JPH0628865A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0628865A
JPH0628865A JP4183584A JP18358492A JPH0628865A JP H0628865 A JPH0628865 A JP H0628865A JP 4183584 A JP4183584 A JP 4183584A JP 18358492 A JP18358492 A JP 18358492A JP H0628865 A JPH0628865 A JP H0628865A
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JP
Japan
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read
write
bit line
word line
transistors
Prior art date
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Withdrawn
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JP4183584A
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Japanese (ja)
Inventor
Masato Matsumiya
正人 松宮
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To accelerate the reading speed of cell data, in a static RAM in which a high speed operation is required. CONSTITUTION:This device is equipped with plural word lines WLWi, WLRi, WLWj, WLRj, plural pairs of bit lines WBL and WBLZ, and RBL and RBLZ, and plural cell MCi and MCj provided between each pertinent word line and each pertinent pair of bit lines. Each pair of bit lines is constituted of a pair of writing bit lines WBL and WBLZ, and a pair of reading bit lines RBL and RBLZ. Then, private writing access means and reading access means are provided between each pair of writing bit lines WBL and WBLZ and reading bit lines RBL and RBLZ, and each cell MCi and MCj.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に、高速動作が要求されるスタティックRAM(SR
AM)に関する。近年、半導体技術の進歩に伴って各種
デバイスの高速化が進み、半導体記憶装置における高速
化の要求も益々強くなっている。具体的に、例えば、S
RAMでは、セルデータの読み出し速度が全体の動作速
度に大きな影響を与えるため、読み出し動作のさらなる
高速化が望まれている。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, static RAM (SR
AM). In recent years, with the progress of semiconductor technology, speeding up of various devices has progressed, and the demand for speeding up in a semiconductor memory device has become stronger and stronger. Specifically, for example, S
In the RAM, the read speed of the cell data has a great influence on the overall operation speed, and therefore a further increase in the read operation is desired.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、例えば、SRAMにおいては、セ
ルデータの読み出し動作のさらなる高速化が要望されて
いる。特に、前サイクル(直前のサイクル)におけるリ
ードデータやライトデータがセルの保持データに影響を
与えないようにする技術が、読み出し動作の高速化に不
可欠となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, for example, in SRAMs, there has been a demand for further speeding up of cell data read operation. In particular, a technique for preventing read data and write data in the previous cycle (previous cycle) from affecting the data held in the cell is indispensable for speeding up the read operation.

【0003】図7は従来の半導体記憶装置におけるセル
構造の代表的な例を示す図であり、SRAMセルの構造
を示している。具体的に、同図(a) のセルMCa は、交差
接続された一対のN型MOSトランジスタT1,T2 および
負荷抵抗R1,R2 で構成され、同図(b) のセルMCb は、交
差接続された一対のN型MOSトランジスタT1,T2 およ
びP型MOSトランジスタT3,T4 で構成され、そして、
同図(c) のセルMCc は、交差接続された一対のN型MO
SトランジスタT1,T2 およびTFTトランジスタT5,T6
で構成されている。
FIG. 7 is a diagram showing a typical example of a cell structure in a conventional semiconductor memory device, showing the structure of an SRAM cell. Specifically, the cell MCa in FIG. 9A is composed of a pair of cross-connected N-type MOS transistors T1 and T2 and load resistors R1 and R2, and the cell MCb in FIG. 9B is cross-connected. And a pair of N-type MOS transistors T1 and T2 and P-type MOS transistors T3 and T4, and
The cell MCc in FIG. 1C is a pair of cross-connected N-type MOs.
S transistors T1 and T2 and TFT transistors T5 and T6
It is composed of.

