JPH06314645A - Apparatus and method for manufacturing refined air - Google Patents
Apparatus and method for manufacturing refined airInfo
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- JPH06314645A JPH06314645A JP5125493A JP12549393A JPH06314645A JP H06314645 A JPH06314645 A JP H06314645A JP 5125493 A JP5125493 A JP 5125493A JP 12549393 A JP12549393 A JP 12549393A JP H06314645 A JPH06314645 A JP H06314645A
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- air
- ultrapure water
- absorption tank
- purified air
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- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップ製造工場
のクリーンルームや水洗後の半導体チップの乾燥等に用
いられる、紛塵や活性気体を含んではならない精製エア
ーの製造装置及び製造方法に関し、特に、微粒子を除去
したエアーから更に、残留する紛塵や活性気体を除去す
る装置及び方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and method for producing purified air that does not contain dust or active gas, which is used in a clean room of a semiconductor chip manufacturing plant or for drying semiconductor chips after washing with water, and in particular. The present invention relates to an apparatus and method for further removing residual dust and active gas from air from which fine particles have been removed.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の精製エアーの製造装置及び製造方
法においては、特開昭63−256116号公報に開示
のように、微粒子を除去したエアーを吸収槽に送り込
み、該吸収槽中の超純水と接触させることにより該エア
ー中に残留するアンモニア、炭酸ガス、亜硫酸ガス等の
活性気体を水に溶解させて除去し、然る後上記吸収槽上
部から放出するものであった。2. Description of the Related Art In a conventional apparatus and method for producing purified air, as described in JP-A-63-256116, air from which fine particles have been removed is sent to an absorption tank to obtain ultrapure air in the absorption tank. By contacting with water, the active gas such as ammonia, carbon dioxide gas, and sulfurous acid gas remaining in the air was dissolved and removed in water, and then released from the upper part of the absorption tank.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】微細化の進む半導体装
置の製造において、半導体チップ製造工場のクリーンル
ームで使用されるクリーンエアー中の、紛塵や活性気体
は、製品の歩留りの低下や品質の劣化等の直接的原因と
なる。しかし上記のような従来の精製エアー製造装置及
び製造方法においては、微量の活性気体や微細な紛塵を
完全に除去することは極めて困難であった。Dust and active gas in clean air used in a clean room of a semiconductor chip manufacturing factory in the manufacture of semiconductor devices that are becoming finer are reduced in product yield and quality. Etc. will be the direct cause. However, it has been extremely difficult to completely remove a small amount of active gas and fine dust with the above-described conventional apparatus and method for producing purified air.
【0004】そこで本発明は、微粒子を除去したエアー
と超純水との接触面積、接触回数、及び接触時間を増す
ことにより、微量の活性気体や微細な紛塵等を完全に除
去することができる精製エアーの製造装置及び製造方法
を提供することを目的とする。Therefore, according to the present invention, a trace amount of active gas, fine dust, etc. can be completely removed by increasing the contact area, the number of contacts, and the contact time between the air from which fine particles have been removed and ultrapure water. An object of the present invention is to provide an apparatus and a method for producing purified air that can be produced.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る精製エアーの製造装置は、微粒子を除
去したエアーを超純水と接触させることにより該エアー
中に残留する紛塵や活性気体を除去するための吸収槽
が、超純水を攪拌するための攪拌装置と、この攪拌装置
によって攪拌される超純水中に上記微粒子を除去したエ
アーを噴入するための複数のノズルとを有する。その場
合、上記吸収槽は、上記超純水が螺旋形状を描きながら
降下するようなスプリンクラーをその上部に更に有する
か、或は上記超純水が粒状に飛散しながら降下するよう
なシャワーをその上部に更に有することが好ましい。In order to solve the above-mentioned problems, the apparatus for producing purified air according to the present invention has a method in which fine particles-removed air is brought into contact with ultrapure water to produce dust particles remaining in the air. And an absorption tank for removing the active gas, a stirring device for stirring the ultrapure water, and a plurality of agitating devices for injecting the air from which the fine particles are removed into the ultrapure water stirred by the stirring device. And a nozzle. In that case, the absorption tank further has a sprinkler on the upper part thereof in which the ultrapure water descends while drawing a spiral shape, or a shower in which the ultrapure water descends while scattering in a granular form. It is preferable to further have it on the upper part.
