JPH06310582A - Inspection data control method and apparatus - Google Patents

Inspection data control method and apparatus

Info

Publication number
JPH06310582A
JPH06310582A JP9960393A JP9960393A JPH06310582A JP H06310582 A JPH06310582 A JP H06310582A JP 9960393 A JP9960393 A JP 9960393A JP 9960393 A JP9960393 A JP 9960393A JP H06310582 A JPH06310582 A JP H06310582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
inspection data
wafer
semiconductor
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9960393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiko Ishikawa
勝彦 石川
Yoshikazu Tanabe
義和 田辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP9960393A priority Critical patent/JPH06310582A/en
Publication of JPH06310582A publication Critical patent/JPH06310582A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a method and an apparatus by which the inspection data of a semiconductor chip can be simply examined only with a product identification code. CONSTITUTION:This method comprises the process of preparing a wafer ID reference inspection data file in which the name of products and inspection results are written with the wafer ID of a semiconductor wafer 2 used as a key word and the process of preparing a product name reference inspection data file in which the wafer ID and the inspection results are written with the name of products used as a key word at the time of inspection data control on the inspection which is applied to a plurality of semiconductor chips 3 of the semiconductor wafer 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、検査データ管理方法お
よび装置技術に関し、特に、半導体ウエハに形成された
半導体チップに対して行った検査についての検査データ
管理方法および装置に適用して有効な技術に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection data management method and apparatus technology, and is particularly effective when applied to an inspection data management method and apparatus for an inspection performed on a semiconductor chip formed on a semiconductor wafer. It is about technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体製造技術においては、加工
寸法がサブミクロンのレベルに達していなかったので、
加工精度に対する要求もそれほど厳しいものではなかっ
た。このため、1ロットを構成する複数枚の半導体ウエ
ハを同時に処理するバッチ処理の場合、1ロット内にお
ける半導体ウエハの製品の加工精度は同一であると判断
され管理されていた。また、従来の半導体製造技術にお
いては、1枚の半導体ウエハに形成される半導体チップ
が、通常、同一種類のものであった。
2. Description of the Related Art In the conventional semiconductor manufacturing technology, the processing dimension has not reached the submicron level,
The requirements for processing accuracy were not so severe. Therefore, in the case of batch processing in which a plurality of semiconductor wafers forming one lot are processed at the same time, the processing precision of the semiconductor wafer products in one lot is judged to be the same and managed. Further, in the conventional semiconductor manufacturing technology, the semiconductor chips formed on one semiconductor wafer are usually of the same type.

【0003】したがって、従来は、半導体ウエハ内の特
定の半導体チップの検査データをその半導体ウエハ内の
全ての半導体チップの検査データとして使用することが
できた。特に、半導体メモリ製品等のような量産製品に
関しては、1ロット内の特定の半導体ウエハの特定の半
導体チップの検査データをそのロット全体の検査データ
として使用することができた。
Therefore, conventionally, the inspection data of a specific semiconductor chip in a semiconductor wafer can be used as the inspection data of all the semiconductor chips in the semiconductor wafer. Particularly for mass-produced products such as semiconductor memory products, the inspection data of a specific semiconductor chip on a specific semiconductor wafer in one lot can be used as the inspection data of the entire lot.

【0004】このため、従来は、その半導体チップの検
査データの管理に際して、半導体ウエハ毎に記されてい
るウエハ識別記号をキーワードとして検査結果等のよう
な検査データを作成し管理すれば良かった。その検査デ
ータの検索に際しても、ウエハ識別記号をキーワードと
すれば良かった。
Therefore, in the past, when managing the inspection data of the semiconductor chip, it was sufficient to create and manage the inspection data such as the inspection result using the wafer identification symbol written for each semiconductor wafer as a keyword. It was sufficient to use the wafer identification symbol as a keyword when searching the inspection data.