【0004】図6(a)〜(c) に示されるように、従来のS
RAMセル MCa〜MCc のデータ保持ノードN1,N2 は、ワ
ード線WLの信号で制御されるアクセストランジスタTr
1, Tr2を介してそれぞれビット線BL,BLZに接続され、
該ビット線BL,BLZにより書き込み(ライト)および読み
出し(リード)を行うようになっている。
As shown in FIGS. 6 (a) to 6 (c), the conventional S
The data holding nodes N1 and N2 of the RAM cells MCa to MCc are access transistors Tr controlled by the signal of the word line WL.
Connected to bit lines BL and BLZ via 1 and Tr2,
Writing (writing) and reading (reading) are performed by the bit lines BL and BLZ.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の半導体記憶装置(SRAM)では、セルのデータ保持
ノードがトランジスタを介してビット線に接続されてい
るため、前サイクルのライトデータやリードデータがビ
ット線に残っていると、当該サイクルのセルデータに干
渉してセルデータの破壊が起こることがある。そこで、
従来の半導体記憶装置では、前サイクルのライトデータ
やリードデータがビット線に残らないようにビット線の
リセット期間が必要となっている。しかしながら、この
前サイクルデータのビット線リセット期間は、高速動作
の妨げになる。
As described above, in the conventional semiconductor memory device (SRAM), since the data holding node of the cell is connected to the bit line through the transistor, the write data and the read in the previous cycle are read. If data remains on the bit line, it may interfere with the cell data of the cycle and destroy the cell data. Therefore,
In the conventional semiconductor memory device, a bit line reset period is required so that write data or read data in the previous cycle does not remain in the bit line. However, the bit line reset period of the previous cycle data hinders high speed operation.

【0006】ところで、ビット線リセットが不十分な場
合にはセルデータの破壊を起こす危険があるため十分な
リセット期間が必要であるが、スタティックRAMに対
する高速サイクル動作の要求が強まる中で、全サイクル
中のリセット時間の割合は多くなる方向にある。すなわ
ち、半導体記憶装置において、今まで以上の超高速サイ
クル動作を実現するためには、このリセット期間をなく
すことが非常に有効な手段となる。
By the way, if the bit line reset is insufficient, there is a risk of destruction of cell data, so that a sufficient reset period is required. The ratio of the reset time is increasing. That is, in the semiconductor memory device, eliminating the reset period is a very effective means for realizing an ultra-high-speed cycle operation more than ever.

【0007】本発明は、上述した従来の半導体記憶装置
が有する課題に鑑み、セルデータの読み出し速度を高速
化することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the above-described conventional semiconductor memory device, and an object thereof is to increase the cell data read speed.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、複数の
ワード線WL;WLW,WLRと、複数のビット線対WBL,WBLZ,RB
L,RBLZと、該各ワード線および該各ビット線対との間に
設けられた複数のセルMC;MCi,MCjとを具備する半導体記
憶装置であって、前記各ビット線対を、書き込み用ビッ
ト線対WBL,WBLZおよび読み出し用ビット線対RBL,RBLZで
構成し、該各書き込み用ビット線対WBL,WBLZおよび読み
出し用ビット線対RBL,RBLZと前記各セルMCとの間にそれ
ぞれ専用の書き込み用アクセス手段Trw1,Trw2 および読
み出し用アクセス手段Trr1,Trr2,Trr3,Trr4 を設けるよ
うにしたことを特徴とする半導体記憶装置が提供され
る。
According to the present invention, a plurality of word lines WL; WLW, WLR and a plurality of bit line pairs WBL, WBLZ, RB.
A semiconductor memory device comprising: L, RBLZ; and a plurality of cells MC; MCi, MCj provided between each word line and each bit line pair, wherein each bit line pair is for writing It is composed of a bit line pair WBL, WBLZ and a read bit line pair RBL, RBLZ, and a dedicated bit line pair WBL, WBLZ for each write bit line pair RBL, RBLZ and each cell MC for exclusive use. There is provided a semiconductor memory device characterized in that write access means Trw1, Trw2 and read access means Trr1, Trr2, Trr3, Trr4 are provided.

【0009】[0009]

【作用】本発明の半導体記憶装置によれば、ビット線対
は、書き込み用ビット線対WBL,WBLZおよび読み出し用ビ
ット線対RBL,RBLZにより独立に構成される。さらに、書
き込み用ビット線対WBL,WBLZおよび読み出し用ビット線
対RBL,RBLZとセルMC;MCi,MCjとの間には、それぞれ専用
の書き込み用アクセス手段Trw1,Trw2 および読み出し用
アクセス手段Trr1,Trr2,Trr3,Trr4 が設けられている。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the bit line pair is independently constituted by the write bit line pair WBL, WBLZ and the read bit line pair RBL, RBLZ. Further, between the write bit line pair WBL, WBLZ and the read bit line pair RBL, RBLZ and the cells MC; MCi, MCj, dedicated write access means Trw1, Trw2 and read access means Trr1, Trr2, respectively. , Trr3, Trr4 are provided.

