JPH06268059A - Dicing device - Google Patents

Dicing device

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Publication number
JPH06268059A
JPH06268059A JP4975093A JP4975093A JPH06268059A JP H06268059 A JPH06268059 A JP H06268059A JP 4975093 A JP4975093 A JP 4975093A JP 4975093 A JP4975093 A JP 4975093A JP H06268059 A JPH06268059 A JP H06268059A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dicing
flange
dicing blade
cooling water
blade
Prior art date
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Pending
Application number
JP4975093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Abe
由之 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP4975093A priority Critical patent/JPH06268059A/en
Publication of JPH06268059A publication Critical patent/JPH06268059A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To surely prevent the shortening of the life of a blade by abnormal abrasion or the abnormal cutting of a semiconductor wafer by raising the cooling efficiency of the dicing blade, in a dicing device. CONSTITUTION:A dicing blade 2 for dividing a semiconductor wafer 1 is fastened by a flange 3, and this flange 3 is provided, along the periphery, with holes 4 extending in radial directions. At dicing, to prevent the abnormal heating by the abrasion of a cutting part, it is supplied with cooling water from a cooling water supply port 7. The cooling water flows along the flange 3, and is reserved once in the holes 4 provided at the flange 3. The cooling wafer inside these holes 4 is discharged by the centrifugal force of the flange 3, and hits upon the dicing blade 2 again, whereby the quantity of cooling water hitting upon the dicing blade 2 increases, and the cooling effect improves.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ダイシング技術に関
し、特に、半導体集積回路装置の半導体ウエハを分割切
断するダイシング装置に適用して有効な技術に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing technique, and more particularly to a technique effectively applied to a dicing device for dividing and cutting a semiconductor wafer of a semiconductor integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路装置の組立工程におい
て、半導体ウエハ上に形成されたチップは、ダイシング
によって個々に分割切断されている。
2. Description of the Related Art In a process of assembling a semiconductor integrated circuit device, chips formed on a semiconductor wafer are individually divided and cut by dicing.

【0003】このダイシングは、ダイヤモンド粒子を金
属または樹脂で固めた、厚さが約30μm〜100μm
程度のダイシングブレードを高速で回転させて半導体ウ
エハの分割切断を行っている。また、この切断部は、高
温になるので冷却水を吹き付けてブレードを冷却してい
る。
In this dicing, diamond particles are hardened with metal or resin and have a thickness of about 30 μm to 100 μm.
The semiconductor wafer is divided and cut by rotating a dicing blade at a high speed. Further, since the cutting portion becomes hot, cooling water is sprayed to cool the blade.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このダイシ
ング方法であると、ダイシングブレードに冷却水を吹き
付けても、すぐに冷却水がダイシングブレードから飛散
してしまい、充分な冷却効果が得られない。
However, with this dicing method, even if the cooling water is sprayed onto the dicing blade, the cooling water is immediately scattered from the dicing blade, and a sufficient cooling effect cannot be obtained.

【0005】たとえば、約100μm程度の厚さのダイ
シングブレードの場合、冷却水がダイシングブレードの
中央部まで到達しないために、中央部が異常な高温とな
ってしまう。このために、ダイシングブレードの摩耗が
早まってしまい、図5に示すように、ダイシングブレー
ドの中央部だけが欠けてしまうことによる半導体ウエハ
の異常な切断面となってしまったり、ダイシングブレー
ドの寿命を縮めてしまうという問題があった。
For example, in the case of a dicing blade having a thickness of about 100 μm, since the cooling water does not reach the central portion of the dicing blade, the central portion has an abnormally high temperature. Therefore, the wear of the dicing blade is accelerated, and as shown in FIG. 5, only the central portion of the dicing blade is chipped, resulting in an abnormal cut surface of the semiconductor wafer or shortening the life of the dicing blade. There was a problem of shrinking.

【0006】本発明の目的は、ダイシングブレードの冷
却効率を上げ、異常摩耗によるダイシングブレードの短
寿命や半導体ウエハの異常切断を防止するダイシング装
置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a dicing apparatus which improves the cooling efficiency of the dicing blade and prevents a short life of the dicing blade and abnormal cutting of the semiconductor wafer due to abnormal wear.

