JPH06277610A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH06277610A JPH06277610A JP6889693A JP6889693A JPH06277610A JP H06277610 A JPH06277610 A JP H06277610A JP 6889693 A JP6889693 A JP 6889693A JP 6889693 A JP6889693 A JP 6889693A JP H06277610 A JPH06277610 A JP H06277610A
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- Japan
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- sample substrate
- substrate
- coating
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- sample
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】基板裏面への塗布物質の廻り込みを防止できる
塗布装置を実現する。 【構成】回転テーブル２Ａ上に試料基板４をその裏面４
ａを吸着保持させ、回転テーブル２Ａを回転させること
により試料基板表面４ｂに塗布物質を塗布する塗布装置
において、回転テーブルサイズを、回転テーブル２Ａの
外周端部が試料基板４の外周端部より７mm〜２０mm小さ
な値となるように設定する。
塗布装置を実現する。 【構成】回転テーブル２Ａ上に試料基板４をその裏面４
ａを吸着保持させ、回転テーブル２Ａを回転させること
により試料基板表面４ｂに塗布物質を塗布する塗布装置
において、回転テーブルサイズを、回転テーブル２Ａの
外周端部が試料基板４の外周端部より７mm〜２０mm小さ
な値となるように設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液体などからなる塗布
物質を試料基板表面上に均一に塗布する塗布装置に関す
るものである。
物質を試料基板表面上に均一に塗布する塗布装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来の回転式塗布装置の一構成
例を示す縦断面図である。図５において、１は回転軸、
２は回転基台としてのバキュームチャックテーブル（以
下、単にテーブルという）、３は回転カップ、４はたと
えばガラス基板などからなる試料基板をそれぞれ示して
いる。回転軸１の軸心部には吸引孔１１が形成されてお
り、吸引孔１１の一端側は図示しない真空ポンプなどに
接続され、他端側はテーブル２の上面中央部に形成され
た吸引溝２１に接続されている。また、試料基板４が吸
着セットされるテーブル２のサイズ（外径）は、試料基
板４の同サイズか２mm〜５mm小さい値に設定されてい
る。さらに、テーブル２と回転カップ３とは一体的に固
定され、回転軸１の回転に伴い同期して回転するように
構成されている。
例を示す縦断面図である。図５において、１は回転軸、
２は回転基台としてのバキュームチャックテーブル（以
下、単にテーブルという）、３は回転カップ、４はたと
えばガラス基板などからなる試料基板をそれぞれ示して
いる。回転軸１の軸心部には吸引孔１１が形成されてお
り、吸引孔１１の一端側は図示しない真空ポンプなどに
接続され、他端側はテーブル２の上面中央部に形成され
た吸引溝２１に接続されている。また、試料基板４が吸
着セットされるテーブル２のサイズ（外径）は、試料基
板４の同サイズか２mm〜５mm小さい値に設定されてい
る。さらに、テーブル２と回転カップ３とは一体的に固
定され、回転軸１の回転に伴い同期して回転するように
構成されている。
【０００３】このような構成においては、テーブル２の
上面上に、試料基板４の塗布物質を塗布させない裏面４
ａ側を対向させて載置される。このとき、試料基板４の
裏面４ａにより閉塞される吸引溝２１内の空気が、図示
しない真空ポンプにより吸引孔１１を介して吸引され、
密閉吸引溝２１内が負圧状態とされる。この結果、試料
基板４がテーブル２に吸着保持される。
上面上に、試料基板４の塗布物質を塗布させない裏面４
ａ側を対向させて載置される。このとき、試料基板４の
裏面４ａにより閉塞される吸引溝２１内の空気が、図示
しない真空ポンプにより吸引孔１１を介して吸引され、
密閉吸引溝２１内が負圧状態とされる。この結果、試料
基板４がテーブル２に吸着保持される。
【０００４】この状態で、試料基板４の表面４ｂの中心
部に塗布物質、たとえばフォトレジスト液が滴下された