【0010】これによって、本発明の半導体記憶装置に
よれば、前サイクルにおけるリードデータやライトデー
タがセルの保持データに影響を与えることなく、且つ、
リセット期間を無くしてセルデータの読み出し速度を高
速化することができる。
As a result, according to the semiconductor memory device of the present invention, the read data and the write data in the previous cycle do not affect the data held in the cell, and
By eliminating the reset period, the cell data read speed can be increased.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る半導体記
憶装置の実施例を説明する。図1は本発明に係る半導体
記憶装置の一実施例を示すブロック回路図である。同図
において、参照符号 MCi,MCjはSRAMのメモリセル
(セル), WLWi,WLWjは書き込み用ワード線,WLRi,WLRjは
読み出し用ワード線, WBL,WBLZは書き込み用ビット線
対, そして, RBL,RBLZは読み出し用ビット線対を示して
いる。
Embodiments of the semiconductor memory device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a block circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In the figure, reference symbols MCi and MCj are SRAM memory cells (cells), WLWi and WLWj are write word lines, WLRi and WLRj are read word lines, WBL and WBLZ are write bit line pairs, and RBL, RBLZ indicates a read bit line pair.

【0012】図1に示されるように、セルMCi(MCj)に
は、書き込み用ワード線WLWi(WLWj),読み出し用ワード
線WLRi(WLRj), 書き込み用ビット線WBL,WBLZ, および,
読み出し用ビット線対RBL,RBLZが接続されている。読み
出し用ビット線対RBL,RBLZは、直接或いはゲートトラン
ジスタT3,T4 を介して電圧増幅型センスアンプSA1 に接
続されると共に、直接或いはゲートトランジスタT9,T10
を介してトランジスタT5,T6(T7,T8)に接続されている。
ここで、トランジスタT3,T4,T7,T8,T9,T10は、N型MO
Sトランジスタを示し、トランジスタT5,T6 はP型MO
Sトランジスタを示している。また、トランジスタT5,T
6 およびT7,T8 は、電流源として機能するようになって
いる。尚、本実施例において、読み出し用ビット線対RB
L,RBLZを、ゲートトランジスタT3,T4 を介して電圧増幅
型センスアンプSA1 に接続すると、例えば、複数の読み
出し用ビット線対に対して1つのセンスアンプSA1 を共
用することができる。
As shown in FIG. 1, the cell MCi (MCj) has a write word line WLWi (WLWj), a read word line WLRi (WLRj), write bit lines WBL, WBLZ, and
The read bit line pair RBL, RBLZ is connected. The read bit line pair RBL, RBLZ is connected directly or via the gate transistors T3, T4 to the voltage amplification type sense amplifier SA1, and also directly or via the gate transistors T9, T10.
It is connected to the transistors T5, T6 (T7, T8) via.
Here, the transistors T3, T4, T7, T8, T9, T10 are N-type MO
S-transistor is shown, and transistors T5 and T6 are P-type MO
The S transistor is shown. Also, the transistors T5 and T
6 and T7 and T8 function as current sources. In this embodiment, the read bit line pair RB
When L and RBLZ are connected to the voltage amplification type sense amplifier SA1 via the gate transistors T3 and T4, for example, one sense amplifier SA1 can be shared by a plurality of read bit line pairs.

【0013】図2は図1の半導体記憶装置におけるセル
の構造例を示す回路図である。同図に示されるように、
セルMCは、2つの書き込み用トランジスタTrw1,Trw2 を
介して書き込み用ワード線WLW および書き込み用ビット
線WBL,WBLZに接続されると共に、4つの読み出し用トラ
ンジスタTrr1,Trr2,Trr3,Trr4 を介して読み出し用ワー
ド線WLR および読み出し用ビット線対RBL,RBLZに接続さ
れている。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a structural example of a cell in the semiconductor memory device of FIG. As shown in the figure,
The cell MC is connected to the write word line WLW and the write bit lines WBL and WBLZ via the two write transistors Trw1 and Trw2, and read through the four read transistors Trr1, Trr2, Trr3 and Trr4. Are connected to the read word line WLR and the read bit line pair RBL, RBLZ.