【0007】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0009】すなわち、ダイシングブレードを保持する
フランジ部分に穴または溝を設けることによって、ダイ
シングブレードの冷却が効果的に行われるものである。
That is, the dicing blade is effectively cooled by forming a hole or groove in the flange portion holding the dicing blade.

【0010】[0010]

【作用】上記したダイシング方法によれば、ダイシング
ブレードを保持するフランジ部分に設けられた穴または
溝によって冷却水を溜め、切削時に遠心効果でダイシン
グブレードに再び冷却水が当たり、ダイシングブレード
の冷却が効果的に行われる。それによって、異常摩耗に
よるダイシングブレードの短寿命や半導体ウエハの異常
切断を防止することができる。
According to the above-mentioned dicing method, the cooling water is collected by the hole or groove provided in the flange portion holding the dicing blade, and the cooling water is again contacted with the dicing blade by the centrifugal effect during cutting, so that the dicing blade is cooled. Done effectively. As a result, it is possible to prevent a short life of the dicing blade and abnormal cutting of the semiconductor wafer due to abnormal wear.

【0011】[0011]

【実施例1】図1は、本発明の実施例1によるダイシン
グ装置におけるフランジ部の側面の断面図、図2は、本
発明の実施例1によるダイシング装置におけるフランジ
部の平面の断面図である。
Embodiment 1 FIG. 1 is a side sectional view of a flange portion in a dicing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a plane sectional view of a flange portion in a dicing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. .

【0012】本実施例1において、半導体ウエハ1を分
割切断するダイシングブレード2は、フランジ3によっ
て締着固定されている。このフランジ3には、フランジ
3の外周面の半径方向に放射状に延びる穴4が多数設け
られている。
In the first embodiment, the dicing blade 2 for dividing and cutting the semiconductor wafer 1 is fastened and fixed by the flange 3. The flange 3 is provided with a large number of holes 4 radially extending in the radial direction on the outer peripheral surface of the flange 3.

【0013】また、前記フランジ3の中央には、スピン
ドル5が挿入固定されており、このスピンドル5が高速
で回転することによって、ダイシングブレード2および
フランジ3が回転する。このダイシングブレード2の下
部には、ダイシング時に半導体ウエハ1を固定するため
のウエハ送り台6が設けられている。
A spindle 5 is inserted and fixed in the center of the flange 3, and the dicing blade 2 and the flange 3 rotate when the spindle 5 rotates at a high speed. Below the dicing blade 2, a wafer feed table 6 for fixing the semiconductor wafer 1 during dicing is provided.

【0014】前記ダイシングブレード2の横には、ダイ
シングブレード2の外周面に向かって、冷却水を供給す
る冷却水供給口7が設けられている。また、半導体ウエ
ハ1を分割切断するダイシング部には、切削水を供給す
る切削水供給口8が設けられている。
A cooling water supply port 7 for supplying cooling water toward the outer peripheral surface of the dicing blade 2 is provided beside the dicing blade 2. Further, a cutting water supply port 8 for supplying cutting water is provided in the dicing part for dividing and cutting the semiconductor wafer 1.

【0015】また、ダイシングブレード2およびフラン
ジ3の部分は、フランジカバー9に覆われており、冷却
水供給口7から供給された冷却水および切削水供給口8
から供給された切削水等の飛散を防止している。
The parts of the dicing blade 2 and the flange 3 are covered with a flange cover 9, and the cooling water and cutting water supply port 8 supplied from the cooling water supply port 7 are provided.
Prevents the scattering of cutting water supplied from the company.

【0016】次に、本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.

【0017】半導体ウエハ1をウエハ送り台6によって
固定し、高速で回転するダイシングブレード2によっ
て、微細な切断幅で半導体ウエハ1を分割切断し、ペレ
ット化する。
The semiconductor wafer 1 is fixed by the wafer feed table 6, and the semiconductor wafer 1 is divided and cut into pellets with a fine cutting width by the dicing blade 2 rotating at high speed.

