JPH06249239A - 静圧軸受装置 - Google Patents
静圧軸受装置Info
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 静圧軸受装置の自励振動を防ぐ。
【構成】 露光装置のＸＹステージ等の移動台１は、図
示下面に多孔質パッド３を有し、多孔質パッド３から固
定台５の表面に向って噴出される加圧流体の静圧によっ
て非接触に支持される。多孔質パッド３は、軸受間隙の
寸法が周期的に変化したときの前記静圧の変動成分のう
ちで、軸受間隙の寸法の減少に対して９０度の位相遅れ
を有する周期的変動成分が、移動台１を含む振動系の固
有振動数に等しい周波数において正であるように構成さ
れている。従って、移動台１の振動は速かに減衰され
る。
示下面に多孔質パッド３を有し、多孔質パッド３から固
定台５の表面に向って噴出される加圧流体の静圧によっ
て非接触に支持される。多孔質パッド３は、軸受間隙の
寸法が周期的に変化したときの前記静圧の変動成分のう
ちで、軸受間隙の寸法の減少に対して９０度の位相遅れ
を有する周期的変動成分が、移動台１を含む振動系の固
有振動数に等しい周波数において正であるように構成さ
れている。従って、移動台１の振動は速かに減衰され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置のＸＹ
ステージや、精密工作機械および精密測定器等の位置決
めステージに用いられる静圧軸受装置に関するものであ
る。
ステージや、精密工作機械および精密測定器等の位置決
めステージに用いられる静圧軸受装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置のＸＹステージや、精密
工作機械および精密測定器等の位置決めステージは極め
て高精度の位置決めを必要とし、このために、ＸＹステ
ージや位置決めステージを台盤等に対して非接触で支持
あるいは案内する静圧軸受装置が用いられる。
工作機械および精密測定器等の位置決めステージは極め
て高精度の位置決めを必要とし、このために、ＸＹステ
ージや位置決めステージを台盤等に対して非接触で支持
あるいは案内する静圧軸受装置が用いられる。
【０００３】静圧軸受装置の軸受特性は、加圧気体を噴
出する絞りの形式によって大きく異なっており、特に、
ＸＹステージや位置決めステージが振動を発生したとき
の軸受間隙の圧力変動の周波数特性を調べると、公知の
表面絞り型、自成絞り型あるいはオリフィス絞り型の静
圧軸受装置についてはほぼ一定であり、その剛性等がＸ
Ｙステージや位置決めステージの振動によって大きく変
化することはないが、多孔質絞り型の静圧軸受装置の場
合は、表面絞り型や自成絞り型あるいはオリフィス絞り
型に比べて加圧流体の供給量が少くても高い軸受剛性が
得られるという利点がある一方で、位置決めステージや
ＸＹステージに振動が発生したときに軸受剛性が著しく
低下したり、静圧軸受装置が自励振動を発生するおそれ
がある。
出する絞りの形式によって大きく異なっており、特に、
ＸＹステージや位置決めステージが振動を発生したとき
の軸受間隙の圧力変動の周波数特性を調べると、公知の
表面絞り型、自成絞り型あるいはオリフィス絞り型の静
圧軸受装置についてはほぼ一定であり、その剛性等がＸ
Ｙステージや位置決めステージの振動によって大きく変
化することはないが、多孔質絞り型の静圧軸受装置の場
合は、表面絞り型や自成絞り型あるいはオリフィス絞り
型に比べて加圧流体の供給量が少くても高い軸受剛性が
得られるという利点がある一方で、位置決めステージや
ＸＹステージに振動が発生したときに軸受剛性が著しく
低下したり、静圧軸受装置が自励振動を発生するおそれ
がある。
【０００４】図１０および図１１は、多孔質絞り型の静
圧軸受装置の、軸受間隙の寸法が周期的に変化したとき
の軸受間隙の気体の圧力変動を測定し、軸受間隙の寸法
の周期的減少と同じ位相の圧力変動成分（以後「Ｒｅ成
分」と呼ぶ）とこれに対して９０度の位相遅れをもつ圧
力変動成分（以後「Ｉｍ成分」と呼ぶ）を検出し、これ
らの周波数特性を得たものである。これらの図から解る
ように、例えば、ＸＹステージや位置決めステージ装置
の固有振動数が１５０〜１６０ＨｚであるときＩｍ成分
が負の値であるため、図１２に示すような自励振動が発
生し、その結果、ＸＹステージや位置決めステージの位
置決め精度が著しく低下し、増大する振動によって装置
の破損を招くおそれがある。
圧軸受装置の、軸受間隙の寸法が周期的に変化したとき
の軸受間隙の気体の圧力変動を測定し、軸受間隙の寸法
の周期的減少と同じ位相の圧力変動成分（以後「Ｒｅ成
分」と呼ぶ）とこれに対して９０度の位相遅れをもつ圧
力変動成分（以後「Ｉｍ成分」と呼ぶ）を検出し、これ