【0005】なお、半導体製造技術における試験装置に
ついては、例えば株式会社工業調査会 平成4年11月
20日発行「超LSI製造・試験装置ガイドブック、1
993年版」P165〜P227に記載がある。
As for the test equipment in the semiconductor manufacturing technology, for example, “VLSI Manufacturing / Test Equipment Guidebook, 1 November 20, 1992, Industrial Research Society, Inc.”
993 edition "P165-P227.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、半導
体製造技術においては、加工寸法がサブミクロンのレベ
ルに達しているので、加工寸法に対する要求も厳しくな
ってきている。このため、バッチ処理の場合であっても
1ロット内の半導体ウエハにおける半導体チップの加工
寸法精度が同一であると見なせなくなってきている。
By the way, in recent years, in the semiconductor manufacturing technology, since the processing dimension has reached the submicron level, the requirements for the processing dimension have become strict. Therefore, even in the case of batch processing, it is no longer possible to consider that the processing dimensional accuracy of the semiconductor chips in the semiconductor wafers in one lot is the same.

【0007】特に、半導体ウエハの大形化等に伴い半導
体ウエハを1枚づつ個々別々に処理する枚葉処理が導入
されつつあるが、この場合、半導体ウエハ毎のプロセス
条件の変動等によって半導体ウエハ毎に加工寸法精度に
誤差が生じる場合がある。
[0007] In particular, single-wafer processing for individually processing semiconductor wafers is being introduced along with the increase in size of semiconductor wafers. In this case, the semiconductor wafers may change due to variations in process conditions for each semiconductor wafer. An error may occur in the processing dimensional accuracy every time.

【0008】また、近年、開発、製造が進められている
ASIC(Aplication Specific
IC)等のような多品種少量生産品の場合、その製造に
際して、1枚の半導体ウエハに品種の異なる複数の半導
体チップを形成するようにしている。
[0008] Further, in recent years, ASIC (Application Specific) which has been developed and manufactured.
In the case of a high-mix low-volume product such as an IC), a plurality of semiconductor chips of different types are formed on a single semiconductor wafer during manufacturing.

【0009】これらの場合、上記従来技術で説明したよ
うに特定の1枚の半導体ウエハにおける特定の半導体チ
ップの検査データを、その半導体ウエハにおける全ての
半導体チップの検査データとして用いることは、検査精
度の低下を招くことになり、好ましくない。
In these cases, it is necessary to use the inspection data of a specific semiconductor chip in a specific semiconductor wafer as the inspection data of all the semiconductor chips in the semiconductor wafer as described in the above-mentioned prior art. It is not preferable because it leads to a decrease in

【0010】このため、その検査に際して、半導体ウエ
ハの全ての半導体チップに対して検査を行い、各々の半
導体チップの検査結果等を記憶し、検査データを作成す
るようにしている。
Therefore, in the inspection, all the semiconductor chips on the semiconductor wafer are inspected, the inspection result of each semiconductor chip is stored, and the inspection data is created.

【0011】ところが、その検査データの作成に際し
て、従来技術のようにウエハ識別記号をキーワードとし
て検査データファイルを作成した場合、例えば半導体チ
ップ毎に検査結果を知りたい場合やその半導体チップが
どの半導体ウエハから切り出されたかを知りたい場合
に、その調査およびデータ収集が煩雑で困難であるとい
う問題があった。
However, when creating the inspection data, when an inspection data file is created using a wafer identification symbol as a keyword as in the prior art, for example, when it is desired to know the inspection result for each semiconductor chip or which semiconductor wafer is the semiconductor chip. However, there is a problem that the survey and data collection are complicated and difficult when it is desired to know whether or not the data is extracted from the data.

【0012】例えば製品名しか残されていない完成後の
半導体チップからその半導体チップがどの半導体ウエハ
から切り出されたものかを調査するには、マスク描画フ
ァイルを参照して、その製品名に対応するウエハ識別記
号を調べることになるが、その作業は煩雑で面倒な作業
であった。
For example, in order to investigate from which semiconductor wafer the semiconductor chip is cut out from the completed semiconductor chips having only the product name left, the mask drawing file is referred to and the corresponding product name is obtained. Although it is necessary to check the wafer identification symbol, the work is complicated and troublesome.

