JPH06293536A - 熱線反射物品の製造方法 - Google Patents
熱線反射物品の製造方法Info
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- JPH06293536A JPH06293536A JP10519293A JP10519293A JPH06293536A JP H06293536 A JPH06293536 A JP H06293536A JP 10519293 A JP10519293 A JP 10519293A JP 10519293 A JP10519293 A JP 10519293A JP H06293536 A JPH06293536 A JP H06293536A
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- Japan
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- gas
- sputtering
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- substrate
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
Abstract
(57)【要約】
【構成】熱線反射膜が少なくとも１層の酸化物層を有す
る熱線反射物品の製造方法において、前記酸化物層をコ
ーティングする際に水蒸気ガスをスパッタチャンバー内
に導入することを特徴とする熱線反射物品の製造方法。 【効果】酸化物膜の屈折率の微妙な調整が可能であり、
大気開放を必要とする膜材料の交換により屈折率を調整
する方法に比べ、生産性が高い。
る熱線反射物品の製造方法において、前記酸化物層をコ
ーティングする際に水蒸気ガスをスパッタチャンバー内
に導入することを特徴とする熱線反射物品の製造方法。 【効果】酸化物膜の屈折率の微妙な調整が可能であり、
大気開放を必要とする膜材料の交換により屈折率を調整
する方法に比べ、生産性が高い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は建築用ソーラーコントロ
ールガラス等の熱線反射物品の製造方法に関する。
ールガラス等の熱線反射物品の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】可視スペクトル帯域で低い透過率を有す
る膜は、太陽光スペクトルもその大部分を遮断し、特に
大陸的気候すなわち極端に暑い夏の地域に使用され、ソ
ーラーコントロールガラスと称される。また、その他の
地域においても、ソーラーコントロールガラスの意匠性
が重視され、ビルの新しい顔としてその市場はますます
拡大されつつある。
る膜は、太陽光スペクトルもその大部分を遮断し、特に
大陸的気候すなわち極端に暑い夏の地域に使用され、ソ
ーラーコントロールガラスと称される。また、その他の
地域においても、ソーラーコントロールガラスの意匠性
が重視され、ビルの新しい顔としてその市場はますます
拡大されつつある。
【０００３】このようなソーラーコントロールガラスの
代表的膜材料としては、ＣｒやＴｉなどの遷移金属の純
金属層が知られている（特公昭４７−１４５９４号、特
開昭６０−４２２５３号）。また、その他の金属材料と
しては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの貴金属があり、これら
の貴金属は、赤外域における反射も非常に高く、遠赤外
に対する熱線反射特性も優れていることが知られてい
る。しかし、これらの金属膜はガラス基板に対する付着
力が比較的弱く、耐擦傷性、耐薬品性も充分でない。
代表的膜材料としては、ＣｒやＴｉなどの遷移金属の純
金属層が知られている（特公昭４７−１４５９４号、特
開昭６０−４２２５３号）。また、その他の金属材料と
しては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの貴金属があり、これら
の貴金属は、赤外域における反射も非常に高く、遠赤外
に対する熱線反射特性も優れていることが知られてい
る。しかし、これらの金属膜はガラス基板に対する付着
力が比較的弱く、耐擦傷性、耐薬品性も充分でない。
【０００４】一方、半導体材料である窒化物は高い硬度
を有し、化学的耐久性も優れている。また、反射色のバ
リエーションがあり、意匠性を有することや、材料によ
っては通常の金属膜以上の赤外域反射特性を有するた
め、最近ではソーラーコントロールガラスの代表的材料
となりつつある。
を有し、化学的耐久性も優れている。また、反射色のバ
リエーションがあり、意匠性を有することや、材料によ
