JPH06291399A - 可変繰返し速度ピコ秒レーザ - Google Patents

可変繰返し速度ピコ秒レーザ

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JPH06291399A
JPH06291399A JP6011856A JP1185694A JPH06291399A JP H06291399 A JPH06291399 A JP H06291399A JP 6011856 A JP6011856 A JP 6011856A JP 1185694 A JP1185694 A JP 1185694A JP H06291399 A JPH06291399 A JP H06291399A
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pulse
laser beam
computer
pulses
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JP6011856A
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Richard C Ujazdowski
シー.ウジャズドウスキー リチャード
Tibor Juhasz
ジュハスズ ティボー
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Intelligent Surgical Lasers Corp
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Intelligent Surgical Lasers Inc
Intelligent Surgical Lasers Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 出力レーザ・ビームの個々のパルスのエネル
ギ・レベルおよびパルス繰返し速度を制御可能に調整す
ることができる、コンピュータ制御可変繰返し速度レー
ザ装置を提供する。 【構成】 レーザ・ビームの第1繰返し速度を表す第1
信号を生ずる発振器に、コンピュータが電子的に接続さ
れる。コンピュータは、この第1パルス繰返し速度を変
更可能な整数で除算し、第2繰返し速度を表す第2信号
を生ずる。コンピュータは、この第2信号で再生増幅器
のポッケルス・セルを作動し、可変的第2パルス繰返し
速度を有する十分に増幅されたパルスを生ずる。コンピ
ュータによって制御された減衰器により、出力レーザ・
ビームのパルスのエネルギ・レベルを設定することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、全体的にいえば、パル
ス・レーザ・ビームの物理的特性を変更する装置に関す
る。さらに詳細にいえば、本発明は、パルス・レーザ・
ビームの中のパルスの繰返し速度を電子的に変更する装
置に関する。本発明は、特に、しかしそれに限られるわ
けではないが、眼科手術工程において、パルス・レーザ
・ビームのパルスの繰返し速度を電子的に制御および変
更するのに用いることができる。
【0002】
【従来の技術およびその問題点】良く知られているよう
に、連続レーザ・ビームまたはパルス・レーザ・ビーム
を発生することができる装置は、数多く設計され、そし
て製造されている。けれども、多くの応用において、パ
ルス・レーザ・ビームの方が好ましいという結論が出て
いる。眼科でのレーザ手術を含む応用では、特にそうで
ある。例えば、Billeほか名で発行され、および本
発明の譲渡人に譲渡された、「Multiwavele
ngth laser source」と題する米国特
許第4,764,930号は、各パルスの持続時間がピ
コ秒領域にあるパルス・レーザ・ビームのための光源を
開示している。さらに、パルス・レーザ・ビームを効果
的に利用した眼科手術への応用の例は、Billeほか
名で発行され、および本発明の譲渡人に譲渡された、
「Method for Reshaping the
Eye」と題する米国特許第4,907,586号に開
示されている。
【0003】眼科手術にパルス・レーザ・ビームを使用
することにより得られる主要な利点は、パルスのおのお
のは不適切に高いエネルギ・レベルを有しているが、パ
ルスは極めて短い持続時間を有していることである。し
たがって、組織に向かって放射される全エネルギは、同
じエネルギ・レベルを有する連続レーザ・ビームにより
放射される全エネルギよりも、大幅に小さいことであ
る。さらに、そして多分さらに重要なことであるが、パ
ルス・レーザ・ビームは、パルス間の間隔が落ち着いて
いりことである。その場合には、レーザ・パルスの衝撃
による好ましくない過渡的効果から、組織が回復するこ
とができる。具体的にいえば、レーザ・パルスが組織を
照射する時、目標組織は光吸収するほかに、まわりの組
織が熱的におよび機械的にの両方の副作用を受ける。も
しこのことが抑制されないままであるならば、これらの
副作用は非常に大きな害をもたらすことがある。実際、
これらの副作用は極めて悪い効果を生ずるので、目的と
する結果を達成することができない。要約をすれば、パ
ルス・レーザ・ビームは多くの眼科レーザ手術への応用
に対して好ましいものであるが、これらのパルスのエネ
ルギと、これらのパルスの繰返し速度とは、制御されな
ければならない。
【0004】当業者にはよく知られているように、パル
ス・レーザ・ビームは、典型的には、発振器と再生増幅
器とを有する装置により発生される。さらに詳細にいえ
ば、モード・ロックされた発振器を用いて、最初、極め
て低いエネルギ・レベルを有し、かつ、極めて高いパル
ス繰返し速度を有する、パルスのビームが発生される。
例えば、当業者によく知られている発振器は、通常、2
0ミリワット(20mW)程度の電力レベルを有し、そ
して、160メガヘルツ(160MHz)程度の繰返し
速度を有する、レーザ・ビームを発生するであろう。こ
のようなパルス・ビームを眼科レーザ手術に使用するこ
とを可能にするために、エネルギ・レベルを大きくする
ことが必要である。そのためには、極めて明確なことで
あるが、パルス繰返し速度を小さくすることが必要であ
る。よく知られているように、パルス・ビームの各パル