【0013】本発明は上記課題に着目してなされたもの
であり、その目的は、製品識別記号だけからでも半導体
チップの検査データを簡単に調べることのできる技術を
提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique capable of easily inspecting inspection data of a semiconductor chip only from a product identification symbol.

【0014】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0016】すなわち、本発明は、半導体ウエハに形成
された複数の半導体チップに対して行った検査について
の検査データ管理方法であって、前記半導体ウエハのウ
エハ識別記号をキーワードとして、少なくとも製品識別
記号と検査結果とが記された第1検査データを作成する
工程と、前記第1検査データに基づいて、前記製品識別
記号をキーワードとして、少なくともウエハ識別記号と
検査結果とが記された第2検査データを作成する工程と
を有する検査データ管理方法とするものである。
That is, the present invention is an inspection data management method for an inspection performed on a plurality of semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, wherein the wafer identification symbol of the semiconductor wafer is used as a keyword, and at least a product identification symbol is used. And a result of the inspection, and a second inspection in which at least the wafer identification symbol and the inspection result are described based on the first inspection data with the product identification symbol as a keyword. An inspection data management method including a step of creating data.

【0017】[0017]

【作用】上記した発明によれば、第2検査データを参照
することにより、製品識別記号だけからでもその製品の
検査結果やその製品を切り出した半導体ウエハを簡単に
調べることができる。
According to the above-mentioned invention, by referring to the second inspection data, the inspection result of the product or the semiconductor wafer obtained by cutting out the product can be easily examined only from the product identification code.

【0018】[0018]

【実施例】図1は本発明の一実施例である検査データ管
理装置の構成を説明するための説明図、図2はウエハ識
別記号基準検査データファイルを説明するための説明
図、図3は製品識別記号基準検査データファイルを説明
するための説明図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view for explaining the structure of an inspection data management apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view for explaining a wafer identification symbol reference inspection data file, and FIG. It is explanatory drawing for demonstrating a product identification code reference | standard inspection data file.

【0019】図1に示す本実施例の検査データ管理装置
1は、例えば半導体ウエハ2に形成された複数個の半導
体チップ3に対するデバイス寸法測定検査についての検
査データを管理するための装置である。
The inspection data management apparatus 1 of this embodiment shown in FIG. 1 is an apparatus for managing inspection data for device dimension measurement inspection for a plurality of semiconductor chips 3 formed on a semiconductor wafer 2, for example.

【0020】半導体ウエハ2は、例えばシリコン(S
i)単結晶からなり、そのオリエンテーションフラット
部2aの近傍のウエハID形成領域Iには、図示しない
ウエハID(ウエハ識別記号)が記されている。
The semiconductor wafer 2 is made of, for example, silicon (S
i) A wafer ID (wafer identification symbol) (not shown) is written in the wafer ID forming region I near the orientation flat portion 2a made of a single crystal.

【0021】本実施例においては、例えば半導体ウエハ
2に品種の異なる半導体チップ3が複数個形成されてい
る。各半導体チップ3の主面の一部には、図示しない製
品名称(製品識別記号)が記されている。
In this embodiment, for example, a plurality of semiconductor chips 3 of different types are formed on the semiconductor wafer 2. On a part of the main surface of each semiconductor chip 3, a product name (product identification symbol) not shown is written.

【0022】半導体ウエハ2は、試料台4上に、取り外
し可能な状態で固定されている。試料台4は、試料台駆
動系5と機械的に接続されている。試料台駆動系5は、
試料台4を、半導体ウエハ2の主面に平行な面内におい
て移動させることによって、半導体ウエハ2の位置決め
を行う機構部である。
The semiconductor wafer 2 is removably fixed on the sample table 4. The sample stage 4 is mechanically connected to the sample stage drive system 5. The sample table drive system 5
It is a mechanism portion that positions the semiconductor wafer 2 by moving the sample table 4 in a plane parallel to the main surface of the semiconductor wafer 2.

