JPH06282821A - Composite type thin-film magnetic head and manufacture thereof - Google Patents

Composite type thin-film magnetic head and manufacture thereof

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JPH06282821A
JPH06282821A JP6838693A JP6838693A JPH06282821A JP H06282821 A JPH06282821 A JP H06282821A JP 6838693 A JP6838693 A JP 6838693A JP 6838693 A JP6838693 A JP 6838693A JP H06282821 A JPH06282821 A JP H06282821A
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Japan
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yoke
magnetic head
film magnetic
main surface
thin film
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JP6838693A
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Japanese (ja)
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Nobuyuki Muratani
伸幸 村谷
Hiroshi Suzuki
宏 鈴木
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Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

PURPOSE:To eliminate a leakage of a magnetic flux from a lower yoke of a head and thereby to keep a recording characteristic sufficient by method wherein the lateral side part of a non-magnetic layer is made vertical to the main surface of a ferrite base and, while the depth of the nonmagnetic layer is specified, the position of a gap depth is made fixed irrespective of the depth of this later. CONSTITUTION:An SiO2 insulation film 3 to be a first gap G1 is formed on a magnetic ferrite base 1 and a second yoke 4 formed of Ni-Fe, etc., is provided thereon and covered with a trapezoidal insulation layer 5. Inside the layer 5, a bias lead wire 6 and an MR element 8 are formed, a second gap G2 is formed in the front of the layer 5 and a third yoke 11a is provided thereon. In the rear of the yoke 4, an insulation layer 25 in the same shape is formed, a coil 7 is provided inside this layer and a first yoke 11b of Ni-Fe being connected magnetically with the yoke 4 is formed thereon. Between the yoke 4 and the base 1, besides, a nonmagnetic layer 3 of which a depth (h) from the main surface of the base 1 is 15 to 50mum and which is constituted of glass or the like is formed and thereby a leakage of a magnetic flux is checked.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、薄膜磁気ヘッドに関
し、同一基板上に再生用と記録用、再生用と再生用およ
び記録用と記録用の薄膜磁気ヘッドを形成した複合型薄
膜磁気ヘッドの構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head, and more particularly to a composite thin film magnetic head having thin film magnetic heads for reproducing and recording, reproducing and reproducing and recording and recording formed on the same substrate. It is about structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、磁気記録の高度化に伴い、基
板上に磁気ヘッドを形成する薄膜磁気ヘッドが多く使用
されてきている。また、近年においては、再生用の薄膜
磁気ヘッドと記録用の薄膜磁気ヘッド、再生用の薄膜磁
気ヘッド同士あるいは記録用の薄膜磁気ヘッド同士を同
一基板上に形成した複合型薄膜磁気ヘッドの開発が進め
られてきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, with the advancement of magnetic recording, a thin film magnetic head for forming a magnetic head on a substrate has been widely used. Further, in recent years, development of a thin film magnetic head for reproduction and a thin film magnetic head for recording, a thin film magnetic head for reproduction or a composite thin film magnetic head in which thin film magnetic heads for recording are formed on the same substrate has been developed. It is being advanced.

【0003】ここで、図11を参照して、従来の複合型
薄膜磁気ヘッドの一例について説明する。図11は、従
来の複合型薄膜磁気ヘッドの構造を示す断面図である。
Here, an example of a conventional composite type thin film magnetic head will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a sectional view showing the structure of a conventional composite type thin film magnetic head.

【0004】図11においては、再生用の薄膜磁気ヘッ
ドと記録用の薄膜磁気ヘッドとが同一基板上に形成され
た複合型薄膜磁気ヘッドが示されている。
FIG. 11 shows a composite type thin film magnetic head in which a thin film magnetic head for reproduction and a thin film magnetic head for recording are formed on the same substrate.

【0005】図11を参照して、Mn−Znフェライ
ト,Ni−Znフェライトなどからなる磁性フェライト
基板1の上に再生用薄膜磁気ヘッド100と、この再生
用薄膜磁気ヘッド100の後方に記録用薄膜磁気ヘッド
200とが形成されている。
Referring to FIG. 11, a reproducing thin film magnetic head 100 is provided on a magnetic ferrite substrate 1 made of Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite, etc., and a recording thin film is provided behind the reproducing thin film magnetic head 100. The magnetic head 200 is formed.

【0006】磁性フェライト基板1の上に、第1のギャ
ップG1を形成するため、SiO2などからなる絶縁膜
3が形成されている。この絶縁膜3の上には、Ni−F
e,FeAlSi,アモルファス(Co−Zr)などか
らなる第2ヨーク4が形成されている。この第2ヨーク
4の上面には、断面が略台形形状をなす絶縁層5が形成
されている。この絶縁層5の内部には、バイアスリード
線6およびMR素子8が形成されている。絶縁層5は、
前方において第2のギャップG2を形成し、その上面に
上記MR素子18の略上方において所定のギャップが設
けられた第3ヨーク11aが形成されている。
An insulating film 3 made of SiO 2 or the like is formed on the magnetic ferrite substrate 1 to form the first gap G1. Ni-F is formed on the insulating film 3.
A second yoke 4 made of e, FeAlSi, amorphous (Co-Zr) or the like is formed. An insulating layer 5 having a substantially trapezoidal cross section is formed on the upper surface of the second yoke 4. A bias lead wire 6 and an MR element 8 are formed inside the insulating layer 5. The insulating layer 5 is
A second gap G2 is formed in the front, and a third yoke 11a having a predetermined gap is formed on the upper surface of the second gap G2 substantially above the MR element 18.

【0007】上述した第3ヨーク11a,第2ヨーク
4,絶縁層5,バイアスリード線6およびMR素子8に
より再生用薄膜磁気ヘッド100が構成されている。ま
た、第3ヨーク11a→第2ヨーク4の閉磁路を構成し
ている。
The above-mentioned third yoke 11a, second yoke 4, insulating layer 5, bias lead wire 6 and MR element 8 constitute a reproducing thin film magnetic head 100. In addition, a closed magnetic circuit of the third yoke 11a → the second yoke 4 is formed.

