extending inside and outside the package,
The semiconductor chip is connected to one surface of the inner ends of the plurality of leads in the package via an insulating adhesive, and the leads on the semiconductor chip are thinned from the middle to the tip.

【0010】本発明の他の実施例によるLOC構造の半
導体装置の製造方法においては、半導体チップに貼り付
けられるリード内端部が途中から先端に亘って薄く形成
された本発明によるリードフレームが用意し、その後、
このリードフレームのリード内端部の一面に絶縁性接着
体を介して半導体チップを接着した後、前記リードフレ
ームをトランスファモールド装置のモールド上・下型に
挟み、かつゲートからレジンをキャビティ内に注入して
パッケージを形成する。また、前記モールド上・下型に
よって、エアーベントに連なるフローキャビティが形成
されている。キャビティ内に流入し、キャビティから溢
れ出たレジンはエアーベントを通ってフローキャビティ
内に流入する。
In a method of manufacturing a semiconductor device having a LOC structure according to another embodiment of the present invention, there is prepared a lead frame according to the present invention in which inner ends of leads attached to a semiconductor chip are thinly formed from the middle to the tip. And then
After a semiconductor chip is bonded to one surface of the inner end of the lead of the lead frame via an insulating adhesive, the lead frame is sandwiched between the upper and lower molds of a transfer molding device, and resin is injected into the cavity from the gate. To form a package. In addition, the upper and lower molds form a flow cavity connected to the air vent. The resin flowing into the cavity and overflowing from the cavity flows into the flow cavity through the air vent.

【0011】[0011]

【作用】本発明による流動抵抗体を半導体チップに貼り
付けたLOC構造の半導体装置の製造においては、トラ
ンスファモールド時半導体チップの上方の上空間と、こ
の上空間よりも厚い半導体チップの下空間に均一にレジ
ンが注入されるように、レジン流入側の半導体チップの
下面に流動抵抗体が貼り付けられている。このため、ゲ
ートからキャビティに流入したレジンは、下空間では前
記流動抵抗体が抵抗となるため、流速が落ち、下空間と
上空間を流れるレジン速度は同一となる。したがって、
レジンが一方の空間から他方の空間に激しく流入するこ
ともなく、上空間と下空間を流れて来たレジンはで時を
同じくしてエアーベント部分で合流し、かつ一緒となっ
てフローキャビティ内に流れ込むため、発生したボイド
も一緒にフローキャビティ内に流入し、キャビティ部分
にボイドが残留しなくなる。この結果、本発明の製造方
法によって製造された本発明の半導体装置は、パッケー
ジ内にボイドが無く、耐湿性に優れたものとなる。
In the manufacture of the LOC structure semiconductor device in which the flow resistor according to the present invention is attached to the semiconductor chip, the upper space above the semiconductor chip during transfer molding and the lower space of the semiconductor chip thicker than this upper space are used. A flow resistor is attached to the lower surface of the semiconductor chip on the resin inflow side so that the resin is uniformly injected. For this reason, the resin flowing from the gate into the cavity has a resistance in the lower space due to the resistance of the flow resistor, so that the flow velocity decreases and the resin velocity flowing through the lower space and the upper space becomes the same. Therefore,
The resin does not violently flow into the other space from one space, and the resin that has flowed through the upper space and the lower space merges at the air vent part at the same time, and together, inside the flow cavity. Since it flows into the flow cavity, the generated void also flows into the flow cavity, and the void does not remain in the cavity portion. As a result, the semiconductor device of the present invention manufactured by the manufacturing method of the present invention has no voids in the package and is excellent in moisture resistance.

【0012】また、本発明のLOC構造の半導体装置の
製造においては、トランスファモールド時、前記流動抵
抗体による効果によって半導体チップの上下を流れるレ
ジンは、前記ゲートとは逆の位置にあるエアーベント側
で合流するため、従来のように半導体チップが上に押し
上げられることもなく、半導体チップの上下のレジン厚
さはそれぞれ設計値通りとなり、高い耐湿性を維持する
ようになる。
Further, in the manufacture of the semiconductor device having the LOC structure of the present invention, during transfer molding, the resin flowing above and below the semiconductor chip due to the effect of the flow resistor is located on the air vent side opposite to the gate. Since the semiconductor chips are not joined together, the resin thickness above and below the semiconductor chip does not exceed the design value as in the conventional case, and high moisture resistance can be maintained.