らの周波数特性を得たものである。これらの図から解る
ように、例えば、ＸＹステージや位置決めステージ装置
の固有振動数が１５０〜１６０ＨｚであるときＩｍ成分
が負の値であるため、図１２に示すような自励振動が発
生し、その結果、ＸＹステージや位置決めステージの位
置決め精度が著しく低下し、増大する振動によって装置
の破損を招くおそれがある。
【０００５】そこで、多孔質絞り型の静圧軸受装置に予
め所定量の目づまりを発生させることによって軸受特性
を変化させるか、あるいは多孔質体の通気率や透過率を
厳しく限定したものを用いることによって、多孔質絞り
型の静圧軸受装置の自励振動を防ぐ工夫がなされてい
る。
め所定量の目づまりを発生させることによって軸受特性
を変化させるか、あるいは多孔質体の通気率や透過率を
厳しく限定したものを用いることによって、多孔質絞り
型の静圧軸受装置の自励振動を防ぐ工夫がなされてい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、多孔質絞り型の静圧軸受装置を目づま
りさせることによってその軸受特性を改良する方法は、
かなりの手間と時間がかかり、静圧軸受装置の生産性を
低下させる。また、多孔質体の通気率や透過率を厳しく
限定しても軸受の周波数特性を大幅に変えることはでき
ず、自励振動を防ぐことは難しい。
の技術によれば、多孔質絞り型の静圧軸受装置を目づま
りさせることによってその軸受特性を改良する方法は、
かなりの手間と時間がかかり、静圧軸受装置の生産性を
低下させる。また、多孔質体の通気率や透過率を厳しく
限定しても軸受の周波数特性を大幅に変えることはでき
ず、自励振動を防ぐことは難しい。
【０００７】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、自励振動を発生する
おそれのない多孔質絞り型の静圧軸受装置を提供するこ
とを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、自励振動を発生する
おそれのない多孔質絞り型の静圧軸受装置を提供するこ
とを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の静圧軸受装置は、一対の物体の間の間隙に加
圧流体を噴出し、その静圧によって両物体を非接触に支
持する多孔質絞り型の噴出手段を有し、該噴出手段が、
前記間隙の寸法の周期的変化が発生したとき、前記間隙
の加圧流体の静圧が前記間隙の寸法の周期的減少に対し
て９０度の位相遅れをもつ周期的変動成分を有し、か
つ、該周期的変動成分が各物体の振動系の固有振動数に
等しい周波数において正の値であるように構成されてい
ることを特徴とする。
に本発明の静圧軸受装置は、一対の物体の間の間隙に加
圧流体を噴出し、その静圧によって両物体を非接触に支
持する多孔質絞り型の噴出手段を有し、該噴出手段が、
前記間隙の寸法の周期的変化が発生したとき、前記間隙
の加圧流体の静圧が前記間隙の寸法の周期的減少に対し
て９０度の位相遅れをもつ周期的変動成分を有し、か
つ、該周期的変動成分が各物体の振動系の固有振動数に
等しい周波数において正の値であるように構成されてい
ることを特徴とする。
【０００９】また、加圧流体を噴出する多孔質体が、５
×１０-16 ｍ2 以下の通気率または透過率を有し、か
つ、２０％以下の気孔率または多孔率を有するとよい。
×１０-16 ｍ2 以下の通気率または透過率を有し、か
つ、２０％以下の気孔率または多孔率を有するとよい。
【００１０】
【作用】上記装置によれば、各振動系に振動が発生した
ときにこれを減衰させる圧力が前記加圧流体の静圧に含
まれるため、静圧軸受装置に自励振動が発生するおそれ
はない。前記周波数において前記周期的変動成分がゼロ
または負の値である場合は、各物体の振動系の質量等を
増減して固有振動数を変化させるか、または、噴出手段
に所定の目づまりを発生させることでその周波数特性を
変化させる。
ときにこれを減衰させる圧力が前記加圧流体の静圧に含
まれるため、静圧軸受装置に自励振動が発生するおそれ
はない。前記周波数において前記周期的変動成分がゼロ
または負の値である場合は、各物体の振動系の質量等を
増減して固有振動数を変化させるか、または、噴出手段
に所定の目づまりを発生させることでその周波数特性を
変化させる。
【００１１】また、加圧流体を噴出する多孔質体が、５
×１０-16 ｍ2 以下の通気率または透過率を有し、か
つ、２０％以下の気孔率または多孔率を有すれば、間隙
の寸法の周期的減少に対して９０度の位相遅れをもつ静
圧の周期的変動成分が正である周波数領域が低周波数側
にあるため、各物体の振動系の固有振動数が低くても自
励振動のおそれがない。
