JPH0624772A - 石英微粉末の回収装置 - Google Patents
石英微粉末の回収装置Info
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- JPH0624772A JPH0624772A JP20721992A JP20721992A JPH0624772A JP H0624772 A JPH0624772 A JP H0624772A JP 20721992 A JP20721992 A JP 20721992A JP 20721992 A JP20721992 A JP 20721992A JP H0624772 A JPH0624772 A JP H0624772A
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- liquid
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- particles
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＶＡＤ法やＯＶＤ法などで堆積に関与しなか
った石英微粉末を高純度の状態で回収する。 【構成】 石英微粉末堆積装置からスクラバへの排気管
中に蒸留水を散布するシャワーを設け、その該散布後の
液体を第１の液槽に導いて貯蔵する。この第１の液槽中
の液の上澄み部分は循環ポンプを介して上記のシャワー
に導き、その液の下層部分は、石英微粉末等が沈殿して
きたことを透明度が悪くなったことにより検出し、第２
の液槽に導く。この第２の液槽中には電極が配置され、
その液中の金属イオンが電極反応によって除去される。
こうして金属イオンが除去された液体は第３の液槽に導
かれる。この第３の液槽を乾燥させると、石英微粉末が
高純度の状態で回収できることになる。
った石英微粉末を高純度の状態で回収する。 【構成】 石英微粉末堆積装置からスクラバへの排気管
中に蒸留水を散布するシャワーを設け、その該散布後の
液体を第１の液槽に導いて貯蔵する。この第１の液槽中
の液の上澄み部分は循環ポンプを介して上記のシャワー
に導き、その液の下層部分は、石英微粉末等が沈殿して
きたことを透明度が悪くなったことにより検出し、第２
の液槽に導く。この第２の液槽中には電極が配置され、
その液中の金属イオンが電極反応によって除去される。
こうして金属イオンが除去された液体は第３の液槽に導
かれる。この第３の液槽を乾燥させると、石英微粉末が
高純度の状態で回収できることになる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＶＡＤ法やＯＶＤ法
などにおいて石英微粉末を堆積させる際の、その堆積し
なかった石英微粉末を高純度に回収する装置に関する。
などにおいて石英微粉末を堆積させる際の、その堆積し
なかった石英微粉末を高純度に回収する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＶＡＤ法やＯＶＤ法などでは、バーナに
より形成した酸水素火炎中に四塩化硅素を主成分とする
原料を投入し、加水分解反応を生ぜしめて石英微粉末を
生成し、この石英微粉末をターゲット棒の表面に吹き付
けてこれを堆積させることにより多孔質の石英微粉末集
合体を形成している。
より形成した酸水素火炎中に四塩化硅素を主成分とする
原料を投入し、加水分解反応を生ぜしめて石英微粉末を
生成し、この石英微粉末をターゲット棒の表面に吹き付
けてこれを堆積させることにより多孔質の石英微粉末集
合体を形成している。
【０００３】このように石英微粉末集合体を作る場合、
従来では、堆積に関与しなかった石英微粉末は排気管を
通してスクラバに導き、廃棄物として廃棄するようにし
ている。
従来では、堆積に関与しなかった石英微粉末は排気管を
通してスクラバに導き、廃棄物として廃棄するようにし
ている。
【０００４】通常、複数の石英微粉末堆積装置に各々接
続された複数の排気管を１つのスクラバに接続し、排気
に含まれる粉塵はシャワー中を通すことにより回収し、
さらに混入する酸はアルカリで中和する処理を行なって
いる。
続された複数の排気管を１つのスクラバに接続し、排気
に含まれる粉塵はシャワー中を通すことにより回収し、
さらに混入する酸はアルカリで中和する処理を行なって
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は、上記のように堆積しなかった石英微粉末は単に廃棄
物として扱われており、高純度に回収して再利用を図る
ことができないという問題があった。
は、上記のように堆積しなかった石英微粉末は単に廃棄
物として扱われており、高純度に回収して再利用を図る
ことができないという問題があった。
【０００６】すなわち、従来では、比較的多くの設備に
おいて、排気管は金属により形成されているため、排気
ガス中に金属混入の可能性が高い。また、複数の排気管
中の排気ガスを混合しているため、屈折率制御用に用い