【0006】また、本発明に係る精製エアーの製造方法
は、微粒子を除去したエアーを、複数のノズルから、該
エアー中に残留する紛塵や活性気体を除去する吸収槽中
の超純水中に噴入させる工程と、この工程で噴入された
上記エアーを上記超純水中で攪拌する工程と、この工程
の後、上記エアーが上記吸収槽中の超純水から上方へ脱
した後、該エアーを上記吸収槽上部から放出する工程と
を有する。その場合、上記エアーが上記吸収槽中の超純
水から上方へ脱する際、上方から螺旋形状を描きながら
超純水を散布する工程を更に有するか、或は上方から粒
状の超純水を散布する工程を更に有することが好まし
い。Further, in the method for producing purified air according to the present invention, fine air is removed from ultrapure water in an absorption tank for removing dust and active gas remaining in the air from a plurality of nozzles. And a step of stirring the air injected in this step in the ultrapure water, and after this step, the air is released upward from the ultrapure water in the absorption tank. And discharging the air from the upper part of the absorption tank. In that case, when the air escapes from the ultrapure water in the absorption tank upward, the method further comprises a step of spraying ultrapure water while drawing a spiral shape from the above, or the granular ultrapure water is sprayed from above. It is preferable to further have a step of spraying.
【0007】[0007]
【作用】本発明においては、微粒子を除去したエアーを
超純水と接触させることにより該エアー中に残留する紛
塵や活性気体等を除去する際、上記微粒子を除去したエ
アーが吸収槽に取り付けられている複数のノズルから該
吸収槽中の超純水中に噴入することにより、該エアーが
細かくなり表面積が増すので、超純水と上記エアーとの
接触面積が増す。更に攪拌装置により超純水を攪拌する
ことにより、該超純水中に噴入した上記エアーを長時間
にわたり該超純水中に滞留させると同時に更に該エアー
を細かくして超純水との接触面積を増すことができる。
然る後、上記吸収槽上部に取り付けられたスプリンクラ
ー或いはシャワーから、上記超純水中を通過しそこから
放出された上記エアーに対して、新たな超純水が螺旋形
状を描きながら或いは粒状に飛散しながら降下すること
により、更に該エアー中の活性気体等を完全に除去する
ことができる。In the present invention, when the fine particles-removed air is contacted with ultrapure water to remove dust and active gas remaining in the air, the fine particles-removed air is attached to the absorption tank. By injecting into the ultrapure water in the absorption tank from the plurality of nozzles provided, the air becomes finer and the surface area increases, so that the contact area between the ultrapure water and the air increases. By further stirring the ultrapure water with a stirrer, the air injected into the ultrapure water is retained in the ultrapure water for a long time, and at the same time, the air is further finely divided to form ultrapure water. The contact area can be increased.
Then, from the sprinkler or shower attached to the upper part of the absorption tank, new ultrapure water is drawn in a spiral shape or in a granular shape with respect to the air released through the ultrapure water. By falling while scattering, the active gas and the like in the air can be completely removed.
【0008】[0008]
【実施例】以下、図1乃至図4を用いて本発明に係る精
製エアーの製造装置及び製造方法の実施例を説明する。
図1乃至図3は実施例における吸収槽の概略斜視図であ
り、図4は実施例における精製エアー及び超純水の流れ
を説明する図である。EXAMPLES Examples of the apparatus and method for producing purified air according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
1 to 3 are schematic perspective views of an absorption tank according to the embodiment, and FIG. 4 is a diagram illustrating flows of purified air and ultrapure water according to the embodiment.
