JPH0623869B2 - 高速ゼロプリンテイング用の改良された静電マスタ - Google Patents
高速ゼロプリンテイング用の改良された静電マスタInfo
- Publication number
- JPH0623869B2 JPH0623869B2 JP1320744A JP32074489A JPH0623869B2 JP H0623869 B2 JPH0623869 B2 JP H0623869B2 JP 1320744 A JP1320744 A JP 1320744A JP 32074489 A JP32074489 A JP 32074489A JP H0623869 B2 JPH0623869 B2 JP H0623869B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- electrostatic
- thiourea
- toner
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 25
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 21
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N ethionamide Chemical compound CCC1=CC(C(N)=S)=CC=N1 AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 7
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 6
- -1 2,4,5-triphenylimidazolyl Chemical class 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 20
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 10
- MKCQPZUQENGUHZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1H-imidazol-2-yl)-1,2,3,4,4,5-hexakis-phenylimidazolidine Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1C(N(C(N1C1=CC=CC=C1)(C=1NC=CN1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 MKCQPZUQENGUHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 1H-imidazole Chemical compound C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N N,N'-dibutylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)NCCCC KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 6
- GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N N-ethylthiourea Chemical compound CCNC(N)=S GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 5
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 4
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 4
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 4
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- IJUDUPSHUGIGMT-IHWYPQMZSA-N (z)-3-aminobut-2-enethioamide Chemical compound C\C(N)=C\C(N)=S IJUDUPSHUGIGMT-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 3
- NVHNGVXBCWYLFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazinane-2-thione Chemical compound S=C1NCCCN1 NVHNGVXBCWYLFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AKYYGBUVZFGJNI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-3-(2-morpholin-4-ylethyl)thiourea Chemical group C1CCCCC1NC(=S)NCCN1CCOCC1 AKYYGBUVZFGJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QXVYTPLRWBDUNZ-UHFFFAOYSA-N 1-imidazol-1-ylimidazole Chemical compound C1=NC=CN1N1C=NC=C1 QXVYTPLRWBDUNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- PZZRSEUDGCFXIH-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-4,5-dihydro-1h-imidazol-1-ium;iodide Chemical compound I.CSC1=NCCN1 PZZRSEUDGCFXIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRDUGPXMIHNZDN-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylsulfanylpyridin-4-amine Chemical compound CC(C)(C)SC1=CN=CC=C1N QRDUGPXMIHNZDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical class [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical class 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Chemical class 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000003556 thioamides Chemical class 0.000 description 2
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQXNNJHMWSZHK-UHFFFAOYSA-L 1,3,2,4$l^{2}-dioxathiaplumbetane 2,2-dioxide Chemical compound [Pb+2].[O-]S([O-])(=O)=O KEQXNNJHMWSZHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=CC=C2C DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-7-propan-2-ylphenanthrene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(C)C)C=C3C(=O)C(=O)C2=C1C WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1 SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(=O)C(C)=C JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWSZDQRGNFLMJS-UHFFFAOYSA-N 2-(dibutylamino)ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCCC IWSZDQRGNFLMJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-octanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCCCC YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWKXKNCCQLNZDB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-propanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CC AWKXKNCCQLNZDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSKNCQWPZQCABD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-heptanoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)CCCCCC SSKNCQWPZQCABD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKHQIABCPCWNJ-UHFFFAOYSA-N 3-[bis[5-(diethylamino)-2-methylphenyl]methyl]-n,n-diethyl-4-methylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C)C(C(C=2C(=CC=C(C=2)N(CC)CC)C)C=2C(=CC=C(C=2)N(CC)CC)C)=C1 BVKHQIABCPCWNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVHGQWZMRWAHNJ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-3-phenylchromen-2-one Chemical compound O=C1OC=2C=CC=CC=2C(N)=C1C1=CC=CC=C1 NVHGQWZMRWAHNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 7,8,9,10-tetrahydrotetracene-1,2-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C=C1C=C3C=CC(=O)C(=O)C3=CC1=C2 RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N Diethyl adipate Chemical compound CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000549343 Myadestes Species 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 241000555745 Sciuridae Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol bis(2-ethylhexanoate) Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(CC)CCCC FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanedioic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCC(O)=O IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- AFVAAKZXFPQYEJ-UHFFFAOYSA-N anthracene-9,10-dione;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 AFVAAKZXFPQYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002540 isothiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000002813 thiocarbonyl group Chemical group *C(*)=S 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/026—Layers in which during the irradiation a chemical reaction occurs whereby electrically conductive patterns are formed in the layers, e.g. for chemixerography
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S524/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S524/91—Antistatic compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の技術分野 本発明は改良された静電マスタに関し、さらに詳しくは
静電減衰用添加剤(electrostatic decay additive)のチ
オ尿素またはチオアミドを含んだ、光重合可能な表面を
有する静電マスタに関するものである。
静電減衰用添加剤(electrostatic decay additive)のチ
オ尿素またはチオアミドを含んだ、光重合可能な表面を
有する静電マスタに関するものである。
発明の背景 一般に「マスタ」と呼ばれているプリント板を使用する
ゼロプリンテイング法では、接地されている電導性基体
の表面上に、絶縁性材料のパターン(すなわち画像)を
作ることにより行われる。ゼロプリンテイング法におい
て、このマスタは静電電場にさらされ(例えばコロナ放
電により)、マスタの表面上に静電的電荷が付与され
る。絶縁性材料があるマスタの部分は電荷を保持する
が、これに反してマスタの他の部分では接地された電導
性基体を通じて放電されてしまう。このようにして、絶
縁性材料上には静電電荷の潜像が形成され、この像はつ
ぎに「トナー」と呼ばれている反対電荷の粒子によって
現像される。このトナーはついで別の表面(例えば紙ま
たはポリマフイルム)に転写(例えば静電的またはその
他の手段により)され、そこでマスタの画像を再現させ
るために溶融(つまり定着)される。マスタ上の画像は
永久的または少なくとも永続性のものであるから、この
帯電、トーニングおよび転写の工程を繰り返すことによ
り多くのコピーを作ることができる。
ゼロプリンテイング法では、接地されている電導性基体
の表面上に、絶縁性材料のパターン(すなわち画像)を
作ることにより行われる。ゼロプリンテイング法におい
て、このマスタは静電電場にさらされ(例えばコロナ放
電により)、マスタの表面上に静電的電荷が付与され
る。絶縁性材料があるマスタの部分は電荷を保持する
が、これに反してマスタの他の部分では接地された電導
性基体を通じて放電されてしまう。このようにして、絶
縁性材料上には静電電荷の潜像が形成され、この像はつ
ぎに「トナー」と呼ばれている反対電荷の粒子によって
現像される。このトナーはついで別の表面(例えば紙ま
たはポリマフイルム)に転写(例えば静電的またはその
他の手段により)され、そこでマスタの画像を再現させ
るために溶融(つまり定着)される。マスタ上の画像は
永久的または少なくとも永続性のものであるから、この
帯電、トーニングおよび転写の工程を繰り返すことによ
り多くのコピーを作ることができる。
最近発行されたライゼンフエルド氏他の米国特許第4,73
2,831号では、電導性の基体上に光重合性の被膜をもつ
マスタを用いる、改良されたゼロプリンテイング法を述
べている。この被膜は有機ポリマバインダ、エチレン性
不飽和モノマ、および光開始剤系を含んでいる。このマ
スタが活性放射線(つまり適当な波長の光)で画像状に
露光されるとき、被膜の露光をされた区域は重合し、そ
して未露光の区域より著るしく高い電気抵抗値を呈す
る。そこで、このマスタをゼロプリンテイング法で用い
るとき、重合をした区域は電荷を保持するようになりト
ナーによって現像されるが、これに反して未重合の区域
では電導性の下地を通じて接地側に放電し、そのためト
ナーを引き付けない。
2,831号では、電導性の基体上に光重合性の被膜をもつ
マスタを用いる、改良されたゼロプリンテイング法を述
べている。この被膜は有機ポリマバインダ、エチレン性
不飽和モノマ、および光開始剤系を含んでいる。このマ
スタが活性放射線(つまり適当な波長の光)で画像状に
露光されるとき、被膜の露光をされた区域は重合し、そ
して未露光の区域より著るしく高い電気抵抗値を呈す
る。そこで、このマスタをゼロプリンテイング法で用い
るとき、重合をした区域は電荷を保持するようになりト
ナーによって現像されるが、これに反して未重合の区域
では電導性の下地を通じて接地側に放電し、そのためト
ナーを引き付けない。
米国特許第4,732,831号の静電マスタは、マスタ上に画
像を創造し、そしてゼロプリンテイング法でマスタとし
