JPH06287027A - Transparent electrically conductive glass - Google Patents
Transparent electrically conductive glassInfo
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- JPH06287027A JPH06287027A JP9869693A JP9869693A JPH06287027A JP H06287027 A JPH06287027 A JP H06287027A JP 9869693 A JP9869693 A JP 9869693A JP 9869693 A JP9869693 A JP 9869693A JP H06287027 A JPH06287027 A JP H06287027A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、印刷方法によりパタ
ーンが形成された透明導電ガラスに関するものである。
この発明の透明導電ガラスは、液晶表示装置、エレクト
ロルミネッセンス素子、プラズマディスプレイ素子、蛍
光表示管などのフラットディスプレイやタッチパネルな
どの種々の電子部品において非常に有効である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to transparent conductive glass having a pattern formed by a printing method.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The transparent conductive glass of the present invention is very effective in various electronic parts such as liquid crystal display devices, electroluminescent elements, plasma display elements, flat displays such as fluorescent display tubes and touch panels.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、透明導電膜の形成方法として
は、ＰＶＤ法（蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法）や、化学的気相法（ＣＶＤ法、ＣＭＤ
法）が主流である。このような方法により、インジウム
チンオキサイド（ＩＴＯ）、アンチモンチンオキサイド
（ＡＴＯ）などの無機酸化物被膜を透明導電膜として形
成している。2. Description of the Related Art Generally, as a method for forming a transparent conductive film, a PVD method (evaporation method, sputtering method, ion plating method) or a chemical vapor phase method (CVD method, CMD) is used.
Law) is the mainstream. By such a method, an inorganic oxide film such as indium tin oxide (ITO) or antimony tin oxide (ATO) is formed as a transparent conductive film.
【０００３】また、インジウムやスズなどの有機酸塩
（キレート化合物を含む）やアルコラートなどの金属ア
ルコキシドなどの有機金属化合物と、有機金属化合物を
溶解させる溶剤と、酸、塩基あるいは増粘剤などの添加
剤とからなる透明導電インキを用い、回転塗布法、ディ
ップ法などにより膜形成を行う塗布法がある。塗布法
は、塗布工程と焼成工程のみで透明導電膜を形成できる
ので、工程が簡単である。Further, organic acid compounds (including chelate compounds) such as indium and tin, metal alkoxides such as metal alkoxides such as alcoholates, solvents for dissolving the metal compounds, acids, bases, thickeners, etc. There is a coating method in which a transparent conductive ink including an additive is used to form a film by a spin coating method, a dipping method, or the like. The coating method is simple because the transparent conductive film can be formed only by the coating step and the firing step.
【０００４】このような透明導電膜を、フラットディス
プレイやタッチパネルなどに用いるときは、フラットデ
ィスプレイの表示部やタッチパネルの入力部と、外部へ
接続するための引き回し回路部とを一体的に形成するこ
とがある。通常、フラットディスプレイの表示部やタッ
チパネルの入力部に対し、引き回し回路部は面積が小さ
く電圧降下を生じやすい。そこで、引き回し回路部が他
の部分よりも抵抗値が低くなるようにするために、引き
回し回路部の膜厚が他の部分よりも大きくなるように構
成することが考えられる。When such a transparent conductive film is used for a flat display, a touch panel, etc., the display section of the flat display and the input section of the touch panel and the routing circuit section for connecting to the outside should be integrally formed. There is. Normally, the routing circuit section is small in area and easily causes a voltage drop with respect to the display section of a flat display or the input section of a touch panel. Therefore, in order to make the routing circuit portion have a lower resistance value than the other portions, it is conceivable to configure the routing circuit portion so that the film thickness is larger than the other portions.
【０００５】しかし、ＰＶＤ法や化学的気相法の場合、
パターン形成前あるいはパターン形成後に透明導電膜の
一部の膜厚を変化させることは非常に困難である。あえ
て行うとしても、一度基板全面に透明導電膜を形成した
後、マスキングなどを行って再び透明導電膜を形成する
という複雑な工程が必要で、歩留まりが悪く、コスト面
で非現実的であった。However, in the case of the PVD method or the chemical vapor phase method,
It is very difficult to change the film thickness of a part of the transparent conductive film before or after pattern formation. Even if it is dared to perform, the complicated process of forming the transparent conductive film once over the entire surface of the substrate and then forming the transparent conductive film again by masking or the like is required, resulting in poor yield and impractical cost. .
【０００６】また、塗布法においても、全面に透明導電
膜を形成するには簡易な方法であるが、一部の膜厚を変
化させることは困難であった。The coating method is also a simple method for forming a transparent conductive film on the entire surface, but it is difficult to change a part of the film thickness.