スのエネルギ・レベルは、再生増幅器を用いることによ
り、増大させることができる。さらに、本発明により分
かるように、パルス・ビームのパルス繰返し速度は、発
振器からのパルスが再生増幅器に送られる速さを適切に
制御することにより、電子的に変えることができる。
【0005】再生増幅器は、ポッケルス・セルと、ポン
ピングされたレーザ媒体との両方を有する。ポッケルス
・セルとポンピングされたレーザ媒体は、再生増幅器の
共振器の中に取り付けられる。さらに詳細にいえば、ポ
ッケルス・セルを用いて、再生増幅器の共振器の中にレ
ーザ・パルスが導入され、そして、レーザ・パルスが共
振器の中にある時、レーザ媒体を用いてレーザ・パルス
が増幅される。実際には、一度に増幅できるのはただ1
つのパルスだけである。さらに、レーザ・パルスの増幅
は、このレーザ・パルスがポッケルス・セルにより共振
器の中に導入される前に、レーザ媒体がポンピングされ
ている程度に大きく依存する。
【0006】残念ながら、再生増幅器の中のレーザ媒体
がその最大レベルにまでポンピングされるには、時間が
かかる。したがって、もしレーザ・パルスが再生増幅器
の共振器の中に高い繰返し速度で導入されるならば、レ
ーザ媒体は、その可能な最大エネルギ・レベルにまでそ
れ自身を再生するための十分な時間を有しないであろ
う。その結果、再生増幅器からの出力パルスは、高い繰
返し速度を有しているけれども、エネルギ・レベルは限
定されたものであるであろう。本発明に従い、パルス繰
返し速度が約400ヘルツ(400Hz)以下であるこ
とにより、再生増幅器の中のレーザ媒体がその最高エネ
ルギ・レベルにまで再生するのに十分な時間が与えられ
る。
【0007】けれども、小さなパルス繰返し速度(例え
ば、400Hz以下)が好ましいといっても、各パルス
の中のエネルギ・レベルが大きくなり過ぎることが起こ
ることがある。したがって、本発明に従い、個々のパル
スの中のエネルギ・レベルが制御可能に減衰させること
が必要であることが分かるであろう。この減衰は、40
0Hz以下の低いパルス繰返し速度の場合には特に必要
である。
【0008】前記説明から分かるように、本発明の1つ
の目的は、パルス繰返し速度を可変的に小さくすること
により、レーザ・パルスの中のエネルギ・レベルを増大
させることが可能な、コンピュータ制御可変繰返し速度
ピコ秒レーザ装置を得ることである。本発明の別の目的
は、選定されたパルス繰返し速度を有するパルス・レー
ザ・ビームの個々のパルスのエネルギ・レベルを効果的
に限定することが可能な、コンピュータ制御可変繰返し
速度ピコ秒レーザ装置を得ることである。本発明のさら
に別の目的は、眼科レーザ手術工程の具体的な要請に応
じて、出力レーザ・ビームの個々のパルスのエネルギ・
レベルとパルス繰返し速度を、オペレータが制御可能に
調整することができる、コンピュータ制御可変繰返し速
度ピコ秒レーザ装置を得ることである。本発明のさらに
別の目的は、現存するレーザ装置と適合して使用するこ
とができ、かつ、使用法が簡単であり、かつ、コストが
比較的安い、コンピュータ制御可変繰返し速度ピコ秒レ
ーザ装置を得ることである。
【0009】
【問題点を解決するための手段】パルス・レーザ・ビー
ムのパルス繰返し速度を変更するための装置は、コンピ
ュータを有する。このコンピュータは、レーザ・ビーム
発生装置の発振器と再生増幅器とに、電子的に接続され
る。さらに詳細にいえば、コンピュータは、発振器によ
り設定されたパルス繰返し速度を基本的信号として用
い、結果として生ずる出力レーザ・ビームのパルス繰返
し速度を変更するために、再生増幅器の動作を作動させ
る別の信号を選択的に発生する。
【0010】本発明の装置においては、コンピュータ
は、発振器により発生されるレーザ・ビームのパルス繰
返し速度を表す第1信号を、発振器から受け取る。次
に、この第1信号は、コンピュータの中の電子装置によ
り除算されて、第2信号が生ずる。この第2信号は、第
2パルス繰返し速度を設定する。さらに詳細にいえば、
第2パルス繰返し速度(第2信号)は、第1パルス繰返
し速度(第1信号)を整数で電子的に除算することによ
り設定される。本発明の前記目的のために、第1パルス
繰返し速度は160メガヘルツ(160MHz)の程度
であり、そして、前記整数は400に等しい、または、
400以上であるであろう。
【0011】第2信号でポッケルス・セルを作動するた
めに、コンピュータは、この装置の再生増幅器のポッケ
ルス・セルに電子的に接続される。それにより、ポッケ
ルス・セルは、パルスを、レーザ・ビームを発生する発
振器から再生増幅器へ、可変的に選定された第2パルス
繰返し速度で送る。再生増幅器の中に送り込まれたパル
スのおのおのは、再生増幅器の中で増幅された後、再生
増幅器から排出される。このようにして、出力レーザ・
ビームが発生する。
【0012】本発明による装置はまた、減衰器を有す
る。この減衰器は出力レーザ・ビームの光軸上に配置さ
れ、そして、出力レーザ・ビームのパルスのエネルギ・
レベルを限定する作用を実行する。コンピュータが減衰
器に電子的に接続され、そして、出力レーザ・ビームの
パルスのエネルギ・レベルの監視を行うほかに、このエ
ネルギ・レベルの制御を行なう。
【0013】
【実施例】本発明それ自身、すなわち、その構造および
動作、および、本発明の新規な特徴は、添付図面を参照
しての下記説明により、最も良く理解することができる
であろう。添付図面において、同等な部品には同じ参照
番号が付されている。
【0014】図1は、パルス・レーザ・ビームのパルス
繰返し速度を変更するための装置の図面である。この装
置は、コンピュータ10と、発振器12と、再生増幅器
14と、ビーム放射案内装置16とを有する。本発明に
よるこの装置の目的は、眼科手術の際、患者の目の一部
分、例えば角膜18、に向けてレーザ・ビームを放射す
ることである。
【0015】発振器12を用いて、非常に低エネルギ
(例えば、20ミリワット)のレーザ・パルスのビーム
を、非常に高い繰返し速度(例えば、160メガヘル
ツ)で発生することができることは、全体的にはよく知
られている。さらに、再生増幅器14を用いて、発振器
12からのパルスを増幅し、そして、発振器12により
最初に発生されたビームのパルス繰返し速度よりも低い
パルス繰返し速度を有する、増幅されたパルスの出力ビ
