JPH06316183A - リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法 - Google Patents
リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 支持体との接着性が改良された親水性層を支
持体上に有するリトグラフベースを提供する。 【構成】 親水性(共)重合体または(共)重合体混合物を
含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テトラアル
キル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続してい
る下塗り層を疎水性支持体上に含んでなるリトグラフベ
ースであって、該下塗り層が親水性結合剤およびシリカ
を１より小さい重量比で含有することを特徴とするリト
グラフベース。
持体上に有するリトグラフベースを提供する。 【構成】 親水性(共)重合体または(共)重合体混合物を
含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テトラアル
キル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続してい
る下塗り層を疎水性支持体上に含んでなるリトグラフベ
ースであって、該下塗り層が親水性結合剤およびシリカ
を１より小さい重量比で含有することを特徴とするリト
グラフベース。
Description
【０００１】１．発明の分野 本発明はリトグラフベースに関する。特に、本発明はリ
トグラフベースの支持体に対する親水性リトグラフ表面
層の改良された接着性に関する。
トグラフベースの支持体に対する親水性リトグラフ表面
層の改良された接着性に関する。
【０００２】２．発明の背景 リトグラフは、表面のある領域はリトグラフインキを受
容できるが他の領域は水で湿らされた時にインキを受容
しないように特別に製造された表面から印刷する方法で
ある。インキ受容領域が印刷像領域、一般的には疎水性
領域、を形成し、そしてインキ−拒絶領域が背景領域、
一般的には親水性領域を形成する。
容できるが他の領域は水で湿らされた時にインキを受容
しないように特別に製造された表面から印刷する方法で
ある。インキ受容領域が印刷像領域、一般的には疎水性
領域、を形成し、そしてインキ−拒絶領域が背景領域、
一般的には親水性領域を形成する。
【０００３】写真平板技術では、写真材料は親水性背景
上で露光領域（ネガ作用性）または非−露光領域（ポジ
作用性）に油状またはグリース状インキを像通り（ｉｍ
ａｇｅ−ｗｉｓｅ）に受容するように製造される。
上で露光領域（ネガ作用性）または非−露光領域（ポジ
作用性）に油状またはグリース状インキを像通り（ｉｍ
ａｇｅ−ｗｉｓｅ）に受容するように製造される。
【０００４】表面リト板（surface litho plates）また
はプラノグラフ印刷板（planographic printing plate
s）とも称される一般的なリトグラフ印刷板の製造にお
いては、水に対する親和性を有するかまたは化学的処理
により該親和性を得るようなリトグラフベースに感光性
組成物の薄層がコーテイングされている。この目的用の
組成物には、感光性材料、例えば感光性重合体、ジアゾ
ニウム塩類または樹脂、光電導性層、ハロゲン化銀乳剤
などが包含される。これらの材料を次に化学線で像通り
に露光しそして適当な方法で処理してリトグラフ印刷板
を得る。
はプラノグラフ印刷板（planographic printing plate
s）とも称される一般的なリトグラフ印刷板の製造にお
いては、水に対する親和性を有するかまたは化学的処理
により該親和性を得るようなリトグラフベースに感光性
組成物の薄層がコーテイングされている。この目的用の
組成物には、感光性材料、例えば感光性重合体、ジアゾ
ニウム塩類または樹脂、光電導性層、ハロゲン化銀乳剤
などが包含される。これらの材料を次に化学線で像通り
に露光しそして適当な方法で処理してリトグラフ印刷板
を得る。
【０００５】他の態様では、銀沈澱剤（核形成剤）が親
水性表面上部の中またはその上に置かれる。銀塩拡散転
写方法に従い該沈澱層をハロゲン化銀現像剤およびハロ
ゲン化銀溶媒の存在下で露光されたハロゲン化銀乳剤と
接触させることにより像が得られる。
水性表面上部の中またはその上に置かれる。銀塩拡散転
写方法に従い該沈澱層をハロゲン化銀現像剤およびハロ
ゲン化銀溶媒の存在下で露光されたハロゲン化銀乳剤と
接触させることにより像が得られる。
【０００６】リトグラフ層形成印刷板の製造用には数種
の型の支持体を使用できる。一般的な支持体は例えば、
有機樹脂支持体、例えばポリエステル類、および紙ベー
ス、例えばポリオレフィンコーテイング紙である。これ
らの支持体は、それら自身で充分親水性でないなら、最
初に親水性層でコーテイングして印刷板の親水性リトグ
ラフ背景を形成する。
の型の支持体を使用できる。一般的な支持体は例えば、
有機樹脂支持体、例えばポリエステル類、および紙ベー
ス、例えばポリオレフィンコーテイング紙である。これ
らの支持体は、それら自身で充分親水性でないなら、最
初に親水性層でコーテイングして印刷板の親水性リトグ
ラフ背景を形成する。
【０００７】これらの系においては、例えば英国特許第
１４１９５１２号、フランス特許第２３００３５４号、
米国特許第３９７１６６０号および第４２８４７０５
号、ＥＰ−Ａ−４０５０１６および４５０１９９並びに
米国出願番号０７／８８１,７１８に記載されている如
きポリビニルアルコールおよび加水分解されたオルト珪
酸テトラエチル（メチル）並びに好適には二酸化ケイ素
および／または二酸化チタンを含有する層を親水性層と
して使用することが知られている。
１４１９５１２号、フランス特許第２３００３５４号、
米国特許第３９７１６６０号および第４２８４７０５
号、ＥＰ−Ａ−４０５０１６および４５０１９９並びに
米国出願番号０７／８８１,７１８に記載されている如
きポリビニルアルコールおよび加水分解されたオルト珪
酸テトラエチル（メチル）並びに好適には二酸化ケイ素
および／または二酸化チタンを含有する層を親水性層と
して使用することが知られている。
【０００８】そのようなリトグラフ印刷板の使用におい
ては、親油性（インキ受容性）像が親水性背景上に存在
する。印刷においては、印刷板は連続的に水およびイン
キで湿らされる。水は印刷表面の親水性領域により、イ
ンキは親油性領域により、選択的に吸収される。印刷工
程中に、この層と支持体との劣悪な接着性による親水性
層の摩耗が１カ所ずつにまたは全表面にわたり起きる。
親水性層と支持体との接着性は、水吸収性が高くなる
と、その結果として親水性層が硬くなくなると、悪影響
を受ける。この摩耗のために、疎水性支持体が表面に出
てくる。これにより非−印刷部分中でインキ許容性とな
り、板の汚染を引き起こす。
ては、親油性（インキ受容性）像が親水性背景上に存在
する。印刷においては、印刷板は連続的に水およびイン
キで湿らされる。水は印刷表面の親水性領域により、イ
ンキは親油性領域により、選択的に吸収される。印刷工
程中に、この層と支持体との劣悪な接着性による親水性
層の摩耗が１カ所ずつにまたは全表面にわたり起きる。
親水性層と支持体との接着性は、水吸収性が高くなる
と、その結果として親水性層が硬くなくなると、悪影響
を受ける。この摩耗のために、疎水性支持体が表面に出
てくる。これにより非−印刷部分中でインキ許容性とな
り、板の汚染を引き起こす。
【０００９】３．発明の要旨 本発明の目的は、支持体との接着性が改良された親水性
層を支持体上に有するリトグラフベースを提供すること
である。
層を支持体上に有するリトグラフベースを提供すること
である。
【００１０】本発明の他の目的は、以下の記載から明白
になるであろう。
になるであろう。
【００１１】本発明に従えば、親水性(共)重合体または
(共)重合体混合物を含有しており且つ加水分解されたオ
ルト珪酸テトラアルキル架橋結合剤で硬化されている親
水性層と連続している下塗り層（subbing layer）を疎
水性支持体上に含んでなるリトグラフベースであって、
該下塗り層が、親水性結合剤およびシリカを１より小さ
い親水性結合剤対シリカの重量比で含有することを特徴
とするリトグラフベースを提供される。
(共)重合体混合物を含有しており且つ加水分解されたオ
ルト珪酸テトラアルキル架橋結合剤で硬化されている親