【0018】この時、切断部の摩擦による異常な発熱を
防止するために、冷却水供給口7から冷却水が供給され
る。また、切削水供給口8からは、半導体ウエハ1の切
削かすを取り除くための切削水が供給される。この冷却
水供給口7からダイシングブレード2に吹き付けられた
冷却水は、フランジ3に沿って流れ、前記フランジ3に
設けられた穴4内に一旦溜められる。
At this time, cooling water is supplied from the cooling water supply port 7 in order to prevent abnormal heat generation due to friction at the cutting portion. Further, cutting water for removing cutting dust of the semiconductor wafer 1 is supplied from the cutting water supply port 8. The cooling water sprayed from the cooling water supply port 7 to the dicing blade 2 flows along the flange 3 and is temporarily stored in the hole 4 provided in the flange 3.

【0019】前記穴4内に溜められた冷却水は、フラン
ジ3が回転していることによって生じる遠心力で穴4外
に放出される。この放出された冷却水が、再び、ダイシ
ングブレード2に当たることによって、ダイシングブレ
ード2に当たる冷却水量が増加する。
The cooling water stored in the hole 4 is discharged to the outside of the hole 4 by the centrifugal force generated by the rotation of the flange 3. The discharged cooling water hits the dicing blade 2 again, so that the amount of cooling water hitting the dicing blade 2 increases.

【0020】それにより、実施例1によれば、ダイシン
グブレード2に当たる冷却水量が増加することによって
冷却効果が向上するので、ダイシングブレード2の短寿
命化を防止することができる。また、ダイシングブレー
ド2の異常摩擦による半導体ウエハ1の異常な切断面が
無くなるので、半導体集積回路装置の信頼性が向上し、
生産効率も良くなる。
As a result, according to the first embodiment, the cooling effect is improved by increasing the amount of cooling water that hits the dicing blade 2, so that the life of the dicing blade 2 can be prevented from being shortened. Further, since the abnormal cut surface of the semiconductor wafer 1 due to the abnormal friction of the dicing blade 2 is eliminated, the reliability of the semiconductor integrated circuit device is improved,
Production efficiency will also improve.

【0021】[0021]

【実施例2】図3は、本発明の実施例2によるダイシン
グ装置におけるフランジ部の側面の断面図、図4は、本
発明の実施例2によるダイシング装置におけるフランジ
部の平面図である。
[Embodiment 2] FIG. 3 is a side sectional view of a flange portion in a dicing apparatus according to Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 4 is a plan view of the flange portion in a dicing apparatus according to Embodiment 2 of the present invention.

【0022】本実施例2では、ダイシング装置のフラン
ジ3の外側の両側面3aに、フランジ3の半径方向に放
射状に延びる溝10が多数設けられている。この溝10
によって、冷却水供給口7からダイシングブレード2に
吹き付けられた冷却水は、フランジ3の側面3aに沿っ
て流れ、前記フランジ3に設けられた溝10内に一旦溜
められる。
In the second embodiment, a large number of grooves 10 radially extending in the radial direction of the flange 3 are provided on both outer side surfaces 3a of the flange 3 of the dicing device. This groove 10
Thus, the cooling water sprayed from the cooling water supply port 7 to the dicing blade 2 flows along the side surface 3a of the flange 3 and is temporarily stored in the groove 10 provided in the flange 3.

【0023】前記溝10内に溜められた冷却水は、フラ
ンジ3が回転していることによって生じる遠心力で溝1
0に沿って放出される。この放出された冷却水が、再
び、ダイシングブレード2に当たることによって、ダイ
シングブレード2に当たる冷却水量が増加する。
The cooling water stored in the groove 10 is generated by centrifugal force generated by the rotation of the flange 3 in the groove 1.
Emitted along 0. The discharged cooling water hits the dicing blade 2 again, so that the amount of cooling water hitting the dicing blade 2 increases.

【0024】それにより、実施例2によれば、ダイシン
グブレード2に当たる冷却水量が増加することによって
冷却効果が向上するので、ダイシングブレード2の短寿
命化を防止することができる。また、ダイシングブレー
ド2の異常摩擦による半導体ウエハ1の異常な切断面が
無くなるので、半導体集積回路装置の信頼性が向上し、
生産効率も良くなる。
As a result, according to the second embodiment, the cooling effect is improved by increasing the amount of cooling water that hits the dicing blade 2, so that the life of the dicing blade 2 can be prevented from being shortened. Further, since the abnormal cut surface of the semiconductor wafer 1 due to the abnormal friction of the dicing blade 2 is eliminated, the reliability of the semiconductor integrated circuit device is improved,
Production efficiency will also improve.