【0009】初めに、図4によって超純水の製造方法を
説明する。純水タンク1から、フィルターを通過し炭酸
ガスを除去した水を、ポンプを介して、イオン交換装置
と、活性炭充填装置と、そしてフッ素樹脂等のエンジニ
アリングプラスチックの発泡体からなる0.1μm程度
の孔径を有するフィルターとを組み合わせた超純水製造
装置2へ送り込み、電気抵抗18mΩ・cmの超純水に
変えた後、該超純水を、エアーの活性気体を除去するた
めの吸収槽8へ送り込む。然る後、吸収槽8でエアー中
の活性気体を吸収した超純水は純水タンク1へと戻り、
再び上記のような工程を繰り返す。First, a method for producing ultrapure water will be described with reference to FIG. From the deionized water tank 1, water that has passed through the filter to remove the carbon dioxide gas is passed through a pump through an ion exchange device, an activated carbon filling device, and an engineering plastic foam such as a fluororesin having a size of about 0.1 μm. The ultrapure water is sent to the ultrapure water producing apparatus 2 combined with a filter having a pore size and changed into ultrapure water having an electric resistance of 18 mΩ · cm, and then the ultrapure water is transferred to an absorption tank 8 for removing active air gas. Send in. After that, the ultrapure water which has absorbed the active gas in the air in the absorption tank 8 returns to the pure water tank 1,
The above steps are repeated again.
【0010】次に、精製エアーの製造装置の構成を説明
する。図1に示すように、微粒子を除去した1次精製エ
アー10中に残留する紛塵や活性気体を除去するための
吸収槽8には、超純水13を吸収槽8内に供給するため
の超純水供給管14が取り付けられており、ここから供
給された超純水13は吸収槽8内に所定水位を保ちなが
ら溜められている。吸収槽8の底部には一般の洗濯機に
用いられるような攪拌装置12が取り付けられている。
また吸収槽8側面にはその内部に向かって、攪拌装置1
2により攪拌される超純水13中に1次精製エアー10
を供給するための複数の孔径数mm〜数十mmのノズル
11が取り付けられており、別の側面には、攪拌により
1次精製エアー10中の紛塵や活性気体を吸収した超純
水13を排水するための超純水排出口15が備えられて
いる。Next, the structure of the apparatus for producing purified air will be described. As shown in FIG. 1, the absorption tank 8 for removing dust and active gas remaining in the primary purified air 10 from which fine particles have been removed is supplied with ultrapure water 13 into the absorption tank 8. An ultrapure water supply pipe 14 is attached, and the ultrapure water 13 supplied from this pipe is stored in the absorption tank 8 while maintaining a predetermined water level. At the bottom of the absorption tank 8, a stirring device 12 as used in a general washing machine is attached.
In addition, the stirring device 1 is provided on the side surface of the absorption tank 8 toward the inside thereof.
Primary purified air 10 in ultrapure water 13 stirred by 2
A plurality of nozzles 11 having a hole diameter of several mm to several tens of mm are attached, and on another side, ultrapure water 13 that has absorbed dust and active gas in the primary purified air 10 by stirring. An ultrapure water outlet 15 for draining the water is provided.
【0011】次に、精製エアーの製造方法を説明する。
図4において、汚染エアー9をエアーコンプレッサー3
で圧縮して、活性炭等の吸着剤を充填した濾過層を連結
し最後に孔径0.3μmの微粒子除去フィルターを設け
たエアーフィルター4へ送り込み、上記汚染エアー9を
エアーフィルター4に通過させることにより1次精製エ
アー10とし、吸収槽8へと送り込む。図1において、
1次精製エアー10は、複数のノズル11から吸収槽8
中の超純水13中へ噴入する。然る後、超純水13中に
混入した1次精製エアー10は吸収槽8の底部の攪拌装
置12により攪拌される。然る後、1次精製エアー10
は吸収槽8の上方へと向かって超純水13から放出さ
れ、図4において、冷却器5へと送り込まれ、ここで冷
却されることにより過飽和になった水分が凝縮されて1
次精製エアー10から分離する。然る後、1次精製エア
ー10はエアーヒーター6へと送り込まれ、乾燥により
水分が除去され、超微粒子除去フィルター7を通過する
ことにより2次精製エアー(超純度精製エアー)18と
なる。Next, a method for producing purified air will be described.