ているドーパントが濃度不明のまま不純物として混入し
た状態になっている。これらより、スクラバにおいて高
純度の石英（二酸化硅素）微粉末を回収することは困難
である。
おいて、排気管は金属により形成されているため、排気
ガス中に金属混入の可能性が高い。また、複数の排気管
中の排気ガスを混合しているため、屈折率制御用に用い
ているドーパントが濃度不明のまま不純物として混入し
た状態になっている。これらより、スクラバにおいて高
純度の石英（二酸化硅素）微粉末を回収することは困難
である。
【０００７】この発明は、上記に鑑み、ＶＡＤ法やＯＶ
Ｄ法などで堆積しなかった石英微粉末を高純度の状態で
回収することのできる、石英微粉末の回収装置を提供す
ることを目的とする。
Ｄ法などで堆積しなかった石英微粉末を高純度の状態で
回収することのできる、石英微粉末の回収装置を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明による石英微粉末の回収装置では、石英微
粉末堆積装置からの排気管中に蒸留水を散布する散布装
置を設け、その該散布後の液体を第１の液槽に導いて貯
蔵する。この第１の液槽中の液の下層部分は、石英微粉
末等が沈殿してくるので、第２の液槽に導く。この第２
の液槽中に電極を配置し、その液中の金属イオンを電極
反応によって除去する。したがって、この第２の液槽中
の液体を他の液槽等に導いて乾燥させれば、高純度の石
英微粉末が回収できる。
め、この発明による石英微粉末の回収装置では、石英微
粉末堆積装置からの排気管中に蒸留水を散布する散布装
置を設け、その該散布後の液体を第１の液槽に導いて貯
蔵する。この第１の液槽中の液の下層部分は、石英微粉
末等が沈殿してくるので、第２の液槽に導く。この第２
の液槽中に電極を配置し、その液中の金属イオンを電極
反応によって除去する。したがって、この第２の液槽中
の液体を他の液槽等に導いて乾燥させれば、高純度の石
英微粉末が回収できる。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の一実施例について図面を参
照しながら詳細に説明する。図１はこの発明の一実施例
を示すもので、この図に示すように、石英微粉末堆積用
チャンバ１からスクラバ（図示しない）への排気管２の
途中に、３段の液槽３、４、５よりなる石英微粉末回収
装置が設置される。チャンバ１では、この実施例の場
合、ＯＶＤ法による石英微粒子の堆積が行なわれてい
る。石英微粉末発生用バーナ１１の酸水素火炎中に原料
のガスが導入され、加水分解反応によって石英微粉末１
２が生成される。この石英微粉末１２はターゲット棒１
３に吹き付けられてその周囲に堆積する。こうしてター
ゲット棒１３の周囲に多孔質の石英微粉末集合体１４が
形成される。堆積しなかった石英微粉末１２は排気管２
を通じてスクラバへと排気されていく。この排気の流れ
はスクラバへの排気系において調整されている。
照しながら詳細に説明する。図１はこの発明の一実施例
を示すもので、この図に示すように、石英微粉末堆積用
チャンバ１からスクラバ（図示しない）への排気管２の
途中に、３段の液槽３、４、５よりなる石英微粉末回収
装置が設置される。チャンバ１では、この実施例の場
合、ＯＶＤ法による石英微粒子の堆積が行なわれてい
る。石英微粉末発生用バーナ１１の酸水素火炎中に原料
のガスが導入され、加水分解反応によって石英微粉末１
２が生成される。この石英微粉末１２はターゲット棒１
３に吹き付けられてその周囲に堆積する。こうしてター
ゲット棒１３の周囲に多孔質の石英微粉末集合体１４が
形成される。堆積しなかった石英微粉末１２は排気管２
を通じてスクラバへと排気されていく。この排気の流れ
はスクラバへの排気系において調整されている。
【００１０】この排気管２の回収装置の上段槽３付近に
は散布管３４が設けられており、蒸留水がシャワー状に
散布されている。排気中の石英微粉末はこの散布された
蒸留水により捕えられて上段槽３へと流入する。この上
段槽３には蒸留水注入口３１が設けられており、これか
ら蒸留水が注入される。上段槽３における液体の下から
２／３程度の高さに導入管３２が設けられ、上段槽３中
の液体の上澄み部分が循環ポンプ３３によって散布管３
４へと循環させられる。この上段槽３の液体中で蒸留水
に捕えられた石英微粉末がなるべく沈降し易いように、
この液体はできるだけ静水状態にする。
は散布管３４が設けられており、蒸留水がシャワー状に
散布されている。排気中の石英微粉末はこの散布された
蒸留水により捕えられて上段槽３へと流入する。この上
段槽３には蒸留水注入口３１が設けられており、これか
ら蒸留水が注入される。上段槽３における液体の下から
２／３程度の高さに導入管３２が設けられ、上段槽３中
の液体の上澄み部分が循環ポンプ３３によって散布管３
４へと循環させられる。この上段槽３の液体中で蒸留水
に捕えられた石英微粉末がなるべく沈降し易いように、
この液体はできるだけ静水状態にする。
【００１１】この上段槽３の液体の下から１／３程度の
