JPH06316305A

JPH06316305A - ウエハ処理工程に用いられるウエハ保管装置

Info

Publication number: JPH06316305A
Application number: JP13112593A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Kaneda; 嘉行金田; Akira Kojima; 明小島; Toshirou Kizakihara; 稔郎木崎原; Takayuki Fukunaga; 孝之福永
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-05-07
Filing date: 1993-05-07
Publication date: 1994-11-15

Abstract

(57)【要約】【目的】保管中のウエハ表面の汚染を防止できるとと
もに、装置全体の小型化を可能としたウエハ保管装置を
提供する。【構成】装置本体１の内部に真空状態のウエハ保管室
２を設けた。また、ウエハ搬送装置５、６との間でウエ
ハの受け渡しを行うための入出庫部７、８を設けた。さ
らに、ウエハ搬送装置５、６とウエハ保管室２との間で
ウエハの出し入れを行いながらウエハ保管室２の真空状
態を維持する真空予備室１６を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被処理物となるウエハ
を処理装置間で一時的に保管するウエハ保管装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、一連のウエハ処理工程の中で
は、処理装置前後の処理能力の違いや突発的なトラブル
の発生などによって処理装置間にウエハを一時的に保管
する必要があり、そのための装置としてウエハ保管装置
が用いられる。図２は従来のウエハ保管装置を説明する
図であり、図中（ａ）はその全体斜視図、（ｂ）はその
模式図である。図示したウエハ保管装置において、１は
装置本体であり、この装置本体１の内部にはウエハ保管
室２が設けられている。ウエハ保管室２には複数の棚板
３が設けられており、これらの棚板３に、ウエハ（不図
示）を収納したウエハキャリア４が載置されるようにな
っている。

【０００３】また装置本体１には、処理装置間でウエハ
の搬送を行う搬送レール５や処理装置内でウエハの搬送
を行う搬送機６との間でウエハの受け渡しを行うための
入出庫部７、８が設けられている。そして、装置本体１
に対するウエハの入出庫は図示せぬホストコンピュータ
からの指令に基づいて生産管理用端末９により管理され
るようになっている。

【０００４】さらに、装置本体１内の下部にはファン１
０が設置されており、このファン１０の駆動によってダ
クト１１に送られた空気がフィルタ１２を通してウエハ
保管室２内に送風されることにより、ウエハ保管室２の
清浄度が維持されるようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のウエハ保管装置においては、フィルタ１２を通して送
風される清浄空気と保管中のウエハとの接触によりウエ
ハ表面に自然酸化膜が生成されたり、フィルタ１２によ
って除去されない塵埃がウエハ表面に付着したりして、
保管中にウエハ表面が汚染されてしまうという問題があ
った。この対策として従来では、ウエハ保管室２に高純
度の窒素（Ｎ₂）ガスを連続的に供給してウエハ表面の
汚染を抑制することも行われているが、この場合は高純
度窒素ガス等のランニングコストが膨大なものとなり、
またウエハの出し入れの際にクリーンルーム内に窒素ガ
スが放出して安全性が損なわれることもあって必ずしも
得策とはいえなかった。

【０００６】さらに上記従来装置では、ファン１０やフ
ィルタ１２さらにはダクト１１といった、ウエハ保管室
２の清浄度を維持するためのクリーン化設備がウエハ保
管装置全体を大型化してしまい、これによってクリーン
ルーム内に占めるウエハ保管装置の設置面積が大きくな
り、高価なクリーンスペースを有効に活用できないとい
った問題も抱えていた。

【０００７】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、保管中のウエハ表面の汚染を防止できると
ともに、装置全体の小型化を可能としたウエハ保管装置
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、ウエハ処理工程のウエハ
処理装置間に設置され、ウエハ搬送装置により搬送され
るウエハを一時的に保管するウエハ保管装置において、
装置本体の内部に設けられた真空状態のウエハ保管室
と、ウエハ搬送装置との間でウエハの受け渡しを行うた
めの入出庫部と、ウエハ搬送装置とウエハ保管室との間
でウエハの出し入れを行いながらウエハ保管室の真空状
態を維持する真空予備室とを具備したものである。