て使用するまでの間に、現像工程を必要としないという
従来技術以上の多くの利点を与えるものである。このマ
スタは各種の応用に好適ではあるけれども、マスタを帯
電とトーニングの両位置を通して急速に進めさせる、高
速ゼロプリンテイング法のマスタとして使用するために
は、未重合区域の減衰速度が充分に速やかではない。こ
のような方法においては、マスタの接地されている区域
の電荷は、コロナ放電に当てた後2秒またはそれ以下の
時間内に、トナーを引き付けないレベルにまで減衰する
のが望ましい。そうでないと、トナーは放電が不充分な
マスタの区域に付着し、コピーの品質に好ましくない影
響を与える。そこで、高速ゼロプリンテイング法に特に
適した改良されたマスタが必要である。
像を創造し、そしてゼロプリンテイング法でマスタとし
て使用するまでの間に、現像工程を必要としないという
従来技術以上の多くの利点を与えるものである。このマ
スタは各種の応用に好適ではあるけれども、マスタを帯
電とトーニングの両位置を通して急速に進めさせる、高
速ゼロプリンテイング法のマスタとして使用するために
は、未重合区域の減衰速度が充分に速やかではない。こ
のような方法においては、マスタの接地されている区域
の電荷は、コロナ放電に当てた後2秒またはそれ以下の
時間内に、トナーを引き付けないレベルにまで減衰する
のが望ましい。そうでないと、トナーは放電が不充分な
マスタの区域に付着し、コピーの品質に好ましくない影
響を与える。そこで、高速ゼロプリンテイング法に特に
適した改良されたマスタが必要である。
発明の要点 エチレン性の不飽和モノマ、有機ポリマバインダ、およ
び光開始剤を含む光硬化性組成物に対するチオ尿素また
はチオアミドの添加は、重合しなかったフオトポリマの
区域の静電減衰速度を高め、これにより高速ゼロプリン
テイング法を達成しうることが認められた。しかしなが
ら、チオ尿素またはチオアミドの添加は、光硬化性組成
物の重合した区域に、不都合な放電を起させることはな
い。そこで、組成物の重合した区域は、ゼロプリンテイ
ング法に有用である充分な期間静電電荷を保持する。そ
れ故、本発明はエチレン性不飽和モノマ、有機ポリマバ
インダ、光開始剤、およびチオ尿素またはチオアミド静
電減衰用添加剤を含む、光硬化性組成物を担持した電導
性基体をもつ、改良された静電マスタを提供する。好ま
しく、この減衰用添加剤の分量は、帯電後2秒で5ボル
トまたはそれ以下に未重合区域の表面電圧を低下させる
ために充分であるような量である。
び光開始剤を含む光硬化性組成物に対するチオ尿素また
はチオアミドの添加は、重合しなかったフオトポリマの
区域の静電減衰速度を高め、これにより高速ゼロプリン
テイング法を達成しうることが認められた。しかしなが
ら、チオ尿素またはチオアミドの添加は、光硬化性組成
物の重合した区域に、不都合な放電を起させることはな
い。そこで、組成物の重合した区域は、ゼロプリンテイ
ング法に有用である充分な期間静電電荷を保持する。そ
れ故、本発明はエチレン性不飽和モノマ、有機ポリマバ
インダ、光開始剤、およびチオ尿素またはチオアミド静
電減衰用添加剤を含む、光硬化性組成物を担持した電導
性基体をもつ、改良された静電マスタを提供する。好ま
しく、この減衰用添加剤の分量は、帯電後2秒で5ボル
トまたはそれ以下に未重合区域の表面電圧を低下させる
ために充分であるような量である。
具体的の説明 本発明の実用化に際して、都合よく使用できる光重合性
組成物はエチレン性の不飽和モノマ、有機ポリマバイン
ダ、光開始剤系、およびチオ尿素またはチオアミド静電
減衰用添加剤を含んでいる。
組成物はエチレン性の不飽和モノマ、有機ポリマバイン
ダ、光開始剤系、およびチオ尿素またはチオアミド静電
減衰用添加剤を含んでいる。
モノマ類 ここで用いられている「モノマ」の用語には、単純なモ
ノマと共に、クロスリンクまたは付加重合をし得るエチ
レン基をもつ、通常1500以下の分子量のポリマも含まれ
るものである。後述する、ヘキサフエニルビイミダゾー
ル(HABI)開始剤とともに使用するための、従来公知のエ
チレン性不飽和の光重合しうるまたは光架橋化しうる化
合物は、何でも好都合に使用できる。
ノマと共に、クロスリンクまたは付加重合をし得るエチ
レン基をもつ、通常1500以下の分子量のポリマも含まれ
るものである。後述する、ヘキサフエニルビイミダゾー
ル(HABI)開始剤とともに使用するための、従来公知のエ
チレン性不飽和の光重合しうるまたは光架橋化しうる化
合物は、何でも好都合に使用できる。
好ましいモノマ類にはエチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレ
ート、グリセロールトリアクリレート、エチレングリコ
ールジメタアクリレート、1,2−プロパンジオールジメ
タアクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリメタア
クリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレ
ート、1,4−ベンゼンジオールジメタアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラメタアクリレート、1,3−プロパンジオールジアク
リレート、1,5−ペンタンジオールジメタアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、分子量
100〜500のポリエチレングリコールのビスアクリレート
およびビスメタアクリレートなどのようなジ−、トリ−
およびテトラアクリレート類とテトラメタアクリレート
類が含まれる。一般に、選ばれるモノマは105〜109オー
ム・cmの範囲の抵抗値をもつであろう。モノマから形成
されるポリマの電導性が余りにも高いならば、電荷はト
ーニングと転写工程とを達成するには余りにも速やか
に、マスタの露光をされた区域から消失することになる
だろう。
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレ
ート、グリセロールトリアクリレート、エチレングリコ