後、図示しないモータにより回転軸１が所定方向に定速
度、たとえば１２００ｒｐｍをもって回転されることに
よりテーブル２および回転カップ３が回転される。これ
に伴い、回転によって生じる遠心力により滴下したフォ
トレジスト液が試料基板４の表面４ｂ全体に亘って広が
り、均一なフォトレジスト膜が形成される。
部に塗布物質、たとえばフォトレジスト液が滴下された
後、図示しないモータにより回転軸１が所定方向に定速
度、たとえば１２００ｒｐｍをもって回転されることに
よりテーブル２および回転カップ３が回転される。これ
に伴い、回転によって生じる遠心力により滴下したフォ
トレジスト液が試料基板４の表面４ｂ全体に亘って広が
り、均一なフォトレジスト膜が形成される。
【０００５】また、テーブル２および回転カップ３の回
転により試料基板４の周辺部にはある一定の気流が発生
し、フォトレジスト液の均一な広がりを助長し、回転カ
ップ３の側壁によりフォトレジスト液の飛散などが防止
されている。
転により試料基板４の周辺部にはある一定の気流が発生
し、フォトレジスト液の均一な広がりを助長し、回転カ
ップ３の側壁によりフォトレジスト液の飛散などが防止
されている。
【０００６】また、より安定した気流を発生させるなど
の理由から、回転カップ２の上部に開閉式の蓋を設け、
回転塗布工程を密閉空間内で行うようにした、いわゆる
密閉式塗布装置も種々提案されている（たとえば、実公
平３−５１９０７号、特公昭５７−４８９８０号、５８
−４５８８号公報 参照）。
の理由から、回転カップ２の上部に開閉式の蓋を設け、
回転塗布工程を密閉空間内で行うようにした、いわゆる
密閉式塗布装置も種々提案されている（たとえば、実公
平３−５１９０７号、特公昭５７−４８９８０号、５８
−４５８８号公報 参照）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の塗布装置においては、試料基板４のサイズが吸
着セットされる円盤状テーブル２のサイズ（外径）より
２mm〜５mm大きいか、または同サイズであることから、
塗布物質が試料基板４の表面４ｂのみならず裏面４ａ側
にも廻り込み、基板外周部の裏面４ｂにも塗布物質が塗
布されるという問題があり、これにより、次工程への搬
送系の汚れなどの要因となるなどの不都合があった。
た従来の塗布装置においては、試料基板４のサイズが吸
着セットされる円盤状テーブル２のサイズ（外径）より
２mm〜５mm大きいか、または同サイズであることから、
塗布物質が試料基板４の表面４ｂのみならず裏面４ａ側
にも廻り込み、基板外周部の裏面４ｂにも塗布物質が塗
布されるという問題があり、これにより、次工程への搬
送系の汚れなどの要因となるなどの不都合があった。
【０００８】この塗布物質の基板裏面４ａへの廻り込み
は、塗布物質としてのフォトレジスト液が基板端面に表
面張力により垂れ込み、テーブル２の上面と試料基板４
の裏面４ｂとの間に生じた隙間に、いわゆる毛細管現象
によって入り込み、また、テーブル２の吸着用バキュー
ムにより吸引されるなどに起因するものと考えられる。
また、この廻り込み現象は、試料基板４の形状がたとえ
ば四角形などの角型の場合に顕著に現れている。これ
は、基板の回転に伴いいわゆる乱気流が発生するためと
考えられる。
は、塗布物質としてのフォトレジスト液が基板端面に表
面張力により垂れ込み、テーブル２の上面と試料基板４
の裏面４ｂとの間に生じた隙間に、いわゆる毛細管現象
によって入り込み、また、テーブル２の吸着用バキュー
ムにより吸引されるなどに起因するものと考えられる。
また、この廻り込み現象は、試料基板４の形状がたとえ
ば四角形などの角型の場合に顕著に現れている。これ
は、基板の回転に伴いいわゆる乱気流が発生するためと
考えられる。
【０００９】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、基板裏面への塗布物質の廻り込
みを防止できる塗布装置を提供することにある。
のであり、その目的は、基板裏面への塗布物質の廻り込
みを防止できる塗布装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、回転基台上に試料基板をその裏面を密
着するように保持させ、上記回転基台を回転させること
により上記試料基板表面に塗布物質を塗布する塗布装置
において、上記回転基台サイズを、回転基台の外周端部
が上記試料基板の外周端部より７mm〜２０mm小さな値と
なるように設定した。
め、本発明では、回転基台上に試料基板をその裏面を密
着するように保持させ、上記回転基台を回転させること
により上記試料基板表面に塗布物質を塗布する塗布装置
において、上記回転基台サイズを、回転基台の外周端部