【0014】各書き込み用トランジスタTrw1,Trw2 のゲ
ートは書き込み用ワード線WLW に接続され,ソースおよ
びドレインは書き込み用ビット線対WBL,WBLZおよびセル
MCの2つのデータ保持ノードN1,N2 にそれぞれ接続され
ている。さらに、読み出し用トランジスタTrr1,Trr2 の
ゲートはデータ保持ノードN1,N2 に接続され、ソースは
低電位電源Vss に接続され,ドレインは読み出し用トラ
ンジスタTrr3,Trr4 のソースに接続されている。また、
読み出し用トランジスタTrr3,Trr4 のゲートは読み出し
用ワード線WLR に接続され,ドレインは読み出し用ビッ
ト線対RBL,RBLZに接続されている。
The gates of the write transistors Trw1 and Trw2 are connected to the write word line WLW, and the sources and drains are the write bit line pair WBL, WBLZ and the cell.
It is connected to two data holding nodes N1 and N2 of MC respectively. Further, the gates of the read transistors Trr1 and Trr2 are connected to the data holding nodes N1 and N2, the sources thereof are connected to the low potential power supply Vss, and the drains thereof are connected to the sources of the read transistors Trr3 and Trr4. Also,
The gates of the read transistors Trr3, Trr4 are connected to the read word line WLR, and the drains are connected to the read bit line pair RBL, RBLZ.

【0015】図3は図2の変形例を示す回路図である。
同図に示されるように、セルMCは、2つの書き込み用ト
ランジスタTrw1,Trw2 を介して書き込み用ワード線WLW
および書き込み用ビット線WBL,WBLZに接続されると共
に、2つの読み出し用トランジスタTrr1,Trr2 を介して
読み出し用ワード線WLR および読み出し用ビット線対RB
L,RBLZに接続されている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a modification of FIG.
As shown in the figure, the cell MC includes a write word line WLW via two write transistors Trw1 and Trw2.
And a read word line WLR and a read bit line pair RB via two read transistors Trr1 and Trr2.
It is connected to L and RBLZ.

【0016】各書き込み用トランジスタTrw1,Trw2 のゲ
ートは書き込み用ワード線WLW に接続され,ソースおよ
びドレインは書き込み用ビット線対WBL,WBLZおよびセル
MCの2つのデータ保持ノードN1,N2 にそれぞれ接続され
ている。さらに、読み出し用トランジスタTrr1,Trr2 の
ゲートはデータ保持ノードN1,N2 に接続され、ソースは
ワード線WLR に接続され,ドレインは読み出し用ビット
線対RBL,RBLZ) に接続されている。
The gates of the write transistors Trw1 and Trw2 are connected to the write word line WLW, and the sources and drains are the write bit line pair WBL, WBLZ and the cell.
It is connected to two data holding nodes N1 and N2 of MC respectively. Further, the gates of the read transistors Trr1 and Trr2 are connected to the data holding nodes N1 and N2, the sources are connected to the word line WLR, and the drains are connected to the read bit line pair RBL, RBLZ).

【0017】図2および図3を参照して説明したよう
に、本実施例の半導体記憶装置によれば、セルのデータ
保持ノードN1およびN2は、読み出し用ビット線対RBL,RB
LZとインピーダンス的に完全に切り離され、ビット線か
らの干渉はなくなる。その結果、超高速の読み出しが可
能になる。また、セルのデータ保持ノードN1,N2 を周辺
回路で保護する必要がなくなり、周辺回路の単純化を図
ることができる。そして、リセット期間が不要のため、
その分のサイクル増加を無くすことができる。さらに、
書き込み用ワード線WLW にライト制御信号の論理を加え
ることにより前サイクルのライトデータの影響も排除す
ることが可能になる。ここで、セルMCは、前述した図7
(a) の構成(MCa) となっているが、他の構成(MCb,MCc)
とすることができるのはいうまでもない。
As described with reference to FIGS. 2 and 3, according to the semiconductor memory device of this embodiment, the data holding nodes N1 and N2 of the cells are read bit line pair RBL, RB.
It is completely separated from LZ in terms of impedance and there is no interference from the bit line. As a result, ultra-high-speed reading is possible. Further, it becomes unnecessary to protect the data holding nodes N1 and N2 of the cell by the peripheral circuit, and the peripheral circuit can be simplified. And because the reset period is unnecessary,
The increase in the cycle can be eliminated. further,
By adding the logic of the write control signal to the write word line WLW, the influence of the write data in the previous cycle can be eliminated. Here, the cell MC is the one shown in FIG.
(a) configuration (MCa), but other configurations (MCb, MCc)
It goes without saying that it can be