ールジメタアクリレート、1,2−プロパンジオールジメ
タアクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリメタア
クリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレ
ート、1,4−ベンゼンジオールジメタアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラメタアクリレート、1,3−プロパンジオールジアク
リレート、1,5−ペンタンジオールジメタアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、分子量
100〜500のポリエチレングリコールのビスアクリレート
およびビスメタアクリレートなどのようなジ−、トリ−
およびテトラアクリレート類とテトラメタアクリレート
類が含まれる。一般に、選ばれるモノマは105〜109オー
ム・cmの範囲の抵抗値をもつであろう。モノマから形成
されるポリマの電導性が余りにも高いならば、電荷はト
ーニングと転写工程とを達成するには余りにも速やか
に、マスタの露光をされた区域から消失することになる
だろう。
バインダ類 バインダはモノマ、光開始剤系、および静電減衰用添加
剤などを「保持」するためのベヒクルとしての役目を
し、電荷が未露光の区域におけるよりも、露光区域にお
いてずっとゆっくりと減衰するような、充分に高い抵抗
値をもたねばならない。他方バインダの抵抗値が余りに
も高すぎると、露光された区域の放電速度がおそくなり
すぎ、べた部分のトーニング過剰と網点のオーバフリリ
ングとをひき起こすことになる。また、未露光区域もゆ
っくりと放電することになり、多数枚コピーをプリント
できる速度が低下してしまう。一般には、1014〜1020オ
ーム・cmの範囲の抵抗値をもつバインダが選択される。
この範囲の上限における抵抗値(例えば1018〜1020オー
ム・cm)は露光された区域における高い初期電荷とおそ
い減衰速度とを許容する。しかしながら、より低い抵抗
値をもつ(例えば1014〜1016オーム・cm)バインダが改
良された画質を達成することが認められた。
剤などを「保持」するためのベヒクルとしての役目を
し、電荷が未露光の区域におけるよりも、露光区域にお
いてずっとゆっくりと減衰するような、充分に高い抵抗
値をもたねばならない。他方バインダの抵抗値が余りに
も高すぎると、露光された区域の放電速度がおそくなり
すぎ、べた部分のトーニング過剰と網点のオーバフリリ
ングとをひき起こすことになる。また、未露光区域もゆ
っくりと放電することになり、多数枚コピーをプリント
できる速度が低下してしまう。一般には、1014〜1020オ
ーム・cmの範囲の抵抗値をもつバインダが選択される。
この範囲の上限における抵抗値(例えば1018〜1020オー
ム・cm)は露光された区域における高い初期電荷とおそ
い減衰速度とを許容する。しかしながら、より低い抵抗
値をもつ(例えば1014〜1016オーム・cm)バインダが改
良された画質を達成することが認められた。
適当なバインダにはそのコポリマを含む重合したメチル
メタアクリレート樹脂類、ポリビニルアセタールとポリ
ビニルホルマールのようなポリビニルアセタール類、塩
化ビニリデンコポリマ類(例えば、塩化ビニリデン/ア
クリロニトリル、塩化ビニリデン/メタアクリレートお
よび塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマ類)、合成ゴ
ム類(例えば、ブタジエン/アクリロニトリルコポリマ
類およびクロロ−2−ブタジエン−1,3−ポリマ)、セ
ルローズエステル類(例えば、セルローズアセテート、
セルローズアセテートサクシネートおよびセルローズア
セテートブチレート)、ポリビニルエステル類(例え
ば、ポリビニルアセテート/アクリレート、ポリビニル
アセテート/メタアクリレートおよびポリビニルアセテ
ート)、ポリビニルクロライドとコポリマ類(例えばポ
リビニルクロライド/アセテート)、ポリウレタン類、
ポリスチレンおよびスチレン/メチルメタアクリレート
コポリマ類などが含まれる。好ましいバインダはポリ
(スチレン/メチルメタアクリレート)およびポリ(メ
チルメタアクリレート)である。
メタアクリレート樹脂類、ポリビニルアセタールとポリ
ビニルホルマールのようなポリビニルアセタール類、塩
化ビニリデンコポリマ類(例えば、塩化ビニリデン/ア
クリロニトリル、塩化ビニリデン/メタアクリレートお
よび塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマ類)、合成ゴ
ム類(例えば、ブタジエン/アクリロニトリルコポリマ
類およびクロロ−2−ブタジエン−1,3−ポリマ)、セ
ルローズエステル類(例えば、セルローズアセテート、
セルローズアセテートサクシネートおよびセルローズア
セテートブチレート)、ポリビニルエステル類(例え
ば、ポリビニルアセテート/アクリレート、ポリビニル
アセテート/メタアクリレートおよびポリビニルアセテ
ート)、ポリビニルクロライドとコポリマ類(例えばポ
リビニルクロライド/アセテート)、ポリウレタン類、
ポリスチレンおよびスチレン/メチルメタアクリレート
コポリマ類などが含まれる。好ましいバインダはポリ
(スチレン/メチルメタアクリレート)およびポリ(メ
チルメタアクリレート)である。
開始剤系 本発明の実施に際し、多数のフリーラジカル発生化合物
が使用できる。好ましい開始剤系は水素供与体といっし
ょの2,4,5−トリフエニルイミダゾリルダイマ類、また
2,2′,4,4′,5,5′−ヘキサアリルビイミダゾール類、
またはHABIおよびその混合物として知られているもので
あり、これは活性放射線に対する露光に際して、対応す
るトリアリルイミダゾリルフリーラジカルを形成するよ
うに解離する。HABIで開始される光重合性系の利用は従
来技術で良く知られており、多くの特許の中でこれまで
に説明されている。これらにはチヤンバース氏の米国特
許第3,479,185号;チヤング氏他の米国特許第3,549,367