【0025】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。
The invention made by the present inventor has been described above based on the embodiments, but the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. There is no end.

【0026】たとえば、冷却水の供給は、前記実施例以
外の供給箇所でも良く、ダイシングブレード2に吹き付
けるだけでなく、フランジ3の本体にも、冷却水を供給
しても良い。
For example, the cooling water may be supplied at a supply place other than the above-mentioned embodiment, and not only the dicing blade 2 may be sprayed but also the cooling water may be supplied to the main body of the flange 3.

【0027】また、被処理物は、前記実施例の半導体ウ
エハ以外でも良く、磁気ヘッドやセラミック等でも良
い。
The object to be processed may be other than the semiconductor wafer of the above-mentioned embodiment, and may be a magnetic head, ceramics or the like.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によって開示される発明のうち、
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
Of the inventions disclosed by the present invention,
The following is a brief description of the effects obtained by the typical ones.

【0029】(1)本発明によれば、ダイシングブレー
ドに当たる冷却水量が増加するので、冷却効果が向上
し、ダイシングブレードの短寿命化を防止することがで
きる。
(1) According to the present invention, since the amount of cooling water that hits the dicing blade is increased, the cooling effect is improved and the life of the dicing blade can be prevented from being shortened.

【0030】(2)また、上記(1)により、ダイシン
グブレードの異常摩擦による半導体ウエハの異常な切断
面がなくなるので、半導体集積回路装置の信頼性が向上
し、生産効率も良くなる。
(2) Further, according to the above (1), since the abnormal cut surface of the semiconductor wafer due to the abnormal friction of the dicing blade is eliminated, the reliability of the semiconductor integrated circuit device is improved and the production efficiency is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1によるダイシング装置におけ
るフランジ部の側面の断面図である。
FIG. 1 is a side sectional view of a flange portion in a dicing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例1によるダイシング装置におけ
るフランジ部の平面の断面図である。
FIG. 2 is a plan sectional view of a flange portion in the dicing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例2によるダイシング装置におけ
るフランジ部の側面の断面図である。
FIG. 3 is a side sectional view of a flange portion in a dicing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例2によるダイシング装置におけ
るフランジ部の平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a flange portion in the dicing device according to the second embodiment of the present invention.

【図5】従来のダイシング装置の異常摩擦を示すダイシ
ングブレードの断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a dicing blade showing abnormal friction of a conventional dicing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体ウエハ 2 ダイシングブレード 3 フランジ 3a 側面 4 穴 5 スピンドル 6 ウエハ送り台 7 冷却水供給口 8 切削水供給口 9 フランジカバー 10 溝 1 Semiconductor Wafer 2 Dicing Blade 3 Flange 3a Side 4 Hole 5 Spindle 6 Wafer Feeding Plate 7 Cooling Water Supply Port 8 Cutting Water Supply Port 9 Flange Cover 10 Groove

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理物を分割切断するダイシング装置
であって、ダイシングブレードを保持するフランジ部分
に、穴または溝が設けられたことを特徴とするダイシン
グ装置。
1. A dicing apparatus for dividing and cutting an object to be processed, wherein a flange portion holding a dicing blade is provided with a hole or a groove.
【請求項2】 前記穴または溝は、ダイシングブレード
の両面において、前記フランジ部分の半径方向に放射状
に複数設けられていることを特徴とする請求項1記載の
ダイシング装置。
2. The dicing apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the holes or grooves are provided radially on both sides of the dicing blade in the radial direction of the flange portion.
【請求項3】 前記被処理物が、半導体ウエハであるこ
とを特徴とする請求項1記載のダイシング装置。
3. The dicing apparatus according to claim 1, wherein the object to be processed is a semiconductor wafer.
JP4975093A 1993-03-11 1993-03-11 Dicing device Pending JPH06268059A (en)

Priority Applications (1)

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JP4975093A JPH06268059A (en) 1993-03-11 1993-03-11 Dicing device

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6461940B1 (en) 1999-06-21 2002-10-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Dicing blade and method of producing an electronic component
JP2016043470A (en) * 2014-08-26 2016-04-04 株式会社ディスコ Cutting blade

Cited By (3)

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