JPH06314859A - Substrate for mounting electronic parts and its manufacture - Google Patents

Substrate for mounting electronic parts and its manufacture

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JPH06314859A
JPH06314859A JP10257093A JP10257093A JPH06314859A JP H06314859 A JPH06314859 A JP H06314859A JP 10257093 A JP10257093 A JP 10257093A JP 10257093 A JP10257093 A JP 10257093A JP H06314859 A JPH06314859 A JP H06314859A
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JP
Japan
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insulating layer
layer
substrate
electronic component
mounting
Prior art date
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Pending
Application number
JP10257093A
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Japanese (ja)
Inventor
Ritsuko Kato
律子 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Filing date
Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits

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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the reliability on mounting and materialize high-density mounting and cost reduction by forming a metallic layer for mounting electronic components on the surface of a substrate, and forming an insulating layer made of photosensitive resin on the metallic surface, and forming such an opening that at least one part of the metallic layer is exposed, in the insulating layer. CONSTITUTION:A wiring pattern 3a as an inner layer conductor circuit and a die pad 3b as a metallic layer for mounting electronic components are formed all over the surface of the insulating base material 2 constituting a substrate 1. An insulating layer 4 made of photosensitive resin is made on the wiring pattern 3a and the die pad 3b, and a cavity 6 as such an opening as to expose one part of the die pad 3b is made in the insulating layer 4. An IC chip 7 is mounted inside the cavity 6, and bonding pads 8b are disposed regularly around the cavity 6. On the other hand, also on the side of the IC chip 7 are formed a plurality of bonding pads 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品搭載用基板及
びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component mounting substrate and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ICチップ等のような電子部
品を搭載するための基板として、各種の電子部品搭載用
基板が提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various electronic component mounting substrates have been proposed as substrates for mounting electronic components such as IC chips.

【0003】前記電子部品搭載用基板としては、例えば
図9,図10に示されるような構成のものが知られてい
る。基板50を構成する絶縁基材51の表面には、電子
部品搭載用の凹部としてキャビティ52が形成されてい
る。該キャビティ52の内壁面には金属めっき層52a
が形成されており、ICチップ53はその金属めっき層
52a上に搭載されている。また、キャビティ52の周
囲には複数のボンディングパッド55が設けられてお
り、前記ボンディングパッド55側とICチップ53側
とはワイヤボンディング54を介して電気的に接続され
ている。
As the electronic component mounting substrate, one having a structure as shown in, for example, FIGS. 9 and 10 is known. A cavity 52 is formed as a recess for mounting an electronic component on the surface of an insulating base material 51 that constitutes the substrate 50. A metal plating layer 52a is formed on the inner wall surface of the cavity 52.
And the IC chip 53 is mounted on the metal plating layer 52a. A plurality of bonding pads 55 are provided around the cavity 52, and the bonding pad 55 side and the IC chip 53 side are electrically connected via wire bonding 54.

【0004】そして、絶縁基材51にキャビティ52を
形成する方法としては、バイト等の回転切削工具を用い
たざぐり加工などが従来において一般的に行われてい
る。
As a method of forming the cavity 52 in the insulating base material 51, conventionally, a counterboring process using a rotary cutting tool such as a cutting tool has been generally performed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ICチップ
53の外形としては、現在のところ四角形または長方形
などの矩形状が一般的である。よって、前記形状のIC
チップ53を搭載するためには、ICチップ53の外形
に略等しくかつそれよりも若干大きめとなるようなキャ
ビティ52を形成しておけば良いことになる。
By the way, as the outer shape of the IC chip 53, a rectangular shape such as a rectangular shape or a rectangular shape is generally used at present. Therefore, the IC of the above shape
In order to mount the chip 53, it is only necessary to form a cavity 52 that is substantially equal to the outer shape of the IC chip 53 and slightly larger than it.

【0006】しかし、上述のざぐり加工によると、形成
されるキャビティ52の四隅に必然的に使用バイトに応
じたRができてしまうため、完全な矩形状のキャビティ
52が得られないという欠点がある。従って、図10に
示されるように、矩形状のICチップ53を搭載するた
めには、キャビティ52をICチップ53のサイズより
もかなり大きなものとしておくことが必要となる。
However, according to the above-mentioned counterbore processing, there is a drawback that a perfectly rectangular cavity 52 cannot be obtained because the four corners of the cavity 52 to be formed inevitably have Rs according to the bite used. . Therefore, as shown in FIG. 10, in order to mount the rectangular IC chip 53, it is necessary to make the cavity 52 much larger than the size of the IC chip 53.

【0007】ところが、このような場合、ICチップ5
3の側面とキャビティ52の内壁面との間に隙間56が
でき、基板−ICチップ間のボンディング距離が長くな
るという問題が生じる。ゆえに、両者間に確実にワイヤ
ボンディング54を施すことが困難となり、高い実装信
頼性が得られなくなる。また、このような隙間56があ
ると、基板50において部品実装可能なスペースが相対
的に減少するため、高密度実装を行い得なくなってしま
う。
However, in such a case, the IC chip 5
A gap 56 is formed between the side surface of the substrate 3 and the inner wall surface of the cavity 52, which causes a problem of increasing the bonding distance between the substrate and the IC chip. Therefore, it becomes difficult to surely perform wire bonding 54 between them, and high mounting reliability cannot be obtained. Further, if there is such a gap 56, the space where components can be mounted on the substrate 50 is relatively reduced, so that high-density mounting cannot be performed.

【0008】また、前記ざぐり加工には、正確な位置制
御をすることが難しいという欠点があるばかりでなく、
複数箇所に対して加工を行うにあたり多大な時間及び製
造コストがかかるという欠点がある。従って、多数のキ
ャビティ52を持つ近年の電子部品搭載用基板(いわゆ
るマルチチップモジュール)を作製しようとしても、低
コスト化・高品質化等が難しいという状況にある。
[0008] Further, the above-mentioned counterbore processing not only has the drawback that precise position control is difficult,
There is a drawback that it takes a lot of time and manufacturing cost to perform processing on a plurality of locations. Therefore, even if an attempt is made to manufacture a recent electronic component mounting board (so-called multi-chip module) having a large number of cavities 52, it is difficult to reduce the cost and improve the quality.

【0009】更に、電子部品搭載用基板が図11に示す
ような多層基板57の場合、ざぐり加工の深さ制御が良
くないと、内層導体回路58の一部を破損することがあ
る。このため、従来においてはキャビティ52の下面と
なる部分を避けて内層導体回路58を設けるなどの措置
を採っている。しかし、このような場合には内層導体回
路58の配線自由度が損なわれ、結果として高密度実装
を達成し難くなってしまう。
Further, in the case where the electronic component mounting board is a multilayer board 57 as shown in FIG. 11, if the depth of the counterbore processing is not properly controlled, a part of the inner layer conductor circuit 58 may be damaged. For this reason, conventionally, measures such as providing the inner conductor circuit 58 while avoiding the lower surface of the cavity 52 are taken. However, in such a case, the wiring flexibility of the inner layer conductor circuit 58 is impaired, and as a result, it becomes difficult to achieve high-density mounting.

