JPH06265054A - 地中埋設管の干渉防止装置 - Google Patents
地中埋設管の干渉防止装置Info
- Publication number
- JPH06265054A JPH06265054A JP5052602A JP5260293A JPH06265054A JP H06265054 A JPH06265054 A JP H06265054A JP 5052602 A JP5052602 A JP 5052602A JP 5260293 A JP5260293 A JP 5260293A JP H06265054 A JPH06265054 A JP H06265054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- potential
- current
- interference
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Prevention Of Electric Corrosion (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 土壌Ｅ中に埋設されている第１の管体Ｐ１の
対地電位Ｖ１の変動が、電気的に絶縁されている第２の
管体Ｐ２に干渉して、その対地電位Ｖ２を貴の方向に変
動させることを抑制し、第２の管体Ｐ２の腐食を防止す
る。 【構成】 干渉防止装置１を定電流ダイオードＤとトラ
ンジスタＴｒ１，Ｔｒ２と可変抵抗Ｒとによって構成
し、第１の管体Ｐ１と第２の管体Ｐ２間にボンド接続す
る。可変抵抗ＲによってトランジスタＴｒ１のベースバ
イアス電圧Ｖｂを、第１の管体Ｐ１と第２の管体Ｐ２と
の間の電位差Ｖ３に対応して設定する。電位差Ｖ３が所
定レベルを越えて拡大すると、第２の管体Ｐ２側から第
１の管体Ｐ１側へ、トランジスタＴｒ２を通じてボンド
電流である干渉抑制電流Ｉ１が流れ、第２の管体Ｐ２の
電位が貴の方向に変動するのを抑制し、腐食を防止す
る。
対地電位Ｖ１の変動が、電気的に絶縁されている第２の
管体Ｐ２に干渉して、その対地電位Ｖ２を貴の方向に変
動させることを抑制し、第２の管体Ｐ２の腐食を防止す
る。 【構成】 干渉防止装置１を定電流ダイオードＤとトラ
ンジスタＴｒ１，Ｔｒ２と可変抵抗Ｒとによって構成
し、第１の管体Ｐ１と第２の管体Ｐ２間にボンド接続す
る。可変抵抗ＲによってトランジスタＴｒ１のベースバ
イアス電圧Ｖｂを、第１の管体Ｐ１と第２の管体Ｐ２と
の間の電位差Ｖ３に対応して設定する。電位差Ｖ３が所
定レベルを越えて拡大すると、第２の管体Ｐ２側から第
１の管体Ｐ１側へ、トランジスタＴｒ２を通じてボンド
電流である干渉抑制電流Ｉ１が流れ、第２の管体Ｐ２の
電位が貴の方向に変動するのを抑制し、腐食を防止す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は地中埋設管の干渉防止装
置に関し、更に詳しくは地中に埋設されたガス管路など
に好適に実施される地中埋設管の干渉防止装置に関す
る。
置に関し、更に詳しくは地中に埋設されたガス管路など
に好適に実施される地中埋設管の干渉防止装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】たとえば鋳鉄管や鋼管から成るガス管な
どの地中埋設管には、電鉄軌条からの迷走電流や各種マ
クロセル要因による電解腐食から管体を防ぐために、塗
覆装や電気防食による防食手段が施されている。
どの地中埋設管には、電鉄軌条からの迷走電流や各種マ
クロセル要因による電解腐食から管体を防ぐために、塗
覆装や電気防食による防食手段が施されている。
【０００３】典型的な先行技術は図５に示されている。
図は従来技術による電気防食法を説明するもので、Ｅは
土壌、Ｐ１は鋼管で塗覆装が施されている第１の管体、
Ｐ２は鋳鉄管で塗覆装が施されていない第２の管体であ
る。塗覆装で防食されている第１の管体（以下１次管と
いう）Ｐ１と、非防食の第２の管体（以下２次管とい
う）Ｐ２とは、管継手２２，２３を介して整圧器２１と
接続されて地中配管路が形成されるが、管体相互間は継
手部分によって電気的に絶縁されている。
図は従来技術による電気防食法を説明するもので、Ｅは
土壌、Ｐ１は鋼管で塗覆装が施されている第１の管体、
Ｐ２は鋳鉄管で塗覆装が施されていない第２の管体であ