号;バウム氏とヘンリ氏の米国特許第3,652,275号;セ
スコン氏の米国特許第3,784,557号;デユーベール氏の
米国特許第4,162,162号;デサウエル氏の米国特許第4,2
42,887号;チヤンバーズ氏他の米国特許第4,264,708
号;およびタナカ氏他の米国特許第4,459,349号などで
ある。有用な2,4,5−トリアリールイミダゾリルダイマ
類は、バウム氏とヘンリ氏の米国特許第3,652,275号の
第5欄、第44行〜第7欄、第16行で述べられたものであ
る。公知特許中で述べられた2−o−置換HABIは、どれ
も本発明で用いることができる。好ましいHABIは2−o
−クロロ置換ヘキサフエニルビイミダゾール類であり、
そのフエニル基上の他の位置は未置換であるかまたはク
ロロ、メチルあるいはメトキシで置換されている。もっ
とも好ましい開始剤にはCDM-HABI、すなわち2(o−ク
ロロフエニル)−4,5−ビス(m−メトキシフエニル)
イミダゾールダイマ;o-C−HABI、すなわち1,1′−ビ
イミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフエニル)−
4,4′,5,5′−テトラフエニル;およびTCTM-HABI、すな
わち1H−イミダゾール、2,5−ビス(o−クロロフエニ
ル)−4−〔3,4−ジメトキシフエニル〕−、ダイマな
どが含まれ、この各々は水素供与体または連鎖転移剤と
ともに使用される。
が使用できる。好ましい開始剤系は水素供与体といっし
ょの2,4,5−トリフエニルイミダゾリルダイマ類、また
2,2′,4,4′,5,5′−ヘキサアリルビイミダゾール類、
またはHABIおよびその混合物として知られているもので
あり、これは活性放射線に対する露光に際して、対応す
るトリアリルイミダゾリルフリーラジカルを形成するよ
うに解離する。HABIで開始される光重合性系の利用は従
来技術で良く知られており、多くの特許の中でこれまで
に説明されている。これらにはチヤンバース氏の米国特
許第3,479,185号;チヤング氏他の米国特許第3,549,367
号;バウム氏とヘンリ氏の米国特許第3,652,275号;セ
スコン氏の米国特許第3,784,557号;デユーベール氏の
米国特許第4,162,162号;デサウエル氏の米国特許第4,2
42,887号;チヤンバーズ氏他の米国特許第4,264,708
号;およびタナカ氏他の米国特許第4,459,349号などで
ある。有用な2,4,5−トリアリールイミダゾリルダイマ
類は、バウム氏とヘンリ氏の米国特許第3,652,275号の
第5欄、第44行〜第7欄、第16行で述べられたものであ
る。公知特許中で述べられた2−o−置換HABIは、どれ
も本発明で用いることができる。好ましいHABIは2−o
−クロロ置換ヘキサフエニルビイミダゾール類であり、
そのフエニル基上の他の位置は未置換であるかまたはク
ロロ、メチルあるいはメトキシで置換されている。もっ
とも好ましい開始剤にはCDM-HABI、すなわち2(o−ク
ロロフエニル)−4,5−ビス(m−メトキシフエニル)
イミダゾールダイマ;o-C−HABI、すなわち1,1′−ビ
イミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフエニル)−
4,4′,5,5′−テトラフエニル;およびTCTM-HABI、すな
わち1H−イミダゾール、2,5−ビス(o−クロロフエニ
ル)−4−〔3,4−ジメトキシフエニル〕−、ダイマな
どが含まれ、この各々は水素供与体または連鎖転移剤と
ともに使用される。
この外の有用な光開始剤には置換または未置換の多核キ
ノン類、芳香族ケトン類、およびベンゾインエーテル類
などが含まれる。代表的なキノン類は9,10−アントラキ
ノン;1−クロロアントラキノン;2−クロロアントラ
キノン;2−メチルアントラキノン;2−エチルアント
ラキノン;2−t−ブチルアントラキノン;オクタメチ
ルアントラキノン;1,4−ナフトキノン;9,10−フエナ
ントレンキノン;1,2−ベンズアントラキノン;2,3−ベ
ンズアントラキノン;2−メチル−1,4−ナフトキノ
ン;2,3−ジクロロナフトキノン;1,4−ジメチルアント
ラキノン;2,3−ジメチルアントラキノン;2−フエニ
ルアントラキノン;2,3−ジフエニルアントラキノン;
アントラキノンα−スルホン酸ナトリウム;3−クロロ
−2−メチルアントラキノン;レテンキノン;7,8,9,10
−テトラヒドロナフタセンキノン;1,2,3,4−テトラヒ
ドロベンズ(ザ)アントラセン−7,12−ジオンなどであ
る。芳香族ケトン類には例えばベンゾフエノン、ミヒユ
ラ氏ケトン〔4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
エノン〕;4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエ
ノン;4−アシルオキシ−4′−ジエチルアミノベンゾ
フエノン;4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾ
フエノン;およびベンゾインメチルおよびエチルエーテ
ルのようなベンゾインエーテル類などが含まれる。米国
特許第2,760,863号中で述べられている光開始剤も選ぶ
ことができ、これらにはベンゾイン;ピバロインのよう
な近接ケトアルドニルアルコール類、α−メチルベンゾ
イン、α−アリルベンゾインおよびα−フエニルベンゾ
インを含むアシロインエーテル類とα−炭化水素置換芳
香族アシロイン類などを含んでいる。この他の有用な系
には、チヤング氏の米国特許第3,756,827号中で述べら
れたような、アミン類といっしょのアルフアジケトン
類、およびバルジンスキイ氏他の米国特許第4,113,593
号中で述べられたような、p−ジメチルアミノベンズア
ルデハイドまたはp−ジメチルアミノ安息香酸エステル
といっしょのベンゾフエノンが含まれる。
ノン類、芳香族ケトン類、およびベンゾインエーテル類
などが含まれる。代表的なキノン類は9,10−アントラキ
ノン;1−クロロアントラキノン;2−クロロアントラ
