JPH06258996A - Hologram - Google Patents

Hologram

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Publication number
JPH06258996A
JPH06258996A JP7092493A JP7092493A JPH06258996A JP H06258996 A JPH06258996 A JP H06258996A JP 7092493 A JP7092493 A JP 7092493A JP 7092493 A JP7092493 A JP 7092493A JP H06258996 A JPH06258996 A JP H06258996A
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JP
Japan
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hologram
hologram layer
glass
substrate
room temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP7092493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumasa Kurokawa
和雅 黒川
Hiroshi Ando
浩 安藤
Shinji Nanba
晋治 難波
Kazuma Matsui
数馬 松井
Toshitomo Morisane
敏倫 森実
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Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NipponDenso Co Ltd filed Critical NipponDenso Co Ltd
Priority to JP7092493A priority Critical patent/JPH06258996A/en
Publication of JPH06258996A publication Critical patent/JPH06258996A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a hologram which is light in weight and is excellent in moisture resistance, solvent resistance and wear resistance. CONSTITUTION:The surface of a hologram layer 5 in which a desired image is recorded is covered with an ordinary temp. glass 1 which is chemically bonded with the hologram layer surface by hydrolysis and dehydration-condensation reaction. The ordinary temp. glass forms a glass thin film by subjecting a hydrolyzable organic metallic compound to hydrolysis and dehydrationcondensation in a reaction soln. in the presence of B<3> (boron ion) by adding a halogen ion as a catalysis. When the hologram layer 5 is stuck to a substrate 92 with an adhesive, the surface of the substrate 92 or the exposed surface of the adhesive is preferably covered by the ordinary temp. glass 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,軽量で,耐湿性,耐溶
剤性,及び耐摩耗性に優れたホログラムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hologram which is lightweight and has excellent moisture resistance, solvent resistance and abrasion resistance.

【0002】[0002]

【従来技術】ホログラムは,物体光と参照光とを干渉さ
せることにより,所望の像をホログラム層に記録したも
のである。上記ホログラムは,図13に示すごとく,ガ
ラス基板92と,該ガラス基板92の表面に接着固定さ
れたホログラム層5とよりなる。該ホログラム層5は,
重クロム酸ゼラチン,銀塩,フォトポリマー等を用い
る。重クロム酸ゼラチンや銀塩等は,ゼラチン等により
固形化する。フォトポリマー等は,有機高分子等により
固形化する。
2. Description of the Related Art A hologram is a hologram in which a desired image is recorded by causing an object beam and a reference beam to interfere with each other. As shown in FIG. 13, the hologram includes a glass substrate 92 and a hologram layer 5 adhered and fixed to the surface of the glass substrate 92. The hologram layer 5 is
Dichromated gelatin, silver salt, photopolymer, etc. are used. Dichromated gelatin and silver salts are solidified by gelatin. Photopolymers and the like are solidified by organic polymers and the like.

【0003】ところで,ホログラム層5に記録された像
は,水分や大気中の湿気や有機溶剤などに接触すること
により,消失する性質がある。また,ホログラム層は,
薄層で損傷を受けやすいものである。そのため,ホログ
ラム層5の表面には光学接着剤7を介してカバーガラス
99が設けられている。
By the way, the image recorded on the hologram layer 5 has a property of disappearing when it comes into contact with moisture, moisture in the atmosphere, an organic solvent or the like. Also, the hologram layer is
It is a thin layer and is easily damaged. Therefore, a cover glass 99 is provided on the surface of the hologram layer 5 via the optical adhesive 7.

【0004】上記ホログラム9を製造するに当たって,
まず情報が記録されたホログラム層5を,光学接着剤7
によりガラス基板92に貼着する。次いで,これらをオ
ーブンにより加熱して,水分や有機溶剤を蒸発させる。
次に,上記ホログラム層5の表面を,光学接着剤7を用
いてカバーガラス99により被覆する。その後,光学接
着剤7を硬化させる。これにより,ホログラム9を得
る。
In manufacturing the hologram 9,
First, the hologram layer 5 on which information is recorded is attached to the optical adhesive 7
It is attached to the glass substrate 92 by. Then, these are heated in an oven to evaporate water and organic solvent.
Next, the surface of the hologram layer 5 is covered with a cover glass 99 using the optical adhesive 7. Then, the optical adhesive 7 is cured. Thereby, the hologram 9 is obtained.

【0005】[0005]

【解決しようとする課題】しかしながら,上記従来のホ
ログラム9には以下の問題点がある。即ち,上記カバー
ガラス99は,重く,加工が困難であり,割れやすい。
また,十分な物理的強度,使い易さを要求する点から,
カバーガラス99の厚みは,最低1mmは必要である。
そのため,ホログラム9全体の厚みが太厚となる。ま
た,カバーガラス99は,ホログラム層5と熱膨張係数
が異なるため,剥がれ易い。
However, the conventional hologram 9 has the following problems. That is, the cover glass 99 is heavy, difficult to process, and easily broken.
Also, from the viewpoint of requiring sufficient physical strength and ease of use,
The cover glass 99 needs to have a thickness of at least 1 mm.
Therefore, the hologram 9 as a whole becomes thick. Further, the cover glass 99 has a thermal expansion coefficient different from that of the hologram layer 5, and thus is easily peeled off.

【0006】そこで,上記ガラス基板92の代わりに,
ガラス基板よりも軽量の樹脂基板を用いることが考えら
れる。樹脂基板は,元来加工性が容易で割れにくいとい
う特性がある。上記樹脂基板には,ポリカーボン系,ア
クリル系等の樹脂材が用いられる。しかし,樹脂基板
は,ガラス基板に比べて,耐湿性,耐摩耗性,及び耐溶
剤性が低い。そのため,樹脂基板に貼着されたホログラ
ム層に,湿気や有機溶剤が浸透し,ホログラム層に記録
されたホログラムが消失してしまうおそれがある。
Therefore, instead of the glass substrate 92,
It is conceivable to use a resin substrate that is lighter than a glass substrate. The resin substrate has the characteristics that it is originally easy to process and does not easily crack. For the resin substrate, a resin material such as polycarbon or acrylic is used. However, the resin substrate has lower moisture resistance, abrasion resistance, and solvent resistance than the glass substrate. Therefore, there is a possibility that moisture or an organic solvent may penetrate into the hologram layer attached to the resin substrate and the hologram recorded in the hologram layer may disappear.

【0007】また,ホログラム層5をカバーガラス99
に貼着する際には,光学接着剤7を用い,これを加熱し
て,水分や有機溶剤を蒸発させる。そのため,ホログラ
ム層5とカバーガラス99との間に,気泡が入ることが
ある。この気泡は,ホログラム9に照射された光の進行
方向にズレを発生させる。
Further, the hologram layer 5 is covered with a cover glass 99.
At the time of sticking to, the optical adhesive 7 is used, and this is heated to evaporate water and organic solvent. Therefore, air bubbles may enter between the hologram layer 5 and the cover glass 99. This bubble causes a deviation in the traveling direction of the light with which the hologram 9 is irradiated.

【0008】そのため,ホログラム9に光を照射した際
に,ホログラムの再生像に歪みが生じる。本発明はかか
る従来の問題点に鑑み,軽量で,耐湿性,耐溶剤性,耐
摩耗性に優れたホログラムを提供しようとするものであ
る。
Therefore, when the hologram 9 is irradiated with light, the reproduced image of the hologram is distorted. In view of such conventional problems, the present invention aims to provide a lightweight hologram having excellent moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance.