る。塗覆装で防食されている第１の管体（以下１次管と
いう）Ｐ１と、非防食の第２の管体（以下２次管とい
う）Ｐ２とは、管継手２２，２３を介して整圧器２１と
接続されて地中配管路が形成されるが、管体相互間は継
手部分によって電気的に絶縁されている。
【０００４】これらの管体のうち１次管Ｐ１には外部電
源法による電気防食が施され、２次管Ｐ２には犠牲陽極
法による電気防食が図られている。外部電源法とは防食
電源２５を用いて通電電極２４側から１次管Ｐ１に通電
し、第１防食電流ｉ２１（たとえば１０Ａ）を流入させ
るものであり、犠牲陽極法とは犠牲電極２６と２次管Ｐ
２とをラインＬ２３で接続し、犠牲電極２６側から２次
管Ｐ２側に第２防食電流ｉ２２を流入させるものであ
る。通電電極２４には１次管Ｐ１よりも貴な不溶性金属
が用いられ、犠牲電極２６には２次管Ｐ２よりも卑な可
溶性金属（たとえばマグネシウム）が用いられる。この
ようにして電気防食が施されている１次管Ｐ１と２次管
Ｐ２の防食効果を確認するために、飽和硫酸銅による照
合電極ｐと電圧計ＶＭとを前記１次管Ｐ１と２次管Ｐ２
とに接続され、対地電位ｖ２１，ｖ２２が個別に測定さ
れ管理される。通常１次管Ｐ１側の対地電位ｖ２１は、
土壌Ｅ中の電圧降下分を考慮して−１０００ｍＶなどで
あり、２次管Ｐ２側の電位は鉄（Ｆｅ）の自然電位であ
る−５００ｍＶより卑に保つことが望ましいとされてい
る。
源法による電気防食が施され、２次管Ｐ２には犠牲陽極
法による電気防食が図られている。外部電源法とは防食
電源２５を用いて通電電極２４側から１次管Ｐ１に通電
し、第１防食電流ｉ２１（たとえば１０Ａ）を流入させ
るものであり、犠牲陽極法とは犠牲電極２６と２次管Ｐ
２とをラインＬ２３で接続し、犠牲電極２６側から２次
管Ｐ２側に第２防食電流ｉ２２を流入させるものであ
る。通電電極２４には１次管Ｐ１よりも貴な不溶性金属
が用いられ、犠牲電極２６には２次管Ｐ２よりも卑な可
溶性金属（たとえばマグネシウム）が用いられる。この
ようにして電気防食が施されている１次管Ｐ１と２次管
Ｐ２の防食効果を確認するために、飽和硫酸銅による照
合電極ｐと電圧計ＶＭとを前記１次管Ｐ１と２次管Ｐ２
とに接続され、対地電位ｖ２１，ｖ２２が個別に測定さ
れ管理される。通常１次管Ｐ１側の対地電位ｖ２１は、
土壌Ｅ中の電圧降下分を考慮して−１０００ｍＶなどで
あり、２次管Ｐ２側の電位は鉄（Ｆｅ）の自然電位であ
る−５００ｍＶより卑に保つことが望ましいとされてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来技術
では、相互に絶縁された１次管Ｐ１と２次管Ｐ２のそれ
ぞれについて個別に電気防食法が施されているけれど
も、塗覆装が施されていない２次管Ｐ２側は、１次管Ｐ
１側の前記第１防食電流ｉ２１に影響されて干渉を受け
やすく、とくに迷走電流の大きい地域では第１防食電流
ｉ２１の変動によって２次管Ｐ２の対地電位が大きく貴
の方向に変動して腐食電位になり、２次管Ｐ２の防食効
果が減殺されて腐食が進行するという問題点がある。
では、相互に絶縁された１次管Ｐ１と２次管Ｐ２のそれ
ぞれについて個別に電気防食法が施されているけれど
も、塗覆装が施されていない２次管Ｐ２側は、１次管Ｐ
１側の前記第１防食電流ｉ２１に影響されて干渉を受け
やすく、とくに迷走電流の大きい地域では第１防食電流
ｉ２１の変動によって２次管Ｐ２の対地電位が大きく貴
の方向に変動して腐食電位になり、２次管Ｐ２の防食効
果が減殺されて腐食が進行するという問題点がある。
【０００６】図６は地中埋設管の電位変動を表すグラフ
である。１次管Ｐ１側の対地電位ｖ２１が卑の方向（た
とえば−２０００ｍｖ）に変動すると、２次管Ｐ２側の
対地電位ｖ２２は貴の方向（たとてば０Ｖ）に変動し、
１次管Ｐ１と２次管Ｐ２間の電位差ｖ３１が拡大され
て、電位差のピークｖ３１ｐはたとえば３０００ｍＶを
越えるようになる。このようにして１次管Ｐ１側の防食
電流ｉ２１の干渉によって電位差ｖ３１が拡大すると、
前記犠牲電極２６の防食作用は消失し、貴の２次管Ｐ２
から土壌Ｅを介して卑の１次管Ｐ１に向かって電流が流
出して、２次管Ｐ２の腐食が進行するという不具合が生
じる。
である。１次管Ｐ１側の対地電位ｖ２１が卑の方向（た
とえば−２０００ｍｖ）に変動すると、２次管Ｐ２側の
対地電位ｖ２２は貴の方向（たとてば０Ｖ）に変動し、
１次管Ｐ１と２次管Ｐ２間の電位差ｖ３１が拡大され
