JPH06324269A - 顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法 - Google Patents
顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法Info
- Publication number
- JPH06324269A JPH06324269A JP13524093A JP13524093A JPH06324269A JP H06324269 A JPH06324269 A JP H06324269A JP 13524093 A JP13524093 A JP 13524093A JP 13524093 A JP13524093 A JP 13524093A JP H06324269 A JPH06324269 A JP H06324269A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料の特定の部位に容易に且つ正確にけがき
傷を入れることが出来、効率よく破断面を作製すること
が出来る顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを
用いた破断面作製方法を提供すること。 【構成】 光学顕微鏡の対物レンズの取り付け位置に設
置される構造を有するスクライバーと、光学顕微鏡の試
料ステージ部に設置されるスライド式試料ステージとか
らなることを特徴とする顕微鏡試料前処理用アタッチメ
ント及びこれを用いた破断面作製方法。
傷を入れることが出来、効率よく破断面を作製すること
が出来る顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを
用いた破断面作製方法を提供すること。 【構成】 光学顕微鏡の対物レンズの取り付け位置に設
置される構造を有するスクライバーと、光学顕微鏡の試
料ステージ部に設置されるスライド式試料ステージとか
らなることを特徴とする顕微鏡試料前処理用アタッチメ
ント及びこれを用いた破断面作製方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学顕微鏡及び走査型
電子顕微鏡等による試料の断面観察の為の、試料の前処
理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法に
関し、更に詳しくは、断面観察の為に特定された破断部
位付近にけがき傷を容易に且つ正確に作成し、破断面作
製を容易なものとすることが出来る顕微鏡試料前処理用
アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法に関す
る。
電子顕微鏡等による試料の断面観察の為の、試料の前処
理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法に
関し、更に詳しくは、断面観察の為に特定された破断部
位付近にけがき傷を容易に且つ正確に作成し、破断面作
製を容易なものとすることが出来る顕微鏡試料前処理用
アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡等で試
料断面の観察を行う場合には、試料前処理として観察す
べき特定の破断面を作製しておく必要がある。従来、該
前処理の方法としては、先ず、光学顕微鏡等の下で破断
部位にマーキングを行った後、ダイヤモンドスクライバ
ー等の道具を使用してマーキングが施されている部分に
けがき傷を入れ、その後破断する方法が一般に行われて
きた。
料断面の観察を行う場合には、試料前処理として観察す
べき特定の破断面を作製しておく必要がある。従来、該
前処理の方法としては、先ず、光学顕微鏡等の下で破断
部位にマーキングを行った後、ダイヤモンドスクライバ
ー等の道具を使用してマーキングが施されている部分に
けがき傷を入れ、その後破断する方法が一般に行われて
きた。
【０００３】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記した様な従来の前処理方法では、試料の微小部に正確
にマーキングすることが困難であり、更にマーキングし
た部分に正確にけがき傷を入れることが困難である為、
特に、試料の微小部の特定部位に効率よく破断面を作製
することが出来ないという問題点があった。従って、本
発明の目的は、試料の特定の部位に容易に且つ正確にけ
がき傷を入れることが出来、効率よく破断面を作製する
ことが出来る顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこ
れを用いた破断面作製方法を提供することにある。
記した様な従来の前処理方法では、試料の微小部に正確
