JPH0627205A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH0627205A
JPH0627205A JP5058507A JP5850793A JPH0627205A JP H0627205 A JPH0627205 A JP H0627205A JP 5058507 A JP5058507 A JP 5058507A JP 5850793 A JP5850793 A JP 5850793A JP H0627205 A JPH0627205 A JP H0627205A
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JP
Japan
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circuit
signal
memory
input
output
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5058507A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masami Kanasugi
雅己 金杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH0627205A publication Critical patent/JPH0627205A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the integrated circuit device in which accuracy is enhanced in the operational test of incorporated memory, accuracy is enhanced in the measurement of address access time of the memory, measurement accuracy is prevented from deteriorating due to delay of input signal, and decision of output can be made independently from the accuracy of tester or the delay due to internal wiring. CONSTITUTION:In the semiconductor integrated circuit, a memory 4 is provided on a chip 9 and operational test of the memory 4 is carried out based on an input signal WE to terminal Ti dedicated for test on the chip 9. A memory test circuit 11 outputs a signal CK for activating a latch circuit 7, connected with an output port Po of the memory 4, upon elapse of a predetermined time after provision of a multibit address signal AD to an input port Pi of the memory 4 from the terminal Ti dedicated for test. Output signal from the latch circuit 7 is delivered through an output terminal To of the chip 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は同一チップ上にメモリと
論理回路とを備え、通常動作では論理回路によりメモリ
の動作を制御するように構成された半導体集積回路装置
におけるメモリの動作試験に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a memory operation test in a semiconductor integrated circuit device having a memory and a logic circuit on the same chip, and configured to control the operation of the memory by the logic circuit in a normal operation. Is.

【0002】近年の半導体集積回路装置は大規模化、多
機能化及び高速化が進み、同一チップ内にCPUやRA
M或いはROMの内蔵メモリを内蔵したものが一般化し
ている。また、チップの大規模化によりその内部配線が
長大化して配線容量及び配線抵抗が増大し、その配線容
量及び配線抵抗の増大にともなって動作遅延時間が増大
する傾向にある。
In recent years, semiconductor integrated circuit devices have become larger in scale, more multifunctional, and faster, so that CPUs and RAs can be mounted on the same chip.
It is common to have a built-in memory such as M or ROM. Also, due to the increase in the size of the chip, the internal wiring is lengthened to increase the wiring capacitance and wiring resistance, and as the wiring capacitance and wiring resistance increase, the operation delay time tends to increase.

【0003】このような半導体集積回路装置では微細化
によるプロセスのばらつきに基づいて前記動作遅延時間
が大きくばらつくことがある。このため、前記動作遅延
時間のばらつきによる動作試験の精度の低下を防止する
ことが要請されている。
In such a semiconductor integrated circuit device, the operation delay time may vary greatly due to process variations due to miniaturization. Therefore, it is required to prevent the deterioration of the accuracy of the operation test due to the variation of the operation delay time.

【0004】また、前記動作遅延時間のばらつきは、内
蔵メモリのAC特性の保証に対して大きな阻害要因とな
っている。更に、メモリの高速化によりそのAC特性を
保証するための精度をメモリの試験回路が備えることが
難しくなってきており、このため、メモリのAC特性保
証を阻害する要因に影響されない測定方法の開発が望ま
れている。
Further, the variation in the operation delay time is a great impediment factor to guaranteeing the AC characteristics of the built-in memory. Furthermore, it has become difficult for the test circuit of the memory to have the accuracy for guaranteeing the AC characteristic due to the increase in the speed of the memory. Therefore, the development of a measurement method that is not affected by the factors that obstruct the guarantee of the AC characteristic of the memory. Is desired.

【0005】[0005]

【従来の技術】同一チップ上にメモリを備えた従来の半
導体集積回路装置では、外部端子に試験専用端子を設
け、その試験専用端子に外部試験装置を接続してメモリ
の動作試験を行っている。
2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor integrated circuit device having a memory on the same chip, a test-dedicated terminal is provided as an external terminal, and an external test device is connected to the test-dedicated terminal to perform a memory operation test. .

【0006】即ち、外部試験装置から試験専用端子を介
してメモリに直接アドレス信号及び書き込み制御信号を
入力して例えば多数の記憶セルに同一データを書き込
み、次いでメモリに書き込まれたデータを外部試験装置
に直接読み出して各記憶セルが正しく動作しているか否
かが判定されている。
That is, an address signal and a write control signal are directly input from an external test device to a memory through a test-dedicated terminal, the same data is written to, for example, a large number of memory cells, and then the data written in the memory is written to the external test device. It is directly read to determine whether each memory cell is operating properly.

【0007】このような動作試験時には試験専用入力端
子からメモリの入力ポートまでの配線容量による遅延時
間とメモリの出力ポートからチップの試験専用出力端子
までの配線容量による遅延時間とをあらかじめ見積り、
試験装置から入力するアドレス信号及び書き込み制御信
号は予め見積もられた遅延時間を足し込んでメモリに入
力され、その書き込み動作に続く読出動作で書き込まれ
たデータが正しいか否かが外部試験装置で判定されてい
る。
During such an operation test, the delay time due to the wiring capacity from the test dedicated input terminal to the memory input port and the delay time due to the wiring capacity from the memory output port to the chip test dedicated output terminal are estimated in advance,
The address signal and write control signal input from the test equipment are added to the memory by adding the estimated delay time, and the external test equipment determines whether the data written in the read operation following the write operation is correct. Has been determined.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体集積回路装置ではその大規模化及び高集積化に
より試験専用入力端子からメモリの入力ポートまでの配
線及びメモリの出力ポートからチップの試験専用出力端
子までの配線が長大化し、プロセスのばらつきによる配
線容量及び配線抵抗のばらつきも大きくなっている。
However, in the semiconductor integrated circuit device as described above, due to its large scale and high integration, wiring from the test-dedicated input terminal to the memory input port and the test from the memory output port to the chip are performed. The wiring to the dedicated output terminal is lengthened, and the variation in wiring capacitance and wiring resistance due to the variation in process is also increasing.

【0009】このため、試験専用端子からメモリの入力
ポートまでの配線による遅延時間を正確に見積もること
が困難となり、試験装置から入力されるアドレス信号間
やデータ入力信号、書き込み制御信号との間でメモリ入
力ポートへの入力タイミングにずれが生じることがあ
る。
Therefore, it becomes difficult to accurately estimate the delay time due to the wiring from the test-dedicated terminal to the input port of the memory, and between the address signals input from the test apparatus, the data input signal, and the write control signal. There may be a deviation in the input timing to the memory input port.

【0010】また、出力についても同様に、メモリの出
力ポートから試験専用出力端子までの配線による遅延時
間のばらつきにより試験専用出力端子から外部試験装置
に出力される出力データの出力タイミングにずれが生じ
ることがある。
Similarly, with respect to the output as well, the output timing of the output data output from the test-dedicated output terminal to the external tester is deviated due to the variation in the delay time due to the wiring from the output port of the memory to the test-dedicated output terminal. Sometimes.

【0011】更に、試験装置の精度に対し、メモリのス
ピードは速くなっており、試験装置の入力信号同士のタ
イミング誤差や、出力を判定する比較器等の誤差も無視
できなくなっている。
Further, the speed of the memory is faster than the accuracy of the test apparatus, and the timing error between the input signals of the test apparatus and the error of the comparator for judging the output cannot be ignored.

【0012】従って、正常なメモリから出力される出力
データが外部試験装置で誤データとして判定されたり、
あるいは誤データが正常な出力データとして判定される
ことがあり、信頼性を低下させているという問題点があ
る。
Therefore, the output data output from the normal memory is determined as erroneous data by the external test device,
Alternatively, erroneous data may be determined as normal output data, which reduces the reliability.