【0013】本発明の他の実施例によるリード内端が薄
くなるLOC構造の半導体装置の製造においては、半導
体チップが貼り付けられるリードの内端部分がその途中
から先端に亘って薄くなっているリードフレームが使用
され、このリードフレームのリード内端部分に半導体チ
ップが接着された後、トランスファモールドによってパ
ッケージが形成されるが、前記トランスファモールド
時、ゲートからキャビティ内に流入したレジンは、半導
体チップの上空間と下空間に別れて進むが、下空間に比
べて薄い上空間において、上空間の中央にそれぞれ突出
延在するリード内端部分は薄くなり、レジン流路を実質
的に深くすることになるため、従来に比較して速く進む
ことになる。したがって、レジンが一方の空間から他方
の空間に激しく流入することもなく、上空間と下空間を
流れて来たレジンはで時を同じくしてエアーベント部分
で合流し、かつ一緒となってフローキャビティ内に流れ
込むため、発生したボイドも一緒にフローキャビティ内
に流入し、キャビティ部分にボイドが残留しなくなる。
この結果、本発明の製造方法によって製造された本発明
の半導体装置は、パッケージ内にボイドが無く、耐湿性
に優れたものとなる。また、本発明によるリードフレー
ムは、耐湿性に優れたLOC構造の半導体装置の製造に
寄与するものとなる。
In the manufacture of a LOC structure semiconductor device in which the inner ends of the leads are thinned according to another embodiment of the present invention, the inner ends of the leads to which the semiconductor chips are attached are thinned from the middle to the tip. A lead frame is used, and a semiconductor chip is adhered to the inner ends of the leads of the lead frame, and then a package is formed by transfer molding. During the transfer molding, the resin flowing into the cavity from the gate is a semiconductor chip. The upper inner space and the lower space are separated, but in the upper space, which is thinner than the lower space, the inner ends of the leads that project and extend in the center of the upper space become thin, and the resin flow path must be substantially deep. Therefore, it will be faster than the conventional one. Therefore, the resin does not violently flow into the other space from one space, and the resin flowing in the upper space and the lower space merge at the same time at the air vent part and flow together. Since it flows into the cavity, the generated void also flows into the flow cavity, and the void does not remain in the cavity portion.
As a result, the semiconductor device of the present invention manufactured by the manufacturing method of the present invention has no voids in the package and is excellent in moisture resistance. Moreover, the lead frame according to the present invention contributes to the manufacture of a semiconductor device having a LOC structure having excellent moisture resistance.

【0014】[0014]

【実施例】以下図面を参照して本発明の一実施例につい
て説明する。図1は本発明の一実施例による半導体装置
の要部を示す縦断面図、図2は同じく半導体装置の平面
図、図3は同じく半導体装置の要部を示す横断面図、図
4は本発明の半導体装置の製造に用いるリードフレーム
を示す平面図、図5は同じく半導体チップが固定された
リードフレームを示す平面図、図6は同じく半導体チッ
プの裏面に流動抵抗体が貼り付けられたリードフレーム
を示す底面図、図7は同じくモールド状態を示す模式的
平面図、図8は同じくモールド状態を示す断面図であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a vertical cross-sectional view showing a main part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the same semiconductor device, FIG. 3 is a cross-sectional view showing the same part of a semiconductor device, and FIG. FIG. 5 is a plan view showing a lead frame used for manufacturing the semiconductor device of the invention, FIG. 5 is a plan view showing a lead frame to which a semiconductor chip is similarly fixed, and FIG. 6 is a lead having a flow resistor attached to the back surface of the semiconductor chip. FIG. 8 is a bottom view showing the frame, FIG. 7 is a schematic plan view showing the same molded state, and FIG. 8 is a sectional view showing the same molded state.

【0015】本発明の半導体装置1は、外観的には図1
乃至図3に示すように、レジンで形成されるパッケージ
2と、このパッケージ2の両側から突出する金属製の複
数のリード3とからなっている。前記リード3は先端が
パッケージ2の下側に回り込むJ−リードとなってい
る。また、前記パッケージ2内には、LSI(大規模集
積回路装置)が形成されたチップ(半導体チップ)4が
設けられている。この半導体チップ4は、パッケージ2
内のリード内端部(インナー・リード)5の下面に絶縁
性接着体6を介して接着され、LOC構造を構成してい
る。前記絶縁性接着体6は、たとえば、両面に接着剤を
塗布した80μmの厚さのポリイミド・テープからなる
絶縁テープ6となっている。また、インナー・リード5
の先端と、半導体チップ4の図示しない電極は、直径が
30μmとなる金線からなるワイヤ7で電気的に接続さ
れている。
The semiconductor device 1 of the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the package 2 is made of resin, and the leads 3 are made of metal and project from both sides of the package 2. The lead 3 is a J-lead whose tip wraps around the lower side of the package 2. A chip (semiconductor chip) 4 having an LSI (Large Scale Integrated Circuit Device) formed therein is provided in the package 2. This semiconductor chip 4 is a package 2
It is bonded to the lower surface of the inner end portion (inner lead) 5 of the inner lead via an insulating adhesive 6 to form a LOC structure. The insulating adhesive body 6 is, for example, an insulating tape 6 made of a polyimide tape having a thickness of 80 μm and having an adhesive applied on both sides. Also, inner lead 5
Of the semiconductor chip 4 and an electrode (not shown) of the semiconductor chip 4 are electrically connected by a wire 7 made of a gold wire having a diameter of 30 μm.