【0023】試料台駆動系5は、試料台制御系6と電気
的に接続されている。試料台制御系6は、読み取り装置
7aを介して記憶部8aと電気的に接続されている。記
憶部8aには、試料台位置決めファイル等のようなデー
タが記憶されている。すなわち、試料台制御系6は、読
み取り装置7aによって記憶部8aから読み出された試
料台位置決めファイルのデータに基づいて試料台駆動系
5を制御するようになっている。
The sample table drive system 5 is electrically connected to the sample table control system 6. The sample stage control system 6 is electrically connected to the storage unit 8a via the reading device 7a. The storage unit 8a stores data such as a sample table positioning file. That is, the sample stage control system 6 controls the sample stage drive system 5 based on the data of the sample stage positioning file read from the storage unit 8a by the reading device 7a.

【0024】また、検査データ管理装置1において、半
導体ウエハ2の上方には、検査系9が設置されている。
検査系9は、半導体ウエハ2の半導体チップ3に対して
所定の検査を行うための構成部であり、検査の種類とし
ては、例えば素子構成部の寸法検査、付着異物検査また
は膜厚検査等、種々の検査がある。
Further, in the inspection data management device 1, an inspection system 9 is installed above the semiconductor wafer 2.
The inspection system 9 is a component for performing a predetermined inspection on the semiconductor chip 3 of the semiconductor wafer 2. The inspection types include, for example, dimensional inspection of an element component, adhered foreign matter inspection, film thickness inspection, and the like. There are various tests.

【0025】検査系9は、読み取り装置7bを介して記
憶部8bと電気的に接続されている。記憶部8bには、
マスク描画ファイル等のようなデータが記憶されてい
る。マスク描画ファイルには、描画開始座標(X,
Y):単位mm、製品名称、パターン座標および検査を
行うのに必要な検査用制御データ等が記されている。す
なわち、検査系9は、読み取り装置7bによって記憶部
8bから読み出された検査用制御データ等に基づいて検
査を行うようになっている。そして、マスク描画ファイ
ルでは、各半導体チップ3のチップ座標と、製品名称と
の対応が付けられている。
The inspection system 9 is electrically connected to the storage section 8b via the reading device 7b. In the storage unit 8b,
Data such as a mask drawing file is stored. In the mask drawing file, the drawing start coordinates (X,
Y): Unit mm, product name, pattern coordinates, inspection control data necessary for inspection, and the like are described. That is, the inspection system 9 is configured to perform the inspection based on the inspection control data and the like read from the storage unit 8b by the reading device 7b. Then, in the mask drawing file, the chip coordinates of each semiconductor chip 3 and the product name are associated with each other.

【0026】描画開始座標は、最初に描画を開始する半
導体チップ3の位置座標であり、この座標と、隣接する
半導体チップの間隔のデータとに基づいて、他の半導体
チップの位置座標を求めることができるようになってい
る。パターン座標は、各パターンの角部の位置座標を記
したデータであり、これにより、そのパターンの形状が
規定されている。
The drawing start coordinates are the position coordinates of the semiconductor chip 3 where the drawing is first started, and the position coordinates of other semiconductor chips are obtained based on this coordinate and the data of the interval between the adjacent semiconductor chips. You can do it. The pattern coordinates are data describing the position coordinates of the corners of each pattern, and the shape of the pattern is defined thereby.