×１０-16 ｍ2 以下の通気率または透過率を有し、か
つ、２０％以下の気孔率または多孔率を有すれば、間隙
の寸法の周期的減少に対して９０度の位相遅れをもつ静
圧の周期的変動成分が正である周波数領域が低周波数側
にあるため、各物体の振動系の固有振動数が低くても自
励振動のおそれがない。
【００１２】
【実施例】本発明の実施例を図面の基づいて説明する。
【００１３】図１は、一実施例の静圧軸受装置を用いた
直動式の位置決めステージを説明する説明図であって、
該位置決めステージは、図示上面に基板等の被加工物を
保持する一方の物体である移動台１と、移動台１の図示
下面に一体的に設けられた軸受ハウジング２と、軸受ハ
ウジング２に保持された噴出手段である多孔質体からな
る多孔質パッド３を有し、軸受ハウジング２と多孔質パ
ッド３は、加圧気体供給ライン４から軸受ハウジング２
の内部流路２ａを経て供給される加圧流体である加圧気
体を他方の物体である固定台５の表面に向って噴出し、
該表面に対して移動台１を非接触に保つ静圧軸受装置Ｅ
1 を構成し、移動台１は図示しない駆動装置によって固
定台５の表面に沿って移動される。移動台１と軸受ハウ
ジング２と多孔質パッド３およびこれらと一体的に結合
された他の部材を含む振動系である位置決めステージの
固有振動数は２００Ｈｚと算出されており、この周波数
で共振する。
直動式の位置決めステージを説明する説明図であって、
該位置決めステージは、図示上面に基板等の被加工物を
保持する一方の物体である移動台１と、移動台１の図示
下面に一体的に設けられた軸受ハウジング２と、軸受ハ
ウジング２に保持された噴出手段である多孔質体からな
る多孔質パッド３を有し、軸受ハウジング２と多孔質パ
ッド３は、加圧気体供給ライン４から軸受ハウジング２
の内部流路２ａを経て供給される加圧流体である加圧気
体を他方の物体である固定台５の表面に向って噴出し、
該表面に対して移動台１を非接触に保つ静圧軸受装置Ｅ
1 を構成し、移動台１は図示しない駆動装置によって固
定台５の表面に沿って移動される。移動台１と軸受ハウ
ジング２と多孔質パッド３およびこれらと一体的に結合
された他の部材を含む振動系である位置決めステージの
固有振動数は２００Ｈｚと算出されており、この周波数
で共振する。
【００１４】多孔質パッド３は、厚さ５〜６ｍｍ、通気
率あるいは透過率が５×１０-16 ｍ2 以下で、かつ、気
孔率あるいは多孔率が２０％以下の多孔質体からなり、
平衡状態にあるときの軸受間隙の寸法ｈ0 は４〜６μ
ｍ、これに供給される加圧気体の圧力は４ｋｇ／ｃｍ2
ｇである。
率あるいは透過率が５×１０-16 ｍ2 以下で、かつ、気
孔率あるいは多孔率が２０％以下の多孔質体からなり、
平衡状態にあるときの軸受間隙の寸法ｈ0 は４〜６μ
ｍ、これに供給される加圧気体の圧力は４ｋｇ／ｃｍ2
ｇである。
【００１５】多孔質パッド３のＲｅ成分とＩｍ成分の周
波数特性は、それぞれ、図２の（ａ）に示すように、移
動台１を所定の周波数で振動させ、軸受間隙の寸法ｈが
平衡状態の値ｈ0 からΔｈだけ減少することによる軸受
間隙の気体の静圧の変化量Δｐを測定し、該変化量Δｐ
の振動成分のうちで、図２の（ｂ）に示すように、軸受
間隙の寸法の周期的減少量Δｈと同位相の振動成分Δｐ
1 と、これから９０度の位相遅れをもつ周期的変動成分
である振動成分Δｐ2 を検出することによって求められ
る。
波数特性は、それぞれ、図２の（ａ）に示すように、移
動台１を所定の周波数で振動させ、軸受間隙の寸法ｈが
平衡状態の値ｈ0 からΔｈだけ減少することによる軸受
間隙の気体の静圧の変化量Δｐを測定し、該変化量Δｐ
の振動成分のうちで、図２の（ｂ）に示すように、軸受
間隙の寸法の周期的減少量Δｈと同位相の振動成分Δｐ
1 と、これから９０度の位相遅れをもつ周期的変動成分
である振動成分Δｐ2 を検出することによって求められ
る。
【００１６】このようにして求められたＲｅ成分の周波
数特性は、図３に示すように、周波数２００Ｈｚの付近
において最低値からある程度回復した値を示し、また、
Ｉｍ成分は、図４に示すように、周波数２００Ｈｚの付
近において正であり、かつ、その最大値を示す。従っ
て、前述のように、位置決めステージの固有振動数が２
００Ｈｚであれば、位置決めステージに振動が発生して
もＩｍ成分が正でありかつ大きいために振動が短時間で
鎮静化するうえに、振動によってＲｅ成分が著しく低下
するおそれもない。
数特性は、図３に示すように、周波数２００Ｈｚの付近
において最低値からある程度回復した値を示し、また、
Ｉｍ成分は、図４に示すように、周波数２００Ｈｚの付
近において正であり、かつ、その最大値を示す。従っ
て、前述のように、位置決めステージの固有振動数が２