【0010】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、実装信頼性を向上させることがで
き、かつ高密度実装化及び低コスト化を図ることができ
る電子部品搭載用基板及びその製造方法を提供すること
にある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to mount an electronic component on which mounting reliability can be improved and high density mounting and cost reduction can be achieved. It is to provide a substrate and a manufacturing method thereof.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の第1の発明では、基板の表面に
電子部品搭載用の金属層が形成され、その金属層上に感
光性樹脂製の絶縁層が形成され、前記金属層の少なくと
も一部が露出するような開口部が、前記絶縁層に形成さ
れてなる電子部品搭載用基板をその要旨としている。
In order to solve the above-mentioned problems, according to a first aspect of the present invention, a metal layer for mounting electronic parts is formed on a surface of a substrate, and the metal layer is mounted on the metal layer. The gist of the invention is an electronic component mounting substrate in which an insulating layer made of a photosensitive resin is formed and an opening for exposing at least a part of the metal layer is formed in the insulating layer.

【0012】請求項2に記載の第2の発明では、基板の
表面に感光性樹脂製の絶縁層が形成され、その絶縁層の
所定部分に電子部品搭載用の凹部または開口部が形成さ
れ、前記凹部または開口部の内壁面に金属層が形成され
てなる電子部品搭載用基板をその要旨としている。
According to a second aspect of the present invention, an insulating layer made of a photosensitive resin is formed on the surface of the substrate, and a recess or opening for mounting electronic parts is formed at a predetermined portion of the insulating layer. The gist of the present invention is an electronic component mounting substrate having a metal layer formed on the inner wall surface of the recess or opening.

【0013】この場合、基板に内層導体回路を形成した
り、絶縁層表面において電子部品搭載用の凹部または開
口部の近傍に、ボンディング用の外層導体回路を設けて
も良い。また、ボンディング用の外層導体回路の少なく
とも一部が露出するように、外層導体回路上に絶縁層を
形成し、更にその絶縁層上にもボンディング用の外層導
体回路を形成しても良い。
In this case, the inner layer conductor circuit may be formed on the substrate, or the outer layer conductor circuit for bonding may be provided on the surface of the insulating layer in the vicinity of the recess or opening for mounting the electronic component. Further, an insulating layer may be formed on the outer layer conductor circuit so that at least a part of the outer layer conductor circuit for bonding is exposed, and the outer layer conductor circuit for bonding may be formed on the insulating layer.

【0014】請求項6に記載の第3の発明では、基板の
表面に感光性樹脂製の絶縁層を形成した後、その絶縁層
の所定部分を露光・現像することにより、前記絶縁層に
電子部品搭載用の凹部または開口部を形成した後、無電
解めっきにより金属層を形成することをその要旨として
いる。
According to a third aspect of the present invention, an insulating layer made of a photosensitive resin is formed on the surface of the substrate, and then a predetermined portion of the insulating layer is exposed and developed, so that the insulating layer is exposed to electrons. The gist of the invention is to form a metal layer by electroless plating after forming a recess or opening for mounting components.

【0015】請求項7に記載の第4の発明では、基板の
表面に電子部品搭載用の金属層を形成した後、その金属
層上に感光性樹脂製の絶縁層を形成し、更にその絶縁層
の所定部分を露光・現像することにより、前記金属層の
少なくとも一部が露出するような開口部を前記絶縁層に
形成することをその要旨としている。
According to a fourth aspect of the present invention, a metal layer for mounting electronic parts is formed on the surface of the substrate, an insulating layer made of a photosensitive resin is formed on the metal layer, and the insulating layer is formed. The gist is to form an opening in the insulating layer so that at least a part of the metal layer is exposed by exposing and developing a predetermined portion of the layer.

【0016】このとき、無電解金属めっきを施すことに
よって、前記凹部または開口部の内壁面に金属めっき層
を形成すると共に、前記絶縁層の表面に外層導体回路を
形成しても良い。
At this time, electroless metal plating may be applied to form a metal plating layer on the inner wall surface of the recess or opening and an outer layer conductor circuit on the surface of the insulating layer.

【0017】[0017]

【作用】本発明によると、開口部または凹部は感光性樹
脂製の絶縁層に対する露光・現像というような光学的手
法により形成されるものであり、従来のように回転切削
工具等を用いた物理的手法により形成されるものではな
い。このため、従来のときとは異なり、加工部分に回転
切削工具の径に応じたRがつくというようなことはな
い。よって、本発明によると、開口部等の外形及びサイ
ズを、当該開口部等に搭載すべき電子部品のそれに合致
させることが容易となる。
According to the present invention, the opening or recess is formed by an optical method such as exposure and development for the insulating layer made of a photosensitive resin. It is not formed by a physical method. For this reason, unlike the conventional case, there is no case in which R corresponding to the diameter of the rotary cutting tool is attached to the processed portion. Therefore, according to the present invention, it becomes easy to match the outer shape and size of the opening or the like with that of the electronic component to be mounted in the opening or the like.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明を具体化した各実施例を詳細に
説明する。 〔実施例1〕まず実施例1の電子部品搭載用基板1を図
1及び図2をもとに説明する。
EXAMPLES Each example embodying the present invention will be described in detail below. [Embodiment 1] First, an electronic component mounting substrate 1 of Embodiment 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

【0019】本実施例の基板1を構成している絶縁基材
2の表面には、内層導体回路としての配線パターン3a
が形成されている。また、同表面には、電子部品搭載用
の金属層としてのダイパッド3bがベタ状に形成されて
いる。
A wiring pattern 3a as an inner layer conductor circuit is formed on the surface of the insulating base material 2 constituting the substrate 1 of this embodiment.
Are formed. Further, a die pad 3b as a metal layer for mounting electronic components is formed in a solid shape on the same surface.

【0020】これらの配線パターン3a及びダイパッド
3b上には、感光性樹脂製の絶縁層4が形成されてい
る。前記絶縁層4の所定部分には、配線パターン3aの
一部を露出させるような開口部として、インタスティシ
ャルバイアホール(以下「IVH」という)形成用穴5
が形成されている。
An insulating layer 4 made of a photosensitive resin is formed on the wiring pattern 3a and the die pad 3b. An interstitial via hole (hereinafter referred to as “IVH”) forming hole 5 is formed in a predetermined portion of the insulating layer 4 as an opening for exposing a part of the wiring pattern 3a.
Are formed.

【0021】また、この絶縁層4には、ダイパッド3b
の一部を露出させるような開口部として、キャビティ6
が形成されている。前記キャビティ6の内壁面には、電
子部品搭載用の金属層としての無電解銅めっき層8cが
形成されている。
The insulating layer 4 has a die pad 3b.
Of the cavity 6 as an opening for exposing a part of
Are formed. On the inner wall surface of the cavity 6, an electroless copper plating layer 8c is formed as a metal layer for mounting electronic components.

【0022】前記キャビティ6内には、電子部品として
のICチップ7が搭載されている。絶縁層4上において
キャビティ6の周囲には、ボンディング用の外層導体回
路としてのボンディングパッド(以下「セカンドパッ
ド」という)8bが規則的に配列されている。一方、I
Cチップ7側にも複数のボンディングパッド(以下「フ
ァーストパッド」という)9が形成されている。そし
て、各セカンドパッド8bと各ファーストパッド9と
は、いずれもワイヤボンディング10によって電気的に
接続されている。
An IC chip 7 as an electronic component is mounted in the cavity 6. Bonding pads (hereinafter referred to as "second pads") 8b as outer layer conductor circuits for bonding are regularly arranged around the cavity 6 on the insulating layer 4. On the other hand, I
A plurality of bonding pads (hereinafter referred to as “first pads”) 9 are also formed on the C chip 7 side. Each second pad 8b and each first pad 9 are electrically connected by wire bonding 10.