て、電位差のピークｖ３１ｐはたとえば３０００ｍＶを
越えるようになる。このようにして１次管Ｐ１側の防食
電流ｉ２１の干渉によって電位差ｖ３１が拡大すると、
前記犠牲電極２６の防食作用は消失し、貴の２次管Ｐ２
から土壌Ｅを介して卑の１次管Ｐ１に向かって電流が流
出して、２次管Ｐ２の腐食が進行するという不具合が生
じる。
【０００７】このような不具合を解決するために、たと
えば１次管Ｐ１と２次管Ｐ２との間に抵抗を接続する抵
抗ボンド法やダイオードによるシリコンボンド法などが
用いられ、一定の干渉抑止効果は認められるものの、前
述したような電位変動に対しては一次的な抑止方法に過
ぎず、有効な防止法とは言えないものである。また２次
管Ｐ２側に設けられる犠牲電極２６だけでは、２次管Ｐ
２の対地電位ｖ２２の変動を防止することは困難であ
り、２次管側にも１次管Ｐ１と同様に外部電源法を施す
ことはコストの面で到底実現できるものではない。
えば１次管Ｐ１と２次管Ｐ２との間に抵抗を接続する抵
抗ボンド法やダイオードによるシリコンボンド法などが
用いられ、一定の干渉抑止効果は認められるものの、前
述したような電位変動に対しては一次的な抑止方法に過
ぎず、有効な防止法とは言えないものである。また２次
管Ｐ２側に設けられる犠牲電極２６だけでは、２次管Ｐ
２の対地電位ｖ２２の変動を防止することは困難であ
り、２次管側にも１次管Ｐ１と同様に外部電源法を施す
ことはコストの面で到底実現できるものではない。
【０００８】本発明は簡易な方法によって前述の問題点
を解決し、１次管側の電位変動による２次管への干渉を
防止し、２次側の地中埋設管を防護できるようにした地
中埋設管の干渉防止装置を提供することである。
を解決し、１次管側の電位変動による２次管への干渉を
防止し、２次側の地中埋設管を防護できるようにした地
中埋設管の干渉防止装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、防食が施され
た金属製の第１の管体と、第１の管体に近接している金
属製の第２の管体とが相互に電気的に絶縁されており、
前記第１の管体と前記第２の管体との電位差が迷走電流
によって予め定める電位差を越えて増大したとき、第２
の管体から第１の管体に予め定める一定の電流を流す回
路を設けることを特徴とする地中埋設管の干渉防止装置
である。
た金属製の第１の管体と、第１の管体に近接している金
属製の第２の管体とが相互に電気的に絶縁されており、
前記第１の管体と前記第２の管体との電位差が迷走電流
によって予め定める電位差を越えて増大したとき、第２
の管体から第１の管体に予め定める一定の電流を流す回
路を設けることを特徴とする地中埋設管の干渉防止装置
である。
【００１０】
【作用】本発明による地中埋設管の干渉防止装置は、相
互に電気的に絶縁された第１の管体と第２の管体につい
て、迷走電流によって前記第１の管体の電位と前記第２
の管体の電位との差が予め定める電位差を越えて増大し
たとき、前記第２の管体から第１の管体に予め定める一
定の電流を流して前記電位差を縮小し、第１の管体の電
位変動による第２の管体への干渉を防止する。
互に電気的に絶縁された第１の管体と第２の管体につい
て、迷走電流によって前記第１の管体の電位と前記第２
の管体の電位との差が予め定める電位差を越えて増大し
たとき、前記第２の管体から第１の管体に予め定める一
定の電流を流して前記電位差を縮小し、第１の管体の電
位変動による第２の管体への干渉を防止する。
【００１１】
【実施例】図１は本発明の一実施例の地中埋設管の干渉
防止装置の構成を示す電気回路図である。地中埋設管の
干渉防止装置（以下、装置という）１は接続端子２，３
を備え、接続端子２はラインＬ１を介して１次管Ｐ１に
接続され、接続端子３はラインＬ２を介して２次管Ｐ２
に接続される。１次管Ｐ１と２次管Ｐ２とは管継手５，
６によって整圧器４に接続され、１次管Ｐ１と２次管Ｐ
２とは継手５，６の部分によって相互に電気的に絶縁さ
れている。１次管Ｐ１と土壌Ｅおよび２次管Ｐ２と土壌
Ｅの間にはそれぞれ対地電位Ｖ１，Ｖ２が生じている。
この対地電位は従来例の項で述べたと同様に照合電極ｐ
と電圧計ＶＭによって測定される。
防止装置の構成を示す電気回路図である。地中埋設管の
干渉防止装置（以下、装置という）１は接続端子２，３
を備え、接続端子２はラインＬ１を介して１次管Ｐ１に