００Ｈｚであれば、位置決めステージに振動が発生して
もＩｍ成分が正でありかつ大きいために振動が短時間で
鎮静化するうえに、振動によってＲｅ成分が著しく低下
するおそれもない。
【００１７】図５は、図３および図４から各周波数ごと
にＩｍ／Ｒｅを算出してプロットしたものであり、Ｉｍ
／Ｒｅの値は周波数２００Ｈｚ付近で最大値を有するこ
とが解る。なお、図１の位置決めステージが図示上下方
向へ振動したときの運動方程式は以下のように表わされ
る。
にＩｍ／Ｒｅを算出してプロットしたものであり、Ｉｍ
／Ｒｅの値は周波数２００Ｈｚ付近で最大値を有するこ
とが解る。なお、図１の位置決めステージが図示上下方
向へ振動したときの運動方程式は以下のように表わされ
る。
【００１８】 ｛（−Ｍ×ω2 ）＋（Ｋ×Ｒｅ）＋（ｊ×Ｋ×Ｉｍ）｝×Ｚ＝Ｆ・・・（１） ここで、 Ｋ：圧力変動成分Ｒｅ、Ｉｍの次元を運動方程式内の共
通次元にするための変換係数である Ｍ：位置決めステージの慣性 Ｆ：位置決めステージに加わる力 ω：角振動数 また、位置決めステージの固有振動数ｆｎおよび減衰比
ζはそれぞれ以下のように表わされる。
通次元にするための変換係数である Ｍ：位置決めステージの慣性 Ｆ：位置決めステージに加わる力 ω：角振動数 また、位置決めステージの固有振動数ｆｎおよび減衰比
ζはそれぞれ以下のように表わされる。
【００１９】
【数１】 固有振動数ｆｎが２００Ｈｚであれば、図５および
（３）式から減衰比ζが２５％と算出される。
（３）式から減衰比ζが２５％と算出される。
【００２０】次に、図６に示すような加振機を用いて上
記の位置決めステージの振動特性を測定した。該加振機
は、先端に加振力測定用のロードセル６を有するインパ
クトハンマー７と、移動台１の変位を測定する非接触型
の変位センサー８と、その出力から減衰比ζを算出する
ＦＦＴ装置９からなり、ロードセル６から変位センサー
８までの伝達特性は図７に示す通りであった。インパク
トハンマー７によって位置決めステージの移動台１に強
制的に振動を発生させて減衰比ζを測定したところ、３
０％を越える値が得られることが判明した。
記の位置決めステージの振動特性を測定した。該加振機
は、先端に加振力測定用のロードセル６を有するインパ
クトハンマー７と、移動台１の変位を測定する非接触型
の変位センサー８と、その出力から減衰比ζを算出する
ＦＦＴ装置９からなり、ロードセル６から変位センサー
８までの伝達特性は図７に示す通りであった。インパク
トハンマー７によって位置決めステージの移動台１に強
制的に振動を発生させて減衰比ζを測定したところ、３
０％を越える値が得られることが判明した。
【００２１】なお、位置決めステージの固有振動数が２
００Ｈｚの近傍にない場合は、多孔質パッドの数を増や
したり、多孔質の部品の寸法等を調節すればよい。
００Ｈｚの近傍にない場合は、多孔質パッドの数を増や
したり、多孔質の部品の寸法等を調節すればよい。
【００２２】本実施例のように、多孔質パッドの通気率
あるいは透過率が５×１０-16 ｍ2以下であり、かつ気
孔率あるいは多孔率が２０％以下であれば、図１０およ
び図１１に示すような一般的な多孔質パッドに比べて、
図３および図４に示すようにＲｅ成分を回復する周波数
領域および最も高いＩｍ成分を示す周波数領域が低周波
数側へ移動しており、従って、位置決めステージの固有
振動数を前述のようなＲｅ成分およびＩｍ成分が高い周
波数領域に設定することが極めて容易である。
あるいは透過率が５×１０-16 ｍ2以下であり、かつ気
孔率あるいは多孔率が２０％以下であれば、図１０およ
び図１１に示すような一般的な多孔質パッドに比べて、
図３および図４に示すようにＲｅ成分を回復する周波数
領域および最も高いＩｍ成分を示す周波数領域が低周波
数側へ移動しており、従って、位置決めステージの固有
振動数を前述のようなＲｅ成分およびＩｍ成分が高い周
波数領域に設定することが極めて容易である。
【００２３】また、本実施例の静圧軸受装置Ｅ1 は、位
置決めステージ以外に例えば、図８に示すような、両端
にそれぞれスラストプレート１０ａ，１０ｂを有する回
転軸１０を保持する回転軸受装置１１に用いることがで
きる。該回転軸受装置１１は、回転軸１０のスラストプ
レート１０ａ，１０ｂと円筒部分１０ｃにそれぞれ対向
する複数の多孔質パッド１２を有し、各多孔質パッド１
２は本実施例の静圧軸受装置Ｅ1 の多孔質パッド３と同
様の通気率および多孔率を有し、その他の軸受パラメー
タは、前述のように、各多孔質パッドのＲｅ成分とＩｍ
成分の周波数特性と回転軸１０の固有振動数に基づいて
設定される。これによって、回転軸のふれ回り等の振動
を低減し、回転を安定させることができる。
置決めステージ以外に例えば、図８に示すような、両端