In FIG. 4, the contaminated air 9 is replaced by the air compressor 3
By connecting with a filter layer filled with an adsorbent such as activated carbon and finally sending it to an air filter 4 provided with a fine particle removal filter having a pore size of 0.3 μm, the contaminated air 9 is passed through the air filter 4. The primary purified air 10 is supplied to the absorption tank 8. In FIG.
The primary purified air 10 is supplied from the plurality of nozzles 11 to the absorption tank 8
It is injected into the ultrapure water 13 inside. After that, the primary purified air 10 mixed in the ultrapure water 13 is stirred by the stirring device 12 at the bottom of the absorption tank 8. After that, primary purified air 10
Is discharged from the ultrapure water 13 toward the upper part of the absorption tank 8 and is sent to the cooler 5 in FIG. 4, where the supersaturated water is condensed by the cooling and is condensed to 1
Next, it is separated from the purified air 10. After that, the primary purified air 10 is sent to the air heater 6, the moisture is removed by drying, and the secondary purified air (ultra-purified purified air) 18 is obtained by passing through the ultrafine particle removal filter 7.
【0012】ここで、図2に示す別の実施例として、吸
収槽8の上部に超純水供給管14及びその先端にスプリ
ンクラー16を取付け、スプリンクラー16から超純水
を、超純水13から放出された1次精製エアー10に対
して散布することが好ましい。また、図3に示す更に別
の実施例として、スプリンクラー16の代わりにシャワ
ー17を取付け、シャワー17から粒状の超純水を散布
してもよい。As another embodiment shown in FIG. 2, an ultrapure water supply pipe 14 is attached to the upper part of the absorption tank 8 and a sprinkler 16 is attached to the tip thereof, so that the ultrapure water is supplied from the sprinkler 16 and the ultrapure water is supplied from the ultrapure water 13. It is preferable to spray on the discharged primary purified air 10. As still another embodiment shown in FIG. 3, a shower 17 may be attached instead of the sprinkler 16 and granular ultrapure water may be sprayed from the shower 17.
【0013】[0013]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、微
粒子を除去したエアーと超純水との接触面積、接触回
数、及び接触時間を増すことにより、微量の活性気体や
微細な紛塵等を完全に除去することができ、その結果得
られた精製エアーをクリーンルーム等で使用することに
より、製品の歩留りや品質の向上を実現することができ
る。As described above, according to the present invention, by increasing the contact area, the number of contacts, and the contact time between the air from which fine particles have been removed and ultrapure water, a minute amount of active gas or fine dust can be obtained. Etc. can be completely removed, and the purified air obtained as a result can be used in a clean room or the like to improve product yield and quality.
【図1】本発明に係る精製エアーの製造装置及び製造方
法の実施例における吸収槽の概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of an absorption tank in an embodiment of an apparatus and method for producing purified air according to the present invention.
【図2】本発明に係る精製エアーの製造装置及び製造方
法の別の実施例における吸収槽の概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of an absorption tank in another embodiment of the apparatus and method for producing purified air according to the present invention.
【図3】本発明に係る精製エアーの製造装置及び製造方
法の更に別の実施例における吸収槽の概略斜視図であ
る。FIG. 3 is a schematic perspective view of an absorption tank in still another embodiment of the apparatus and method for producing purified air according to the present invention.
【図4】本発明の実施例における精製エアー及び超純水
の流れを説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating flows of purified air and ultrapure water in an example of the present invention.