【0023】絶縁層4の表面においてキャビティ6及び
セカンドパッド8bの周辺の領域には、外層導体回路と
しての配線パターン8aが形成されている。そして、外
層の配線パターン8aと内層の配線パターン3aとは、
IVH形成用穴5と無電解銅めっき層8dとからなるI
VH11を介して電気的に接続されている。
On the surface of the insulating layer 4, a wiring pattern 8a as an outer conductor circuit is formed in a region around the cavity 6 and the second pad 8b. The outer layer wiring pattern 8a and the inner layer wiring pattern 3a are
I composed of the IVH forming hole 5 and the electroless copper plating layer 8d
It is electrically connected via VH11.

【0024】なお、本実施例では、正方形状のICチッ
プ7を搭載するための部分であるキャビティ6は、断面
が前記ICチップ7の外形にほぼ等しく、かつ四隅にR
のないものとなっている(図2参照)。
In this embodiment, the cavity 6, which is a portion for mounting the square IC chip 7, has a cross section substantially equal to the outer shape of the IC chip 7 and has R at four corners.
There is no such thing (see Fig. 2).

【0025】次に、この電子部品搭載用基板1を作製す
る手順を図1(a)〜図1(d)に基づいて述べる。絶
縁基材2に銅箔が貼り付けられたガラス−トリアジン銅
張積層板を出発材料とし、通常のサブトラクティブ法に
従って配線パターン3a,ダイパッド3bを形成する。
Next, a procedure for producing the electronic component mounting substrate 1 will be described with reference to FIGS. 1 (a) to 1 (d). A wiring pattern 3a and a die pad 3b are formed according to a usual subtractive method using a glass-triazine copper clad laminate in which a copper foil is attached to the insulating base material 2 as a starting material.

【0026】次に、脱脂・酸洗・バフ研磨・水洗・乾燥
を行った後、絶縁基材2の表面に感光性を有する接着剤
をスクリーン印刷等によって塗布する(図1(a) 参
照)。この場合、樹脂マトリックス中に樹脂フィラーが
分散された、いわゆるアディティブ用の接着剤が使用さ
れる。このとき、前記樹脂マトリックスとしては感光性
樹脂を用いることが望ましい。
Next, after degreasing, pickling, buffing, washing and drying, a photosensitive adhesive is applied to the surface of the insulating substrate 2 by screen printing or the like (see FIG. 1 (a)). . In this case, a so-called additive adhesive in which a resin filler is dispersed in a resin matrix is used. At this time, it is desirable to use a photosensitive resin as the resin matrix.

【0027】前記樹脂フィラーとしては、平均粒径が
10μm以下の耐熱性樹脂粉末、平均粒径が2μm以
下の耐熱性樹脂粉末を凝集させて平均粒径が2μm〜1
0μmの大きさとした凝集粒子、平均粒径が2μm〜
10μmの耐熱性樹脂粉末と、平均粒径が2μm以下の
耐熱性樹脂粉末との混合物、平均粒径が2μm〜10
μmの耐熱性樹脂粉末の表面に、平均粒径が2μm以下
の耐熱性樹脂粉末または無機粉末のいずれか少なくとも
1種を付着させてなる疑似粒子から選ばれることが望ま
しい。
As the resin filler, a heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 10 μm or less and a heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less are aggregated to have an average particle diameter of 2 μm to 1
Aggregated particles with a size of 0 μm, average particle size of 2 μm
Mixture of heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less and heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm to 10 μm
It is preferable to select from pseudo particles formed by adhering at least one of a heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less and an inorganic powder on the surface of the heat-resistant resin powder of μm.

【0028】また、このような接着剤層に形成されるア
ンカーの形状、アンカーの深さについては、粒径の異な
るフィラーにて表面粗度が1μm〜20μmの範囲内に
なることが望ましく、その場合には導体に充分な密着強
度が得られる。
Regarding the shape and depth of the anchor formed in such an adhesive layer, it is desirable that the surface roughness be within the range of 1 μm to 20 μm with fillers having different particle diameters. In this case, sufficient adhesion strength can be obtained for the conductor.

【0029】なお、本実施例では次のような手順により
感光性接着剤の調製を行っている。まず、60重量部フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂の50%アクリル化
物(日本化薬製)と、40重量部のビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製, E−1001)とをブ
チルセルソルブアセテート溶液に溶解させ、次いで硬化
剤としての5重量部の2−フェニルイミダゾール(四国
化成製,2PZ)と、10重量部のエポキシ樹脂粒子
(東レ製,トレパールEP−B 平均粒径3.9μm)
と、20重量部のエポキシ樹脂粒子(東レ製,トレパー
ルEP−B 平均粒径0.5μm)とを混合する。そし
て、この混合物にジメチルホルムアミド溶液を添加しな
がらホモディスパー分散機にて混練することにより、粘
度を120cpsに調整する。この結果、所望の感光性
接着剤が得られる。
In this embodiment, the photosensitive adhesive is prepared by the following procedure. First, 60 parts by weight of a 50% acrylate of phenol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku) and 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell, E-1001) were added to a butyl cellosolve acetate solution. Dissolve and then 5 parts by weight of 2-phenylimidazole (2PZ, manufactured by Shikoku Kasei) as a curing agent and 10 parts by weight of epoxy resin particles (manufactured by Toray, Trepal EP-B average particle size 3.9 μm).
And 20 parts by weight of epoxy resin particles (Toray, Trepal EP-B average particle size 0.5 μm) are mixed. The viscosity is adjusted to 120 cps by adding a dimethylformamide solution to the mixture and kneading the mixture with a homodisper disperser. As a result, the desired photosensitive adhesive is obtained.

【0030】次いで、接着剤層12上にフォトマスクを
配置して露光・現像を行うことにより、前記接着剤層1
2を部分的に硬化させる。このようなフォトリソグラフ
ィを行うことによって、絶縁基材2の表面には絶縁層4
が形成される。また、得られた絶縁層4の所定部分に
は、図1(b)に示されるような断面正方形状のキャビ
ティ6とIVH形成用穴5とがそれぞれ形成される。
Next, a photomask is arranged on the adhesive layer 12 and exposure and development are carried out, whereby the adhesive layer 1 is formed.
Part 2 is partially cured. By performing such photolithography, the insulating layer 4 is formed on the surface of the insulating base material 2.
Is formed. In addition, a cavity 6 having a square cross section and an IVH forming hole 5 as shown in FIG. 1B are formed in predetermined portions of the obtained insulating layer 4.

【0031】そして、絶縁層4に対するクロム酸処理に
より表面の粗化を行った後、得られた粗化面4aに対し
て無電解銅めっきを析出させるための触媒核を付与す
る。更に、絶縁層4上に感光性樹脂を塗布して露光・現
像を行うことにより、めっきレジスト13を形成する。
After the surface of the insulating layer 4 is roughened by chromic acid treatment, catalyst nuclei for depositing electroless copper plating are provided on the roughened surface 4a thus obtained. Further, a plating resin 13 is formed by applying a photosensitive resin on the insulating layer 4 and exposing and developing it.

【0032】ここで触媒核を活性化した後、無電解銅め
っき浴を用いてめっきを施すことにより、めっきレジス
ト13の非形成部分にめっき銅を析出させる。この処理
を経ることにより、絶縁層4の表面には、図1(c)に
示されるような配線パターン8a及びセカンドパッド8
bが形成される。同時にキャビティ6の内壁面及びIV
H形成用穴5の内壁面には、それぞれ無電解銅めっき層
8c,8dが形成される。この後、不要となっためっき
レジスト13を剥離する。
After activating the catalyst nuclei, plating is performed using an electroless copper plating bath to deposit plated copper on the portions where the plating resist 13 is not formed. Through this process, the surface of the insulating layer 4 has a wiring pattern 8a and a second pad 8 as shown in FIG. 1 (c).
b is formed. At the same time, the inner wall surface of the cavity 6 and IV
Electroless copper plating layers 8c and 8d are formed on the inner wall surfaces of the H forming holes 5, respectively. After that, the plating resist 13 that is no longer needed is peeled off.