っては通常の金属膜以上の赤外域反射特性を有するた
め、最近ではソーラーコントロールガラスの代表的材料
となりつつある。
【０００５】更に、このような窒化物膜は酸化物膜と組
み合わせ複数層にすることによって、その意匠性をます
ます高めることができる。例えば、酸化物／Ｃｒ窒化物
／酸化物／基体の３層構成において、基体側の酸化物層
の光学的厚みを２０ｎｍから２８０ｎｍへ順次増加させ
ることにより、基体側からの反射色調を銀色から青銅色
及び青色を介して緑色まで変化させうる（特開昭６０−
３６３５５号）。
み合わせ複数層にすることによって、その意匠性をます
ます高めることができる。例えば、酸化物／Ｃｒ窒化物
／酸化物／基体の３層構成において、基体側の酸化物層
の光学的厚みを２０ｎｍから２８０ｎｍへ順次増加させ
ることにより、基体側からの反射色調を銀色から青銅色
及び青色を介して緑色まで変化させうる（特開昭６０−
３６３５５号）。
【０００６】また、前記のような３層構成では最上層の
酸化物層が保護層の役割をするため、窒化物の代りに遷
移金属膜を使用しても、実用的な耐擦傷性が得られ、し
かも窒化物の場合と同様の種々の色調を実現できる（実
開平１−５５０２１号）。
酸化物層が保護層の役割をするため、窒化物の代りに遷
移金属膜を使用しても、実用的な耐擦傷性が得られ、し
かも窒化物の場合と同様の種々の色調を実現できる（実
開平１−５５０２１号）。
【０００７】ここで光学的厚みは、酸化物材料の屈折率
と実際の膜厚との積によって表され、同じ材料を使用し
た場合、光学的厚みを増加させることは実際の膜厚を増
加させることを意味する。すなわち、上記のことは同じ
材料を使用した場合でも、実際の膜厚を変化させること
によって種々の色調を表現できることを意味する。
と実際の膜厚との積によって表され、同じ材料を使用し
た場合、光学的厚みを増加させることは実際の膜厚を増
加させることを意味する。すなわち、上記のことは同じ
材料を使用した場合でも、実際の膜厚を変化させること
によって種々の色調を表現できることを意味する。
【０００８】ところが色調というのは非常に多様なもの
で、同じゴールド系としても青味を帯びたゴールド系も
あれば赤味を帯びたゴールド系もある。そしてこれらの
全色調を実際の膜厚を変化させるだけで制御することは
困難である。
で、同じゴールド系としても青味を帯びたゴールド系も
あれば赤味を帯びたゴールド系もある。そしてこれらの
全色調を実際の膜厚を変化させるだけで制御することは
困難である。
【０００９】例えば、酸化物／Ｃｒ窒化物／酸化物／基
体の３層構成において、酸化物として屈折率２．０のも
のを使用して膜厚を変動させた場合、図１の実線上の色
調しか実現できないが、酸化物の屈折率を１．８にする
と、実現色調は図１の破線上になり、実線のものよりも
赤味を帯びた色調が可能になる。なお、図１におけるＰ
は標準光源Ｄ６５の点を示す。
体の３層構成において、酸化物として屈折率２．０のも
のを使用して膜厚を変動させた場合、図１の実線上の色
調しか実現できないが、酸化物の屈折率を１．８にする
と、実現色調は図１の破線上になり、実線のものよりも
赤味を帯びた色調が可能になる。なお、図１におけるＰ
は標準光源Ｄ６５の点を示す。
【００１０】酸化物膜の屈折率を下げる方法としては、
膜材料を変えるという方法があるが、そのためには大気
開放してターゲットも交換しなければならず、その結果
ジョブチェンジ時間が増加し、生産性が低下するという
欠点を有する。
膜材料を変えるという方法があるが、そのためには大気
開放してターゲットも交換しなければならず、その結果
ジョブチェンジ時間が増加し、生産性が低下するという
欠点を有する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術が有
していた前述の欠点を解決すべく、微妙な色調の調整が
可能な、生産性の高い熱線反射物品の製造方法を提供す
ることを目的とする。
していた前述の欠点を解決すべく、微妙な色調の調整が
可能な、生産性の高い熱線反射物品の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、基体上に、単
層又は複数層からなりその少なくとも一層が酸化物層か
らなる熱線反射膜を、スパッタチャンバー内においてコ
ーティングする熱線反射物品の製造方法において、前記
酸化物層をコーティングする際に水蒸気ガスをスパッタ
チャンバー内に導入し、水蒸気ガスの存在下において、
当該酸化物被膜のコーティングを行うことを特徴とする
熱線反射物品の製造方法である。
層又は複数層からなりその少なくとも一層が酸化物層か
らなる熱線反射膜を、スパッタチャンバー内においてコ
ーティングする熱線反射物品の製造方法において、前記
酸化物層をコーティングする際に水蒸気ガスをスパッタ