8 吸収槽 10 1次精製エアー 11 ノズル 12 攪拌装置 13 超純水 14 超純水供給管 15 超純水排出口 16 スプリンクラー 17 シャワー 8 Absorption Tank 10 Primary Purified Air 11 Nozzle 12 Stirrer 13 Ultra Pure Water 14 Ultra Pure Water Supply Pipe 15 Ultra Pure Water Discharge Port 16 Sprinkler 17 Shower
Claims (6)
り該エアー中に残留する紛塵や活性気体を除去するため
の吸収槽が、 超純水を攪拌するための攪拌装置と、 この攪拌装置によって攪拌される超純水中に上記微粒子
を除去したエアーを噴入するための複数のノズルと、を
有することを特徴とする精製エアーの製造装置。1. An apparatus for producing purified air, wherein an absorption tank for removing dust and active gas remaining in the air by contacting the air from which fine particles have been removed with ultrapure water An apparatus for producing purified air, comprising: a stirrer for stirring, and a plurality of nozzles for injecting the air from which the fine particles have been removed into the ultrapure water stirred by the stirrer.
において、上記吸収槽が、上記超純水が螺旋形状を描き
ながら降下するようなスプリンクラーをその上部に有す
ることを特徴とする精製エアーの製造装置。2. The purified air producing apparatus according to claim 1, wherein the absorption tank has a sprinkler on the upper part thereof for allowing the ultrapure water to drop while drawing a spiral shape. Manufacturing equipment.
において、上記吸収槽が、上記超純水が粒状に飛散しな
がら降下するようなシャワーをその上部に有することを
特徴とする精製エアーの製造装置。3. The purified air manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the absorption tank has a shower at an upper portion thereof, which shower drops the ultrapure water while scattering in a granular form. Manufacturing equipment.
ー中に残留する紛塵や活性気体を除去する吸収槽中の超
純水中に噴入させる第一の工程と、 この第一の工程で噴入された上記エアーを上記超純水中
で攪拌する第二の工程と、 この第二の工程の後、上記エアーが上記吸収槽中の超純
水から上方へ脱した後、該エアーを上記吸収槽上部から
放出する第三の工程と、を有することを特徴とする精製
エアーの製造方法。4. A method for producing purified air, in which fine particle-removed air is injected from a plurality of nozzles into ultrapure water in an absorption tank for removing dust and active gas remaining in the air. A first step, a second step in which the air injected in the first step is stirred in the ultrapure water, and, after the second step, the air flows in the absorption tank And a third step of discharging the air from the upper part of the absorption tank after the upward removal from the pure water.
において、上記第二の工程の後、上記吸収槽中の超純水
から上方へ脱した上記エアーに対して、上方から螺旋形
状を描きながら超純水を散布する工程を更に有すること
を特徴とする精製エアーの製造方法。5. The method for producing purified air according to claim 4, wherein after the second step, a spiral shape is formed from above with respect to the air released above the ultrapure water in the absorption tank. A method for producing purified air, further comprising a step of spraying ultrapure water while drawing.
において、上記第二の工程の後、上記吸収槽中の超純水
から上方へ脱した上記エアーに対して、上方から粒状の
超純水を散布する工程を更に有することを特徴とする精
製エアーの製造方法。6. The method for producing purified air according to claim 4, wherein after the second step, the air that has been degassed upwards from the ultrapure water in the absorption tank is granular from above. A method for producing purified air, further comprising a step of spraying pure water.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5125493A JPH06314645A (en) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | Apparatus and method for manufacturing refined air |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5125493A JPH06314645A (en) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | Apparatus and method for manufacturing refined air |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06314645A true JPH06314645A (en) | 1994-11-08 |
Family
ID=14911468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5125493A Withdrawn JPH06314645A (en) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | Apparatus and method for manufacturing refined air |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06314645A (en) |
-
1993
- 1993-04-28 JP JP5125493A patent/JPH06314645A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
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