にマーキングすることが困難であり、更にマーキングし
た部分に正確にけがき傷を入れることが困難である為、
特に、試料の微小部の特定部位に効率よく破断面を作製
することが出来ないという問題点があった。従って、本
発明の目的は、試料の特定の部位に容易に且つ正確にけ
がき傷を入れることが出来、効率よく破断面を作製する
ことが出来る顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこ
れを用いた破断面作製方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記の本
発明によって達成される。即ち、本発明は、光学顕微鏡
の対物レンズの取り付け位置に設置される構造を有する
スクライバーと、光学顕微鏡の試料ステージ部に設置さ
れるスライド式試料ステージとからなることを特徴とす
る顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた
破断面作製方法である。
発明によって達成される。即ち、本発明は、光学顕微鏡
の対物レンズの取り付け位置に設置される構造を有する
スクライバーと、光学顕微鏡の試料ステージ部に設置さ
れるスライド式試料ステージとからなることを特徴とす
る顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた
破断面作製方法である。
【０００５】
【作用】本発明によれば、顕微鏡観察用試料の特定部位
に容易に且つ正確にけがき傷を入れることが出来る為、
効率よく破断面の作製が出来る。
に容易に且つ正確にけがき傷を入れることが出来る為、
効率よく破断面の作製が出来る。
【０００６】
【好ましい実施態様】次に図面を参照して本発明を更に
具体的に説明する。図１は、本発明の顕微鏡試料前処理
用アタッチメントを取り付けた状態の光学顕微鏡の概略
図である。図中、１はスクライバー、２はスライド式試
料ステージ、３は光学顕微鏡本体、４は光学顕微鏡の対
物レンズ、５は光学顕微鏡の試料ステージ、６はレボル
バーを示す。図１に示す様に、本発明の顕微鏡試料前処
理用アタッチメントは、スクライバー１とスライド式試
料ステージ２とからなる。図２にスクライバー１の拡大
図を示し、図３にスライド式試料ステージ２の拡大図を
示した。図１に示す様にスクライバー１は、光学顕微鏡
の対物レンズを取りつける位置に対物レンズに換えて取
り付けることが出来る様に構成されており、更に、試料
にけがき傷を容易に作成することが出来る様に、先端は
ダイヤモンド等の固い物質でできており、且つ鋭く尖っ
た構造をしている。又、けがき傷を設ける試料表面に多
少の凹凸があっても、スクライバーと試料の間に適当な
圧力をかけ続けられる様、スクライバーの先端の高さ
が、バネ等で可変出来る様な構造となっている。光学顕
微鏡の試料ステージ５の上に設置されるスライド式試料
ステージ２は、試料の乗っている台１０をスライドさせ
ながら平行に移動することが出来る構造となっている。
この為、対物レンズ４とスクライバー１とを切り換える
際に、スクライバー１の先端で誤って試料の特定の部位
以外にけがき傷つけてしまうことがなく、光学顕微鏡で
断面観察を行いたい所望の試料の部位に、正確にけがき
傷をつけることが出来る為、本発明のアッタッチメント
を使用すれば、容易に且つ正確に試料の破断面作製をす
ることが出来る。
具体的に説明する。図１は、本発明の顕微鏡試料前処理
用アタッチメントを取り付けた状態の光学顕微鏡の概略
図である。図中、１はスクライバー、２はスライド式試
料ステージ、３は光学顕微鏡本体、４は光学顕微鏡の対
物レンズ、５は光学顕微鏡の試料ステージ、６はレボル
バーを示す。図１に示す様に、本発明の顕微鏡試料前処
理用アタッチメントは、スクライバー１とスライド式試
料ステージ２とからなる。図２にスクライバー１の拡大
図を示し、図３にスライド式試料ステージ２の拡大図を
示した。図１に示す様にスクライバー１は、光学顕微鏡
の対物レンズを取りつける位置に対物レンズに換えて取
り付けることが出来る様に構成されており、更に、試料
にけがき傷を容易に作成することが出来る様に、先端は
ダイヤモンド等の固い物質でできており、且つ鋭く尖っ
た構造をしている。又、けがき傷を設ける試料表面に多
少の凹凸があっても、スクライバーと試料の間に適当な
圧力をかけ続けられる様、スクライバーの先端の高さ
が、バネ等で可変出来る様な構造となっている。光学顕
微鏡の試料ステージ５の上に設置されるスライド式試料
ステージ２は、試料の乗っている台１０をスライドさせ
ながら平行に移動することが出来る構造となっている。
この為、対物レンズ４とスクライバー１とを切り換える
際に、スクライバー１の先端で誤って試料の特定の部位