チャンバー内に導入し、水蒸気ガスの存在下において、
当該酸化物被膜のコーティングを行うことを特徴とする
熱線反射物品の製造方法である。
【００１３】スパッタチャンバー内に水蒸気ガスを導入
する方法としては、通常のスパッタガス供給ラインとは
別に水蒸気ガス専用の供給ラインを設ける方法が考えら
れる。なお、チャンバー内に水を導入することは透明導
電膜のエッチング特性や電気特性を制御する手段として
既に知られている（特開平４−２４２０１７号）。
する方法としては、通常のスパッタガス供給ラインとは
別に水蒸気ガス専用の供給ラインを設ける方法が考えら
れる。なお、チャンバー内に水を導入することは透明導
電膜のエッチング特性や電気特性を制御する手段として
既に知られている（特開平４−２４２０１７号）。
【００１４】スパッタチャンバー内に水蒸気ガスを導入
する別の方法としては、スパッタガスを一度水のタンク
内でバブリングさせ、その後にチャンバー内の導入する
という方法がある。
する別の方法としては、スパッタガスを一度水のタンク
内でバブリングさせ、その後にチャンバー内の導入する
という方法がある。
【００１５】この場合は、タンク内でのバブリングによ
って水蒸気ガスとの混合となったスパッタガスがチャン
バー内に入るが、この場合にコントロールポイントとな
るのは、水タンク内の気体が占める部分の容積、水タン
ク内に流すスパッタガスの流量、水タンク内の圧力、水
タンク内の温度等である。この場合、水タンクからチャ
ンバーまでのスパッタガス供給管等も温度コントロール
できるようにしておけば、チャンバー内に実際に入る水
蒸気ガスの量を制御しやすくなる。
って水蒸気ガスとの混合となったスパッタガスがチャン
バー内に入るが、この場合にコントロールポイントとな
るのは、水タンク内の気体が占める部分の容積、水タン
ク内に流すスパッタガスの流量、水タンク内の圧力、水
タンク内の温度等である。この場合、水タンクからチャ
ンバーまでのスパッタガス供給管等も温度コントロール
できるようにしておけば、チャンバー内に実際に入る水
蒸気ガスの量を制御しやすくなる。
【００１６】バブリングに使用するスパッタガスとして
アルゴンガスを使用した場合には、チャンバー内に別に
純粋な酸素ガスを導入する必要があり、この両方のガス
によって反応性スパッタリングが行われる。また、バブ
リングに使用するガスとして酸素ガスを使用してもよ
く、この場合には、アルゴンガスは強いて必要ない。
アルゴンガスを使用した場合には、チャンバー内に別に
純粋な酸素ガスを導入する必要があり、この両方のガス
によって反応性スパッタリングが行われる。また、バブ
リングに使用するガスとして酸素ガスを使用してもよ
く、この場合には、アルゴンガスは強いて必要ない。
【００１７】スパッタチャンバー内に水蒸気ガスを導入
する更に別の方法としては、予め水蒸気ガス分を一定量
含んだガスボンベを準備しておき、スパッタの際にその
ボンベを使用するという方法がある。
する更に別の方法としては、予め水蒸気ガス分を一定量
含んだガスボンベを準備しておき、スパッタの際にその
ボンベを使用するという方法がある。
【００１８】この場合には水蒸気ガスの量は厳密にコン
トロールできるが、ボンベ内に予め混入できる水蒸気ガ
スの量がかなり限定されるため、実際にチャンバー内に
導入される量も限られる。
トロールできるが、ボンベ内に予め混入できる水蒸気ガ
スの量がかなり限定されるため、実際にチャンバー内に
導入される量も限られる。
【００１９】本発明における熱線反射膜の構成は、特に
限定されないが、例えば、金属膜又はは窒化物膜と酸化
物膜を組み合わせた酸化物層／金属層／基体、酸化物層
／窒化物層／基体、窒化物層／酸化物層／基体、酸化物
層／金属層／酸化物層／基体及び酸化物層／窒化物層／
酸化物層／基体などが挙げられが、色調によっては４層
以上にしてもよい。
限定されないが、例えば、金属膜又はは窒化物膜と酸化
物膜を組み合わせた酸化物層／金属層／基体、酸化物層
／窒化物層／基体、窒化物層／酸化物層／基体、酸化物
層／金属層／酸化物層／基体及び酸化物層／窒化物層／
酸化物層／基体などが挙げられが、色調によっては４層
以上にしてもよい。
【００２０】水蒸気ガスの導入によって成膜する酸化物
膜は、特に限定されないが、例えば、ＴｉＯ2 ，ＳｎＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＳｉＯ2 などが挙げられ
る。
膜は、特に限定されないが、例えば、ＴｉＯ2 ，ＳｎＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＳｉＯ2 などが挙げられ
る。
【００２１】
【作用】本発明において、酸化物をコーティングする際
に水蒸気ガスを導入することによって、膜の緻密度が低
