JPH0624269B2 - Ｔｅａ炭酸ガスレーザ装置 - Google Patents
Ｔｅａ炭酸ガスレーザ装置Info
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- JPH0624269B2 JPH0624269B2 JP57064615A JP6461582A JPH0624269B2 JP H0624269 B2 JPH0624269 B2 JP H0624269B2 JP 57064615 A JP57064615 A JP 57064615A JP 6461582 A JP6461582 A JP 6461582A JP H0624269 B2 JPH0624269 B2 JP H0624269B2
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- carbon dioxide
- anode electrode
- sub
- laser device
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
- H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はコロナ放電によるプレイオン化が行なわれるよ
うに構成された構造が簡単で頑丈な気密シールされたＴ
ＥＡ炭酸ガスレーザ装置に係る。
うに構成された構造が簡単で頑丈な気密シールされたＴ
ＥＡ炭酸ガスレーザ装置に係る。
Ｇ．Ｊ．Ｅrnstに付与された米国特許第４，２０７，５
４０号及び１９７８年１０月に出版されたＯptics Comm
unications 第２７巻、No.１の第１０５頁に記載された
「Ｃonstruction and Ｐercormance Ｃharacteristics
of a Ｒapid Ｄischarge ＴＥＡ ＣＯ２ Ｌaser」
と題する記事（Ｅrnst及びＢoer 著）に、コロナ放電に
よるプレイオン化が行なわれるよう構成された炭酸ガス
流動式のレーザ装置が開示されている。このレーザ装置
に於けるコロナ放電によるプレイオン化法に於ては、強
力な電場を使用して、レーザボア内に於てレーザ装置の
主放電領域にある炭酸ガスをプレイオン化させる紫外線
を発生させるコロナ放電が開始されるようになってい
る。上述の記事の第２図及び上述の米国特許第４，２０
７，５４０号の第３図には上述の如きレーザ装置の詳細
な構造が示されている。前述の米国特許第４，２０７，
５４０号に開示された発明は特定の放電回路と電極によ
るプレイオン化系への特定の電気的接続端とを有する複
合系である。上述の記事及び米国特許に記載されたレー
ザ装置に於ては、炭酸ガスがその作動空間に連続的に流
され、これにより気密シールされたレーザ装置の環境と
は異なった環境を創成するようになっている。
４０号及び１９７８年１０月に出版されたＯptics Comm
unications 第２７巻、No.１の第１０５頁に記載された
「Ｃonstruction and Ｐercormance Ｃharacteristics
of a Ｒapid Ｄischarge ＴＥＡ ＣＯ２ Ｌaser」
と題する記事（Ｅrnst及びＢoer 著）に、コロナ放電に
よるプレイオン化が行なわれるよう構成された炭酸ガス
流動式のレーザ装置が開示されている。このレーザ装置
に於けるコロナ放電によるプレイオン化法に於ては、強
力な電場を使用して、レーザボア内に於てレーザ装置の
主放電領域にある炭酸ガスをプレイオン化させる紫外線
を発生させるコロナ放電が開始されるようになってい
る。上述の記事の第２図及び上述の米国特許第４，２０
７，５４０号の第３図には上述の如きレーザ装置の詳細
な構造が示されている。前述の米国特許第４，２０７，
５４０号に開示された発明は特定の放電回路と電極によ
るプレイオン化系への特定の電気的接続端とを有する複
合系である。上述の記事及び米国特許に記載されたレー
ザ装置に於ては、炭酸ガスがその作動空間に連続的に流
され、これにより気密シールされたレーザ装置の環境と
は異なった環境を創成するようになっている。
本発明の目的は、気密シールされていることによる性能
を発揮し且長期に亙る使用に耐えるよう構成されたＴＥ
Ａ炭酸ガスレーザ装置であって、気密シール性を長期に
亙り保持し且従来技術による装置に於ける如き特定の電
気回路に対する依存性が低減されるよう、レーザキャビ
ティの機械的構造が従来技術のレーザ装置に於けるもの
より修正された改良されたコロナ放電プレイオン化式Ｔ
ＥＡ炭酸ガスレーザ装置を提供することである。
を発揮し且長期に亙る使用に耐えるよう構成されたＴＥ
Ａ炭酸ガスレーザ装置であって、気密シール性を長期に