【０００７】そこで、銀、カーボンなどの導電ペースト
により補助電極を設けたり、ニッケル、銅などのメッキ
により補助電極を設けたりして、導電性の向上を図り、
任意の抵抗値を得ることがある。たとえば、表示部や入
力部の視界の妨げとならない箇所に補助電極を重ねて形
成したり、引き回し回路部に重ねて補助電極を設けたり
する。しかし、補助電極を設けるのは製造工程が複雑に
なる。しかも、導電ペーストを用いた場合は、導電ペー
ストの乾燥を、通常、大気中100〜150℃で数十分間行う
が、この間に強制的に設けた脱酸素による格子欠陥が熱
平衡状態へと進み、キャリア濃度の減少を発生させ、透
明導電膜の抵抗値が高くなるという不具合が発生するこ
とが多い。このような影響を考慮すると、さらに低い抵
抗値を有する材料を用いる必要があるが、そのような性
質を有するものは少ない。Therefore, the auxiliary electrode is provided with a conductive paste such as silver or carbon, or the auxiliary electrode is provided with plating such as nickel or copper to improve the conductivity.
An arbitrary resistance value may be obtained. For example, an auxiliary electrode may be formed so as to be overlapped with a portion that does not hinder the visibility of the display unit or the input unit, or an auxiliary electrode may be provided so as to be overlapped with the routing circuit unit. However, providing the auxiliary electrode complicates the manufacturing process. Moreover, when the conductive paste is used, the conductive paste is usually dried at 100 to 150 ° C. in the atmosphere for several tens of minutes, but lattice defects due to deoxidation forced during this time proceed to a thermal equilibrium state. In many cases, the carrier concentration is reduced and the resistance value of the transparent conductive film is increased. Considering such an influence, it is necessary to use a material having a lower resistance value, but few have such a property.
【０００８】このような欠点を解消する方法として、透
明導電インキを用い、スクリーン印刷法、オフセット印
刷法、グラビア印刷法などにより膜形成を行う印刷法が
ある。印刷法は、印刷工程と焼成工程のみで透明導電膜
を形成できるので、工程が簡単である。また、透明導電
インキを同一の箇所に２回印刷を行うことで、部分的に
膜厚が異なるようにすることができる。As a method of solving such a drawback, there is a printing method in which a transparent conductive ink is used to form a film by a screen printing method, an offset printing method, a gravure printing method, or the like. The printing method is simple because the transparent conductive film can be formed only by the printing step and the firing step. Further, by printing the transparent conductive ink twice on the same place, it is possible to make the film thickness partially different.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の印刷法
では、透明導電膜の膜厚が部分的に異なるようにするた
めに２回印刷を行っており、依然として工程が多い方法
である。However, in the above-mentioned printing method, printing is performed twice in order to make the film thickness of the transparent conductive film partially different, which is still a method with many steps.
【００１０】したがって、この発明は、上記の問題点を
解消し、任意の抵抗値を有する表示部あるいは入力部
と、任意の抵抗値を有する引き回し回路部とが、透明導
電膜で形成された透明導電ガラスを提供することを目的
とする。Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and a display section or an input section having an arbitrary resistance value and a routing circuit section having an arbitrary resistance value are formed by a transparent conductive film. The purpose is to provide a conductive glass.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の目的
を達成するために、透明導電ガラスを、基台の支持枠に
回転自在に支持されかつ深さ1.0〜数10μｍの多数のイ
ンキセルを表面に有する凹版ロールと、凹版ロールの表
面に透明導電膜インキを供給するインキ供給装置と、支
持枠に支持された凹版ロールの周囲所定箇所に備えら
れ、凹版ロールに供給された透明導電膜インキを凹版ロ
ール表面に拡げてインキセル内に一定量の透明導電膜イ
ンキを保持させるドクターと、支持枠の凹版ロールの下
方に回転自在に支持されかつ凹版ロールに接触する凸部
を有して凹版ロール表面にインキセル内の透明導電膜イ
ンキを凸部に転移させる印刷ロールと、支持枠に支持さ
れ印刷ロールと凹版ロールとを同期回転駆動する駆動装
置と、基台上に印刷ロールに接触する印刷位置Ａと印刷
ロールから離れた退避位置Ｂ、Ｃとの間で移動可能でか
つ被印刷体を載置した定盤と、定盤を上記両位置間で移
動させる被印刷体駆動装置と、印刷ロールの回転と定盤
の退避位置Ｂ、Ｃから印刷位置Ａへの移動とを制御して
印刷ロールの凸部に転移させた透明導電膜インキを被印
刷体に印刷させる制御装置とからなる薄膜形成装置を用
い、インキセルの深度あるいはインキセルのピッチが小
さい凹版ロールで表示部あるいは入力部が形成され、イ
ンキセルの深度あるいはインキセルのピッチが大きい凹
版ロールで引き回し回路部が形成されているように構成
したものである。In order to achieve the above object, the present invention provides a large number of ink cells having a transparent conductive glass rotatably supported by a supporting frame of a base and having a depth of 1.0 to several tens of μm. An intaglio roll on the surface, an ink supply device for supplying transparent conductive film ink to the surface of the intaglio roll, and a transparent conductive film ink supplied to the intaglio roll provided at a predetermined position around the intaglio roll supported by a supporting frame. Of the intaglio roll by spreading it over the surface of the intaglio roll and holding a certain amount of the transparent conductive film ink in the ink cell, and the intaglio roll having a convex portion rotatably supported below the intaglio roll of the support frame and contacting the intaglio roll. The printing roll that transfers the transparent conductive film ink in the ink cell to the convex portion on the surface, the drive device that is supported by the support frame and drives the printing roll and the intaglio roll to rotate synchronously, and the printing roll on the base. Surface plate that is movable between a printing position A that contacts the print roller and retracted positions B and C that are separated from the printing roll and that has a printing plate placed thereon, and a printing plate that moves the surface plate between the two positions. Control for controlling the rotation of the driving device, the rotation of the printing roll, and the movement of the platen from the retracted positions B and C to the printing position A so that the transparent conductive film ink transferred to the convex portion of the printing roll is printed on the printing medium. The display unit or input unit is formed by an intaglio roll with a small ink cell depth or ink cell pitch, and the routing circuit is formed by an intaglio roll with a large ink cell depth or ink cell pitch. It is configured to exist.