水性層と連続している下塗り層（subbing layer）を疎
水性支持体上に含んでなるリトグラフベースであって、
該下塗り層が、親水性結合剤およびシリカを１より小さ
い親水性結合剤対シリカの重量比で含有することを特徴
とするリトグラフベースを提供される。
【００１２】本発明に従えば、上記のリトグラフベース
を油状またはグリース状インキに対して像通りに受容性
にさせる段階を含んでなるリトグラフ印刷板を得る方法
が提供される。
を油状またはグリース状インキに対して像通りに受容性
にさせる段階を含んでなるリトグラフ印刷板を得る方法
が提供される。
【００１３】４．本発明の詳細な記述 本発明に関するリトグラフベースのための下塗り層中の
親水性結合剤として、一般的には蛋白質、好適にはゼラ
チンを使用できる。しかしながら、ゼラチンを合成、半
−合成または天然重合体により一部分または全部代用す
ることができる。ゼラチンの合成代用品は例えばポリビ
ニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール、ポリアクリ
ルアミド、ポリアクリル酸、およびそれらの誘導体、特
にそれらの共重合体である。ゼラチンの天然代用品は他
の蛋白質、例えばゼイン、アルブミンおよびカゼイン、
セルロース、糖類、澱粉、およびアルギネート類であ
る。一般的には、ゼラチンの半−合成代用品は改質され
た天然生成物、例えばアルキル化剤もしくはアシル化剤
を用いるゼラチンの転化によりまたはゼラチン上での重
合可能な単量体のグラフト化により得られるゼラチン誘
導体、並びにセルロース誘導体、例えばヒドロキシアル
キルセルロース、カルボキシメチルセルロース、フタロ
イルセルロース、および硫酸セルロースである。
親水性結合剤として、一般的には蛋白質、好適にはゼラ
チンを使用できる。しかしながら、ゼラチンを合成、半
−合成または天然重合体により一部分または全部代用す
ることができる。ゼラチンの合成代用品は例えばポリビ
ニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール、ポリアクリ
ルアミド、ポリアクリル酸、およびそれらの誘導体、特
にそれらの共重合体である。ゼラチンの天然代用品は他
の蛋白質、例えばゼイン、アルブミンおよびカゼイン、
セルロース、糖類、澱粉、およびアルギネート類であ
る。一般的には、ゼラチンの半−合成代用品は改質され
た天然生成物、例えばアルキル化剤もしくはアシル化剤
を用いるゼラチンの転化によりまたはゼラチン上での重
合可能な単量体のグラフト化により得られるゼラチン誘
導体、並びにセルロース誘導体、例えばヒドロキシアル
キルセルロース、カルボキシメチルセルロース、フタロ
イルセルロース、および硫酸セルロースである。
【００１４】本発明に関するリトグラフベース用の下塗
り層中で好適なシリカは、アニオン型の二酸化ケイ素で
ある。コロイド状シリカは好適には少なくとも３００ｍ
2／ｇの表面積、より好適には５００ｍ2／ｇの表面積を
有する。
り層中で好適なシリカは、アニオン型の二酸化ケイ素で
ある。コロイド状シリカは好適には少なくとも３００ｍ
2／ｇの表面積、より好適には５００ｍ2／ｇの表面積を
有する。
【００１５】コロイド状シリカの表面積は、Ｂ.ブルナ
ウエル(Brunauer)、Ｐ.Ｈ.エメット(Emmett)およびＥ.
テラー(Teller)、ザ・ジャーナル・オブ・ザ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサイエテイ(J. Amer. Chem. Soc.)、
６０、３０９−３１２（１９３８）により記載されてい
るＢＥＴ−値方法に従い測定される。
ウエル(Brunauer)、Ｐ.Ｈ.エメット(Emmett)およびＥ.
テラー(Teller)、ザ・ジャーナル・オブ・ザ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサイエテイ(J. Amer. Chem. Soc.)、
６０、３０９−３１２（１９３８）により記載されてい
るＢＥＴ−値方法に従い測定される。
【００１６】シリカ分散液は、他の物質、例えばアルミ
ニウム塩類、安定剤、殺菌剤なども含有できる。
ニウム塩類、安定剤、殺菌剤なども含有できる。
【００１７】そのような型のシリカは品名キーセルゾル
(KIESELSOL)３００およびキーセルゾル５００（「キー
セルゾル」はドイツ連邦共和国レヴェルクーゼン、ファ
ルベンファブリケン・バイエルＡＧの登録商標であり、
数字はｍ2／ｇ単位の表面積を示す）として販売されて
いる。
(KIESELSOL)３００およびキーセルゾル５００（「キー
セルゾル」はドイツ連邦共和国レヴェルクーゼン、ファ
ルベンファブリケン・バイエルＡＧの登録商標であり、
数字はｍ2／ｇ単位の表面積を示す）として販売されて
いる。
【００１８】親水性結合剤対シリカの重量比は１より小
さくすべきである。下限は非常に重要ではないが、好適
には少なくとも０.２である。親水性結合剤対シリカの
重量比はより好適には０.２５〜０.５の間である。
さくすべきである。下限は非常に重要ではないが、好適
には少なくとも０.２である。親水性結合剤対シリカの
重量比はより好適には０.２５〜０.５の間である。
【００１９】本発明に関するリトグラフベース用の下塗
り層の固体含有量は好適には２００ｍｇ／ｍ2〜７５０
ｍｇ／ｍ2の間、より好適には２５０ｍｇ／ｍ2〜５００
ｍｇ／ｍ2の間である。
り層の固体含有量は好適には２００ｍｇ／ｍ2〜７５０
ｍｇ／ｍ2の間、より好適には２５０ｍｇ／ｍ2〜５００
ｍｇ／ｍ2の間である。
【００２０】以上で規定されている下塗り層組成物のコ
ーテイングは、場合により表面活性剤の存在下で、水性
コロイド状分散液から行うことができる。
ーテイングは、場合により表面活性剤の存在下で、水性
コロイド状分散液から行うことができる。
【００２１】本発明に関するリトグラフベースの親水性
層中の親水性（共）重合体としては、例えば、ビニルア
ルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、アクリル酸、メタク
リル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒ
ドロキシエチルのホモ重合体および共重合体、または無
水マレイン酸／ビニルメチルエーテル共重合体を使用で
きる。使用される（共）重合体または（共）重合体混合
物の親水度は、少なくとも６０重量％の、好適には８０
重量％の程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水
度以上である。最も好適には、ポリビニルアルコールが
本発明に関する親水性層中で使用される。オルト珪酸テ
トラアルキル架橋結合剤の例は、加水分解されたオルト
珪酸テトラエチルおよび加水分解されたオルト珪酸テト
ラメチルである。オルト珪酸テトラアルキル架橋結合剤
の量は１重量部の親水性（共）重合体当たり少なくとも
０.２重量部、好適には０.５〜５重量部の間、好適には
１.５重量部である。
層中の親水性（共）重合体としては、例えば、ビニルア
ルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、アクリル酸、メタク
リル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒ
ドロキシエチルのホモ重合体および共重合体、または無
水マレイン酸／ビニルメチルエーテル共重合体を使用で
きる。使用される（共）重合体または（共）重合体混合
物の親水度は、少なくとも６０重量％の、好適には８０
重量％の程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水
度以上である。最も好適には、ポリビニルアルコールが
本発明に関する親水性層中で使用される。オルト珪酸テ
トラアルキル架橋結合剤の例は、加水分解されたオルト
珪酸テトラエチルおよび加水分解されたオルト珪酸テト
ラメチルである。オルト珪酸テトラアルキル架橋結合剤
の量は１重量部の親水性（共）重合体当たり少なくとも
０.２重量部、好適には０.５〜５重量部の間、好適には
１.５重量部である。
【００２２】リトグラフベースの親水性層は好適には、
層の機械的強度および多孔性を増加させる物質も含有す
る。この目的用には、コロイド状シリカを使用できる。
使用されるコロイド状シリカは例えば４０ｎｍまでの、
例えば２０ｎｍの平均粒子寸法を有するコロイド状シリ