【0018】図4は本発明の半導体記憶装置の他の実施
例を示すブロック回路図であり、図5は図4の半導体記
憶装置におけるセンスアンプの一例を示す回路図であ
る。図4に示されるように、図1における電圧増幅型セ
ンスアンプSA1 を電流増幅型センスアンプSA2 として構
成することができる。この電流増幅型センスアンプSA2
は、図5に示されるように、P型MOSトランジスタT1
01〜T106およびN型MOSトランジスタT107〜T114によ
り構成することができる。尚、本実施例の半導体記憶装
置に対して、他の回路構成の増幅回路を適用することが
できるのはもちろんである。
FIG. 4 is a block circuit diagram showing another embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, and FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a sense amplifier in the semiconductor memory device of FIG. As shown in FIG. 4, the voltage amplification type sense amplifier SA1 in FIG. 1 can be configured as a current amplification type sense amplifier SA2. This current amplification type sense amplifier SA2
Is a P-type MOS transistor T1 as shown in FIG.
01 to T106 and N-type MOS transistors T107 to T114. It is needless to say that an amplifier circuit having another circuit configuration can be applied to the semiconductor memory device of this embodiment.

【0019】図6は本発明の半導体記憶装置におけるセ
ルの他の構造例を示す図である。同図に示すセルの構造
例では、書き込み用ワード線WLWiと読み出し用ワード線
WLRiを共通のワード線WLi として構成されている。この
ように、書き込み用ワード線WLWiと読み出し用ワード線
WLRiを共通のワード線WLi とした場合、ワード線WLに供
給される信号の干渉といった面ではやや不利になるが、
ワード線の本数を現象させることができるため、小型化
および高集積化といった観点からは、前述したものより
も有利になる。
FIG. 6 is a diagram showing another structural example of the cell in the semiconductor memory device of the present invention. In the cell structure example shown in the figure, the write word line WLWi and the read word line
WLRi is configured as a common word line WLi. In this way, write word line WLWi and read word line
If WLRi is used as the common word line WLi, it is slightly disadvantageous in terms of interference of signals supplied to the word line WL,
Since the number of word lines can be made to be a phenomenon, it is more advantageous than the one described above from the viewpoint of miniaturization and high integration.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上、詳述したように、本発明の半導体
記憶装置によれば、セルに接続するリード用ビット線と
ライト用ビット線をそれぞれ独立に設けることによっ
て、前サイクルにおけるリードデータやライトデータが
セルの保持データに影響を与えることなく、且つ、リセ
ット期間を無くしてセルデータの読み出し速度を高速化
することができる。
As described above in detail, according to the semiconductor memory device of the present invention, by providing the read bit line and the write bit line connected to the cell independently, the read data in the previous cycle and The write data does not affect the data held in the cell, and the reset period can be eliminated to increase the cell data read speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示す
ブロック回路図である。
FIG. 1 is a block circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】図1の半導体記憶装置におけるセルの構造例を
示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a structural example of a cell in the semiconductor memory device of FIG.

【図3】図2の変形例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a modified example of FIG.

【図4】本発明の半導体記憶装置の他の実施例を示すブ
ロック回路図である。
FIG. 4 is a block circuit diagram showing another embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.

【図5】図3の半導体記憶装置におけるセンスアンプの
一例を示す回路図である。
5 is a circuit diagram showing an example of a sense amplifier in the semiconductor memory device of FIG.