【0008】次に、第2ヨーク4の後方において、磁性
フェライト基板1の上に、断面が略台形形状の絶縁層2
5が形成されている。この絶縁層25の内部には、コイ
ル7が設けられている。絶縁層25の上面には、第2ヨ
ーク4と磁気的に接続されたNi−Fe,FeAlS
i,アモルファス(Co−Zr)などからなる第1ヨー
ク11bが設けられている。さらに、この第1ヨーク1
1bの上面には、パーマロイめっき膜12が形成されて
いる。以上、上述した第2ヨーク4,第1ヨーク11
b,磁性フェライト基板1,絶縁層25およびコイル7
により記録用薄膜磁気ヘッド200を構成する。
Next, behind the second yoke 4, the insulating layer 2 having a substantially trapezoidal cross section is formed on the magnetic ferrite substrate 1.
5 is formed. The coil 7 is provided inside the insulating layer 25. On the upper surface of the insulating layer 25, Ni—Fe, FeAlS magnetically connected to the second yoke 4 is formed.
A first yoke 11b made of i, amorphous (Co-Zr) or the like is provided. Furthermore, this first yoke 1
A permalloy plating film 12 is formed on the upper surface of 1b. As described above, the second yoke 4 and the first yoke 11 described above
b, magnetic ferrite substrate 1, insulating layer 25 and coil 7
Thus, the recording thin film magnetic head 200 is configured.

【0009】また、上述した第2ヨーク4→第1ヨーク
11bおよび磁性フェライト基板1により閉磁路を形成
している。
A closed magnetic circuit is formed by the above-mentioned second yoke 4 → first yoke 11b and the magnetic ferrite substrate 1.

【0010】また、磁性フェライト基板1には、第2ヨ
ーク4と磁性フェライト基板1間における磁束漏れを防
止し、磁気効率の低下を防止するために、ガラスなどの
非磁性体を充填した非磁性層2を有している。
The magnetic ferrite substrate 1 is made of non-magnetic material filled with a non-magnetic material such as glass in order to prevent magnetic flux leakage between the second yoke 4 and the magnetic ferrite substrate 1 and to prevent deterioration of magnetic efficiency. It has a layer 2.

【0011】一方、第3ヨーク3およびパーマロイめっ
き膜12の上面には、パッシベーション膜13が形成さ
れ、さらにこのパッシベーション膜13の上を平坦化
し、保護膜14がエポキシ系の接着剤などにより接着さ
れている。
On the other hand, a passivation film 13 is formed on the upper surfaces of the third yoke 3 and the permalloy plating film 12, the passivation film 13 is planarized, and a protective film 14 is adhered by an epoxy adhesive or the like. ing.

【0012】以上、説明した構造により、再生用薄膜磁
気ヘッド100および記録用薄膜磁気ヘッド200とを
有する薄膜磁気ヘッドが形成される。
With the structure described above, a thin film magnetic head having the reproducing thin film magnetic head 100 and the recording thin film magnetic head 200 is formed.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術による複合型薄膜磁気ヘッドによれば、以下に述
べるような問題点を有している。
However, the composite type thin film magnetic head according to the above-mentioned prior art has the following problems.

【0014】図12〜図14は、上記複合型薄膜磁気ヘ
ッドの問題点を示す断面図であり、図11中のHに示す
円内の領域の拡大断面図である。
12 to 14 are sectional views showing the problems of the composite type thin film magnetic head, and are enlarged sectional views of the area within the circle indicated by H in FIG.

【0015】まず、図12を参照して、非磁性層2がフ
ェライト基板1に設けられた溝1a内に十分に充填され
ず、フェライト基板1の主表面よりも低い位置に非磁性
層2の主表面が充填された場合、第2ヨーク4は、各々
の主表面に沿って形成されるために、段差部Dにおいて
第2ヨーク4に断線部分が生じてしまう。このために磁
気効率が低下してしまうという問題点があった。
First, referring to FIG. 12, the nonmagnetic layer 2 is not sufficiently filled in the groove 1a provided in the ferrite substrate 1, and the nonmagnetic layer 2 is formed at a position lower than the main surface of the ferrite substrate 1. When the main surface is filled, the second yoke 4 is formed along each main surface, so that a disconnection portion occurs in the second yoke 4 at the step portion D. Therefore, there is a problem that the magnetic efficiency is reduced.

【0016】次に、図13を参照して、フェライト基板
1の主表面と非磁性層2の主表面との段差が、比較的穏
やかな場合であっても、段差部Dにより、絶縁膜3の膜
厚が通常の膜厚(L2)に対して、薄くなってしまうた
め(L1)に、上述と同様に、この部分での磁束漏れに
よる磁気効率が低下してしまうという問題点があった。
次に、図14を参照して、溝1aに充填された非磁性層
2の主表面が、フェライト基板1の主表面よりも高くな
った場合を示している。この場合、非磁性層2がフェラ
イト基板1の主表面に盛上がった部分の距離L3のため
に、ギャップデプス“0”の位置がばらついてしまい、
磁気特性の出力が一定にならないという問題点があっ
た。
Next, referring to FIG. 13, even if the step between the main surface of ferrite substrate 1 and the main surface of non-magnetic layer 2 is relatively gentle, step portion D causes insulation film 3 to be formed. Since the film thickness of is smaller than the normal film thickness (L2) (L1), there is a problem that the magnetic efficiency due to magnetic flux leakage in this portion is reduced, as in the above. .
Next, with reference to FIG. 14, there is shown a case where the main surface of the non-magnetic layer 2 filled in the groove 1a is higher than the main surface of the ferrite substrate 1. In this case, the position of the gap depth “0” varies due to the distance L3 of the portion where the non-magnetic layer 2 is raised on the main surface of the ferrite substrate 1.
There was a problem that the output of magnetic characteristics was not constant.