【0016】一方、これが本発明の特徴の一つである
が、前記半導体チップ4の下面の一端側、すなわち前記
パッケージ2を形成する際、トランスファモールド装置
のモールド上・下型によって形成されるキャビティ内に
レジンを流入させる二点鎖線で示すゲート25が設けら
れる側の半導体チップ4の幅全域に亘って流動抵抗体9
が設けられている。この流動抵抗体9は、たとえば、一
面に接着剤を塗布したポリイミド・テープからなってい
る。ここで、各部の厚さについて記載すると、半導体チ
ップ4の厚さは280μm、絶縁テープ6の厚さは80
μm、リード3の厚さは125μmとなっている。ま
た、チップ4の下面側のレジン(チップ下レジン)の厚
さは320μmとなるとともに、チップ4の上面側、厳
密にはリード3の上面側のレジン(チップ上レジン)の
厚さは195μmとなり、パッケージ2の厚さは1mm
となる。また、前記流動抵抗体9の厚さは、半導体装置
1の製造におけるトランスファモールド時、チップ4の
下空間に流れ込んだレジンがチップ4の上空間に流れ込
まないように、下空間に流れ込むレジンの流速を制御で
きる厚さとなり、たとえば、120〜130μm程度の
厚さとなっている。また、流動抵抗体9の端は、レジン
の流れを乱さないように、傾斜面とすることが望まし
い。
On the other hand, this is one of the features of the present invention. A cavity formed by the upper and lower molds of a transfer mold device when forming one end of the lower surface of the semiconductor chip 4, that is, the package 2. The flow resistor 9 is provided over the entire width of the semiconductor chip 4 on the side where the gate 25 indicated by the chain double-dashed line for flowing the resin therein is provided.
Is provided. The flow resistor 9 is made of, for example, a polyimide tape whose one surface is coated with an adhesive. Here, describing the thickness of each part, the semiconductor chip 4 has a thickness of 280 μm, and the insulating tape 6 has a thickness of 80 μm.
μm, and the thickness of the lead 3 is 125 μm. The thickness of the resin on the lower surface of the chip 4 (the resin under the chip) is 320 μm, and the thickness of the resin on the upper surface of the chip 4, strictly speaking, the resin on the upper surface of the leads 3 (on-chip resin) is 195 μm. , The thickness of package 2 is 1mm
Becomes The thickness of the flow resistor 9 is set so that the resin flowing into the lower space of the chip 4 does not flow into the upper space of the chip 4 during transfer molding in manufacturing the semiconductor device 1 so that the resin flows into the lower space. Can be controlled, for example, the thickness is about 120 to 130 μm. Further, it is desirable that the end of the flow resistor 9 be an inclined surface so as not to disturb the flow of the resin.

【0017】このような半導体装置1は、後の製造方法
において詳細に説明するが、パッケージ2内にボイドが
残留していないことから、耐湿性が良好であるととも
に、チップ4も浮き上がったり傾いたりしていないこと
から、チップ4,インナー・リード5,ワイヤ7等を被
うパッケージ2のレジン厚さが、局所的に薄くなるよう
なことがなく、被覆性が高いものとなる。
The semiconductor device 1 as described above will be described in detail in a later manufacturing method. Since no voids remain in the package 2, moisture resistance is good and the chip 4 also rises or tilts. Since this is not done, the resin thickness of the package 2 covering the chip 4, the inner leads 5, the wires 7, etc. does not become locally thin, and the coverage is high.

【0018】つぎに、本発明の半導体装置1の製造方法
について、図4〜図8を参照しながら説明する。半導体
装置1の製造においては、図4に示すように、厚さ12
5μmのSOJ用のリードフレーム12が用意される。
このリードフレーム12は、Fe−Ni合金板やCu合
金板をエッチングによりまたはプレスによってパターニ
ングすることによって製造される。リードフレーム12
は、図4に示すように、一対の平行に延在する外枠13
と、この一対の外枠13連結しかつ外枠13直交する方
向に延在する一対の内枠14とによって形成される枠構
造となっている。また、前記内枠14の内側から外枠1
3に平行に複数のリード3が延在している。これらリー
ド3は、その途中部分をダム15によって支持されてい
る。これらダム15は前記内枠14に平行となり、外枠
13から外枠13に亘って延在する。ダム15の内側の
リード内端部(インナー・リード)5にあっては、それ
ぞれ両側のインナー・リード5は枠の中央側に屈曲して
いる。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. In manufacturing the semiconductor device 1, as shown in FIG.
A lead frame 12 for 5 μm SOJ is prepared.
The lead frame 12 is manufactured by patterning an Fe-Ni alloy plate or a Cu alloy plate by etching or pressing. Lead frame 12
Is a pair of parallel extending outer frames 13 as shown in FIG.
And a pair of inner frames 14 connected to each other and extending in a direction orthogonal to the outer frame 13 has a frame structure. In addition, from the inside of the inner frame 14 to the outer frame 1
A plurality of leads 3 extend in parallel with 3. These leads 3 are supported by a dam 15 at their midpoints. These dams 15 are parallel to the inner frame 14 and extend from the outer frame 13 to the outer frame 13. In the inner lead portion (inner lead) 5 inside the dam 15, the inner leads 5 on both sides are bent toward the center of the frame.