【0013】本発明の目的は、半導体集積回路装置に内
蔵されたメモリの動作試験の精度を向上させることにあ
る。また、本発明の他の目的は、特に、メモリのアドレ
スアクセス時間と書き込み回復時間と書き込み回復時間
の測定精度を向上させ、入力信号の遅延による測定精度
の低下を防ぐこと、並びに、出力の判定を試験装置の精
度や内部配線遅延等に対して無関係にすることにある。
An object of the present invention is to improve the accuracy of the operation test of the memory built in the semiconductor integrated circuit device. Another object of the present invention is to improve the measurement accuracy of the memory address access time, the write recovery time, and the write recovery time, to prevent the decrease of the measurement accuracy due to the delay of the input signal, and the determination of the output. Is to be irrelevant to the accuracy of the test equipment and internal wiring delay.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の第一、第
二、及び第三の特徴の半導体集積回路装置の原理説明図
である。すなわち、チップ9上にメモリ4を有し、チッ
プ9の試験専用端子Ti から入力されるアドレス信号A
Dに基づいてメモリ4の動作試験を行う半導体集積回路
で、試験専用端子Ti から入力される多ビットのアドレ
ス信号ADに基づいてアドレス信号ADがメモリ4の入
力ポートPi に入力されてから所定時間後にメモリ4の
出力ポートPo に接続したラッチ回路7を活性化する活
性化信号CKを出力するメモリ試験回路11が備えら
れ、ラッチ回路7の出力信号がチップ9の出力端子To
から出力される。
FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of a semiconductor integrated circuit device having the first, second and third features of the present invention. That is, the memory 4 is provided on the chip 9, and the address signal A input from the test exclusive terminal Ti of the chip 9 is input.
In a semiconductor integrated circuit for testing the operation of the memory 4 based on D, a predetermined time has elapsed since the address signal AD was input to the input port Pi of the memory 4 based on the multi-bit address signal AD input from the test dedicated terminal Ti. A memory test circuit 11 that outputs an activation signal CK that activates the latch circuit 7 connected to the output port Po of the memory 4 later is provided, and the output signal of the latch circuit 7 is the output terminal To of the chip 9.
Is output from.

【0015】また、図2に示すように、メモリ試験回路
11は多ビットのアドレス信号AD1〜AD3に基づい
てメモリ4の入力ポートPi にアドレス信号C1〜C3
が入力されてから所定の遅延時間後に出力信号を出力す
る遅延回路2dと、遅延回路2dの出力信号に基づいて
ラッチ回路7への活性化信号CKを生成するパルス発生
回路2e,6aとから構成されている。
Further, as shown in FIG. 2, the memory test circuit 11 supplies the address signals C1 to C3 to the input port Pi of the memory 4 based on the multi-bit address signals AD1 to AD3.
Is composed of a delay circuit 2d that outputs an output signal after a predetermined delay time from the input of, and pulse generation circuits 2e and 6a that generate an activation signal CK to the latch circuit 7 based on the output signal of the delay circuit 2d. Has been done.

【0016】また、図10に示すように、メモリ試験回
路11はクロック信号CLKに基づいて外部試験装置か
ら入力される多ビットのアドレス信号AD1〜AD3を
ラッチして前記メモリ4の入力ポートPi にアドレス信
号ADD1 〜ADD3 として出力するラッチ回路7b〜
7dと、前記クロック信号CLKに基づいて外部試験装
置から入力される信号Iをラッチして出力するラッチ回
路7eと、ラッチ回路7eの出力信号を入力してから所
定の遅延時間後に出力信号を出力する遅延回路2dと、
遅延回路2dの出力信号に基づいてラッチ回路7への活
性化信号CKを生成するパルス発生回路2e,6aと、
活性信号CKに基づいて活性化してメモリ4の出力ポー
トPo の出力信号をラッチして出力するラッチ回路7a
とから構成されている。
Further, as shown in FIG. 10, the memory test circuit 11 latches the multi-bit address signals AD1 to AD3 inputted from the external tester on the basis of the clock signal CLK, and inputs it to the input port Pi of the memory 4. Latch circuit 7b which outputs as address signals ADD1 to ADD3
7d, a latch circuit 7e that latches and outputs the signal I input from the external test apparatus based on the clock signal CLK, and outputs an output signal after a predetermined delay time after inputting the output signal of the latch circuit 7e Delay circuit 2d for
Pulse generation circuits 2e and 6a for generating an activation signal CK to the latch circuit 7 based on the output signal of the delay circuit 2d,
A latch circuit 7a which is activated based on the activation signal CK and latches and outputs the output signal of the output port Po of the memory 4.
It consists of and.

【0017】次に、図12は、本発明の第四の特徴の半
導体集積回路装置の原理説明図である。また、本発明の
第四の特徴の半導体集積回路は、図13に示す如く、メ
モリ試験回路11’は、ライトイネーブル信号WEに基
づいて該ライトイネーブル信号WEの信号変化が前記メ
モリ4のライトイネーブル端子WEi で確定してから所
定の遅延時間後に出力信号を出力する遅延回路2dと、
遅延回路2dの出力信号に基づいて前記ラッチ回路7へ
の活性化信号CKを生成するパルス発生回路2e,6a
とを有して構成する。
Next, FIG. 12 is an explanatory view of the principle of the semiconductor integrated circuit device of the fourth feature of the present invention. Further, in the semiconductor integrated circuit according to the fourth aspect of the present invention, as shown in FIG. 13, the memory test circuit 11 ′ has a write enable signal WE in which the signal change of the write enable signal WE A delay circuit 2d which outputs an output signal after a predetermined delay time has passed since it was determined at the terminal WEi,
Pulse generation circuits 2e and 6a for generating the activation signal CK to the latch circuit 7 based on the output signal of the delay circuit 2d.
And is configured.

【0018】[0018]

【作用】本発明の第一、第二、及び第三の特徴の半導体
集積回路装置では、図1に示す如く、アドレス信号AD
が前記メモリ4の入力ポートPi に入力されてから所定
時間後にメモリ試験回路11によりラッチ回路7に活性
化信号CKが入力され、その活性化信号に基づいてラッ
チ回路7はメモリ4の出力ポートPo から出力されるデ
ータをラッチしてチップ9の出力端子To に出力する。
従って、出力端子To から出力される出力信号の精度が
向上し、入力配線の遅延等を考慮に入れることなく書き
込み回復時間と書き込み遅延時間の測定が可能とな
る。。
In the semiconductor integrated circuit device having the first, second and third characteristics of the present invention, as shown in FIG.
Is input to the input port Pi of the memory 4, a activating signal CK is input to the latch circuit 7 by the memory test circuit 11 after a predetermined time, and the latch circuit 7 outputs the activation signal CK to the output port Po of the memory 4 based on the activation signal. The data output from Latch is latched and output to the output terminal To of the chip 9.
Therefore, the accuracy of the output signal output from the output terminal To is improved, and the write recovery time and the write delay time can be measured without considering the delay of the input wiring. .

【0019】また、本発明の第四及び第五の特徴の半導
体集積回路装置では、図12に示す如く、メモリ4のラ
イトイネーブル端子WEi におけるライトイネーブル信
号WEの信号変化を基準として、所定の遅延時間を置い
て出力ポートPo から出力されるデータをラッチしてチ
ップ9の出力端子To に出力するようにしている。従っ
て、出力端子To から出力される出力信号の精度が向上
し、入力配線の遅延等を考慮に入れることなく書き込み
回復時間と書き込み遅延時間の測定が可能となる。
Further, in the semiconductor integrated circuit device of the fourth and fifth features of the present invention, as shown in FIG. 12, a predetermined delay is made based on the signal change of the write enable signal WE at the write enable terminal WEi of the memory 4. The data output from the output port Po is latched after a certain time and is output to the output terminal To of the chip 9. Therefore, the accuracy of the output signal output from the output terminal To is improved, and the write recovery time and the write delay time can be measured without considering the delay of the input wiring.

【0020】また、出力値(DOtest)は所定の遅延時
間後の時点で保持されたものであり、出力を測定するタ
イミングは、アドレスアクセス時間TAA書き込み遅延
時間TWS及び書き込み回復時間TWRの大小によらず
緩いタイミングで測定できるため、外部試験装置のAC
精度や出力の配線遅延時間を考慮に入れなくてもよい。
測定精度を決める要素は、遅延回路2dの精度と回路を
構成するゲート回路の遅延のみで決まることとなる。
The output value (DOtest) is held after a predetermined delay time, and the timing of measuring the output depends on the magnitude of the address access time TAA write delay time TWS and the write recovery time TWR. Since it can be measured at a loose timing, AC of external test equipment
It is not necessary to consider the accuracy and the output wiring delay time.
The factor that determines the measurement accuracy is determined only by the accuracy of the delay circuit 2d and the delay of the gate circuit that constitutes the circuit.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明を具体化したメモリ試験回路の
実施例を図面に従って説明する。 第一の実施例 図2は本発明の第一の実施例のメモリ試験回路の回路図
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A memory test circuit embodying the present invention will be described below.
An embodiment will be described with reference to the drawings. First embodiment FIG. 2 is a circuit diagram of a memory test circuit according to the first embodiment of the present invention.
Is.