にそれぞれスラストプレート１０ａ，１０ｂを有する回
転軸１０を保持する回転軸受装置１１に用いることがで
きる。該回転軸受装置１１は、回転軸１０のスラストプ
レート１０ａ，１０ｂと円筒部分１０ｃにそれぞれ対向
する複数の多孔質パッド１２を有し、各多孔質パッド１
２は本実施例の静圧軸受装置Ｅ1 の多孔質パッド３と同
様の通気率および多孔率を有し、その他の軸受パラメー
タは、前述のように、各多孔質パッドのＲｅ成分とＩｍ
成分の周波数特性と回転軸１０の固有振動数に基づいて
設定される。これによって、回転軸のふれ回り等の振動
を低減し、回転を安定させることができる。
【００２４】また、本実施例の静圧軸受装置Ｅ1 を、図
９に示すような、台盤１３上において所定の軸方向へ往
復移動する駆動体１４と、これによって前記方向へ移動
される被駆動体１５の間の駆動力伝達機構に用いること
もできる。該駆動力伝達機構は、駆動体１４の両側面１
４ａ，１４ｂにそれぞれ多孔質パッド１６ａ，１６ｂを
有し、両者は被駆動体１５の逆Ｕ字形の枠体の内側面に
向って加圧気体を噴出する。また、駆動体１４および被
駆動体１５はそれぞれ多孔質パッド１７，１８によって
台盤１３上に非接触で支持されている。各多孔質パッド
１６ａ，１６ｂ，１７，１８については前述の多孔質パ
ッド３，１２と同様であるので説明は省略する。
９に示すような、台盤１３上において所定の軸方向へ往
復移動する駆動体１４と、これによって前記方向へ移動
される被駆動体１５の間の駆動力伝達機構に用いること
もできる。該駆動力伝達機構は、駆動体１４の両側面１
４ａ，１４ｂにそれぞれ多孔質パッド１６ａ，１６ｂを
有し、両者は被駆動体１５の逆Ｕ字形の枠体の内側面に
向って加圧気体を噴出する。また、駆動体１４および被
駆動体１５はそれぞれ多孔質パッド１７，１８によって
台盤１３上に非接触で支持されている。各多孔質パッド
１６ａ，１６ｂ，１７，１８については前述の多孔質パ
ッド３，１２と同様であるので説明は省略する。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、上述のとおり構成されている
ので、以下に記載するような効果を奏する。
ので、以下に記載するような効果を奏する。
【００２６】位置決めステージやＸＹステージの振動に
よって自励振動を起こすおそれのない静圧軸受装置を実
現する。
よって自励振動を起こすおそれのない静圧軸受装置を実
現する。
【図１】一実施例を説明する説明図である。
【図２】図１の静圧軸受装置の軸受間隙の寸法を変化さ
せたときの圧力変動を説明するもので、（ａ）は軸受間
隙を拡大して示す説明図、（ｂ）は各圧力変動成分と軸
受間隙の寸法の変化の関係を示す図である。
せたときの圧力変動を説明するもので、（ａ）は軸受間
隙を拡大して示す説明図、（ｂ）は各圧力変動成分と軸
受間隙の寸法の変化の関係を示す図である。
【図３】図１の静圧軸受装置のＲｅ成分の周波数特性を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図４】図１の静圧軸受装置のＩｍ成分の周波数特性を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図５】図３および図４から求められたＲｅ成分とＩｍ
成分の比をプロットしたグラフである。
成分の比をプロットしたグラフである。
【図６】加振実験に用いた加振機を説明する説明図であ
る。
る。
【図７】加振機のロードセルと変位センサーの伝達特性
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図８】回転軸に静圧軸受装置を用いた場合を説明する
説明図である。
説明図である。
【図９】駆動力伝達機構に静圧軸受装置を用いた場合を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図１０】一般的な静圧軸受装置のＲｅ成分の周波数特
性を示すグラフである。
性を示すグラフである。
【図１１】図１０の静圧軸受装置のＩｍ成分の周波数特
性を示すグラフである。
性を示すグラフである。
【図１２】図１０の静圧軸受装置を用いた位置決めステ
ージの自励振動を説明するグラフである。
ージの自励振動を説明するグラフである。
１ 移動体 ２ 軸受ハウジング ３ 多孔質パッド ５ 固定台
Claims (2)
- 【請求項１】 一対の物体の間の間隙に加圧流体を噴出
し、その静圧によって両物体を非接触に支持する多孔質
絞り型の噴出手段を有し、該噴出手段が、前記間隙の寸
法の周期的変化が発生したとき、前記間隙の加圧流体の
静圧が前記間隙の寸法の周期的減少に対して９０度の位
相遅れをもつ周期的変動成分を有し、かつ、該周期的変
動成分が各物体の振動系の固有振動数に等しい周波数に