【００１２】また、上記の透明導電ガラスにおいて、表
示部あるいは入力部と、引き回し回路部との透明導電膜
の厚みが異なる境界部分で、凹版ロールのインキセルの
深度あるいはインキセルのピッチの変化が徐々に行われ
るものであるように構成してもよい。Further, in the above transparent conductive glass, the depth of the ink cell or the pitch of the ink cell of the intaglio roll gradually changes at the boundary portion where the thickness of the transparent conductive film is different between the display section or the input section and the routing circuit section. It may be configured to be performed.
【００１３】図面を参照しながらこの発明をさらに詳し
く説明する。図１は、この発明の透明導電ガラスの製造
に用いる薄膜形成装置の一実施例を示す斜視図である。
図中、１は基台、２は支持枠、３は凹版ロール、４は印
刷ロール、５はインキ供給装置、６はドクター、７は凸
部、８は駆動装置、９は定盤、１０は被印刷体駆動装置
をそれぞれ示す。The present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a thin film forming apparatus used for producing the transparent conductive glass of the present invention.
In the figure, 1 is a base, 2 is a support frame, 3 is an intaglio roll, 4 is a printing roll, 5 is an ink supply device, 6 is a doctor, 7 is a convex part, 8 is a drive device, 9 is a surface plate, and 10 is a platen. The respective printing medium driving devices are shown.
【００１４】透明導電膜を印刷して形成するためには、
薄膜形成装置を用いる（図１、特公平3-11630号公報参
照）。薄膜形成装置は、基台１の支持枠２に回転自在に
支持されかつ深さ1.0〜数10μｍの多数のインキセルを
表面に有する凹版ロール３と、凹版ロール３の表面に透
明導電膜インキを供給するインキ供給装置５と、支持枠
２に支持された凹版ロール３の周囲所定箇所に備えら
れ、凹版ロール３に供給された透明導電膜インキを凹版
ロール３表面に拡げてインキセル内に一定量の透明導電
膜インキを保持させるドクター６と、支持枠２の凹版ロ
ール３の下方に回転自在に支持されかつ凹版ロール３に
接触する凸部７を有して凹版ロール３表面にインキセル
内の透明導電膜インキを凸部７に転移させる印刷ロール
４と、支持枠２に支持され印刷ロール４と凹版ロール３
とを同期回転駆動する駆動装置８と、基台１上に印刷ロ
ール４に接触する印刷位置Ａと印刷ロール４から離れた
退避位置Ｂ、Ｃとの間で移動可能でかつ被印刷体を載置
した定盤９と、定盤９を上記両位置間で移動させる被印
刷体駆動装置１０と、印刷ロール４の回転と定盤９の退
避位置Ｂ、Ｃから印刷位置Ａへの移動とを制御して印刷
ロール４の凸部７に転移させた透明導電膜インキを被印
刷体に印刷させる制御装置（図示せず）とからなるよう
に構成されている。To form a transparent conductive film by printing,
A thin film forming apparatus is used (see FIG. 1, Japanese Patent Publication No. 3-11630). The thin film forming apparatus supplies an intaglio roll 3 rotatably supported by a support frame 2 of a base 1 and having a large number of ink cells with a depth of 1.0 to several tens of μm on the surface, and a transparent conductive film ink on the surface of the intaglio roll 3. The ink supply device 5 and the intaglio roll 3 supported by the support frame 2 are provided at predetermined positions around the intaglio roll 3, and the transparent conductive film ink supplied to the intaglio roll 3 is spread on the surface of the intaglio roll 3 and a fixed amount of ink is supplied in the ink cell. A transparent conductive film in an ink cell is provided on the surface of the intaglio roll 3 by having a doctor 6 for holding the transparent conductive film ink and a convex portion 7 rotatably supported below the intaglio roll 3 of the support frame 2 and contacting the intaglio roll 3. The printing roll 4 that transfers the film ink to the convex portion 7, the printing roll 4 and the intaglio roll 3 that are supported by the support frame 2.