【0009】[0009]

【課題の解決手段】本願にかかる第一発明は,所望の像
が記録されたホログラム層を有するホログラムにおい
て,上記ホログラム層の表面は,加水分解,脱水縮合反
応によりホログラム層の表面と化学結合する常温ガラス
により被覆されていることを特徴とするホログラムにあ
る。上記第一発明において最も注目すべきことは,ホロ
グラム層の表面を上記特殊の常温ガラスにより被覆した
ことである。
According to a first aspect of the present invention, in a hologram having a hologram layer on which a desired image is recorded, the surface of the hologram layer is chemically bonded to the surface of the hologram layer by hydrolysis or dehydration condensation reaction. It is a hologram characterized by being covered with room temperature glass. What is most noticeable in the first invention is that the surface of the hologram layer is coated with the special room temperature glass.

【0010】常温ガラスは,耐湿性,耐溶剤性に優れた
ものである。また,常温ガラスは,膜形成後の硬度が鉛
筆硬度で4H〜5Hであり,傷がつきにくく,かつ摩耗
しにくい。常温ガラスのガラス膜の厚みは,一般に0.
1〜100μmが好ましい。0.1μm未満の場合には
接着強度が弱くなるおそれがある。一方,100μmを
越える場合には,ホログラムの軽量化を図ることができ
ないおそれがある。
The normal temperature glass has excellent moisture resistance and solvent resistance. Further, the room temperature glass has a pencil hardness of 4H to 5H after the film is formed, and is not easily scratched or worn. The thickness of the glass film of normal temperature glass is generally 0.
It is preferably 1 to 100 μm. If it is less than 0.1 μm, the adhesive strength may be weakened. On the other hand, if the thickness exceeds 100 μm, it may not be possible to reduce the weight of the hologram.

【0011】上記常温ガラスとは,加水分解可能な有機
金属化合物を反応液中において,B3+(ホウ素イオ
ン),例えばB(OC2 5 3 の存在下に,触媒とし
てのハロゲンイオン(F- ,Cl- 等)を添加し,加水
分解,脱水縮合させることにより単一及び多成分系金属
酸化物膜,例えばガラス薄膜をつくるものである。
The room temperature glass is a halogen ion (catalyst) in the presence of B 3+ (boron ion), for example, B (OC 2 H 5 ) 3 in the reaction solution of a hydrolyzable organometallic compound. F , Cl −, etc.) are added, and hydrolysis and dehydration condensation are performed to form single and multi-component metal oxide films, for example, glass thin films.

【0012】上記有機金属化合物としては,一般式Si
(OR)4 又は,SiRn(OR)4-n で示されるアル
コキシシラン,またはアルコキシド系を部分的に加水分
解して得られる低縮合物が工業的に入手し易く,その1
種または,2種以上の混合物を用いることが好ましい。
上記の一般式のRは,アルキル基であり,たとえば,メ
チル基,エチル基(Et),ノルマルプロピル基(nP
r),イソプロピル基(iPr),ブチル基(Bu)な
どの低級アルキル基が好ましい。以下,「R」について
は,同様の意味で用いる。
The above-mentioned organometallic compound is represented by the general formula Si
An alkoxysilane represented by (OR) 4 or SiRn (OR) 4-n , or a low condensate obtained by partially hydrolyzing an alkoxide system is industrially easily available.
It is preferable to use one kind or a mixture of two or more kinds.
R in the above general formula is an alkyl group, such as a methyl group, an ethyl group (Et), a normal propyl group (nP
r), lower alkyl groups such as isopropyl group (iPr) and butyl group (Bu) are preferred. Hereinafter, "R" is used with the same meaning.

【0013】また,上記有機金属化合物としては,リチ
ウムエチラート〔Li(O−Et)〕,ニオブエチラー
ト〔Nb(O−Et)5 〕,マグネシウムイソプロピラ
ート〔Mg(O−iPr)2 〕,アルミニウムイソプロ
ピラート〔Al(O−iPr)3 〕,亜鉛ノルマルプロ
ピラート〔Zn(O−nPr)2 ,Zn(O−nPr)
4 〕,チタンイソプロピラート〔Ti(O−iP
r)4 〕,バリウムエチラート〔Ba(O−E
t)2 〕,バリウムイソプロピラート〔Ba(O−iP
r)2〕,ホウ素エチラート〔B(O−Et)3 〕,ラ
ンタンノルマルプロピラート〔La(O−nP
r)3 〕,イットリウムノルマルプロピラート〔Y(O
−nPr)3 〕,鉛イソプロピラート〔Pb(O−iP
r)2 〕等を用いることもできる。
The organometallic compounds include lithium ethylate [Li (O-Et)], niobium ethylate [Nb (O-Et) 5 ], magnesium isopropylate [Mg (O-iPr) 2 ], aluminum isopropylate. [Al (O-iPr) 3 ], zinc normal propylate [Zn (O-nPr) 2 , Zn (O-nPr)]
4 ], titanium isopropylate [Ti (O-iP
r) 4 ], barium ethylate [Ba (OE)
t) 2 ], barium isopropylate [Ba (O-iP
r) 2 ], boron ethylate [B (O-Et) 3 ], lanthanum normal propylate [La (O-nP]
r) 3 ], yttrium normal propylate [Y (O
-NPr) 3 ], lead isopropylate [Pb (O-iP
r) 2 ] and the like can also be used.

【0014】上記有機金属化合物は,B3+,触媒として
のハロゲンイオン,及び溶媒を均一に混合した反応液の
中で,加水分解,脱水縮合し,常温ガラスを作成するも
のである。そして,反応の制御を容易にするために,反
応液中における該有機金属化合物の濃度を,希釈液を用
いて,70wt%以下,特に5〜70wt%の範囲に希
釈して用いることが好ましい。
The organometallic compound is hydrolyzed and dehydrated and condensed in a reaction solution in which B 3+ , a halogen ion as a catalyst, and a solvent are uniformly mixed to produce a normal temperature glass. Then, in order to facilitate control of the reaction, it is preferable to dilute the concentration of the organometallic compound in the reaction liquid to 70 wt% or less, particularly 5 to 70 wt% with a diluting liquid.

【0015】この希釈液としては,加水分解可能な有機
金属化合物を溶解することができ,しかも水を一定の割
合で均一に混合できるものであれば特に制限されない。
かかる希釈液としては,一般に容易に入手可能な,例え
ば,メタノール,エタノール,i−プロパノール,n−
プロパノール,ブタノール,エチレングリコール,プロ
ピレングリコールなどのアルコール類が好適に用いられ
る。希釈液としては,ブタノールとセルソルブとブチル
セルソルブとの混合溶剤,又はキシレンとシクロヘキサ
ンとの混合溶剤等も使用できる。
The diluting liquid is not particularly limited as long as it can dissolve the hydrolyzable organometallic compound and can uniformly mix water at a constant ratio.
As such a diluting solution, it is possible to use a readily available diluting solution such as methanol, ethanol, i-propanol, n-
Alcohols such as propanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol are preferably used. As the diluting liquid, a mixed solvent of butanol, cellosolve, and butyl cellosolve, a mixed solvent of xylene and cyclohexane, or the like can be used.