キノン;2−メチルアントラキノン;2−エチルアント
ラキノン;2−t−ブチルアントラキノン;オクタメチ
ルアントラキノン;1,4−ナフトキノン;9,10−フエナ
ントレンキノン;1,2−ベンズアントラキノン;2,3−ベ
ンズアントラキノン;2−メチル−1,4−ナフトキノ
ン;2,3−ジクロロナフトキノン;1,4−ジメチルアント
ラキノン;2,3−ジメチルアントラキノン;2−フエニ
ルアントラキノン;2,3−ジフエニルアントラキノン;
アントラキノンα−スルホン酸ナトリウム;3−クロロ
−2−メチルアントラキノン;レテンキノン;7,8,9,10
−テトラヒドロナフタセンキノン;1,2,3,4−テトラヒ
ドロベンズ(ザ)アントラセン−7,12−ジオンなどであ
る。芳香族ケトン類には例えばベンゾフエノン、ミヒユ
ラ氏ケトン〔4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
エノン〕;4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエ
ノン;4−アシルオキシ−4′−ジエチルアミノベンゾ
フエノン;4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾ
フエノン;およびベンゾインメチルおよびエチルエーテ
ルのようなベンゾインエーテル類などが含まれる。米国
特許第2,760,863号中で述べられている光開始剤も選ぶ
ことができ、これらにはベンゾイン;ピバロインのよう
な近接ケトアルドニルアルコール類、α−メチルベンゾ
イン、α−アリルベンゾインおよびα−フエニルベンゾ
インを含むアシロインエーテル類とα−炭化水素置換芳
香族アシロイン類などを含んでいる。この他の有用な系
には、チヤング氏の米国特許第3,756,827号中で述べら
れたような、アミン類といっしょのアルフアジケトン
類、およびバルジンスキイ氏他の米国特許第4,113,593
号中で述べられたような、p−ジメチルアミノベンズア
ルデハイドまたはp−ジメチルアミノ安息香酸エステル
といっしょのベンゾフエノンが含まれる。
レドツクス系、特に色素が含まれるもの(例えばローズ
ベンガル/2−ジブチルアミノエタノール)もまた有効
である。米国特許第2,850,445号;同第2,875,047号;同
第3,097,096号;同第3,074,974号;同第3,097,097号;
同第3,145,104号;および同第3,579,339号中で述べられ
たもののような還元剤類と光還元性の色素類、同じよう
にフエナジン、オキサジン、およびキノン系の色素類も
光重合を開始させるために使用することができる。使用
増感された光重合の有用な論説はD.F.イートン氏著「色
素増感された光重合」Adv.in Photochenistry,Vol.13,1
986,pp.427-487で知ることができる。
ベンガル/2−ジブチルアミノエタノール)もまた有効
である。米国特許第2,850,445号;同第2,875,047号;同
第3,097,096号;同第3,074,974号;同第3,097,097号;
同第3,145,104号;および同第3,579,339号中で述べられ
たもののような還元剤類と光還元性の色素類、同じよう
にフエナジン、オキサジン、およびキノン系の色素類も
光重合を開始させるために使用することができる。使用
増感された光重合の有用な論説はD.F.イートン氏著「色
素増感された光重合」Adv.in Photochenistry,Vol.13,1
986,pp.427-487で知ることができる。
静電減衰用添加剤 本発明により選ばれた静電減衰用添加剤はチオ尿素また
はチオアミド化合物類である。これらの化合物は、重合
しなかったマスタの部分の静電減衰速度を増加させ、そ
の上重合した部分は、ゼロプリンテイングサイクルのト
ーニングと転写工程とを通じて、電荷を保持しうるよう
にするため少量添加できるのが認められた。ごく少量だ
けがこの目的のために必要なのであるから、光重合性組
成物は後述するようなその他の添加物類を、静電マスタ
の特性に悪い影響を与えることなしに配合できる。
はチオアミド化合物類である。これらの化合物は、重合
しなかったマスタの部分の静電減衰速度を増加させ、そ
の上重合した部分は、ゼロプリンテイングサイクルのト
ーニングと転写工程とを通じて、電荷を保持しうるよう
にするため少量添加できるのが認められた。ごく少量だ
けがこの目的のために必要なのであるから、光重合性組
成物は後述するようなその他の添加物類を、静電マスタ
の特性に悪い影響を与えることなしに配合できる。
選択することのできる好ましいチオ尿素類は以下の一般
式を有するものである: ここでRは同じでもまたは異っていてもよく、水素また
は鎖中に6個までの炭素原子をもつアルキル;5〜7個
の炭素原子のシクロアルキル;またはアリルなどであ
る。アルキル、シクロアルキル、およびアリール基は置
換されていてもまたは未置換であっても良い。R置換基
がアルキルである代表的なチオ尿素類には1−アリル−
2−チオ尿素;1,3−ジブチル−2−チオ尿素;1−エ
チル−2−チオ尿素;グリオキザールジチオセミカルバ
ゾン;および3−アミノ−2−ブテンチオアミドなどが
含まれる。有効であると選ぶことのできる、シクロアル
キル置換基をもつ代表的なチオ尿素は、1−シクロヘキ
シル−3(2−モルホリノエチル)−2−チオ尿素であ
る。チオカルバアニライドとして知られているジフエニ
ルチオ尿素は、特に有用な有機置換基をもつチオ尿素で
ある。これらの各化合物は、従来から良く知られた方法
により容易に合成することができる。例えばチオ尿素類
を作る1つの方法は、アンモニアあるいは第1級または
第2級アミンのいずれかと、イソチオシアネートとの反
応によるものである。
式を有するものである: ここでRは同じでもまたは異っていてもよく、水素また
は鎖中に6個までの炭素原子をもつアルキル;5〜7個
の炭素原子のシクロアルキル;またはアリルなどであ
る。アルキル、シクロアルキル、およびアリール基は置
換されていてもまたは未置換であっても良い。R置換基