【0022】同図に示すように、アドレス信号AD1〜
AD3はチップに設けられる試験専用入力端子(図示し
ない)に外部試験装置から入力され、内部配線L1〜L
3を介して遅延回路1a〜1c及びインバータ回路2a
〜2cに入力され、その遅延回路1a〜1cの出力信号
B1〜B3はEOR回路3a〜3cの一方の入力端子に
入力される。
As shown in the figure, address signals AD1 ...
AD3 is input from an external test device to a test-dedicated input terminal (not shown) provided on the chip, and internal wirings L1 to L
Delay circuits 1a to 1c and an inverter circuit 2a
To 2c, and the output signals B1 to B3 of the delay circuits 1a to 1c are input to one input terminals of the EOR circuits 3a to 3c.

【0023】インバータ回路2a〜2cの出力信号A1
〜A3はEOR回路3a〜3cの他方の入力端子に入力
されている。前記遅延回路1a〜1cの出力信号B1〜
B3は半導体集積回路装置に内蔵されるメモリ4の入力
ポートPi に入力アドレス信号C1〜C3として入力さ
れ、前記EOR回路3a〜3cの出力信号D1〜D3は
AND回路5aに入力される。
Output signal A1 of the inverter circuits 2a-2c
To A3 are input to the other input terminals of the EOR circuits 3a to 3c. Output signals B1 to 1 of the delay circuits 1a to 1c
B3 is input as input address signals C1 to C3 to the input port Pi of the memory 4 built in the semiconductor integrated circuit device, and output signals D1 to D3 of the EOR circuits 3a to 3c are input to the AND circuit 5a.

【0024】前記AND回路5aの出力信号Eは奇数段
のインバータ回路2dから出力信号FとしてNOR回路
6aの一方の入力端子に入力されるとともに、前記イン
バータ回路2dの出力信号Fがさらに1段若しくは奇数
段のインバータ回路2eを介して前記NOR回路6aの
他方の入力端子に入力されている。
The output signal E of the AND circuit 5a is input to one input terminal of the NOR circuit 6a as an output signal F from the odd-numbered inverter circuit 2d, and the output signal F of the inverter circuit 2d is further increased by one stage or. It is input to the other input terminal of the NOR circuit 6a via the odd-numbered inverter circuits 2e.

【0025】尚、インバータ回路2dの遅延時間は任意
の時間、特に保証されるべきアドレスアクセス時間に設
定されている。前記NOR回路6aの出力信号Gはクロ
ック信号CKとしてラッチ回路7に入力される。そのラ
ッチ回路7の入力端子はメモリ4の出力ポートPo に接
続され、前記クロック信号CKが入力されると同ラッチ
回路7はメモリ4の出力データXをラッチして出力信号
Hとして試験専用出力端子(図示しない)に出力する。
The delay time of the inverter circuit 2d is set to an arbitrary time, in particular, an address access time to be guaranteed. The output signal G of the NOR circuit 6a is input to the latch circuit 7 as a clock signal CK. The input terminal of the latch circuit 7 is connected to the output port Po of the memory 4, and when the clock signal CK is input, the latch circuit 7 latches the output data X of the memory 4 and outputs it as the output signal H as a test-dedicated output terminal. (Not shown).

【0026】尚、このようなラッチ回路7はメモリ4の
一つの出力ポートに対し一つ設けられるため、多ビット
の出力データを多数の出力ポートから並行に出力するメ
モリ4では多数のラッチ回路が並設される。
Since one such latch circuit 7 is provided for each output port of the memory 4, a large number of latch circuits are provided in the memory 4 which outputs multi-bit output data in parallel from a large number of output ports. It is installed side by side.

【0027】次に、上記のように構成されたメモリ試験
回路の動作を図3及び図4に従って説明する。アドレス
信号AD1〜AD3が外部試験装置から試験専用端子及
び配線L1〜L3を介して入力されると、例えば図3に
示すようにアドレス信号AD1は遅延回路1aにより遅
延されて出力信号B1としてEOR回路3aに出力され
るとともに、インバータ回路2aにより反転されて出力
信号A1としてEOR回路3aに出力される。
Next, the operation of the memory test circuit configured as described above will be described with reference to FIGS. When the address signals AD1 to AD3 are input from the external tester via the test dedicated terminal and the wirings L1 to L3, the address signal AD1 is delayed by the delay circuit 1a as shown in FIG. 3, and the EOR circuit is output as the output signal B1. The output signal A1 is output to the EOR circuit 3a as an output signal A1.

【0028】従って、遅延回路1a及びインバータ回路
2aによりEOR回路3aにはアドレス信号AD1を遅
延させた入力信号B1と、前記信号B1と逆相で同B1
より早いタイミングで変化する入力信号A1とが入力さ
れる。
Therefore, the input signal B1 obtained by delaying the address signal AD1 in the EOR circuit 3a by the delay circuit 1a and the inverter circuit 2a and the same signal B1 in the opposite phase to the signal B1.
The input signal A1 that changes at an earlier timing is input.

【0029】そして、入力信号A1,B1に基づいて、
EOR回路3aは前記入力信号A1,B1が共にHレベ
ルの時、Lレベルとなる出力信号D1を出力する。ま
た、遅延回路1b、インバータ回路2bとEOR回路3
b及び遅延回路1c、インバータ回路2cとEOR回路
3cも同様に動作する。
Then, based on the input signals A1 and B1,
The EOR circuit 3a outputs the output signal D1 which becomes L level when both the input signals A1 and B1 are H level. In addition, the delay circuit 1b, the inverter circuit 2b and the EOR circuit 3
b, the delay circuit 1c, the inverter circuit 2c, and the EOR circuit 3c operate similarly.

【0030】図4に示すように、各EOR回路3a〜3
cに入力される入力信号A1〜A3は試験専用端子から
各インバータ回路2a〜2cまでの配線容量のばらつき
によりその立ち上がりのタイミングにずれが生じ、各E
OR回路3a〜3cに入力される入力信号B1〜B3は
試験専用端子から各遅延回路1a〜1cまでの配線容量
のばらつきによりその立ち下がりのタイミングにずれが
生じる。
As shown in FIG. 4, each of the EOR circuits 3a to 3a.
The input signals A1 to A3 input to c are shifted in their rising timings due to variations in the wiring capacitance from the test-dedicated terminals to the respective inverter circuits 2a to 2c.
The input signals B1 to B3 input to the OR circuits 3a to 3c have fall timings due to variations in wiring capacitance from the test-dedicated terminals to the delay circuits 1a to 1c.

【0031】この結果、各EOR回路3a〜3cから出
力される出力信号D1〜D3のタイミングにもずれが生
じ、その出力信号D1〜D3がAND回路5aに入力さ
れると、AND回路5aの出力信号Eは前記出力信号D
1〜D3のいずれかがLレベルの場合にはLレベルとな
る。
As a result, the timings of the output signals D1 to D3 output from the EOR circuits 3a to 3c are also deviated, and when the output signals D1 to D3 are input to the AND circuit 5a, the output of the AND circuit 5a is output. The signal E is the output signal D
If any of 1 to D3 is L level, it becomes L level.

【0032】従って、前記出力信号D1〜D3のうち最
もタイミングの遅い出力信号D3がHレベルに復帰した
後、即ち、メモリ4に入力されるアドレス信号C1〜C
3のうち最も遅いタイミングで入力されるアドレス信号
C3がメモリ4の入力ポートに入力されるまで、AND
回路5aの出力信号EはLレベルに維持される。
Therefore, among the output signals D1 to D3, the address signal C1 to C which is input to the memory 4 after the output signal D3 having the latest timing is returned to the H level.
AND until the address signal C3 input at the latest timing out of 3 is input to the input port of the memory 4.
The output signal E of the circuit 5a is maintained at L level.