ームを生ずることが可能であることはよく知られてい
る。本発明の場合、コンピュータ10を用いて、出力ビ
ームの繰返しパルス速度を、変更可能に、選定すること
ができる。
【0016】図1の発振器12は、レーザ・ダイオード
20を有する。レーザ・ダイオード20は、単色光のビ
ーム22を発生する。このビーム22は、レンズ24、
26を通り、発振器結晶28に集光する。本発明の場
合、発振器結晶28は当業者には周知の形式のNd:Y
LFレーザ結晶であることが好ましい。結晶28で均一
化された光ビーム29は、その後、発振器レンズ30
と、ブリュースタ窓32と、エタロン34とを、順次に
通る。当業者にはすぐ分かるように、ブリュースタ窓3
2を用いて、発振器12の中のレーザを監視することが
でき、および、エタロン34を用いて、レーザ・ビーム
29の中の光のバンド幅を制限し、それにより、安定性
を改善することができる。
【0017】発振器12の中にモード・ロッカ(mode l
ocker)36がまた備えられる。このモード・ロッカ36
により、持続時間の極めて短いレーザ・パルスが発生す
る。本発明の場合、モード・ロッカ36は、当業者には
周知の任意の形式のモード・ロッカであることができ
る。出力結合器38を用いて、発振器12で光ビーム2
9により生じた最初のパルス・レーザ・ビーム40が、
発振器12から再生増幅器14に転送される。このこと
を実行するために、反射ミラー42および44により、
最初のレーザ・ビーム40が、出力結合器38からビー
ム・スプリッタ46に向って進む。図に示された特定の
実施例の場合、ビーム・スプリッタ46により、レーザ
・ビーム40の一部分は再生増幅器14に向かって進
み、そして、レーザ・ビーム40の残りの部分はフォト
ダイオード・センサ48に向かって進む。センサ48
は、特に、パルス・レーザ・ビームのパルス繰返し速度
を検出することがでる。センサ48は、このパルス繰返
し速度を指示する信号を発生することができるセンサで
あれば、周知の任意の形式のセンサであることができ
る。さらに念をいれる場合には、発振器12からのパル
ス繰返し速度は、モード・ロッカ36の駆動信号を直接
にサンプリングすることにより、確めることができる。
【0018】さらに詳細に説明するならば、この最初の
パルス繰返し速度は第1繰返し速度と呼ばれることがあ
り、そして、センサ48により発生されるこの第1繰返
し速度を指示する信号は、第1信号と呼ばれることがあ
る。前記で説明したように、この第1繰返し速度は、1
60MHzの程度である。
【0019】図1に示されているように、フォトダイオ
ード・センサ48は、コネクタ50を通して、コンピュ
ータ10に直接に接続される。さらに詳細にいえば、コ
ネクタ50は、センサ48からのこの第1信号をコンピ
ュータ10に伝送する。さらに、図1に示されているよ
うに、センサ48からのこの第1信号は40分割デバイ
ダ52を通り、そしてその後、20分割デバイダ54を
通る。デバイダ52および54は、当業者には周知の任
意のデバイダであることができる。デバイダ52、54
でレーザ・ビーム40を分割するこの工程により、中間
信号が得られる。この中間信号は、400で分割された
第1パルス繰返し速度に等しい。第1信号に対し例示さ
れた大きさである160MHzの場合、デバイダ52お
よび54はコンピュータ10に中間信号を設定し、そし
てコンピュータ10は、200キロヘルツ(200kH
z)繰返し速度を指示する。もしモード・ロッカ36か
らの駆動信号が第1信号を設定するのに用いられるなら
ば、中間信号を設定するために、適切な分割が行われな
ければならない。
【0020】ビーム・スプリッタ46により発振器12
から再生増幅器14に向かって進むレーザ・ビーム40
の部分は、まず、注入ビーム・スプリッタ56に入射す
る。図1に示されているように、ビーム・スプリッタ5
6により、レーザ・ビーム40の一部分が反射され、偏
光器58に向かって進む。偏光器58からのレーザ・ビ
ーム40は、4分の1波長板60を通り、そして、ポッ
ケルス・セル62に向かって進む。ポッケルス・セル6
2の励振状態により、レーザ・ビーム40の中のレーザ
・パルスはポッケルス・セル62により阻止される、ま
たは、ポッケルス・セル62を選択的に透過して再生増
幅器14の共振器の中に入り、増幅される。もし透過す
るならば、パルスは端部平面ミラー62で反射され、そ
して再び、ポッケルス・セル62と、4分の1波長板6
0と、偏光器58とを通るであろう。その後、透過した
パルスは正の再生増幅器レンズ(positive regenerativ
eamplifier lens) 66と負の再生増幅器レンズ(negati
ve regenerative amplefier lens)68とを通り、それ
により、レーザ・ロッド70を通る前に、レーザ・ビー
ムの直径の適切な調整が行われる。
【0021】レーザ・ロッド70はNd:YLFのよう
なレーザ媒体材料であることが好ましい。レーザ・ロッ
ド70はレーザ・ダイオード72および74によりポン
ピングされ、それにより、高いエネルギ状態に励起され
た電子集団の貯蔵体が得られる。当業者にはよく知られ
ているように、入射したパルスがレーザ・ロッド70を
通る時、電子のエネルギがフォトンとしてパルスに転換
される。このパルスは、その後、凹面端部ミラー76に
より反射され、そして、レーザ・ロッド70を通り、お
よび、再生増幅器14の他の光学部品を通る。パルス
は、平面端部ミラー64と凹面端部ミラー76との間
で、再生増幅器14の中を往復し続け、それにより、レ
ーザ・ロッド70からエネルギを取得する。増幅された
パルスが再生増幅器14から排出されるまで、このこと
が持続される。もし再生増幅器14から排出されるべき
パルスが強大でないならば、レーザ・ロッド70にポン
ピングにより供給されたエネルギをパルスが取得し尽く
すまで、パルスは再生増幅器14の中を往復し続けるで
あろう。レーザ・ロッド70により最大限に付勢される
単位時間当りの最大パルス数は、毎秒約400パルスで
あることが分かった。もっと大きいパルス繰返し速度
(すなわち、パルス繰返し速度>400Hz)の場合、
レーザ・ロッド70が完全に再生する前に、パルスが排
出されるであろう。もっと遅いパルス繰返し速度(すな
わち、パルス繰返し速度<400Hz)の場合、レーザ