以外にけがき傷つけてしまうことがなく、光学顕微鏡で
断面観察を行いたい所望の試料の部位に、正確にけがき
傷をつけることが出来る為、本発明のアッタッチメント
を使用すれば、容易に且つ正確に試料の破断面作製をす
ることが出来る。
【０００７】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明する。 ＜実施例１＞本発明の顕微鏡試料前処理用アタッチメン
トを用いて、Ｓｉ基板上に形成された２０μｍ角の素子
の断面観察の為の破断面の作製を行った。先ず、スライ
ド式試料ステージ２上に、スライド方向と破断面方向が
平行になる様にして試料を固定する。この際、試料表面
が上側になる様にして試料を固定する。次に、図１に示
した様に、スクライバー１と、上記の様にして試料を固
定したスライド式試料ステージ２を光学顕微鏡に夫々セ
ットする。アタッチメント及び試料のセットが終了した
ら、先ず、光学顕微鏡の対物レンズ４及び試料ステージ
５を用いて、２０μｍ角の素子を視野の中央にもってく
る。次に、対物レンズ４とスクライバー１とを切り換え
る際に、素子上にけがき傷をつけない様にする為、素子
をスライド方向にやや送った後、レボルバー６を回して
対物レンズ４をスクライバー１に切り換える。この際、
上述した様に、試料は、スライド式試料ステージ２のス
ライド方向と試料の破断面の方向とが平行になる様にし
てスライド式試料ステージ２上に固定されている為、素
子をスライド方向に送っても、試料が破断面方向からず
れることがない。対物レンズ４と切り換えられたスクラ
イバー１と試料表面間に適当な圧力がかかる程度に、フ
ォーカスつまみ７で試料ステージの高さを調節して、ス
クライバー先端部９を試料表面に接触させる。次に、素
子上にけがき傷を入れない様にスライド方向に注意しな
がら、試料ステージ２をスライドさせ、試料表面にけが
き傷を入れる。以上の手順で試料表面にけがき傷を入れ
た後、試料をステージから外し破断し、破断面を作製す
る。以上の様にして作製した本実施例の試料の破断面
を、走査型電子顕微鏡によって確認したところ、２０μ
ｍ角の微小部の素子の断面構造を明瞭に観察することが
出来た。
明する。 ＜実施例１＞本発明の顕微鏡試料前処理用アタッチメン
トを用いて、Ｓｉ基板上に形成された２０μｍ角の素子
の断面観察の為の破断面の作製を行った。先ず、スライ
ド式試料ステージ２上に、スライド方向と破断面方向が
平行になる様にして試料を固定する。この際、試料表面
が上側になる様にして試料を固定する。次に、図１に示
した様に、スクライバー１と、上記の様にして試料を固
定したスライド式試料ステージ２を光学顕微鏡に夫々セ
ットする。アタッチメント及び試料のセットが終了した
ら、先ず、光学顕微鏡の対物レンズ４及び試料ステージ
５を用いて、２０μｍ角の素子を視野の中央にもってく
る。次に、対物レンズ４とスクライバー１とを切り換え
る際に、素子上にけがき傷をつけない様にする為、素子
をスライド方向にやや送った後、レボルバー６を回して
対物レンズ４をスクライバー１に切り換える。この際、
上述した様に、試料は、スライド式試料ステージ２のス
ライド方向と試料の破断面の方向とが平行になる様にし
てスライド式試料ステージ２上に固定されている為、素
子をスライド方向に送っても、試料が破断面方向からず
れることがない。対物レンズ４と切り換えられたスクラ
イバー１と試料表面間に適当な圧力がかかる程度に、フ
ォーカスつまみ７で試料ステージの高さを調節して、ス
クライバー先端部９を試料表面に接触させる。次に、素
子上にけがき傷を入れない様にスライド方向に注意しな
がら、試料ステージ２をスライドさせ、試料表面にけが
き傷を入れる。以上の手順で試料表面にけがき傷を入れ
た後、試料をステージから外し破断し、破断面を作製す
る。以上の様にして作製した本実施例の試料の破断面
を、走査型電子顕微鏡によって確認したところ、２０μ
ｍ角の微小部の素子の断面構造を明瞭に観察することが
出来た。
【０００８】＜実施例２＞ガラス基板上に形成された２
０×３０μｍのトランジスタ（ＴＦＴ）を試料として破
断面の作製を行った。先ず、スライド式試料ステージ２
上に、スライド方向と破断面の方向が平行になる様に、
試料表面を下側にして試料を固定する。以下、実施例１
と同様に、先ずトランジスタ（ＴＦＴ）部を顕微鏡の視
野の中央にもってくる。次に、トランジスタ（ＴＦＴ）
部をスライド方向にやや送った後、レボルバー６を回し
て、対物レンズ４をスクライバー１に切り換える。切り
換えられたスクライバー１と試料表面間に適当な圧力が
かかる程度にフォーカスつまみ７で試料ステージの高さ
を調節し、スクライバー先端部９を試料表面に接触させ
る。次に、トランジスタ（ＴＦＴ）部にけがき傷を入れ