接続され、接続端子３はラインＬ２を介して２次管Ｐ２
に接続される。１次管Ｐ１と２次管Ｐ２とは管継手５，
６によって整圧器４に接続され、１次管Ｐ１と２次管Ｐ
２とは継手５，６の部分によって相互に電気的に絶縁さ
れている。１次管Ｐ１と土壌Ｅおよび２次管Ｐ２と土壌
Ｅの間にはそれぞれ対地電位Ｖ１，Ｖ２が生じている。
この対地電位は従来例の項で述べたと同様に照合電極ｐ
と電圧計ＶＭによって測定される。
【００１２】装置１は、２個のＮＰＮトランジスタＴｒ
１，Ｔｒ２と、定電流ダイオードＤと可変抵抗Ｒとによ
って構成されている。定電流ダイオードＤのカソード側
は可変抵抗Ｒの一方端に接続され、定電流ダイオードＤ
のアノード側は前記第１トランジスタＴｒ１、および第
２トランジスタＴｒ２の各コレクタと共に前記接続端子
３に接続されている。また前記可変抵抗Ｒの他方端は第
１トランジスタＴｒ１のエミッタと共に第２トランジス
タＴｒ２のベースに接続され、可変抵抗Ｒの摺動片は第
１トランジスタＴｒ１のベースに接続されている。第１
トランジスタＴｒ１のエミッタと第２トランジスタのエ
ミッタとは前記接続端子２に共通に接続されている。
１，Ｔｒ２と、定電流ダイオードＤと可変抵抗Ｒとによ
って構成されている。定電流ダイオードＤのカソード側
は可変抵抗Ｒの一方端に接続され、定電流ダイオードＤ
のアノード側は前記第１トランジスタＴｒ１、および第
２トランジスタＴｒ２の各コレクタと共に前記接続端子
３に接続されている。また前記可変抵抗Ｒの他方端は第
１トランジスタＴｒ１のエミッタと共に第２トランジス
タＴｒ２のベースに接続され、可変抵抗Ｒの摺動片は第
１トランジスタＴｒ１のベースに接続されている。第１
トランジスタＴｒ１のエミッタと第２トランジスタのエ
ミッタとは前記接続端子２に共通に接続されている。
【００１３】接続端子２，３間には１次管Ｐ１と２次管
Ｐ２との間の電位差Ｖ３が印加される。この電位差Ｖ
は、１次管Ｐ１側の電位が卑の方向に変動するにつれて
２次管Ｐ２側の電位は貴の方向に変動し、その差が拡大
して電位差が予め定めるレベルを越えると、ボンド電流
Ｉ１が第２トランジスタＴｒ２を介して矢符ａに示す方
向に、即ち２次管Ｐ２から１次管Ｐ１の方向に流れる。
これによって電流が土壌Ｅ中を１次管Ｐ１に向かって流
れるのを抑制し、腐食を防止するのである。以下前記ボ
ンド電流Ｉ１を干渉抑制電流と称する。
Ｐ２との間の電位差Ｖ３が印加される。この電位差Ｖ
は、１次管Ｐ１側の電位が卑の方向に変動するにつれて
２次管Ｐ２側の電位は貴の方向に変動し、その差が拡大
して電位差が予め定めるレベルを越えると、ボンド電流
Ｉ１が第２トランジスタＴｒ２を介して矢符ａに示す方
向に、即ち２次管Ｐ２から１次管Ｐ１の方向に流れる。
これによって電流が土壌Ｅ中を１次管Ｐ１に向かって流
れるのを抑制し、腐食を防止するのである。以下前記ボ
ンド電流Ｉ１を干渉抑制電流と称する。
【００１４】次に装置１の動作について説明する。第２
トランジスタＴｒ２のベースには定電流ダイオードＤに
よって設定される定電流ｉ１と、第１トランジスタＴｒ
１のエミッタ電流ｉ２との和の電流が流入する。ここで
第２トランジスタＴｒ１のエミッタ電流ｉ２は、前記可
変抵抗Ｒの両端に生じる電圧Ｖ４を分圧することによっ
て得られるベースバイアス電圧Ｖｂによって設定され、
設定後は定電流ｉ１により一定レベルに保たれる。した
がって第１トランジスタＴｒ１のエミッタ電流ｉ２は、
定電流ダイオードＤの定格値と、可変抵抗Ｒによって設
定されるベースバイアス電圧Ｖｂとによって定められる
一定電流となる。このため定電流ダイオードＤの規格と
ベースバイアス電圧Ｖｂとを適宜設定することによっ
て、第２トランジスタＴｒ２のエミッタ電流、すなわち
干渉抑制電流Ｉ１の値は、前記電位差Ｖ３が変化しても
一定となる。１次管Ｐ１の対地電位Ｖ１が卑の方向に変
動しても、２次管Ｐ２の電位は自然電位である−５００
ｍＶを越えて貴の方向に変動することが抑制される。し
かも本実施例による装置１は、前記電位差Ｖ３によって
のみ動作するので、外部からの電源供給は一切不要であ
り、しかも小形化に適した回路構成でるため、設置にあ
たって場所を問わず、装置１の収納容器も小形で簡単な
ものでよい等の優れた効果を有するものである。
トランジスタＴｒ２のベースには定電流ダイオードＤに
よって設定される定電流ｉ１と、第１トランジスタＴｒ
１のエミッタ電流ｉ２との和の電流が流入する。ここで