【0019】つぎに、このようなリードフレーム12に
対して、図5に示すように、厚さ280μmのLSIか
らなる半導体チップ4が、図1および図3に示すように
絶縁性接着体(絶縁テープ)6を介して接着される。前
記絶縁テープ6は、両面に接着剤を塗布したポリイミド
・テープからなり、厚さは80μmとなっている。この
絶縁テープ6は、一部で開口し、半導体チップ4の図示
しない電極部分が露出するようになっている。
Next, as shown in FIG. 5, a semiconductor chip 4 made of an LSI having a thickness of 280 μm is attached to such a lead frame 12 as shown in FIG. 1 and FIG. It is adhered via a tape 6. The insulating tape 6 is made of a polyimide tape whose both surfaces are coated with an adhesive, and has a thickness of 80 μm. The insulating tape 6 is partially opened so that an electrode portion (not shown) of the semiconductor chip 4 is exposed.

【0020】つぎに、図1,図5および図6に示すよう
に、前記チップ4の下面に流動抵抗体9が貼り付けられ
る。この流動抵抗体9は、たとえば、一面に接着剤を塗
布したポリイミド・テープからなり、120〜130μ
mの厚さとなっている。この流動抵抗体9は、後工程の
トランスファモールド時に、モールド上・下型によって
形成されるキャビティ内に、ゲートからレジンを流入さ
せた際、チップ4の下空間に流れ込むレジンの流入速度
を遅くさせ、チップ4の上空間と下空間を進むレジンの
速度を略同じとさせる働きをし、一方の空間から他方の
空間に激しくレジンが回り込んで多量のボイドの発生を
抑えるようにし、あるいは一方の空間を先回りしたレジ
ンが、ボイドを含むレジンをキャビティ内に閉じ込めな
いようにする役割を果たす。このようなことから、前記
流動抵抗体9は、図7および図8に示すように、レジン
24を注入するゲート25寄りに、かつチップ4の全幅
に亘って設けられている。
Next, as shown in FIGS. 1, 5 and 6, a flow resistor 9 is attached to the lower surface of the chip 4. The flow resistor 9 is made of, for example, a polyimide tape whose one surface is coated with an adhesive, and is 120 to 130 μm.
It has a thickness of m. This flow resistor 9 slows down the inflow speed of the resin that flows into the lower space of the chip 4 when the resin flows from the gate into the cavity formed by the upper and lower molds during transfer molding in the subsequent process. , Which acts to make the speed of the resin traveling in the upper space and the lower space of the tip 4 approximately the same, and to suppress the generation of a large amount of voids by violently flowing the resin from one space to the other space, or The resin that precedes the space serves to prevent the resin containing voids from being confined in the cavity. For this reason, as shown in FIGS. 7 and 8, the flow resistor 9 is provided near the gate 25 into which the resin 24 is injected and over the entire width of the chip 4.

【0021】つぎに、図7に示すように、インナー・リ
ード5とチップ4の図示しない電極は、直径30μmの
金線からなるワイヤ7で電気的に接続される。
Next, as shown in FIG. 7, the inner lead 5 and the electrode (not shown) of the chip 4 are electrically connected by a wire 7 made of a gold wire having a diameter of 30 μm.

【0022】つぎに、ワイヤボンディングが終了したリ
ードフレーム12は、図7および図8に示すように、ト
ランスファモールド装置のモールド上・下型20,21
間に型締めされ、かつモールドが行われる。モールド上
・下型20,21にはそれぞれ窪みが設けられているこ
とから、型締めによって厚さ1mmのキャビティ23が
形成される。また、モールド上・下型20,21の型締
めによって、前記キャビティ23に対して、レジン24
を注入するゲート25、キャビティ23内の空気を逃が
す空間(エアーベント26)、このエアーベント26に
連なるフローキャビティ27も形成される。その後、前
記ゲート25からキャビティ23内に溶けたレジン24
が注入される。レジン24はキャビティ23がリードフ
レーム12のインナー・リード5やチップ4によって上
下に区分けされるような状態となることから、レジン2
4はキャビティ23におけるチップ4上の上空間30
と、チップ4の下の下空間31に別れてキャビティ23
内をエアーベント26方向に進む。
Next, the lead frame 12 after the wire bonding is completed, as shown in FIGS. 7 and 8, the upper and lower molds 20, 21 of the transfer molding apparatus.
The mold is clamped in between and the molding is performed. Since the upper and lower molds 20 and 21 are provided with depressions, respectively, a cavity 23 having a thickness of 1 mm is formed by mold clamping. In addition, by clamping the upper and lower molds 20 and 21, the resin 24 is inserted into the cavity 23.
A gate 25 for injecting air, a space (air vent 26) for allowing air in the cavity 23 to escape, and a flow cavity 27 continuous with the air vent 26 are also formed. Then, the resin 24 melted from the gate 25 into the cavity 23
Is injected. Since the cavity 23 is divided into upper and lower parts by the inner leads 5 of the lead frame 12 and the chips 4, the resin 24 is
4 is an upper space 30 on the chip 4 in the cavity 23
And the cavity 23 separated into the lower space 31 under the chip 4.
Proceed in the direction of air vent 26.