カの市販の水性分散液の形状であることができる。さら
にコロイド状シリカより大きい寸法の不活性粒子、例え
ば J. Colloid and Interface Sci.、２６巻、１９６
８、６２〜６９頁に記載されている如きステベル(Stoeb
er)に従い製造されたシリカ、またはアルミナ粒子、ま
たは二酸化チタンもしくは他の重金属酸化物の粒子であ
る少なくとも１００ｎｍの平均直径を有する粒子を加え
ることができる。これらの粒子の添加により、層の表面
には顕微鏡的寸法の凹凸からなる均一な平らでないきめ
が与えられ、それらは背景部分中の水のための貯蔵場所
として作用する。
層の機械的強度および多孔性を増加させる物質も含有す
る。この目的用には、コロイド状シリカを使用できる。
使用されるコロイド状シリカは例えば４０ｎｍまでの、
例えば２０ｎｍの平均粒子寸法を有するコロイド状シリ
カの市販の水性分散液の形状であることができる。さら
にコロイド状シリカより大きい寸法の不活性粒子、例え
ば J. Colloid and Interface Sci.、２６巻、１９６
８、６２〜６９頁に記載されている如きステベル(Stoeb
er)に従い製造されたシリカ、またはアルミナ粒子、ま
たは二酸化チタンもしくは他の重金属酸化物の粒子であ
る少なくとも１００ｎｍの平均直径を有する粒子を加え
ることができる。これらの粒子の添加により、層の表面
には顕微鏡的寸法の凹凸からなる均一な平らでないきめ
が与えられ、それらは背景部分中の水のための貯蔵場所
として作用する。
【００２３】本発明に関する使用に適する親水性層のさ
らに詳細な事項は例えば英国特許第１４１９５１２号、
フランス特許第２３００３５４号、米国特許第３９７１
６６０号、米国特許第４２８４７０５号、ＥＰ−Ａ−４
０５０１６、ＥＰ−Ａ−４５０１９９および米国出願番
号０７／８８１,７１８中に見られる。
らに詳細な事項は例えば英国特許第１４１９５１２号、
フランス特許第２３００３５４号、米国特許第３９７１
６６０号、米国特許第４２８４７０５号、ＥＰ−Ａ−４
０５０１６、ＥＰ−Ａ−４５０１９９および米国出願番
号０７／８８１,７１８中に見られる。
【００２４】本発明に関するリトグラフベース中では種
々の支持体を使用できる。そのような支持体の例は、有
機樹脂支持体、例えばポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、酢酸セルロースフィルム、およびポリオレフィン
（例えばポリエチレン）コーテイング紙である。支持体
を例えばコポリ(塩化ビニリデン／メタクリル酸メチル
／イタコン酸)のラテックスおよびシリカを含有する第
一の下塗り層でコーテイングして親水性層と連続する下
塗り層と支持体との接着性を改良することができる。
々の支持体を使用できる。そのような支持体の例は、有
機樹脂支持体、例えばポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、酢酸セルロースフィルム、およびポリオレフィン
（例えばポリエチレン）コーテイング紙である。支持体
を例えばコポリ(塩化ビニリデン／メタクリル酸メチル
／イタコン酸)のラテックスおよびシリカを含有する第
一の下塗り層でコーテイングして親水性層と連続する下
塗り層と支持体との接着性を改良することができる。
【００２５】リトグラフ板を得るための第一の方法で
は、本発明に従う親水性リトグラフベースを感熱性−ま
たは感光性組成物の薄層でコーテイングすることができ
る。感熱性−または感光性組成物は部分的にまたは完全
に本発明に従い使用される親水性層中に存在することも
できる。この目的用の組成物には、感熱性−または感光
性物質、例えば感熱性−または感光性重合体、ジアゾニ
ウム塩類または樹脂、キノンジアジド類、光電導性層、
ハロゲン化銀乳剤などが包含される。これらの物質を次
に化学線で像通りに露光しそして適当な方法で処理して
リトグラフ印刷板を得る。
は、本発明に従う親水性リトグラフベースを感熱性−ま
たは感光性組成物の薄層でコーテイングすることができ
る。感熱性−または感光性組成物は部分的にまたは完全
に本発明に従い使用される親水性層中に存在することも
できる。この目的用の組成物には、感熱性−または感光
性物質、例えば感熱性−または感光性重合体、ジアゾニ
ウム塩類または樹脂、キノンジアジド類、光電導性層、
ハロゲン化銀乳剤などが包含される。これらの物質を次
に化学線で像通りに露光しそして適当な方法で処理して
リトグラフ印刷板を得る。
【００２６】本発明の一態様に従うと、光重合可能な組
成物を含む層およびハロゲン化銀乳剤層を本発明のリト
グラフベースに適用することにより像形成要素が製造さ
れる。ハロゲン化銀乳剤層の像通りの露光および引き続
きの現像後に、銀像が得られる。このようにして得られ
る銀像は次に像形成要素の全体的露光中には光重合可能
組成物用のマスクとして使用される。最後に、銀像およ
び露光されていない光重合可能組成物を除去してリトグ
ラフ印刷板を得る。
成物を含む層およびハロゲン化銀乳剤層を本発明のリト
グラフベースに適用することにより像形成要素が製造さ
れる。ハロゲン化銀乳剤層の像通りの露光および引き続
きの現像後に、銀像が得られる。このようにして得られ
る銀像は次に像形成要素の全体的露光中には光重合可能
組成物用のマスクとして使用される。最後に、銀像およ
び露光されていない光重合可能組成物を除去してリトグ
ラフ印刷板を得る。
【００２７】本発明の別の態様に従うと、ｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含む層
を本発明のリトグラフベースに適用することにより像形
成要素が製造される。感光性成分の像通りの露光および
引き続きの現像後にリトグラフ印刷板が得られる。
ノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含む層
を本発明のリトグラフベースに適用することにより像形
成要素が製造される。感光性成分の像通りの露光および
引き続きの現像後にリトグラフ印刷板が得られる。
【００２８】本発明に関する使用に適するｏ−ナフトキ
ノンジアジド含有リトグラフ組成物のさらに詳細な事項
は例えばＥＰ−Ａ−３４５０１６およびＥＰ−Ａ−５０
８２６８中に見られる。
ノンジアジド含有リトグラフ組成物のさらに詳細な事項
は例えばＥＰ−Ａ−３４５０１６およびＥＰ−Ａ−５０
８２６８中に見られる。
【００２９】本発明のさらに別の態様に従うと、リトグ
ラフ印刷板は下記の段階により製造することができる：
（ｉ）光電導性層、例えば本発明の親水性層中に分散さ
れた酸化亜鉛光電導性顔料のコーテイングをコロナ放電
により均一に静電的に荷電し、（ii）該光電導性層を該
層が感光する電磁線に露呈することによりそれを像通り
に放電させ、（iii）静電的に荷電された親油性トナー
粒子を適用して生じた静電的荷電パターンを現像し、そ
して（iv）トナーを光電導性層に定着させる。定着は一
般的には、熱を使用してトナー樹脂力により光電導性層
に合体させそして接着させることにより行われる。
ラフ印刷板は下記の段階により製造することができる：
（ｉ）光電導性層、例えば本発明の親水性層中に分散さ
れた酸化亜鉛光電導性顔料のコーテイングをコロナ放電
により均一に静電的に荷電し、（ii）該光電導性層を該
層が感光する電磁線に露呈することによりそれを像通り
に放電させ、（iii）静電的に荷電された親油性トナー
粒子を適用して生じた静電的荷電パターンを現像し、そ
して（iv）トナーを光電導性層に定着させる。定着は一
般的には、熱を使用してトナー樹脂力により光電導性層
に合体させそして接着させることにより行われる。
【００３０】本発明に関する使用に適する電気写真リト
グラフ組成物のさらに詳細な事項は例えば米国特許第２
９９３７８７号中に見られる。
グラフ組成物のさらに詳細な事項は例えば米国特許第２
９９３７８７号中に見られる。
【００３１】好適態様では熱記録材料が提供され、それ
は親水性層全体にわたり均質に分布された状態で３０℃
より高い軟化または融解温度を有しており且つそれらの
軟化または融解温度以上になった時に凝固可能な疎水性
の熱可塑性重合体を含有しており、親水性層中で疎水性
塊を形成するので、これらの部分において湿潤液が内部
使用されているリトグラフ印刷中に親水性層がグリース
状インキを受容するのに充分なほどの疎水性となる。
は親水性層全体にわたり均質に分布された状態で３０℃
より高い軟化または融解温度を有しており且つそれらの