【0033】前記AND回路5aの出力信号EがLレベ
ルからHレベルに立ち上がると、インバータ回路2dの
出力信号Fは同インバータ回路2Dによる遅延時間後に
HレベルからLレベルに立ち下がる。すると、NOR回
路6aの入力信号はともにLレベルとなってその出力信
号Gが立ち上がり、インバータ回路2eによる遅延時間
後にその出力信号GはLレベルに復帰する。そして、こ
の出力信号Gが前記ラッチ回路7にクロック信号CKと
して入力される。
When the output signal E of the AND circuit 5a rises from the L level to the H level, the output signal F of the inverter circuit 2d falls from the H level to the L level after the delay time of the inverter circuit 2D. Then, the input signals of the NOR circuit 6a both become L level, the output signal G thereof rises, and the output signal G returns to L level after the delay time by the inverter circuit 2e. Then, the output signal G is input to the latch circuit 7 as a clock signal CK.

【0034】前記ラッチ回路7にメモリ4の出力信号X
が入力されている状態で、前記NOR回路6aの出力信
号Gがクロック信号CKとしてラッチ回路7に入力され
ると、同ラッチ回路7はメモリ4の出力信号Xをラッチ
してクロック信号CKの立ち下がり後、出力信号Hとし
て出力する。
The output signal X of the memory 4 is sent to the latch circuit 7.
When the output signal G of the NOR circuit 6a is input to the latch circuit 7 as the clock signal CK in the state where the clock signal CK is input, the latch circuit 7 latches the output signal X of the memory 4 and raises the clock signal CK. After falling, it outputs as an output signal H.

【0035】以上のようにこのメモリ試験回路では、外
部試験装置から入力されるアドレス信号AD1〜AD3
がメモリ4の入力ポートにアドレス信号C1〜C3とし
て入力されてから、ほぼインバータ回路2dで設定され
る遅延時間t1後に、ラツチ回路7が活性化されてメモ
リ4の出力信号Xが同ラッチ回路7にラッチされて出力
信号Hとして出力される。
As described above, in this memory test circuit, the address signals AD1 to AD3 input from the external tester are input.
Is input to the input port of the memory 4 as the address signals C1 to C3, and after a delay time t1 set by the inverter circuit 2d, the latch circuit 7 is activated and the output signal X of the memory 4 outputs the latch signal 7. And is output as the output signal H.

【0036】従って、ラッチ回路7から出力される出力
信号Hはインバータ回路2dで設定される遅延時間t1
の時の出力信号Xが保持されるため、試験専用入力端子
からメモリ4の入力ポートまでの信号伝達遅延時間のば
らつき、或いはラッチ回路7の出力端子からチップの試
験専用出力端子までの信号伝達遅延時間のばらつきに関
わらず、メモリ4の出力信号Xを外部試験装置に安定し
て出力可能となるため、同メモリ4の動作試験の精度を
向上させることができる。 第一の実施例の変形例 図5は前記実施例のインバータ回路2dに相当する遅延
回路の別の実施例を示すものである。すなわち、奇数段
のインバータ回路群2gとAND回路5b,5c及びO
R回路8aとで遅延回路が構成されている。
Therefore, the output signal H output from the latch circuit 7 is delayed by the delay time t1 set by the inverter circuit 2d.
Since the output signal X at the time of is held, variations in the signal transmission delay time from the test dedicated input terminal to the input port of the memory 4 or the signal transmission delay from the output terminal of the latch circuit 7 to the test dedicated output terminal of the chip Since the output signal X of the memory 4 can be stably output to the external test apparatus regardless of the time variation, the accuracy of the operation test of the memory 4 can be improved. Modification of First Embodiment FIG. 5 shows another embodiment of a delay circuit corresponding to the inverter circuit 2d of the above embodiment. That is, the odd-numbered inverter circuit group 2g and the AND circuits 5b, 5c and O
A delay circuit is configured with the R circuit 8a.

【0037】そして、前記AND回路5aの出力信号E
は前記奇数段のインバータ回路群2gを介してOR回路
8aに入力され、前記インバータ回路群2gの入力端子
から奇数段目の端子N1がAND回路5bの一方の入力
端子に接続され、前記端子N1から偶数段目の端子N2
がAND回路5cの一方の入力端子に接続されている。
また、AND回路5bの他方の入力端子には入力信号b
が入力されるとともに、AND回路5cの他方の入力端
子には入力信号aが入力されている。
Then, the output signal E of the AND circuit 5a
Is input to the OR circuit 8a through the odd-numbered inverter circuit group 2g, and the odd-numbered terminal N1 from the input terminal of the inverter circuit group 2g is connected to one input terminal of the AND circuit 5b. To the even-numbered terminal N2
Is connected to one input terminal of the AND circuit 5c.
The other input terminal of the AND circuit 5b receives the input signal b
And the input signal a is input to the other input terminal of the AND circuit 5c.

【0038】このような遅延回路では、図6に示すよう
に入力信号a,bをLレベルとした状態でHレベルから
Lレベルに立ち下がる入力信号Eが入力されるとインバ
ータ回路群2gによる遅延時間後にOR回路8aの出力
信号FがLレベルからHレベルに立ち下がる。
In such a delay circuit, when the input signal E falling from the H level to the L level is input with the input signals a and b set to the L level as shown in FIG. 6, the delay is caused by the inverter circuit group 2g. After a lapse of time, the output signal F of the OR circuit 8a falls from the L level to the H level.

【0039】また、入力信号aをHレベル、入力信号b
をLレベルとすると、インバータ回路群2gの端子N2
より後段のインバータ回路による遅延時間は無効化され
てこの遅延回路の遅延時間が短縮され、さらに、入力信
号bをHレベルとすると、インバータ回路群2gの端子
N1より後段のインバータ回路による遅延時間は無効化
されてこの遅延回路の遅延時間がさらに短縮される。
The input signal a is at H level and the input signal b is
Is set to the L level, the terminal N2 of the inverter circuit group 2g is
The delay time by the inverter circuit in the subsequent stage is invalidated and the delay time of this delay circuit is shortened. Further, when the input signal b is set to the H level, the delay time by the inverter circuit in the subsequent stage from the terminal N1 of the inverter circuit group 2g is reduced. It is invalidated and the delay time of this delay circuit is further shortened.

【0040】このような遅延回路では、外部から入力信
号a,bを適宜に入力することによりその遅延時間を選
択することができるので、メモリ4にアドレス信号C1
〜C3が入力されてからラッチ回路7にNOR回路6a
の出力信号Gを入力するまでの時間を選択することがで
きる。
In such a delay circuit, the delay time can be selected by appropriately inputting the input signals a and b from the outside, so that the address signal C1 is applied to the memory 4.
~ C3 is input, the NOR circuit 6a is input to the latch circuit 7.
The time until the output signal G of is input can be selected.

【0041】図7は、図2に示す前記インバータ回路群
2dをバイポーラトランジスタで構成した実施例を示す
ものである。即ち、このインバータ回路群2dはNPN
トランジスタTr1〜Tr4で1段のインバータ回路が構成
され、このようなインバータ回路が奇数段直列に接続さ
れている。
FIG. 7 shows an embodiment in which the inverter circuit group 2d shown in FIG. 2 is composed of bipolar transistors. That is, the inverter circuit group 2d is an NPN
The transistors Tr1 to Tr4 form an inverter circuit of one stage, and such inverter circuits are connected in series in odd stages.

【0042】そして、各インバータ回路ではバイアス信
号Vcsに基づいてトランジスタTr3がオンされると差動
回路を構成するトランジスタTr1, Tr2が活性化され、
入力信号Eを反転させた信号がトランジスタTr4のエミ
ッタから後段のインバータ回路に出力される。
Then, in each inverter circuit, when the transistor Tr3 is turned on based on the bias signal Vcs, the transistors Tr1 and Tr2 forming the differential circuit are activated,
A signal obtained by inverting the input signal E is output from the emitter of the transistor Tr4 to the inverter circuit in the subsequent stage.