【図6】本発明の半導体記憶装置におけるセルの他の構
造例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing another structural example of a cell in the semiconductor memory device of the present invention.

【図7】従来の半導体記憶装置におけるセル構造の代表
的な例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a typical example of a cell structure in a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

WL…ワード線 WLW …書き込み用ワード線 WLR …読み出し用ワード線 WBL,WBLZ…書き込み用ビット線対 RBL,RBLZ…読み出し用ビット線対 MC…セル N1,N2 …データ保持ノード Trw1,Trw2 …書き込み用トランジスタ(書き込み用アク
セス手段) Trr1,Trr2,Trr3,Trr4 …読み出し用トランジスタ(読み
出し用アクセス手段) SA1 …電圧増幅型センスアンプ SA2 …電流増幅型センスアンプ
WL ... Word line WLW ... Write word line WLR ... Read word line WBL, WBLZ ... Write bit line pair RBL, RBLZ ... Read bit line pair MC ... Cell N1, N2 ... Data holding node Trw1, Trw2 ... Write Transistor (access means for writing) Trr1, Trr2, Trr3, Trr4… Transistor for reading (access means for reading) SA1… Voltage amplification type sense amplifier SA2… Current amplification type sense amplifier

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワード線(WL;WLW,WLR)と、複数の
ビット線対(WBL,WBLZ, RBL,RBLZ)と、該各ワード線およ
び該各ビット線対との間に設けられた複数のセル(MC;MC
i,MCj)とを具備する半導体記憶装置であって、 前記各ビット線対を、書き込み用ビット線対(WBL,WBLZ)
および読み出し用ビット線対(RBL,RBLZ)で構成し、該各
書き込み用ビット線対および読み出し用ビット線対と前
記各セルとの間にそれぞれ専用の書き込み用アクセス手
段(Trw1,Trw2)および読み出し用アクセス手段(Trr1,Trr
2,Trr3,Trr4) を設けるようにしたことを特徴とする半
導体記憶装置。
1. A plurality of word lines (WL; WLW, WLR), a plurality of bit line pairs (WBL, WBLZ, RBL, RBLZ), and each word line and each bit line pair. Multiple cells (MC; MC
i, MCj), wherein each bit line pair is a write bit line pair (WBL, WBLZ)
And a read bit line pair (RBL, RBLZ), and dedicated write access means (Trw1, Trw2) and read between the write bit line pair and read bit line pair and each cell. Access method (Trr1, Trr
2, Trr3, Trr4) is provided in the semiconductor memory device.
【請求項2】 前記書き込み用アクセス手段は2つの書
き込み用トランジスタ(Trw1,Trw2) を具備し,該各書き
込み用トランジスタのゲートは前記ワード線(WL;WLW)に
接続され,ソースおよびドレインは書き込み用ビット線
対(WBL,WBLZ)および前記セル(MC)の2つのデータ保持ノ
ード(N1,N2) にそれぞれ接続され、且つ、前記読み出し
用アクセス手段は4つの読み出し用トランジスタ(Trr1,
Trr2,Trr3,Trr4) を具備し,該第1および第2の読み出
し用トランジスタ(Trr1,Trr2)のゲートは前記データ保
持ノード(N1,N2) に接続され、ソースは低電位電源に接
続され,ドレインは該第3および第4の読み出し用トラ
ンジスタ(Trr3,Trr4) のソースに接続され、そして、該
第3および第4の読み出し用トランジスタのゲートは前
記ワード線(WL;WLR)に接続され,ドレインは前記読み出
し用ビット線対(RBL,RBLZ)に接続されるようになってい
ることを特徴とする請求項1の半導体記憶装置。
2. The write access means comprises two write transistors (Trw1, Trw2), the gate of each write transistor is connected to the word line (WL; WLW), and the source and drain are write Bit line pair (WBL, WBLZ) and two data holding nodes (N1, N2) of the cell (MC), respectively, and the read access means includes four read transistors (Trr1,
Trr2, Trr3, Trr4), the gates of the first and second read transistors (Trr1, Trr2) are connected to the data holding nodes (N1, N2), and the sources are connected to a low potential power source. The drains are connected to the sources of the third and fourth read transistors (Trr3, Trr4), and the gates of the third and fourth read transistors are connected to the word line (WL; WLR). The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the drain is connected to the read bit line pair (RBL, RBLZ).