【0017】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたもので、複合型薄膜磁気ヘッドの磁気効率の低
下をなくし、さらに所定の記録・再生出力を有する複合
型薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することを
目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and eliminates the decrease in magnetic efficiency of the composite thin film magnetic head, and further provides a composite thin film magnetic head having a predetermined recording / reproducing output and its manufacture. The purpose is to provide a method.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】この発明に基づいた複合
型薄膜磁気ヘッドにおいては、フェライト基板と、上記
フェライト基板と第1のギャップを形成するように、上
記フェライト基板に対して間隙をあけて積層された第1
ヨークとを有する第1の薄膜磁気ヘッドと、第2のギャ
ップを形成するように間隙をあけて積層された第2ヨー
クおよび第3ヨークとを有する第2の薄膜磁気ヘッドと
を積層した複合型薄膜磁気ヘッドであって、上記第1ヨ
ークおよび第2ヨークは、少なくとも部分的に同一の層
を共有し、上記フェライト基板は、その主表面から所定
の深さにかけて、内側面が上記主表面に対して垂直であ
りかつ底面が上記主表面に対して平行である溝の内部に
非磁性層を有している。
In a composite type thin film magnetic head according to the present invention, a ferrite substrate is provided with a gap from the ferrite substrate so as to form a first gap with the ferrite substrate. First stacked
Composite type in which a first thin film magnetic head having a yoke and a second thin film magnetic head having a second yoke and a third yoke that are laminated with a gap so as to form a second gap are laminated In the thin-film magnetic head, the first yoke and the second yoke share at least a part of the same layer, and the ferrite substrate has an inner surface on the main surface from the main surface to a predetermined depth. A non-magnetic layer is provided inside the groove which is perpendicular to the main surface and parallel to the main surface.

【0019】次に、この発明に基づいた複合型薄膜磁気
ヘッドにおいては、さらに好ましくは、上記溝の主表面
からの深さは15μm〜50μmの範囲であり、上記内
側面と上記底面とは半径10μm以下の円弧によって連
続的に結ばれている。
In the composite thin film magnetic head according to the present invention, more preferably, the depth of the groove from the main surface is in the range of 15 μm to 50 μm, and the inner side surface and the bottom surface have a radius. It is continuously connected by an arc of 10 μm or less.

【0020】次に、この発明に基づいた複合型薄膜磁気
ヘッドの製造方法においては、以下の工程を備えてい
る。
Next, the method of manufacturing a composite type thin film magnetic head according to the present invention includes the following steps.

【0021】ます、フェライト基板の主表面から50μ
mを超える深さを有し、内側面が上記主表面に対して垂
直であり、かつ底面が上記主表面に対して平行である溝
が形成される。その後、上記溝の内部に、上記溝の上記
底面からの高さが50μmを超えるように、非磁性体を
堆積させる。
First, 50μ from the main surface of the ferrite substrate
Grooves are formed having a depth of more than m, the inner surface being perpendicular to the main surface and the bottom surface being parallel to the main surface. Then, a nonmagnetic material is deposited inside the groove so that the height of the groove from the bottom surface exceeds 50 μm.

【0022】次に、上記溝の底面から上記主表面までの
高さおよび上記非磁性体の主表面までの高さが15μm
〜50μmとなるように、各主表面が同時に加工され
る。その後、上記フェライト基板の主表面および上記非
磁性体の主表面の上に、第1のギャップを形成するよう
に、上記フェライト基板に対して間隙をあけて積層され
た第1ヨークを有する第1の薄膜磁気ヘッドが形成され
る。
Next, the height from the bottom surface of the groove to the main surface and the height to the main surface of the nonmagnetic material are 15 μm.
Each main surface is simultaneously processed so as to have a thickness of ˜50 μm. Then, a first yoke having a first yoke that is laminated with a gap on the ferrite substrate so as to form a first gap on the main surface of the ferrite substrate and the main surface of the non-magnetic body. Thin film magnetic head is formed.

【0023】次に、第2のギャップを形成するように間
隙をあけて積層された上記第1ヨークと、少なくとも部
分的に同一の層を有する第2ヨークと、第3ヨークとを
有する第2の薄膜磁気ヘッドが形成される。
Next, a second yoke having the above-mentioned first yoke and a second yoke having the same layer at least partially as the second yoke, which are laminated with a gap so as to form a second gap, and a third yoke. Thin film magnetic head is formed.

【0024】[0024]

【作用】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッドおよ
びその製造方法によれば、非磁性層の側面部は、フェラ
イト基板の主表面に対して垂直となるように形成されて
いるため、主表面からの深さに関係なくギャップデプス
“0”の位置が一定となる。また、非磁性層の深さを1
5μm〜50μmの範囲内とすることにより、薄膜磁気
ヘッドの下部ヨークからの磁束の漏れを防止して、十分
な記録特性を保持しつつ、製造工程時におけるフェライ
ト基板へのクラックの発生を未然に防止することが可能
となる。
According to the composite type thin film magnetic head and the method of manufacturing the same according to the present invention, the side surface of the non-magnetic layer is formed so as to be perpendicular to the main surface of the ferrite substrate. The position of the gap depth “0” is constant regardless of the depth from. In addition, the depth of the non-magnetic layer is 1
By setting the thickness in the range of 5 μm to 50 μm, leakage of magnetic flux from the lower yoke of the thin film magnetic head is prevented, sufficient recording characteristics are maintained, and cracks are generated in the ferrite substrate during the manufacturing process. It becomes possible to prevent it.