第２トランジスタＴｒ１のエミッタ電流ｉ２は、前記可
変抵抗Ｒの両端に生じる電圧Ｖ４を分圧することによっ
て得られるベースバイアス電圧Ｖｂによって設定され、
設定後は定電流ｉ１により一定レベルに保たれる。した
がって第１トランジスタＴｒ１のエミッタ電流ｉ２は、
定電流ダイオードＤの定格値と、可変抵抗Ｒによって設
定されるベースバイアス電圧Ｖｂとによって定められる
一定電流となる。このため定電流ダイオードＤの規格と
ベースバイアス電圧Ｖｂとを適宜設定することによっ
て、第２トランジスタＴｒ２のエミッタ電流、すなわち
干渉抑制電流Ｉ１の値は、前記電位差Ｖ３が変化しても
一定となる。１次管Ｐ１の対地電位Ｖ１が卑の方向に変
動しても、２次管Ｐ２の電位は自然電位である−５００
ｍＶを越えて貴の方向に変動することが抑制される。し
かも本実施例による装置１は、前記電位差Ｖ３によって
のみ動作するので、外部からの電源供給は一切不要であ
り、しかも小形化に適した回路構成でるため、設置にあ
たって場所を問わず、装置１の収納容器も小形で簡単な
ものでよい等の優れた効果を有するものである。
【００１５】図２は本実施例による装置１の動作を示す
グラフである。図１をあわせて参照して説明する。グラ
フは縦軸に干渉抑制電流Ｉ１の値を、横軸に１次管Ｐ１
と２次管Ｐ２の間の電位差Ｖ３をとり、可変抵抗Ｒよっ
てベースバイアス電圧Ｖｂを３通りに設定した場合の干
渉抑制電流の変化をグラフａ，ｂ，ｃで示す。たとえば
グラフａでは、干渉抑制電流Ｉ１は前記電位差Ｖ３が第
２トランジスタＴｒ２などの接合電圧ｖ１を越えると流
れはじめ、電位差Ｖ３の増加にともなってほぼ直線的に
増加するが、電位差Ｖ３が一定のレベルｖ２を越えれば
飽和して以後は一定値（たとえば１Ａ）となる。可変抵
抗Ｒを調整してベースバイアス電圧Ｖｂを設定すること
によって、干渉抑制電流Ｉ１の値はグラフｂ，ｃに示さ
れるように電位差Ｖ３が一定レベルｖ３，ｖ４を越える
と、以後はほぼ一定となり増加しない。もちろんこの干
渉抑制電流Ｉ１の値は、可変抵抗Ｒを調整することによ
って定められた範囲で任意に設定可能であり、これによ
って現場の管理データに対応した電流値を設定すること
ができ、２次管Ｐ２の対地電位Ｖ２２が自然電位を越え
て貴の方向に変動することが抑制される。
グラフである。図１をあわせて参照して説明する。グラ
フは縦軸に干渉抑制電流Ｉ１の値を、横軸に１次管Ｐ１
と２次管Ｐ２の間の電位差Ｖ３をとり、可変抵抗Ｒよっ
てベースバイアス電圧Ｖｂを３通りに設定した場合の干
渉抑制電流の変化をグラフａ，ｂ，ｃで示す。たとえば
グラフａでは、干渉抑制電流Ｉ１は前記電位差Ｖ３が第
２トランジスタＴｒ２などの接合電圧ｖ１を越えると流
れはじめ、電位差Ｖ３の増加にともなってほぼ直線的に
増加するが、電位差Ｖ３が一定のレベルｖ２を越えれば
飽和して以後は一定値（たとえば１Ａ）となる。可変抵
抗Ｒを調整してベースバイアス電圧Ｖｂを設定すること
によって、干渉抑制電流Ｉ１の値はグラフｂ，ｃに示さ
れるように電位差Ｖ３が一定レベルｖ３，ｖ４を越える
と、以後はほぼ一定となり増加しない。もちろんこの干
渉抑制電流Ｉ１の値は、可変抵抗Ｒを調整することによ
って定められた範囲で任意に設定可能であり、これによ
って現場の管理データに対応した電流値を設定すること
ができ、２次管Ｐ２の対地電位Ｖ２２が自然電位を越え
て貴の方向に変動することが抑制される。
【００１６】図３は本実施例による装置１を用いた場合
の地中埋設管の電位変動を表すグラフである。グラフは
縦軸に埋設管の対地電位を示し、１次管Ｐ１の電位Ｖ１
を同一参照符を用いてグラフＶ１で示し、２次管Ｐ２の
電位をグラフＶ２で示してある。２次管Ｐ２にはマグネ
シウムが犠牲陽極として接続されているものとする。た
だし図示の都合上、グラフＶ１とグラフＶ２とは離して
描かれている。たとえば時刻ｔ１で１次管Ｐ１の対地電
位Ｖ１が卑の方向に大きく変動すれば、装置１を用いな
い場合には、２次管Ｐ２の対地電位Ｖ２は貴の方向に大
きく変動する。両者の電位差はピークでＶ３ｐに達する
けれども、装置１を使用し可変抵抗Ｒを所望する干渉抑
制電流Ｉ１に対応して設定することによって、ボンド電
流である干渉抑制電流Ｉ１が土壌Ｅ中を経由することな
く流れるので、２次管Ｐ２側の対地電位Ｖ２は自然電位
Ｖ２ｓを越えて貴の方向には変動しない。このため斜線