And a drive device 8 for synchronously driving and a print position A on the base 1 which is in contact with the print roll 4 and retractable positions B and C apart from the print roll 4 and on which a printing medium is placed. The mounted platen 9, the printing medium drive device 10 for moving the platen 9 between the two positions, the rotation of the printing roll 4, and the movement of the platen 9 from the retracted positions B and C to the printing position A. It is configured to include a control device (not shown) for printing the transparent conductive film ink which is controlled and transferred to the convex portion 7 of the printing roll 4 on the printing medium.
【００１５】凹版ロールに形成されるインキセルの形状
は、通常のインキセル形状である亀甲、メッシュなどの
ほか、溝状であってもよい。The shape of the ink cell formed on the intaglio roll may be a groove shape other than the usual ink cell shape, such as a hexagonal shell or a mesh.
【００１６】表示部あるいは入力部を形成したい箇所で
は、凹版ロールのインキセルの深度あるいはインキセル
のピッチを小さくし、膜厚が小さい透明導電膜を形成す
る。また、引き回し回路部を形成したい箇所では、凹版
ロールのインキセルの深度あるいはインキセルのピッチ
を大きくし、膜厚が大きい透明導電膜を形成する。At a place where a display portion or an input portion is desired to be formed, the depth of ink cells of the intaglio roll or the pitch of ink cells is reduced to form a transparent conductive film having a small film thickness. In addition, at the location where the leading circuit portion is desired to be formed, the depth of the ink cells of the intaglio roll or the pitch of the ink cells is increased to form a transparent conductive film having a large film thickness.
【００１７】インキセルの深度は、2〜50μmが好まし
く、2μmに満たない場合、透明導電膜は薄くピンホール
発生の恐れがある。また、50μmを越える場合、透明導
電膜インキ中に占める化合物の量を必然的に少なくする
必要があり、印刷形成後の焼成工程で膜の収縮が著し
く、内部歪みを有した膜となる。The depth of the ink cell is preferably from 2 to 50 μm, and if it is less than 2 μm, the transparent conductive film is thin and there is a risk of pinholes. On the other hand, when it exceeds 50 μm, the amount of the compound occupied in the transparent conductive film ink needs to be inevitably reduced, and the film shrinks remarkably in the baking step after print formation, resulting in a film having internal strain.
【００１８】あるいは、溝のピッチを細かくすることで
薄い透明導電膜を形成し、溝のピッチを荒くすることで
厚い透明導電膜を形成することができる。Alternatively, a thin transparent conductive film can be formed by making the pitch of the grooves fine, and a thick transparent conductive film can be formed by making the pitch of the grooves rough.
【００１９】また、表示部あるいは入力部と、引き回し
回路部とでは、透明導電膜の厚みが異なる。表示部ある
いは入力部と、引き回し回路部との境界部分において、
透明導電膜の厚みが段差があるように急激に変化するも
のであると、膜歪みによりクラックが生じる恐れがあ
る。したがって、膜厚が徐々に変化するように、インキ
セルの大きさあるいは深さを段階的に徐々に変化させて
透明導電膜を設けるとよい。In addition, the thickness of the transparent conductive film is different between the display section or the input section and the routing circuit section. At the boundary between the display or input section and the routing circuit section,
If the thickness of the transparent conductive film changes rapidly such that there is a step, cracks may occur due to film strain. Therefore, the size or depth of the ink cell may be gradually changed stepwise so that the transparent conductive film is provided so that the film thickness gradually changes.
【００２０】透明導電膜インキは、有機金属化合物と溶
剤と添加剤とからなる。The transparent conductive film ink comprises an organic metal compound, a solvent and an additive.
【００２１】有機金属化合物としては、インジウムやス
ズなどの有機酸塩（キレート化合物を含む）やアルコラ
ートなどの金属アルコキシドなどを用いるとよい。溶剤
としては、メチルアルコール、エチルアルコールなどの
アルコール、エーテル、ケトン、エステル、グリコー
ル、カルビトールなどの有機溶剤を用いるとよい。添加
剤としては、安定化剤として作用するアセチルアセト
ン、塩酸、酢酸などの酸、カルボキシメチルセルロース
（ＣＭＣ）、ニトロセルロースなどを用いるとよい。As the organic metal compound, organic acid salts (including chelate compounds) such as indium and tin, and metal alkoxides such as alcoholate may be used. As a solvent, an organic solvent such as an alcohol such as methyl alcohol or ethyl alcohol, an ether, a ketone, an ester, a glycol, or carbitol may be used. As the additive, acetylacetone, an acid such as hydrochloric acid or acetic acid, which acts as a stabilizer, carboxymethylcellulose (CMC), nitrocellulose, or the like may be used.