ない様にスライド方向に注意して、試料ステージ５をス
ライドさせ、トランジスタ（ＴＦＴ）部試料裏面にけが
き傷を入れる。その後、試料をスライド式試料ステージ
２から外し、破断する。以上の様に、試料の破断部付近
だけではなく、破断部裏面に直接けがき傷を入れること
により、破断が困難であるガラス基板でも容易に破断を
することが出来た。以上の手順で作製した本実施例の試
料の破断面にＰｔ蒸着を行った後、走査型電子顕微鏡に
よって確認したところ、２０×３０μｍのＴＦＴの断面
構造を明瞭に観察することが出来た。
０×３０μｍのトランジスタ（ＴＦＴ）を試料として破
断面の作製を行った。先ず、スライド式試料ステージ２
上に、スライド方向と破断面の方向が平行になる様に、
試料表面を下側にして試料を固定する。以下、実施例１
と同様に、先ずトランジスタ（ＴＦＴ）部を顕微鏡の視
野の中央にもってくる。次に、トランジスタ（ＴＦＴ）
部をスライド方向にやや送った後、レボルバー６を回し
て、対物レンズ４をスクライバー１に切り換える。切り
換えられたスクライバー１と試料表面間に適当な圧力が
かかる程度にフォーカスつまみ７で試料ステージの高さ
を調節し、スクライバー先端部９を試料表面に接触させ
る。次に、トランジスタ（ＴＦＴ）部にけがき傷を入れ
ない様にスライド方向に注意して、試料ステージ５をス
ライドさせ、トランジスタ（ＴＦＴ）部試料裏面にけが
き傷を入れる。その後、試料をスライド式試料ステージ
２から外し、破断する。以上の様に、試料の破断部付近
だけではなく、破断部裏面に直接けがき傷を入れること
により、破断が困難であるガラス基板でも容易に破断を
することが出来た。以上の手順で作製した本実施例の試
料の破断面にＰｔ蒸着を行った後、走査型電子顕微鏡に
よって確認したところ、２０×３０μｍのＴＦＴの断面
構造を明瞭に観察することが出来た。
【０００９】＜実施例３＞ＧａＡｓ基板をエッチングし
て形成された１０μｍ角の穴の破断面を、実施例１と同
様に作製し、光学顕微鏡で観察したところ、エッチング
で形成された１０μｍ角の穴の断面形態を明瞭に観察す
ることが出来、又、穴の深さを測定することが出来た。
て形成された１０μｍ角の穴の破断面を、実施例１と同
様に作製し、光学顕微鏡で観察したところ、エッチング
で形成された１０μｍ角の穴の断面形態を明瞭に観察す
ることが出来、又、穴の深さを測定することが出来た。
【００１０】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の顕微鏡試料
前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方
法により、顕微鏡観察用試料の特定部位にけがき傷を容
易且つ正確に設けることが出来、この結果、断面観察に
かかる顕微鏡試料の前処理において効率よく破断面を作
製をすることが出来る。又、本発明の破断面作製方法
は、ダメージの少ない破断作製方法であり、特に試料の
微小部の破断面の作製に有用である。
前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方
法により、顕微鏡観察用試料の特定部位にけがき傷を容
易且つ正確に設けることが出来、この結果、断面観察に
かかる顕微鏡試料の前処理において効率よく破断面を作
製をすることが出来る。又、本発明の破断面作製方法
は、ダメージの少ない破断作製方法であり、特に試料の
微小部の破断面の作製に有用である。
【図１】本発明の顕微鏡試料前処理用アタッチメントを
取り付けた光学顕微鏡の全体図である。
取り付けた光学顕微鏡の全体図である。
【図２】図１のスクライバー１の拡大概略図である。
【図３】図１のスライド式試料ステージ２の拡大平面図
である。
である。
１：スクライバー ２：スライド式試料ステージ ３：光学顕微鏡本体 ４：対物レンズ ５：試料ステージ ６：レボルバー ７：高さ調節ねじ ８：スライドつまみ ９：スクライバー先端部
Claims (2)
- 【請求項１】 光学顕微鏡の対物レンズの取り付け位置
に設置される構造を有するスクライバーと、光学顕微鏡
の試料ステージ部に設置されるスライド式試料ステージ
とからなることを特徴とする顕微鏡試料前処理用アタッ
チメント。 - 【請求項２】 光学顕微鏡の試料ステージ部に設置され
るスライド式試料ステージに試料を固定した後、光学顕
微鏡の対物レンズを用いて試料の破断部位を特定し、次
に光学顕微鏡の対物レンズをスクライバーに切り換えて
該特定された破断部位にけがき傷を入れ破断することを