【0033】そして、キャビティ6内にICチップ7を
搭載した後、ワイヤボンディング10を施して、最終的
に図1(d)及び図2に示されるような電子部品搭載用
基板1とする。
After mounting the IC chip 7 in the cavity 6, wire bonding 10 is performed to finally obtain the electronic component mounting substrate 1 as shown in FIGS. 1D and 2.

【0034】さて、本実施例の電子部品搭載用基板1で
は、キャビティ6は、フォトリソグラフィという光学的
手法によって形成されることを特徴としている。よっ
て、ざぐり加工等の従来の物理的な手法によって形成さ
れるキャビティとは異なり、バイトに応じたRが四隅に
つくというようなことはない。しかも、この手法による
と、ざぐり加工等に比べてより高精度の加工とすること
ができる。
The electronic component mounting substrate 1 of this embodiment is characterized in that the cavity 6 is formed by an optical method called photolithography. Therefore, unlike a cavity formed by a conventional physical method such as a counterbore process, R corresponding to a bite is not attached to the four corners. Moreover, according to this method, it is possible to perform the processing with higher precision as compared with the spot facing processing or the like.

【0035】よって、本実施例では、ICチップ7の外
形及びサイズにほぼ等しいキャビティ6が容易に得られ
ることになる。そして、ICチップ7の側面とキャビテ
ィ6の内壁面との間に殆ど隙間がない状態となる。
Therefore, in this embodiment, it is easy to obtain the cavity 6 having substantially the same outer shape and size as the IC chip 7. Then, there is almost no gap between the side surface of the IC chip 7 and the inner wall surface of the cavity 6.

【0036】この結果、ファーストパッド9とセカンド
パッド8bとの間の距離、即ちボンディング距離が短く
なり、実装信頼性が向上する。また、前記隙間の解消に
よって基板1における部品実装可能なスペースが増え、
高密度実装を達成するうえで好都合となる。
As a result, the distance between the first pad 9 and the second pad 8b, that is, the bonding distance is shortened, and the mounting reliability is improved. Further, the elimination of the gap increases the space in which components can be mounted on the board 1,
It is convenient for achieving high-density packaging.

【0037】更に、本実施例の場合、ビルドアップ層の
形成プロセスを行うと、それと同時にキャビティ6も形
成されるという利点がある。従って、キャビティ6を形
成するために、特別な工程や工具等が必要とされること
はない。ゆえに、工程数の増加やコスト高というような
問題も回避できる。 〔実施例2〕次に、実施例2の電子部品搭載用基板21
を図3をもとに説明する。
Further, in the case of this embodiment, there is an advantage that the cavity 6 is formed at the same time when the build-up layer forming process is performed. Therefore, no special process or tool is required to form the cavity 6. Therefore, problems such as an increase in the number of steps and a high cost can be avoided. [Embodiment 2] Next, the electronic component mounting substrate 21 of Embodiment 2 will be described.
Will be described with reference to FIG.

【0038】本実施例の基板21では、実施例1のとき
とは異なり、絶縁基材2の表面に直接的に感光性樹脂製
の絶縁層4が形成されている。この絶縁層4の所定部分
には、電子部品搭載用の開口部としてのキャビティ22
が形成されている。前記キャビティ22の内壁面には、
金属層としての無電解銅めっき層8eが形成されてい
る。
In the substrate 21 of this embodiment, unlike the case of the first embodiment, the insulating layer 4 made of a photosensitive resin is directly formed on the surface of the insulating base material 2. A cavity 22 as an opening for mounting an electronic component is provided at a predetermined portion of the insulating layer 4.
Are formed. On the inner wall surface of the cavity 22,
An electroless copper plating layer 8e as a metal layer is formed.

【0039】また、このようなキャビティ22内には実
施例1のときと同じくICチップ7が搭載されており、
絶縁層4上においてキャビティ6の周囲には複数のセカ
ンドパッド8bが規則的に配列されている。一方、前記
ICチップ7側には、複数のファーストパッド9が形成
されている。そして、各セカンドパッド8bと各ファー
ストパッド9とは、いずれもワイヤボンディング10に
よって電気的に接続されている。
The IC chip 7 is mounted in the cavity 22 as in the first embodiment.
A plurality of second pads 8b are regularly arranged around the cavity 6 on the insulating layer 4. On the other hand, a plurality of first pads 9 are formed on the IC chip 7 side. Each second pad 8b and each first pad 9 are electrically connected by wire bonding 10.

【0040】また、絶縁層4の表面においてキャビティ
22及びセカンドパッド8bの周辺の領域には、外層導
体回路としての配線パターン8aが形成されている。な
お、本実施例におけるキャビティ22も、実施例1のと
きと同様に断面がICチップ7の外形にほぼ等しく、か
つ四隅にRのないものとなっている(図3参照)。
On the surface of the insulating layer 4, a wiring pattern 8a as an outer conductor circuit is formed in a region around the cavity 22 and the second pad 8b. The cavity 22 in the present embodiment also has a cross section that is substantially the same as the outer shape of the IC chip 7 and has no R at the four corners as in the first embodiment (see FIG. 3).

【0041】次に、この電子部品搭載用基板21を作製
する手順を説明する。まず、樹脂製の絶縁基材2を脱脂
・酸洗・バフ研磨・水洗・乾燥した後、その表面に感光
性を有する接着剤をスクリーン印刷等によって塗布す
る。なお、本実施例では、前記実施例1と同一のアディ
ティブ用の接着剤が使用されている。
Next, a procedure for manufacturing the electronic component mounting board 21 will be described. First, the resin insulating base material 2 is degreased, pickled, buffed, washed with water and dried, and then a photosensitive adhesive is applied to the surface by screen printing or the like. In this example, the same adhesive for additive as in Example 1 is used.

【0042】次いで、接着剤層上にフォトマスクを配置
して露光・現像を行うことにより、前記接着剤層を部分
的に硬化させる。このようなフォトリソグラフィを行う
ことによって、断面正方形状のキャビティ22を備えた
絶縁層4が形成される。
Next, a photomask is placed on the adhesive layer, and exposure and development are performed to partially cure the adhesive layer. By performing such photolithography, the insulating layer 4 including the cavity 22 having a square cross section is formed.

【0043】そして、前記実施例1のときと同様の手順
に従ってクロム酸処理による絶縁層4の表面粗化・触媒
核の付与を行った後、絶縁層4上に感光性樹脂を塗布す
る。更に、露光・現像を行うことにより、絶縁層4上の
所定部分にめっきレジストを形成する。
Then, the surface of the insulating layer 4 is roughened by the chromic acid treatment and the catalyst nuclei are applied in the same procedure as in Example 1, and then a photosensitive resin is applied onto the insulating layer 4. Further, by exposing and developing, a plating resist is formed on a predetermined portion on the insulating layer 4.

【0044】ここで触媒核を活性化した後、無電解銅め
っきを施すことにより、めっきレジストの非形成部分に
めっき銅を析出させる。この処理を経ることにより、絶
縁層4の表面には、配線パターン8a及びセカンドパッ
ド8bが形成される。同時にキャビティ22の内壁面に
は、無電解銅めっき層8eが形成される。この後、不要
となっためっきレジストを剥離する。
Here, after activating the catalyst nuclei, electroless copper plating is performed to deposit plated copper on the portions where the plating resist is not formed. Through this process, the wiring pattern 8a and the second pad 8b are formed on the surface of the insulating layer 4. At the same time, an electroless copper plating layer 8e is formed on the inner wall surface of the cavity 22. After this, the plating resist that is no longer needed is removed.