【００２２】透明導電膜インキの粘度は、5〜500C.p.に
調製されたものを使用するとよい。5C.p.未満の場合、
透明導電膜は島構造となり、パターンが得られなかった
り、所定の膜厚が得られなかったりする。500C.p.より
大きい場合、透明導電膜がポーラスとなり、膜の緻密性
に欠けるなどの問題が発生する。The viscosity of the transparent conductive film ink is preferably 5 to 500 C.p. If less than 5 C.p.,
The transparent conductive film has an island structure, and thus a pattern cannot be obtained or a predetermined film thickness cannot be obtained. If it is larger than 500 C.p., the transparent conductive film becomes porous, and problems such as lack of denseness of the film occur.
【００２３】[0023]
【作用】フラットディスプレイやタッチパネルの表示部
あるいは入力部と対応する凹版ロール上のインキセルの
深度を大きくし、引き回し部に対応する凹版ロール上の
インキセルの深度を小さくすることで、印刷形成された
各部の膜厚を制御することができる。[Function] Each part formed by printing is formed by increasing the depth of the ink cell on the intaglio roll corresponding to the display part or input part of the flat display or touch panel and decreasing the depth of the ink cell on the intaglio roll corresponding to the routing part. The film thickness of can be controlled.
【００２４】インキセルの深度を深くすることにより、
透明導電膜の厚みは大きいものとなり、導電性が高くな
る。インキセルの深度を浅くすることにより、透明導電
膜の厚みは小さいものとなり、抵抗値が高くなる。ま
た、インキセルの溝のピッチを細かくすることで薄い透
明導電膜を形成し、溝のピッチを荒くすることで厚い透
明導電膜を形成することができる。また、インキセルの
大きさを変化させることによっても同様の作用を得るこ
とができる。By increasing the depth of the ink cell,
The thickness of the transparent conductive film is large and the conductivity is high. By making the depth of the ink cell shallow, the thickness of the transparent conductive film becomes small and the resistance value becomes high. Also, a thin transparent conductive film can be formed by making the pitch of the grooves of the ink cell fine, and a thick transparent conductive film can be formed by making the pitch of the grooves rough. Further, the same effect can be obtained by changing the size of the ink cell.
【００２５】[0025]
実施例１ 凹版として、ピッチ0.100mm、凹凸ギャップを１／４の
万線の凹版ロールを用いた。透明導電膜インキとして
は、オクチル酸スズと２エチルヘキサン酸インジウムを
原子量比でＳｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ）＝１／５となるよう
に、メチルアルコール30重量部、エチレングリコール50
重量部に混合したものを用いた。Example 1 As the intaglio plate, a line intaglio roll having a pitch of 0.100 mm and a ridge and groove gap of 1/4 was used. As the transparent conductive film ink, 30 parts by weight of methyl alcohol and 50 parts of ethylene glycol were used so that tin octylate and indium 2-ethylhexanoate were in an atomic ratio of Sn / (In + Sn) = 1/5.
What was mixed with the weight part was used.
【００２６】まず、凹版ロールのタッチパネルの入力部
に対応する部分のインキセルを深度を5μｍ、引き回し
部に対応する部分のインキセルの深度を20μｍに調整し
た。凹版ロールを薄膜形成装置（日本写真印刷株式会社
製：オングストローマー（登録商標）インライン型）に
取り付け、上記の透明導電膜インキをSiO2コートしたソ
ーダガラス基板上に塗布した。このガラス基板を85℃の
熱風循環式オーブン中で20分置いて予備乾燥を行った
後、真空パージ式ボックス炉中で酸素流量2リットル／
分、昇温速度15℃／分で500℃まで昇温した。このまま3
0分保って完全に膜を酸化した後、真空ポンプにて一旦
炉内を減圧にした。ここへ水素を3体積％含む窒素で充
填し、1時間保ったのち、加熱を止め室温まで徐冷して
透明導電膜を得た。First, the depth of the ink cell in the portion corresponding to the input portion of the intaglio roll touch panel was adjusted to 5 μm, and the depth of the ink cell in the portion corresponding to the leading portion was adjusted to 20 μm. The intaglio roll was attached to a thin film forming apparatus (manufactured by Nissha Printing Co., Ltd .: Angstromer (registered trademark) in-line type), and the transparent conductive film ink was applied onto a SiO 2 coated soda glass substrate. This glass substrate was placed in a hot air circulation type oven at 85 ° C for 20 minutes for preliminary drying, and then the oxygen flow rate was 2 liters /
The temperature was raised to 500 ° C at a heating rate of 15 ° C / min. As it is 3
After being kept for 0 minute to completely oxidize the film, the inside of the furnace was temporarily depressurized by a vacuum pump. Nitrogen containing 3% by volume of hydrogen was charged therein, and after keeping it for 1 hour, heating was stopped and the mixture was gradually cooled to room temperature to obtain a transparent conductive film.