【0023】前記上空間30は、チップ4の上では40
0μmの厚さとなり、下空間31の厚さ320μmに対
して厚くなっているが、チップ4の上に80μmの厚さ
の絶縁テープ6を介して接着したインナー・リード5の
上では195μmと薄い。この結果、上空間30におけ
るレジン流路は、レジン24の流れ方向に沿って400
μmの深さと195μmの深さが交互に現れる凹凸のあ
る流路となるとともに、30μmの太さのワイヤ7がレ
ジンの流れの障害となる。また、下空間31は下面およ
び両側面はモールド上型20による平坦な面となるとと
もに、上面の殆どはチップ4の下面による平坦な面とな
るためレジン24が流れ易い。したがって、レジン24
は上空間30よりも下空間31で流れ易くなる。一方、
レジン24の先端部分は、進むにつれて空気を巻き込む
ため、多量の気泡(ボイド)が発生する。先端レジン部
分が速やかにエアーベント26を通ってフローキャビテ
ィ27内に流入すれば、キャビティ23内にボイドが残
留しないことになる。しかし、従来の場合には、上空間
30に下空間31を通って回り込んだレジン24が、先
回りして上空間30内に流れ込むため、上空間30を流
れて来たレジン24と、下空間31から回り込んで来た
レジン24が激しくぶつかってより多くの気泡が発生す
る。そして、これらボイドを多く含むレジンは、下空間
31内に先回りしてエアーベント26を塞ぐレジンによ
ってエアーベント26内に円滑に流れ難くなり、キャビ
ティ23内に多くのボイドが残留する原因となる。
The upper space 30 is 40 above the chip 4.
The thickness is 0 μm, which is thicker than the thickness 320 μm of the lower space 31, but thin as 195 μm on the inner lead 5 bonded to the chip 4 via the insulating tape 6 having a thickness of 80 μm. . As a result, the resin flow path in the upper space 30 becomes 400 along the flow direction of the resin 24.
The depth of .mu.m and the depth of 195 .mu.m are alternately formed, and the flow path is uneven, and the wire 7 having a thickness of 30 .mu.m obstructs the flow of the resin. The lower space 31 has a lower surface and both side surfaces that are flat surfaces formed by the upper mold 20, and most of the upper surface is a flat surface formed by the lower surface of the chip 4, so that the resin 24 easily flows. Therefore, the resin 24
Becomes easier to flow in the lower space 31 than in the upper space 30. on the other hand,
Since air is entrained in the tip portion of the resin 24 as it advances, a large amount of bubbles (voids) are generated. If the tip resin portion quickly flows into the flow cavity 27 through the air vent 26, no void will remain in the cavity 23. However, in the conventional case, the resin 24 that has flowed into the upper space 30 through the lower space 31 flows ahead into the upper space 30, so that the resin 24 that has flowed through the upper space 30 and the lower space The resin 24 wrapping around from 31 collides violently and more bubbles are generated. Then, the resin containing many voids becomes difficult to smoothly flow into the air vent 26 due to the resin that goes ahead in the lower space 31 and closes the air vent 26, which causes many voids to remain in the cavity 23.

【0024】これに対して、本発明の場合には、前記流
動抵抗体9を下空間31に臨むチップ4の下面に設けて
いる。この結果、図8に示すように流動抵抗体9は、下
空間31でのレジン24の流れが、上空間30でのレジ
ン24の流れと略同じようになるように作用する。した
がって、上空間30および下空間31を流れるレジン2
4の先端部分は、同時にあるいは流れを乱さず相前後し
てエアーベント26を通ってフローキャビティ27内に
流れ込むことから、多量にボイドを含む先端レジン部分
は、キャビティ23内に残留しなくなる。この結果、封
止(モールド)が完了して形成されたパッケージ2内に
ボイドが存在しなくなる。なお、レジン24の流れを乱
さないようにするために、前記流動抵抗体9の両端部分
は、図1に示すように傾斜面とすることが望ましい。
On the other hand, in the case of the present invention, the flow resistor 9 is provided on the lower surface of the chip 4 facing the lower space 31. As a result, as shown in FIG. 8, the flow resistance body 9 acts so that the flow of the resin 24 in the lower space 31 becomes substantially the same as the flow of the resin 24 in the upper space 30. Therefore, the resin 2 flowing through the upper space 30 and the lower space 31
The tip portions of No. 4 flow into the flow cavity 27 through the air vents 26 at the same time or sequentially without disturbing the flow, so that the tip resin portion containing a large amount of voids does not remain in the cavity 23. As a result, voids do not exist in the package 2 formed after the sealing (molding) is completed. In order to prevent the flow of the resin 24 from being disturbed, it is desirable that both end portions of the flow resistor 9 be inclined surfaces as shown in FIG.