【0045】そして、キャビティ22内にICチップ7
を搭載した後、ワイヤボンディング10を施して、最終
的に図3に示されるような状態の電子部品搭載用基板2
1とする。
Then, the IC chip 7 is placed in the cavity 22.
After mounting the electronic component, wire bonding 10 is performed, and finally the electronic component mounting substrate 2 in the state as shown in FIG.
Set to 1.

【0046】さて、本実施例の基板21のキャビティ2
2も、実施例1のときと同様にフォトリソグラフィとい
う光学的手法によって形成されることを特徴とする。よ
って、四隅にRのない断面正方形状のキャビティ22が
精度良く形成されることとなり、実施例1のときと同様
の作用・効果が得られる結果となる。従って、このよう
な構成とした場合であっても、基板21の実装信頼性の
向上、及び高密度実装化・低コスト化等を確実に図るこ
とができる。 〔実施例3〕次に、実施例3の電子部品搭載用基板31
を図4及び図5をもとに説明する。
Now, the cavity 2 of the substrate 21 of the present embodiment.
2 is also characterized by being formed by an optical method called photolithography as in the first embodiment. Therefore, the cavities 22 each having a square cross-section with no R at the four corners are accurately formed, and the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained. Therefore, even in the case of such a configuration, it is possible to surely improve the mounting reliability of the substrate 21, high density mounting, and cost reduction. [Embodiment 3] Next, the electronic component mounting substrate 31 of Embodiment 3 will be described.
Will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

【0047】本実施例の基板31を構成している絶縁基
材2の表面には、内層導体回路としての配線パターン3
aが形成されている。また、同表面には、電子部品搭載
用の金属層としてのダイパッド3bがベタ状に形成され
ている。
On the surface of the insulating base material 2 which constitutes the substrate 31 of this embodiment, the wiring pattern 3 as an inner layer conductor circuit is formed.
a is formed. Further, a die pad 3b as a metal layer for mounting electronic components is formed in a solid shape on the same surface.

【0048】これらの配線パターン3a及びダイパッド
3b上には、感光性樹脂製の絶縁層32,33と導体層
とをそれぞれ交互に積層した、いわゆるビルドアップ層
が形成されている。
On the wiring pattern 3a and the die pad 3b, there is formed a so-called build-up layer in which insulating layers 32 and 33 made of a photosensitive resin and conductor layers are alternately laminated.

【0049】前記ビルドアップ層において内層側となる
絶縁層(以下「内側絶縁層」という)32の所定部分に
は、配線パターン3aの一部を露出させるような開口部
としてのIVH形成用穴5が形成されている。
The IVH forming hole 5 as an opening for exposing a part of the wiring pattern 3a is formed in a predetermined portion of the insulating layer (hereinafter referred to as "inner insulating layer") 32 on the inner side of the buildup layer. Are formed.

【0050】この内側絶縁層32には、ダイパッド3b
の一部を露出させるような開口部として、キャビティ6
が形成されている。前記キャビティ6の内壁面には、電
子部品搭載用の金属層としての無電解銅めっき層8cが
形成されている。このキャビティ6内にはICチップ7
が搭載されている。そして、内側絶縁層32上において
キャビティ6の周囲には、ボンディング用の外層導体回
路としてのセカンドパッド8bが規則的に配列されてい
る。
The inner insulating layer 32 has a die pad 3b.
Of the cavity 6 as an opening for exposing a part of
Are formed. On the inner wall surface of the cavity 6, an electroless copper plating layer 8c is formed as a metal layer for mounting electronic components. The IC chip 7 is placed in the cavity 6.
Is installed. A second pad 8b as an outer conductor circuit for bonding is regularly arranged around the cavity 6 on the inner insulating layer 32.

【0051】また、前記セカンドパッド8bの周辺の領
域には、外層導体回路としての配線パターン8aが形成
されている。そして、前記配線パターン3a,8a同士
は、IVH形成用穴5と無電解銅めっき層8dとからな
るIVH11を介して電気的に接続されている。
In the area around the second pad 8b, a wiring pattern 8a is formed as an outer conductor circuit. The wiring patterns 3a and 8a are electrically connected to each other through an IVH 11 including an IVH forming hole 5 and an electroless copper plating layer 8d.

【0052】内層絶縁層32表面の配線パターン8a及
びセカンドパッド8b上には、更に前記ビルドアップ層
において外層側となる絶縁層(以下「外側絶縁層」とい
う)33が形成されている。この外側絶縁層33の所定
部分には、セカンドパッド8bの一部とキャビティ6と
を共に露出させるような大きな開口部34が設けられて
いる。
On the wiring pattern 8a and the second pad 8b on the surface of the inner insulating layer 32, an insulating layer (hereinafter referred to as "outer insulating layer") 33 on the outer side of the buildup layer is further formed. A large opening 34 is provided at a predetermined portion of the outer insulating layer 33 so as to expose a part of the second pad 8b and the cavity 6 together.

【0053】この外側絶縁層33上において前記開口部
34の周囲には、ボンディング用の外層導体回路として
のセカンドパッド35bが規則的に配列されている。ま
た、前記セカンドパッド35bの周辺の領域には、外層
導体回路としての配線パターン35aが形成されてい
る。
A second pad 35b as an outer conductor circuit for bonding is regularly arranged around the opening 34 on the outer insulating layer 33. Further, a wiring pattern 35a as an outer conductor circuit is formed in a region around the second pad 35b.

【0054】また、前記外側絶縁層33には、内層絶縁
層32上の配線パターン8aの一部を露出させるような
開口部として、IVH形成用穴36が形成されている。
そして、配線パターン35a,8a同士は、前記IVH
形成用穴36と無電解銅めっき層35cとからなるIV
H37を介して電気的に接続されている。
Further, in the outer insulating layer 33, an IVH forming hole 36 is formed as an opening for exposing a part of the wiring pattern 8a on the inner insulating layer 32.
The wiring patterns 35a and 8a are connected to each other by the IVH.
IV consisting of formation hole 36 and electroless copper plating layer 35c
It is electrically connected via H37.

【0055】本実施例の基板31においても前記各実施
例1,2のときと同様に、キャビティ6は、断面正方形
状のICチップ7の外形にほぼ等しく、かつ四隅にRの
ないものとなっている(図5参照)。また、キャビティ
6を露出させている開口部34は、同キャビティ6より
も若干大きいものとなっている。更に、前記大きな開口
部34の断面形状もキャビティ6と等しく、しかも四隅
にRのないものとなっている。
Also in the substrate 31 of this embodiment, as in the case of the first and second embodiments, the cavity 6 has substantially the same outer shape as that of the IC chip 7 having a square cross section and has no R at the four corners. (See FIG. 5). The opening 34 exposing the cavity 6 is slightly larger than the cavity 6. Further, the cross-sectional shape of the large opening 34 is also the same as that of the cavity 6, and there is no R at the four corners.