高さに、レーザ発生器３５からのレーザが水平に投射さ
れており、この液体を透過したレーザが検出器３６で検
出されるようになっている。この検出器３６によって透
過レーザ強度を測定することにより液体における光の透
過率を検出する。液体中の石英微粉末の沈降が進行して
この液のその高さでの透明度が悪くなり、光の透過率が
一定値より低下したとき、電磁弁３７が開放され、この
上段槽３の液量の下層部分の１／３程の量が中段槽４へ
と導かれる。
高さに、レーザ発生器３５からのレーザが水平に投射さ
れており、この液体を透過したレーザが検出器３６で検
出されるようになっている。この検出器３６によって透
過レーザ強度を測定することにより液体における光の透
過率を検出する。液体中の石英微粉末の沈降が進行して
この液のその高さでの透明度が悪くなり、光の透過率が
一定値より低下したとき、電磁弁３７が開放され、この
上段槽３の液量の下層部分の１／３程の量が中段槽４へ
と導かれる。
【００１２】この中段槽４には高分子隔膜４３で覆われ
た陽極４１と陰極４２とが配置されている。この陽極４
１は、液中への金属イオンの溶出の可能性の低い白金な
どの金属板により形成されている。また、石英製のスク
リュー４４がその液中に配置されており、モーター４５
により回転させられていて、常時その液が攪拌されてい
る。陽極４１、陰極４２間の通電により、この液中に混
入した金属イオンの形の不純物が、陰極４２に析出する
ことによって除去される。
た陽極４１と陰極４２とが配置されている。この陽極４
１は、液中への金属イオンの溶出の可能性の低い白金な
どの金属板により形成されている。また、石英製のスク
リュー４４がその液中に配置されており、モーター４５
により回転させられていて、常時その液が攪拌されてい
る。陽極４１、陰極４２間の通電により、この液中に混
入した金属イオンの形の不純物が、陰極４２に析出する
ことによって除去される。
【００１３】この中段槽４の下部には電磁弁４６を介し
て取り外し可能に下段槽５が取り付けられている。上記
のように中段槽４において金属イオンが除去された後、
電磁弁４６が開放され、中段槽４の液体が下段槽５に導
かれる。この下段槽５において、導入された液体が静置
状態に保たれ、不純物等が沈降してくる。沈降速度は各
物質によって異なるので、残留している金属不純物は石
英微粉末よりも先に沈降し、下層に沈殿することにな
る。
て取り外し可能に下段槽５が取り付けられている。上記
のように中段槽４において金属イオンが除去された後、
電磁弁４６が開放され、中段槽４の液体が下段槽５に導
かれる。この下段槽５において、導入された液体が静置
状態に保たれ、不純物等が沈降してくる。沈降速度は各
物質によって異なるので、残留している金属不純物は石
英微粉末よりも先に沈降し、下層に沈殿することにな
る。
【００１４】そこで、初期に沈降し沈殿物の下層をなし
ている部分を、電磁弁５１を開放することによって排出
する。これにより、液中に残留していた金属不純物を除
去することができる。上記の電極による析出とあわせ
て、金属不純物の大部分の除去が完了する。
ている部分を、電磁弁５１を開放することによって排出
する。これにより、液中に残留していた金属不純物を除
去することができる。上記の電極による析出とあわせ
て、金属不純物の大部分の除去が完了する。
【００１５】その後、この下段槽５を中段槽４から切り
離し、加熱して液を乾燥させる。すると、石英微粉末が
高純度の状態で回収できる。
離し、加熱して液を乾燥させる。すると、石英微粉末が
高純度の状態で回収できる。
【００１６】光ファイバを線引き紡糸するための光ファ
イバ用プリフォームをＶＡＤ法により作製する場合、そ
のコア部を堆積させるときには屈折率制御用ドーパント
としてゲルマニウム、燐、ホウ素、アルミニウムなどを
硅素とともに酸水素火炎中に導入するので、排気管２に
はそれらの酸化物の混合粉末が排出されることになる。
他方、クラッド部分を形成するためのＯＶＤ工程では、
二酸化硅素またはフッ素をドープした二酸化硅素をクラ
ッド部のガラスとすることが大半であるため、酸水素火
炎中には原料として四塩化硅素のみを導入することとな
り、排気管２中に排出される微粉末も形式的には二酸化
硅素のみということになる。しかし、実際には、金属不
純物や、水分、酸などが、デポジションを行なう室内や
金属で作られた排気管２などの排気系より、排気中に混
入することが避けられない。このような金属不純物等が
上記の回収装置によって除去され、高純度の石英微粉末
が回収されるのである。
イバ用プリフォームをＶＡＤ法により作製する場合、そ
のコア部を堆積させるときには屈折率制御用ドーパント
としてゲルマニウム、燐、ホウ素、アルミニウムなどを
硅素とともに酸水素火炎中に導入するので、排気管２に
はそれらの酸化物の混合粉末が排出されることになる。
他方、クラッド部分を形成するためのＯＶＤ工程では、
二酸化硅素またはフッ素をドープした二酸化硅素をクラ
ッド部のガラスとすることが大半であるため、酸水素火