・ロッド70は再生する十分な時間を有し、そして、パ
ルスは通常の最大エネルギ・レベルに到達するであろ
う。別の言い方をすれば、パルス繰返し速度が400H
zに向って減少する時、個々のパルスの中のエネルギ量
は増大する。けれども、約400Hzおよびそれ以下で
は、すべてのパルスは、レーザ・ロッド70から取得す
ることが可能であるのとほぼ同じ最大エネルギ・レベル
を有する。
【0022】前記で説明したように、再生増幅器14に
入ったパルスが増幅された後、これらのパルスは再生増
幅器14から排出される。パルスが入る時と同様に、パ
ルスの排出はポッケルス・セル62の動作により行われ
る。さらに詳細にいえば、ポッケルス・セル62が作動
されて、パルス光の偏光が変えられ、それにより、偏光
器58によってパルス光が再生増幅器14から外へ出る
ように進み、出力レーザ・ビーム78になる。
【0023】実際には、出力レーザ・ビーム78は、ポ
ッケルス・セル62が再生増幅器14の共振器の中にパ
ルスを取り込む速度により設定される、パルス繰返し速
度を有するであろう。本発明を説明する目的で、出力レ
ーザ・ビーム78のパルス繰返し速度は、第2パルス繰
返し速度と呼ばれ、そして、この第2パルス繰返し速度
を指示する任意の電子信号は、第2信号と呼ばれること
があるであろう。
【0024】出力レーザ・ビーム78の1つのパルスと
次のパルスとの間の時間間隔内に、レーザ・ロッド70
が再生されることが常に必要である。レーザ・ロッド7
0のこの再生は、レーザ・ダイオード72、74のポン
ピング作用により達成されるが、それには一定の時間が
必要である。前記で説明したように、もし第2パルス繰
返し速度が約400Hzより大きいならば、パルスとパ
ルスの間の時間間隔中には、レーザ・ロッド70はその
最大能力までには再生されないであろう。他方、第2パ
ルス繰返し速度が400Hzよりも低い場合には、レー
ザ・ロッド70は完全に再生されることができる。いず
れの場合にも、レーザ・ロッド70から得ることができ
る最大量のエネルギをパルスが取得するとすぐに、再生
増幅器14からパルスが排出されることが重要である。
特定の繰返し速度で得ることが可能な最大量のエネルギ
を出力パルスに与えるために、このことが必要である。
この機能を達成するために、フォトダイオード80が備
えられる。
【0025】動作の際、パルスがレーザ・ロッド70の
中を通りながら増幅される時、フォトダイオード80は
これらのパルスを監視する。パルスがその最大エネルギ
・レベルに達したことをフォトダイオード80が示す
時、フォトダイオード80は、図示されていないハード
ウエア接続装置により、ポッケルス・セル62をトリガ
して、そのパルスを排出する。興味あることは、出力レ
ーザ・ビーム78のパルス繰返し速度を設定するのは、
パルスが再生増幅器から排出される速度ではないことで
ある。その代わり、実際には、第2パルス繰返し速度
は、ポッケルス・セル62により、再生増幅器14の中
へのパルスの導入により設定される。
【0026】前記で説明したように、デバイダ52、5
4は中間信号を設定する。この中間信号は、200kH
zの繰返し速度にほぼ等しい。従来のソフトウエア・プ
ログラムを用いて、コンピュータ10は、さらに低い繰
返し速度を示す信号を得るために、この中間信号を整数
でさらに除算することができる。このように、コンピュ
ータ10のオペレータが要求する時、第2パルス繰返し
速度を指示する第2信号が設定される。図1に示されて
いるように、この第2信号がコネクタ82を通してポッ
ケルス・セル62に送られ、そしてそれにより、ポッケ
ルス・セル62を作動させ、パルスをレーザ・ビーム4
0から再生増幅器14の中に送る。要約をすれば、コン
ピュータ10はポッケルス・セル62を作動させて、パ
ルスを再生増幅器14の中に送り、そして、フォトダイ
オード80はポッケルス・セル62を作動させ、増幅さ
れたパルスを再生増幅器14から排出する。
【0027】図1にまた示されているように、出力レー
ザ・ビーム78は減衰器84を通る。減衰器84は、出
力レーザ・ビーム78の中のパルスのエネルギ・レベル
を監視することと、制御することとの両方の役割を果た
す。図示されているように、減衰器84は、コネクタ8
6により、コンピュータ10に接続される。コンピュー
タ10は、前記の目的のためのソフトウエアを有してい
る。特に、個々のパルスは特定の手術に対して大き過ぎ
るエネルギ・レベルを有する場合があり得るから、コン
ピュータで制御された減衰器84は、必要な時作動さ
れ、出力レーザ・ビーム78のパルスのエネルギ・レベ
ルを低下させることができる。
【0028】反射ミラー88a〜88eは、当業者には
周知の形式のミラーである。これらのミラーを用いて、
出力レーザ・ビーム78が要求された経路に沿って進
む。図1に示されているように、出力レーザ・ビーム7
8は、ビーム放射装置16の反射ミラー88と、半透明
ミラー90と、対物レンズ92とを通って進む。本発明
の目的に従い、出力レーザ・ビーム78は、対物レンズ
92により、必要な眼科手術を行うために角膜18の中
の目標組織94に集光される。図1にまた示されている
ように、装置16に顕微鏡96を備えることができる。
そして、反射ミラー98を用いて、顕微鏡96からの光
軸が、半透明ミラー90により角膜18に向かって進む
ように設定することができる。したがって、必要な時、
顕微鏡96を用いて、眼科手術レーザ工程をオペレータ
が観察することができる。
【0029】前記で詳細に説明および開示された、コン
ピュータ制御の特定の可変繰返し速度レーザ装置は、前
記目的を十分に達成することができ、および、前記利点
を得ることができるけれども、前記説明は本発明の好ま
しい実施例を単に例示したものであって、前記に示され
た構成または設計の細部は、本発明の範囲がそれに限定
されることを意味するものではないことを断っておく。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるコンピュータ制御可変繰返し速度
のレーザ・ビーム発生装置の部品素子の概要ブロック
図。
【符号の説明】
10 コンピュータ 12 発振器 14 再生増幅器 36 モード・ロッカ 48 フォトダイオード 62 ポッケルス・セル 84 減衰器