おいて正の値であるように構成されていることを特徴と
する静圧軸受装置。 - 【請求項２】 噴出手段が多孔質体を有し、該多孔質体
が、５×１０-16 ｍ2 以下の通気率または透過率を有
し、かつ、２０％以下の気孔率または多孔率を有するこ
とを特徴とする請求項１記載の静圧軸受装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5644893A JP3086764B2 (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 静圧軸受装置 |
| US08/195,199 US5382095A (en) | 1993-02-22 | 1994-02-14 | Static pressure bearing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5644893A JP3086764B2 (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 静圧軸受装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06249239A true JPH06249239A (ja) | 1994-09-06 |
| JP3086764B2 JP3086764B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=13027385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5644893A Expired - Fee Related JP3086764B2 (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | 静圧軸受装置 |
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|---|---|
| US (1) | US5382095A (ja) |
| JP (1) | JP3086764B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10103354A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-21 | Nippon Steel Corp | 静圧気体軸受け |
| JP2011085155A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Canon Inc | 気体軸受 |
| CN104614138A (zh) * | 2015-01-15 | 2015-05-13 | 浙江大学 | 基于推挽式气浮解耦装置的三分量标准振动台 |
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| JPH08229759A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-10 | Canon Inc | 位置決め装置並びにデバイス製造装置及び方法 |
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| JP3907252B2 (ja) * | 1996-12-05 | 2007-04-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ装置および原点出し方法 |
| JPH10293611A (ja) * | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Canon Inc | 位置決め装置 |
| US6028376A (en) * | 1997-04-22 | 2000-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and exposure apparatus using the same |
| US6315449B1 (en) * | 2000-03-23 | 2001-11-13 | Lucent Technologies Inc. | Compliant hydrostatic guidance of moving lathe carriage |
| US6428210B1 (en) | 2000-07-11 | 2002-08-06 | Lintech Motion Control, Inc. | Precision air bearing slide and stage assembly for controlled linear motion |