炎中には原料として四塩化硅素のみを導入することとな
り、排気管２中に排出される微粉末も形式的には二酸化
硅素のみということになる。しかし、実際には、金属不
純物や、水分、酸などが、デポジションを行なう室内や
金属で作られた排気管２などの排気系より、排気中に混
入することが避けられない。このような金属不純物等が
上記の回収装置によって除去され、高純度の石英微粉末
が回収されるのである。
【００１７】その結果、回収した高純度の石英微粉末を
メカニカルシェイプ法やゾルゲル法などの原料として展
開することが期待でき、有効なリサイクルが可能とな
る。
メカニカルシェイプ法やゾルゲル法などの原料として展
開することが期待でき、有効なリサイクルが可能とな
る。
【００１８】また、スクラバへの排気管２の途中でこの
ような石英微粉末の回収を行なうため、スクラバへ導か
れる粉塵が格段に減少し、スクラバのメンテナンスのス
パンを長く設定することが可能となる。
ような石英微粉末の回収を行なうため、スクラバへ導か
れる粉塵が格段に減少し、スクラバのメンテナンスのス
パンを長く設定することが可能となる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の石英微
粉末の回収装置によれば、ＶＡＤ法やＯＶＤ法などによ
って高純度に生成される石英微粉末を、その高純度状態
を維持しながら回収することができ、有効な再利用が可
能となる。また、スクラバへの粉塵を減少させることが
できるので、スクラバの手入れが容易になるとともに寿
命を延ばすことができる。
粉末の回収装置によれば、ＶＡＤ法やＯＶＤ法などによ
って高純度に生成される石英微粉末を、その高純度状態
を維持しながら回収することができ、有効な再利用が可
能となる。また、スクラバへの粉塵を減少させることが
できるので、スクラバの手入れが容易になるとともに寿
命を延ばすことができる。
【図１】この発明の一実施例の模式図。
１ 石英微粉末堆積用チャンバ １１ 石英微粉末発生用バーナ １２ 石英微粉末 １３ ターゲット棒 １４ 石英微粉末集合体 ２ 排気管 ３ 上段槽 ３１ 蒸留水注入口 ３２ 導入管 ３３ 循環ポンプ ３４ 散布管 ３５ レーザ発生器 ３６ 検出器 ３７、４６、５１ 電磁弁 ４ 中段槽 ４１ 陽極 ４２ 陰極 ４３ 高分子隔膜 ４４ スクリュー ４５ モーター ５ 下段槽
Claims (1)
- 【請求項１】 石英微粉末堆積装置からの排気管中に挿
入される蒸留水の散布装置と、該散布後の液体が貯蔵さ
れる第１の液槽と、該第１の液槽中の液の下層部分が導
入される第２の液槽と、該第２の液槽中に配置され、そ
の液中の金属イオンを電極反応によって除去するための
電極とを備えることを特徴とする石英微粉末の回収装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20721992A JPH0624772A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 石英微粉末の回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20721992A JPH0624772A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 石英微粉末の回収装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0624772A true JPH0624772A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=16536221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20721992A Pending JPH0624772A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 石英微粉末の回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624772A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100340507C (zh) * | 2003-03-18 | 2007-10-03 | 住友电气工业株式会社 | 制造多孔玻璃粒子沉积体的方法和用于合成玻璃粒子的燃烧器 |
-
1992
- 1992-07-10 JP JP20721992A patent/JPH0624772A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100340507C (zh) * | 2003-03-18 | 2007-10-03 | 住友电气工业株式会社 | 制造多孔玻璃粒子沉积体的方法和用于合成玻璃粒子的燃烧器 |
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