【００２７】このようにして得られた透明導電ガラス
は、入力部が、シート抵抗800Ω／□、透過率（550nm）
92％、引き回し部が、シート抵抗80Ω／□、透過率（55
0nm）82％の均一性に優れた透明導電膜を有するもので
あった。In the transparent conductive glass thus obtained, the input portion has a sheet resistance of 800 Ω / □ and a transmittance (550 nm).
92%, the wiring part has a sheet resistance of 80Ω / □, transmittance (55
It had a transparent conductive film having an excellent uniformity of 0%) of 82%.
【００２８】実施例２ 凹版ロールを、セグメント方式の液晶パネルの表示部に
対応する部分のインキセルの深度を8μｍ、引き回し部
に対応する部分のインキセルの深度を25μｍに調整し
た。この凹版ロールを用い、実施例１と同様にして透明
導電ガラスを得た。Example 2 In the intaglio roll, the depth of the ink cell in the portion corresponding to the display portion of the segment type liquid crystal panel was adjusted to 8 μm, and the depth of the ink cell in the portion corresponding to the leading portion was adjusted to 25 μm. Using this intaglio roll, a transparent conductive glass was obtained in the same manner as in Example 1.
【００２９】このようにして得られた透明導電ガラス
は、表示部が、シート抵抗600Ω／□、透過率（550nm）
90％、引き回し部が、シート抵抗100Ω／□、透過率（5
50nm）79％の均一性に優れた透明導電膜を有するもので
あった。In the transparent conductive glass thus obtained, the display portion has a sheet resistance of 600 Ω / □ and a transmittance (550 nm).
90%, routing part has sheet resistance 100Ω / □, transmittance (5
50 nm) and a transparent conductive film having an excellent uniformity of 79%.
【００３０】[0030]
【発明の効果】この発明の透明導電ガラスは、上記のよ
うに構成されたものであるので、次のような優れた効果
を有する。Since the transparent conductive glass of the present invention is constituted as described above, it has the following excellent effects.
【００３１】表示部あるいは入力部に相当する部分は、
インキセルの深度あるいはインキセルのピッチが小さい
凹版ロールで印刷され、引き回し回路部に相当する部分
はインキセルの深度あるいはインキセルのピッチが大き
い凹版ロールで印刷されているので、透明導電ガラスの
表示部あるいは入力部よりも、引き回し回路部の方が、
透明導電膜の膜厚が大きくなり、導電性が高いものであ
る。The part corresponding to the display part or the input part is
Printed with an intaglio roll with a small ink cell depth or ink cell pitch, and the part corresponding to the routing circuit is printed with an intaglio roll with a large ink cell depth or ink cell pitch. Than the routing circuit,
The film thickness of the transparent conductive film is increased and the conductivity is high.
【図１】この発明の透明導電ガラスの製造に用いること
のできる薄膜形成装置を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a thin film forming apparatus that can be used for producing the transparent conductive glass of the present invention.
１ 基台 ２ 支持枠 ３ 凹版ロール ４ 印刷ロール ５ インキ供給装置 ６ ドクター ７ 凸部 ８ 駆動装置 ９ 定盤 １０ 被印刷体駆動装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 Support frame 3 Intaglio roll 4 Printing roll 5 Ink supply device 6 Doctor 7 Convex part 8 Driving device 9 Surface plate 10 Printing medium driving device
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【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成６年１月１３日[Submission date] January 13, 1994
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１６[Correction target item name] 0016
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１６】表示部あるいは入力部を形成したい箇所で
は、凹版ロールのインキセルの深度あるいはインキセル
のピッチを小さくし、膜厚の薄い透明導電膜を形成す
る。また、引き回し回路部を形成したい箇所では、凹版
ロールのインキセルの深度あるいはインキセルのピッチ
を大きくし、膜厚の厚い透明導電膜を形成する。At a place where a display portion or an input portion is desired to be formed, the depth of ink cells of the intaglio roll or the pitch of ink cells is reduced to form a thin transparent conductive film. In addition, at the location where the routing circuit portion is desired to be formed, the depth of the ink cells of the intaglio roll or the pitch of the ink cells is increased to form a thick transparent conductive film.