亙り保持し且従来技術による装置に於ける如き特定の電
気回路に対する依存性が低減されるよう、レーザキャビ
ティの機械的構造が従来技術のレーザ装置に於けるもの
より修正された改良されたコロナ放電プレイオン化式Ｔ
ＥＡ炭酸ガスレーザ装置を提供することである。
以下に添付の図を参照しつつ、本発明を実施例について
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第３図は本発明に従って構成されたレーザキャビティを
示す縦断面図である。この第３図に於て空間３２０は両
側部に於て側壁３０６及び３０４により、また上部及び
下部に於てそれぞれカバー３３２及び３３４によって郭
定されたレーザキャビティである。レーザの光軸は第３
図の紙面に垂直であり、垂直軸線３５０及び３５１はそ
れぞれカバー３３２及び３３４、側壁３０４及び３０６
を通過している。側壁３０４、３０６及びカバー３３
２、３３４はＣorning Ｇlass Ｗorksにより製造され
ている機械加工可能なガラス質セラミックであるＭＡＣ
ＯＲの如き絶縁性物質にて構成されており、これらの側
壁とカバーとの間の接合部３０９及び３１１はガラス粉
接着又はこれと同様の流体の漏洩を生じない接着法によ
り気密的にシールされている。かくして構成された包囲
体内にはレーザ放射用の陰極及び陽極である電極３０１
及び３０２が配置されている。これらの電極はそれぞれ
接続部材３０７及び３０８によりカバー３３４及び３３
２を貫通して外部に接続されており、接続部材３０７及
び３０８はインダクタンスが小さく且金属製の接続部材
３０７及び３０８とカバー３３４及び３３２との間に於
ける気密シールを容易に行ない得るような形状に形成さ
れている。接続部材３０７、３０８とカバー３３４、３
３２との間の接合部はエポキシ樹脂又はガラス粉による
接着によってシールされている。電極３０１及び３０２
の形状はＣhangにより与えられた方法（前述の米国特許
第４，２０７，５４０号の第５４行〜第５６行参照）に
従って決定されており、各パラメータはＫ＝０．０２、
ｖ＝cos -1（−Ｋ）であり、電極３０１と電極３０２と
の間の間隙は１cm程度である。
示す縦断面図である。この第３図に於て空間３２０は両
側部に於て側壁３０６及び３０４により、また上部及び
下部に於てそれぞれカバー３３２及び３３４によって郭
定されたレーザキャビティである。レーザの光軸は第３
図の紙面に垂直であり、垂直軸線３５０及び３５１はそ
れぞれカバー３３２及び３３４、側壁３０４及び３０６
を通過している。側壁３０４、３０６及びカバー３３
２、３３４はＣorning Ｇlass Ｗorksにより製造され
ている機械加工可能なガラス質セラミックであるＭＡＣ
ＯＲの如き絶縁性物質にて構成されており、これらの側
壁とカバーとの間の接合部３０９及び３１１はガラス粉
接着又はこれと同様の流体の漏洩を生じない接着法によ
り気密的にシールされている。かくして構成された包囲
体内にはレーザ放射用の陰極及び陽極である電極３０１
及び３０２が配置されている。これらの電極はそれぞれ
接続部材３０７及び３０８によりカバー３３４及び３３
２を貫通して外部に接続されており、接続部材３０７及
び３０８はインダクタンスが小さく且金属製の接続部材
３０７及び３０８とカバー３３４及び３３２との間に於
ける気密シールを容易に行ない得るような形状に形成さ
れている。接続部材３０７、３０８とカバー３３４、３
３２との間の接合部はエポキシ樹脂又はガラス粉による
接着によってシールされている。電極３０１及び３０２
の形状はＣhangにより与えられた方法（前述の米国特許
第４，２０７，５４０号の第５４行〜第５６行参照）に
従って決定されており、各パラメータはＫ＝０．０２、
ｖ＝cos -1（−Ｋ）であり、電極３０１と電極３０２と
の間の間隙は１cm程度である。
レーザ装置キャビティの側壁３０４内にはキャビティ３
１４が形成されている。電極３０２とキャビティ３１４
との間の壁厚は重要な値であり、例えば２mm（この値は
側壁３０４に使用される材料次第である）である。キャ
ビティ３１４内には電極３１０が挿入されており、電極
３１０は図には示されていないがインダクタンスの小さ
い導電体によって陰極電極３０１に電気的に接続されて
いる。電極３１０は、その最上部が陰極電極３０１に面
する湾曲面３２１と側壁３０４の内面に当接する平坦面
３２２との間にて電極３０２の表面に設けられた遷移領
域３１２に近接した位置に位置するよう、キャビティ３
１４内に配置されている。湾曲面３２１と平坦面３２２
とが接続されている遷移領域３１２は稜線をなしてはお
らず、少なくとも０．００３インチ（０．０７６mm）の
半径にて丸く形成されている。電極３１０は、その最上