を施して示された部分の電位の変動、すなわち１次管Ｐ
１側からの干渉によって２次管Ｐ２が腐食電位となるこ
とが解消され、腐食が進行することが抑制防止されるの
である。
の地中埋設管の電位変動を表すグラフである。グラフは
縦軸に埋設管の対地電位を示し、１次管Ｐ１の電位Ｖ１
を同一参照符を用いてグラフＶ１で示し、２次管Ｐ２の
電位をグラフＶ２で示してある。２次管Ｐ２にはマグネ
シウムが犠牲陽極として接続されているものとする。た
だし図示の都合上、グラフＶ１とグラフＶ２とは離して
描かれている。たとえば時刻ｔ１で１次管Ｐ１の対地電
位Ｖ１が卑の方向に大きく変動すれば、装置１を用いな
い場合には、２次管Ｐ２の対地電位Ｖ２は貴の方向に大
きく変動する。両者の電位差はピークでＶ３ｐに達する
けれども、装置１を使用し可変抵抗Ｒを所望する干渉抑
制電流Ｉ１に対応して設定することによって、ボンド電
流である干渉抑制電流Ｉ１が土壌Ｅ中を経由することな
く流れるので、２次管Ｐ２側の対地電位Ｖ２は自然電位
Ｖ２ｓを越えて貴の方向には変動しない。このため斜線
を施して示された部分の電位の変動、すなわち１次管Ｐ
１側からの干渉によって２次管Ｐ２が腐食電位となるこ
とが解消され、腐食が進行することが抑制防止されるの
である。
【００１７】図４は本発明の他の実施例を示す図であ
る。前述の説明ではガス管相互の干渉防止について述べ
たけれども、本発明はガス管のみに限定されるものでは
なく、他の地中埋設管などについても適用されるもので
ある。図４において、図１に対応する部分には同一の参
照符を付してある。図では水道管Ｐｗとガス管Ｐｇとは
交差して配管されているけれども上下の配置関係は不問
であり、並行に配管されていてもよい。装置１の接続端
子２，３は、ラインＬａ，Ｌｂを介してガス管Ｐｇと水
道管Ｐｗに個別にボンド接続される。この場合に干渉抑
制電流Ｉ１の方向は、いずれの管体が干渉を受けるかに
よって定まる。たとえば図４において、ガス管Ｐｇには
電気防食が施工され、水道管Ｐｗは非防食であるとす
る。ガス管Ｐｇの対地電位Ｖｇが水道管Ｐｗの対地電位
Ｖｗよりも卑の方向に変動する場合には、干渉抑制電流
Ｉ１の流入端である接続端子３を水道管Ｐｗに、流出端
である接続端子２をガス管Ｐｗにボンド接続し、干渉抑
制電流Ｉ１の方向が図示のごとく水道管Ｐｗから装置１
を経由してガス管Ｐｇに向かう方向になるようにすれば
よい。これは前記管体Ｐｇ，Ｐｗ相互間の電位差Ｖｘを
測定することによって容易に求めることができる。干渉
抑制電流Ｉ１の電流値の設定は前述したように可変抵抗
Ｒによって任意に設定可能であるから、異種の地中埋設
管であっても本発明を好適に実施することができるもの
である。
る。前述の説明ではガス管相互の干渉防止について述べ
たけれども、本発明はガス管のみに限定されるものでは
なく、他の地中埋設管などについても適用されるもので
ある。図４において、図１に対応する部分には同一の参
照符を付してある。図では水道管Ｐｗとガス管Ｐｇとは
交差して配管されているけれども上下の配置関係は不問
であり、並行に配管されていてもよい。装置１の接続端
子２，３は、ラインＬａ，Ｌｂを介してガス管Ｐｇと水
道管Ｐｗに個別にボンド接続される。この場合に干渉抑
制電流Ｉ１の方向は、いずれの管体が干渉を受けるかに
よって定まる。たとえば図４において、ガス管Ｐｇには
電気防食が施工され、水道管Ｐｗは非防食であるとす
る。ガス管Ｐｇの対地電位Ｖｇが水道管Ｐｗの対地電位
Ｖｗよりも卑の方向に変動する場合には、干渉抑制電流
Ｉ１の流入端である接続端子３を水道管Ｐｗに、流出端
である接続端子２をガス管Ｐｗにボンド接続し、干渉抑
制電流Ｉ１の方向が図示のごとく水道管Ｐｗから装置１
を経由してガス管Ｐｇに向かう方向になるようにすれば
よい。これは前記管体Ｐｇ，Ｐｗ相互間の電位差Ｖｘを
測定することによって容易に求めることができる。干渉
抑制電流Ｉ１の電流値の設定は前述したように可変抵抗
Ｒによって任意に設定可能であるから、異種の地中埋設
管であっても本発明を好適に実施することができるもの
である。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明による地中埋設管の
干渉防止装置は、相互に電気的に絶縁され埋設されてい
る第１の管体と第２の管体との間の電位差が、迷走電流
によって予め定める電位差を越えたとき、前記第２の管
体から第１の管体に予め定める一定の電流を流して前記