【0043】各インバータ回路の出力トランジスタTr4
のエミッタはそれぞれ抵抗を介して電源VTに接続され
ている。この電源VTの電圧レベルを可変とすることに
より各インバータ回路の遅延時間を可変とすることがで
きる。
Output transistor Tr4 of each inverter circuit
The emitters of are connected to the power supply VT via resistors. By varying the voltage level of the power supply VT, the delay time of each inverter circuit can be varied.

【0044】このような構成により入力信号Eが入力さ
れると、各インバータ回路の遅延時間の総和に基づく遅
延時間後に出力信号Fが出力され、その遅延時間は電源
VTの電圧レベルを変更することにより適宜に調節する
ことができる。
When the input signal E is input by such a configuration, the output signal F is output after a delay time based on the sum of the delay times of the respective inverter circuits, and the delay time changes the voltage level of the power supply VT. Can be adjusted appropriately.

【0045】図8は図2に示す前記インバータ回路群2
dをMOSトランジスタで構成した実施例を示すもので
ある。即ち、このインバータ回路群2dはPチャネルM
OSトランジスタTrpとNチャネルMOSトランジスタ
Trnとを電源Vccx とグランドGNDとの間で直列に接
続して構成した奇数段のインバータ回路が直列に接続さ
れ、初段のインバータ回路の入力端子に入力信号Eが入
力されるとともに終段のインバータ回路から出力信号F
が出力されている。そして、各インバータ回路の高電位
側電源Vccx の電圧レベルは他の回路の電源Vccとは独
立して変化させ得るように構成する。
FIG. 8 shows the inverter circuit group 2 shown in FIG.
It shows an embodiment in which d is a MOS transistor. That is, the inverter circuit group 2d is a P channel M
The odd-numbered inverter circuits configured by connecting the OS transistor Trp and the N-channel MOS transistor Trn in series between the power supply Vccx and the ground GND are connected in series, and the input signal E is input to the input terminal of the first-stage inverter circuit. Input signal and output signal F from the final stage inverter circuit
Is being output. The voltage level of the high-potential-side power supply Vccx of each inverter circuit can be changed independently of the power supply Vcc of other circuits.

【0046】このような構成により入力信号EがHレベ
ルからLレベル或いはLレベルからHレベルに移行する
と、各インバータ回路の動作時間の総和となる遅延時間
後に、出力信号FがLレベルからHレベルあるいはHレ
ベルからLレベルに移行する。そして、各インバータ回
路の電源Vccx の電圧レベルを変更することにより、そ
の遅延時間を適宜に調節することができる。
When the input signal E shifts from the H level to the L level or from the L level to the H level with such a configuration, the output signal F changes from the L level to the H level after a delay time that is the sum of the operating time of each inverter circuit. Alternatively, the H level is shifted to the L level. Then, by changing the voltage level of the power supply Vccx of each inverter circuit, the delay time can be adjusted appropriately.

【0047】図9は、図2に示すインバータ回路群2d
設定される遅延時間をモニターするための回路構成であ
り、インバータ回路群2dの入力信号Eを外部計測装置
へ出力すると共に、インバータ回路群2dの出力信号F
をさらに多数段のインバータ回路群2hを介して出力信
号Mとして外部計測装置へ出力する。
FIG. 9 shows an inverter circuit group 2d shown in FIG.
It is a circuit configuration for monitoring the set delay time, and outputs an input signal E of the inverter circuit group 2d to an external measuring device and an output signal F of the inverter circuit group 2d.
Is output as an output signal M to the external measuring device through the inverter circuit group 2h having a larger number of stages.

【0048】このような構成により、入力信号Eに対す
る出力信号Mの遅延時間を外部計測装置で計測し、イン
バータ回路群2dのインバータ回路の段数と前記のよう
に付加されたインバータ回路2hの段数との比と計測さ
れた遅延時間に基づいて、インバータ回路群2dによる
遅延時間を算出して求めることにより、インバータ回路
群2dの遅延時間をモニターすることができる。
With such a configuration, the delay time of the output signal M with respect to the input signal E is measured by an external measuring device, and the number of inverter circuits in the inverter circuit group 2d and the number of inverter circuits 2h added as described above are calculated. It is possible to monitor the delay time of the inverter circuit group 2d by calculating and obtaining the delay time of the inverter circuit group 2d based on the ratio and the measured delay time.

【0049】尚、インバータ回路群2dの終段のインバ
ータ回路に接続した多数段のインバータ回路2hは、イ
ンバータ回路群2dの入力信号Eを外部計測装置に直接
出力するための遅延時間を相対的に無視できるような小
さな値として計算するために付加したものであり、入力
信号Eを外部に出力するための遅延時間が前記インバー
タ回路群2dによる遅延時間に対し無視できる程度の時
間であれば、必ずしも必要ではない。第二の実施例 図10は本発明の第二の実施例に係るメモリ試験回路の
回路図である。
The multistage inverter circuit 2h connected to the final stage inverter circuit of the inverter circuit group 2d has a relative delay time for directly outputting the input signal E of the inverter circuit group 2d to the external measuring device. It is added in order to calculate as a small value that can be ignored, so long as the delay time for outputting the input signal E to the outside is a time that can be ignored with respect to the delay time by the inverter circuit group 2d. Not necessary. Second Embodiment FIG. 10 is a circuit diagram of a memory test circuit according to a second embodiment of the present invention.

【0050】即ち、外部試験装置からチップの試験専用
端子を介して入力されるアドレス信号AD1,AD2,
AD3はラッチ回路7b〜7dに入力され、同じく外部
試験装置からチップの試験専用端子を介して入力される
信号Iはラッチ回路7eに入力される。
That is, the address signals AD1, AD2 input from the external test equipment through the test dedicated terminals of the chip.
AD3 is input to the latch circuits 7b to 7d, and the signal I which is also input from the external test apparatus via the test dedicated terminal of the chip is input to the latch circuit 7e.

【0051】各ラッチ回路7b〜7dは、クロック信号
CLKに基づいて入力信号をラッチしてメモリ4の入力
ポートPi に出力し、ラッチ回路7eは信号Iをラッチ
して奇数段のインバータ回路2dに出力する。
Each of the latch circuits 7b to 7d latches an input signal on the basis of the clock signal CLK and outputs it to the input port Pi of the memory 4, and the latch circuit 7e latches the signal I to the inverter circuit 2d of odd stages. Output.

【0052】尚、各ラッチ回路7b〜7dからメモリ4
の入力ポートPi までの信号伝達時間t及びラッチ回路
7eからインバータ回路2dまでの信号伝達遅延時間t
は、ほぼ同一で殆ど無視できる程度のものとする。
The latch circuits 7b to 7d are connected to the memory 4
Signal transmission time t to the input port Pi and signal transmission delay time t from the latch circuit 7e to the inverter circuit 2d
Are almost the same and almost negligible.

【0053】このような試験回路では、図11に示すよ
うに外部試験装置から入力されるAD1,AD2,AD
3及び信号Iが各ラッチ回路7b〜7eに入力されてい
る状態で、各ラッチ回路7b〜7eにクロック信号CL
Kが入力されると、各ラッチ回路7b〜7eはアドレス
信号ADD1 ,ADD2 ,ADD3 ,信号Iをそれぞれ
ラッチして出力する。
In such a test circuit, as shown in FIG. 11, AD1, AD2, AD input from an external test apparatus are used.
3 and the signal I are input to the latch circuits 7b to 7e, the clock signal CL is input to the latch circuits 7b to 7e.
When K is input, each of the latch circuits 7b to 7e latches and outputs the address signals ADD1, ADD2, ADD3, and the signal I, respectively.

【0054】すると、アドレス信号ADD1 ,ADD2
,ADD3 はメモリ4の入力ポートPi に入力され、
信号Iはインバータ回路2dに入力される。インバータ
回路2dの出力信号Fは、ラッチ回路7eの出力信号J
がLレベルからHレベルに立ち上がると、インバータ回
路2dによる遅延時間後にHレベルからLレベルに立ち
下がる。
Then, the address signals ADD1 and ADD2
, ADD3 are input to the input port Pi of the memory 4,
The signal I is input to the inverter circuit 2d. The output signal F of the inverter circuit 2d is the output signal J of the latch circuit 7e.
Rises from L level to H level, it falls from H level to L level after a delay time by the inverter circuit 2d.