【0025】また、このトランスファモールドにおいて
は、上空間30を流れるレジン24や、下空間31を流
れるレジン24は略同じ速度で上空間30および下空間
31を進むため、チップ4を押し上げたり、押し下げた
りする大きな力はチップ4等に作用しなくなり、チップ
4の浮き上がり,捩じれ,傾斜が発生せず、レジンによ
る被覆性は良好となる。
Further, in this transfer mold, the resin 24 flowing in the upper space 30 and the resin 24 flowing in the lower space 31 advance in the upper space 30 and the lower space 31 at substantially the same speed, so that the chip 4 is pushed up or pushed down. The large force that acts on the tip 4 does not act on the tip 4 or the like, and the tip 4 does not rise, twist, or tilt, and the coverage with the resin becomes good.

【0026】つぎに、前記リードフレーム1はモールド
上・下型20,21から取り外され、不要リードフレー
ム部分が切断除去されるとともに、リード成形が行わ
れ、たとえば図3に示されるようなJ−リード型の半導
体装置1が製造される。
Next, the lead frame 1 is removed from the upper and lower molds 20 and 21, the unnecessary lead frame portions are cut and removed, and lead molding is performed. For example, as shown in FIG. The lead type semiconductor device 1 is manufactured.

【0027】[0027]

【発明の効果】(1)本発明の半導体装置の製造方法に
よれば、トランスファモールド時、キャビティ内のワー
クの上・下空間を流れるレジンの速度を均一にすること
から、レジンの流れが乱れず、ボイドを含む先端レジン
は、速やかにエアーベントを通ってフローキャビティに
流れ込み、ボイドを含まないパッケージが形成できると
いう効果が得られる。
(1) According to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, at the time of transfer molding, the speed of the resin flowing in the upper and lower spaces of the work in the cavity is made uniform, so that the resin flow is disturbed. Instead, the tip resin containing voids quickly flows into the flow cavity through the air vent, and an effect that a package not containing voids can be formed is obtained.

【0028】(2)上記(1)により、本発明の半導体
装置の製造方法によれば、トランスファモールド時、キ
ャビティ内のワークの上・下空間を流れるレジンの速度
は均一となることから、キャビティ内でのレジンの充填
性が安定するという効果が得られる。
(2) According to the above method (1), the semiconductor device manufacturing method according to the present invention makes the speed of the resin flowing in the upper and lower spaces of the work in the cavity uniform during transfer molding. The effect that the filling property of the resin inside is stable is obtained.

【0029】(3)上記(1)により、本発明の半導体
装置の製造方法によれば、トランスファモールド時、キ
ャビティ内のワークの上・下空間を流れるレジンの速度
は均一となることから、レジンが半導体チップ等(ワー
ク)を押し上げたりあるいは押し下げたりすることがな
く、チップ4の浮き上がり、捩じれ,傾斜が発生せず、
極小的にレジンが薄くなるようなこともなく、レジンに
よる被覆性は良好となるという効果が得られる。
(3) According to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention according to the above (1), the speed of the resin flowing in the upper and lower spaces of the work in the cavity becomes uniform during transfer molding. Does not push up or push down the semiconductor chip or the like (workpiece), and the chip 4 does not rise, twist, or tilt,
It is possible to obtain the effect that the resin does not become extremely thin and the coverage with the resin becomes good.

【0030】(4)上記(3)により、本発明の半導体
装置の製造方法によれば、パッケージの薄型化が達成で
きるという効果が得られる。
(4) Due to the above (3), according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is possible to obtain the effect that the thinning of the package can be achieved.

【0031】(5)上記(1)〜(3)により、本発明
の半導体装置の製造方法によれば、パッケージ内にボイ
ドが存在しない耐湿性が優れたLOC構造の半導体装置
を提供することができるという相乗効果が得られる。
(5) From the above (1) to (3), according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is possible to provide a semiconductor device having a LOC structure in which no void is present in the package and which is excellent in moisture resistance. The synergistic effect of being able to do is obtained.