【0016】常温ガラスの反応液に用いる溶媒として
は,水,及び上記の有機金属化合物を溶解することがで
き,かつ水と均一に混合することができるものであれば
よい。一般的には脂肪族の低級アルコール,例えばメタ
ノール,エタノール,プロパノール,イソプロパノー
ル,ブタノール,イソブタノール,エチレングリコー
ル,プロピレングリコールおよびそれらの混合物等が好
適に用いられる。また,ブタノール+セロソルブ+ブチ
ルセロソルブ,あるいはキシロール+セロソルブアセテ
ート+メチルイソブチルケトン+シクロヘキサン等の混
合溶媒を使用することもできる。
The solvent used for the reaction liquid of the room temperature glass may be any solvent which can dissolve water and the above-mentioned organometallic compounds and can be uniformly mixed with water. Generally, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol, and mixtures thereof are preferably used. Further, a mixed solvent such as butanol + cellosolve + butyl cellosolve, or xylol + cellosolve acetate + methyl isobutyl ketone + cyclohexane can also be used.

【0017】上記ホウ素イオンとしては,B(OC2
5 3 等を用いる。ハロゲンイオンとしては,F- (フ
ッ素イオン),Cl- (塩素イオン)等の単一イオン又
は複合イオンがある。ハロゲンイオンは,反応液中に,
上記ハロゲンイオンを生成し得る化合物を添加すること
により得る。上記ハロゲンイオンを生成し得る化合物と
しては,例えばフッ化水素アンモニウム(NH4 F・H
F),NaF,NH4 Clなどが好ましい。
As the boron ion, B (OC 2 H
5 ) Use 3 etc. Halogen ions include single ions or composite ions such as F (fluorine ion) and Cl (chlorine ion). Halogen ions, in the reaction solution,
It is obtained by adding a compound capable of generating the above halogen ion. Examples of the compound capable of generating the halogen ion include ammonium hydrogen fluoride (NH 4 F · H)
F), NaF, NH 4 Cl and the like are preferable.

【0018】上記常温ガラスの反応液をホログラム層の
表面に均一に塗布する方法としては,ディップコート,
スピンナーコート等の方法がある。ホログラム層は,重
クロム酸ゼラチン,銀塩,フォトポリマー等を用いる。
重クロム酸ゼラチンや銀塩等は,ゼラチン等により固形
化する。フォトポリマー等は,有機高分子等により固形
化する。
As a method for uniformly coating the surface of the hologram layer with the above-mentioned normal-temperature glass reaction solution, dip coating,
There are methods such as spinner coating. For the hologram layer, dichromated gelatin, silver salt, photopolymer, etc. are used.
Dichromated gelatin and silver salts are solidified by gelatin. Photopolymers and the like are solidified by organic polymers and the like.

【0019】次に,ホログラム層の表面を,上記特殊の
常温ガラスにより被覆する場合,その反応機構は,以下
のように考えられる。例として,加水分解可能な有機金
属化合物としてテトラエトキシシラン,ハロゲンイオン
としてHF,溶媒としてNH4 OH,Al(NO3 3
を用いた場合について説明する。
Next, when the surface of the hologram layer is coated with the above special room temperature glass, its reaction mechanism is considered as follows. As an example, tetraethoxysilane as a hydrolyzable organometallic compound, HF as a halogen ion, NH 4 OH as a solvent, Al (NO 3 ) 3
The case of using will be described.

【0020】即ち,常温ガラスの反応液をホログラム層
の表面にコーティングしたとき,その反応液中のテトラ
エトキシシラン〔Si(OC2 5 )〕)がまず加水分
解(反応式)して水酸化物〔Si(OH)4 〕が生成
する。そして,該水酸化物が脱水縮合する(反応式)
ことにより,常温ガラス〔SiO2 〕が生成する。 Si(OC2 5 4 +4H2 O→Si(OH)4 +4C2 5 OH・・・ Si(OH)4 →SiO2 +2H2 O・・・
That is, when the surface of the hologram layer is coated with a reaction liquid of room temperature glass, tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 )] in the reaction liquid is first hydrolyzed (reaction formula) to be hydroxylated. The product [Si (OH) 4 ] is produced. Then, the hydroxide is dehydrated and condensed (reaction formula)
As a result, room temperature glass [SiO 2 ] is produced. Si (OC 2 H 5 ) 4 + 4H 2 O → Si (OH) 4 + 4C 2 H 5 OH ... Si (OH) 4 → SiO 2 + 2H 2 O ...

【0021】更に詳説すれば,反応液中において,加水
分解可能な有機金属化合物としてのテトラエトキシシラ
ン〔Si(OC2 5 4 〕を加水分解し,これにハロ
ゲンイオン〔HF〕を添加して,反応式のごとく,中
間体〔SiF6 2- 〕を生成させる。そして,低温加熱な
どにより溶媒を蒸発させると,反応式ないしのごと
き反応が進行し,ガラス膜が形成される。
More specifically, tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] as a hydrolyzable organometallic compound is hydrolyzed in the reaction solution, and a halogen ion [HF] is added thereto. Then, the intermediate [SiF 6 2− ] is generated as shown in the reaction formula. Then, when the solvent is evaporated by heating at a low temperature or the like, a reaction such as a reaction formula or the like proceeds to form a glass film.

【0022】即ち,中間体〔SiF6 2- 〕は,金属イオ
ン〔Al(NO3 3 〕と反応して,常温ガラス〔Si
2 〕を生成させる(反応式)。また,上記中間体
は,アンモニア〔NH4 OH〕とも反応して,常温ガラ
ス〔SiO2 〕を生成させる(反応式)。また,上記
中間体は,ホログラム層及び基板の表面の水酸基〔OH
- 〕と脱水縮合する(反応式)。
That is, the intermediate [SiF 6 2− ] reacts with the metal ion [Al (NO 3 ) 3 ] to form the normal temperature glass [Si].
O 2 ] is generated (reaction formula). The intermediate also reacts with ammonia [NH 4 OH] to form normal temperature glass [SiO 2 ] (reaction formula). Further, the above intermediate is a hydroxyl group [OH
- ] And dehydration condensation (reaction formula).

【0023】 Si(OC2 5 4 +6HF→ SiF6 2- +2H+ +4C2 5 OH・・・・ 2Al(NO3 3 +2H2 O+SiF6 2- +2H+ → 2AlF3 +6HNO3 +SiO2 ・・・・・ 4NH4 OH+SiF6 2- +2H+ → 4NH4 F+2HF+2H2 O+SiO2 ・・ 4H+ +4OH- +SiF6 2- +2H+ → SiO2 +2H2 O+6HF・・・・・・・・Si (OC 2 H 5 ) 4 + 6HF → SiF 6 2- + 2H + + 4C 2 H 5 OH ... 2Al (NO 3 ) 3 + 2H 2 O + SiF 6 2- + 2H + → 2AlF 3 + 6HNO 3 + SiO 2・ ・ ・ 4NH 4 OH + SiF 6 2− + 2H + → 4NH 4 F + 2HF + 2H 2 O + SiO 2 ··· 4H + + 4OH + SiF 6 2 − + 2H + → SiO 2 + 2H 2 O + 6HF

【0024】上記反応により,図2(a)に示すごと
く,ホログラム層5の表面の水酸基〔OH- 〕と常温ガ
ラスの中間体〔SiF6 2- 〕とが化学的に結合する。そ
して,これを低温加熱して乾燥することにより,図2
(b)に示すごとく,水分〔H2 O〕,フッ化水素〔H
F〕を蒸発させる。これにより,ホログラム層5と強固
に結合した,常温ガラスのガラス膜が形成される。
As a result of the above reaction, as shown in FIG. 2A, the hydroxyl group [OH ] on the surface of the hologram layer 5 and the intermediate [SiF 6 2− ] of normal temperature glass are chemically bonded. Then, by heating this at a low temperature and drying it, as shown in FIG.
As shown in (b), water [H 2 O], hydrogen fluoride [H]
F] is evaporated. As a result, a glass film of room temperature glass firmly bonded to the hologram layer 5 is formed.