【０００９】

【作用】本発明のウエハ保管装置においては、真空予備
室によって常に真空状態に維持されたウエハ保管室にウ
エハが保管されるようになるため、保管中のウエハ表面
に酸化膜が形成されることがない。また、真空状態のウ
エハ保管室は常に高レベルのクリーン状態に保持される
ことから、ウエハ表面への塵埃の付着が低減する。さら
に、ファンやフィルタさらにはダクトといったクリーン
化設備が不要となるため、装置全体の小型化が図られ
る。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図１は本発明に係わるウエハ保
管装置の実施例を説明する図であり、図中（ａ）はその
全体斜視図、（ｂ）はその模式図である。図示したウエ
ハ保管装置において、１は装置本体であり、この装置本
体１の内部にはウエハ保管室２が設けられている。ウエ
ハ保管室２には複数の棚板３が設けられており、これら
の棚板３に、ウエハ（不図示）を収納したウエハキャリ
ア４が載置されるようになっている。

【００１１】また装置本体１には、処理装置間でウエハ
の搬送を行う搬送レール５や処理装置内でウエハの搬送
を行う搬送機６との間でウエハの受け渡しを行うための
入出庫部７、８が設けられている。そして、装置本体１
に対するウエハの入出庫は図示せぬホストコンピュータ
からの指令に基づいて生産管理用端末９により管理され
るようになっている。

【００１２】ここで本実施例のウエハ保管装置において
は、装置本体１内に設けられたウエハ保管室２が真空引
きによって真空状態となっている。すなわち、装置本体
１の底部にはウエハ保管室２に連通した状態で真空配管
１３が接続されており、この真空配管１３の他端は図示
せぬ真空ポンプに接続されている。そして、バルブ１４
を開放した状態で図示せぬ真空ポンプを作動させ、真空
配管１３を介してウエハ保管室２内の空気を強制排気す
ることでウエハ保管室２が真空状態となっている。

【００１３】また本実施例では、入出庫部７、８とウエ
ハ保管室２との間にそれぞれゲートバルブ１５ａ、１５
ｂを介して真空予備室１６が配置されている。そして、
この真空予備室１６に対しても上述したウエハ保管室２
と同様に真空配管１７が接続され、図示せぬ真空ポンプ
の作動により真空配管１７を介して強制排気を行うこと
で真空予備室１６が真空状態となるように構成されてい
る。

【００１４】加えて、ウエハ保管室２と真空予備室１６
には、停電時におけるウエハ表面の汚染を防止するた
め、個々に窒素（Ｎ₂）ガス供給用（Ｎ₂パージ用）の
配管１８、１９が接続されている。さらに真空予備室１
６の内壁部分には、ウエハ表面のクリーン化や静電対策
用として、ヒータ２０とイオンブロア２１とが設けられ
ている。

【００１５】続いて、上記構成からなるウエハ保管装置
の動作について説明する。まず、ウエハキャリア４に収
納されたウエハを入出庫部７、８から真空予備室１６に
取り入れる場合は、ゲートバルブ１５ａを開いて図示せ
ぬ移載装置により入出庫部７、８から真空予備室１６に
ウエハ（本例ではウエハキャリア４に収納されたウエ
ハ）を取り入れ、ここで再びゲートバルブ１５ａを閉じ
る。このとき、真空予備室１６の真空度はゲートバルブ
１５ａの開閉によって低下してしまうため、真空配管１
７からの強制排気により真空予備室１６の真空度を所定
のレベルまで上げておく。