【0027】また、検査系9は、記憶部(第1データ記
憶手段)8cと電気的に接続されている。記憶部8cに
は、図2に示すように、ウエハIDをキーワードとして
作成された検査データ(以下、ウエハID基準検査デー
タという)ファイルが記憶されている。図2には、例え
ば寸法測定検査の場合における検査データファイルが示
されている。検査データとしては、例えば検査結果、ウ
エハID、チップ座標および製品名称が記されている。
なお、図2には、検査データファイルの一部が示されて
いる。
The inspection system 9 is electrically connected to the storage section (first data storage means) 8c. As shown in FIG. 2, the storage unit 8c stores an inspection data (hereinafter, referred to as wafer ID reference inspection data) file created by using the wafer ID as a keyword. FIG. 2 shows an inspection data file in the case of dimension measurement inspection, for example. As the inspection data, for example, the inspection result, the wafer ID, the chip coordinates, and the product name are described.
Note that FIG. 2 shows a part of the inspection data file.

【0028】一方、図1の検査データ管理装置1を構成
する主制御部(第1データ作成手段、第2データ作成手
段)10は、検査データ管理装置1の全体の動作を制御
する構成部である。主制御部10は、記憶部8a〜8e
と電気的に接続されている。なお、図1には、記憶部8
a〜8eを別々に記してあるが、本実施例において、記
憶部8a〜8eは、1つの記憶装置内の所定の記憶領域
である。ただし、記憶部8a〜8eを別々の記憶装置と
しても良い。
On the other hand, the main control unit (first data creating means, second data creating means) 10 constituting the inspection data managing apparatus 1 of FIG. 1 is a constituent section for controlling the overall operation of the inspection data managing apparatus 1. is there. The main control unit 10 includes storage units 8a to 8e.
Is electrically connected to. In FIG. 1, the storage unit 8
Although a to 8e are described separately, the storage units 8a to 8e are predetermined storage areas in one storage device in the present embodiment. However, the storage units 8a to 8e may be separate storage devices.

【0029】記憶部(第2データ記憶手段)8dには、
図3に示すように、製品名称をキーワードとして作成さ
れた検査データ(以下、製品名称基準検査データとい
う)ファイルが記憶されている。この検査データファイ
ルは、ウエハID基準検査データ(図2参照)を変換し
て作成したデータである。なお、図3には、検査データ
ファイルの一部が示されている。
The storage section (second data storage means) 8d includes
As shown in FIG. 3, an inspection data (hereinafter referred to as product name reference inspection data) file created using a product name as a keyword is stored. This inspection data file is data created by converting the wafer ID reference inspection data (see FIG. 2). Note that FIG. 3 shows a part of the inspection data file.

【0030】記憶部8eには、記憶部8cに記憶された
ウエハID基準検査データファイルを、製品名称基準検
査データファイルに変換するための変換プログラムが記
憶されている。すなわち、主制御部10は、記憶部8e
に記憶されている変換プログラムに従って、記憶部8c
に記憶されているウエハID基準検査データファイルを
製品名称基準検査データファイルに変換した後、作成さ
れた製品名称基準検査データファイルを記憶部8dに記
憶するようになっている。
The storage unit 8e stores a conversion program for converting the wafer ID reference inspection data file stored in the storage unit 8c into a product name reference inspection data file. That is, the main control unit 10 includes the storage unit 8e.
According to the conversion program stored in the storage unit 8c
After converting the wafer ID standard inspection data file stored in the product name standard inspection data file to the product name standard inspection data file, the created product name standard inspection data file is stored in the storage unit 8d.

【0031】なお、主制御部10には、キーボード等の
ような入力装置11およびCRTディスプレイ等のよう
な表示装置12が電気的に接続されている。
An input device 11 such as a keyboard and a display device 12 such as a CRT display are electrically connected to the main controller 10.

【0032】次に、本実施例の検査データ管理方法を図
1〜図3によって説明する。
Next, the inspection data management method of this embodiment will be described with reference to FIGS.

【0033】まず、検査データ管理装置1の試料台制御
系6は、試料台位置決めファイルを読み取り装置7aに
よって記憶部8aから読み出した後、その読み出した試
料台位置決めファイルに基づいて、試料台駆動系5を動
作させて、第1番目に測定される半導体チップ3が検査
視野内に入るように試料台4の位置決めを行う。
First, the sample table control system 6 of the inspection data management system 1 reads the sample table positioning file from the storage section 8a by the reading device 7a, and then the sample table driving system based on the read sample table positioning file. 5 is operated to position the sample table 4 so that the first semiconductor chip 3 to be measured falls within the inspection field of view.