軟化または融解温度以上になった時に凝固可能な疎水性
の熱可塑性重合体を含有しており、親水性層中で疎水性
塊を形成するので、これらの部分において湿潤液が内部
使用されているリトグラフ印刷中に親水性層がグリース
状インキを受容するのに充分なほどの疎水性となる。
【００３２】本発明に関する使用のための疎水性重合体
の個々の例は、例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アク
リル酸エチル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニト
リル、ポリビニルカルバゾールなど、またはそれらの共
重合体である。ポリエチレンが最も好適に使用される。
重合体の分子量は５,０００〜１,０００,０００の範囲
であることができる。疎水性粒子は０.０１μｍ〜５０
μｍの、より好適には０.０５μｍ〜１０μｍの間の、
そして最も好適には０.０５μｍ〜２μｍの間の、粒子
寸法を有することができる。重合体粒子が大きくなれば
なるほど、熱記録材料の解像力は小さくなるであろう。
の個々の例は、例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アク
リル酸エチル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニト
リル、ポリビニルカルバゾールなど、またはそれらの共
重合体である。ポリエチレンが最も好適に使用される。
重合体の分子量は５,０００〜１,０００,０００の範囲
であることができる。疎水性粒子は０.０１μｍ〜５０
μｍの、より好適には０.０５μｍ〜１０μｍの間の、
そして最も好適には０.０５μｍ〜２μｍの間の、粒子
寸法を有することができる。重合体粒子が大きくなれば
なるほど、熱記録材料の解像力は小さくなるであろう。
【００３３】重合体粒子は水性コーテイング液中分散液
として存在しており、そして米国特許第３,４７６,９３
７号に開示されている方法により製造できる。熱可塑性
重合体の水性分散液を製造するために特に適する他の方
法は、 −疎水性の熱可塑性重合体を水非混和性有機溶媒の中に
溶解させ、 −このようにして得られた溶液を水または水性媒体中に
分散させ、そして −有機溶媒を蒸発により除去する ことを含んでなる。
として存在しており、そして米国特許第３,４７６,９３
７号に開示されている方法により製造できる。熱可塑性
重合体の水性分散液を製造するために特に適する他の方
法は、 −疎水性の熱可塑性重合体を水非混和性有機溶媒の中に
溶解させ、 −このようにして得られた溶液を水または水性媒体中に
分散させ、そして −有機溶媒を蒸発により除去する ことを含んでなる。
【００３４】親水性層中に含有される疎水性の熱可塑性
重合体粒子の量は好適には２０重量％〜６５重量％の
間、そしてより好適には２５重量％〜５５重量％の間、
そして最も好適には３０重量％〜４５重量％の間であ
る。低すぎる量を使用する時には、露光部分で製造され
る親水度が小さすぎることもあり、そしてその結果とし
てこれらの部分中でのインキ受容性が劣悪となり、一
方、疎水性の熱可塑性重合体粒子の量が多すぎると親水
性層の大きすぎる全体的親水度のために非−像領域中で
のインキ受容性が生ずるかもしれない。
重合体粒子の量は好適には２０重量％〜６５重量％の
間、そしてより好適には２５重量％〜５５重量％の間、
そして最も好適には３０重量％〜４５重量％の間であ
る。低すぎる量を使用する時には、露光部分で製造され
る親水度が小さすぎることもあり、そしてその結果とし
てこれらの部分中でのインキ受容性が劣悪となり、一
方、疎水性の熱可塑性重合体粒子の量が多すぎると親水
性層の大きすぎる全体的親水度のために非−像領域中で
のインキ受容性が生ずるかもしれない。
【００３５】上記の熱記録材料を、あるパターンの領域
で化学線を熱に転換させることができるようなパターン
の領域を含有するオリジナルと接触させながら、化学線
により露光することができ、親水性層中の疎水性の熱可
塑性重合体粒子が軟化または融解しそして露光領域で凝
固して、それによりこれらの領域における親水性層の疎
水度が増加する。
で化学線を熱に転換させることができるようなパターン
の領域を含有するオリジナルと接触させながら、化学線
により露光することができ、親水性層中の疎水性の熱可
塑性重合体粒子が軟化または融解しそして露光領域で凝
固して、それによりこれらの領域における親水性層の疎
水度が増加する。
【００３６】特に適する化学線は、例えば、赤外線また
は近赤外線である。オリジナルとしては、例えば、像形
成されたハロゲン化銀写真材料を使用できる。
は近赤外線である。オリジナルとしては、例えば、像形
成されたハロゲン化銀写真材料を使用できる。
【００３７】この態様に関するさらに詳細な事項は例え
ば米国特許第３４７６９３７号および米国特許第３９７
１６６０号中に見られる。
ば米国特許第３４７６９３７号および米国特許第３９７
１６６０号中に見られる。
【００３８】別の好適態様では、本発明の親水性リトグ
ラフベース全体にわたり均質分布された状態で含有され
ているかまたは好ましくはその上に親水性溶液からコー
テイングされているジアゾニウム塩または樹脂を含んで
なる感光性材料が提供される。
ラフベース全体にわたり均質分布された状態で含有され
ているかまたは好ましくはその上に親水性溶液からコー
テイングされているジアゾニウム塩または樹脂を含んで
なる感光性材料が提供される。
【００３９】本発明における使用のための低分子量ジア
ゾニウム塩の例には、テトラゾニウム塩化ベンジジン、
テトラゾニウム塩化３,３′−ジメチルベンジジン、テ
トラゾニウム塩化３,３′−ジメトキシベンジジン、テ
トラゾニウム塩化４,４′−ジアミノジフェニルアミ
ン、テトラゾニウム硫酸３,３′−ジエチルベンジジ
ン、ジアゾニウム硫酸４−アミノジフェニルアミン、ジ
アゾニウム塩化４−アミノジフェニルアミン、ジアゾニ
ウム硫酸４−ピペリジノアニリン、ジアゾニウム硫酸４
−ジエチルアミノアニリンおよびジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドとのオリゴマー状縮合生成物が包
含される。
ゾニウム塩の例には、テトラゾニウム塩化ベンジジン、
テトラゾニウム塩化３,３′−ジメチルベンジジン、テ
トラゾニウム塩化３,３′−ジメトキシベンジジン、テ
トラゾニウム塩化４,４′−ジアミノジフェニルアミ
ン、テトラゾニウム硫酸３,３′−ジエチルベンジジ
ン、ジアゾニウム硫酸４−アミノジフェニルアミン、ジ
アゾニウム塩化４−アミノジフェニルアミン、ジアゾニ
ウム硫酸４−ピペリジノアニリン、ジアゾニウム硫酸４
−ジエチルアミノアニリンおよびジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドとのオリゴマー状縮合生成物が包
含される。
【００４０】本発明で有用なジアゾ樹脂の例には、感光
性物質としての芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成物が包
含される。そのような縮合生成物は既知でありそして例
えばドイツ特許第１２１４０８６号に記載されている。
それらは一般的には、強酸媒体中での多核性芳香族ジア
ゾニウム化合物、好適には置換されたもしくは未置換の
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、と活性カルボ
ニル化合物、好適にはホルムアルデヒドとの縮合により
製造される。
性物質としての芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成物が包
含される。そのような縮合生成物は既知でありそして例
えばドイツ特許第１２１４０８６号に記載されている。
それらは一般的には、強酸媒体中での多核性芳香族ジア
ゾニウム化合物、好適には置換されたもしくは未置換の
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、と活性カルボ
ニル化合物、好適にはホルムアルデヒドとの縮合により
製造される。
【００４１】該感光性層は好適には結合剤、例えばポリ
ビニルアルコールも含有しており、そしてリトグラフベ
ースに０.２μｍ〜５μｍの厚さで適用できる。そのよ
うな予備感光された像形成成分は有利には水溶性染料、
例えばローダミン類、スーダンブルー、メチレンブル
ー、エオシンまたはトリフェニルメタン染料、例えばク
リスタルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、マラ
カイトグリーン、メチルバイオレットおよびフクシンま
たは本質的に水不溶性である染料顔料を含有する。該染
料および／または染料顔料は該予備感光された像形成要
素の支持体上に含まれるいずれの層の中にも存在できる
が、好適には該親水性層および／または感光性層の中に
存在する。
ビニルアルコールも含有しており、そしてリトグラフベ
ースに０.２μｍ〜５μｍの厚さで適用できる。そのよ
うな予備感光された像形成成分は有利には水溶性染料、
例えばローダミン類、スーダンブルー、メチレンブル
ー、エオシンまたはトリフェニルメタン染料、例えばク
リスタルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、マラ
カイトグリーン、メチルバイオレットおよびフクシンま
たは本質的に水不溶性である染料顔料を含有する。該染
料および／または染料顔料は該予備感光された像形成要
素の支持体上に含まれるいずれの層の中にも存在できる
が、好適には該親水性層および／または感光性層の中に
存在する。
【００４２】予備感光された像形成要素の露光は有利に
は２５０〜５００ｎｍの波長範囲の紫外線を用いて行わ
れ、場合により青色光線と組み合わされてもよい。有用
な露光源は、例えば１０００Ｗの高圧または中圧ハロゲ
ン水銀蒸気灯である。ほとんどのリトグラフはオフセッ
ト方法により行われるため、像形成要素はその上で得ら
れる像が正しい読み取りとなるような方法で露光され
る。露光はレンズを用いる露光または接触露光であるこ
とができる。
は２５０〜５００ｎｍの波長範囲の紫外線を用いて行わ
れ、場合により青色光線と組み合わされてもよい。有用
な露光源は、例えば１０００Ｗの高圧または中圧ハロゲ
ン水銀蒸気灯である。ほとんどのリトグラフはオフセッ
ト方法により行われるため、像形成要素はその上で得ら
れる像が正しい読み取りとなるような方法で露光され
る。露光はレンズを用いる露光または接触露光であるこ
とができる。
【００４３】ジアゾ樹脂またはジアゾニウム塩類は露光
時に（ジアゾニウム基の破壊により）水溶性から水不溶
性にされ、そしてさらにジアゾの光分解生成物が重合体
状結合剤またはジアゾ樹脂の架橋結合水準における進行
を誘発し、それにより像パターン中で表面を選択的に水
溶性から水不溶性にさせる。露光されていない領域は未
変化のまま、すなわち水溶性である。
時に（ジアゾニウム基の破壊により）水溶性から水不溶
性にされ、そしてさらにジアゾの光分解生成物が重合体
状結合剤またはジアゾ樹脂の架橋結合水準における進行
を誘発し、それにより像パターン中で表面を選択的に水
溶性から水不溶性にさせる。露光されていない領域は未
変化のまま、すなわち水溶性である。
【００４４】印刷プレス上に設置される時には、印刷板
を最初にインキ溜水溶液で洗浄する。このインキ溜溶液
が残りの露光されていないジアゾにより汚染されるのを
防止するために、露光されていないジアゾ樹脂またはジ
アゾニウム塩は印刷プレス上に設置する前に印刷板から
除去しなければならない。この除去は、像形成要素を水
または水溶液ですすぐかまたは洗浄することにより行う
ことができる。
を最初にインキ溜水溶液で洗浄する。このインキ溜溶液
が残りの露光されていないジアゾにより汚染されるのを
防止するために、露光されていないジアゾ樹脂またはジ
アゾニウム塩は印刷プレス上に設置する前に印刷板から
除去しなければならない。この除去は、像形成要素を水
または水溶液ですすぐかまたは洗浄することにより行う
ことができる。
【００４５】この態様に関するさらに詳細な事項は例え
ばフランス特許第２３００３５４号、米国特許第４２８
４７０５号およびＥＰ−Ａ−９２２０３８２５.１中に
見られる。
ばフランス特許第２３００３５４号、米国特許第４２８
４７０５号およびＥＰ−Ａ−９２２０３８２５.１中に
見られる。
【００４６】リトグラフ板を得るための他の方法では、
本発明に従う親水性リトグラフベースを感熱性−または
感光性組成物用の像−受容要素として使用する。
本発明に従う親水性リトグラフベースを感熱性−または
感光性組成物用の像−受容要素として使用する。
【００４７】一態様では、本発明に従うリトグラフベー
スを熱転写方法において受容要素として使用することが
でき、そこでは疎水性物質または組成物が供与成分から
該リトグラフベースに情報通りに転写される。そのよう
な方法は例えば米国特許第３,０６０,０２４号、第３,
０８５,４８８号、第３,６４９,２６８号およびＥＰ−
Ａ−５０２,５６２に記載されている。
スを熱転写方法において受容要素として使用することが
でき、そこでは疎水性物質または組成物が供与成分から
該リトグラフベースに情報通りに転写される。そのよう
な方法は例えば米国特許第３,０６０,０２４号、第３,
０８５,４８８号、第３,６４９,２６８号およびＥＰ−
Ａ−５０２,５６２に記載されている。
【００４８】本発明の好適態様に従うと、例えば米国特
許第３,９７１,６６０号およびＥＰ−Ａ−４０５,０１
６に開示されている如く電気写真工程中にトナー像を本
発明のリトグラフベースに転写させることができる。
許第３,９７１,６６０号およびＥＰ−Ａ−４０５,０１
６に開示されている如く電気写真工程中にトナー像を本
発明のリトグラフベースに転写させることができる。
【００４９】本発明の最も好適な態様に従うと、物理的
現像核の層を本発明のリトグラフベースに適用すること
ができる。本発明に従う使用に適する物理的現像核は、
例えば、コロイド状銀、重金属硫化物類、例えば硫化
銀、硫化ニッケル、硫化パラジウム、硫化コバルト、硫
化亜鉛、硫化ニッケル銀などである。物理的現像核の層
は親水性結合剤を含有することもできるが、好ましくは
結合剤を含有しない。像受容層中に含有される物理的現
像核は本発明に従い使用される親水性層中に部分的にま
たは完全に存在することもできる。このようにして製造
された要素はＤＴＲ−方法において像−受容要素として
使用できる。この方法に従うと、ハロゲン化銀乳剤層を
含んでなる像通りに露光された写真材料が該像−受容要
素と接触し、そしてハロゲン化銀溶媒、例えばチオ硫酸
塩またはチオシアン酸塩、および１種またはそれ以上の
現像剤の存在下で現像される。次に両要素が分離され、
そして銀像が像−受容要素上に含まれている物理的現像
核の層の中に形成される。該受容層中で銀像を得るため
のこの方法に関するさらに詳細な事項は例えば米国特許
第４,６４９,０９６号またはＥＰ−Ａ−３９７９２６中
に見られる。該銀像は親油性であるが、像−受容要素の
背景は疎油性であるため、リトグラフ印刷板が生ずる。
しかしながら、銀像をいわゆる疎水剤で処理することに
より銀像の親油度を改良することが有利であることもあ
る。米国特許第３,７７６,７２８号は疎水剤としての複
素環式メルカプト−化合物、例えば２−メルカプト−
１,３,４−オキサジアゾール誘導体類、の使用を記載し
ており、米国特許第４,５６３,４１０号は１種またはそ
れ以上のメルカプトトリアゾールまたはメルカプトテト
ラゾール誘導体を含有する疎水性にするための液体を開
示している。
現像核の層を本発明のリトグラフベースに適用すること
ができる。本発明に従う使用に適する物理的現像核は、
例えば、コロイド状銀、重金属硫化物類、例えば硫化
銀、硫化ニッケル、硫化パラジウム、硫化コバルト、硫
化亜鉛、硫化ニッケル銀などである。物理的現像核の層
は親水性結合剤を含有することもできるが、好ましくは
結合剤を含有しない。像受容層中に含有される物理的現
像核は本発明に従い使用される親水性層中に部分的にま
たは完全に存在することもできる。このようにして製造
された要素はＤＴＲ−方法において像−受容要素として
使用できる。この方法に従うと、ハロゲン化銀乳剤層を
含んでなる像通りに露光された写真材料が該像−受容要
素と接触し、そしてハロゲン化銀溶媒、例えばチオ硫酸
塩またはチオシアン酸塩、および１種またはそれ以上の
現像剤の存在下で現像される。次に両要素が分離され、
そして銀像が像−受容要素上に含まれている物理的現像
核の層の中に形成される。該受容層中で銀像を得るため
のこの方法に関するさらに詳細な事項は例えば米国特許
第４,６４９,０９６号またはＥＰ−Ａ−３９７９２６中
に見られる。該銀像は親油性であるが、像−受容要素の
背景は疎油性であるため、リトグラフ印刷板が生ずる。
しかしながら、銀像をいわゆる疎水剤で処理することに
より銀像の親油度を改良することが有利であることもあ