電位差を縮小し、第１の管体の電位変動による第２の管
体への干渉を防止するようにしたので、第２の管体が腐
食電位になることが抑制され、腐食が防止される。しか
も前記電流はたとえば可変抵抗によって任意に設定可能
であるから、現場の状況に対応して最適な条件を選定で
きる。また本発明による干渉防止装置は小形でしかも無
電源で動作するから、外部からの電源供給を必要とせ
ず、装置の収納容器も小形化され、設置箇所に制約を受
けないなどの優れた効果を有するものである。
干渉防止装置は、相互に電気的に絶縁され埋設されてい
る第１の管体と第２の管体との間の電位差が、迷走電流
によって予め定める電位差を越えたとき、前記第２の管
体から第１の管体に予め定める一定の電流を流して前記
電位差を縮小し、第１の管体の電位変動による第２の管
体への干渉を防止するようにしたので、第２の管体が腐
食電位になることが抑制され、腐食が防止される。しか
も前記電流はたとえば可変抵抗によって任意に設定可能
であるから、現場の状況に対応して最適な条件を選定で
きる。また本発明による干渉防止装置は小形でしかも無
電源で動作するから、外部からの電源供給を必要とせ
ず、装置の収納容器も小形化され、設置箇所に制約を受
けないなどの優れた効果を有するものである。
【図１】本発明の一実施例の地中埋設管の干渉防止装置
の構成を示す回路図である。
の構成を示す回路図である。
【図２】図１に示す実施例の動作を示すグラフである。
【図３】図１に示す実施例を用いた場合の地中埋設管相
互の電位変動を表すグラフである。
互の電位変動を表すグラフである。
【図４】本発明の他の実施例による異種埋設管への適用
を示す図である。
を示す図である。
【図５】従来の技術による電気防食法を示す図である。
【図６】図５に示す電気防食法を用いた場合の地中埋設
管相互の電位変動を表すグラフである。
管相互の電位変動を表すグラフである。
１ 地中埋設管の干渉防止装置 ２，３ 接続端子 ４ 地区整圧器 ５，６ 管継手 Ｄ 定電流ダイオード Ｅ 土壌 Ｉ１ 干渉抑制電流 Ｐ１ 第１の管体 Ｐ２ 第２の管体 Ｒ 可変抵抗 Ｔｒ１，Ｔｒ２ トランジスタ Ｖ１ 第１の管体の対地電位 Ｖ２ 第２の管体の対地電位 Ｖ３ 第１と第２の管体間の電位差
Claims (1)
- 【請求項１】 防食が施された金属製の第１の管体と、
第１の管体に近接している金属製の第２の管体とが相互
に電気的に絶縁されており、 前記第１の管体と前記第２の管体との電位差が迷走電流
によって予め定める電位差を越えて増大したとき、第２
の管体から第１の管体に予め定める一定の電流を流す回
路を設けることを特徴とする地中埋設管の干渉防止装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5052602A JPH06265054A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 地中埋設管の干渉防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5052602A JPH06265054A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 地中埋設管の干渉防止装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06265054A true JPH06265054A (ja) | 1994-09-20 |
Family
ID=12919343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5052602A Pending JPH06265054A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 地中埋設管の干渉防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06265054A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016099003A (ja) * | 2014-11-25 | 2016-05-30 | 株式会社金澤製作所 | 電気防食手段を具備せる埋設配管またはケーブル配管の止水固定装置 