【0055】すると、NOR回路6aの入力信号は共に
Lレベルとなってその出力信号Gが立ち上がり、インバ
ータ回路2eによる遅延時間後にその出力信号GはLレ
ベルに復帰する。
Then, the input signals of the NOR circuit 6a both become L level, the output signal G rises, and the output signal G returns to L level after the delay time by the inverter circuit 2e.

【0056】そして、この出力信号Gがラッチ回路7a
にクロック信号CKとして入力される。前記ラッチ回路
7aにメモリ4の出力信号Xが入力されている状態で、
前記NOR回路6aの出力信号Gがクロック信号CKと
してラッチ回路7aに入力されると、同ラツチ回路7a
はメモリ4の出力信号Xをラッチしてクロック信号CK
の立ち下がり後、出力信号Hとして出力する。
The output signal G is output to the latch circuit 7a.
Is input as a clock signal CK. With the output signal X of the memory 4 being input to the latch circuit 7a,
When the output signal G of the NOR circuit 6a is input to the latch circuit 7a as the clock signal CK, the latch circuit 7a is also provided.
Latches the output signal X of the memory 4 and outputs the clock signal CK
After the fall of, the output signal H is output.

【0057】従って、この試験回路では、試験専用端子
から各ラッチ回路7b〜7eまでの信号伝達時間T1〜
T4にばらつきが生じても、クロック信号CLKにより
アドレス信号ADD1 ,ADD2 ,ADD3 とラッチ回
路7eの出力信号Jは同期しているため、前記信号伝達
遅延時間T1〜T4のばらつきに影響されることなくメ
モリ4の試験精度を向上させることができる。第三の実施例 図13は本発明の第三の実施例のメモリ試験回路の回路
図である。本実施例のメモリ試験回路11’は、図12
に示すような半導体集積回路チップ内に構成されるもの
である。
Therefore, in this test circuit, the signal transmission time T1 from the test-dedicated terminal to each of the latch circuits 7b to 7e is T1.
Even if T4 varies, the address signals ADD1, ADD2, ADD3 and the output signal J of the latch circuit 7e are synchronized by the clock signal CLK, so that they are not affected by the variations in the signal transmission delay times T1 to T4. The test accuracy of the memory 4 can be improved. Third Embodiment FIG. 13 is a circuit diagram of a memory test circuit according to a third embodiment of the present invention. The memory test circuit 11 'of this embodiment is similar to that shown in FIG.
It is constructed in a semiconductor integrated circuit chip as shown in FIG.

【0058】図12に示すように、メモリ4のライトイ
ネーブル端子WEiに入力されるライトイネーブル信号
WEとしては、チップに設けられる試験専用入力端子T
iにテスト用ライトイネーブル入力信号WEtestが外部
試験装置から入力されている。また、このライトイネー
ブル信号WEはメモリ試験回路11’にも供給されてお
り、メモリ4の出力ポートPo に接続したラッチ回路7
を活性化するクロック信号(活性化信号)CKを生成す
るための基準信号として使用している。
As shown in FIG. 12, as the write enable signal WE input to the write enable terminal WEi of the memory 4, the test dedicated input terminal T provided in the chip is used.
A test write enable input signal WEtest is input to i from an external test apparatus. The write enable signal WE is also supplied to the memory test circuit 11 ', and the latch circuit 7 connected to the output port Po of the memory 4 is also provided.
Is used as a reference signal for generating a clock signal (activation signal) CK for activating.

【0059】メモリ試験回路11’は、図13に示すよ
うに、ライトイネーブル信号WEに基づいて該ライトイ
ネーブル信号WEの信号変化がメモリ4のライトイネー
ブル端子WEi で確定してから所定の遅延時間後に出力
信号を出力する遅延回路2dと、遅延回路2dの出力信
号に基づいてラッチ回路7へのクロック信号CKを生成
するパルス発生回路2e,6aとを備えており、遅延回
路2dは奇数段のインバータ回路で構成され、パルス発
生回路は1段若しくは奇数段のインバータ回路2eとN
OR回路6aとで構成されている。
The memory test circuit 11 ', as shown in FIG. 13, has a predetermined delay time after the signal change of the write enable signal WE is determined at the write enable terminal WEi of the memory 4 based on the write enable signal WE. The delay circuit 2d outputs an output signal, and pulse generation circuits 2e and 6a which generate a clock signal CK to the latch circuit 7 based on the output signal of the delay circuit 2d. The delay circuit 2d includes an odd number of inverters. Circuit, and the pulse generation circuit includes an inverter circuit 2e of one stage or an odd number stage and an N stage.
It is composed of an OR circuit 6a.

【0060】遅延回路2dは、ライトイネーブル信号W
E(信号E’)を入力して奇数段のインバータ回路の遅
延時間分だけ遅れた出力信号F’を出力する。パルス発
生回路では、この遅延回路2dの出力信号F’をNOR
回路6aの一方の入力端子に入力すると共に、1段若し
くは奇数段のインバータ回路2eに入力し、インバータ
回路2eの出力をNOR回路6aの他方の入力端子に入
力している。
The delay circuit 2d has a write enable signal W.
E (signal E ′) is input to output an output signal F ′ delayed by the delay time of the odd-numbered inverter circuits. In the pulse generation circuit, the output signal F ′ of this delay circuit 2d is NORed.
It is input to one input terminal of the circuit 6a and also input to the inverter circuit 2e of one stage or an odd number of stages, and the output of the inverter circuit 2e is input to the other input terminal of the NOR circuit 6a.

【0061】故にこの構成によれば、遅延回路2dにL
レベルからHレベルに変化する信号E’を入力すること
により、ラッチ回路7へのクロック信号CKとして、パ
ルス発生回路からは、遅延回路2dの奇数段のインバー
タ回路の遅延時間分だけ遅れ、且つ1段若しくは奇数段
のインバータ回路2eの持つ遅延時間分のパルス幅(t
p )を持つパルスが出力される。このように、遅延回路
2dのインバータ回路の段数を変えることにより、任意
の遅延時間を得ることができる。この場合、精度はイン
バータ回路の単体遅延時間による。尚、本実施例では遅
延回路2dの遅延時間は、保証されるべき書き込み遅延
時間TWSに設定されている。
Therefore, according to this structure, the delay circuit 2d has L
By inputting the signal E ′ that changes from the level to the H level, the clock signal CK to the latch circuit 7 is delayed from the pulse generation circuit by the delay time of the odd-numbered inverter circuits of the delay circuit 2d, and 1 The pulse width (t
A pulse with p) is output. Thus, by changing the number of stages of the inverter circuit of the delay circuit 2d, it is possible to obtain an arbitrary delay time. In this case, the accuracy depends on the unit delay time of the inverter circuit. In this embodiment, the delay time of the delay circuit 2d is set to the write delay time TWS that should be guaranteed.

【0062】NOR回路6aの出力信号G’はクロック
信号CKとしてラッチ回路7に入力される。そのラッチ
回路7の入力端子はメモリ4の出力ポートPo に接続さ
れ、クロック信号CKが入力されると同ラッチ回路7は
メモリ4の出力データXをラッチして出力信号Hとして
試験専用出力端子To に出力し、テスト出力信号DOte
stとなる。
The output signal G'of the NOR circuit 6a is input to the latch circuit 7 as the clock signal CK. The input terminal of the latch circuit 7 is connected to the output port Po of the memory 4, and when the clock signal CK is input, the latch circuit 7 latches the output data X of the memory 4 and outputs it as an output signal H for the test-dedicated output terminal To. To the test output signal DOte
It becomes st.

【0063】尚、このようなラッチ回路7はメモリ4の
一つの出力ポートに対し一つ設けられるため、多ビット
の出力データを多数の出力ポートから並行に出力するメ
モリ4では多数のラッチ回路が並設される。
Since one such latch circuit 7 is provided for each output port of the memory 4, a large number of latch circuits are provided in the memory 4 which outputs multi-bit output data in parallel from a large number of output ports. It is installed side by side.