【0025】また、フェライト基板と非磁性体とを同時
に加工することにより、フェライト基板と非磁性層の主
表面を一致させることができるため、フェライト基板の
主表面に形成される薄膜磁気ヘッドに悪影響を与えるこ
となく薄膜磁気ヘッドを形成することができる。また、
溝部の内側面と底面とを半径10μm以下の円弧によっ
て連続的に結合することにより、量産時に、フェライト
基板と非磁性体とを同時に加工する際15〜50μm以
内のばらつきがあっても、ギャップデプス“0”の位置
が一定となり、製造工程時における歩留りの向上を図る
ことが可能となる。
Further, by simultaneously processing the ferrite substrate and the non-magnetic material, the main surfaces of the ferrite substrate and the non-magnetic layer can be made to coincide with each other, which adversely affects the thin film magnetic head formed on the main surface of the ferrite substrate. A thin film magnetic head can be formed without applying Also,
By continuously connecting the inner side surface and the bottom surface of the groove portion with an arc having a radius of 10 μm or less, the gap depth can be reduced even when the ferrite substrate and the non-magnetic body are simultaneously processed during mass production, even if the variation is within 15 to 50 μm. The position of "0" becomes constant, and it is possible to improve the yield in the manufacturing process.

【0026】[0026]

【実施例】以下、この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘ
ッドの一実施例について説明する。図1は、この実施例
における複合型薄膜磁気ヘッドの平面図である。図2
は、図1中A−A線矢視断面図である。両図を参照し
て、Mn−Znフェライト,Ni−Znフェライトなど
からなる磁性フェライト基板1の上に再生用薄膜磁気ヘ
ッド100と、この再生用薄膜磁気ヘッド100の後方
に記録用薄膜磁気ヘッド200とが形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the composite type thin film magnetic head according to the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view of a composite type thin film magnetic head in this embodiment. Figure 2
FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG. Referring to both figures, a reproducing thin film magnetic head 100 is provided on a magnetic ferrite substrate 1 made of Mn—Zn ferrite, Ni—Zn ferrite, etc., and a recording thin film magnetic head 200 is provided behind the reproducing thin film magnetic head 100. And are formed.

【0027】磁性フェライト基板1の上に、第1のギャ
ップG1を形成するSiO2 などからなる絶縁膜3が形
成されている。この絶縁膜3の上には、Ni−Fe,F
eAlSi,アモルファス(Co−Zr)などからなる
第2ヨーク4が形成されている。この第2ヨーク4の上
には、断面が略台形形状をなす絶縁層5が形成されてい
る。この絶縁層5の内部には、バイアスリード線6およ
びMR素子8が形成されている。絶縁層5は、前方にお
いて第2のギャップG2を形成し、その上面に上記MR
素子8の略上方において所定のギャップが設けられた第
3ヨーク11aが形成されている。
On the magnetic ferrite substrate 1, an insulating film 3 made of SiO 2 or the like for forming the first gap G1 is formed. Ni-Fe, F is formed on the insulating film 3.
A second yoke 4 made of eAlSi, amorphous (Co-Zr) or the like is formed. An insulating layer 5 having a substantially trapezoidal cross section is formed on the second yoke 4. A bias lead wire 6 and an MR element 8 are formed inside the insulating layer 5. The insulating layer 5 forms a second gap G2 at the front, and the MR layer is formed on the upper surface of the second gap G2.
A third yoke 11a having a predetermined gap is formed substantially above the element 8.

【0028】上述した第3ヨーク11a,第2ヨーク
4,絶縁層5,バイアスリード線6およびMR素子8に
より再生用薄膜磁気ヘッド100を構成している。ま
た、第3ヨーク11a→第2ヨーク4の閉磁路を形成し
ている。
The above-mentioned third yoke 11a, second yoke 4, insulating layer 5, bias lead wire 6 and MR element 8 constitute a reproducing thin film magnetic head 100. In addition, a closed magnetic circuit of the third yoke 11a → the second yoke 4 is formed.

【0029】次に、第2ヨーク4の後方において、磁性
フェライト基板1の上に断面が略台形形状の絶縁層25
が形成されている。この絶縁層25の内部には、コイル
7が設けられている。絶縁層25の上面には、第2ヨー
ク4と磁気的に接続されたNi−Fe,FeAlSi,
アモルファス(Co−Zr)などからなる第1ヨーク1
1bが設けられている。さらに、この第1ヨーク11b
の上面には、パーマロイめっき膜12が形成されてい
る。以上、上述した第2ヨーク4,第1ヨーク11b磁
性フェライト基板1絶縁層25およびコイル7により記
録用の薄膜磁気ヘッド200を構成している。また、上
述した第2ヨーク4→第1ヨーク11bおよび磁性フェ
ライト基板1の閉磁路を形成する。
Next, behind the second yoke 4, an insulating layer 25 having a substantially trapezoidal cross section is formed on the magnetic ferrite substrate 1.
Are formed. The coil 7 is provided inside the insulating layer 25. On the upper surface of the insulating layer 25, Ni-Fe, FeAlSi, magnetically connected to the second yoke 4,
First yoke 1 made of amorphous (Co-Zr) or the like
1b is provided. Furthermore, this first yoke 11b
A permalloy plating film 12 is formed on the upper surface of the. As described above, the second yoke 4, the first yoke 11b, the magnetic ferrite substrate 1 insulating layer 25, and the coil 7 constitute the thin film magnetic head 200 for recording. Further, the closed magnetic circuit of the above-mentioned second yoke 4 → first yoke 11b and the magnetic ferrite substrate 1 is formed.

【0030】また、磁性フェライト基板1には、第2ヨ
ーク4と磁性フェライト基板1間における磁束漏れを防
止し、磁気効率の低下を防止するために内部にガラスな
どの非磁性体を充填した非磁性層2を有している。この
非磁性層2は、内側面がフェライト基板1の主表面に対
して垂直でありかつ底面がフェライト基板1の主表面に
対して平行である溝1aの内部に非磁性体が充填されて
いる。
The magnetic ferrite substrate 1 is filled with a non-magnetic material such as glass to prevent magnetic flux leakage between the second yoke 4 and the magnetic ferrite substrate 1 and to prevent deterioration of magnetic efficiency. It has a magnetic layer 2. The non-magnetic layer 2 is filled with a non-magnetic material inside a groove 1a whose inner surface is perpendicular to the main surface of the ferrite substrate 1 and whose bottom surface is parallel to the main surface of the ferrite substrate 1. .