【0056】つまり、本実施例の基板31は、キャビテ
ィ6と開口部34とからなる2ティア(Two tier)構造
のキャビティを備えているということができる。また、
前記2ティア構造のキャビティにおいて下段となるセカ
ンドパッド8bと、上段となるセカンドパッド35bと
は、図5に示されるように千鳥状に配置されている。そ
して、各セカンドパッド8b,35bとファーストパッ
ド9とは、いずれもワイヤボンディング10によって電
気的に接続されている。
That is, it can be said that the substrate 31 of the present embodiment has a cavity having a two tier structure including the cavity 6 and the opening 34. Also,
In the cavity of the two-tier structure, the lower second pad 8b and the upper second pad 35b are arranged in a staggered manner as shown in FIG. Each of the second pads 8b and 35b and the first pad 9 are electrically connected by wire bonding 10.

【0057】次に、この電子部品搭載用基板31を作製
する手順を図4(a)〜図4(d)に基づいて述べる。
まず、実施例1のときの作製手順と同様に、サブトラク
ティブ法のプロセスによって絶縁基材2に配線パターン
3a,ダイパッド3bを形成する。
Next, a procedure for manufacturing the electronic component mounting substrate 31 will be described with reference to FIGS. 4 (a) to 4 (d).
First, similar to the manufacturing procedure in the first embodiment, the wiring pattern 3a and the die pad 3b are formed on the insulating base material 2 by the process of the subtractive method.

【0058】次に、脱脂等を行った後、絶縁基材2の表
面に感光性を有する接着剤を塗布し、露光・現像を行
う。このようなフォトリソグラフィを行うことによっ
て、断面正方形状のキャビティ6とIVH形成用穴5と
を備える内側絶縁層32を絶縁基材2上に形成する。
Next, after degreasing and the like, a photosensitive adhesive is applied to the surface of the insulating base material 2 and exposed and developed. By performing such photolithography, the inner insulating layer 32 including the cavity 6 having a square cross section and the IVH forming hole 5 is formed on the insulating base material 2.

【0059】次いで、実施例1のときと同様に、前記内
側絶縁層32に対する表面粗化処理、触媒核の付与、め
っきレジストの形成及び触媒核の活性化等の処理を行
う。この後、無電解銅めっき浴を用いてめっきを施すこ
とにより、所定部分に配線パターン8a、セカンドパッ
ド8b及び無電解銅めっき層8c,8dを形成する。以
上のようなプロセスによって、ビルドアップ層の下半分
が形成される。この後、不要となっためっきレジストを
剥離する。
Then, as in the case of Example 1, the inner insulating layer 32 is subjected to surface roughening treatment, catalyst nucleus application, plating resist formation and catalyst nucleus activation treatment. Thereafter, plating is performed using an electroless copper plating bath to form the wiring pattern 8a, the second pad 8b, and the electroless copper plating layers 8c and 8d on predetermined portions. The lower half of the buildup layer is formed by the process described above. After this, the plating resist that is no longer needed is removed.

【0060】続いて、上述したビルドアップ法の基本プ
ロセスを繰り返し行うことにより、前記ビルドアップ層
の上半分を形成する。まず、配線パターン8a等が形成
された内側絶縁層32の表面に、前記接着剤を塗布する
(図4(a) 参照)。更に、接着剤層38上にフォトマス
クを配置して露光・現像を行うことにより、前記接着剤
層38を部分的に硬化させる。
Subsequently, the basic process of the build-up method described above is repeatedly performed to form the upper half of the build-up layer. First, the adhesive is applied to the surface of the inner insulating layer 32 on which the wiring pattern 8a and the like are formed (see FIG. 4A). Further, a photomask is arranged on the adhesive layer 38, and exposure and development are performed to partially cure the adhesive layer 38.

【0061】このようなフォトリソグラフィを行うこと
によって、断面正方形状の開口部34とIVH形成用穴
36とを備えた外側絶縁層33を形成する(図4(b) 参
照)。
By performing such photolithography, the outer insulating layer 33 having the opening 34 having a square cross section and the IVH forming hole 36 is formed (see FIG. 4B).

【0062】そして、外側絶縁層33に対する表面粗化
処理を行った後、得られた粗化面33aに触媒核を付与
する。更に、前記めっきレジスト用の感光性樹脂を塗布
して露光・現像を行うことにより、外層絶縁層33表面
の所定部分にめっきレジスト39を形成する。
Then, after performing a surface roughening treatment on the outer insulating layer 33, catalyst nuclei are applied to the obtained roughened surface 33a. Further, the photosensitive resin for the plating resist is applied and exposed and developed to form the plating resist 39 on a predetermined portion of the surface of the outer insulating layer 33.

【0063】また、このめっきレジスト用の感光性樹脂
とは異なる感光性樹脂を塗布して露光・現像を行うこと
により、開口部34を被覆するようなマスク40を形成
する。なお、このマスク40は、めっき金属の析出によ
る各セカンドパッド8b同士の短絡を回避することなど
を目的として、暫定的に配置されるものである。ここで
触媒核を活性化した後に無電解銅めっきを施すことによ
り、露出部分にめっき銅を析出させる。
Further, a photosensitive resin different from the photosensitive resin for the plating resist is applied, exposed and developed to form a mask 40 for covering the opening 34. The mask 40 is provisionally arranged for the purpose of avoiding a short circuit between the second pads 8b due to the deposition of plating metal. Here, after activating the catalyst nuclei, electroless copper plating is performed to deposit plated copper on the exposed portion.

【0064】この処理を経ることにより、外側絶縁層3
3の表面に配線パターン35a及びセカンドパッド35
bが形成され、同時にIVH形成用穴36の内壁面に無
電解銅めっき層35cが形成される(図4(d) 参照)。
この後、不要となっためっきレジスト39及びマスク4
0を剥離する。
Through this treatment, the outer insulating layer 3
The wiring pattern 35a and the second pad 35 on the surface of
b is formed, and at the same time, an electroless copper plating layer 35c is formed on the inner wall surface of the IVH forming hole 36 (see FIG. 4 (d)).
After this, the plating resist 39 and the mask 4 which are no longer needed
Peel 0.

【0065】そして、キャビティ6内にICチップ7を
搭載した後、千鳥状にワイヤボンディング10を施し
て、最終的に図4(d)及び図5に示されるような電子
部品搭載用基板31とする。
After mounting the IC chips 7 in the cavities 6, wire bonding 10 is performed in a staggered manner, and finally the electronic component mounting substrate 31 as shown in FIGS. 4D and 5 is obtained. To do.

【0066】さて、本実施例の基板31によると、キャ
ビティ6も大きめの開口部34も、実施例1,2のとき
と同様にフォトリソグラフィという光学的手法によって
形成されることを特徴とする。よって、これらを四隅に
Rのない断面正方形状に精度良く加工することが可能と
なり、実施例1,2のときと同様の作用・効果が得られ
る結果となる。従って、このような構成とした場合であ
っても、基板31の実装信頼性の向上、及び高密度実装
化・低コスト化等を確実に図ることができる。
The substrate 31 of this embodiment is characterized in that both the cavity 6 and the large opening 34 are formed by the optical technique of photolithography as in the first and second embodiments. Therefore, it becomes possible to accurately process these into a square cross section with no R at the four corners, and the same effects and advantages as in the first and second embodiments can be obtained. Therefore, even with such a configuration, it is possible to surely improve the mounting reliability of the substrate 31, the high-density mounting and the cost reduction.

【0067】また、2ティア構造のキャビティを備える
本実施例の基板31の場合、セカンドパッド8b,35
bの配置数を増やすことが可能なため、より一層の高密
度実装を実現することができる。この場合においても、
ある程度のボンディング距離の短さが維持されるため、
実装信頼性も低下しないという利点がある。
Further, in the case of the substrate 31 of this embodiment having the cavity of the two-tier structure, the second pads 8b and 35 are used.
Since it is possible to increase the number of arrangements of b, it is possible to realize higher density mounting. Even in this case,
Since the bonding distance is maintained to some extent,
There is an advantage that mounting reliability is not lowered.