が上記試料基板の外周端部より７mm〜２０mm小さな値と
なるように設定した。
【００１１】
【作用】本発明によれば、回転基台の上面上に、試料基
板がその塗布物質を塗布させない裏面側を対向させて密
着するように載置され保持される。このとき、試料基板
の外周端部は、回転基台の外周端部より７mm〜２０mmだ
けはみ出した状態でセットされる。この状態で、試料基
板の表面の中心部に塗布物質が滴下された後、回転基台
が所定方向に定速度で回転される。これに伴い、回転に
よって生じる遠心力により滴下した塗布物質が試料基板
の表面全体に亘って広がり、均一な塗布物質膜が形成さ
れ、また、試料基板の裏面へのフォトレジスト膜の形成
はほとんど行われない。
板がその塗布物質を塗布させない裏面側を対向させて密
着するように載置され保持される。このとき、試料基板
の外周端部は、回転基台の外周端部より７mm〜２０mmだ
けはみ出した状態でセットされる。この状態で、試料基
板の表面の中心部に塗布物質が滴下された後、回転基台
が所定方向に定速度で回転される。これに伴い、回転に
よって生じる遠心力により滴下した塗布物質が試料基板
の表面全体に亘って広がり、均一な塗布物質膜が形成さ
れ、また、試料基板の裏面へのフォトレジスト膜の形成
はほとんど行われない。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明に係る塗布装置の一実施例を
示す縦断面図であって、従来例を示す図５と同一構成部
分は同一符号をもって表す。すなわち、１は回転軸、２
Ａは回転基台としてのテーブル（バキュームチャックテ
ーブル）、３は回転カップ、４はたとえばガラス基板な
どからなる試料基板をそれぞれ示している。回転軸１の
軸心部には吸引孔１１が形成されており、吸引孔１１の
一端側は図示しない真空ポンプなどに接続され、他端側
はテーブル２Ａの上面中央部に形成された吸引溝２１に
接続されている。また、テーブル２Ａと回転カップ３と
は一体的に固定され、回転軸１の回転に伴い同期して回
転するように構成されている。
示す縦断面図であって、従来例を示す図５と同一構成部
分は同一符号をもって表す。すなわち、１は回転軸、２
Ａは回転基台としてのテーブル（バキュームチャックテ
ーブル）、３は回転カップ、４はたとえばガラス基板な
どからなる試料基板をそれぞれ示している。回転軸１の
軸心部には吸引孔１１が形成されており、吸引孔１１の
一端側は図示しない真空ポンプなどに接続され、他端側
はテーブル２Ａの上面中央部に形成された吸引溝２１に
接続されている。また、テーブル２Ａと回転カップ３と
は一体的に固定され、回転軸１の回転に伴い同期して回
転するように構成されている。
【００１３】本実施例においては、テーブル２Ａのサイ
ズは吸着セットする試料基板４のサイズより小さいサイ
ズに設定される。具体的には、図２に示すように、吸着
セットする試料基板４の外周端部とテーブル２Ａの外周
端部との差Ｄが、たとえば１０mm〜１３mmとなるように
設定される。
ズは吸着セットする試料基板４のサイズより小さいサイ
ズに設定される。具体的には、図２に示すように、吸着
セットする試料基板４の外周端部とテーブル２Ａの外周
端部との差Ｄが、たとえば１０mm〜１３mmとなるように
設定される。
【００１４】このような構成においては、テーブル２Ａ
の上面上に、試料基板４がその塗布物質を塗布させない
裏面４ａ側を対向させて載置される。このとき、試料基
板４の裏面４ａにより閉塞される吸引溝２１内の空気
が、図示しない真空ポンプにより吸引孔１１を介して吸
引され、密閉吸引溝２１内が負圧状態とされる。この結
果、試料基板４がテーブル２Ａに吸着保持される。この
とき、試料基板４の外周端部は、テーブル２Ａの外周端
部より１０mm〜１３mmだけはみ出した状態でセットされ
る。
の上面上に、試料基板４がその塗布物質を塗布させない
裏面４ａ側を対向させて載置される。このとき、試料基
板４の裏面４ａにより閉塞される吸引溝２１内の空気
が、図示しない真空ポンプにより吸引孔１１を介して吸
引され、密閉吸引溝２１内が負圧状態とされる。この結
果、試料基板４がテーブル２Ａに吸着保持される。この
とき、試料基板４の外周端部は、テーブル２Ａの外周端
部より１０mm〜１３mmだけはみ出した状態でセットされ
る。
【００１５】この状態で、試料基板４の表面４ｂの中心
部に塗布物質、たとえばフォトレジスト液が滴下された
後、図示しないモータにより回転軸１が所定方向に定速
度、たとえば１２００ｒｐｍをもって回転されることに
よりテーブル２Ａおよび回転カップ３が回転される。こ
れに伴い、回転によって生じる遠心力により滴下したフ
ォトレジスト液が試料基板４の表面４ｂ全体に亘って広
がり、均一なフォトレジスト膜が形成され、また、試料