【0031】この非磁性層2のフェライト基板1の主表
面からの深さhは、15μm〜50μmの範囲内に設定
されており、また、溝1aの内側面と底面とは、半径が
10μm(図中R)以下の円弧によって連続的に結ばれ
ている。
The depth h of the nonmagnetic layer 2 from the main surface of the ferrite substrate 1 is set within the range of 15 μm to 50 μm, and the inner side surface and the bottom surface of the groove 1a have a radius of 10 μm ( They are continuously connected by the following arcs R in the figure.

【0032】一方、第3ヨーク3およびパーマロイめっ
き膜12の上面には、パッシベーション膜13が形成さ
れ、さらに、このパッシベーション膜12の上には、保
護板14がエポキシ系の接着剤によって接着されてい
る。以上の構成により、再生用薄膜磁気ヘッド100と
記録用薄膜磁気ヘッド200とを有する薄膜磁気ヘッド
が構成されている。
On the other hand, a passivation film 13 is formed on the upper surfaces of the third yoke 3 and the permalloy plating film 12, and a protective plate 14 is adhered on the passivation film 12 with an epoxy adhesive. There is. With the above configuration, a thin film magnetic head having the reproducing thin film magnetic head 100 and the recording thin film magnetic head 200 is constituted.

【0033】次に、上記構成よりなる複合型薄膜磁気ヘ
ッドの製造工程について、図3ないし図5を参照して説
明する。図3ないし図5は、図2の断面に対応する断面
図である。
Next, a manufacturing process of the composite type thin film magnetic head having the above structure will be described with reference to FIGS. 3 to 5 are sectional views corresponding to the section of FIG.

【0034】まず、フェライト基板1に、幅(W)が1
40μmで、深さ(h)が95〜130μmの範囲であ
る溝1aを形成する。このとき、溝1aの内側面は、フ
ェライト基板1の主表面と垂直になるように形成し、ま
た内側面と底面との角度が10μm以下となるようなブ
レードを選択する。
First, on the ferrite substrate 1, the width (W) is 1
A groove 1a having a depth (h) of 40 μm and a range of 95 to 130 μm is formed. At this time, the inner surface of the groove 1a is formed so as to be perpendicular to the main surface of the ferrite substrate 1, and a blade is selected such that the angle between the inner surface and the bottom surface is 10 μm or less.

【0035】次に、図4を参照して、溝1aの内部に、
ガラスなどの非磁性体2を溝1aの底部から80〜11
5μm程度の高さにまで充填する。
Next, referring to FIG. 4, inside the groove 1a,
Insert the non-magnetic material 2 such as glass from the bottom of the groove 1a by 80 to 11
Fill up to a height of about 5 μm.

【0036】次に、図5を参照して、その後、フェライ
ト基板1および溝1a内部に充填された非磁性体2を同
時に約80μm研摩し、溝の深さが15〜50μmとな
るように加工を行なう。
Next, referring to FIG. 5, thereafter, the ferrite substrate 1 and the non-magnetic material 2 filled in the groove 1a are simultaneously polished by about 80 μm so that the depth of the groove becomes 15 to 50 μm. Do.

【0037】その後、このフェライト基板1の主表面上
に、記録用薄膜磁気ヘッド200のギャップとなるAl
2 3 またはSiO2 からなる所定形状の絶縁膜3を形
成する。次に、この絶縁膜3の上に、FeAlSiなど
の磁性材料を所定の形状に形成して、再生用薄膜磁気ヘ
ッド100の第2ヨーク4を形成する。その後、SiO
2 などからなる絶縁層5および絶縁層25を複数層形成
し、その間にAl,Al−Cu,Al−Siなどよりな
る再生用薄膜磁気ヘッドのバイアスリード6および記録
用薄膜磁気ヘッド200のヘッド用コイル7を形成す
る。その後、パーマロイ等を数百Å成膜しパターニング
することにより、再生用薄膜磁気ヘッド100のMR素
子8を形成する。
After that, on the main surface of the ferrite substrate 1, Al which will be the gap of the recording thin-film magnetic head 200 is formed.
An insulating film 3 made of 2 O 3 or SiO 2 and having a predetermined shape is formed. Next, a magnetic material such as FeAlSi is formed in a predetermined shape on the insulating film 3 to form the second yoke 4 of the reproducing thin film magnetic head 100. After that, SiO
For the head of the thin film magnetic head 200 for recording and the bias lead 6 of the thin film magnetic head for reproduction made of Al, Al-Cu, Al-Si, etc., in which a plurality of insulating layers 5 and 25 composed of 2 or the like are formed. The coil 7 is formed. After that, several hundred liters of permalloy or the like is formed and patterned to form the MR element 8 of the reproducing thin-film magnetic head 100.

【0038】次に、絶縁層5および絶縁層25の上面
に、パーマロイなどの磁性材料を約数千Åに形成して、
第3ヨーク11aと第1ヨーク11bを同時に形成す
る。その後、第1ヨーク11bの上面に、パーマロイ膜
12を数μm選択メッキ法により形成する。その後、再
生用薄膜磁気ヘッドの第3ヨーク11aおよび記録用薄
膜磁気ヘッドの第1ヨーク11b兼めっき下地膜を加工
する。
Next, a magnetic material such as permalloy is formed on the upper surfaces of the insulating layers 5 and 25 to a thickness of about several thousand Å,
The third yoke 11a and the first yoke 11b are formed simultaneously. Then, the permalloy film 12 is formed on the upper surface of the first yoke 11b by selective plating of several μm. After that, the third yoke 11a of the reproducing thin-film magnetic head and the first underlayer 11b of the recording thin-film magnetic head that also serves as the plating base film are processed.