【００１６】続いて、真空予備室１６に取り入れられた
ウエハをウエハ保管室２に取り入れる場合は、真空予備
室１６の真空度が所定のレベルに達した状態でゲートバ
ルブ１５ｂを開き、図示せぬ移載装置により真空予備室
１６からウエハ保管室２にウエハを取り入れる。その
際、真空予備室１６の真空度は所定のレベルに達してい
るので、ゲートバルブ１５ｂの開閉によってウエハ保管
室２の真空度が低下することはない。つまり、ウエハ保
管室２の真空状態は真空予備室１６によって維持される
ようになっている。

【００１７】一方、ウエハ保管室２から真空予備室１６
にウエハを取り出す場合は、真空予備室１６の真空度が
所定レベルに達した状態でゲートバルブ１５ｂを開い
て、図示せぬ移載装置によりウエハ保管室２から真空予
備室１６にウエハを取り出し、ここで再びゲートバルブ
１５ｂを閉じる。この場合も、上記同様に真空予備室１
６の真空度が所定のレベルに達しているので、ゲートバ
ルブ１５ｂの開閉によってウエハ保管室２の真空度が低
下することはなく、ウエハ保管室２の真空状態は真空予
備室１６によって維持される。

【００１８】また、真空予備室１６から入出庫部７、８
にウエハを取り出す場合は、ゲートバルブ１５ａを開い
て図示せぬ移載装置により真空予備室１６から入出庫部
７、８にウエハを取り出し、ここで再びゲートバルブ１
５ａを閉じる。このとき、真空予備室１６の真空度はゲ
ートバルブ１５ａの開閉によって低下してしまうため、
真空配管１７からの強制排気により真空予備室１６の真
空度を所定のレベルまで上げておく。

【００１９】このように本実施例のウエハ保管装置にお
いては、真空予備室１６によって真空状態に維持された
ウエハ保管室２にウエハが保管されるようにため、保管
中のウエハ表面に酸化膜が形成されることがない。ま
た、ウエハ保管室２に浮遊する塵埃は真空配管１３を通
して室外に排出されるため、真空状態のウエハ保管室２
は常に高レベルのクリーン状態に保持され、これにより
ウエハ表面への塵埃の付着が低減する。

【００２０】さらに本実施例のウエハ保管装置では、フ
ァンやフィルタさらにはダクトといったクリーン化設備
を設ける必要がないので、従来よりも装置全体を小型化
することができる。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように本発明のウエハ保管
装置によれば、真空予備室によって常に真空状態に維持
されたウエハ保管室にウエハが保管されるようにため、
保管中のウエハ表面に酸化膜が形成されることがなく、
加えて真空状態のウエハ保管室は常に高レベルのクリー
ン状態に保持されることから、ウエハ表面への塵埃の付
着も低減する。これにより、ウエハ保管室に保管された
ウエハ表面の汚染が確実に防止されるため、ウエハ処理
工程での歩留り並びに品質の向上が期待できる。

【００２２】また本発明によれば、従来装置に設けられ
ていたクリーン化設備（ファン、フィルタ、ダクト等）
が不要となるため、従来に比べて装置全体を小型化する
ことができる。これにより、クリーンルームにおけるウ
エハ保管装置の占有面積が小さくなり、高価なクリーン
スペースをより有効に活用することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わるウエハ保管装置の一実施例を説
明する図である。

【図２】従来のウエハ保管装置を説明する図である。

【符号の説明】１装置本体２ウエハ保管室４ウエハキャリア７、８入出庫部１３真空配管１６真空予備室

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者福永孝之東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウエハ処理工程の処理装置間に設置さ
れ、ウエハ搬送装置により搬送されるウエハを一時的に
保管するウエハ保管装置において、装置本体の内部に設けられた真空状態のウエハ保管室
と、前記ウエハ搬送装置との間でウエハの受け渡しを行うた
めの入出庫部と、前記ウエハ搬送装置と前記ウエハ保管室との間でウエハ
の出し入れを行いながら前記ウエハ保管室の真空状態を
維持する真空予備室とを具備したことを特徴とするウエ
ハ処理工程に用いられるウエハ保管装置。