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単色光の複数個のパルスを有するビーム
    を発生し、かつ、前記パルスを第1繰返し速度で発生す
    る、発振器と、 前記第1繰返し速度を監視するために前記発振器に電子
    的に接続され、かつ、第2繰返し速度を設定するために
    前記第1繰返し速度を選択的に除算するための装置を有
    する、コンピュータと、 前記選定された第2繰返し速度に従う可変パルス繰返し
    速度を有する出力レーザ・ビームを発生するために、前
    記コンピュータに電子的に接続され、かつ、前記発振器
    からのパルスを前記選定された第2繰返し速度でその中
    に導入さるように前記コンピュータにより電子的に作動
    される、ポッケルセルを備える、再生増幅器と、 を有する、パルス・レーザ・ビームのパルス繰返し速度
    を変更する装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記出力レーザ・ビ
    ームの中の前記パルスのおのおのが1つのエネルギ・レ
    ベルを有し、かつ、前記出力レーザ・ビームの中の前記
    パルスのおのおのの前記エネルギ・レベルを測定するた
    めに前記再生増幅器に光学的に連結された減衰器を前記
    装置がさらに有し、かつ、前記コンピュータが前記減衰
    器に電子的に接続されて前記エネルギ・レベルの制御を
    行なう、前記繰返し速度装置。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記第1繰返し速度
    が160メガヘルツ(160MHz)にほぼ等しく、か
    つ、前記選定された第2繰返し速度がゼロ・キロヘルツ
    と200キロヘルツとの間(0kHz〜200kHz)
    にある、前記繰返し速度装置。
  4. 【請求項4】 請求項1において、前記出力レーザ・ビ
    ームの中のパルスのおのおののパルス持続時間が約60
    ピコ秒(60psec)以下である、前記繰返し速度装
    置。
  5. 【請求項5】 事実上一定の時間間隔だけ順次に分離さ
    れた複数個のパルスを含むレーザ・ビームを監視する装
    置と、 前記ビームの中の2個の前記パルスの間の第2時間間隔
    を可変的に選定するために前記監視装置に電子的に接続
    された選定装置であって、前記第2時間間隔が前記第1
    時間間隔の整数因子でありかつ前記第1時間間隔の40
    0倍より大きい領域内にある、前記選定装置と、 前記ビームからパルスを受け取るために前記選定装置に
    より電子的に制御される装置であって、前記パルスの後
    での増幅のためにおよび前記出力レーザ・ビームの発生
    のために前記パルスが前記第2時間間隔だけ順次に分離
    された、前記電子的に制御される装置と、 を有する、出力レーザ・ビームを発生するためにパルス
    ・レーザ・ビームのパルス繰返し速度を変更する装置。
  6. 【請求項6】 請求項5において、前記監視装置がフォ
    トダイオードである、前記繰返し速度変更装置。
  7. 【請求項7】 請求項5において、前記装置が駆動信号
    により作動されるモード・ロッカを備えた発振器を有
    し、かつ、前記監視装置が前記モード・ロッカに接続さ
    れて前記駆動信号を受け取る、前記繰返し速度変更装
    置。
  8. 【請求項8】 請求項5において、前記選定装置がコン
    ピュータである、前記繰返し速度変更装置。
  9. 【請求項9】 請求項5において、前記パルスを受け取
    る装置がポッケルス・セルであり、かつ、前記ポッケル
    ス・セルが再生増幅器に装着される、前記繰返し速度変
    更装置。
  10. 【請求項10】 請求項5において、前記出力レーザ・
    ビームの中の前記パルスのおのおのが1つのエネルギ・
    レベルを有し、かつ、前記出力レーザ・ビームの中の前
    記パルスのおのおののエネルギ・レベルを測定するため
    に前記再生増幅器に光学的に連結された減衰器を前記装
    置がさらに有し、かつ、前記コンピュータが前記減衰器
    に電子的に接続されて前記エネルギ・レベルを制御す
    る、前記繰返し速度変更装置。
  11. 【請求項11】 請求項5において、前記第1時間間隔
    が約160メガヘルツ(160MHz)の繰返し速度に
    対応し、かつ、前記第2時間間隔が約200メガヘルツ
    (200kHz)以下の領域内の繰返し速度に対応す
    る、前記繰返し速度変更装置。
  12. 【請求項12】 単色光の複数個のパルスを有するレー
    ザ・ビームが発振器により最初に発生される時、前記レ
    ーザ・ビームのパルス繰返し速度を決定する段階と、 パルス繰返し速度を発生する前記発振器を表す第1信号
    を設定する段階と、 前記第1信号をコンピュータに送る段階と、 第2信号を設定するために、前記コンピュータの中の電
    子装置を用いて予め選定された整数により前記第1信号
    を除算する段階と、 前記第2信号により設定された可変パルス繰返し速度を
    有する出力レーザ・ビームを発生するために、パルス・
    レーザ・ビームを発生する前記発振器から再生増幅器に
    パルスが導入されるように、前記コンピュータからの前
    記第2信号でポッケルス・セルを作動する段階と、 を有する、パルス・レーザ・ビームのパルス繰返し速度
    を変更する方法。
  13. 【請求項13】 請求項12において、前記出力レーザ
    ・ビームが1つのエネルギ・レベルを有し、かつ、 前記コンピュータで前記出力レーザ・ビームの前記エネ
    ルギ・レベルを監視する段階と、 前記エネルギ・レベルを制御するために、前記コンピュ
    ータの中の電子装置で前記エネルギ・レベルを減衰する
    段階と、 をさらに有する、前記方法。
  14. 【請求項14】 請求項13において、パルス・レーザ
    ・ビームを発生する前記発振器の前記繰返し速度が約1
    60メガヘルツ(160MHz)であり、かつ、前記予
    め選定された整数が400に等しいまたは400以上で
    ある、前記方法。