下して膜密度が下がると考えられ、その結果として膜の
屈折率が低下し、微妙な色調の調整ができる。
に水蒸気ガスを導入することによって、膜の緻密度が低
下して膜密度が下がると考えられ、その結果として膜の
屈折率が低下し、微妙な色調の調整ができる。
【００２２】
実施例１ マグネトロンＤ．Ｃ．スパッタ装置の陰極上に金属Ｓｎ
のターゲットと金属Ｃｒターゲットをセットする。研磨
などの方法で１２ｍｍ厚のソーダライムガラス基板を充
分に洗浄、乾燥した後、スパッタチャンバー内に入れ、
ターボポンプを使用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下まで排
気する。次にスパッタガスとしてアルゴンガスを図２に
示したバブリング装置を通して、水分の同伴されたスパ
ッタガスをスパッタチャンバー内に導入する。
のターゲットと金属Ｃｒターゲットをセットする。研磨
などの方法で１２ｍｍ厚のソーダライムガラス基板を充
分に洗浄、乾燥した後、スパッタチャンバー内に入れ、
ターボポンプを使用して１×１０-5ｔｏｒｒ以下まで排
気する。次にスパッタガスとしてアルゴンガスを図２に
示したバブリング装置を通して、水分の同伴されたスパ
ッタガスをスパッタチャンバー内に導入する。
【００２３】図２において、１はアルゴンガスボンベ、
２はバブリング用の水タンクで中に水３が入っている。
４は水タンク内にアルゴンガスを導入するための供給管
で、５は水タンク内のアルゴンガスをチャンバー内へ導
くための配管である。６はアルゴンガス流量制御用のマ
スフロコントローラー、７は水タンク内の圧力を測定す
るための圧力計、８は水タンク内の水温を測定するため
の温度計である。水タンクには温度を一定に保つための
温度調整装置９が設けられており、またアルゴンガスを
バブリングしない場合のバイパス経路１０も設けられて
いる。
２はバブリング用の水タンクで中に水３が入っている。
４は水タンク内にアルゴンガスを導入するための供給管
で、５は水タンク内のアルゴンガスをチャンバー内へ導
くための配管である。６はアルゴンガス流量制御用のマ
スフロコントローラー、７は水タンク内の圧力を測定す
るための圧力計、８は水タンク内の水温を測定するため
の温度計である。水タンクには温度を一定に保つための
温度調整装置９が設けられており、またアルゴンガスを
バブリングしない場合のバイパス経路１０も設けられて
いる。
【００２４】スパッタチャンバー内には、アルゴンガス
の他にも反応性ガスとして酸素ガスも導入し、それぞれ
のガスの流量はアルゴンガス２００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素
ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに設定する。この状態でＳｎタ
ーゲットに１．２４Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して水素元
素を含むＳｎＯ2 膜を４０ｎｍ成膜する。次にスパッタ
チャンバー内のガスを１００％の窒素ガスに完全に置換
して、Ｃｒターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加
してＣｒＮx 膜を７ｎｍ成膜する。最後に再びスパッタ
チャンバー内のガスをアルゴンガス２００ｃｃ／ｍｉ
ｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに戻して水素元素を含
むＳｎＯ2 膜を２２ｎｍ成膜する。
の他にも反応性ガスとして酸素ガスも導入し、それぞれ
のガスの流量はアルゴンガス２００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素
ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに設定する。この状態でＳｎタ
ーゲットに１．２４Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加して水素元
素を含むＳｎＯ2 膜を４０ｎｍ成膜する。次にスパッタ
チャンバー内のガスを１００％の窒素ガスに完全に置換
して、Ｃｒターゲットに３．１Ｗ／ｃｍ2 の電力を印加
してＣｒＮx 膜を７ｎｍ成膜する。最後に再びスパッタ
チャンバー内のガスをアルゴンガス２００ｃｃ／ｍｉ
ｎ、酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに戻して水素元素を含
むＳｎＯ2 膜を２２ｎｍ成膜する。
【００２５】こうして得られたサンプルのガラス面側の
反射特性は反射率１７．６％で反射色調はＣＩＥ色度座
標上でｘが０．３３１５、ｙが０．３５６０であった。
反射特性は反射率１７．６％で反射色調はＣＩＥ色度座