【0064】次に、上記のように構成されたメモリ試験
回路の動作を図14に従って説明する。試験専用入力端
子Tiにテスト用ライトイネーブル入力信号WEtestが
外部試験装置から入力されると、メモリ4のライトイネ
ーブル端子WEi には入力遅延時間tDi 分だけ遅れた
ライトイネーブル信号WE(信号E’)が伝達される。
このライトイネーブル信号WEは、遅延回路2dの奇数
段のインバータ回路の遅延時間(保証されるべき書き込
み遅延時間)分だけ遅れた信号F’となってパルス発生
回路2e,6aに供給される。
Next, the operation of the memory test circuit configured as described above will be described with reference to FIG. When the test write enable input signal WEtest is input to the test dedicated input terminal Ti from the external test apparatus, the write enable signal WE (signal E ′) delayed by the input delay time tDi is input to the write enable terminal WEi of the memory 4. Transmitted.
The write enable signal WE is supplied to the pulse generating circuits 2e and 6a as a signal F'delayed by the delay time (write delay time to be guaranteed) of the odd-numbered inverter circuits of the delay circuit 2d.

【0065】ここで、パルス発生回路2e,6aの遅延
が測定上問題ないとすれば、ラッチ回路7には、保証さ
れるべき書き込み遅延時間TWS分遅れた時点(図中、
タイミングAt )の出力Xを保持できることになる。更
に、テスト出力信号DOtestとしては、パルス発生回路
2e,6aのパルス幅tp +出力遅延時間tDo 分だけ
遅れて、ラッチ回路7内に保持したデータが出力され
る。
Here, assuming that the delays of the pulse generation circuits 2e and 6a have no problem in measurement, the latch circuit 7 is delayed by the write delay time TWS to be guaranteed (in the figure,
The output X at the timing At) can be held. Further, as the test output signal DOtest, the data held in the latch circuit 7 is output with a delay of the pulse width tp of the pulse generating circuits 2e and 6a + the output delay time tDo.

【0066】以上のように本実施例のメモリ試験回路で
は、試験専用出力端子To から出力されるテスト出力信
号DOtestは、遅延回路2dの遅延時間分遅れた出力を
維持しており、内部配線による遅延等とは無関係にでき
る。また、次のクロック信号CKをラッチ回路7に与え
るまで、メモリ4の出力信号Xを保持しているため、外
部試験装置の精度に合わせた測定が可能になる。即ち、
外部試験装置の精度とも無関係にできる。
As described above, in the memory test circuit of the present embodiment, the test output signal DOtest output from the test-dedicated output terminal To maintains the output delayed by the delay time of the delay circuit 2d, and the internal wiring is used. It can be made independent of delay and the like. Further, since the output signal X of the memory 4 is held until the next clock signal CK is given to the latch circuit 7, it is possible to carry out the measurement according to the accuracy of the external test apparatus. That is,
It can be independent of the accuracy of the external test equipment.

【0067】以上の説明では、書き込み遅延時間TWS
の保証について述べたが、遅延回路2dの遅延時間の設
定を保証されるべき書き込み回復時間TWRに設定し、
遅延回路を偶数段のインバータ回路とすることにより、
書き込み回復時間TWRについても全く同様に保証でき
る。
In the above description, the write delay time TWS
As described above, the delay time of the delay circuit 2d is set to the write recovery time TWR to be guaranteed,
By making the delay circuit an even number of inverter circuits,
The write recovery time TWR can be similarly guaranteed.

【0068】また本実施例についても、第一の実施例に
対して展開した変形例は、同様に適用できる。
The modified example developed for the first embodiment can be similarly applied to this embodiment.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明は半導体集
積回路装置に内蔵されたメモリの動作試験の精度を向上
させることができる優れた効果を発揮する。
As described above in detail, the present invention exerts an excellent effect of improving the accuracy of the operation test of the memory built in the semiconductor integrated circuit device.

【0070】つまり、本発明の第一、第二、及び第三の
特徴の半導体集積回路装置によれば、アドレス信号がメ
モリの入力ポートに入力されてから所定時間後にメモリ
試験回路によりラッチ回路に活性化信号が入力され、そ
の活性化信号に基づいてラッチ回路はメモリの出力ポー
トから出力されるデータをラッチしてチップの出力端子
に出力することとしたので、メモリ動作試験において出
力端子から出力される出力信号の精度が向上し、結果と
して信頼性の向上した半導体集積回路を提供することが
できる。
That is, according to the semiconductor integrated circuit device of the first, second, and third features of the present invention, the memory test circuit causes the latch circuit to operate in a predetermined time after the address signal is input to the input port of the memory. The activation signal is input, and based on the activation signal, the latch circuit latches the data output from the memory output port and outputs it to the output terminal of the chip, so it is output from the output terminal in the memory operation test. It is possible to provide a semiconductor integrated circuit in which the accuracy of the output signal obtained is improved and, as a result, the reliability is improved.

【0071】また、本発明の第四及び第五の特徴の半導
体集積回路装置によれば、メモリのライトイネーブル端
子におけるライトイネーブル信号の信号変化を基準とし
て、所定の遅延時間を置いて出力ポートから出力される
データをラッチしてチップの出力端子に出力することと
したので、入力配線の遅延等を考慮に入れることなく測
定が可能となり、また、出力値は所定の遅延時間後の時
点で保持されたものであり、出力を測定するタイミング
は書き込み遅延時間(TWS)及び書き込み回復時間
(TWR)の大小によらず緩いタイミングで測定できる
ため、外部試験装置のAC精度や出力の配線遅延時間と
無関係に、メモリに対して正確な保証値で書き込み遅延
時間(TWS)及び書き込み回復時間(TWR)を保証
した測定が可能となり、結果として信頼性の向上した半
導体集積回路を提供することができる。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device of the fourth and fifth aspects of the present invention, a predetermined delay time is set with a predetermined delay time from the output port with reference to the signal change of the write enable signal at the write enable terminal of the memory. Since the output data is latched and output to the output terminal of the chip, it is possible to measure without taking delay of input wiring into consideration, and the output value is held at a point after a predetermined delay time. The output measurement timing can be measured at a loose timing regardless of the write delay time (TWS) and write recovery time (TWR). Irrespective of the above, it is possible to perform a measurement in which the write delay time (TWS) and the write recovery time (TWR) are guaranteed with an accurate guaranteed value for the memory. , It is possible to provide a semiconductor integrated circuit with improved reliability as a result.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】本発明の第一の実施例の試験回路を示す回路図
である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a test circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図3】第一の実施例の動作を示す波形図である。FIG. 3 is a waveform diagram showing the operation of the first embodiment.

【図4】第一の実施例の動作を示す波形図である。FIG. 4 is a waveform diagram showing the operation of the first embodiment.

【図5】第一の実施例の遅延回路の変形例を示す回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a modification of the delay circuit of the first embodiment.

【図6】図5に示す遅延回路の動作を示す波形図であ
る。
6 is a waveform chart showing an operation of the delay circuit shown in FIG.

【図7】第一の実施例の遅延回路の具体的構成を示す回
路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a specific configuration of the delay circuit of the first embodiment.

【図8】第一の実施例の遅延回路の具体的構成を示す回
路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a specific configuration of the delay circuit according to the first embodiment.

【図9】第一の実施例の遅延回路の変形例を示す回路図
である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a modification of the delay circuit of the first embodiment.

【図10】本発明の第二の実施例を示す回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図11】第二の実施例の動作を示す波形図である。FIG. 11 is a waveform chart showing the operation of the second embodiment.

【図12】本発明の原理説明図である。FIG. 12 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図13】本発明の第三の実施例の試験回路を示す回路
図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a test circuit of a third embodiment of the present invention.