【0032】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない、たとえば、
前記流動抵抗体9としては、シリコン材等他のものを用
いても前記実施例同様な効果が得られる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say, for example,
Even if another material such as a silicon material is used as the flow resistor 9, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0033】図9〜図11は本発明の他の実施例による
半導体装置の製造例を示すものである。図9はLOC構
造の半導体装置の要部を示す断面図、図10は同じく半
導体装置の製造に用いられるリードフレームを示す平面
図、図11は同じく半導体装置の製造におけるモールド
状態を示す模式的平面図である。本発明の他の実施例に
よる半導体装置1においては、チップ4の下面に流動抵
抗体9を設けない代わりに、図9に示すように、チップ
4に接着されるリード内端部(インナー・リード)5を
途中から薄く(肉薄部35:図10および図11では、
薄くした肉薄部35はハッチングが施されて示されてい
る)して、図11に示すように、レジンの流れ方向に沿
う流動抵抗の低減を図っている。リード3は125μm
の厚さとなっているが、前記肉薄部35はその約半分の
60μm程度となっている。したがって、上空間30に
おけるレジン流路は、レジン24の流れ方向に沿って4
00μmの深さと255μmの深さが交互に現れる凹凸
を有する流路となる。これによって、この実施例の場合
も、前記実施例の場合と同様に従来に比較して、上空間
30でのレジン24の流れが良くなり、上空間30を流
れるレジン24と、下空間31を流れるレジン24とは
略同じ速度で各空間を流れるため、上空間30および下
空間31を流れる先端レジン部分は、一緒にあるいは流
れを乱すことなく相前後してエアーベント26を通って
フローキャビティ27に流れ込むことになり、キャビテ
ィ23にボイドを残留させないようになる。前記肉薄部
35はプレス成形やエッチングによって形成される。ま
た、各インナー・リード5における肉薄部35の長さ
は、たとえばゲート25に近い側では短く、遠くなるに
つれて徐々に長くなるようにして、チップ4とインナー
・リード5全体との支持強度を高くするようにしても良
い。
9 to 11 show an example of manufacturing a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. FIG. 9 is a cross-sectional view showing a main part of a semiconductor device having a LOC structure, FIG. 10 is a plan view showing a lead frame used for manufacturing the semiconductor device, and FIG. 11 is a schematic plan view showing a molding state in manufacturing the semiconductor device. It is a figure. In the semiconductor device 1 according to another embodiment of the present invention, the flow resistor 9 is not provided on the lower surface of the chip 4, but as shown in FIG. ) 5 is thin from the middle (thin portion 35: in FIGS. 10 and 11,
The thinned thin portion 35 is shown by hatching) to reduce the flow resistance along the resin flow direction, as shown in FIG. Lead 3 is 125 μm
However, the thin portion 35 has a thickness of about 60 μm, which is about half the thickness of the thin portion 35. Therefore, the resin flow path in the upper space 30 is 4 along the flow direction of the resin 24.
The flow path has irregularities in which a depth of 00 μm and a depth of 255 μm alternate. As a result, also in the case of this embodiment, the flow of the resin 24 in the upper space 30 is improved, and the resin 24 flowing in the upper space 30 and the lower space 31 are improved as compared with the conventional case. Since the flowing resin 24 flows through each space at substantially the same speed, the tip resin portions flowing through the upper space 30 and the lower space 31 pass through the air vent 26 and the flow cavity 27 either together or before or after without disturbing the flow. Therefore, the voids do not remain in the cavity 23. The thin portion 35 is formed by press molding or etching. Further, the length of the thin portion 35 of each inner lead 5 is, for example, short on the side close to the gate 25 and gradually increases as the distance increases, thereby increasing the support strength of the chip 4 and the inner lead 5 as a whole. It may be done.

【0034】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるLOC
構造の半導体装置の製造技術に適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、たとえば、
COL構造の半導体装置の製造技術などに適用できる。
本発明は少なくともトランスファモールド時のキャビテ
ィにおいて、ワークの上空間と、ワークの下空間でレジ
ン流動速度が甚だしく異なる場合のモールド技術には適
用できる。
In the above description, the LOC which is the field of application of the invention mainly made by the present inventor was the background.
The case where the invention is applied to the manufacturing technology of a semiconductor device having a structure has been described, but the invention is not limited thereto.
It can be applied to manufacturing technology of semiconductor devices having a COL structure.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to a molding technique in which the resin flow velocity is extremely different between the upper space of the work and the lower space of the work at least in the cavity during transfer molding.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例による半導体装置の要部を
示す縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view showing a main part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施例による半導体装置の平面図
である。
FIG. 2 is a plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の一実施例による半導体装置の要部を
示す横断面図である。
FIG. 3 is a lateral cross-sectional view showing a main part of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の一実施例による半導体装置の製造に
用いるリードフレームを示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a lead frame used for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の一実施例による半導体装置の製造に
おいて半導体チップが固定されたリードフレームを示す
平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a lead frame to which a semiconductor chip is fixed in manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の一実施例による半導体装置の製造に
おいて半導体チップの裏面に流動抵抗体が貼り付けられ
たリードフレームを示す底面図である。
FIG. 6 is a bottom view showing a lead frame in which a flow resistor is attached to the back surface of a semiconductor chip in the manufacture of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の一実施例による半導体装置の製造に
おけるモールド状態を示す模式的平面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view showing a molded state in the manufacture of a semiconductor device according to an example of the present invention.