【0034】なお、第1番目に測定される半導体チップ
3の位置は、主制御部10が試料台位置決めファイルを
参照し、チップ座標を半導体ウエハ3上の座標として表
現することにより求める。
The position of the semiconductor chip 3 measured first is determined by the main controller 10 referring to the sample stage positioning file and expressing the chip coordinates as coordinates on the semiconductor wafer 3.

【0035】続いて、検査系9は、測定第1番目の半導
体チップ3に対して所定の検査を行うことにより、その
半導体チップ3の検査データをウエハID基準検査デー
タファイルに記述する。
Subsequently, the inspection system 9 performs a predetermined inspection on the first measurement semiconductor chip 3 to describe the inspection data of the semiconductor chip 3 in the wafer ID reference inspection data file.

【0036】ここで、ウエハID基準検査データファイ
ルの作成に際し、測定第1番目の半導体チップ3の製品
名称を求めるには、記憶部8aの試料台位置決めファイ
ルに記されている測定第1番目の半導体チップ3のチッ
プ座標を読み出した後、そのチップ座標に対応する製品
名称を、記憶部8bのマスク描画ファイルを参照するこ
とにより求める。
Here, in order to obtain the product name of the first measurement semiconductor chip 3 when the wafer ID reference inspection data file is created, in order to obtain the product name of the measurement first semiconductor chip 3, the first measurement measurement described in the sample stage positioning file of the storage section 8a is performed. After reading the chip coordinates of the semiconductor chip 3, the product name corresponding to the chip coordinates is obtained by referring to the mask drawing file in the storage unit 8b.

【0037】ただし、マスク描画ファイルにおける半導
体ウエハ2上の原点座標と、試料台位置決めファイルに
おける原点座標とは、一般的に異なっているので、その
誤差を求めておく必要がある。
However, since the origin coordinates on the semiconductor wafer 2 in the mask drawing file and the origin coordinates in the sample stage positioning file are generally different, it is necessary to find the error.

【0038】このような検査およびデータの記述を、半
導体ウエハ2上の各半導体チップ3に対して行うことに
より、図2に示したウエハID基準検査データファイル
を作成し、これを記憶部8cに記憶する。
By carrying out such inspection and description of data on each semiconductor chip 3 on the semiconductor wafer 2, the wafer ID reference inspection data file shown in FIG. 2 is created and stored in the storage section 8c. Remember.

【0039】その後、本実施例の検査データ管理装置1
の主制御部10は、キーワード変換プログラムに従っ
て、記憶部8cのウエハID基準検査データファイル
を、図3に示した製品名称基準検査データファイルに変
換し、これを記憶部8dに記憶する。
After that, the inspection data management apparatus 1 of this embodiment
The main control unit 10 converts the wafer ID reference inspection data file in the storage unit 8c into the product name reference inspection data file shown in FIG. 3 according to the keyword conversion program, and stores the product name reference inspection data file in the storage unit 8d.

【0040】本実施例の場合、作業者は、次のようにし
て検査データを参照することができる。すなわち、作業
者は、ウエハIDをキーワードとして検査データを参照
したい場合には、その旨をキーボード等の入力装置11
を通じて主制御部10に指定することにより、図2に示
したウエハID基準検査データファイルを表示装置12
を通じて目視することができる。
In the case of the present embodiment, the operator can refer to the inspection data as follows. That is, when the operator wants to refer to the inspection data by using the wafer ID as a keyword, the operator indicates that fact by using the input device 11 such as a keyboard.
By designating to the main controller 10 via the display unit 12, the wafer ID reference inspection data file shown in FIG.
Can be seen through.