る。米国特許第３,７７６,７２８号は疎水剤としての複
素環式メルカプト−化合物、例えば２−メルカプト−
１,３,４−オキサジアゾール誘導体類、の使用を記載し
ており、米国特許第４,５６３,４１０号は１種またはそ
れ以上のメルカプトトリアゾールまたはメルカプトテト
ラゾール誘導体を含有する疎水性にするための液体を開
示している。
【００５０】下記の実施例は本発明を説明するものであ
るがそれを限定するものではない。全ての部数は断らな
い限り重量によるものである。
るがそれを限定するものではない。全ての部数は断らな
い限り重量によるものである。
【００５１】
実施例１ 下塗り層用の溶液の製造 １１.４ｇのゼラチン（粘度：１９−２１ｍＰａｓ）の
９４０ｍｌの水中溶液に３１.７ｍｌ（１１.４ｇの固体
生成物）のキーセルゾル３００Ｆ（コロイド状シリカの
３０％水性分散液用の商品名−３００ｍ2／ｇの表面
積）を加えた。アニオン湿潤剤（０.６ｇ）および殺菌
剤（１ｇ）を加えた。表１に示されているゼラチン対シ
リカの重量比でも同様な溶液を製造した。
９４０ｍｌの水中溶液に３１.７ｍｌ（１１.４ｇの固体
生成物）のキーセルゾル３００Ｆ（コロイド状シリカの
３０％水性分散液用の商品名−３００ｍ2／ｇの表面
積）を加えた。アニオン湿潤剤（０.６ｇ）および殺菌
剤（１ｇ）を加えた。表１に示されているゼラチン対シ
リカの重量比でも同様な溶液を製造した。
【００５２】親水性層の製造 ２１.５％のＴｉＯ2（平均粒子寸法０.３〜０.５μｍ）
および２.５％のポリビニルアルコールを脱イオン水中
に含有する４４０ｇの分散液に、連続的に２５０ｇのポ
リビニルアルコールの５％水溶液、１０５ｇの加水分解
されたオルト珪酸テトラメチルの２２％水中乳化液およ
び２２ｇの湿潤剤の１０％水溶液を撹拌しながら加え
た。この混合物に次に１８３ｇの脱イオン水を加え、そ
してｐＨをｐＨ＝４に調節した。
および２.５％のポリビニルアルコールを脱イオン水中
に含有する４４０ｇの分散液に、連続的に２５０ｇのポ
リビニルアルコールの５％水溶液、１０５ｇの加水分解
されたオルト珪酸テトラメチルの２２％水中乳化液およ
び２２ｇの湿潤剤の１０％水溶液を撹拌しながら加え
た。この混合物に次に１８３ｇの脱イオン水を加え、そ
してｐＨをｐＨ＝４に調節した。
【００５３】リトグラフベースの製造 １７０ｍｇ／ｍ2のコポリ(塩化ビニリデン／メタクリル
酸メチル／イタコン酸)のラテックスおよび４０ｍｇ／
ｍ2の１００ｍ2／ｇの表面積を有するシリカを含有する
プライマーでコーテイングされているポリエチレンテレ
フタレートに、表１に組成が示されている下塗り層用の
上記溶液を、７５０ｍｇ／ｍ2の固体被覆率で適用し
た。下塗り層の上部に上記の親水性層を５０ｇ／ｍ2の
湿潤コーテイング厚さとなるまでコーテイングし、３０
℃で乾燥し、そして引き続きそれを６０℃の温度に１週
間呈することにより硬化させた。親水性リトグラフベー
スのスクラッチ耐性および水吸収性に対する下塗り層中
のゼラチン対シリカの重量比の影響は表１に示されてい
る。
酸メチル／イタコン酸)のラテックスおよび４０ｍｇ／
ｍ2の１００ｍ2／ｇの表面積を有するシリカを含有する
プライマーでコーテイングされているポリエチレンテレ
フタレートに、表１に組成が示されている下塗り層用の
上記溶液を、７５０ｍｇ／ｍ2の固体被覆率で適用し
た。下塗り層の上部に上記の親水性層を５０ｇ／ｍ2の
湿潤コーテイング厚さとなるまでコーテイングし、３０
℃で乾燥し、そして引き続きそれを６０℃の温度に１週
間呈することにより硬化させた。親水性リトグラフベー
スのスクラッチ耐性および水吸収性に対する下塗り層中
のゼラチン対シリカの重量比の影響は表１に示されてい
る。
【００５４】グラムで表示されているスクラッチ耐性は
下記の如くして測定された： −材料を４０℃の脱イオン水中に２０分間浸漬し、 −最外側層の上部に存在する過剰量の水を吹き飛ばし、 −試験片を直径３.２ｍｍの小球を３個含有する装置の
中に入れ、そこでは、片を装置中で移動させるにつれて
これらの球上の圧力が連続的に 第一球、３０〜１００グラム 第二球、１００〜４００グラム 第三球、４００〜１６００グラム に増加されており、 −支持体上で層が永久的にひっかき傷となる重量を記録
する。
下記の如くして測定された： −材料を４０℃の脱イオン水中に２０分間浸漬し、 −最外側層の上部に存在する過剰量の水を吹き飛ばし、 −試験片を直径３.２ｍｍの小球を３個含有する装置の
中に入れ、そこでは、片を装置中で移動させるにつれて
これらの球上の圧力が連続的に 第一球、３０〜１００グラム 第二球、１００〜４００グラム 第三球、４００〜１６００グラム に増加されており、 −支持体上で層が永久的にひっかき傷となる重量を記録
する。
【００５５】ｇ／ｍ2で表示されている水吸収量は下記
の如くして測定された： −乾燥フィルムをコンディショニング室中に２０℃およ
び３０％相対湿度で１５分間保存し、 −乾燥フィルムの裏打ちトップコート層を水不透過性テ
ープで被覆し、 −乾燥フィルムを重量測定し、 −該材料を２４℃の脱イオン水中に１０分間浸漬し、 −最外側層の上部に存在する過剰量の水を吸引し、そし
て −直ちに湿潤フィルムの重量を測定し、そして −１平方メートル当たりの湿潤と乾燥フィルムとの間の
測定重量差を計算する。
の如くして測定された： −乾燥フィルムをコンディショニング室中に２０℃およ
び３０％相対湿度で１５分間保存し、 −乾燥フィルムの裏打ちトップコート層を水不透過性テ
ープで被覆し、 −乾燥フィルムを重量測定し、 −該材料を２４℃の脱イオン水中に１０分間浸漬し、 −最外側層の上部に存在する過剰量の水を吸引し、そし
て −直ちに湿潤フィルムの重量を測定し、そして −１平方メートル当たりの湿潤と乾燥フィルムとの間の
測定重量差を計算する。
【００５６】 表１ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 番号 重量比 スクラッチ耐性 水吸収 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ゼラチン／シリカ （ｇ） （ｇ／ｍ2） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ １ １ １９０ ２.９３ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ２ ０.５ ＞１６００ ２.３８ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ３ ０.２５ ＞１６００ １.９０ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
【００５７】１．親水性(共)重合体または(共)重合体混
合物を含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テト
ラアルキル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続
している下塗り層を疎水性支持体上に含んでなるリトグ
ラフベースであって、該下塗り層が親水性結合剤および
シリカを１より小さい重量比で含有することを特徴とす
る該リトグラフベース。
合物を含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テト
ラアルキル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続
している下塗り層を疎水性支持体上に含んでなるリトグ
ラフベースであって、該下塗り層が親水性結合剤および
シリカを１より小さい重量比で含有することを特徴とす
る該リトグラフベース。
【００５８】２．該親水性(共)重合体または(共)重合体
混合物が少なくとも６０重量％の程度まで加水分解され
ているポリ酢酸ビニルの親水度と同等またはそれ以上の
親水度を有することを特徴とする上記１のリトグラフベ
ース。
混合物が少なくとも６０重量％の程度まで加水分解され
ているポリ酢酸ビニルの親水度と同等またはそれ以上の
親水度を有することを特徴とする上記１のリトグラフベ
ース。
【００５９】３．該親水性(共)重合体がポリビニルアル
コールでありそしてオルト珪酸テトラアルキル架橋結合
剤が加水分解されたオルト珪酸テトラエチルまたはテト
ラメチルであることを特徴とする上記１のリトグラフベ
ース。
コールでありそしてオルト珪酸テトラアルキル架橋結合