標上でｘが０．３３１５、ｙが０．３５６０であった。
【００２６】実施例２ 実施例１と同様の手順で、但しＳｎＯ2 膜を成膜すると
きのスパッタガスをアルゴンガス１７０ｃｃ／ｍｉｎ、
酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに変えて、実施例１と同じ
膜構成のサンプルを作成した。こうして得られたサンプ
ルのガラス面側の反射特性は反射率１６．１％で反射色
調はＣＩＥ色度座標上でｘが０．３３０２、ｙが０．３
５８３であった。
きのスパッタガスをアルゴンガス１７０ｃｃ／ｍｉｎ、
酸素ガス５００ｃｃ／ｍｉｎに変えて、実施例１と同じ
膜構成のサンプルを作成した。こうして得られたサンプ
ルのガラス面側の反射特性は反射率１６．１％で反射色
調はＣＩＥ色度座標上でｘが０．３３０２、ｙが０．３
５８３であった。
【００２７】比較例 比較例１として、バイパス経路１０を用いて直接チャン
バー内に導入する方式にして、ＳｎＯ2 膜を成膜すると
きにアルゴンガスのバブリングを行わない以外は、実施
例１と同様の手順で、実施例１と同じ膜構成のサンプル
を作成した。また、比較例２および３として、最下層の
ＳｎＯ2 膜の膜厚を実施例１よりも薄くしたものと、厚
くしたものをそれぞれ作成した。これら比較例１〜３の
サンプルのガラス面側の反射特性を表１に示す。
バー内に導入する方式にして、ＳｎＯ2 膜を成膜すると
きにアルゴンガスのバブリングを行わない以外は、実施
例１と同様の手順で、実施例１と同じ膜構成のサンプル
を作成した。また、比較例２および３として、最下層の
ＳｎＯ2 膜の膜厚を実施例１よりも薄くしたものと、厚
くしたものをそれぞれ作成した。これら比較例１〜３の
サンプルのガラス面側の反射特性を表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】図３は実施例１〜２及び比較例１〜３のサ
ンプルのガラス面側反射色調をＣＩＥ色度座標上にプロ
ットしたものである。図３において１１は実施例１、１
２は実施例２、１３は比較例３、１４は比較例１、１５
は比較例２を示す。図３から明らかなように、比較例１
〜３の最下層のＳｎＯ2 膜の膜厚を変動させただけでは
実現できない赤味を帯びたゴールド色調が、実施例１や
実施例２において実現できている。更には、実施例１と
実施例２との比較より明らかなように、バブリングさせ
たアルゴンガスの流量をコントロールすることで、色調
を微妙に変化させることが可能である。
ンプルのガラス面側反射色調をＣＩＥ色度座標上にプロ
ットしたものである。図３において１１は実施例１、１
２は実施例２、１３は比較例３、１４は比較例１、１５
は比較例２を示す。図３から明らかなように、比較例１
〜３の最下層のＳｎＯ2 膜の膜厚を変動させただけでは
実現できない赤味を帯びたゴールド色調が、実施例１や
実施例２において実現できている。更には、実施例１と
実施例２との比較より明らかなように、バブリングさせ
たアルゴンガスの流量をコントロールすることで、色調
を微妙に変化させることが可能である。
【００３０】実施例１で作成した水素元素を含むＳｎＯ
2 膜のそれぞれの屈折率を測定したところ１．８６であ
り、また通常の水素元素を含まないＳｎＯ2 膜のそれぞ
れの屈折率は２．０であり、ＳｎＯ2 膜成膜時にスパッ
タチャンバー内に水蒸気ガスを導入したことでＳｎＯ2
膜の屈折率は低下した。屈折率が低い酸化物膜を使用し
た場合に赤味を帯びたゴールド系が得られることは、図
１の計算結果とも一致する。
2 膜のそれぞれの屈折率を測定したところ１．８６であ
り、また通常の水素元素を含まないＳｎＯ2 膜のそれぞ
れの屈折率は２．０であり、ＳｎＯ2 膜成膜時にスパッ
タチャンバー内に水蒸気ガスを導入したことでＳｎＯ2
膜の屈折率は低下した。屈折率が低い酸化物膜を使用し
た場合に赤味を帯びたゴールド系が得られることは、図
１の計算結果とも一致する。
【００３１】
【発明の効果】本発明においては熱線反射膜中の酸化物
層をスパッタチャンバー内においてコーティングする際
に、スパッタチャンバー内に水蒸気ガスを導入し、水蒸
気ガスの存在下において酸化物膜を形成することによっ
て酸化物膜中に水素又は水蒸気を導入することができ、
酸化物膜の屈折率の調整ができ、これによって熱線反射
膜の色調を調整することができる。
層をスパッタチャンバー内においてコーティングする際
に、スパッタチャンバー内に水蒸気ガスを導入し、水蒸
気ガスの存在下において酸化物膜を形成することによっ
て酸化物膜中に水素又は水蒸気を導入することができ、
酸化物膜の屈折率の調整ができ、これによって熱線反射
膜の色調を調整することができる。
【００３２】更に本発明によれば、スパッタガスを一度
水の中でバブリングさせることと、バイパス経路を通し