【0041】一方、作業者は、製品名称をキーワードと
して検査データを参照したい場合には、その旨をキーボ
ード等の入力装置11を通じて主制御部10に指定する
ことにより、図3に示した製品名称基準検査データファ
イルを表示装置12を通じて目視することができる。
On the other hand, when the operator wants to refer to the inspection data by using the product name as a keyword, he / she designates the fact to the main control unit 10 through the input device 11 such as a keyboard so that the product name shown in FIG. The reference inspection data file can be viewed through the display device 12.

【0042】このように、本実施例によれば、製品名称
基準検査データファイルを作成することにより、製品名
称をキーワードとして、その製品の検査結果やその製品
がどの半導体ウエハ2から切り出したか等を簡単に調べ
ることが可能となる。すなわち、検査データの調査およ
び収集作業を容易にすることが可能となる。
As described above, according to the present embodiment, the product name standard inspection data file is created, so that the inspection result of the product and the semiconductor wafer 2 from which the product is cut can be determined by using the product name as a keyword. It is possible to check easily. That is, it becomes possible to facilitate the inspection and collection work of the inspection data.

【0043】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0044】例えば前記実施例においては、半導体ウエ
ハに種類の異なる半導体チップが複数形成されている場
合に本発明を適用したが、これに限定されるものではな
く、例えば半導体ウエハに同一種類の半導体チップが複
数形成されている場合に適用しても良い。
For example, in the above-described embodiment, the present invention is applied to the case where a plurality of semiconductor chips of different types are formed on the semiconductor wafer, but the present invention is not limited to this. It may be applied when a plurality of chips are formed.

【0045】また、前記実施例においては、デバイス寸
法測定検査に本発明を適用した場合について説明した
が、これに限定されるものではなく種々変更可能であ
り、例えば付着異物検査や膜厚測定検査の場合に本発明
を適用しても良い。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case where the present invention is applied to the device dimension measurement inspection has been described, but the present invention is not limited to this, and various modifications can be made. In this case, the present invention may be applied.

【0046】[0046]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0047】本発明によれば、第2検査データを参照す
ることにより、製品識別記号だけからでもその製品の検
査結果やその製品を切り出した半導体ウエハを簡単に調
べることができるので、半導体チップの検査データの調
査および収集作業を容易にすることが可能となる。
According to the present invention, by referring to the second inspection data, it is possible to easily inspect the inspection result of the product or the semiconductor wafer obtained by cutting out the product only from the product identification code. It becomes possible to facilitate inspection and collection work of inspection data.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である検査データ管理装置の
構成を説明するための説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a configuration of an inspection data management device that is an embodiment of the present invention.

【図2】ウエハ識別記号基準検査データファイルを説明
するための説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a wafer identification symbol reference inspection data file.

【図3】製品識別記号基準検査データファイルを説明す
るための説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a product identification symbol standard inspection data file.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 検査データ管理装置 2 半導体ウエハ 2a オリエンテーションフラット部 3 半導体チップ 4 試料台 5 試料台駆動系 6 試料台制御系 7a 読み取り装置 7b 読み取り装置 8a 記憶部 8b 記憶部 8c 記憶部(第1データ記憶手段) 8d 記憶部(第2データ記憶手段) 8e 記憶部 9 検査系 10 主制御部(第1データ作成手段、第2データ作成
手段) 11 入力装置 12 表示装置 I ウエハID形成領域
1 Inspection Data Management Device 2 Semiconductor Wafer 2a Orientation Flat Part 3 Semiconductor Chip 4 Sample Table 5 Sample Table Drive System 6 Sample Table Control System 7a Reader 7b Reader 8a Memory 8b Memory 8c Memory (first data memory means) 8d storage unit (second data storage unit) 8e storage unit 9 inspection system 10 main control unit (first data creation unit, second data creation unit) 11 input device 12 display device I wafer ID formation area