【0025】次に,本願にかかる第二発明は,所望の像
が記録されたホログラム層と,該ホログラム層を設けた
基板とよりなるホログラムにおいて,上記ホログラム層
及び基板はその表面が加水分解,脱水縮合反応によりホ
ログラム層又は基板の表面と化学結合する常温ガラスに
より被覆されていることを特徴とするホログラムにあ
る。
Next, a second invention according to the present application is a hologram comprising a hologram layer on which a desired image is recorded and a substrate provided with the hologram layer, wherein the surface of the hologram layer and the substrate is hydrolyzed, The hologram is characterized in that it is coated with room temperature glass that chemically bonds to the surface of the hologram layer or the substrate by a dehydration condensation reaction.

【0026】上記第二発明において最も注目すべきこと
は,上記ホログラム層及び基板が,該ホログラム層又は
基板の表面と化学結合する常温ガラスにより被覆されて
いることである。
What is most noticeable in the second aspect of the invention is that the hologram layer and the substrate are covered with room temperature glass that chemically bonds to the surface of the hologram layer or the substrate.

【0027】上記基板としては,ガラス基板,或いは光
学樹脂基板,熱硬化型樹脂基板等の樹脂基板を用いる。
該樹脂基板としては,ポリカーボン系基板,アクリル系
基板等がある。基板の形状は,特に限定しないが,平板
形状,プリズム形状,レンズ形状,グレーティング形状
等がある。上記ホログラムの光学特性としては,透過型
と反射型とがある。一般に透過型の場合にはホログラム
層は透明,基板は透明であり,一方反射型の場合にはホ
ログラム層は透明であり,基板は黒色である。
As the substrate, a glass substrate or a resin substrate such as an optical resin substrate or a thermosetting resin substrate is used.
Examples of the resin substrate include a polycarbon substrate and an acrylic substrate. The shape of the substrate is not particularly limited, but may be a flat plate shape, a prism shape, a lens shape, a grating shape or the like. The optical characteristics of the hologram include a transmission type and a reflection type. Generally, in the case of the transmissive type, the hologram layer is transparent and the substrate is transparent, while in the case of the reflective type, the hologram layer is transparent and the substrate is black.

【0028】また,上記基板として,樹脂基板を用いる
場合には,該樹脂基板はその全表面が加水分解,脱水縮
合反応により基板の表面と化学結合する常温ガラスによ
り被覆されていることが好ましい。これにより,基板に
耐湿性,耐溶媒性,及び耐摩耗性を与えることができ
る。
When a resin substrate is used as the substrate, it is preferable that the entire surface of the resin substrate is covered with room temperature glass which is chemically bonded to the surface of the substrate by hydrolysis and dehydration condensation reaction. This makes it possible to impart moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance to the substrate.

【0029】また,上記ホログラム層の両面は,基板に
より挟着されていると共に,これらは光学接着剤により
接着されていてもよい。これにより,湿気,溶媒がホロ
グラム層へ浸入することを防止し,かつホログラム層が
摩耗することを防止することができる。
Both sides of the hologram layer may be sandwiched by substrates, and these may be adhered by an optical adhesive. This can prevent moisture and solvent from entering the hologram layer and prevent the hologram layer from being worn.

【0030】また,上記ホログラム層と常温ガラスとの
間には,熱膨張による亀裂を防止するために,高分子材
料等の異種材料を介在させることができる。その他は,
上記第一発明と同様である。
Further, a different material such as a polymer material may be interposed between the hologram layer and the room temperature glass in order to prevent cracks due to thermal expansion. Others,
It is similar to the first invention.

【0031】本願にかかる第三発明は,所望の像が記録
されたホログラム層と,該ホログラム層を設けた基板と
よりなるホログラムにおいて,上記ホログラム層の両面
は,基板により挟着されていると共に,これらは光学接
着剤により接着されており,かつ上記光学接着剤の露出
表面は,加水分解,脱水縮合反応により光学接着剤と化
学結合する常温ガラスにより被覆されていることを特徴
とするホログラムにある。
A third invention according to the present application is a hologram comprising a hologram layer on which a desired image is recorded and a substrate provided with the hologram layer, wherein both sides of the hologram layer are sandwiched by the substrates. , A hologram characterized in that these are adhered by an optical adhesive, and the exposed surface of the optical adhesive is covered by a room temperature glass which chemically bonds with the optical adhesive by hydrolysis and dehydration condensation reaction. is there.

【0032】上記第三発明において最も注目すべきこと
は,ホログラム層の両面が基板により挟着されているこ
と,上記ホログラム層及び基板は光学接着剤により接着
されていること,及び該光学接着剤の露出表面が常温ガ
ラスにより被覆されていることである。その他は,上記
第二発明と同様である。
What is most noticeable in the third invention is that both sides of the hologram layer are sandwiched by substrates, that the hologram layer and the substrate are adhered by an optical adhesive, and the optical adhesive is That is, the exposed surface of is covered with normal temperature glass. Others are the same as the above-mentioned second invention.

【0033】尚,上記第一ないし第三発明において,ホ
ログラム層の表面を保護層で被覆し,該保護層の上に常
温ガラスを塗布することができる。これにより,ホログ
ラムは,更に耐湿性,耐溶剤性,耐摩耗性に優れたもの
となる。上記保護層としては,光硬化型,熱硬化型等の
コーティング剤を用いる。
In the first to third inventions, the surface of the hologram layer may be covered with a protective layer, and normal temperature glass may be coated on the protective layer. As a result, the hologram is further excellent in moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance. As the protective layer, a photo-curing type or a thermosetting type coating agent is used.

【0034】[0034]

【作用及び効果】第一発明において,ホログラム層を覆
う上記特殊の常温ガラスは,耐湿性,耐溶媒性,耐摩耗
性に優れている。そのため,常温ガラスはホログラム層
に湿気,溶剤等が浸入するのを防止し,かつ損傷,摩耗
から保護する。
In the first invention, the special room temperature glass covering the hologram layer has excellent moisture resistance, solvent resistance and abrasion resistance. Therefore, the room temperature glass prevents moisture, solvent and the like from entering the hologram layer and protects it from damage and abrasion.

【0035】それ故,本発明のホログラムは耐湿性,耐
溶剤性及び耐摩耗性に優れている。また,常温ガラスは
100℃程度で上記一連の反応がおこる。そのため,こ
の反応と同時に,ホログラム層内の水分や有機溶剤を蒸
発させることができる。
Therefore, the hologram of the present invention is excellent in moisture resistance, solvent resistance and abrasion resistance. The normal temperature glass undergoes the above series of reactions at about 100 ° C. Therefore, at the same time as this reaction, water and organic solvent in the hologram layer can be evaporated.

【0036】また,本発明においては,ホログラム層の
表面に,液状の常温ガラスの反応液を塗布している。そ
のため,両者は濡れ性が良く,密着性が高い。そのた
め,ホログラム層と常温ガラスとの間には気泡が発生し
ない。従って,気泡の少ないホログラムを得ることがで
きる。また,本発明によれば,光学接着剤やカバーガラ
スを用いる必要がない。それ故,光学接着剤使用にみら
れた皺が発生しない。
Further, in the present invention, a liquid reaction liquid of room temperature glass is applied to the surface of the hologram layer. Therefore, both have good wettability and high adhesion. Therefore, no bubbles are generated between the hologram layer and the room temperature glass. Therefore, a hologram with few bubbles can be obtained. Also, according to the present invention, it is not necessary to use an optical adhesive or a cover glass. Therefore, the wrinkles seen in the use of the optical adhesive do not occur.

