JPH062681U - Vertical diffusion device - Google Patents
Vertical diffusion deviceInfo
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- JPH062681U JPH062681U JP4672692U JP4672692U JPH062681U JP H062681 U JPH062681 U JP H062681U JP 4672692 U JP4672692 U JP 4672692U JP 4672692 U JP4672692 U JP 4672692U JP H062681 U JPH062681 U JP H062681U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】パイロジェニック酸化法を用いる縦型拡散装置
に於いて、塩素系プロセスガスの使用を可能にする。
【構成】前記炉口部をボート9が載置されるボート受台
7によって気密に閉塞する縦型拡散装置に於いて、反応
管フランジ12と前記ボートキャップのフランジとの間
にシール部材20を気密に設け、炉口部の金属部材1,
7の表面が臨む空間を炉内部と完全に遮断し、水蒸気、
或は水蒸気と反応した塩酸が金属部材表面に接触するこ
とを防止する。
(57) [Summary] [Objective] To enable the use of chlorine-based process gas in a vertical diffusion device using a pyrogenic oxidation method. In a vertical diffusion device in which the furnace opening is hermetically closed by a boat pedestal 7 on which a boat 9 is placed, a sealing member 20 is provided between a reaction tube flange 12 and a flange of the boat cap. Installed in an airtight manner, metal member 1,
The space where the surface of 7 faces is completely cut off from the inside of the furnace, and water vapor,
Alternatively, it prevents the hydrochloric acid that has reacted with water vapor from coming into contact with the surface of the metal member.
Description
【0001】[0001]
本考案は縦型拡散装置、特に炉口部の改良に関するものである。 The present invention relates to a vertical diffusion device, and more particularly, to an improvement of a furnace opening.
【0002】[0002]
半導体製造装置の1つとしてロードロック式の縦型拡散装置があり、該縦型拡 散装置はウェーハをボートに所要ピッチで多段に保持させた状態で処理するもの で、前記ボートは気密なロードロック室に待機させ、次に炉内に装入し、又ウェ ーハの拡散処理後前記ボートを気密なロードロック室に引出すもので、拡散処理 中は拡散炉の炉口部は気密に密閉される。 There is a load-lock type vertical diffusion device as one of the semiconductor manufacturing devices. The vertical diffusion device processes wafers while holding them in a boat in multiple stages at a required pitch. It is placed in a lock chamber, then charged into the furnace, and after the wafer is diffused, the boat is pulled out to an airtight load lock chamber. During the diffusion process, the furnace opening of the diffusion furnace is hermetically sealed. To be done.
【0003】 図2に於いて、ロードロック式の縦型拡散装置の概略を説明する。An outline of a load-lock type vertical diffusion device will be described with reference to FIG.
【0004】 図中、1はベースであり、該ベース1に反応管2が立設され、又該ベース1に はヒータ台3を介してヒータ4が設けられ、該ヒータ4は前記反応管2を囲繞し 、該反応管2内部を均一に加熱する様になっている。又、前記ベース1の下方は ロードロック室5となっており、該ロードロック室5内部にはボートエレベータ (図示せず)が設けられており、該ボートエレベータの昇降アーム6にはボート 受台7が設けられ、該ボート受台7にボートキャップ8が載置される。該ボート キャップ8にはウェーハ(特に図示せず)を多段に装填するボート9が立設され ている。In the figure, 1 is a base, a reaction tube 2 is erected on the base 1, and a heater 4 is provided on the base 1 through a heater base 3. The heater 4 is the reaction tube 2 The inside of the reaction tube 2 is uniformly heated. A load lock chamber 5 is provided below the base 1, and a boat elevator (not shown) is provided inside the load lock chamber 5, and a boat pedestal is provided on an elevating arm 6 of the boat elevator. 7 is provided, and the boat cap 8 is placed on the boat pedestal 7. On the boat cap 8, a boat 9 for loading wafers (not shown) in multiple stages is erected.
【0005】 又、前記反応管2の上端にはプロセスガス供給管10が連通され、該プロセス ガス供給管10により前記反応管2の上端よりプロセスガスが供給され、処理後 のプロセスガスは前記反応管2の下端に連通された排気管11より排気される様 になっている。A process gas supply pipe 10 is connected to the upper end of the reaction tube 2, and the process gas is supplied from the upper end of the reaction pipe 2 by the process gas supply pipe 10, and the processed process gas is the reaction gas. The exhaust pipe 11 communicated with the lower end of the pipe 2 exhausts the gas.
【0006】 ウェーハのボート9への装填は、ボートエレベータにより前記ボート9がロー ドロック室5内に引出された状態でウェーハ移載機(図示せず)よって行われ、 装填が完了すると、ボートエレベータがボート受台7を上昇させ、ボート9を前 記反応管2に装入する。Wafers are loaded into the boat 9 by a wafer transfer machine (not shown) in a state where the boat 9 is pulled out into the load lock chamber 5 by the boat elevator. When loading is completed, the boat elevator is loaded. Raises the boat cradle 7 and loads the boat 9 into the reaction tube 2.