【請求項3】 前記書き込み用アクセス手段は2つの書
き込み用トランジスタ(Trw1,Trw2) を具備し,該各書き
込み用トランジスタのゲートは前記ワード線(WL;WLW)に
接続され,ソースおよびドレインは書き込み用ビット線
対(WBL,WBLZ)および前記セル(MC)の2つのデータ保持ノ
ード(N1,N2) にそれぞれ接続され、且つ、前記読み出し
用アクセス手段は2つの読み出し用トランジスタ(Trr1,
Trr2)を具備し,該2つの読み出し用トランジスタ(Trr
1,Trr2) のゲートは前記データ保持ノード(N1,N2) に接
続され、ソースは前記ワード線(WL;WLR)に接続され,ド
レインは前記読み出し用ビット線対(RBL,RBLZ)に接続さ
れるようになっていることを特徴とする請求項1の半導
体記憶装置。
3. The write access means comprises two write transistors (Trw1, Trw2), the gate of each write transistor is connected to the word line (WL; WLW), and the source and drain are write Bit line pair (WBL, WBLZ) and two data holding nodes (N1, N2) of the cell (MC), respectively, and the read access means includes two read transistors (Trr1,
Trr2), and the two read transistors (Trr2)
The gate of (1, Trr2) is connected to the data holding node (N1, N2), the source is connected to the word line (WL; WLR), and the drain is connected to the read bit line pair (RBL, RBLZ). The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is configured as follows.
【請求項4】 前記複数のワード線を、書き込み用ワー
ド線(WLW) および読み出し用ワード線(WLR) で構成し、
該書き込み用ワード線および読み出し用ワード線の信号
により前記書き込み用アクセス手段および読み出し用ア
クセス手段を独立に制御するようにしたことを特徴とす
る請求項1〜3の何れかの半導体記憶装置。
4. The plurality of word lines are composed of a write word line (WLW) and a read word line (WLR),
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the write access means and the read access means are independently controlled by signals of the write word line and the read word line.
【請求項5】 前記複数のワード線を、書き込み用ワー
ド線(WLW) および読み出し用ワード線(WLR) で構成し、
該書き込み用ワード線および読み出し用ワード線の信号
により前記書き込み用アクセス手段および読み出し用ア
クセス手段を同時に制御するようにしたことを特徴とす
る請求項1〜3の何れかの半導体記憶装置。
5. The plurality of word lines are composed of a write word line (WLW) and a read word line (WLR),
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the write access means and the read access means are controlled simultaneously by signals of the write word line and the read word line.
【請求項6】 前記読み出し用ビット線対(RBL,RBLZ)
は、直接或いはゲートトランジスタ(T9,T10)を介して電
流源(T5,T6; T7,T8)に接続されると共に、直接或いはゲ
ートトランジスタ(T3,T4) を介して電圧増幅型センスア
ンプ(SA1) に接続されるようになっていることを特徴と
する請求項1の半導体記憶装置。
6. The read bit line pair (RBL, RBLZ)
Is connected to the current source (T5, T6; T7, T8) directly or through the gate transistors (T9, T10), and the voltage amplification type sense amplifier (SA1) through the direct or gate transistors (T3, T4). ) Is connected to the semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項7】 前記読み出し用ビット線対(RBL,RBLZ)
は、直接或いはゲートトランジスタ(T3,T4) を介して電
流増幅型センスアンプ(SA2) に接続されるようになって
いることを特徴とする請求項1の半導体記憶装置。
7. The read bit line pair (RBL, RBLZ)
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein is connected to the current amplification type sense amplifier (SA2) directly or through the gate transistors (T3, T4).
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100380347B1 (en) * 2000-11-21 2003-04-11 삼성전자주식회사 Semiconductor memory device and data read method thereof
JP2007531957A (en) * 2003-07-14 2007-11-08 フルクラム・マイクロシステムズ・インコーポレーテッド Asynchronous static random access memory
JP2009272023A (en) * 2008-05-12 2009-11-19 Toshiba Corp Semiconductor memory device

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