  15. 【請求項15】 請求項13において、前記出力レーザ
    ・ビームの中のパルスのおのおののパルス持続時間が約
    60ピコ秒(60psec)よりも短い、前記方法。
JP6011856A 1993-02-04 1994-02-03 可変繰返し速度ピコ秒レーザ Pending JPH06291399A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001502585A (ja) * 1996-10-26 2001-02-27 エースクラプ メディテック ゲーエムベーハー 表面成形装置及び成形方法
JP2004048020A (ja) * 1996-04-25 2004-02-12 Imra America Inc ストレッチされた超短パルスの増幅装置、光学増幅装置およびその運転方法
JP2006303235A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Cyber Laser Kk 出力安定化機構を有するフェムト秒レーザー装置
JP2007305777A (ja) * 2006-05-11 2007-11-22 Mitsubishi Electric Corp 再生増幅器およびレーザ装置
CN103022886A (zh) * 2013-01-05 2013-04-03 北京工业大学 全固态皮秒激光放大器
KR20150084805A (ko) * 2012-11-14 2015-07-22 웨이브라이트 게엠베하 레이저 펄스 포커싱
JP2018149324A (ja) * 2013-03-13 2018-09-27 オプティメディカ・コーポレイションOptimedica Corporation レーザ手術システム
US10470932B2 (en) 2013-03-13 2019-11-12 Optimedica Corporation Free floating patient interface for laser surgery system

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19727573C1 (de) * 1996-10-26 1998-05-20 Aesculap Meditec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Formgebung von Oberflächen, insbesondere von Linsen
US6885683B1 (en) * 2000-05-23 2005-04-26 Imra America, Inc. Modular, high energy, widely-tunable ultrafast fiber source
AT411719B (de) 2000-10-02 2004-04-26 Femtolasers Produktions Gmbh Dentallaseranordnung
DE10232124A1 (de) * 2002-07-12 2004-02-12 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Impulslaseranordnung und Verfahren zur Impulslängeneinstellung bei Laserimpulsen
DE10240599A1 (de) * 2002-08-30 2004-03-18 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Anordnung und Verfahren zur Erzeugung ultrakurzer Laserimpulse
EP1447891B1 (en) * 2003-02-14 2012-04-11 Universität Heidelberg Method of generation of at least one pulse and/or a pulse sequence with controllable parameters
US7692854B2 (en) 2007-10-22 2010-04-06 Coherent, Inc. Repetitively pulsed laser and amplifier with dual resonator for pulse-energy management
US7649924B2 (en) 2006-11-15 2010-01-19 Coherent, Inc. First-pulse suppression in a regenerative amplifier
WO2008060407A2 (en) * 2006-11-15 2008-05-22 Coherent, Inc. Repetitively pulsed laser and amplifier with dual resonator for pulse-energy management
CN101908712A (zh) * 2010-07-23 2010-12-08 中国科学院上海光学精密机械研究所 激光脉冲同步触发装置
CN102751655B (zh) * 2012-06-14 2014-03-12 北京无线电计量测试研究所 提高超快激光放大器脉冲能量稳定性的装置及其控制方法
WO2014079478A1 (en) 2012-11-20 2014-05-30 Light In Light Srl High speed laser processing of transparent materials
US9701564B2 (en) 2013-01-15 2017-07-11 Corning Incorporated Systems and methods of glass cutting by inducing pulsed laser perforations into glass articles
EP2754524B1 (de) 2013-01-15 2015-11-25 Corning Laser Technologies GmbH Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie
EP2781296B1 (de) 2013-03-21 2020-10-21 Corning Laser Technologies GmbH Vorrichtung und verfahren zum ausschneiden von konturen aus flächigen substraten mittels laser
US9815730B2 (en) 2013-12-17 2017-11-14 Corning Incorporated Processing 3D shaped transparent brittle substrate
US9850160B2 (en) 2013-12-17 2017-12-26 Corning Incorporated Laser cutting of display glass compositions
US9687936B2 (en) 2013-12-17 2017-06-27 Corning Incorporated Transparent material cutting with ultrafast laser and beam optics
US9676167B2 (en) 2013-12-17 2017-06-13 Corning Incorporated Laser processing of sapphire substrate and related applications
US11556039B2 (en) 2013-12-17 2023-01-17 Corning Incorporated Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same
US10442719B2 (en) 2013-12-17 2019-10-15 Corning Incorporated Edge chamfering methods
US20150165560A1 (en) 2013-12-17 2015-06-18 Corning Incorporated Laser processing of slots and holes
US10293436B2 (en) 2013-12-17 2019-05-21 Corning Incorporated Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom
US9701563B2 (en) 2013-12-17 2017-07-11 Corning Incorporated Laser cut composite glass article and method of cutting
KR102445217B1 (ko) 2014-07-08 2022-09-20 코닝 인코포레이티드 재료를 레이저 가공하는 방법 및 장치
TWI659793B (zh) 2014-07-14 2019-05-21 美商康寧公司 用於使用可調整雷射束焦線來處理透明材料的系統及方法
EP3169476A1 (en) 2014-07-14 2017-05-24 Corning Incorporated Interface block; system for and method of cutting a substrate being transparent within a range of wavelengths using such interface block
WO2016010949A1 (en) 2014-07-14 2016-01-21 Corning Incorporated Method and system for forming perforations
US10335902B2 (en) 2014-07-14 2019-07-02 Corning Incorporated Method and system for arresting crack propagation
US9617180B2 (en) 2014-07-14 2017-04-11 Corning Incorporated Methods and apparatuses for fabricating glass articles
US10047001B2 (en) 2014-12-04 2018-08-14 Corning Incorporated Glass cutting systems and methods using non-diffracting laser beams
WO2016115017A1 (en) 2015-01-12 2016-07-21 Corning Incorporated Laser cutting of thermally tempered substrates using the multi photon absorption method
EP3274306B1 (en) 2015-03-24 2021-04-14 Corning Incorporated Laser cutting and processing of display glass compositions
WO2016160391A1 (en) 2015-03-27 2016-10-06 Corning Incorporated Gas permeable window and method of fabricating the same
DE102015008127A1 (de) * 2015-06-24 2016-12-29 Wavelight Gmbh Vorrichtung für die Augenlaserchirurgie und Verfahren zur Durchführung einer transepithelialen photorefraktiven Keratektomie
EP3319911B1 (en) 2015-07-10 2023-04-19 Corning Incorporated Methods of continuous fabrication of holes in flexible substrate sheets and products relating to the same
MY194570A (en) 2016-05-06 2022-12-02 Corning Inc Laser cutting and removal of contoured shapes from transparent substrates