【0068】なお、本発明は上記実施例1〜3のみに限
定されることはなく、以下のように変更することが可能
である。例えば、 (a)図6に示す別例1の基板41のように、絶縁層4
に電子部品搭載用の凹部42を設けた構成としても良
い。この構成によると、前記凹部42の下面側となる領
域にも配線パターン3a等の内層導体回路3を引き回す
ことができるため、配線の自由度が増す。
The present invention is not limited to the first to third embodiments described above, but can be modified as follows. For example, (a) as in the substrate 41 of another example 1 shown in FIG.
The recess 42 for mounting electronic components may be provided in the above. According to this structure, the inner layer conductor circuit 3 such as the wiring pattern 3a can be routed to the region on the lower surface side of the recess 42, so that the degree of freedom of wiring is increased.

【0069】更に、この構成によると、ざぐり加工によ
る従来の電子部品搭載用の凹部の場合とは異なり、当該
部分に形成されるめっき層の密着強度を確保することが
できる。即ち、本発明において絶縁層4はアディティブ
の接着剤によって形成されるものであり、その表面を前
記方法によって粗化することにより好適なアンカーが形
成されるからである。一方のざぐり加工によると、切断
されたガラス繊維が電子部品搭載用の凹部内に突出した
状態となり、めっき層を形成するための面としては好適
ではないからである。
Further, according to this structure, unlike the conventional recess for mounting an electronic component by counterboring, it is possible to secure the adhesion strength of the plating layer formed in that portion. That is, in the present invention, the insulating layer 4 is formed by an additive adhesive, and a suitable anchor is formed by roughening the surface by the above method. This is because the counterbore processing causes the cut glass fibers to protrude into the recesses for mounting electronic components, which is not suitable as a surface for forming the plating layer.

【0070】このような利点に加え、本別例1による
と、凹部42の下面や側面等に信号線(例えば配線パタ
ーン3a)が存在していても、周囲を取り囲むめっき層
の存在によって信号線からのチップへのノイズの混入が
ないという利点もある。
In addition to such advantages, according to the present modification 1, even if the signal line (for example, the wiring pattern 3a) is present on the lower surface or the side surface of the recess 42, the signal line is provided due to the presence of the plating layer surrounding the signal line. There is also an advantage that no noise is mixed into the chip.

【0071】(b)図7に示す別例2の基板43のよう
に、3ティア構造のキャビティを形成することも勿論可
能である。この基板43では外側絶縁層33の外層側に
更に別の絶縁層44aが設けられ、その絶縁層44aに
は開口部34を露出させるような別の開口部44bが設
けられる。また、前記開口部44bの周囲には、複数の
セカンドパッド44cが設けられる。
(B) It is of course possible to form a cavity having a three-tier structure like the substrate 43 of the second example shown in FIG. In this substrate 43, another insulating layer 44a is provided on the outer layer side of the outer insulating layer 33, and the insulating layer 44a is provided with another opening 44b for exposing the opening 34. A plurality of second pads 44c are provided around the opening 44b.

【0072】なお、このような3ティア構造に限られ
ず、4ティア、5ティアというように、より高次の構造
にすることも可能である。 (c)また、図8に示す別例3のように、複雑な形状の
開口部46を有する3ティア構造の基板45としても良
い。この基板45の構成の利点は、最上段のセカンドパ
ッド44cとファーストパッド9との間のボンディング
距離が短くなることである。
The structure is not limited to such a three-tier structure, and a higher-order structure such as a four-tier or a five-tier structure is also possible. (C) Further, as in another example 3 shown in FIG. 8, a substrate 45 having a 3-tier structure having an opening 46 having a complicated shape may be used. The advantage of the structure of the substrate 45 is that the bonding distance between the uppermost second pad 44c and the first pad 9 becomes shorter.

【0073】(d)基板に搭載されるべき電子部品は、
ICチップ7のような能動部品でも、チップ抵抗やチッ
プコンデンサ等のような受動部品でも良い。また、本発
明を、能動部品や受動部品を搭載するための電子部品搭
載部として、大小複数のキャビティを備えるマルチチッ
プモジュールに具体化することも勿論可能である。この
場合、フォトリソグラフィにてキャビティ形成を行う本
発明によれば、従来のざぐり加工による場合に比べて、
確実に低コスト化を図ることができる。
(D) The electronic components to be mounted on the board are
It may be an active component such as the IC chip 7 or a passive component such as a chip resistor or a chip capacitor. Further, it is of course possible to embody the present invention in a multi-chip module having a plurality of large and small cavities as an electronic component mounting portion for mounting an active component or a passive component. In this case, according to the present invention in which the cavity is formed by photolithography,
The cost can be surely reduced.

【0074】(e)上記のようなマルチチップモジュー
ルを作製する場合、一枚の基板内に通常のキャビティ、
2ティア構造のキャビティ、3ティア構造のキャビティ
を混在させることも可能である。
(E) In the case of manufacturing the above multi-chip module, an ordinary cavity,
It is also possible to mix two-tier structure cavities and three-tier structure cavities.

【0075】(f)本発明のようなフォトリソグラフィ
を行うことにより、電子部品の裏側となる部分等に放熱
板を嵌合させるための開口部または凹部を形成すること
も可能である。
(F) By performing the photolithography as in the present invention, it is possible to form an opening or a recess for fitting a heat sink to a portion which will be the back side of an electronic component.

【0076】(g)絶縁基材上に内層導体回路を形成す
る方法として、実施例1,3にて示したサブトラクティ
ブ法のプロセスばかりでなく、アディティブ法のプロセ
スを採用することも勿論可能である。
(G) As a method for forming the inner layer conductor circuit on the insulating base material, not only the subtractive process shown in Examples 1 and 3 but also the additive process can be adopted. is there.

【0077】(h)絶縁層を形成するための樹脂とし
て、実施例1〜3にて使用したアディティブ用接着剤と
は異なる他の樹脂を選択することも可能である。 (i)ビルドアップ層が形成される絶縁基材は樹脂製の
ものに限定されず、例えば窒化アルミニウム等のような
セラミックス製のものであっても良い。
(H) As the resin for forming the insulating layer, another resin different from the additive adhesive used in Examples 1 to 3 can be selected. (I) The insulating base material on which the build-up layer is formed is not limited to the one made of resin, and may be made of ceramics such as aluminum nitride.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の電子部品
搭載用基板及びその製造方法によれば、実装信頼性を向
上させることができ、かつ高密度実装化及び低コスト化
を図ることができるという優れた効果を奏する。
As described above in detail, according to the electronic component mounting substrate and the method of manufacturing the same of the present invention, it is possible to improve the mounting reliability and to achieve high density mounting and cost reduction. It has an excellent effect that

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)〜(d)は、実施例1の電子部品搭載用
基板の製造工程を示す部分概略断面図である。
1A to 1D are partial schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of a substrate for mounting electronic components according to a first embodiment.

【図2】実施例1の電子部品搭載用基板を示す部分概略
平面図である。
FIG. 2 is a partial schematic plan view showing the electronic component mounting substrate of the first embodiment.

【図3】実施例2の電子部品搭載用基板を示す部分概略
断面図である。
FIG. 3 is a partial schematic cross-sectional view showing an electronic component mounting substrate of Example 2.

【図4】(a)〜(d)は、実施例3の電子部品搭載用
基板の製造工程を示す部分概略断面図である。
4A to 4D are partial schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of an electronic component mounting substrate according to a third embodiment.