基板４の裏面４ａへのフォトレジスト膜の形成は行われ
ない。
部に塗布物質、たとえばフォトレジスト液が滴下された
後、図示しないモータにより回転軸１が所定方向に定速
度、たとえば１２００ｒｐｍをもって回転されることに
よりテーブル２Ａおよび回転カップ３が回転される。こ
れに伴い、回転によって生じる遠心力により滴下したフ
ォトレジスト液が試料基板４の表面４ｂ全体に亘って広
がり、均一なフォトレジスト膜が形成され、また、試料
基板４の裏面４ａへのフォトレジスト膜の形成は行われ
ない。
【００１６】図３は、テーブル２Ａ端部と試料基板４端
部との差Ｄを任意の値に設定した場合のレジスト液の試
料基板裏面４ａへの廻り込み状態の確認実験を密閉回転
式塗布装置を用いて行った結果を示す図である。
部との差Ｄを任意の値に設定した場合のレジスト液の試
料基板裏面４ａへの廻り込み状態の確認実験を密閉回転
式塗布装置を用いて行った結果を示す図である。
【００１７】本実験では、テーブル２Ａの大きさを（２
７４×３１４mm）とし、試料基板４の端部をテーブル２
Ａの端部から−５mm〜１８mmの間で選定した任意の値だ
けはみ出させたときのレジスト液の裏廻り状態を確認し
た。この確認は、アルコールを浸した白い紙で試料基板
裏面を拭って黄色の移り具合を調べる方法により行っ
た。
７４×３１４mm）とし、試料基板４の端部をテーブル２
Ａの端部から−５mm〜１８mmの間で選定した任意の値だ
けはみ出させたときのレジスト液の裏廻り状態を確認し
た。この確認は、アルコールを浸した白い紙で試料基板
裏面を拭って黄色の移り具合を調べる方法により行っ
た。
【００１８】また、本実験では、試料基板としては大き
さ（２６９〜２９２×３０９〜３３２×１．１mm）のガ
ラス基板を用い、レジストとして（ＯＦＰＲ８００−１
０ｃｐｓ−２０ｃｃ）を用いた。また、回転カップ３の
底面と試料基板の裏面との間には１．５mmの隙間ができ
るようにテーブルの厚さを設定した。さらに、回転プロ
グラムは、図４に示すように、６秒かけて停止状態から
定速状態まで遷移させた後、定速１２００ｒｐｍで１０
秒間回転し、６秒かけて定速状態から停止状態に遷移さ
せるようにした。
さ（２６９〜２９２×３０９〜３３２×１．１mm）のガ
ラス基板を用い、レジストとして（ＯＦＰＲ８００−１
０ｃｐｓ−２０ｃｃ）を用いた。また、回転カップ３の
底面と試料基板の裏面との間には１．５mmの隙間ができ
るようにテーブルの厚さを設定した。さらに、回転プロ
グラムは、図４に示すように、６秒かけて停止状態から
定速状態まで遷移させた後、定速１２００ｒｐｍで１０
秒間回転し、６秒かけて定速状態から停止状態に遷移さ
せるようにした。
【００１９】図３に示すように、テーブル２Ａ端部と試
料基板４端部との差Ｄを、本実施例と同様に、１０mm〜
１３mmに設定した場合では、レジスト液の基板裏面への
廻り込みはなく、また、試料基板の表面には厚さ０．９
μｍのレジスト膜を均一に形成することができた。ま
た、差Ｄが＋７mm、＋１６mmおよび＋１８mmの場合には
１mm幅程度の裏廻りがあり、−５mm，−３mm，±０mm，
＋２．５mmおよび＋５mmの場合には１〜３mm幅程度の裏
廻りがあった。これらのうち、１mm幅程度の裏廻りがあ
っても実用上問題がないが、それ以上の幅の裏廻りでは
実用に供さない。
料基板４端部との差Ｄを、本実施例と同様に、１０mm〜
１３mmに設定した場合では、レジスト液の基板裏面への
廻り込みはなく、また、試料基板の表面には厚さ０．９
μｍのレジスト膜を均一に形成することができた。ま
た、差Ｄが＋７mm、＋１６mmおよび＋１８mmの場合には
１mm幅程度の裏廻りがあり、−５mm，−３mm，±０mm，
＋２．５mmおよび＋５mmの場合には１〜３mm幅程度の裏
廻りがあった。これらのうち、１mm幅程度の裏廻りがあ
っても実用上問題がないが、それ以上の幅の裏廻りでは
実用に供さない。
【００２０】したがって、図３から試料基板４端部のテ
ーブル２Ａ端部からのはみ出し量は、１０〜１３mmであ
ることが望ましいが、１mm幅程度の裏廻りがあっても実
用上問題がないことから７mm〜２０mmのはみ出し量とな
るようにテーブルサイズを設定することにより、従来装
置の問題を解消できる。なお、はみ出し量が２０mmを超
えると、回転時の基板ぶれなどが大きくなり、乱気流の
発生などを誘発し、レジスト膜の試料基板表面全体の亘
る均一な形成が困難になるなどの問題がある。
ーブル２Ａ端部からのはみ出し量は、１０〜１３mmであ
ることが望ましいが、１mm幅程度の裏廻りがあっても実
用上問題がないことから７mm〜２０mmのはみ出し量とな
るようにテーブルサイズを設定することにより、従来装
置の問題を解消できる。なお、はみ出し量が２０mmを超