WO2018022476A1 (en) 2016-07-29 2018-02-01 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing
CN110121398B (zh) 2016-08-30 2022-02-08 康宁股份有限公司 透明材料的激光加工
CN106169691B (zh) * 2016-09-22 2021-06-04 广州桦洋电子科技有限公司 一种用于祛斑的三级放大皮秒激光器
CN113399816B (zh) 2016-09-30 2023-05-16 康宁股份有限公司 使用非轴对称束斑对透明工件进行激光加工的设备和方法
KR102428350B1 (ko) 2016-10-24 2022-08-02 코닝 인코포레이티드 시트형 유리 기판의 레이저 기반 기계 가공을 위한 기판 프로세싱 스테이션
US10752534B2 (en) 2016-11-01 2020-08-25 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing laminate workpiece stacks
US10688599B2 (en) 2017-02-09 2020-06-23 Corning Incorporated Apparatus and methods for laser processing transparent workpieces using phase shifted focal lines
US10626040B2 (en) 2017-06-15 2020-04-21 Corning Incorporated Articles capable of individual singulation

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4896119A (en) * 1984-06-07 1990-01-23 The University Of Rochester CW pumper CW pumped variable repetition rate regenerative laser amplifier system
US4764930A (en) * 1988-01-27 1988-08-16 Intelligent Surgical Lasers Multiwavelength laser source
IL91240A (en) * 1989-08-07 1994-07-31 Quick Tech Ltd Pulsed laser apparatus and systems and techniques for its operation

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004048020A (ja) * 1996-04-25 2004-02-12 Imra America Inc ストレッチされた超短パルスの増幅装置、光学増幅装置およびその運転方法
JP2001502585A (ja) * 1996-10-26 2001-02-27 エースクラプ メディテック ゲーエムベーハー 表面成形装置及び成形方法
JP2006303235A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Cyber Laser Kk 出力安定化機構を有するフェムト秒レーザー装置
KR101259638B1 (ko) * 2005-04-21 2013-04-30 사이버 레이저 가부시끼가이샤 출력 안정화 기구를 갖는 펨토초 레이저 장치
JP2007305777A (ja) * 2006-05-11 2007-11-22 Mitsubishi Electric Corp 再生増幅器およびレーザ装置
KR20150084805A (ko) * 2012-11-14 2015-07-22 웨이브라이트 게엠베하 레이저 펄스 포커싱
CN103022886A (zh) * 2013-01-05 2013-04-03 北京工业大学 全固态皮秒激光放大器
US10470932B2 (en) 2013-03-13 2019-11-12 Optimedica Corporation Free floating patient interface for laser surgery system
JP2018149324A (ja) * 2013-03-13 2018-09-27 オプティメディカ・コーポレイションOptimedica Corporation レーザ手術システム
US10736779B2 (en) 2013-03-13 2020-08-11 Amo Development, Llc Laser eye surgery system
US10736780B2 (en) 2013-03-13 2020-08-11 Amo Development, Llc Laser eye surgery system
US10751217B2 (en) 2013-03-13 2020-08-25 Amo Development, Llc Free floating patient interface for laser surgery system
US11478380B2 (en) 2013-03-13 2022-10-25 Amo Development, Llc Laser eye surgery system
US11534340B2 (en) 2013-03-13 2022-12-27 Amo Development, Llc Free floating patient interface for laser surgery system
US11759361B2 (en) 2013-03-13 2023-09-19 Amo Development, Llc Free floating patient interface for laser surgery system
US11857462B2 (en) 2013-03-13 2024-01-02 Amo Development, Llc Laser eye surgery system

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