【0037】また,カバーガラスの厚みも不要となる。
また,常温ガラスのガラス膜は,その厚みが従来例のカ
バーガラスに比較して一段と薄い。そのため,ホログラ
ムの軽量化を図ることができる。また,上記常温ガラス
によれば,従来において用いていた耐湿処理用のカバー
ガラスを必要としないため,特殊な形状の基板の表面に
も,容易にガラス膜を形成することができる。
Further, the thickness of the cover glass becomes unnecessary.
Further, the glass film of normal temperature glass is much thinner than the cover glass of the conventional example. Therefore, the weight of the hologram can be reduced. Further, according to the normal temperature glass, since the cover glass for moisture resistance treatment used in the past is not required, the glass film can be easily formed on the surface of the substrate having a special shape.

【0038】第二発明においては,ホログラム層及び基
板が,前記優れた性質を有する常温ガラスにより被覆さ
れている。そのため,本発明にかかるホログラムは,前
記第一発明と同様に,軽量で,優れた耐湿性,耐溶媒
性,耐摩耗性を有する。
In the second invention, the hologram layer and the substrate are coated with the room temperature glass having the above-mentioned excellent properties. Therefore, the hologram according to the present invention is lightweight and has excellent moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance as in the first invention.

【0039】第三発明においては,ホログラム層及び基
板が光学接着剤により接着されている。また,該光学接
着剤の露出表面は,前記常温ガラスと化学結合すること
により形成されたガラス膜により被覆されている。その
ため,常温ガラスは,光学接着剤に湿気,溶媒等が浸入
することを防止するとともに,光学接着剤を損傷,摩耗
から保護する。
In the third invention, the hologram layer and the substrate are adhered by an optical adhesive. The exposed surface of the optical adhesive is covered with a glass film formed by chemically bonding with the room temperature glass. Therefore, the room temperature glass not only prevents moisture and solvent from entering the optical adhesive, but also protects the optical adhesive from damage and abrasion.

【0040】一方,ホログラム層はその両面が基板によ
り被覆されている。それ故,光学接着剤及び基板により
保護されたホログラム層は,湿気,溶媒等の影響を受け
ない。また,損傷,摩耗もしない。従って,本発明のホ
ログラムは,軽量で,耐湿性,耐溶媒性,耐摩耗性に優
れている。
On the other hand, the hologram layer is covered on both sides with substrates. Therefore, the hologram layer protected by the optical adhesive and the substrate is not affected by moisture, solvent and the like. Also, it is not damaged or worn. Therefore, the hologram of the present invention is lightweight and excellent in moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance.

【0041】また,第一ないし第三発明にかかるホログ
ラムは,その応用として,ホログラム層を印刷物の中へ
挿入したり,クレジットカードなどの偽造防止用として
のエンボスホログラムやリップマンホログラムやフレネ
ルホログラム等としても利用することができる。
Further, the hologram according to the first to third inventions is applied as an embossed hologram, a Lippmann hologram, a Fresnel hologram, etc. for preventing forgery of a credit card or the like by inserting a hologram layer into a printed matter. Can also be used.

【0042】これらのホログラム層には,ゼラチン,有
機高分子等が使用されているため,溶剤やキズに弱い。
このホログラム層の表面もしくは紙やポリマー等の基板
を,常温ガラスにより被覆することにより,耐湿性,耐
溶剤性を向上することができ,耐摩擦性も向上する。以
上のごとく,本発明によれば,軽量で,耐湿性,耐溶剤
性,耐摩耗性に優れたホログラムを提供することができ
る。
Since these hologram layers use gelatin, organic polymers, etc., they are vulnerable to solvents and scratches.
By covering the surface of the hologram layer or the substrate made of paper, polymer or the like with normal temperature glass, the moisture resistance and the solvent resistance can be improved, and the abrasion resistance is also improved. As described above, according to the present invention, it is possible to provide a hologram which is lightweight and has excellent moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance.

【0043】[0043]

【実施例】【Example】

実施例1 本例のホログラムについて,図1〜図3を用いて説明す
る。本例のホログラム9は,図1に示すごとく,基板と
してのガラス基板92の表面に,所望の像が記録された
ホログラム層5を設けてなり,該ホログラム層5の表面
は,加水分解,脱水縮合反応により該ホログラム層5の
表面と化学結合する常温ガラス1により被覆されてい
る。
Example 1 The hologram of this example will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the hologram 9 of this example has a hologram layer 5 on which a desired image is recorded, provided on the surface of a glass substrate 92 as a substrate, and the surface of the hologram layer 5 is hydrolyzed and dehydrated. It is covered with a room temperature glass 1 which is chemically bonded to the surface of the hologram layer 5 by a condensation reaction.

【0044】上記常温ガラス1とは,加水分解可能な有
機金属化合物を反応液中において,B3+(ホウ素イオ
ン)の存在下に,触媒としてF- (フッ化物イオン)を
添加し,加水分解,脱水縮合させることによりガラス膜
をつくるものである。該ガラス膜の硬度は,鉛筆硬度で
4H〜5Hであり,耐損傷性,耐摩耗性を有する。
The normal temperature glass 1 is a hydrolyzable organometallic compound in a reaction solution, which is hydrolyzed by adding F (fluoride ion) as a catalyst in the presence of B 3+ (boron ion). The glass film is formed by dehydration condensation. The hardness of the glass film is 4H to 5H in terms of pencil hardness and has damage resistance and wear resistance.

【0045】上記有機金属化合物は,B3+,F- ,及び
溶媒を均一に混合した反応液の中で,加水分解,脱水縮
合し,常温ガラス1を作成するものである。ホログラム
層5は,ホログラムが記録されたゼラチンである。これ
は,重クロム酸ゼラチンにホログラムを記録し,次いで
重クロム酸塩を洗い流し,その後イソプロピルアルコー
ルにより脱水したものである。
The organometallic compound is hydrolyzed and dehydrated and condensed in a reaction solution in which B 3+ , F , and a solvent are uniformly mixed to prepare the normal temperature glass 1. The hologram layer 5 is gelatin on which a hologram is recorded. This is a hologram recorded on dichromated gelatin, followed by washing away the dichromate, followed by dehydration with isopropyl alcohol.

【0046】常温ガラス1及びホログラム層5の光の屈
折率は,ガラス基板92の屈折率(n0 =1.52)に
近似している。ホログラム9は反射型であり,ガラス基
板92及び常温ガラス1は透明である。ホログラム層5
とガラス基板92とは,アクリル系接着剤により接着さ
れている。
The refractive index of light of the room temperature glass 1 and the hologram layer 5 is close to the refractive index of the glass substrate 92 (n 0 = 1.52). The hologram 9 is a reflection type, and the glass substrate 92 and the room temperature glass 1 are transparent. Hologram layer 5
The glass substrate 92 and the glass substrate 92 are bonded by an acrylic adhesive.

【0047】次に,常温ガラスの作製方法について説明
する。まず,ジルコニウム:テトラブトキシド:Zr
(OBu)4 を,重量で5:1(溶媒)の比で,水+メ
タノール+エタノール+イソプロパノール(以下,H2
O+MeOH+EtOH+i−PrOHのように表す)
=1:1:1:4の割合からなる混合溶媒に混合した。
Next, a method for producing the normal temperature glass will be described. First, zirconium: tetrabutoxide: Zr
(OBu) 4 in a weight ratio of 5: 1 (solvent), water + methanol + ethanol + isopropanol (hereinafter referred to as H 2
O + MeOH + EtOH + i-PrOH)
= 1: 1: 1: 4.

【0048】次いでこの混合物に,さらに,トリエトキ
シボランB(OEt)3 を0.2モル/kgの割合で添
加して,10分間攪拌溶解した。これにより,金属酸化
物及びB+ を含む反応液を調製した。この反応液中のi
−PrOHに対するZr(OBu)4 の濃度は,70
(重量)%(ZrO2 として20%)である。
Then, triethoxyborane B (OEt) 3 was further added to this mixture at a rate of 0.2 mol / kg, and dissolved by stirring for 10 minutes. As a result, a reaction solution containing the metal oxide and B + was prepared. I in this reaction solution
The concentration of Zr (OBu) 4 with respect to —PrOH is 70
(Weight)% (20% as ZrO 2 ).

【0049】一方,ハロゲンイオン源として酸性沸化ア
ンモニウムNH4 F・HFを用い,上記反応液と同一の
混合溶媒との合計重量に対するF- 濃度を0.1モル/
kgとなるように調製した。これにより,触媒を得た。
次に,上記のようにして調製した反応液と触媒とを重量
比3:1の割合で混合して10分間攪拌した。次に,塩
酸とアンモニア水を用いて,混合液のpHを5.0(指
示薬としてメチルレッド+ブロモクレゾールグリーンの
エタノール溶液を使用)に調製した。その後,これを3
時間熟成し加水分解,脱水縮合させて常温ガラスの反応
液とした。
On the other hand, ammonium fluoride NH 4 F.HF was used as the halogen ion source, and the F concentration was 0.1 mol / mol based on the total weight of the reaction solution and the same mixed solvent.
It was prepared to be kg. Thereby, a catalyst was obtained.
Next, the reaction liquid prepared as described above and the catalyst were mixed at a weight ratio of 3: 1 and stirred for 10 minutes. Next, the pH of the mixed solution was adjusted to 5.0 (using an ethanol solution of methyl red + bromocresol green as an indicator) using hydrochloric acid and aqueous ammonia. After that, this 3
After aging for a while, hydrolysis and dehydration condensation were performed to obtain a room temperature glass reaction solution.

【0050】なお,反応時に使用したホウ素に関して
は,得られる金属酸化物の設計組成中にB2 3 成分と
して含有させる場合は,その含有量に応じた有機ホウ素
化合物の計算量を添加したまま常温ガラスを作製すれば
よい。また,ホウ素を除去したいときは,成膜後,溶媒
としてのメタノールの存在下,又はメタノールに浸漬し
て加熱すれば,ホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸
発し,除去することができる。
Regarding the boron used in the reaction, when it is contained as a B 2 O 3 component in the design composition of the obtained metal oxide, the calculated amount of the organoboron compound according to the content is added as it is. A normal temperature glass may be produced. Further, when it is desired to remove boron, if boron is evaporated as boron methyl ester and removed by heating in the presence of methanol as a solvent or by immersing in methanol and heating after film formation.

【0051】常温ガラス1の反応液をホログラム層5に
塗布する方法としては,ディップコート法を用い,塗布
した。塗布後,100℃で20分間低温乾燥し,常温ガ
ラスの膜を形成させた。このガラス膜の厚みは約10μ
mであった。上記ガラス基板92は平板形状である。
As a method for applying the reaction liquid of the room temperature glass 1 to the hologram layer 5, a dip coating method was used. After coating, the film was dried at low temperature at 100 ° C. for 20 minutes to form a room temperature glass film. The thickness of this glass film is about 10μ
It was m. The glass substrate 92 has a flat plate shape.

【0052】次に,本例の作用効果について説明する。
本例のホログラム9は,ホログラム層5の表面を特殊な
常温ガラス1により被覆している。そのため,ホログラ
ム層5の表面には,強固に結合したガラス膜が形成され
る。また,常温ガラス1は耐湿性,耐溶剤性に優れてい
る。そのため,ホログラム層5を覆う常温ガラス1は,
該ホログラム層に湿気,有機溶剤等が浸入するのを防止
する。それ故,本例のホログラムは耐湿性,耐溶剤性に
優れている。
Next, the function and effect of this example will be described.
In the hologram 9 of this example, the surface of the hologram layer 5 is covered with a special room temperature glass 1. Therefore, a strongly bonded glass film is formed on the surface of the hologram layer 5. Further, the room temperature glass 1 has excellent moisture resistance and solvent resistance. Therefore, the room temperature glass 1 covering the hologram layer 5 is
It prevents moisture, organic solvent and the like from entering the hologram layer. Therefore, the hologram of this example is excellent in moisture resistance and solvent resistance.

【0053】また,ホログラム層5の表面に液状の常温
ガラス1を塗布している。そのため,両者は濡れ性が良
く,密着性が高い。それ故,ホログラム層5と常温ガラ
ス1との間には気泡が発生しない。従って,気泡の少な
いホログラム9を得ることができる。
Liquid hologram glass 1 is applied to the surface of hologram layer 5. Therefore, both have good wettability and high adhesion. Therefore, no bubbles are generated between the hologram layer 5 and the room temperature glass 1. Therefore, the hologram 9 with few bubbles can be obtained.

【0054】また,ホログラム層5とガラス基板92と
の接着に際して常温ガラス1を用いているため,光学接
着剤やカバーガラスを用いる必要がない。それ故,光学
接着剤にみられた皺が発生しない。また,常温ガラス1
よりなるガラス膜は,その厚みが従来例のカバーガラス
に比較して格段に薄い。そのため,ホログラム9の軽量
化を図ることができる。
Further, since the room temperature glass 1 is used for bonding the hologram layer 5 and the glass substrate 92, it is not necessary to use an optical adhesive or a cover glass. Therefore, the wrinkles seen in the optical adhesive do not occur. Also, normal temperature glass 1
The glass film made of is much thinner than the conventional cover glass. Therefore, it is possible to reduce the weight of the hologram 9.

【0055】また,図3に示すごとく,ホログラム層5
は,これを上記ガラス基板92から剥離して,ホログラ
ム層5の表面全体を常温ガラス1により被覆することも
できる。これにより,ホログラム9は,ホログラム層5
と常温ガラス1のみとなり,一層の軽量化,薄層化を図
ることができる。
Further, as shown in FIG. 3, the hologram layer 5
It is also possible to peel this from the glass substrate 92 and cover the entire surface of the hologram layer 5 with the room temperature glass 1. As a result, the hologram 9 becomes the hologram layer 5
With only the normal temperature glass 1, it is possible to further reduce the weight and the thickness.

【0056】実施例2 本例のホログラムは,図4に示すごとく,基板としてポ
リカーボン系の樹脂基板91を用いている。また,ホロ
グラム層5だけでなく樹脂基板91の表面全体が,常温
ガラス1により被覆されている。該常温ガラス1は,加
水分解,脱水縮合反応により,ホログラム層5及び樹脂
基板91の表面と化学結合している。その他は,実施例
1と同様である。
Example 2 In the hologram of this example, as shown in FIG. 4, a polycarbon resin substrate 91 is used as a substrate. Further, not only the hologram layer 5 but the entire surface of the resin substrate 91 is covered with the room temperature glass 1. The normal temperature glass 1 is chemically bonded to the surfaces of the hologram layer 5 and the resin substrate 91 by hydrolysis and dehydration condensation reaction. Others are the same as in the first embodiment.

【0057】本例においては,ガラス基板よりも軽量の
樹脂基板91を用いている。そのため,本例のホログラ
ムは,実施例1に比較して更に軽量である。また,上記
樹脂基板91は耐湿性,耐溶剤性,耐摩耗性に弱いが,
その表面全体が常温ガラス1により被覆されている。そ
のため,優れた耐湿性,耐溶剤性,耐摩耗性を確保する
ことができる。
In this example, the resin substrate 91 which is lighter than the glass substrate is used. Therefore, the hologram of this example is even lighter than that of the first embodiment. Further, although the resin substrate 91 is weak in moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance,
The entire surface is covered with the room temperature glass 1. Therefore, excellent moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance can be secured.

【0058】尚,図5に示すごとく,基板としてガラス
基板92を用い,ホログラム層5及びガラス基板92の
全体を常温ガラス1により被覆することもできる。この
場合にも,ホログラム層5について十分な耐湿性を保持
することができる。その他,本例においても,実施例1
と同様の効果を得ることができる。
As shown in FIG. 5, the glass substrate 92 may be used as the substrate, and the hologram layer 5 and the glass substrate 92 may be entirely covered with the room temperature glass 1. Also in this case, the hologram layer 5 can maintain sufficient moisture resistance. In addition, also in this example, the first embodiment
The same effect as can be obtained.

【0059】実施例3 本例のホログラム9は,図6に示すごとく,ホログラム
層5の表面に異種材料6を介在させて,該異種材料6の
表面を常温ガラス1により被覆している。また,樹脂基
板91の表面も常温ガラス1により被覆されている。上
記異種材料6は,保護層形成のために,高分子材料で形
成されたものである。その他は,実施例2と同様であ
る。
Example 3 In the hologram 9 of this example, as shown in FIG. 6, a different material 6 is interposed on the surface of the hologram layer 5, and the surface of the different material 6 is covered with the room temperature glass 1. The surface of the resin substrate 91 is also covered with the room temperature glass 1. The dissimilar material 6 is formed of a polymer material to form a protective layer. Others are the same as those in the second embodiment.

【0060】本例においては,ホログラム層5と常温ガ
ラス1との間に異種材料6を介在させているので,熱膨
張による亀裂防止効果がある。その他,本例において
は,実施例2と同様の効果を得ることができる。なお,
図7に示すごとく,基板としてガラス基板92を用いる
こともできる。
In this example, since the dissimilar material 6 is interposed between the hologram layer 5 and the room temperature glass 1, there is an effect of preventing cracks due to thermal expansion. In addition, in this example, the same effect as that of the second embodiment can be obtained. In addition,
As shown in FIG. 7, a glass substrate 92 can be used as the substrate.

【0061】実施例4 本例においては,前記実施例1のホログラムの水沈耐久
性評価を行った。評価方法は,上記ホログラムを水中に
浸漬し,ホログラムの消失時間を測定した。尚,比較の
ために,常温ガラスをコーティングしていないホログラ
ム(比較例)についても,上記と同様にして評価した。
その結果,実施例1にかかるホログラムは420分(7
時間)後に,ホログラム層に記録されたホログラムが消
失した。一方,比較例では,3分後という極く短時間
で,ホログラムが消失した。
Example 4 In this example, the hologram of Example 1 was evaluated for water immersion durability. As an evaluation method, the hologram was immersed in water and the disappearance time of the hologram was measured. For comparison, a hologram not coated with normal temperature glass (comparative example) was also evaluated in the same manner as above.
As a result, the hologram according to the first embodiment is 420 minutes (7
(Time), the hologram recorded in the hologram layer disappeared. On the other hand, in the comparative example, the hologram disappeared in a very short time of 3 minutes.

【0062】実施例5 本例のホログラム9は,図8に示すごとく,所望の像が
記録されたホログラム層5と,該ホログラム層5をその
上下両面より挟着した樹脂基板91,91とよりなる。
ホログラム層5の両面は光学接着剤7を介して,樹脂基
板91と接着されている。そして,上記ホログラム層5
を挟着した状態で,樹脂基板91及び光学接着剤7の露
出表面全体が,前記常温ガラス1により被覆されてい
る。その他は実施例2と同様である。本例においても実
施例2と同様の効果を得ることができる。
Example 5 As shown in FIG. 8, the hologram 9 of this example comprises a hologram layer 5 on which a desired image is recorded and resin substrates 91 and 91 in which the hologram layer 5 is sandwiched between the upper and lower surfaces thereof. Become.
Both surfaces of the hologram layer 5 are bonded to the resin substrate 91 via the optical adhesive 7. Then, the hologram layer 5
The entire exposed surface of the resin substrate 91 and the optical adhesive 7 is covered with the room temperature glass 1 in a state where the glass substrate is sandwiched. Others are the same as those in the second embodiment. Also in this example, the same effect as in Example 2 can be obtained.

【0063】実施例6 本例のホログラム9は,図9,図10に示すごとく,表
面全体が常温ガラス1で被覆された樹脂基板91を用
い,これにより,ホログラム層5を挟着している。上記
常温ガラス1及びホログラム層5は,光学接着剤7によ
り接着固定されている。その他は実施例5と同様であ
る。
Example 6 As shown in FIGS. 9 and 10, the hologram 9 of this example uses a resin substrate 91 whose entire surface is covered with the room temperature glass 1, whereby the hologram layer 5 is sandwiched. . The room temperature glass 1 and the hologram layer 5 are adhered and fixed by an optical adhesive 7. Others are the same as in the fifth embodiment.

【0064】本例においては,ホログラム層5との密着
性が弱い樹脂基板91の間に常温ガラス1が介在してい
る。そのため,ホログラム層5と樹脂基板91との間は
密着性が良い。また,各樹脂基板91の全体が予め常温
ガラス1により被覆されているので,一層耐湿性に優れ
ている。その他,本例においても実施例5と同様の効果
を得ることができる。
In this example, the room temperature glass 1 is interposed between the resin substrates 91 having a weak adhesion to the hologram layer 5. Therefore, the adhesion between the hologram layer 5 and the resin substrate 91 is good. Further, since the entire resin substrate 91 is coated with the room temperature glass 1 in advance, the moisture resistance is further improved. Besides, in this example, the same effect as that of the fifth embodiment can be obtained.

【0065】また,図11に示した,片面だけが常温ガ
ラス1により被覆された樹脂基板91を用い,これを常
温ガラス1が貼着している面を内側に向けて,ホログラ
ム層5を挟着し,その後図9に示すごとくホログラム9
全体を常温ガラス1により被覆することもできる。この
場合にも,全面が常温ガラス1により被覆された樹脂基
板91と同様の効果が得られる。
Further, as shown in FIG. 11, a resin substrate 91 having only one surface coated with the room temperature glass 1 is used, and the hologram layer 5 is sandwiched with the surface on which the room temperature glass 1 is stuck facing inward. Put on the hologram 9 as shown in FIG.
It is also possible to cover the whole with the ordinary temperature glass 1. Also in this case, the same effect as that of the resin substrate 91 whose whole surface is covered with the room temperature glass 1 can be obtained.