えると、回転時の基板ぶれなどが大きくなり、乱気流の
発生などを誘発し、レジスト膜の試料基板表面全体の亘
る均一な形成が困難になるなどの問題がある。
【００２１】以上説明したように、本実施例によれば、
試料基板４端部のテーブル２Ａ端部からのはみ出し量を
１０〜１３mmとなるようにテーブルサイズを設定したの
で、レジスト液の試料基板４の裏面４ａへの廻り込みを
防止できる。また、試料基板４端部のテーブル２Ａ端部
からのはみ出し量を７〜２０mmとなるようにテーブルサ
イズを設定することにより、レジスト液の試料基板４の
裏面４ａへの廻り込みを最小限に抑制できる実用的な塗
布装置を実現できる。
試料基板４端部のテーブル２Ａ端部からのはみ出し量を
１０〜１３mmとなるようにテーブルサイズを設定したの
で、レジスト液の試料基板４の裏面４ａへの廻り込みを
防止できる。また、試料基板４端部のテーブル２Ａ端部
からのはみ出し量を７〜２０mmとなるようにテーブルサ
イズを設定することにより、レジスト液の試料基板４の
裏面４ａへの廻り込みを最小限に抑制できる実用的な塗
布装置を実現できる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
塗布物質の試料基板の裏面への廻り込みを最小限に抑制
できる実用的な塗布装置を実現できる。
塗布物質の試料基板の裏面への廻り込みを最小限に抑制
できる実用的な塗布装置を実現できる。
【図１】本発明に係る塗布装置の一実施例を示す縦断面
図である。
図である。
【図２】本発明に係るテーブルサイズと試料基板サイズ
との関係を説明するための図である。
との関係を説明するための図である。
【図３】テーブル端部と試料基板端部との差を任意の値
に設定した場合のレジスト液の試料基板裏面への廻り込
み状態の確認実験を密閉回転式塗布装置を用いて行った
結果を示す図である。
に設定した場合のレジスト液の試料基板裏面への廻り込
み状態の確認実験を密閉回転式塗布装置を用いて行った
結果を示す図である。
【図４】本発明に係る確認実験における回転プログラム
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図５】従来の塗布装置の一構成例を示す縦断面図であ
る。
る。
１…回転軸 １１…吸引孔 ２Ａ…回転基台としてのテーブル（バキュームチャック
テーブル） ２１…吸引溝 ３…回転カップ ４…試料基板
テーブル） ２１…吸引溝 ３…回転カップ ４…試料基板
Claims (1)
- 【請求項１】 回転基台上に試料基板をその裏面を密着
するように保持させ、上記回転基台を回転させることに
より上記試料基板表面に塗布物質を塗布する塗布装置で
あって、 上記回転基台サイズを、回転基台の外周端部が上記試料
基板の外周端部より７mm〜２０mm小さな値となるように
設定したことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6889693A JPH06277610A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6889693A JPH06277610A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06277610A true JPH06277610A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=13386882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6889693A Pending JPH06277610A (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06277610A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990010263A1 (en) * | 1989-02-22 | 1990-09-07 | Fanuc Ltd | Test operation control system |
-
1993
- 1993-03-26 JP JP6889693A patent/JPH06277610A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990010263A1 (en) * | 1989-02-22 | 1990-09-07 | Fanuc Ltd | Test operation control system |
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