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP5052602A patent/JPH06265054A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016099003A (ja) * | 2014-11-25 | 2016-05-30 | 株式会社金澤製作所 | 電気防食手段を具備せる埋設配管またはケーブル配管の止水固定装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Gummow et al. | GIC effects on pipeline corrosion and corrosion control systems | |
| JPH06265054A (ja) | 地中埋設管の干渉防止装置 | |
| JP5718692B2 (ja) | 埋設金属パイプラインのカソード防食方法及びカソード防食システム | |
| JP2018123394A (ja) | 電気防食システム及び定電流回路 | |
| JP5135305B2 (ja) | 埋設パイプラインのカソード防食管理システム及びカソード防食管理方法 | |
| JPH05230677A (ja) | 地中埋設金属管の防食方法 | |
| US3959664A (en) | Anticorrosive circuit for a buried structure | |
| KR100595391B1 (ko) | 전기방식장치 | |
| US5324405A (en) | Pulse cathodic protection system | |
| US4152228A (en) | Method for reducing electrolytic interference with metal structures | |
| JPS6315352B2 (ja) | ||
| US7192513B2 (en) | Cathodic protection junction box current equalizer | |
| JP2591974B2 (ja) | 埋設管路絶縁継手の絶縁抵抗測定法 | |
| JP2000234188A (ja) | パイプラインの電気防食方法および防食用外電装置 | |
| US4184938A (en) | Apparatus for reducing electrolytic interference with metal structures | |
| JP3074294B2 (ja) | 防食用多点最貴値電位選択装置 | |
| JPH06235081A (ja) | 電位調整装置 | |
| JPH07294478A (ja) | 埋設塗覆装金属管の塗覆装の損傷箇所を特定する方法及びその装置 | |
| Hassan et al. | Application of Linear Anodes to protect isolated and unisolated piping in a Petrochemical Plant | |
| Kendell | The Design and Operation of a Multi-System Approach for Cathodic Protection Systems of Inter-Bonded Complex Plants | |
| JP4962379B2 (ja) | 埋設管電気防食システム | |
| Mann et al. | Recommended Practice to Mitigate Negative Interaction Between Grounding and Cathodic Protection | |
| Saatchi et al. | Cathodic Protection Concerns in Large Installations | |
| Gummow et al. | Telluric current effects on corrosion and corrosion control systems on pipelines in cold climates | |
| Klechka et al. | Cathodic Protection of Well Casings Using E-Log I Criteria |