【0039】次に、基板表面全面にパッシベーション膜
13をボンディングパッド部をメタルマスクなどで隠し
10〜30μmの厚さ形成する。その後、平坦化を行な
い、保護板14を接着剤15で接着する。その後、トラ
ック方向に1列に配列された複数のヘッドを一体として
ダイシングラインから切出し、円筒研摩、テープ研摩を
行なう。その後、各々ヘッドごとにチップ分断を行な
い、アナログおよびデジタルの記録・再生用薄膜磁気ヘ
ッドを備えた複合型薄膜磁気ヘッドが完成する。
Next, the passivation film 13 is formed on the entire surface of the substrate so as to have a thickness of 10 to 30 μm by hiding the bonding pad portion with a metal mask or the like. After that, flattening is performed, and the protective plate 14 is bonded with an adhesive 15. After that, a plurality of heads arranged in a row in the track direction are integrally cut out from the dicing line, and cylindrical polishing and tape polishing are performed. After that, chip division is performed for each head, and a composite type thin film magnetic head including analog and digital thin film magnetic heads for recording and reproducing is completed.

【0040】なお、溝1aの幅Wを、140μmとした
のは、この複合型薄膜磁気ヘッドの構造上、磁気記録媒
体である磁気テープに対し前方部に再生用薄膜磁気ヘッ
ド、後方部にディジタルの記録用薄膜磁気ヘッドを備え
るためであり、記録用薄膜磁気ヘッドの磁気回路形成上
必要な非磁性部の幅である。次に、溝1aの深さを15
〜50μmの範囲内で形成した理由について以下に述べ
る。
The width W of the groove 1a is set to 140 μm because of the structure of the composite type thin film magnetic head, the reproducing thin film magnetic head is located in the front part and the digital part is located in the rear part of the magnetic tape as the magnetic recording medium. This is because the thin film magnetic head for recording is provided and the width of the non-magnetic portion is necessary for forming the magnetic circuit of the thin film magnetic head for recording. Next, increase the depth of the groove 1a to 15
The reason for forming within the range of up to 50 μm will be described below.

【0041】まず、図6を参照して、溝1aの深さと、
再生出力(V)/記録電流(I)との関係を示す図であ
る。この図から、溝1aの深さが15μm以下になる
と、V/Iの値が小さくなり、DCCヘッドとしての機
能を果たさなくなることはわかる。また、溝1aの深さ
が15μm以上で、V/Iは一定となり、DCCヘッド
としての機能を十分果たすことが可能となることがわか
る。次に、溝1aの非磁性体の充填時に発生する応力
が、フェライト基板に対しどのように働いているかを計
算機シミュレーションにより、有限要素法を用いて溝1
aの深さをパラメータとして検討すると以下ようにな
る。
First, referring to FIG. 6, the depth of the groove 1a and
It is a figure which shows the relationship between reproduction output (V) / recording current (I). From this figure, it is understood that when the depth of the groove 1a is 15 μm or less, the value of V / I becomes small and the DCC head cannot function. Further, it is understood that when the depth of the groove 1a is 15 μm or more, V / I becomes constant and the function as a DCC head can be sufficiently fulfilled. Next, the finite element method is used by computer simulation to find out how the stress generated at the time of filling the groove 1a with the non-magnetic material acts on the ferrite substrate.
Considering the depth of a as a parameter, the result is as follows.

【0042】まず、図7を参照して、溝1aの深さが3
0μmで、溝1aの内部に非磁性体を充填した場合、フ
ェライト基板と非磁性体2との界面部Xには、5.2×
10 7 Paの応力が集中することになる。
First, referring to FIG. 7, the depth of the groove 1a is 3
When the inside of the groove 1a is filled with a non-magnetic material with a thickness of 0 μm,
At the interface X between the cellite substrate and the non-magnetic material 2, 5.2 ×
10 7The stress of Pa will be concentrated.

【0043】また、溝1aの深さが50μmの場合、非
磁性体2とフェライト基板1の界面部には、磁気記録媒
体との接触摺動面1cにまで、応力の集中範囲Xが広が
り、このときの応力値は、5.3×107 Paとなる。
When the depth of the groove 1a is 50 μm, the stress concentration range X extends to the contact sliding surface 1c with the magnetic recording medium at the interface between the non-magnetic body 2 and the ferrite substrate 1, The stress value at this time is 5.3 × 10 7 Pa.

【0044】以上、図7および図8の結果と、フェライ
ト基板の持つ抗折力12×107 Paから考えて、フェ
ライト基板内に発生する応力は1/2程度であるので、
フェライト基板は十分耐えることができる。しかし、溝
1aの深さが深くなっていくほど、応力値は大きくな
り、さらに接触摺動面1cに広がっていく傾向にある。
それに加え、実際に、溝1aの深さが50μmより深い
基板を用いて上記複合型薄膜磁気ヘッドを作成した場
合、図9に示すように、磁気記録媒体との接触摺動面1
cの円筒研削加工時に、この接触摺動面1cにクラック
Cが発生するという不具合が発生する。
Considering the results of FIGS. 7 and 8 and the transverse rupture force of the ferrite substrate of 12 × 10 7 Pa, the stress generated in the ferrite substrate is about ½.
Ferrite substrates can withstand well. However, as the depth of the groove 1a becomes deeper, the stress value tends to increase and further spread to the contact sliding surface 1c.
In addition, when the composite type thin film magnetic head is actually manufactured using a substrate having a groove 1a deeper than 50 μm, as shown in FIG.
When the cylindrical grinding of c is performed, a problem that a crack C occurs on the contact sliding surface 1c occurs.