特徴とする破断面作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13524093A JPH06324269A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13524093A JPH06324269A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06324269A true JPH06324269A (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=15147093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13524093A Pending JPH06324269A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06324269A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992010792A2 (en) * | 1990-12-14 | 1992-06-25 | Infographix, Inc. | Electrostatic image developer dispenser |
| JP2000046750A (ja) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Advanced Display Inc | 表面欠陥確認装置ならびに該装置を用いた基板欠陥分析方法および液晶表示装置の基板欠陥分析方法 |
| WO2002037158A3 (en) * | 2000-11-03 | 2003-01-30 | Cytyc Corp | Cytological imaging systems and methods |
| US7369304B2 (en) | 1999-10-29 | 2008-05-06 | Cytyc Corporation | Cytological autofocusing imaging systems and methods |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP13524093A patent/JPH06324269A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992010792A2 (en) * | 1990-12-14 | 1992-06-25 | Infographix, Inc. | Electrostatic image developer dispenser |
| WO1992010792A3 (en) * | 1990-12-14 | 1992-09-03 | Infographix Inc | Electrostatic image developer dispenser |
| JP2000046750A (ja) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Advanced Display Inc | 表面欠陥確認装置ならびに該装置を用いた基板欠陥分析方法および液晶表示装置の基板欠陥分析方法 |
| US7369304B2 (en) | 1999-10-29 | 2008-05-06 | Cytyc Corporation | Cytological autofocusing imaging systems and methods |
| US7446935B2 (en) | 1999-10-29 | 2008-11-04 | Cytyc Corporation | Cytological imaging systems and methods |
| US7468836B2 (en) | 1999-10-29 | 2008-12-23 | Cytyc Corporation | Cytological imaging systems and methods |
| US7667890B2 (en) | 1999-10-29 | 2010-02-23 | Cytyc Corporation | Cytological imaging systems and methods |
| WO2002037158A3 (en) * | 2000-11-03 | 2003-01-30 | Cytyc Corp | Cytological imaging systems and methods |
| AU2002228837B2 (en) * | 2000-11-03 | 2007-06-28 | Cytyc Corporation | Cytological imaging systems and methods |
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