剤が加水分解されたオルト珪酸テトラエチルまたはテト
ラメチルであることを特徴とする上記１のリトグラフベ
ース。
【００６０】４．疎水性支持体が有機樹脂支持体または
ポリオレフィンコーテイング紙ベースであることを特徴
とする上記１〜３のいずれかのリトグラフベース。
ポリオレフィンコーテイング紙ベースであることを特徴
とする上記１〜３のいずれかのリトグラフベース。
【００６１】５．親水性結合剤対シリカの比が０.５以
下である、上記１〜４のいずれかのリトグラフベース。
下である、上記１〜４のいずれかのリトグラフベース。
【００６２】６．上記１〜５のいずれかに記載されてい
るリトグラフベースまたは該ベースの親水性層と混合さ
れたリトグラフベース上に感熱性−または感光性組成物
を含んでなるリトグラフ像形成要素。
るリトグラフベースまたは該ベースの親水性層と混合さ
れたリトグラフベース上に感熱性−または感光性組成物
を含んでなるリトグラフ像形成要素。
【００６３】７．該感光性組成物がジアゾニウム樹脂ま
たはジアゾニウム塩を含有することを特徴とする上記６
のリトグラフ像形成要素。
たはジアゾニウム塩を含有することを特徴とする上記６
のリトグラフ像形成要素。
【００６４】８．上記１〜５のいずれかに記載されてい
るリトグラフベース上に物理的現像核の層を含んでなる
リトグラフ受容要素。
るリトグラフベース上に物理的現像核の層を含んでなる
リトグラフ受容要素。
【００６５】９．上記６または７に記載されている像形
成要素を像通りに加熱または露光しそして引き続きリト
グラフインキ受容可能領域と水で湿らされた時にインキ
を受容しないであろう他の領域との間の区別を得るため
に該要素を現像する段階を含んでなるリトグラフ印刷板
を得る方法。
成要素を像通りに加熱または露光しそして引き続きリト
グラフインキ受容可能領域と水で湿らされた時にインキ
を受容しないであろう他の領域との間の区別を得るため
に該要素を現像する段階を含んでなるリトグラフ印刷板
を得る方法。
【００６６】１０．上記８に記載されている受容要素と
接触させながら１種またはそれ以上の現像剤および１種
またはそれ以上のハロゲン化銀溶媒の存在下においてハ
ロゲン化銀乳剤を有する像通りに露光された像形成要素
を現像することを含んでなるリトグラフ印刷板を得る方
法。
接触させながら１種またはそれ以上の現像剤および１種
またはそれ以上のハロゲン化銀溶媒の存在下においてハ
ロゲン化銀乳剤を有する像通りに露光された像形成要素
を現像することを含んでなるリトグラフ印刷板を得る方
法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ビレム・コルテンス ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 パウル・コツペンス ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ヨアン・フエルメールシユ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 エリク・モステルト ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 エリク・フエルシユレン ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (5)
- 【請求項１】 親水性(共)重合体または(共)重合体混合
物を含有しており且つ加水分解されたオルト珪酸テトラ
アルキル架橋結合剤で硬化されている親水性層と連続し
ている下塗り層を疎水性支持体上に含んでなるリトグラ
フベースであって、該下塗り層が親水性結合剤およびシ
リカを１より小さい重量比で含有することを特徴とする
リトグラフベース。 - 【請求項２】 請求項１に記載されているリトグラフベ
ースまたは該ベースの親水性層と混合されたリトグラフ
ベース上に感熱性−または感光性組成物を含んでなるリ
トグラフ像形成要素。 - 【請求項３】 請求項１に記載されているリトグラフベ
ース上に物理的現像核の層を含んでなるリトグラフ受容
要素。 - 【請求項４】 請求項２に記載されている像形成要素を
像通りに加熱または露光し、そして引き続きリトグラフ
インキ受容可能領域と水で湿らされた時にインキを受容
しないであろう他の領域との間の区別を得るために該要
素を現像する段階からなることを特徴とするリトグラフ
印刷板を得る方法。 - 【請求項５】 請求項３に記載されている受容要素と接
触させながら１種またはそれ以上の現像剤および１種ま
たはそれ以上のハロゲン化銀溶媒の存在下においてハロ
ゲン化銀乳剤を有する像通りに露光された像形成要素を
現像することを特徴とするリトグラフ印刷板を得る方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19930200967 EP0619524B1 (en) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | A lithographic base and a method for making a lithographic printing plate therewith |
| DE93200967.3 | 1993-04-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06316183A true JPH06316183A (ja) | 1994-11-15 |
| JP3381209B2 JP3381209B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=8213740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8531494A Expired - Fee Related JP3381209B2 (ja) | 1993-04-05 | 1994-04-01 | リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0619524B1 (ja) |
| JP (1) | JP3381209B2 (ja) |
| DE (1) | DE69325893T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10186646A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-07-14 | Agfa Gevaert Nv | 特定の粒径を有するポリマー粒子を含む平版印刷版の作製のための感熱性画像形成要素 |
| EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
| EP1629977A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and printing process |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH08202025A (ja) * | 1995-01-25 | 1996-08-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷材料 |
| EP0727714B1 (en) * | 1995-02-15 | 1998-09-23 | Agfa-Gevaert N.V. | A diazo based imaging element having improved resistance against physical damage |
| DE69520578T2 (de) | 1995-10-11 | 2002-04-11 | Agfa Gevaert Nv | Druckpressentwicklung von lithographischen Diazodruckplatten |
| DE69518526T2 (de) | 1995-10-31 | 2001-06-13 | Agfa Gevaert Nv | Auf der Druckpressentwicklung von lithographischen Druckplatten bestehend aus lichtempfindlichem Schichten mit Aryldiazosulphonatharzen |