【0045】これは、非磁性体の充填時に発生している
応力に、円筒研摩加工時の力が加わるために、フェライ
ト基板の抗折力を上回っていると考えられる。これによ
り、非磁性体の充填時の応力は、円筒研摩加工時の応力
が加わってもフェライト基板の抗折力を上回らず、応力
集中範囲が接触摺動面1cにないような構造にする必要
がある。よって、溝1cの深さは50μm以下が望まし
い。よって、溝1cの深さを15〜50μmとすること
により、磁気効率の低下がなく、クラック等の発生がな
く安定に円筒研摩加工等を行なうことのできる複合型薄
膜磁気ヘッドを提供することが可能となる。また、図1
0に示すように、溝1cの内側面がフェライト基板1の
主表面に対して垂直に形成されているために、フェライ
ト基板1と非磁性体層2の加工を同時に行なうことによ
っても、その加工量が図に示すようにA,B,Cであっ
ても、ギャップ深さ“0”の位置A′,B′,C′の位
置は変化しないため、磁気特性の出力にばらつきが生じ
るということがなくなり、高性能の複合型薄膜磁気ヘッ
ドを提供することが可能となる。
It is considered that this is because the stress generated during the filling of the non-magnetic material is added with the force during the cylindrical polishing, and therefore exceeds the transverse rupture force of the ferrite substrate. As a result, the stress at the time of filling with the non-magnetic material does not exceed the transverse rupture force of the ferrite substrate even when the stress at the time of cylindrical polishing is applied, and the stress concentration range needs to be in the contact sliding surface 1c. There is. Therefore, the depth of the groove 1c is preferably 50 μm or less. Therefore, by setting the depth of the groove 1c to 15 to 50 μm, it is possible to provide a composite type thin film magnetic head capable of stably performing cylindrical polishing or the like without lowering the magnetic efficiency and without causing cracks or the like. It will be possible. Also, FIG.
As shown in 0, since the inner surface of the groove 1c is formed perpendicularly to the main surface of the ferrite substrate 1, it is possible to process the ferrite substrate 1 and the nonmagnetic layer 2 at the same time. Even if the amounts are A, B, and C as shown in the figure, the positions of the gap depth "0", A ', B', and C ', do not change, so that the magnetic characteristic output varies. It becomes possible to provide a high performance composite type thin film magnetic head.

【0046】[0046]

【発明の効果】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッ
ドおよびその製造方法によれば、非磁性層の側面部はフ
ェライト基板の主表面に対して垂直となるように形成さ
れているため、主表面からの深さに関係なくギャップデ
プス“0”の位置が一定となるため、磁気特性の出力を
安定させることが可能となる。
According to the composite type thin film magnetic head and the method for manufacturing the same of the present invention, the side surface of the non-magnetic layer is formed so as to be perpendicular to the main surface of the ferrite substrate. Since the position of the gap depth “0” is constant regardless of the depth from the surface, it is possible to stabilize the output of magnetic characteristics.

【0047】また、非磁性層の深さを15μm〜50μ
mとすることにより、薄膜磁気ヘッドの下部ヨークから
の磁束の漏れを防止して、十分な記録特性を保持しつ
つ、製造工程時におけるフェライト基板へのクラックの
発生を未然に防止することが可能となり、製造工程時に
おける複合型薄膜磁気ヘッドの歩留りの向上を可能とし
ている。
The depth of the non-magnetic layer is 15 μm to 50 μm.
By setting m, it is possible to prevent leakage of magnetic flux from the lower yoke of the thin-film magnetic head, maintain sufficient recording characteristics, and prevent occurrence of cracks in the ferrite substrate during the manufacturing process. Therefore, it is possible to improve the yield of the composite type thin film magnetic head during the manufacturing process.

【0048】また、フェライト基板と非磁性体とを同時
に加工することにより、フェライト基板と非磁性体層の
主表面が常に一致し、フェライト基板の主表面に形成さ
れる薄膜磁気ヘッドに悪影響を与えることなく、薄膜磁
気ヘッドを形成することが可能となる。また、溝部の内
側面と底面とを半径10μm以下の円弧によって連続的
に結合することにより、量産時に、フェライト基板と非
磁性体とを同時に加工する際15〜50μm以内のばら
つきがあっても、ギャップデプス“0”の位置が一定と
なり、製造工程時における歩留りの向上を図ることが可
能となる。
Further, by simultaneously processing the ferrite substrate and the nonmagnetic material, the main surfaces of the ferrite substrate and the nonmagnetic material layer are always aligned with each other, which adversely affects the thin film magnetic head formed on the main surface of the ferrite substrate. It is possible to form a thin-film magnetic head without using the magnetic head. Further, by continuously connecting the inner side surface and the bottom surface of the groove portion with an arc having a radius of 10 μm or less, even if there is a variation within 15 to 50 μm when the ferrite substrate and the non-magnetic material are simultaneously processed during mass production, The position of the gap depth “0” becomes constant, and it is possible to improve the yield in the manufacturing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッドの平
面図である。
FIG. 1 is a plan view of a composite type thin film magnetic head according to the present invention.

【図2】この発明に基づいた薄膜磁気ヘッドの断面構造
図である。
FIG. 2 is a sectional structural view of a thin film magnetic head based on the present invention.

【図3】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッドの第
1製造工程図である。
FIG. 3 is a first manufacturing process diagram of a composite type thin film magnetic head according to the present invention.

【図4】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッドの第
2製造工程図である。
FIG. 4 is a second manufacturing process drawing of the composite thin-film magnetic head according to the present invention.

【図5】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッドの第
3製造工程図である。
FIG. 5 is a third manufacturing process drawing of the composite type thin film magnetic head according to the present invention.

【図6】この発明に基づいた複合型薄膜磁気ヘッドの溝
深さと再生電圧/記録電流との関係を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the groove depth and the reproducing voltage / recording current of the composite type thin film magnetic head according to the present invention.

【図7】溝部に発生する応力集中の状態を示す第1の図
である。
FIG. 7 is a first diagram showing a state of stress concentration generated in a groove portion.