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハに形成された複数の半導体
チップに対して行った検査についての検査データ管理方
法であって、前記半導体ウエハのウエハ識別記号をキー
ワードとして、少なくとも製品識別記号と検査結果とが
記された第1検査データを作成する工程と、前記第1検
査データに基づいて、前記製品識別記号をキーワードと
して、少なくともウエハ識別記号と検査結果とが記され
た第2検査データを作成する工程とを有することを特徴
とする検査データ管理方法。
1. A test data management method for a test performed on a plurality of semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, wherein at least a product identification code and an inspection result are obtained by using a wafer identification code of the semiconductor wafer as a keyword. And a second inspection data in which at least a wafer identification symbol and an inspection result are recorded with the product identification symbol as a keyword, based on the first inspection data. An inspection data management method, comprising:
【請求項2】 半導体ウエハに形成された複数の半導体
チップに対して行った検査についての検査データ管理装
置であって、前記半導体ウエハのウエハ識別記号をキー
ワードとして、少なくとも製品識別記号と検査結果とが
記された第1検査データを作成するとともに、そのデー
タを第1記憶手段に記憶させる第1データ作成手段と、
前記第1検査データに基づいて、前記製品識別記号をキ
ーワードとして、少なくともウエハ識別記号と検査結果
とが記された第2検査データを作成するとともに、その
データを第2記憶手段に記憶させる第2データ作成手段
とを有することを特徴とする検査データ管理装置。
2. An inspection data management device for an inspection performed on a plurality of semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, wherein at least a product identification symbol and an inspection result are obtained by using a wafer identification symbol of the semiconductor wafer as a keyword. First data creating means for creating the first inspection data marked with and storing the data in the first storing means,
A second inspection data in which at least a wafer identification symbol and an inspection result are written is created based on the first inspection data using the product identification symbol as a keyword, and the data is stored in the second storage means. An inspection data management apparatus comprising: a data creating unit.
JP9960393A 1993-04-26 1993-04-26 Inspection data control method and apparatus Pending JPH06310582A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9960393A JPH06310582A (en) 1993-04-26 1993-04-26 Inspection data control method and apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9960393A JPH06310582A (en) 1993-04-26 1993-04-26 Inspection data control method and apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06310582A true JPH06310582A (en) 1994-11-04

Family

ID=14251675

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9960393A Pending JPH06310582A (en) 1993-04-26 1993-04-26 Inspection data control method and apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06310582A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5649169A (en) Method and system for declustering semiconductor defect data
JP5107506B2 (en) Defect analyzer
US7440086B2 (en) Methods and systems for creating a recipe for a defect review process
US5448488A (en) Computer-controlled individual chip management system for processing wafers
CN117612962A (en) System and method for electronic die inking after automated visual defect inspection
US7020582B1 (en) Methods and apparatus for laser marking of integrated circuit faults
US7915087B2 (en) Method of arranging dies in a wafer for easy inkless partial wafer process
JP2018121015A (en) Processing apparatus
US6165805A (en) Scan tool recipe server
US6377866B2 (en) Device for engraving and inspecting a semiconductor wafer identification mark
KR20020061677A (en) Method For Detecting Defective Marking On Semiconductor Products By Using Optical Character Recognition Technique
JPH06310582A (en) Inspection data control method and apparatus
JP2006261327A (en) Inspection system and manufacturing method of semiconductor device
JP3219094B2 (en) Chip size detection method, chip pitch detection method, chip array data automatic creation method, and semiconductor substrate inspection method and apparatus using the same
JPH09306873A (en) Wafer dividing system
JP2952882B2 (en) IC wafer and IC pass / fail identification method
JP2010085145A (en) Inspection device and method
US6944573B2 (en) Method and apparatus for the analysis of scratches on semiconductor wafers
KR20020088001A (en) Semiconductor device inspection system
JP4146655B2 (en) Defect source candidate extraction program
JPH01304721A (en) Semiconductor substrate with maker
KR102592786B1 (en) Method of managing machining apparatus and machining apparatus
D'Agostino A machine vision architecture for integrated circuit inspection
JP2002195955A (en) Method and device for inspecting semiconductor failure
JP2005259960A (en) Manufacturing method of semiconductor integrated circuit device