【手続補正２】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１７[Correction target item name] 0017
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１７】インキセルの深度は、２〜５０μｍが好ま
しく、２μｍに満たない場合、透明導電膜は薄くピンホ
ール発生の恐れがある。また、５０μｍを越える場合、
透明導電膜インキ中に占める化合物の量を必然的に少な
くする必要があり、印刷形成後の焼成工程で膜の収縮が
著しく、内部歪みを有した膜となりやすい。The depth of the ink cell is preferably 2 to 50 μm, and if it is less than 2 μm, the transparent conductive film is thin and there is a risk of pinholes. If it exceeds 50 μm,
It is necessary to inevitably reduce the amount of the compound occupying in the transparent conductive film ink, and the film shrinks remarkably in the baking step after print formation, and the film tends to have internal strain.
【手続補正３】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００２４[Name of item to be corrected] 0024
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００２４】インキセルの深度を深くすることにより、
透明導電膜の厚みは大きいものとなり、導電性が高くな
る。インキセルの深度を浅くすることにより、透明導電
膜の厚みは小さいものとなり、抵抗値が高くなる。ま
た、インキセルの溝のピッチを細かくすることで薄い透
明導電膜を形成し、溝のピッチを荒くすることで厚い透
明導電膜を形成することができる。また、インキセルの
大きさを変化させることによっても同様の作用を得るこ
とは当然である。By increasing the depth of the ink cell,
The thickness of the transparent conductive film is large and the conductivity is high. By making the depth of the ink cell shallow, the thickness of the transparent conductive film becomes small and the resistance value becomes high. Also, a thin transparent conductive film can be formed by making the pitch of the grooves of the ink cell fine, and a thick transparent conductive film can be formed by making the pitch of the grooves rough. Further, it is natural that the same effect can be obtained by changing the size of the ink cell.
【手続補正４】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００２６[Correction target item name] 0026
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００２６】まず、凹版ロールのタッチパネルの入力部
に対応する部分のインキセルを深度を５μｍ、引き回し
部に対応する部分のインキセルの深度を２０μｍに調整
した凹版ロールを薄膜形成装置（日本写真印刷株式会社
製：オングストローマー（登録商標）インライン型）に
取り付け、上記の透明導電膜インキをＳｉＯ２コートし
たソーダガラス基板上に塗布した。このガラス基板を８
５℃の熱風循環式オーブン中で２０分置いて予備乾燥を
行った後、真空パージ式ボックス炉中で酸素流量２リッ
トル／分、昇温速度１５℃／分で５００℃まで昇温し
た。このまま３０分保って完全に膜を酸化した後、真空
ポンプにて一旦炉内を減圧にした。ここへ水素を３体積
％含む窒素で充填し、１時間保ったのち、加熱を止め室
温まで徐冷して透明導電膜を得た。First, the depth of the ink cell in the part corresponding to the input part of the touch panel of the intaglio roll is adjusted to 5 μm, and the depth of the ink cell in the part corresponding to the leading part is adjusted to 20 μm.
The intaglio roll thus prepared was attached to a thin film forming apparatus (manufactured by Nissha Printing Co., Ltd .: Angstromer (registered trademark) in-line type), and the transparent conductive film ink was applied onto a soda glass substrate coated with SiO 2 . This glass substrate 8
After being placed in a hot air circulation type oven at 5 ° C. for 20 minutes for preliminary drying, the temperature was raised to 500 ° C. in a vacuum purge type box furnace at an oxygen flow rate of 2 liters / minute and a heating rate of 15 ° C./minute. After keeping as it was for 30 minutes to completely oxidize the film, the inside of the furnace was once depressurized by a vacuum pump. This was filled with nitrogen containing 3% by volume of hydrogen, kept for 1 hour, then stopped heating and gradually cooled to room temperature to obtain a transparent conductive film.
【手続補正５】[Procedure Amendment 5]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００３１[Correction target item name] 0031
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００３１】表示部あるいは入力部に相当する部分は、
インキセルの深度あるいはインキセルのピッチが小さい
凹版ロールで印刷され、引き回し回路部に相当する部分
はインキセルの深度あるいはインキセルのピッチが大き
い凹版ロールで印刷されているので、表示部あるいは入
力部の膜厚が薄くなり透過率に優れ、前記の如く、一基
板の内で、必要な特性を調整できる安価な製造方法であ
る。一方、透明導電ガラスの表示部あるいは入力部より
も、引き回し回路部の方が、透明導電膜の膜厚が厚くな
り、面抵抗値が低く調整できる。The part corresponding to the display part or the input part is
Pitch depth or Inkiseru of Inkiseru are printed in a small intaglio roll, the portion corresponding to the routing circuit portion is printed with a large intaglio roll pitch depth or Inkiseru of Inkiseru, the display unit or the input
Since the film thickness of the force part is thin and the transmittance is excellent,
It is an inexpensive manufacturing method that can adjust the necessary characteristics within the plate.