【図8】溝部に発生する応力集中の状態を示す第2の図
である。
FIG. 8 is a second diagram showing a state of stress concentration generated in the groove portion.

【図9】接触摺動面に発生するクラックの状態を示す図
である。
FIG. 9 is a diagram showing a state of cracks generated on a contact sliding surface.

【図10】フェライト基板と非磁性層との研摩量に対す
るギャップデプス“0”の位置を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a position of a gap depth “0” with respect to a polishing amount of a ferrite substrate and a non-magnetic layer.

【図11】従来技術における複合型薄膜磁気ヘッドの構
造を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the structure of a composite type thin film magnetic head in the prior art.

【図12】従来技術における複合型薄膜磁気ヘッドの問
題点を示す第1の図である。
FIG. 12 is a first diagram showing a problem of the composite type thin film magnetic head in the prior art.

【図13】従来技術における複合型薄膜磁気ヘッドの問
題点を示す第2の図である。
FIG. 13 is a second diagram showing a problem of the composite type thin film magnetic head in the prior art.

【図14】従来技術における複合型薄膜磁気ヘッドの問
題点を示す第3の図である。
FIG. 14 is a third diagram showing a problem of the composite type thin film magnetic head in the prior art.

【符号の説明】 1 フェライト基板 2 非磁性層 3 絶縁層 4 第2ヨーク 5,25 絶縁層 6 バイアスリード線 7 ヘッド用コイル 8 MR素子 11a 第3ヨーク 11b 第1ヨーク 12 パーマロイめっき膜 13 パッシベーション膜 14 保護板 100 再生用薄膜磁気ヘッド 200 記録用薄膜磁気ヘッド なお、図中同一符号は、同一または相当部分を示す。[Explanation of Codes] 1 Ferrite substrate 2 Non-magnetic layer 3 Insulating layer 4 Second yoke 5,25 Insulating layer 6 Bias lead wire 7 Head coil 8 MR element 11a Third yoke 11b First yoke 12 Permalloy plating film 13 Passivation film 14 Protective plate 100 Thin film magnetic head for reproduction 200 Thin film magnetic head for recording In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フェライト基板と、 前記フェライト基板と第1のギャップを形成するよう
に、前記フェライト基板に対して間隔をあけて積層され
た第1ヨークとを有する第1の薄膜磁気ヘッドと、 第2のギャップを形成するように間隔をあけて積層され
た第2ヨークおよび第3ヨークとを有する第2の薄膜磁
気ヘッドとを積層した複合型薄膜磁気ヘッドであって、 前記第1ヨークおよび第2ヨークは、少なくとも部分的
に同一の層を有し、 前記フェライト基板は、その主表面から所定の深さにか
けて、内側面が前記主表面に対して垂直でありかつ底面
が前記主表面に対して平行である溝の内部に非磁性層を
有する、複合型薄膜磁気ヘッド。
1. A first thin-film magnetic head having a ferrite substrate, and a first yoke which is laminated at a distance from the ferrite substrate so as to form a first gap with the ferrite substrate, A composite thin-film magnetic head in which a second thin-film magnetic head having a second yoke and a third yoke, which are stacked at a distance to form a second gap, is stacked, and the first yoke and The second yoke has at least partially the same layer, and the ferrite substrate has an inner side surface perpendicular to the main surface and a bottom surface on the main surface over a predetermined depth from the main surface. A composite thin-film magnetic head having a non-magnetic layer inside grooves that are parallel to each other.
【請求項2】 前記溝の主表面からの深さは、15μm
〜50μmの範囲であり、前記内側面と前記底面とは、
半径が10μm以下の円弧によって連続的に結ばれた請
求項1に記載の複合型薄膜磁気ヘッド。
2. The depth from the main surface of the groove is 15 μm
Is in the range of 50 μm, and the inner side surface and the bottom surface are
The composite thin film magnetic head according to claim 1, wherein the composite thin film magnetic heads are continuously connected by arcs having a radius of 10 μm or less.
【請求項3】 フェライト基板の主表面から50μmを
超える深さを有し、内側面が前記主表面に対して垂直で
あり、かつ底面が前記主表面に対して平行である溝を形
成する工程と、 前記溝の内部に、前記溝の前記底面からの高さが50μ
mを越えるように非磁性体を堆積する工程と、 前記溝の底面から前記フェライト基板の主表面までの高
さおよび非磁性体の主表面までの高さが、15μm〜5
0μmとなるように、各主表面を同時に加工する工程
と、 前記フェライト基板の主表面および非磁性体の主表面の
上に、第1のギャップを形成するように、前記フェライ
ト基板に対して間隔をあけて積層された第1ヨークとを
有する第1の薄膜磁気ヘッドを形成する工程と、 第2のギャップを形成するように間隔をあけて積層され
た第2ヨークと、前記第1ヨークと少なくとも部分的に
同一の層を共有する第2ヨークと、第3ヨークとを有す
る第2の薄膜磁気ヘッドを形成する工程と、を備えた複
合型薄膜磁気ヘッドの製造方法。
3. A step of forming a groove having a depth of more than 50 μm from a main surface of a ferrite substrate, an inner side surface of which is perpendicular to the main surface, and a bottom surface of which is parallel to the main surface. And the height of the groove from the bottom surface is 50 μm inside the groove.
a step of depositing a non-magnetic material so as to exceed m, and a height from the bottom surface of the groove to the main surface of the ferrite substrate and a height to the main surface of the non-magnetic material are 15 μm to 5 μm.
0 μm, each main surface is processed at the same time, and a gap is formed between the ferrite substrate and the main surface of the ferrite substrate and the main surface of the non-magnetic material so as to form a first gap. A step of forming a first thin film magnetic head having a first yoke that is laminated with an opening, a second yoke that is laminated at an interval so as to form a second gap, and the first yoke A method of manufacturing a composite thin-film magnetic head, comprising: forming a second thin-film magnetic head having a second yoke and a third yoke that at least partially share the same layer.
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