【0007】 前記反応管2の炉口部が前記ボート受台7によって気密に閉塞された状態で、 前記プロセスガス供給管10よりプロセスガスが供給され、ウェーハの拡散処理 が行われ、処理後のプロセスガスは前記排気管11より排気される。In a state where the furnace opening of the reaction tube 2 is hermetically closed by the boat pedestal 7, process gas is supplied from the process gas supply tube 10 to perform wafer diffusion processing. The process gas is exhausted from the exhaust pipe 11.
【0008】 前記した様に、ウェーハは気密な炉内(反応管2内)で拡散処理される。従っ て炉内を気密とする為、後述する様にベース1と前記ボート受台7との当接面、 反応管2とベース1との当接面にはそれぞれOリングが挾設されて、両当接面は 該Oリングによってシールされている。As described above, the wafer is diffused in the airtight furnace (in the reaction tube 2). Therefore, in order to make the inside of the furnace airtight, O-rings are installed between the contact surface between the base 1 and the boat pedestal 7 and the contact surface between the reaction tube 2 and the base 1, respectively, as will be described later. Both contact surfaces are sealed by the O-ring.
【0009】 図3、図4に於いて、従来の炉口部について説明する。A conventional furnace opening will be described with reference to FIGS. 3 and 4.
【0010】 前記反応管2の下端にはフランジ12が形成されており、該フランジ12はフ ランジ押え13によって前記ベース1に固定され、前記ボートキャップ8が載置 されるボート受台7はスプリング14を介して前記昇降アーム6により前記ベー ス1に押圧される様になっている。前記フランジ12と前記ベース1との間、又 該ベース1と前記ボート受台7との間にはそれぞれOリング15,16が挾設さ れ、該Oリング15,16により炉口部をシールし、前記反応管2内部を気密状 態にする。A flange 12 is formed at the lower end of the reaction tube 2, the flange 12 is fixed to the base 1 by a flange retainer 13, and the boat pedestal 7 on which the boat cap 8 is placed is a spring. It is adapted to be pressed against the base 1 by the elevating arm 6 via 14. O-rings 15 and 16 are provided between the flange 12 and the base 1 and between the base 1 and the boat pedestal 7, and the O-rings 15 and 16 seal the furnace opening. Then, the inside of the reaction tube 2 is made airtight.
【0011】 ここで、前記Oリング15,16は熱によって損傷し易く、又劣化するので、 前記フランジ押え13に冷却水路17が形成され、又前記ベース1には冷却水路 18が形成され、両冷却水路に冷却水を流通することで、ベース1、フランジ1 2を冷却して前記Oリング15,16の損傷劣化を防止している。Since the O-rings 15 and 16 are easily damaged and deteriorated by heat, a cooling water passage 17 is formed in the flange retainer 13 and a cooling water passage 18 is formed in the base 1. By circulating the cooling water through the cooling water passage, the base 1 and the flange 12 are cooled to prevent damage and deterioration of the O-rings 15 and 16.
【0012】[0012]
【考案が解決しようとする課題】 ところが前記縦型拡散装置に於いて、ウェーハ表面にパイロジェニック(Py rogenic)酸化法によって酸化膜を生成する場合、前記炉口部が冷却され ているので水蒸気が滴化し、前記フランジ12と冷却水路17との間に形成され る空間21に滴化した水が溜まってしまう。更にプロセスガスとして塩素ガス系 を使用する場合、塩素が水滴と化合して塩酸となり、前記ベース1、ボート受台 7等の金属部材の表面を腐食してしまうので、係る縦型拡散装置には塩素系ガス を使用することができないという問題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the vertical diffusion apparatus, when an oxide film is formed on the wafer surface by a pyrogenic oxidation method, since the furnace opening is cooled, steam is generated. The dripping water accumulates in the space 21 formed between the flange 12 and the cooling water passage 17. Furthermore, when chlorine gas is used as the process gas, chlorine combines with water droplets to form hydrochloric acid, which corrodes the surfaces of the metal members such as the base 1 and the boat pedestal 7. There was a problem that chlorine-based gas could not be used.
【0013】 本考案は斯かる実情に鑑み、塩素が水滴と化合して塩酸を生成しても金属部材 表面が腐食されることのない様にしたものである。In view of the above situation, the present invention prevents the surface of the metal member from being corroded even when chlorine combines with water droplets to generate hydrochloric acid.
【0014】[0014]
本考案は、前記炉口部をボートが載置されるボート受台によって気密に閉塞す る縦型拡散装置に於いて、反応管フランジと前記ボートキャップのフランジとの 間にシール部材を気密に設けたことを特徴とするものである。 The present invention relates to a vertical diffusion device in which the furnace opening is hermetically closed by a boat pedestal on which a boat is mounted, and a sealing member is hermetically sealed between the reaction tube flange and the boat cap flange. It is characterized by being provided.