部が実質的に電極３０２の遷移領域３１２と同一の高さ
に位置し且電極３１０と電極３０２との間の最短距離を
郭定する線が側壁３０４のみではなくレーザキャビティ
３２０の少なくとも一部を通過するよう、垂直軸線３５
０に平行に配置されている。電極３１０は電極３０２よ
りかくして隔置されているので、最短距離の部分、即ち
最も強力な電場はその電気入力線の全長が側壁３０４内
には存在せず（最も強力な電場がその電気力線の全長に
て側壁３０４内に存在すると、側壁３０４を構成する材
料の破損が助長される）、炭酸ガス媒体にて充填された
領域（レーザキャビティ３２０）内にその一部が存在し
ている。湾曲面３２１が側壁３０４に出合う隅部に形成
された強力な電場により、側壁３０４を構成する材料よ
り電子が引き離され、側壁３０４の表面に沿って電極３
０１へ向けて下方へ移動するコロナ放電が形成され、こ
れにより紫外線放射線が発生される。かくして発生され
た紫外線放射線は領域３２０内を通過し、炭酸ガスをプ
レイオン化させる。
１４が形成されている。電極３０２とキャビティ３１４
との間の壁厚は重要な値であり、例えば２mm（この値は
側壁３０４に使用される材料次第である）である。キャ
ビティ３１４内には電極３１０が挿入されており、電極
３１０は図には示されていないがインダクタンスの小さ
い導電体によって陰極電極３０１に電気的に接続されて
いる。電極３１０は、その最上部が陰極電極３０１に面
する湾曲面３２１と側壁３０４の内面に当接する平坦面
３２２との間にて電極３０２の表面に設けられた遷移領
域３１２に近接した位置に位置するよう、キャビティ３
１４内に配置されている。湾曲面３２１と平坦面３２２
とが接続されている遷移領域３１２は稜線をなしてはお
らず、少なくとも０．００３インチ（０．０７６mm）の
半径にて丸く形成されている。電極３１０は、その最上
部が実質的に電極３０２の遷移領域３１２と同一の高さ
に位置し且電極３１０と電極３０２との間の最短距離を
郭定する線が側壁３０４のみではなくレーザキャビティ
３２０の少なくとも一部を通過するよう、垂直軸線３５
０に平行に配置されている。電極３１０は電極３０２よ
りかくして隔置されているので、最短距離の部分、即ち
最も強力な電場はその電気入力線の全長が側壁３０４内
には存在せず（最も強力な電場がその電気力線の全長に
て側壁３０４内に存在すると、側壁３０４を構成する材
料の破損が助長される）、炭酸ガス媒体にて充填された
領域（レーザキャビティ３２０）内にその一部が存在し
ている。湾曲面３２１が側壁３０４に出合う隅部に形成
された強力な電場により、側壁３０４を構成する材料よ
り電子が引き離され、側壁３０４の表面に沿って電極３
０１へ向けて下方へ移動するコロナ放電が形成され、こ
れにより紫外線放射線が発生される。かくして発生され
た紫外線放射線は領域３２０内を通過し、炭酸ガスをプ
レイオン化させる。
第４図は本発明によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置の一つ
の実施例を示す分解斜視図である。図に於て部材４０２
はレーザキャビティの本体の側壁及び端壁を構成してお
り、レーザキャビティはレンズ４２０、孔４０４、メイ
ンキャビティ、孔４０５、レンズ４２２を通過する軸線
４００に沿って延在している。レンズ４２０及び４２２
は高い振動を受ける環境に於ても互いに整合した状態に
維持されるよう、孔４０４及び４０５に気密的に接着さ
れている。レーザキャビティの本体４０２の両端面は、
レンズ４２０及び４２２に整合するよう従来の機械加工
法により平行且平滑に形成されている。本体４０２の一
方の側壁３０４には電極３１０を保持するキャビティ３
１４が形成されている。電極３１０は図には示されてい
ない従来の固定手段により整合状態に保持されている。
また本体４０２の最上部及び最下部はカバー３３２及び
３３４によって覆われており、カバー３３２及び３３４
はガラス粉接着法又は他の気密シール法により接合され
ている。電極３０１及び３０２は第４図の線３−３によ
る断面を示す第３図に示されている如く、それぞれ対応
するカバーに取付けられている。
の実施例を示す分解斜視図である。図に於て部材４０２
はレーザキャビティの本体の側壁及び端壁を構成してお
り、レーザキャビティはレンズ４２０、孔４０４、メイ
ンキャビティ、孔４０５、レンズ４２２を通過する軸線
４００に沿って延在している。レンズ４２０及び４２２
は高い振動を受ける環境に於ても互いに整合した状態に
維持されるよう、孔４０４及び４０５に気密的に接着さ
れている。レーザキャビティの本体４０２の両端面は、
レンズ４２０及び４２２に整合するよう従来の機械加工
法により平行且平滑に形成されている。本体４０２の一
方の側壁３０４には電極３１０を保持するキャビティ３
１４が形成されている。電極３１０は図には示されてい
ない従来の固定手段により整合状態に保持されている。
また本体４０２の最上部及び最下部はカバー３３２及び
３３４によって覆われており、カバー３３２及び３３４
はガラス粉接着法又は他の気密シール法により接合され
ている。電極３０１及び３０２は第４図の線３−３によ
る断面を示す第３図に示されている如く、それぞれ対応
するカバーに取付けられている。
本発明の有利な特徴は、第４図に示された本体４０２は
その最上部及び最下部に於けるカバー３３２及び３３４
とレンズ４２０及び４２２との間に於ける四つのシール
しか有していないということである。もし必要ならば、
熱間静水圧プレス又はこれと同様の方法により本体を成
形し、これにより応力を受ける側の電極（陽極）の近傍
に於ける接合部を排除することにより、その側のカバー
との間のシールが排除されてよい。本発明の他の一つの
有利な特徴は、種々の熱的性質を有する複数の材料が使
用されている従来技術によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置
と異り、レーザキャビティを郭定する本体には一種類の
材料しか使用されていないということである。本発明の
更に他の一つの有利な特徴は、電極３０２と電極３１０
との間の直線距離が所要の強力な電場を発生すべく必然
的に短くされているにも拘らず、レーザキャビティの外
部にて電極３０２のコネクタと電極３１０のコネクタ又
はそれらの表面との間を結ぶ経路が極めて長く、従って
従来技術に於けるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置の主要な問
題点が解消されているということである。
その最上部及び最下部に於けるカバー３３２及び３３４
とレンズ４２０及び４２２との間に於ける四つのシール
しか有していないということである。もし必要ならば、
熱間静水圧プレス又はこれと同様の方法により本体を成
形し、これにより応力を受ける側の電極（陽極）の近傍
に於ける接合部を排除することにより、その側のカバー
との間のシールが排除されてよい。本発明の他の一つの
有利な特徴は、種々の熱的性質を有する複数の材料が使
用されている従来技術によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置
と異り、レーザキャビティを郭定する本体には一種類の
材料しか使用されていないということである。本発明の
更に他の一つの有利な特徴は、電極３０２と電極３１０
との間の直線距離が所要の強力な電場を発生すべく必然
的に短くされているにも拘らず、レーザキャビティの外
部にて電極３０２のコネクタと電極３１０のコネクタ又
はそれらの表面との間を結ぶ経路が極めて長く、従って
従来技術に於けるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置の主要な問
題点が解消されているということである。
第１図及び第２図は従来技術に於けるレーザキャビティ
を示す解図である。第１図のレーザキャビティは部材１
８、１７、１９、５により構成されており、それらのう
ちの二つは真鍮であり、他の二つはガラスであり、これ
ら非類似の材料間には四つの接合部が存在する。この従
来技術によるレーザキャビティの他の一つの問題点は、
接地電極３１と真鍮部材18（陽極２と電気的に接触して
いる）との間にける直線経路が短いということである。
かかる従来技術によるレーザキャビティに於ては、キャ
ビティ外部の電極と陽極との間に多数の短絡回路が生じ
てしまうという問題があった。第２図に於て陽極２及び
陰極３に電気的に接触する電極１１８及び１１９は絶縁
媒体１０５により僅かに分離された状態にて長い距離に
亙って延在している。従来技術によれば、かかる構成に
よって非常に迅速な上昇時間（約１５ナノセカンド）を
達成するよう設計された集積型実験装置であるＭarx 発
生器の上昇時間がインダクタンスが小さいことによって
非常に小さくされ、このことは従来技術による装置の一
つの特徴をなしている。
を示す解図である。第１図のレーザキャビティは部材１
８、１７、１９、５により構成されており、それらのう
ちの二つは真鍮であり、他の二つはガラスであり、これ
ら非類似の材料間には四つの接合部が存在する。この従
来技術によるレーザキャビティの他の一つの問題点は、
接地電極３１と真鍮部材18（陽極２と電気的に接触して
いる）との間にける直線経路が短いということである。
かかる従来技術によるレーザキャビティに於ては、キャ
ビティ外部の電極と陽極との間に多数の短絡回路が生じ
てしまうという問題があった。第２図に於て陽極２及び
陰極３に電気的に接触する電極１１８及び１１９は絶縁
媒体１０５により僅かに分離された状態にて長い距離に
亙って延在している。従来技術によれば、かかる構成に
よって非常に迅速な上昇時間（約１５ナノセカンド）を
達成するよう設計された集積型実験装置であるＭarx 発
生器の上昇時間がインダクタンスが小さいことによって
非常に小さくされ、このことは従来技術による装置の一
つの特徴をなしている。
本発明は、同じくコロナ放電という物理的原理を応用し
て振動及び熱膨張の悪条件を許容し且電気的パラメータ
の変化に敏感でないように設計された携帯可能な現場用
装置を開発したものである。本発明によるレーザ装置は
３０ナノセカンド以上の電圧パルス上昇時間を有してお
り、また１cmの電極間隔に対し１８ kＶ以上のパルス電
圧を有している。
て振動及び熱膨張の悪条件を許容し且電気的パラメータ
の変化に敏感でないように設計された携帯可能な現場用
装置を開発したものである。本発明によるレーザ装置は
３０ナノセカンド以上の電圧パルス上昇時間を有してお
り、また１cmの電極間隔に対し１８ kＶ以上のパルス電
圧を有している。
本発明によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置の一つの修正例
は、図には示されていないが、プレイオン化をより一様
に行ない且これに付随してより信頼性の高い作動を確保
すべく、側壁３０６内に電極３１０と同様の第二の電極
を有している。本発明によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置
の他の一つの実施例は、同じく図には示されていない
が、単一のユニットを構成すべく端壁とカバー３３２及
び３３４とが一体的に構成されている。本発明によるＴ
ＥＡ炭酸ガスレーザ装置の更に他の一つ実施例に於て
は、同じく図には示されていないが、単一のユニットが
構成すべく側壁３０４及び３０６とカバー３３２及び３
３４とが一体的に構成されている。
は、図には示されていないが、プレイオン化をより一様
に行ない且これに付随してより信頼性の高い作動を確保
すべく、側壁３０６内に電極３１０と同様の第二の電極
を有している。本発明によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置
の他の一つの実施例は、同じく図には示されていない
が、単一のユニットを構成すべく端壁とカバー３３２及
び３３４とが一体的に構成されている。本発明によるＴ
ＥＡ炭酸ガスレーザ装置の更に他の一つ実施例に於て
は、同じく図には示されていないが、単一のユニットが
構成すべく側壁３０４及び３０６とカバー３３２及び３
３４とが一体的に構成されている。
以上に於ては本発明を特定の実施例について詳細に説明
したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
なく、本発明の範囲内にて種々の実施例が可能であるこ
とは当業者にとって明らかであろう。
したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
なく、本発明の範囲内にて種々の実施例が可能であるこ
とは当業者にとって明らかであろう。
第１図は従来技術によるレーザキャビティを示す縦断面
図である。 第２図は従来技術によるレーザキャビティの他の一つの
例を示す第１図と同様の縦断面図である。 第３図は本発明によるレーザキャビティを示す縦断面図
である。 第４図は本発明によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置を示す
分解斜視図である。 ２……陽極，３……陰極，５、１７……ガラス製部材，
１８、１９……真鍮製部材，３１……接地電極，１０５
……絶縁媒体，１１８、１１９……電極，３０１、３０
２……電極，３０４、３０６……側壁，３０７、３０８
……接続部材，３０９……接合部，３１０……電極，３
１１……接合部，３１２……遷移領域，３１４……キャ
ビティ，３２０……レーザキャビティ，３２１……湾曲
面，３２２…平坦面，３３２、３３４……カバー，３５
０、３５１……垂直軸線，４００……軸線，４０２……
本体，４０４、４０５……孔、４２０、４２２……レン
ズ
図である。 第２図は従来技術によるレーザキャビティの他の一つの
例を示す第１図と同様の縦断面図である。 第３図は本発明によるレーザキャビティを示す縦断面図
である。 第４図は本発明によるＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置を示す
分解斜視図である。 ２……陽極，３……陰極，５、１７……ガラス製部材，
１８、１９……真鍮製部材，３１……接地電極，１０５
……絶縁媒体，１１８、１１９……電極，３０１、３０
２……電極，３０４、３０６……側壁，３０７、３０８
……接続部材，３０９……接合部，３１０……電極，３
１１……接合部，３１２……遷移領域，３１４……キャ
ビティ，３２０……レーザキャビティ，３２１……湾曲
面，３２２…平坦面，３３２、３３４……カバー，３５
０、３５１……垂直軸線，４００……軸線，４０２……
本体，４０４、４０５……孔、４２０、４２２……レン
ズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 7454−4Ｍ Ｈ０１Ｓ 3/223 Ｚ
Claims (1)
- 【請求項１】光軸線に垂直な第一及び第二の端壁と、光
軸線に平行な第一及び第二の側壁と、光軸線に平行で且
前記第一及び第二の側壁に垂直な頂壁及び底壁によって
密閉シールされたレーザキャビティ内に炭酸ガスレーザ
利得媒体が封入され、該炭酸ガスレーザ利得媒体の光学
的放射線を前記レーザキャビティ内にて共振させるＴＥ
Ａ炭酸ガスレーザ装置にして、 前記頂壁及び底壁の各々の内面上に光軸線に平行に陽極
電極と陰極電極とが配置され、前記陽極電極は前記陰極
電極に面する湾曲面と前記側壁の少なくとも一方に当接
する平坦面とを有し、前記湾曲及び前記平坦面は少なく
とも０．００３インチ（０．０７６mm）の曲率半径を有
する遷移領域によって互いに接続されており、更に低イ
ンダクタンス線によって前記陰極電極に電気的に接続さ
れた少なくとも一つの副電極を有し、前記副電極は前記
一方の側壁にその内面より外方に隔置されて装着されて
おり、前記陽極電極と前記副電極との間の最短距離線が
前記側壁と前記陽極電極の前記遷移領域との間に郭定さ
れた漸増ギャップ及び前記側壁を形成する絶縁材料層を
貫通するように前記副電極の前記陽極電極に近接する端
部の垂直方向位置が定められており、 更に前記陽極電極と前記陰極電極の間にパルス状の高電
圧を印加する手段が設けられ、前記高電圧は少なくとも
３０ナノ秒の上昇時間と少なくとも１８kV/cm の電場が
前記陽極電極と前記陰極電極との間に形成されるピーク
電圧値とを有し、これによって前記陽極電極と前記副電
極との間にコロナ放電が生じ、前記コロナ放電によって
前記炭酸ガスレーザ利得媒体がプレイオン化されるよう
に構成されたＴＥＡ炭酸ガスレーザ装置。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| US25628281A | 1981-04-23 | 1981-04-23 | |
| US256282 | 1981-04-23 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57181180A JPS57181180A (en) | 1982-11-08 |
| JPH0624269B2 true JPH0624269B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=22971652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57064615A Expired - Lifetime JPH0624269B2 (ja) | 1981-04-23 | 1982-04-16 | Ｔｅａ炭酸ガスレーザ装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
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| DE (1) | DE3212705A1 (ja) |
| FR (1) | FR2504744B1 (ja) |
| GB (1) | GB2098791B (ja) |
| IL (1) | IL65584A0 (ja) |
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-
1982
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- 1982-04-22 CH CH2433/82A patent/CH658754A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-04-22 IL IL65584A patent/IL65584A0/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
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