【図5】実施例3の電子部品搭載用基板を示す部分概略
平面図である。
FIG. 5 is a partial schematic plan view showing an electronic component mounting substrate of Example 3;

【図6】別例1の電子部品搭載用基板を示す部分概略断
面図である。
FIG. 6 is a partial schematic cross-sectional view showing an electronic component mounting substrate of another example 1.

【図7】別例2の電子部品搭載用基板を示す部分概略平
面図である。
FIG. 7 is a partial schematic plan view showing an electronic component mounting substrate of Modification 2.

【図8】別例3の電子部品搭載用基板を示す部分概略平
面図である。
FIG. 8 is a partial schematic plan view showing an electronic component mounting board of Modification 3;

【図9】従来における電子部品搭載用基板を示す部分概
略断面図である。
FIG. 9 is a partial schematic cross-sectional view showing a conventional electronic component mounting board.

【図10】従来における電子部品搭載用基板を示す部分
概略平面図である。
FIG. 10 is a partial schematic plan view showing a conventional electronic component mounting substrate.

【図11】従来における電子部品搭載用基板の製造工程
の問題点を説明するための部分概略断面図である。
FIG. 11 is a partial schematic cross-sectional view for explaining a problem in a manufacturing process of a conventional electronic component mounting substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21,41,43,45…電子部品搭載用基板、3
a…内層導体回路としての配線パターン、3b…電子部
品搭載用の金属層、4,22,32,33,44a…絶
縁層、6…開口部としてのキャビティ、8a…外層導体
回路としての配線パターン、8e…金属層、8b,35
b,44c…ボンディング用の外層導体回路としてのボ
ンディングパッド、8c…金属めっき層、22…電子部
品搭載用の開口部としてのキャビティ、42…電子部品
搭載用の凹部。
1, 21, 41, 43, 45 ... Electronic component mounting substrate, 3
a ... Wiring pattern as inner layer conductor circuit, 3b ... Metal layer for mounting electronic parts, 4, 22, 32, 33, 44a ... Insulating layer, 6 ... Cavity as opening, 8a ... Wiring pattern as outer layer conductor circuit , 8e ... Metal layer, 8b, 35
b, 44c ... Bonding pad as outer layer conductor circuit for bonding, 8c ... Metal plating layer, 22 ... Cavity as opening for mounting electronic parts, 42 ... Recess for mounting electronic parts.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板(1,21,43,45)の表面に電
子部品搭載用の金属層(3b)が形成され、その金属層
(3b)上に感光性樹脂製の絶縁層(4,32)が形成
され、前記金属層(4,32)の少なくとも一部が露出
するような開口部(6)が、前記絶縁層(4,32)に
形成されてなる電子部品搭載用基板。
1. A metal layer (3b) for mounting an electronic component is formed on a surface of a substrate (1, 21, 43, 45), and an insulating layer (4) made of a photosensitive resin is formed on the metal layer (3b). 32) is formed, and an opening (6) for exposing at least a part of the metal layer (4, 32) is formed in the insulating layer (4, 32).
【請求項2】基板(21,41)の表面に感光性樹脂製
の絶縁層(4)が形成され、その絶縁層(4)の所定部
分に電子部品搭載用の凹部(42)または開口部(2
2)が形成され、前記凹部(42)または開口部(2
2)の内壁面に金属層(8e)が形成されてなる電子部
品搭載用基板。
2. An insulating layer (4) made of a photosensitive resin is formed on the surface of a substrate (21, 41), and a recess (42) or an opening for mounting an electronic component is formed in a predetermined portion of the insulating layer (4). (2
2) is formed, and the recess (42) or the opening (2) is formed.
An electronic component mounting board having a metal layer (8e) formed on the inner wall surface of 2).
【請求項3】前記基板(1,31,41)には内層導体
回路(3a)が形成されてなることを特徴とした請求項
1または2に記載の電子部品搭載用基板。
3. The electronic component mounting board according to claim 1, wherein an inner layer conductor circuit (3a) is formed on the board (1, 31, 41).
【請求項4】前記絶縁層(4,33)表面において前記
電子部品搭載用の凹部(42)または開口部(6,2
2)の近傍に、ボンディング用の外層導体回路(8b)
を設けることを特徴とした請求項1乃至3のいずれか1
項に記載の電子部品搭載用基板。
4. A recess (42) or opening (6, 2) for mounting the electronic component on the surface of the insulating layer (4, 33).
In the vicinity of 2), an outer layer conductor circuit (8b) for bonding
4. The method according to claim 1, further comprising:
The electronic component mounting substrate according to item.
【請求項5】前記ボンディング用の外層導体回路(8
b)の少なくとも一部が露出するように、前記外層導体
回路(8b)上に絶縁層(33,44a)が形成され、
更にその絶縁層(33,44a)上にもボンディング用
の外層導体回路(35b,44c)が形成されてなるこ
とを特徴とした請求項4に記載の電子部品搭載用基板。
5. An outer layer conductor circuit for bonding (8)
an insulating layer (33, 44a) is formed on the outer conductor circuit (8b) so that at least a part of b) is exposed;
The electronic component mounting board according to claim 4, further comprising outer layer conductor circuits (35b, 44c) for bonding formed on the insulating layers (33, 44a).
【請求項6】基板(21,41)の表面に感光性樹脂製
の絶縁層(4)を形成した後、その絶縁層(4)の所定
部分を露光・現像することにより、前記絶縁層(4)に
電子部品搭載用の凹部(42)または開口部(22)を
形成した後、無電解めっきにより金属層(8e)を形成
することを特徴とした電子部品搭載用基板の製造方法。
6. An insulating layer (4) made of a photosensitive resin is formed on the surface of a substrate (21, 41), and the insulating layer (4) is exposed and developed to expose the insulating layer (4). 4) A method for manufacturing a board for mounting electronic parts, which comprises forming a recess (42) or an opening (22) for mounting electronic parts in 4) and then forming a metal layer (8e) by electroless plating.
【請求項7】基板(1,31,43,45)の表面に電
子部品搭載用の金属層(3b)を形成した後、その金属
層(3b)上に感光性樹脂製の絶縁層(4,32)を形
成し、更にその絶縁層(4,32)の所定部分を露光・
現像することにより、前記金属層(3b)の少なくとも
一部が露出するような開口部(6)を前記絶縁層(4,
32)に形成することを特徴とした電子部品搭載用基板
の製造方法。
7. A metal layer (3b) for mounting electronic parts is formed on the surface of a substrate (1, 31, 43, 45), and an insulating layer (4) made of a photosensitive resin is formed on the metal layer (3b). , 32) is formed, and a predetermined portion of the insulating layer (4, 32) is exposed.
By developing, the opening (6) that exposes at least a part of the metal layer (3b) is formed in the insulating layer (4).
32) A method for manufacturing an electronic component mounting substrate, which is characterized in that
【請求項8】無電解金属めっきを施すことによって、前
記凹部(42)または開口部(6,22)の内壁面に金
属めっき層(8c,8e)を形成すると共に、前記絶縁
層(4)の表面に外層導体回路(8a,8b)を形成す
ることを特徴とした請求項6または7に記載の電子部品
搭載用基板の製造方法。
8. A metal plating layer (8c, 8e) is formed on the inner wall surface of the recess (42) or the opening (6, 22) by applying electroless metal plating, and the insulating layer (4) is formed. The method for manufacturing an electronic component mounting substrate according to claim 6 or 7, wherein outer layer conductor circuits (8a, 8b) are formed on the surface of the substrate.
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