It On the other hand, than the display unit or the input unit of the transparent conductive glass, towards the routing circuit section, it thicker the film thickness of the transparent conductive film
The surface resistance can be adjusted to a low value .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂根 正恭 京都府京都市中京区壬生花井町３番地 日 本写真印刷株式会社内 (72)発明者 大栢 伸次 京都府京都市中京区壬生花井町３番地 日 本写真印刷株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Masayasu Sakane, 3 Mibu Hanai-cho, Nakagyo-ku, Kyoto City, Kyoto Prefecture Nihon Photo Printing Co., Ltd. Address Nihon Photo Printing Co., Ltd.
Claims (2)
深さ1.0〜数10μｍの多数のインキセルを表面に有する
凹版ロールと、凹版ロールの表面に透明導電膜インキを
供給するインキ供給装置と、支持枠に支持された凹版ロ
ールの周囲所定箇所に備えられ、凹版ロールに供給され
た透明導電膜インキを凹版ロール表面に拡げてインキセ
ル内に一定量の透明導電膜インキを保持させるドクター
と、支持枠の凹版ロールの下方に回転自在に支持されか
つ凹版ロールに接触する凸部を有して凹版ロール表面に
インキセル内の透明導電膜インキを凸部に転移させる印
刷ロールと、支持枠に支持され印刷ロールと凹版ロール
とを同期回転駆動する駆動装置と、基台上に印刷ロール
に接触する印刷位置Ａと印刷ロールから離れた退避位置
Ｂ、Ｃとの間で移動可能でかつ被印刷体を載置した定盤
と、定盤を上記両位置間で移動させる被印刷体駆動装置
と、印刷ロールの回転と定盤の退避位置Ｂ、Ｃから印刷
位置Ａへの移動とを制御して印刷ロールの凸部に転移さ
せた透明導電膜インキを被印刷体に印刷させる制御装置
とからなる薄膜形成装置を用い、インキセルの深度ある
いはインキセルのピッチが小さい凹版ロールで表示部あ
るいは入力部が形成され、インキセルの深度あるいはイ
ンキセルのピッチが大きい凹版ロールで引き回し回路部
が形成されていることを特徴とする透明導電ガラス。1. An intaglio roll rotatably supported by a support frame of a base and having on its surface a large number of ink cells having a depth of 1.0 to several tens of μm, and an ink supply device for supplying a transparent conductive film ink to the surface of the intaglio roll. And a doctor that is provided at a predetermined position around the intaglio roll supported by the support frame, spreads the transparent conductive film ink supplied to the intaglio roll on the surface of the intaglio roll, and holds a certain amount of the transparent conductive film ink in the ink cell. , A printing roll that has a convex portion that is rotatably supported below the intaglio roll of the support frame and that contacts the intaglio roll and that transfers the transparent conductive film ink in the ink cell to the convex portion on the surface of the intaglio roll, and the support frame It is possible to move between a drive device that is supported and drives the printing roll and the intaglio roll to rotate synchronously, and a printing position A that is in contact with the printing roll on the base and retreat positions B and C that are separated from the printing roll. And a platen on which the substrate is placed, a device for driving the platen that moves the platen between the two positions, rotation of the printing roll, and movement of the platen from the retracted positions B and C to the printing position A. A thin film forming device consisting of a control device for controlling the transparent conductive film ink transferred to the convex part of the printing roll and printing it on the material to be printed using an intaglio roll with a small ink cell depth or a small ink cell pitch. Alternatively, the transparent conductive glass is characterized in that an input portion is formed and a drawing circuit portion is formed by an intaglio roll having a large ink cell depth or a large ink cell pitch.
部との透明導電膜の厚みが異なる境界部分で、凹版ロー
ルのインキセルの深度あるいはインキセルのピッチの変
化が徐々に行われるものである請求項１記載の透明導電
ガラス。2. The depth of the ink cell of the intaglio roll or the pitch of the ink cell is gradually changed at a boundary portion where the thickness of the transparent conductive film between the display section or the input section and the routing circuit section is different. 1. The transparent conductive glass according to 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9869693A JPH06287027A (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Transparent electrically conductive glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9869693A JPH06287027A (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Transparent electrically conductive glass |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06287027A true JPH06287027A (en) | 1994-10-11 |
Family
ID=14226676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9869693A Withdrawn JPH06287027A (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Transparent electrically conductive glass |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06287027A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853446A (en) * | 1996-04-16 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Method for forming glass rib structures |
| CN107442945A (en) * | 2017-09-04 | 2017-12-08 | 武汉帝尔激光科技股份有限公司 | A kind of membrane laser carving equipment |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP9869693A patent/JPH06287027A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853446A (en) * | 1996-04-16 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Method for forming glass rib structures |
| CN107442945A (en) * | 2017-09-04 | 2017-12-08 | 武汉帝尔激光科技股份有限公司 | A kind of membrane laser carving equipment |
| CN107442945B (en) * | 2017-09-04 | 2019-04-19 | 武汉帝尔激光科技股份有限公司 | A kind of membrane laser carving equipment |
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