て直接チャンバー内に導入することをバルブの切り換え
によって酸化物膜の屈折率の調整が可能であり、大気開
放を必要とする膜材料の交換により屈折率を調整する方
法に比べ、生産性が高いという効果を有する。
水の中でバブリングさせることと、バイパス経路を通し
て直接チャンバー内に導入することをバルブの切り換え
によって酸化物膜の屈折率の調整が可能であり、大気開
放を必要とする膜材料の交換により屈折率を調整する方
法に比べ、生産性が高いという効果を有する。
【図１】酸化物層／Ｃｒ窒化物層／酸化物層／基体の３
層構成の熱線反射膜において酸化物層として屈折率２．
０のものを使用した場合と１．８のものを使用した場合
のガラス面側の反射色調の計算結果の色調変化曲線をＣ
ＩＥの色度座標上に表した図
層構成の熱線反射膜において酸化物層として屈折率２．
０のものを使用した場合と１．８のものを使用した場合
のガラス面側の反射色調の計算結果の色調変化曲線をＣ
ＩＥの色度座標上に表した図
【図２】スパッタガスのバブリング装置の概略図
【図３】実施例及び比較例で作成したサンプルのガラス
面側の反射色調の測定結果をＣＩＥ色度座標上に表した
図
面側の反射色調の測定結果をＣＩＥ色度座標上に表した
図
１：アルゴンガスボンベ ２：バブリング用タンク ３：水 ４：タンク内にアルゴンガスを導入するための配管 ５：タンクからアルゴンガスをチャンバーに導くための
配管 ６：流量制御用のマスフロコントローラー ７：圧力計 ８：温度計 ９：温度調整装置 １０：バイパス経路
配管 ６：流量制御用のマスフロコントローラー ７：圧力計 ８：温度計 ９：温度調整装置 １０：バイパス経路
Claims (2)
- 【請求項１】基体上に、単層又は複数層からなりその少
なくとも一層が酸化物層からなる熱線反射膜を、スパッ
タチャンバー内においてコーティングする熱線反射物品
の製造方法において、前記酸化物層をコーティングする
際に水蒸気ガスをスパッタチャンバー内に導入し、水蒸
気ガスの存在下において、当該酸化物被膜のコーティン
グを行うことを特徴とする熱線反射物品の製造方法。 - 【請求項２】酸化物層をコーティングする際に、水蒸気
ガスをスパッタチャンバー内に導入することによって酸
化物層の屈折率をコントロールすることを特徴とする請
求項１記載の熱線反射物品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10519293A JPH06293536A (ja) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | 熱線反射物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10519293A JPH06293536A (ja) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | 熱線反射物品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06293536A true JPH06293536A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=14400813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10519293A Pending JPH06293536A (ja) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | 熱線反射物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06293536A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010236079A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-10-21 | Central Glass Co Ltd | 非結晶性酸化スズ薄膜及び薄膜積層体 |
| JP2013241677A (ja) * | 2012-05-04 | 2013-12-05 | Jds Uniphase Corp | 誘電体膜の反応性スパッタ堆積 |
| CN109336413A (zh) * | 2018-12-18 | 2019-02-15 | 浙江旗滨节能玻璃有限公司 | 一种海洋蓝色热反射镀膜玻璃及其制备方法 |
-
1993
- 1993-04-07 JP JP10519293A patent/JPH06293536A/ja active Pending
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