【0015】[0015]
シール部材を気密に設けることで、炉口部の金属部材の表面が臨む空間を炉内 部と完全に遮断し、水蒸気が金属部材に接触して滴化し、或は水蒸気と反応した 塩酸が金属部材表面に接触することを防止する。 By providing the sealing member in an airtight manner, the space facing the surface of the metal member at the furnace opening is completely cut off from the inside of the furnace, and steam contacts the metal member and drops, or hydrochloric acid that reacts with the steam causes metal Prevents contact with the member surface.
【0016】[0016]
以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0017】 尚、図1に於いて、図4中で示したものと同一のものには同符号を付してある 。In FIG. 1, the same parts as those shown in FIG. 4 are designated by the same reference numerals.
【0018】 前記ボートキャップ8下端のフランジ19にリング状のシール部材20を固着 し、前記ボート受台7でベース1の炉口部を閉塞した場合に、前記シール部材2 0が前記フランジ12に気密に当接する様にする。又、前記反応管2、ボートキ ャップ8、フランジ12は石英製であり、前記シール部材20は塩酸によって腐 食されない材質とする。When the ring-shaped seal member 20 is fixed to the flange 19 at the lower end of the boat cap 8 and the furnace opening of the base 1 is closed by the boat pedestal 7, the seal member 20 is attached to the flange 12. Make sure that they are in airtight contact. The reaction tube 2, the boat cap 8, and the flange 12 are made of quartz, and the sealing member 20 is made of a material that is not corroded by hydrochloric acid.
【0019】 上記構成とすると、前記シール部材20は前記空間21を前記反応管2内部側 と外部側とに仕切る。従って、反応管2内部のガスが前記ベース1に達すること がなく、従って水蒸気がベース1等の金属表面に接触して滴化することもなく、 又水滴と反応して生成した塩酸によって前記ベース1が腐食されることもない。With the above configuration, the seal member 20 partitions the space 21 into the reaction tube 2 inside and outside. Therefore, the gas inside the reaction tube 2 does not reach the base 1, so that the steam does not come into contact with the metal surface of the base 1 or the like to form droplets, and the hydrochloric acid generated by reacting with the water droplets causes the base to be formed. 1 is not corroded either.
【0020】 尚、前記シール部材20は前記反応管のフランジ12下面に固着しても良いこ とは言う迄もない。Needless to say, the seal member 20 may be fixed to the lower surface of the flange 12 of the reaction tube.
【0021】[0021]
以上述べた如く本考案によれば、金属部材の表面は反応管内部から完全に遮断 された構造となる為、滴化した水滴が金属部材表面に接触して溜まることもなく 、水滴と反応して生成した塩酸が金属部材表面に接触して該金属部材表面を腐食 することもない。 As described above, according to the present invention, since the surface of the metal member is completely shielded from the inside of the reaction tube, the dripping water droplet does not contact with the surface of the metal member to accumulate and react with the water droplet. The generated hydrochloric acid does not contact the surface of the metal member and corrode the surface of the metal member.
【図1】本考案の要部を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a main part of the present invention.
【図2】縦型拡散装置の概略図である。FIG. 2 is a schematic view of a vertical diffusion device.
【図3】従来の縦型拡散装置の炉口部の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a furnace opening portion of a conventional vertical diffusion device.
【図4】同前従来例の炉口部の要部を示す断面図であ
る。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a main part of a furnace opening of the conventional example.
1 ベース 7 ボート受台 9 ボート 12 フランジ 20 シール部材 21 空間 1 base 7 boat cradle 9 boat 12 flange 20 sealing member 21 space
Claims (1)
によって気密に閉塞する縦型拡散装置に於いて、反応管
フランジと前記ボートキャップのフランジとの間にシー
ル部材を気密に設けたことを特徴とする縦型拡散装置。1. A vertical diffusion device in which a furnace opening is hermetically closed by a boat pedestal on which a boat is mounted, and a sealing member is hermetically provided between a reaction tube flange and a flange of the boat cap. A vertical diffusion device characterized in that
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4672692U JPH062681U (en) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | Vertical diffusion device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4672692U JPH062681U (en) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | Vertical diffusion device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH062681U true JPH062681U (en) | 1994-01-14 |
Family
ID=12755349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4672692U Pending JPH062681U (en) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | Vertical diffusion device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH062681U (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021181854A (en) * | 2020-05-19 | 2021-11-25 | 中外炉工業株式会社 | Heat treatment furnace |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP4672692U patent/JPH062681U/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2021181854A (en) * | 2020-05-19 | 2021-11-25 | 中外炉工業株式会社 | Heat treatment furnace |
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