| EP0773112B1 (en) | 1995-11-09 | 2001-05-30 | Agfa-Gevaert N.V. | Heat sensitive imaging element and method for making a printing plate therewith |
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| EP0800928B1 (en) | 1996-04-09 | 1999-07-28 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| GB9624224D0 (en) | 1996-11-21 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| DE69635743T2 (de) | 1996-11-29 | 2006-08-17 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit |
| EP0849090A3 (en) | 1996-12-19 | 1998-07-01 | Agfa-Gevaert N.V. | Thermosensitive imaging element for the preparation of lithographic printing plates with improved transporting properties |
| GB9702568D0 (en) * | 1997-02-07 | 1997-03-26 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| US6357351B1 (en) | 1997-05-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Substrate for planographic printing |
| GB9710552D0 (en) | 1997-05-23 | 1997-07-16 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| DE69901642T3 (de) | 1998-03-14 | 2019-03-21 | Agfa Nv | Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus einem wärmeempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial |
| EP0967077B1 (en) * | 1998-06-26 | 2003-08-20 | Agfa-Gevaert | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| US6210857B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate |
| US6293197B1 (en) | 1999-08-17 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics | Hydrophilized substrate for planographic printing |
| GB2357060B (en) * | 1999-12-08 | 2002-12-31 | Kodak Polychrome Graphics Co | Planographic printing |
| US6783914B1 (en) | 2000-02-25 | 2004-08-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Encapsulated inorganic resists |
| US6521391B1 (en) * | 2000-09-14 | 2003-02-18 | Alcoa Inc. | Printing plate |
| US6605407B2 (en) | 2000-12-26 | 2003-08-12 | Creo Inc. | Thermally convertible lithographic printing precursor |
| US6589710B2 (en) | 2000-12-26 | 2003-07-08 | Creo Inc. | Method for obtaining a lithographic printing surface |
| US7458320B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-12-02 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7198877B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| DE60321371D1 (de) | 2002-10-15 | 2008-07-10 | Agfa Graphics Nv | Polymer für wärmeempfindlichen vorläufer einer lithographischen druckplatte |
| US7678533B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Agfa Graphics, N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| JP2007015212A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷用親水性基板 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB918735A (en) * | 1958-05-26 | 1963-02-20 | Lithoplate Inc | Lithographic plate |
| GB1419512A (en) * | 1972-01-07 | 1975-12-31 | Kodak Ltd | Presensitised lithographic material |
| US4046946A (en) * | 1974-08-01 | 1977-09-06 | Allied Paper Incorporated | Lithographic printing plate |
-
1993
- 1993-04-05 DE DE1993625893 patent/DE69325893T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-05 EP EP19930200967 patent/EP0619524B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-04-01 JP JP8531494A patent/JP3381209B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JPH10186646A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-07-14 | Agfa Gevaert Nv | 特定の粒径を有するポリマー粒子を含む平版印刷版の作製のための感熱性画像形成要素 |
| EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
| EP1629977A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and printing process |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69325893T2 (de) | 2000-04-20 |
| DE69325893D1 (de) | 1999-09-09 |
| JP3381209B2 (ja) | 2003-02-24 |
| EP0619524B1 (en) | 1999-08-04 |
| EP0619524A1 (en) | 1994-10-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |