JPH02210401A - Formation of antireflection layer - Google Patents

Formation of antireflection layer

Info

Publication number
JPH02210401A
JPH02210401A JP1031875A JP3187589A JPH02210401A JP H02210401 A JPH02210401 A JP H02210401A JP 1031875 A JP1031875 A JP 1031875A JP 3187589 A JP3187589 A JP 3187589A JP H02210401 A JPH02210401 A JP H02210401A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
metal alkoxide
metal
group
heating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1031875A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuko Hayashi
泰子 林
Kazumi Nakamura
中村 一己
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority to JP1031875A priority Critical patent/JPH02210401A/en
Publication of JPH02210401A publication Critical patent/JPH02210401A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To decrease the generation of cracks and to form the antireflection films which consists of the thin films of metal oxides having excellent heat resistance and adhesiveness by applying a liquid contg. the partial condensation product of a specific silane compd. and metal alkoxide on a substrate and curing the coating by heating to form the 1st layer A. CONSTITUTION:The liquid contg. the partial condensation product of the silane compd. expressed by the formula SiRm<1>Rn<2>(OR<3>)4-m-n and the metal alkoxide is applied on the substrate and is cured by heating, then the liquid contg. the metal alkoxide and a solvent is applied thereon and is cured by heating; thereafter, the liquid contg. the metal alkoxide different in metal species and the solvent is applied thereon and is cured by heating. Both functions of the 1st layer of the three-layered antireflection film on the high-polymer substrate side and an under coating layer are provided by using the combination of the partial condensation product of the specific silane compd. and the metal alkoxides in such a manner.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は有機高分子からなる基板上に反射防止層を形成
する方法に関する。反射防止層を有する有機高分子板は
デイスプレィの前面板、光学レンズ、自動車窓ガラス、
計器類の前面板等に用いられる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for forming an antireflection layer on a substrate made of an organic polymer. Organic polymer plates with anti-reflection layers are used for display front panels, optical lenses, automobile window glass,
Used for front panels of instruments, etc.

(従来の技術) 有機高分子基板上に反射防止層を形成する方法の1つと
して、基板上に金属アルコキシドの薄膜を形成させ、こ
れを加熱硬化して金属酸化物薄膜を形成させる方法があ
り、基板との密着性に比較的優れる、金属酸化物の金属
種の選択の幅が広い、膜厚、屈折率の制御が容易である
等の点から好ましいものとされている。
(Prior Art) One of the methods for forming an antireflection layer on an organic polymer substrate is to form a thin film of metal alkoxide on the substrate and harden it by heating to form a thin metal oxide film. , is preferred because it has relatively excellent adhesion to the substrate, has a wide selection of metal species of metal oxide, and can easily control film thickness and refractive index.

しかし、単に金属アルコキシドの薄膜を形成させ、これ
を加熱硬化して金属酸化物にしたものは、この薄膜の有
機基板への密着性が充分とはいえず、用途によってはよ
り高い密着性が要請されている。
However, if a thin film of metal alkoxide is simply formed and then heated and cured to form a metal oxide, the adhesion of this thin film to the organic substrate is not sufficient, and higher adhesion is required depending on the application. has been done.

又、この技術により薄膜を有機基板に積層する際、薄膜
にクラックが発生し易く、特に反射防止のための薄膜形
成の場合は薄膜を多重に積層するため、このクラックが
発生し易いということがより大きな問題となる。
Furthermore, when a thin film is laminated onto an organic substrate using this technology, cracks are likely to occur in the thin film, and cracks are particularly likely to occur in the case of forming thin films for antireflection because multiple thin films are laminated. It becomes a bigger problem.

この密着性、耐クラツク性の改良を目指したものに特開
昭61−236501号公報に見られるような金属アル
コキシドと三官能シラン、三官能シランを併用して金属
原子に結合した有機基成分を多量に残したものがあり、
又、本出願人は特願昭63−84340号で金属アルコ
キシドを稀釈する溶媒として炭素数5以上のアルコール
と炭素数4以下のアルコールの混合物を用いる金属酸化
物薄膜の製造方法を提案した。
Aiming at improving this adhesion and crack resistance, a metal alkoxide, a trifunctional silane, or a trifunctional silane are used together to create an organic group component bonded to a metal atom, as seen in JP-A No. 61-236501. There are a lot of things left behind,
Furthermore, the present applicant proposed in Japanese Patent Application No. 84340/1984 a method for producing a metal oxide thin film using a mixture of an alcohol having 5 or more carbon atoms and an alcohol having 4 or less carbon atoms as a solvent for diluting the metal alkoxide.

(発明が解決しようとする問題点) しかし、金属原子に結合した有機基成分を多量に残した
ものは塗布液調製に際して高価な金属アルコキシドを多
量に用いる必要があるのでコスト高になり、又、工程が
複雑になるという問題があるのみならず、3官能シラン
やコロイダルシリカを含むので、このような塗布液は劣
化が早い、高粘度のため気泡が残り易い、分散性に劣る
ため透明性が低下し易い等の問題もあった。後者につい
ては、炭素数5以上のアルコールは水との相溶性が悪い
ため外観の優れた薄膜を得るのが困難であるという問題
があった。又、高分子基板上に2官能シラン、3官能シ
ラン等を主成分とする組成物を設けてアンダーコート層
とし、その上に金属アルコキシドの塗布、加熱硬化を繰
り返して3層反射防止膜を形成させる方法は、クラック
の発生も少な(、耐熱性、密着性に優れた金属酸化物薄
膜による反射防止膜を形成させることができるが、反射
防止層の他にアンダーコート層を必要とするため積層す
る暦数が多くなり、コスト、時間がかかるものとなり、
より簡便に密着性、耐クラツク性の優れた金属酸化物に
よる反射防止膜を形成させる方法の開発が要望されてい
る。
(Problems to be Solved by the Invention) However, when a large amount of organic group components bonded to metal atoms remain, it is necessary to use a large amount of expensive metal alkoxide when preparing a coating solution, resulting in high cost. Not only does the process become complicated, but since it contains trifunctional silane and colloidal silica, such coating solutions deteriorate quickly, tend to leave bubbles due to their high viscosity, and lack transparency due to poor dispersibility. There were also problems such as the tendency to decrease. Regarding the latter, there is a problem in that it is difficult to obtain a thin film with an excellent appearance because alcohols having 5 or more carbon atoms have poor compatibility with water. In addition, a composition mainly composed of bifunctional silane, trifunctional silane, etc. is provided on the polymer substrate to form an undercoat layer, and a three-layer antireflection film is formed by repeatedly applying metal alkoxide and curing with heat. This method can form an anti-reflection film using a metal oxide thin film with excellent heat resistance and adhesion, but it requires an undercoat layer in addition to the anti-reflection layer, so it is possible to form an anti-reflection film with less cracking. This increases the number of calendars to be done, making it costly and time-consuming.
There is a need for the development of a method for forming an antireflection film made of a metal oxide that has excellent adhesion and crack resistance more easily.

本発明者等はこのような状況に鑑み、鋭意検討した結果
、特定のシラン化合物の部分縮合物と金属アルコキシド
の組合わせを用いると3層反射防止膜の高分子基板側の
第1層とアンダーコート層の両方の機能を具備させ得る
ことを見出し、これにより密着性、耐クラツク性を良好
に維持したまま1層省略でき、よってコスト低下をもた
らし得ることを見出し本発明に到達した。
In view of this situation, the inventors of the present invention have made extensive studies and found that if a combination of a partial condensate of a specific silane compound and a metal alkoxide is used, the first layer and underlayer on the polymer substrate side of a three-layer anti-reflection film will The inventors have discovered that it is possible to provide both functions of the coating layer, and that one layer can be omitted while maintaining good adhesion and crack resistance, thereby resulting in cost reduction, and have thus arrived at the present invention.

即ち、本発明の要旨は有機高分子からなる基板上に基板
側から順にA、B、Cの3層の薄膜からなる反射防止層
を形成する方法において、一般式 S I R’mR2
n (o R3L−m−n(但し、RI  R2は各々
水素、炭素数1〜6の置換あるいは未置換のアルキル基
、又は炭素数6〜12のアリール又はアルアルキル基を
示し、置換基がビニル基、アミノ基、(メタ)アクリロ
イ=4− ル基、メルカプト基、ハロゲン及びエポキシ基から選ば
れる1種以上であり、R1とR2は同じであっても異な
るものであってもよく、R3は炭素数1〜4のアルキル
基を示し、mは1又は2、nはO又は1でm+nは1又
は2である)で示されるシラン化合物の部分縮合物と金
属アルコキシドとを含有する液を基板上に塗布し、これ
を加熱硬化することにより層Aを形成し、しかる後金属
アルコキシドと溶媒とを含有する液を核層Aの上に塗布
、加熱硬化することにより層Bを形成し、次いで層Bを
形成するに用いた液に含まれる金属アルコキシドとは金
属種の異なる金属アルコキシドと溶媒とを含有する液を
該3層の上に塗布しこれを加熱硬化させて0層とするこ
とを特徴とする反射防止層の形成方法にある。
That is, the gist of the present invention is to provide a method for forming an antireflection layer consisting of three thin films A, B, and C in order from the substrate side on a substrate made of an organic polymer.
n (o R3L-m-n (where RI R2 each represents hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl or aralkyl group having 6 to 12 carbon atoms, and the substituent is vinyl group, an amino group, a (meth)acryloyl group, a mercapto group, a halogen, and an epoxy group, R1 and R2 may be the same or different, and R3 is A liquid containing a partial condensate of a silane compound (representing an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, m is 1 or 2, n is O or 1, and m+n is 1 or 2) and a metal alkoxide is applied to the substrate. Layer A is formed by applying the liquid on top of the core layer A and heating and curing it, and then layer B is formed by applying a liquid containing a metal alkoxide and a solvent onto the core layer A and heating and curing it. The metal alkoxide contained in the liquid used to form layer B is a liquid containing a metal alkoxide of a different metal type and a solvent, which is applied onto the three layers and cured by heating to form a zero layer. The feature lies in the method of forming an antireflection layer.

本発明において、ABCからなる3層が3層反射防止膜
としての機能を果すためには、na+nbncを各々A
、B、C層の屈折率、d、、db、deを各々AB、C
層の膜厚(nm)、mを正の整数、1.nを正の奇数、
λを可視周辺領域内で選ばれる任意の基準波長(単位n
m)とした時、 A : 1.55<n、<1.80、na’da = 
1λ/4B  :  1.65<nb<2.25、 n
b’db  ”9  mん/4、715>naC:  
1.40<n、<1.50、 n+、’de  ”F 
 nん/4の条件を満たすことが望ましい。
In the present invention, in order for the three layers consisting of ABC to function as a three-layer antireflection film, each of na+nbnc must be
, B, C layer refractive index, d, , db, de are AB, C, respectively.
Thickness of layer (nm), m is a positive integer, 1. n is a positive odd number,
Let λ be an arbitrary reference wavelength selected within the visible peripheral region (unit: n
m), A: 1.55<n, <1.80, na'da =
1λ/4B: 1.65<nb<2.25, n
b'db "9 m/4, 715>naC:
1.40<n,<1.50, n+,'de "F
It is desirable to satisfy the condition n/4.

又、層Aは有機高分子からなる基板と層Bの熱膨張係数
の差によって生じる応力を緩和できるために層Aの熱膨
張係数を有機高分子からなる基板の熱膨張係数と層Bの
それの中間の値をとるように設定することが好ましい。
In addition, since layer A can relieve the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the substrate made of organic polymer and layer B, the coefficient of thermal expansion of layer A is calculated by comparing the coefficient of thermal expansion of layer A with that of the substrate made of organic polymer and that of layer B. It is preferable to set the value to be an intermediate value.

層Aの熱膨張係数は熱膨張係数の高い成分であるシラン
化合物の部分重縮合物と、熱膨張係数の低い成分である
金属アルコキシドからの金属酸化物成分の混合比で決定
されるため、そのコーティング組成物中の該シラン化合
物の部分重縮合物と金属アルコキシドの混合比で調節可
能である。即ち、層A用コーティング組成物中に上記シ
ラン化合物部分重縮合物100重量部に対し金属アルコ
キシドが50〜2000重量部含まれていることが好ま
しい。金属アルコキシドの含有量が上記下限未満である
と層Aが応力緩和の役割を果すことが困難になり、硬度
、耐溶剤性も低下し、外観も劣るようになり好ましくな
い。
The thermal expansion coefficient of layer A is determined by the mixing ratio of the partial polycondensate of the silane compound, which is a component with a high coefficient of thermal expansion, and the metal oxide component from metal alkoxide, which is a component with a low coefficient of thermal expansion. The mixing ratio of the partial polycondensate of the silane compound and the metal alkoxide in the coating composition can be adjusted. That is, it is preferable that the coating composition for layer A contains 50 to 2000 parts by weight of metal alkoxide based on 100 parts by weight of the silane compound partial polycondensate. If the content of the metal alkoxide is less than the above-mentioned lower limit, it becomes difficult for the layer A to play the role of stress relaxation, the hardness and solvent resistance decrease, and the appearance becomes poor, which is not preferable.

又上記上限をこえて含有されているとクラックが入り易
くなり有機高分子からなる基板との密着性が低下するの
で好ましくない。層A用コーティング組成物に含有され
る金属アルコキシドとしては層Aの屈折率を1.55〜
1.80にすることが好ましく、このため比較的高屈折
率の金属アルコキシドと低屈折率である珪素のアルコキ
シド及び三官能、三官能シランを上記条件範囲内で適当
な比率で用いるのが好ましく、高屈折率の金属アルコキ
シドの金属種としてアルミニウム、チタン、ストロンチ
ウム、スカンジウム、イツトリウム、トリウム、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデン、タングステン、錫、インジウム、
鉛、亜鉛、アンチモン、ビスマス、マンガン、鉄、コバ
ルト、ニッケル、セリウム、ランタン等が好ましく用い
られる。又、金属アルコキシドのアルコキシド成分とし
ては層A、B、Cとも、炭素数1〜5のアルコ−ルが好
ましく用いられる。炭素数が6以上になると水との相溶
性が悪く、粘度も高くなるため外観の優れた塗膜を得る
のが困難になる傾向にある。
Further, if the content exceeds the above upper limit, it is not preferable because cracks are likely to occur and the adhesion to a substrate made of an organic polymer decreases. The metal alkoxide contained in the coating composition for layer A has a refractive index of 1.55 to 1.55.
1.80, and for this reason, it is preferable to use a metal alkoxide with a relatively high refractive index, a silicon alkoxide with a low refractive index, and a trifunctional or trifunctional silane in an appropriate ratio within the above condition range, Metal species of metal alkoxides with high refractive index include aluminum, titanium, strontium, scandium, yttrium, thorium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum,
Chromium, molybdenum, tungsten, tin, indium,
Lead, zinc, antimony, bismuth, manganese, iron, cobalt, nickel, cerium, lanthanum, and the like are preferably used. Further, as the alkoxide component of the metal alkoxide, an alcohol having 1 to 5 carbon atoms is preferably used in layers A, B, and C. When the number of carbon atoms is 6 or more, the compatibility with water is poor and the viscosity becomes high, so it tends to be difficult to obtain a coating film with an excellent appearance.

層A用コーティング組成物にはキレート化剤を添加する
こともできる。キレート化剤を添加すると、金属アルコ
キシドが金属キレート化合物に転換され、これは元の金
属アルコキシドに此べて水に対して安定なためコーティ
ング組成物の調製が容易となり、層A用コーティング組
成物の劣化も遅(なるという効果を有する。用い得るキ
レート化剤としては2.4−ペンタンジオン、24−へ
ブタンジオン等のβ−ジケトン、アセト酢酸メチル、ア
セト酢酸エチル、アセト酢酸ブチル等のケトエステル、
乳酸、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸アンモニウム塩、
サリチル酸、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、サ
リチル酸フェニル、リンゴ酸、リンゴ酸エチル、酒石酸
、酒石酸メチル、酒石酸エチル等のヒドロキシカルボン
酸又はそのエステルあるいは塩、4−ヒドロキシ−4−
メチル−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタ
ノン、4−ヒドロキシー2−ヘプタノン、4−ヒドロキ
シ−4−メチル−2−ヘプタノン等のケトアルコール、
モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、N−メチル−モノエタノールアミン、N
−エチル−モノエタノールアミン、N、N−ジメチルエ
タノールアミン、N、N−ジエチルエタノールアミン等
のアミルアルコール、マロン酸ジエチルエステル、メチ
ロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリル
アミド等のエノール性活性水素化合物を例示できる。キ
レート化剤を添加する場合の金属アルコキシドとキレー
ト化剤との混合比は金属アルコキシド1モルに対して3
モル以下であることが好ましく、1〜3モルであること
がより好ましい。キレート化剤が金属1モルに対して1
モル未満であるとキレート剤添加効果が充分でな(、逆
にキレート化剤を3モルを超えて添加しても上述の効果
のそれ以上の向上は見られない。
A chelating agent may also be added to the layer A coating composition. Addition of the chelating agent converts the metal alkoxide into a metal chelate compound, which is more water-stable than the original metal alkoxide and thus facilitates the preparation of the coating composition. It has the effect of slowing deterioration. Examples of chelating agents that can be used include β-diketones such as 2,4-pentanedione and 24-hebutanedione, ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, butyl acetoacetate,
Lactic acid, methyl lactate, ethyl lactate, ammonium lactate salt,
Hydroxycarboxylic acids or their esters or salts, such as salicylic acid, methyl salicylate, ethyl salicylate, phenyl salicylate, malic acid, ethyl malate, tartaric acid, methyl tartrate, ethyl tartrate, 4-hydroxy-4-
Keto alcohols such as methyl-2-pentanone, 4-hydroxy-2-pentanone, 4-hydroxy-2-heptanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-heptanone,
Monoethanolamine, jetanolamine, triethanolamine, N-methyl-monoethanolamine, N
Examples include amyl alcohols such as -ethyl-monoethanolamine, N,N-dimethylethanolamine, and N,N-diethylethanolamine, and enolic active hydrogen compounds such as malonic acid diethyl ester, methylolmelamine, methylolurea, and methylol acrylamide. . When adding a chelating agent, the mixing ratio of metal alkoxide and chelating agent is 3 to 1 mole of metal alkoxide.
It is preferably less than 1 mole, more preferably 1 to 3 moles. 1 chelating agent per mole of metal
If the amount is less than 3 moles, the effect of adding the chelating agent will not be sufficient (on the contrary, if more than 3 moles of the chelating agent is added, no further improvement of the above-mentioned effect will be observed.

本発明で用いられるシラン化合物は S i R’mR”n (OR3L−m−0(但し、R
’、R2は各々水素、炭素数1〜6の置換あるいは未置
換のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール又はア
ルアルキル基を示し、置換基がビニル基、アミノ基、(
メタ)アクリロイル基、メルカプト基、ハロゲン及びエ
ポキシ基から選ばれる1種以上であり、R1とR2は同
じであっても異なるものであってもよく、R3は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、mはl又は2、nは0又は
1でm+nは1又は2である)で示される化合物である
必要がある。このシラン化合物の具体例として、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシ
シラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン
、3.3.3− トリフロロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエト
キシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエト
キシシラン、メチルトリフエノキシシラン、クロロメチ
ルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチ
ルジェトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラ
ン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキ
シプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオ
キシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトブロ
ビルメチルジエト=11− キシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジェトキシシラン、メチ
ルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジェトキシシ
ラン、グリシジルオキシメチルトリメトキシシラン、グ
リシジルオキシメチルトリエトキシシラン、β−グリシ
ジルオキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシジル
オキシエチルトリエトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シブロビルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
ブロビルトリエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルトリ (メトキシエトキシ)シラン、γ−グリシ
ジルオキシブロピルトリアセトキシシラン、δ−グリシ
ジルオキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシジル
オキシブチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシメ
チルジメトキシシラン、グリシジルオキシメチル(メチ
ル)ジメトキシシラン、グリシジルオキシメチル(エチ
ル)ジメトキシシラン、グリシジルオキシメチル(フェ
ニル)ジメトキシシラン、グリシジルオキシメチル(ビ
ニル)ジメトキシシラン、グリシジルオキシメチル(ジ
メチル)メトキシシラン、β−グリシジルオキシエチル
(メチル)ジメトキシシラン、β−グリシジルオキシエ
チル(エチル)ジメトキシシラン、β−グリシジルオキ
シエチル(ジメチル)メトキシシラン、γ−グリシジル
オキシプロビル(メチル)ジメトキシシラン、γ−グリ
シジルオキシブロビル(エチル)ジメトキシシラン、γ
−グリシジルオキシプロピル(ジメチル)メトキシシラ
ン、δ−グリシジルオキシブチル(メチル)ジメトキシ
シラン、δ−グリシジルオキシブチル(エチル)ジメト
キシシラン、δ−グリシジルオキシブチル(ジメチル)
メトキシシラン、ビス(グリシジルオキシメチル)ジメ
トキシシラン、ビス(グリシジルオキシメチル)ジェト
キシシラン、ビス(グリシジルオキシエチル)ジメトキ
シシラン、ビス(グリシジルオキシプロビル)ジェトキ
シシラン、トリス(グリシジルオキシメチル)メトキシ
シラン、トリス(グリシジルオキシメチル)エトキシシ
ラン、トリス(グリシジルオキシエチル)メトキシシラ
ン、トリス(グリシジルオキシエチル)エトキシシラン
、トリス(グリシジルオキシプロビル)メトキシシラン
、トリス(グリシジルオキシプロビル)エトキシシラン
、グリシジルメチルトリメトキシシラン、グリシジルメ
チルトリメトキシシラン、β−グリシジルエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシジルエチルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシジルプロビルトリメトキシシラン、γ−
グリシジルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシジ
ルプロビルトリ(メトキシエチキシ)シラン、γ−グリ
シジルプロビルトリアセトキシシラン、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチルトリメトキシシラン、3,4エ
ポキシシクロヘキシルメチルトリエトキシシラン、34
−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、
3,4−エポキシシクロヘキシルプロピルトリメトキシ
シラン、3.4−エポキシシクロへキシルブチルトリメ
トキシシラン等を示すことができる。シラン化合物とし
ては上述の組成の範囲に入るものであれば2種以上の混
合物であってもよい。このシラン化合物の部分縮合物は
シラン化合物を塩酸、酢酸、硫酸等の酸水溶液で処理す
ることによって得ることができる。加水分解に用いる酸
水溶液の量はシラン化合物の1.5〜10倍モルである
ことが好ましい。酸水溶液の量が上記下限未満であると
層Aにクラックが発生しやすくなり、上限を超えると層
Aの外観が悪くなる。このシラン化合物の部分縮合物の
粘度は5〜20センチポアズであることが好ましい。
The silane compound used in the present invention is S i R'mR”n (OR3L-m-0 (however, R
', R2 each represents hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl or aralkyl group having 6 to 12 carbon atoms, and the substituent is a vinyl group, an amino group, (
one or more selected from meth)acryloyl group, mercapto group, halogen and epoxy group, R1 and R2 may be the same or different, and R3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , m is l or 2, n is 0 or 1, and m+n is 1 or 2). Specific examples of this silane compound include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane,
Phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3.3.3-trifluoropropyltrimethoxy Silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl )-γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, methyltriphenoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyljethoxysilane, phenyl Methyljethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyljethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyljethoxysilane, γ-mercaptopropyl Methyldimethoxysilane, γ-mercaptobrobylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyljethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyljethoxysilane, glycidyloxymethyltrimethoxy Silane, glycidyloxymethyltriethoxysilane, β-glycidyloxyethyltrimethoxysilane, β-glycidyloxyethyltriethoxysilane, γ-glycidyloxybrobyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxybrobyltriethoxysilane, γ-glycidyl Oxypropyltri(methoxyethoxy)silane, γ-glycidyloxypropyltriacetoxysilane, δ-glycidyloxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidyloxybutyltriethoxysilane, glycidyloxymethyldimethoxysilane, glycidyloxymethyl(methyl)dimethoxy Silane, glycidyloxymethyl (ethyl) dimethoxysilane, glycidyloxymethyl (phenyl) dimethoxysilane, glycidyloxymethyl (vinyl) dimethoxysilane, glycidyloxymethyl (dimethyl) methoxysilane, β-glycidyloxyethyl (methyl) dimethoxysilane, β -glycidyloxyethyl(ethyl)dimethoxysilane, β-glycidyloxyethyl(dimethyl)methoxysilane, γ-glycidyloxypropyl(methyl)dimethoxysilane, γ-glycidyloxybrobyl(ethyl)dimethoxysilane, γ
-Glycidyloxypropyl(dimethyl)methoxysilane, δ-glycidyloxybutyl(methyl)dimethoxysilane, δ-glycidyloxybutyl(ethyl)dimethoxysilane, δ-glycidyloxybutyl(dimethyl)
Methoxysilane, bis(glycidyloxymethyl)dimethoxysilane, bis(glycidyloxymethyl)jethoxysilane, bis(glycidyloxyethyl)dimethoxysilane, bis(glycidyloxypropyl)jethoxysilane, tris(glycidyloxymethyl)methoxysilane , tris(glycidyloxymethyl)ethoxysilane, tris(glycidyloxyethyl)methoxysilane, tris(glycidyloxyethyl)ethoxysilane, tris(glycidyloxypropyl)methoxysilane, tris(glycidyloxypropyl)ethoxysilane, glycidylmethyl Trimethoxysilane, glycidylmethyltrimethoxysilane, β-glycidylethyltrimethoxysilane, β-glycidylethyltriethoxysilane, γ-glycidylpropyltrimethoxysilane, γ-
Glycidylpropyltriethoxysilane, γ-glycidylpropyltri(methoxyethoxy)silane, γ-glycidylpropyltriacetoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylmethyltrimethoxysilane, 3,4epoxycyclohexylmethyltriethoxysilane, 34
- epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane,
Examples include 3,4-epoxycyclohexylpropyltrimethoxysilane and 3,4-epoxycyclohexylbutyltrimethoxysilane. The silane compound may be a mixture of two or more types as long as it falls within the above composition range. This partial condensate of a silane compound can be obtained by treating the silane compound with an aqueous acid solution such as hydrochloric acid, acetic acid, or sulfuric acid. The amount of the acid aqueous solution used for hydrolysis is preferably 1.5 to 10 times the mole of the silane compound. If the amount of the acid aqueous solution is less than the above lower limit, cracks will easily occur in layer A, and if it exceeds the upper limit, the appearance of layer A will deteriorate. The viscosity of the partial condensate of the silane compound is preferably 5 to 20 centipoise.

層Aを形成させるために塗布する液には溶剤が含まれて
いてもよく、その溶剤としてはアルコール類、炭化水素
、ケトン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、
ハロゲン化物、カルボン酸類、芳香族化合物等を挙げる
ことができ、これらの中2種以上を混合して用いること
も出来る。これらの中では特に、メタノール、エタノー
ル、プロパツール、ブタノール等の低級アルコール、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ
等のセロソルブ類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の低級
カルボン酸類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物及
び酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類を単独もしく
は混合溶剤として用いるのが好ましい。
The liquid applied to form layer A may contain a solvent, and examples of the solvent include alcohols, hydrocarbons, ketones, esters, ethers, cellosolves,
Examples include halides, carboxylic acids, aromatic compounds, etc., and two or more of these can also be used as a mixture. Among these, lower alcohols such as methanol, ethanol, propatool, and butanol, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, lower carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid, and aromatic alcohols such as toluene and xylene It is preferable to use the compound and esters such as ethyl acetate and butyl acetate alone or as a mixed solvent.

次に、層Aの上に塗布して層Bを形成させるために用い
る液に含まれる金属アルコキシドの金属種としては高屈
折率であることがら相A形成用組成の中屈折率を高める
ために用いた高屈折率の金属種として示したもののアル
コキシドが好ましく用いられる。アルコキシド成分とし
ては炭素数1〜5のものが好ましく用いられる。
Next, since the metal alkoxide contained in the liquid used to coat layer A to form layer B has a high refractive index, in order to increase the medium refractive index of the composition for forming phase A, Alkoxides of those shown as the high refractive index metal species used are preferably used. As the alkoxide component, those having 1 to 5 carbon atoms are preferably used.

又、層Cを形成するために塗布する液に含まれる金属ア
ルコキシドの金属種としては、層B形成用に用いた金属
アルコキシドの金属種とは異なる金属種のものが用いら
れ、低屈折率であることがらシランが好ましく用いられ
る。アルコキシドとしては炭素数1〜5のアルコールに
よるものが好ましく用いられる。
Furthermore, the metal type of the metal alkoxide contained in the liquid applied to form layer C is different from the metal type of the metal alkoxide used for forming layer B, and has a low refractive index. Silane is preferably used for certain reasons. As the alkoxide, those based on alcohols having 1 to 5 carbon atoms are preferably used.

111B及び層C形成用液に用いる溶媒としてはアルコ
ール類、炭化水素、ケトン類、エステル類、エーテル類
、セロソルブ類、ハロゲン化物、カルボン酸類、芳香族
化合物等を挙げることができ、これらの2種以上を混合
して用いることも出来る。
Examples of the solvent used in the liquid for forming layer 111B and layer C include alcohols, hydrocarbons, ketones, esters, ethers, cellosolves, halides, carboxylic acids, aromatic compounds, etc. It is also possible to use a mixture of the above.

これらの中では特に、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、ブタノール等の低級アルコール、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソ
ルブ類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の低級カルボン酸
類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物及び酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類を単独もしくは混合溶剤
として用いるのが好ましい。
Among these, lower alcohols such as methanol, ethanol, propatool, and butanol, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, lower carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid, and aromatic alcohols such as toluene and xylene It is preferable to use the compound and esters such as ethyl acetate and butyl acetate alone or as a mixed solvent.

層B及び層C形成用液に含まれる金属アルコキシドの濃
度は各々5〜40重量%であることが好ましく、濃度が
この下限未満であると1回で塗布される膜厚が薄すぎて
所定の膜厚にするために塗布乾燥を繰り返さなければな
らず煩雑であるという問題が生じ、上記上限を越える濃
度では塗布用液がゲル化しやすく安定性に欠ける傾向に
ある。
The concentration of the metal alkoxide contained in the layer B and layer C forming liquids is preferably 5 to 40% by weight, and if the concentration is less than this lower limit, the thickness of the coated film at one time will be too thin and the thickness will not reach the specified level. A problem arises in that coating and drying must be repeated to obtain a film thickness, which is cumbersome, and if the concentration exceeds the above upper limit, the coating liquid tends to gel and lack stability.

層B及び層C形成用液には金属アルコキシドの加水分解
のため金属アルコキシドに対して3〜lO重量%の水と
、0.3〜1重量%の酸が添加される。この酸としては
塩酸、硫酸等の無機酸、酢酸等の有機酸を用いることが
できる。
In order to hydrolyze the metal alkoxide, 3 to 10% by weight of water and 0.3 to 1% by weight of acid are added to the layer B and layer C forming liquids based on the metal alkoxide. As this acid, inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid can be used.

層B及び層C形成用液としては金属アルコキシドと水と
酸とを溶剤に添加した混合溶媒を用いてもよく、この溶
液を充分撹拌してあらかじめある程度加水分解と部分縮
合を行なわせたものを用いてもよい。ある程度加水分解
と部分縮合を行なわせたものを用いる場合には、反応後
の溶液が均一かつ塗布可能な粘度になるように反応を留
めておく必要があり、粘度としては10センチポアズ以
下に留めておくことが好ましい。
As the liquid for forming layers B and C, a mixed solvent in which metal alkoxide, water, and acid are added to a solvent may be used, and this solution is thoroughly stirred to undergo some hydrolysis and partial condensation beforehand. May be used. When using a product that has undergone some degree of hydrolysis and partial condensation, it is necessary to hold the reaction so that the solution after the reaction has a uniform and coatable viscosity, and the viscosity should be kept at 10 centipoise or less. It is preferable to leave it there.

本発明においては層A用の液を基板上に塗布した後、溶
媒を蒸発させ、更に加熱硬化、即ち金属アルコキシドを
金属酸化物縮合物に変換させ、次いで層B用の液をその
上に塗布、加熱硬化して層Bを形成させ、次いで層C形
成用の液をその上に塗布して加熱硬化させて層Cを形成
させることにより反射防止層を形成させるものである。
In the present invention, after the liquid for layer A is applied onto the substrate, the solvent is evaporated, the metal alkoxide is converted to a metal oxide condensate by heating, and then the liquid for layer B is applied thereon. The antireflection layer is formed by heating and curing to form layer B, and then applying a layer C forming liquid thereon and heating and curing to form layer C.

(実施例) 以下に実施例を用いて本発明を更に説明する。(Example) The present invention will be further explained below using Examples.

なお、積層体の各特性の測定法、評価基準は下記の通り
である。
The measurement methods and evaluation criteria for each characteristic of the laminate are as follows.

1)密着性 積層体表面をカミソリでクロスカットし、1n+n+X
1mmの升目を100個作り、その上に市販のセロハン
粘着テープにチバン405)を充分に密着させ、次いで
セロテープを剥離することを3回繰り返した後に、表面
の膜が剥離していない升目の数を密着性の尺度とした。
1) Cross-cut the surface of the adhesive laminate with a razor, 1n+n+X
After making 100 squares of 1 mm in size, applying Chiban 405) to commercially available cellophane adhesive tape, and then peeling off the cellophane tape three times, the number of squares where the surface film had not peeled off was determined. was used as a measure of adhesion.

2)膜厚 エリプソメーター(情況光学工業所製)を用いて測定し
た。
2) Film thickness was measured using an ellipsometer (manufactured by Shojo Kogaku Kogyo Co., Ltd.).

3)粘度 回転式粘度計(東京計器製)を用い、25°Cで測定し
た。
3) Viscosity Measured at 25°C using a rotational viscometer (manufactured by Tokyo Keiki).

4)クラックの発生 金属酸化物を塗布、薄膜を形成させ加熱硬化したものの
薄膜部分のクラックの有無を倍率400倍の光学顕微鏡
で観察した。
4) Occurrence of Cracks A metal oxide was coated, a thin film was formed and cured by heating, and the presence or absence of cracks in the thin film portion was observed using an optical microscope at a magnification of 400 times.

5)耐熱性 金属酸化物薄膜層を有する積層体を加熱して80℃に5
分間保った後、氷水中に投入して急冷した後のクラック
の有無を光学顕微鏡で観察した。
5) Heat the laminate having the heat-resistant metal oxide thin film layer to 80°C for 5 minutes.
After keeping it for a minute, it was placed in ice water and rapidly cooled, and the presence or absence of cracks was observed using an optical microscope.

6)耐温水性 金属酸化物薄膜層を有する積層体を60℃の温水中に2
4時間浸漬した後のクラック発生の有無を光学顕微鏡で
観察した。
6) The laminate having the hot water-resistant metal oxide thin film layer was placed in hot water at 60°C for 2 hours.
After 4 hours of immersion, the presence or absence of cracks was observed using an optical microscope.

7)全光線透過率 JIS  K  7105に従って測定した。7) Total light transmittance Measured according to JIS K 7105.

実施例1 γ−グリシジルオキシブロビルトリメトキシシラン8.
5gに10℃で0.05N塩酸水溶液1.3gを滴下、
混合し、滴下終了後、室温で更に1時間撹拌を続けるこ
とによりシラン加水分解物を調製した。
Example 1 γ-glycidyloxybrobyltrimethoxysilane8.
1.3 g of 0.05N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise to 5 g at 10°C.
After mixing and dropping, stirring was continued for an additional hour at room temperature to prepare a silane hydrolyzate.

次に、テトラプロピルオルソチタネート 7.0gにア
セチルアセトン5.0gを混合、室温で1時間撹拌して
チタンキレート化合物を調製し、この10、4 gと上
記のシラン加水分解物2.6gの混合物を調製し、これ
に水0.33 g、塩Mo、l g、イソプロピルアル
コール30gの混合物を滴下混合し、室温で10分間撹
拌した後、先に調製したシラン加水分解物2.6gを混
合してA層形成用液を得た。この液の粘度は2.7セン
チボアズであった。
Next, 7.0 g of tetrapropylorthotitanate was mixed with 5.0 g of acetylacetone and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a titanium chelate compound, and a mixture of 10.4 g of this and 2.6 g of the above silane hydrolyzate was mixed. A mixture of 0.33 g of water, 1 g of salt Mo, and 30 g of isopropyl alcohol was added dropwise to this mixture, and after stirring at room temperature for 10 minutes, 2.6 g of the previously prepared silane hydrolyzate was mixed. A layer-A forming liquid was obtained. The viscosity of this liquid was 2.7 centiboads.

又、テトラn−ブチルオルソチタネートテトラマー11
.5g、イソプロピルアルコール25m I2、n−ブ
チルアルコール25m gの混合溶液に2N塩酸水溶液
1.5g、イソプロピルアルコール25mρ、n−ブチ
ルアルコール25m I!、を添加し、撹拌して加水分
解、部分縮合を行なわせてB層形成用液を得た。
Also, tetra n-butyl orthotitanate tetramer 11
.. 5 g, isopropyl alcohol 25 m I2, n-butyl alcohol 25 m A mixed solution of 2N hydrochloric acid aqueous solution 1.5 g, isopropyl alcohol 25 mρ, n-butyl alcohol 25 m I! were added and stirred to perform hydrolysis and partial condensation to obtain a B layer forming liquid.

この液の粘度は3.5センチポアズであった。The viscosity of this liquid was 3.5 centipoise.

又、別途、テトラエチルシリケート20.8g、イソプ
ロピルアルコール65mρの混合溶液に水9.0g、塩
酸1g1イソプロピルアルコール60mβを添加し、撹
拌して加水分解、部分縮合を行なわしめ、C層形成用液
を調製した。この液の粘度は2.8センチポアズであっ
た。
Separately, 9.0 g of water, 1 g of hydrochloric acid, 60 mβ of isopropyl alcohol were added to a mixed solution of 20.8 g of tetraethyl silicate and 65 mβ of isopropyl alcohol, and the mixture was stirred to perform hydrolysis and partial condensation to prepare a C layer forming liquid. did. The viscosity of this liquid was 2.8 centipoise.

ポリメチルメタクリレートAR板(三菱レイヨン■製)
に浸漬法を用いて引き上げ速度5.7cm 7分でA層
形成用液を塗布した後、室温で5分間、次いで80℃で
1時間加熱硬化させた。次に、この上に、浸漬法を用い
て引き上げ速度9.7cm 7分でB層形成用液を塗布
した後、室温で5分間、次いで80℃で1時間加熱硬化
させた。次に、この上に、浸漬法を用いて引き上げ速度
6.5cm/分でC層形成用液を塗布した後、室温で5
分間、次いで80°Cで1時間加熱硬化させた。
Polymethyl methacrylate AR board (manufactured by Mitsubishi Rayon)
The A layer forming liquid was applied using a dipping method at a pulling speed of 5.7 cm for 7 minutes, and then heated and cured at room temperature for 5 minutes and then at 80° C. for 1 hour. Next, the B layer forming liquid was applied thereon using a dipping method at a pulling speed of 9.7 cm for 7 minutes, and then heated and cured at room temperature for 5 minutes and then at 80° C. for 1 hour. Next, a C layer forming liquid was applied on top of this using a dipping method at a pulling rate of 6.5 cm/min, and then
It was then heated and cured at 80°C for 1 hour.

得られた積層体の全光線透過率は98%であり、A層の
屈折率はl、62、膜厚は850人、B層の屈折率は1
.81、膜厚は1520人、0層の屈折率は1.44、
膜厚は955人であった。又、A層と接する基板の屈折
率は1.49であった。得られた積層体の密着性は10
0%で、得られた積層体にはクラックの発生は無(、耐
熱性試験、耐温水性試験によってもクラックの発生は無
かった。
The total light transmittance of the obtained laminate was 98%, the refractive index of the A layer was 1,62, the film thickness was 850, and the refractive index of the B layer was 1.
.. 81, film thickness is 1520 people, refractive index of 0 layer is 1.44,
The film thickness was 955 people. Further, the refractive index of the substrate in contact with layer A was 1.49. The adhesion of the obtained laminate was 10
0%, no cracks were generated in the obtained laminate (no cracks were observed in the heat resistance test and hot water resistance test).

実施例2 シラン化合物としてγ−グリシジルオキシブロピルトリ
メトキシシランの代わりに同モル量のγ−グリシジルオ
キシブロピルメチルジメトキシシランを用いた以外は実
施例1と同様にしてA層形成用液(粘度2.8センチポ
アズ)を得、A層形成用液からの引き上げ速度を5.5
cm/分とじた以外は実施例1と同様にして積層体を得
た。積層体の全光線透過率は98%、A層の屈折率は1
゜62、膜厚は770人で、密着性は100%で、クラ
ックの発生も無く、耐熱性、耐温水性の両方とも良好で
あった。
Example 2 A layer forming liquid (viscosity 2.8 centipoise), and the pulling rate from the A layer forming solution was 5.5 centipoise.
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the binding was performed at cm/min. The total light transmittance of the laminate is 98%, and the refractive index of layer A is 1.
The film thickness was 770 mm, the adhesion was 100%, there were no cracks, and both heat resistance and hot water resistance were good.

実施例3 シラン化合物としてγ−グリシジルオキシプロビルトリ
メトキシシランの代わりに同モル量のビニルプロピルト
リメトキシシランを用いた以外は実施例1と同様にして
A層形成用液(粘度2.8センチポアズ)を得、A層形
成用液からの引き上げ速度を5.1cm/分としとして
これを用いた以外は実施例1と同様にして積層体を得た
。得られた積層体の全光線透過率は97%であり、A層
の屈折率は1.68、膜厚は820人であり、密着性は
100%で、クラックの発生も無(、耐熱性、耐温水性
の両方とも良好であった。
Example 3 A layer forming solution (viscosity 2.8 centipoise ) was obtained, and a laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the pulling rate from the A-layer forming liquid was 5.1 cm/min. The total light transmittance of the obtained laminate was 97%, the refractive index of the A layer was 1.68, the film thickness was 820 mm, the adhesion was 100%, and there were no cracks (no heat resistance). , and hot water resistance were both good.

実施例4 シラン化合物としてγ−グリシジルオキシプロビルトリ
メトキシシランの代わりに同モル量のメチルトリエトキ
シシランを用いた以外は実施例1と同様にしてA層形成
用液(粘度2.6センチボアズ)を得、A層形成用液か
らの引き上げ速度を5.4 cm/分とした以外は実施
例1と同様にして積層体を得た。得られた積層体の全光
線透過率は98%であり、A層の屈折率は1.63、膜
厚は840人であり、密着性は100%で、クラックの
発生も無く、耐熱性、耐温水性の両方とも良好であった
Example 4 A layer forming solution (viscosity 2.6 centiboaz) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the same molar amount of methyltriethoxysilane was used instead of γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane as the silane compound. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pulling rate from the A-layer forming liquid was 5.4 cm/min. The total light transmittance of the obtained laminate was 98%, the refractive index of the A layer was 1.63, the film thickness was 840 mm, the adhesion was 100%, there were no cracks, and it had good heat resistance. Both types of hot water resistance were good.

実施例5 シラン化合物としてγ−グリシジルオキシブロピルトリ
メトキシシランの代わりに同モル量のフェニルトリメト
キシシランを用いた以外は実施例1と同様にしてAll
形成用液(粘度2.8センチポアズ)を得、A層形成用
液からの引き上げ速度を5.2cm/分とした以外は実
施例1と同様にして積層体を得た。得られた積層体の全
光線透過率は98%であり、A層の屈折率は1.65、
膜厚は830人で、密着性は100%で、クラックの発
生も無(、耐熱性、耐温水性の両方とも良好であった。
Example 5 The same molar amount of phenyltrimethoxysilane was used instead of γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane as the silane compound, but All
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that a forming liquid (viscosity 2.8 centipoise) was obtained and the pulling rate from the A layer forming liquid was 5.2 cm/min. The total light transmittance of the obtained laminate was 98%, and the refractive index of layer A was 1.65.
The film thickness was 830, and the adhesion was 100%, with no cracks (and both heat resistance and hot water resistance were good).

実施例6 テトラプロピルオルソチタネート7.0gにアセチルア
セトン5.0gの代わりにジルコニウムテトライソプロ
ポキシド32.7gとアセチルアセトン20.0gを用
いた以外は実施例1と同様にして金属キレート化合物を
調製し、これを用いてA層形成用液(粘度2.6センチ
ボアズ)を得、A層形成用液からの引き上げ速度を6.
3cm/分とした以外は実施例1と同様にして積層体を
得た。
Example 6 A metal chelate compound was prepared in the same manner as in Example 1 except that 32.7 g of zirconium tetraisopropoxide and 20.0 g of acetylacetone were used instead of 5.0 g of acetylacetone in 7.0 g of tetrapropylorthotitanate. Using this, a layer A forming liquid (viscosity 2.6 centiboad) was obtained, and the pulling rate from the A layer forming liquid was set to 6.
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the speed was 3 cm/min.

得られた積層体の全光線透過率は98%であり、A層の
屈折率は1.56、膜厚は880人で、密着性は100
%で、クラックの発生も無(、耐熱性、耐温水性の両方
とも良好であった。
The total light transmittance of the obtained laminate was 98%, the refractive index of the A layer was 1.56, the film thickness was 880%, and the adhesion was 100%.
%, no cracks occurred (and both heat resistance and hot water resistance were good.

実施例7 テトラプロピルオルソチタネート7.0gにアセチルア
セトン5.0gの代わりにアルミニウムイソプロポキシ
ド20.4gとアセチルアセトン30、0gを用いた以
外は実施例1と同様にして金属キレート化合物を調製し
、これを用いてA層形成用液(粘度2.7センチボアズ
)を得、A層形成用液からの引き上げ速度を6.2cm
/分とした以外は実施例1と同様にして積層体を得た。
Example 7 A metal chelate compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20.4 g of aluminum isopropoxide and 30.0 g of acetylacetone were used instead of 5.0 g of acetylacetone in 7.0 g of tetrapropylorthotitanate. to obtain the A layer forming liquid (viscosity 2.7 centiboads), and the pulling speed from the A layer forming liquid was 6.2 cm.
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the heating time was changed to /min.