| JP2005005394A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| JP3968713B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2007-08-29 | ソニー株式会社 | フラットディスプレイ装置及びフラットディスプレイ装置の試験方法 |
| JP2005032818A (ja) * | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Canon Inc | 静圧軸受、位置決め装置、並びに露光装置 |
| JP2005155658A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Canon Inc | 静圧気体軸受装置およびそれを用いたステージ装置 |
| CN102444670A (zh) * | 2010-10-15 | 2012-05-09 | 上海微电子装备有限公司 | 气浮结构 |
| CN111677758A (zh) * | 2020-06-29 | 2020-09-18 | 杭州中奥工业设计有限公司 | 一种静压轴承 |
| CN111677757A (zh) * | 2020-06-29 | 2020-09-18 | 杭州中奥工业设计有限公司 | 一种可变油腔静压轴承 |
| FR3139869A1 (fr) * | 2022-09-16 | 2024-03-22 | Micro-Contrôle - Spectra-Physics | Appareil pour la réduction des vibrations dans un système de régulation de mouvement à coussin d’air |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5980520A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-10 | Canon Inc | 流体軸受装置 |
| US4744675A (en) * | 1986-01-21 | 1988-05-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Moving mechanism |
| DE3788331T2 (de) * | 1986-09-30 | 1994-04-28 | Canon Kk | Aerostatisches Lager. |
| US5184055A (en) * | 1989-10-06 | 1993-02-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for positioning control |
| US5064297A (en) * | 1990-02-26 | 1991-11-12 | Nippon Seiko Kabushiki Kaisha | Static pressure gas bearing with throttling control valve in housing |
-
1993
- 1993-02-22 JP JP5644893A patent/JP3086764B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-02-14 US US08/195,199 patent/US5382095A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10103354A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-21 | Nippon Steel Corp | 静圧気体軸受け |
| JP2011085155A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Canon Inc | 気体軸受 |
| CN104614138A (zh) * | 2015-01-15 | 2015-05-13 | 浙江大学 | 基于推挽式气浮解耦装置的三分量标准振动台 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5382095A (en) | 1995-01-17 |
| JP3086764B2 (ja) | 2000-09-11 |
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