【0066】実施例7 本例のホログラム9は,図12に示すごとく,ホログラ
ム層5の両面がガラス基板92により挟着されていると
共に,これらは光学接着剤7により接着されている。該
光学接着剤7は,外方に露出した露出表面が常温ガラス
1により被覆されている。
Example 7 In the hologram 9 of this example, as shown in FIG. 12, both sides of the hologram layer 5 are sandwiched by glass substrates 92, and these are adhered by an optical adhesive 7. The exposed surface of the optical adhesive 7 that is exposed to the outside is covered with the room temperature glass 1.

【0067】常温ガラス1は,光学接着剤7の露出表面
において,加水分解,脱水縮合反応により光学接着剤7
と化学結合している。その他は,実施例1と同様であ
る。尚,本例においては,基板としてガラス基板92を
用いたが,樹脂基板を用いることもできる。
The room-temperature glass 1 is formed on the exposed surface of the optical adhesive 7 by hydrolysis and dehydration condensation reaction.
Is chemically bonded to. Others are the same as in the first embodiment. Although the glass substrate 92 is used as the substrate in this example, a resin substrate can also be used.

【0068】本例においては,ホログラム層5及びガラ
ス基板92が光学接着剤7により接着されている。そし
て,光学接着剤7の露出表面は,常温ガラス1と化学結
合することにより形成されたガラス膜により被覆されて
いる。そのため,常温ガラス1は,光学接着剤7に湿
気,溶媒等が浸入することを防止するとともに,光学接
着剤7を損傷,摩耗から保護する。
In this example, the hologram layer 5 and the glass substrate 92 are adhered by the optical adhesive 7. The exposed surface of the optical adhesive 7 is covered with a glass film formed by chemically bonding with the room temperature glass 1. Therefore, the room temperature glass 1 prevents moisture, solvent and the like from entering the optical adhesive 7 and protects the optical adhesive 7 from damage and abrasion.

【0069】一方,ホログラム層5はその両面がガラス
基板92により被覆されている。それ故,光学接着剤7
及びガラス基板92により保護されたホログラム層5
は,湿気,溶媒等の影響を受けない。また,損傷,摩耗
もしない。従って,本例のホログラム9は,耐湿性,耐
溶媒性,耐摩耗性に優れている。その他,本例において
も,実施例1と同様の効果を得ることができる。
On the other hand, the hologram layer 5 is covered on both sides with glass substrates 92. Therefore, the optical adhesive 7
And the hologram layer 5 protected by the glass substrate 92
Is not affected by moisture or solvent. Also, it is not damaged or worn. Therefore, the hologram 9 of this example is excellent in moisture resistance, solvent resistance, and abrasion resistance. In addition, also in this example, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1のホログラムの断面図。FIG. 1 is a sectional view of a hologram according to a first embodiment.

【図2】本発明にかかる,常温ガラスとホログラム層と
の反応接着状態を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a reaction adhesion state between a room temperature glass and a hologram layer according to the present invention.

【図3】実施例1にかかる,表面全体が常温ガラスによ
り被覆されたホログラム層の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the hologram layer according to the first embodiment, the entire surface of which is covered with room temperature glass.

【図4】実施例2のホログラムの断面図。FIG. 4 is a sectional view of a hologram according to a second embodiment.

【図5】実施例2の他のホログラムの断面図。FIG. 5 is a sectional view of another hologram according to the second embodiment.

【図6】実施例3のホログラムの断面図。FIG. 6 is a sectional view of a hologram of Example 3.

【図7】実施例3の他のホログラムの断面図。FIG. 7 is a sectional view of another hologram according to the third embodiment.

【図8】実施例5のホログラムの断面図。FIG. 8 is a sectional view of a hologram of Example 5.

【図9】実施例6のホログラムの断面図。FIG. 9 is a sectional view of a hologram of Example 6.

【図10】実施例6にかかる,全表面が常温ガラスによ
り被覆された樹脂基板の断面図。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a resin substrate according to a sixth embodiment, the entire surface of which is covered with room temperature glass.

【図11】実施例6にかかる,片面が常温ガラスにより
被覆された樹脂基板の断面図。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a resin substrate according to a sixth embodiment, one surface of which is coated with room temperature glass.

【図12】実施例7のホログラムの断面図。FIG. 12 is a sectional view of a hologram of Example 7.

【図13】従来例のホログラムの断面図。FIG. 13 is a sectional view of a conventional hologram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...常温ガラス, 5...ホログラム層, 6...異種材料, 9...ホログラム, 91...樹脂基板, 92...ガラス基板, 1. . . Normal temperature glass, 5. . . Hologram layer, 6. . . Different materials, 9. . . Hologram, 91. . . Resin substrate, 92. . . Glass substrate,

フロントページの続き (72)発明者 松井 数馬 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 日本電 装株式会社内 (72)発明者 森実 敏倫 東京都練馬区羽沢2−26−12Front Page Continuation (72) Inventor Suuma Matsui 1-1, Showa-cho, Kariya City, Aichi Prefecture, Nihon Denso Co., Ltd. (72) Inventor Toshinori Morimi 2-26-12 Hazawa, Nerima-ku, Tokyo

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所望の像が記録されたホログラム層を有
するホログラムにおいて,上記ホログラム層の表面は,
加水分解,脱水縮合反応によりホログラム層の表面と化
学結合する常温ガラスにより被覆されていることを特徴
とするホログラム。
1. A hologram having a hologram layer on which a desired image is recorded, wherein the surface of the hologram layer comprises:
A hologram characterized by being coated with room temperature glass that chemically bonds to the surface of the hologram layer by a hydrolysis and dehydration condensation reaction.
【請求項2】 所望の像が記録されたホログラム層と,
該ホログラム層を設けた基板とよりなるホログラムにお
いて,上記ホログラム層及び基板はその表面が加水分
解,脱水縮合反応によりホログラム層又は基板の表面と
化学結合する常温ガラスにより被覆されていることを特
徴とするホログラム。
2. A hologram layer on which a desired image is recorded,
A hologram comprising a substrate provided with the hologram layer, characterized in that the surface of the hologram layer and the substrate is covered with room temperature glass which is chemically bonded to the surface of the hologram layer or the substrate by hydrolysis and dehydration condensation reaction. Hologram to do.
【請求項3】 請求項2において,上記基板は樹脂基板
であって,該基板はその全表面が加水分解,脱水縮合反
応により基板の表面と化学結合する常温ガラスにより被
覆されていることを特徴とするホログラム。
3. The substrate according to claim 2, wherein the substrate is a resin substrate, and the entire surface of the substrate is covered with room temperature glass that chemically bonds with the surface of the substrate by hydrolysis and dehydration condensation reaction. And hologram.
【請求項4】 所望の像が記録されたホログラム層と,
該ホログラム層を設けた基板とよりなるホログラムにお
いて,上記ホログラム層の両面は,基板により挟着され
ていると共に,これらは光学接着剤により接着されてお
り,かつ上記光学接着剤の露出表面は,加水分解,脱水
縮合反応により光学接着剤と化学結合する常温ガラスに
より被覆されていることを特徴とするホログラム。
4. A hologram layer on which a desired image is recorded,
In a hologram including a substrate provided with the hologram layer, both surfaces of the hologram layer are sandwiched by substrates, and these are adhered by an optical adhesive, and the exposed surface of the optical adhesive is A hologram characterized by being coated with room temperature glass that chemically bonds to an optical adhesive by a hydrolysis and dehydration condensation reaction.
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