【図8】 本発明の一実施例による半導体装置の製造に
おけるモールド状態を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a molded state in the manufacture of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の他の実施例による半導体装置の要部
を示す断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing a main part of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の他の実施例の半導体装置の製造に
用いるリードフレームを示す平面図である。
FIG. 10 is a plan view showing a lead frame used for manufacturing a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の他の実施例による半導体装置の製
造におけるモールド状態を示す模式的平面図である。
FIG. 11 is a schematic plan view showing a molded state in the manufacture of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体装置、2…パッケージ、3…リード、4…半
導体チップ、5…リード内端部(インナー・リード)、
6…絶縁性接着体(絶縁テープ)、7…ワイヤ、9…流
動抵抗体、12…リードフレーム、13…外枠、14…
内枠、15…ダム、20…モールド上型、21…モール
ド下型、23…キャビティ、24…レジン、25…ゲー
ト、26…エアーベント、27…フローキャビティ、3
0…上空間、31…下空間、35…肉薄部。
1 ... Semiconductor device, 2 ... Package, 3 ... Lead, 4 ... Semiconductor chip, 5 ... Lead inner end portion (inner lead),
6 ... Insulating adhesive (insulating tape), 7 ... Wire, 9 ... Flow resistor, 12 ... Lead frame, 13 ... Outer frame, 14 ...
Inner frame, 15 ... Dam, 20 ... Mold upper mold, 21 ... Mold lower mold, 23 ... Cavity, 24 ... Resin, 25 ... Gate, 26 ... Air vent, 27 ... Flow cavity, 3
0 ... upper space, 31 ... lower space, 35 ... thin part.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レジンからなるパッケージと、前記パッ
ケージの内外に亘って延在する複数の金属製のリード
と、前記パッケージ内の複数のリード内端部の一面に絶
縁性接着体を介して接続される半導体チップとを有する
半導体装置であって、前記パッケージのレジンが注入さ
れる側寄りの半導体チップ面には部分的に流動抵抗体が
設けられていることを特徴とする半導体装置。
1. A package made of a resin, a plurality of metal leads extending inside and outside the package, and connected to one surface of an inner end portion of the leads in the package via an insulating adhesive. A semiconductor device having a semiconductor chip formed therein, wherein a flow resistor is partially provided on a surface of the semiconductor chip on a side of the package where the resin is injected.
【請求項2】 レジンからなるパッケージと、前記パッ
ケージの内外に亘って延在する複数の金属製のリード
と、前記パッケージ内の複数のリード内端部の一面に絶
縁性接着体を介して接続される半導体チップとを有する
半導体装置であって、前記半導体チップ上のリードはそ
の途中から先端に亘って薄くなっていることを特徴とす
る半導体装置。
2. A package made of a resin, a plurality of metallic leads extending inside and outside the package, and connected to one surface of an inner end portion of the leads in the package via an insulating adhesive. A semiconductor device having a semiconductor chip as described above, wherein the lead on the semiconductor chip is thinned from the middle to the tip.
【請求項3】 リードフレームのリード内端部の一面に
絶縁性接着体を介して半導体チップを接着する工程と、
前記リードフレームをトランスファモールド型の上・下
型に挟んだ後ゲートからレジンをキャビティ内に注入し
てパッケージを形成する工程とを有する半導体装置の製
造方法であって、前記トランスファモールド前に前記ゲ
ート側寄りの半導体チップ面にレジンの流れの抵抗とな
る流動抵抗体をあらかじめ設けておくことを特徴とする
半導体装置の製造方法。
3. A step of bonding a semiconductor chip to one surface of a lead inner end portion of a lead frame via an insulating adhesive.
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of sandwiching the lead frame between upper and lower molds of a transfer mold and injecting a resin from a gate into a cavity to form a package, wherein the gate is formed before the transfer molding. A method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that a flow resistor, which serves as a resistance against a resin flow, is previously provided on a side surface of a semiconductor chip.
【請求項4】 リードフレームのリード内端部の一面に
絶縁性接着体を介して半導体チップを接着する工程と、
前記リードフレームをトランスファモールド型の上・下
型に挟んだ後ゲートからレジンをキャビティ内に注入し
てパッケージを形成する工程とを有する半導体装置の製
造方法であって、前記リードフレームの前記半導体チッ
プに貼り付けられるリード内端部を途中から先端に亘っ
て薄くなるようにあらかじめ形成しておき、その後半導
体チップを絶縁性接着体を介して接着することを特徴と
する半導体装置の製造方法。
4. A step of adhering a semiconductor chip to one surface of a lead inner end portion of a lead frame via an insulating adhesive.
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of sandwiching the lead frame between upper and lower molds of a transfer mold and injecting a resin from a gate into a cavity to form a package, wherein the semiconductor chip of the lead frame is provided. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming an inner end portion of a lead to be thinned in advance from the middle to a front end so as to be thin, and thereafter bonding a semiconductor chip through an insulating adhesive.
【請求項5】 レジンからなるパッケージと、前記パッ
ケージの内外に亘って延在する複数の金属製のリード
と、前記パッケージ内の複数のリード内端部の一面に絶
縁性接着体を介して接続される半導体チップとを有する
半導体装置の製造に用いられるリードフレームであっ
て、前記半導体チップに貼り付けられるリード内端部は
途中から先端に亘って薄く形成されていることを特徴と
するリードフレーム。
5. A package made of a resin, a plurality of metal leads extending inside and outside the package, and connected to one surface of an inner end portion of the leads in the package via an insulating adhesive. A lead frame used in the manufacture of a semiconductor device having a semiconductor chip, wherein an inner end portion of the lead attached to the semiconductor chip is thinly formed from the middle to the front end. .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011199146A (en) * 2010-03-23 2011-10-06 Mitsubishi Electric Corp Method for sealing electronic component with resin and electronic component sealed molding manufactured using the same

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