【図14】第三の実施例の動作を示す波形図である。FIG. 14 is a waveform chart showing the operation of the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a〜1c…遅延回路 2d…遅延回路 2e,6a…パルス発生回路 2a〜2c,2d,2e,2g,2h…インバータ回路 3a〜3c…EOR回路 4…メモリ 5a,5b,5c…AND回路 6a…NOR回路 7…ラッチ回路 7b〜7d,7e…ラッチ回路 8a…OR回路 9,9’…チップ 10…論理回路 11,11’…メモリ試験回路 A1〜A3…インバータ回路2a〜2cの出力信号 AD,AD1〜AD3…アドレス信号 ADD1 ,ADD2 ,ADD3 …アドレス信号 At …タイミング B1〜B3…遅延回路1a〜1cの出力信号 C1〜C3…入力アドレス信号 CLK…クロック信号 CK…クロック信号(活性化信号) D1〜D3…EOR回路3a〜3cの出力信号 DOtest…テスト出力信号 E…AND回路5aの出力信号 F…インバータ回路2dの出力信号 G…NOR回路6aの出力信号 GND…グランド I…外部試験装置からの入力信号 J…ラッチ回路7eの出力信号 L1〜L3…内部配線 M…インバータ回路群2hの出力信号 Pi …入力ポート Po …出力ポート TWS…書き込み遅延時間 TWR…書き込み回復時間 Ti …試験専用入力端子 To …試験専用出力端子 Tr1〜Tr4…NPNトランジスタ Trp…PチャネルMOSトランジスタ Trn…NチャネルMOSトランジスタ VT…電源 Vcs…バイアス信号 Vccx …電源 WEi…ライトイネーブル端子 WE…ライトイネーブル信号 WEtest…テスト用ライトイネーブル入力信号 X…メモリ4の出力信号 tp …インバータ回路2eの持つ遅延時間分のパルス幅 tDi …入力遅延時間 tDo …出力遅延時間 1a to 1c ... Delay circuit 2d ... Delay circuit 2e, 6a ... Pulse generating circuit 2a to 2c, 2d, 2e, 2g, 2h ... Inverter circuit 3a to 3c ... EOR circuit 4 ... Memory 5a, 5b, 5c ... AND circuit 6a ... NOR circuit 7 ... Latch circuit 7b to 7d, 7e ... Latch circuit 8a ... OR circuit 9, 9 '... Chip 10 ... Logic circuit 11, 11' ... Memory test circuit A1 to A3 ... Inverter circuits 2a to 2c output signals AD, AD1 to AD3 ... Address signals ADD1, ADD2, ADD3 ... Address signal At ... Timing B1 to B3 ... Output signals of delay circuits 1a to 1c C1 to C3 ... Input address signal CLK ... Clock signal CK ... Clock signal (activation signal) D1 -D3 ... Output signal of EOR circuits 3a-3c DOtest ... Test output signal E ... Output signal of AND circuit 5a F ... output signal of the inverter circuit 2d G ... output signal of the NOR circuit 6a GND ... ground I ... input signal from an external test device J ... output signal of the latch circuit 7e L1 to L3 ... internal wiring M ... output signal of the inverter circuit group 2h Pi ... Input port Po ... Output port TWS ... Write delay time TWR ... Write recovery time Ti ... Test dedicated input terminal To ... Test dedicated output terminal Tr1 to Tr4 ... NPN transistor Trp ... P channel MOS transistor Trn ... N channel MOS transistor VT ... Power supply Vcs ... Bias signal Vccx ... Power supply WEi ... Write enable terminal WE ... Write enable signal WEtest ... Test write enable input signal X ... Memory 4 output signal tp ... Inverter circuit 2e delay time pulse width tDi ... Input delay Time tDo ... Output delay time

フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // H01L 21/66 W 7352−4M Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location // H01L 21/66 W 7352-4M

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 チップ(9)上にメモリ(4)を有し、
前記チップ(9)の試験専用端子(Ti )への入力信号
(WE)に基づいて前記メモリ(4)の動作試験を行う
半導体集積回路であって、 前記試験専用端子(Ti )への入力信号(WE)が前記
メモリ(4)の入力ポート(Pi )に入力されてから所
定時間後に該メモリ(4)の出力ポート(Po)に接続
したラッチ回路(7)を活性化する活性化信号(CK)
を出力するメモリ試験回路(11)を備え、前記ラッチ
回路(7)の出力信号をチップの出力端子(To )から
出力することを特徴とする半導体集積回路装置。
1. A memory (4) is provided on a chip (9),
A semiconductor integrated circuit for performing an operation test of the memory (4) based on an input signal (WE) to a test dedicated terminal (Ti) of the chip (9), the input signal to the test dedicated terminal (Ti) An activation signal (7) for activating the latch circuit (7) connected to the output port (Po) of the memory (4) after a predetermined time has passed since (WE) was input to the input port (Pi) of the memory (4). CK)
A semiconductor integrated circuit device, comprising: a memory test circuit (11) for outputting the signal, and outputting the output signal of the latch circuit (7) from an output terminal (To) of the chip.
【請求項2】 前記メモリ試験回路(11)は多ビット
のアドレス信号(AD1〜AD3)に基づいて前記メモ
リ(4)の入力ポート(Pi )にアドレス信号(C1〜
C3)が入力されてから所定の遅延時間後に出力信号を
出力する遅延回路(2d)と、 前記遅延回路(2d)の出力信号に基づいて前記ラッチ
回路(7)への活性化信号(CK)を生成するパルス発
生回路(2e,6a)と、から構成したことを特徴とす
る請求項1記載の半導体集積回路装置。
2. The memory test circuit (11) supplies address signals (C1 to C1) to an input port (Pi) of the memory (4) based on multi-bit address signals (AD1 to AD3).
A delay circuit (2d) that outputs an output signal after a predetermined delay time from the input of C3), and an activation signal (CK) to the latch circuit (7) based on the output signal of the delay circuit (2d). 2. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a pulse generation circuit (2e, 6a) for generating the.
【請求項3】 前記メモリ試験回路(11)はクロック
信号(CLK)に基づいて外部試験装置から入力される
多ビットのアドレス信号(AD1〜AD3)をラッチし
て前記メモリ(4)の入力ポート(Pi )にアドレス信
号(ADD1〜ADD3 )として出力するラッチ回路
(7b〜7d)と、 前記クロック信号(CLK)に基づいて外部試験装置か
ら入力される信号(I)をラッチして出力するラッチ回
路(7e)と、 前記ラッチ回路(7e)の出力信号を入力してから所定
の遅延時間後に出力信号を出力する遅延回路(2d)
と、 前記遅延回路(2d)の出力信号に基づいて前記ラッチ
回路(7)への活性化信号(CK)を生成するパルス発
生回路(2e,6a)と、 前記活性信号(CK)に基づいて活性化してメモリ
(4)の出力ポート(Po)の出力信号をラッチして出
力するラッチ回路(7a)と、から構成したことを特徴
とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
3. The memory test circuit (11) latches multi-bit address signals (AD1 to AD3) input from an external tester based on a clock signal (CLK) to input the input port of the memory (4). Latch circuits (7b to 7d) which output to (Pi) as address signals (ADD1 to ADD3), and a latch which latches and outputs a signal (I) input from an external test device based on the clock signal (CLK). A circuit (7e) and a delay circuit (2d) for outputting an output signal after a predetermined delay time from the input of the output signal of the latch circuit (7e)
A pulse generation circuit (2e, 6a) for generating an activation signal (CK) to the latch circuit (7) based on the output signal of the delay circuit (2d), and based on the activation signal (CK) 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a latch circuit (7a) which is activated to latch and output an output signal of the output port (Po) of the memory (4).
【請求項4】 前記メモリ試験回路(11’)は、 ライトイネーブル信号(WE)に基づいて該ライトイネ
ーブル信号(WE)の信号変化が前記メモリ(4)のラ
イトイネーブル端子(WEi )で確定してから所定の遅
延時間後に出力信号を出力する遅延回路(2d)と、 前記遅延回路(2d)の出力信号に基づいて前記ラッチ
回路(7)への活性化信号(CK)を生成するパルス発
生回路(2e,6a)とを有することを特徴とする請求
項4記載の半導体集積回路装置。
4. The memory test circuit (11 ′) determines the signal change of the write enable signal (WE) at a write enable terminal (WEi) of the memory (4) based on the write enable signal (WE). Delay circuit (2d) that outputs an output signal after a predetermined delay time, and pulse generation that generates an activation signal (CK) to the latch circuit (7) based on the output signal of the delay circuit (2d) The semiconductor integrated circuit device according to claim 4, further comprising a circuit (2e, 6a).
JP5058507A 1992-03-19 1993-03-18 Semiconductor integrated circuit device Withdrawn JPH0627205A (en)

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JP4-63857 1992-03-19
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012068174A (en) * 2010-09-25 2012-04-05 Toppan Printing Co Ltd Semiconductor integrated circuit for element evaluation

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