得られた積層体の全光線透過率は97%であり、A層の
屈折率は1.54、膜厚は890人で、密着性は100
%で、クラックの発生も無く、耐熱性、耐温水性の両方
とも良好であった。
The total light transmittance of the obtained laminate was 97%, the refractive index of the A layer was 1.54, the film thickness was 890%, and the adhesion was 100%.
%, no cracks occurred, and both heat resistance and hot water resistance were good.

(発明の効果) 以上述べた様に、本発明はアンダーコート層を用いずど
もクラックがなく、耐熱性に優れ、かつ、密着性に優れ
た三層反射防止膜が容易に得られる優れた方法である。
(Effects of the Invention) As described above, the present invention provides an excellent method for easily obtaining a three-layer antireflection film that is crack-free, has excellent heat resistance, and has excellent adhesion without using an undercoat layer. It is.

特許出願人  三菱レイヨン株式会社 代理人  弁理士  吉沢 散失Patent applicant: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Agent Patent Attorney Yoshizawa Disappeared

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)有機高分子からなる基板上に基板側から順にA、B
、Cの3層の薄膜からなる反射防止層を形成する方法に
おいて、 一般式SiR^1_mR^2_n(OR^3)_4_−
_m_−_n(但し、R^1、R^2は各々水素、炭素
数1〜6の置換あるいは未置換のアルキル基、又は炭素
数6〜12のアリール又はアルアルキル基を示し、置換
基がビニル基、アミノ基、(メタ)アクリロイル基、メ
ルカプト基、ハロゲン及びエポキシ基から選ばれる1種
以上であり、R^1とR^2は同じであっても異なるも
のであってもよく、R^3は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、mは1又は2、nは0又は1でm+nは1又は
2である)で示されるシラン化合物の部分縮合物と金属
アルコキシドとを含有する液を基板上に塗布し、これを
加熱硬化することにより層Aを形成し、しかる後金属ア
ルコキシドと溶媒とを含有する液を該層Aの上に塗布、
加熱硬化することにより層Bを形成し、次いで層Bを形
成するに用いた液に含まれる金属アルコキシドとは金属
種の異なる金属アルコキシドと溶媒とを含有する液を該
B層の上に塗布しこれを加熱硬化させてC層とすること
を特徴とする反射防止層の形成方法。
[Claims] 1) A and B are placed on a substrate made of an organic polymer in order from the substrate side.
In a method for forming an antireflection layer consisting of three thin films of C, the general formula SiR^1_mR^2_n(OR^3)_4_-
_m_-_n (However, R^1 and R^2 each represent hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl or aralkyl group having 6 to 12 carbon atoms, and the substituent is vinyl group, an amino group, a (meth)acryloyl group, a mercapto group, a halogen, and an epoxy group, and R^1 and R^2 may be the same or different, and R^ 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, m is 1 or 2, n is 0 or 1, and m+n is 1 or 2) A liquid containing a partial condensate of a silane compound and a metal alkoxide. is coated on a substrate and heated and cured to form a layer A, and then a liquid containing a metal alkoxide and a solvent is coated on the layer A,
Layer B is formed by heating and curing, and then a liquid containing a metal alkoxide of a different metal type from the metal alkoxide contained in the liquid used to form layer B and a solvent is applied onto layer B. A method for forming an antireflection layer, which comprises heating and curing this to form a C layer.
JP1031875A 1989-02-10 1989-02-10 Formation of antireflection layer Pending JPH02210401A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1031875A JPH02210401A (en) 1989-02-10 1989-02-10 Formation of antireflection layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1031875A JPH02210401A (en) 1989-02-10 1989-02-10 Formation of antireflection layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02210401A true JPH02210401A (en) 1990-08-21

Family

ID=12343212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1031875A Pending JPH02210401A (en) 1989-02-10 1989-02-10 Formation of antireflection layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02210401A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001031871A (en) * 1999-07-21 2001-02-06 Toppan Printing Co Ltd High-reflective index composition and high-reflective index coating composition and antireflection laminate comprising the same composition and its production
JP2001059902A (en) * 1999-08-23 2001-03-06 Toppan Printing Co Ltd Reflection preventing laminated body and its manufacture
JP2001164117A (en) * 1999-12-07 2001-06-19 Toppan Printing Co Ltd High-refractive-index composition and antireflection laminate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001031871A (en) * 1999-07-21 2001-02-06 Toppan Printing Co Ltd High-reflective index composition and high-reflective index coating composition and antireflection laminate comprising the same composition and its production
JP2001059902A (en) * 1999-08-23 2001-03-06 Toppan Printing Co Ltd Reflection preventing laminated body and its manufacture
JP4649690B2 (en) * 1999-08-23 2011-03-16 凸版印刷株式会社 Antireflection laminate and method for producing the same
JP2001164117A (en) * 1999-12-07 2001-06-19 Toppan Printing Co Ltd High-refractive-index composition and antireflection laminate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5976680A (en) Non-fogging antireflection film and optical member, and production process thereof
JP2716302B2 (en) Oxide thin film having micropit-like surface layer, multilayer film using the thin film, and method for forming the same
JP4292634B2 (en) Method for manufacturing antireflection laminate
JPH1058580A (en) Sol-gel method
JPS63293502A (en) Production of optical member having antireflection film
JPH05264805A (en) Coating composition and plastic lens using the same
JPH02210401A (en) Formation of antireflection layer
JP2594042B2 (en) Anti-reflective coating
JP2864383B2 (en) Coating composition and optical article coated with the same
TWI301847B (en) Composition comprising a hydrolyzable organosilicon compound and coating obtained from the same
JP5124892B2 (en) Low refractive index composition for coating and optical multilayer film comprising the composition
JPH07138530A (en) Production of hard coat
JP2938458B2 (en) Coating solution for forming transparent ceramic film and substrate with transparent ceramic film
JPH04191801A (en) Optical parts
JP4333835B2 (en) Hard coat composition
JP4649690B2 (en) Antireflection laminate and method for producing the same
JPH0971438A (en) Composition for film formation
JP2797402B2 (en) Coating composition and molded article coated with the same
JPH0523294B2 (en)
JPH081482B2 (en) Plastic mirror lenses
JPS6217701A (en) Liquid crystal display device having antireflection film
JPH04250401A (en) Substrate with antireflection film
JPH07318702A (en) Coating composition
JPH0323882B2 (en)
JP2610155B2 (en) Anti-reflection treatment liquid, anti-reflection treatment method, and anti-reflection treatment optical component for optical parts