がアルキルである代表的なチオ尿素類には1−アリル−
2−チオ尿素;1,3−ジブチル−2−チオ尿素;1−エ
チル−2−チオ尿素;グリオキザールジチオセミカルバ
ゾン;および3−アミノ−2−ブテンチオアミドなどが
含まれる。有効であると選ぶことのできる、シクロアル
キル置換基をもつ代表的なチオ尿素は、1−シクロヘキ
シル−3(2−モルホリノエチル)−2−チオ尿素であ
る。チオカルバアニライドとして知られているジフエニ
ルチオ尿素は、特に有用な有機置換基をもつチオ尿素で
ある。これらの各化合物は、従来から良く知られた方法
により容易に合成することができる。例えばチオ尿素類
を作る1つの方法は、アンモニアあるいは第1級または
第2級アミンのいずれかと、イソチオシアネートとの反
応によるものである。
都合よく用いることのできるチオ尿素化合物類のいま1
つのものは、チオ尿素のアルキル化されたおよびアルキ
ル化されていないチオエノール類である。特に有用なチ
オ尿素のチオエノールは3,4,5,6−テトラヒドロピリミ
ジン−2−チオールである。2−メチルチオ−2−イミ
ダゾリンのヨウ化水素酸塩は選択できる代表的なもので
ある。
つのものは、チオ尿素のアルキル化されたおよびアルキ
ル化されていないチオエノール類である。特に有用なチ
オ尿素のチオエノールは3,4,5,6−テトラヒドロピリミ
ジン−2−チオールである。2−メチルチオ−2−イミ
ダゾリンのヨウ化水素酸塩は選択できる代表的なもので
ある。
選ばれうるチオアミド化合物は、1つの窒素原子だけが
チオカルボニル部に結合した点以外、前述のチオ尿素化
合物と類似の構造をもっている。そこでチオアミドは以
下の一般式を有している。
チオカルボニル部に結合した点以外、前述のチオ尿素化
合物と類似の構造をもっている。そこでチオアミドは以
下の一般式を有している。
ここでRは同じでも異っていても良く、チオ尿素類につ
いて前記した置換基である。特に有用なチオアミドは3
−アミノ−2−ブテンチオアミドである。
いて前記した置換基である。特に有用なチオアミドは3
−アミノ−2−ブテンチオアミドである。
その他の成分 光重合性組成物はまた安定剤、ハレーシヨン防止剤、光
学増白剤、剥離剤、界面活性剤、可塑剤、その他のよう
なフオトポリマ系で用いられる普通の添加剤を含むこと
ができる。チオ尿素およびチオアミド静電減衰用添加剤
の利点の1つは、これらが少量で効果的なことであり、
そこで添加剤が結晶化するようなことを起さずに、普通
の添加剤を加え得ることである。
学増白剤、剥離剤、界面活性剤、可塑剤、その他のよう
なフオトポリマ系で用いられる普通の添加剤を含むこと
ができる。チオ尿素およびチオアミド静電減衰用添加剤
の利点の1つは、これらが少量で効果的なことであり、
そこで添加剤が結晶化するようなことを起さずに、普通
の添加剤を加え得ることである。
例えば、光重合性組成物の保存の安定性を増大するため
に、普通熱重合抑制剤が存在させられる。有用な熱安定
剤にはハイドロキノン、フエニドン、p−メトキシフエ
ノール、アルキルおよびアリール置換ハイドロキノン類
とキノン類、t−ブチルカテコール、ピロガロール、銅
レジナート、ナフチルアミン、ベータナフトール、塩化
第1銅、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、フエ
ノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベン
ゼン、p−トルキノンおよびクロラニルなどが含まれ
る。パゾス氏の米国特許第4,168,982号中で述べられた
ジニトロソダイマもまた有用である。好ましい安定剤は
TAOBN、すなわち1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾビシ
クロ−(3,2,2)−ノン−2−エン−N,N−ジオキシドであ
る。
に、普通熱重合抑制剤が存在させられる。有用な熱安定
剤にはハイドロキノン、フエニドン、p−メトキシフエ
ノール、アルキルおよびアリール置換ハイドロキノン類
とキノン類、t−ブチルカテコール、ピロガロール、銅
レジナート、ナフチルアミン、ベータナフトール、塩化
第1銅、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、フエ
ノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベン
ゼン、p−トルキノンおよびクロラニルなどが含まれ
る。パゾス氏の米国特許第4,168,982号中で述べられた
ジニトロソダイマもまた有用である。好ましい安定剤は
TAOBN、すなわち1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾビシ
クロ−(3,2,2)−ノン−2−エン−N,N−ジオキシドであ
る。
組成物中に光学増白剤を加えることにより、ハレーシヨ
ン効果による歪みのない画像が形成されまたエレメント
の各成分による変色もなくなる。本発明の方法で有用な
光学増白剤は、米国特許第2,784,183号;同第3,664,394
号;および同第3,854,950号中に述べられたようなもの
が含まれる。特に有用な光学増白剤には2−(スチルビ
ル−4″)−(ナフト−1′,2′4,5)−1,2,3−トリア
ゾール−2″−スルホン酸フエニルエステル;および7
−(4′−クロロ−6′−ジエチルアミノ−1′,3′,
5′−トリアジン−4′−イル)アミノ−3−フエニル
クマリンが含まれる。組成物中で用いることのできる、
紫外線吸収剤は米国特許第3,854,950号中に示されてい
る。適当な可塑剤にはトリエチレングリコール、トリエ
チレングリコールジプロピオネート、トリエチレングリ
コールジカプリレート、トリエチレングリコールビス
(2−エチルヘキサノエート)、テトラエチレングリコ
ールジヘプタノエート、ポリエチレングリコール、ジエ
チルアジペート、トリブチルホスフエート、その他など
が含まれる。この他の添加剤等は当業者にとって明らか
であろう。
ン効果による歪みのない画像が形成されまたエレメント
の各成分による変色もなくなる。本発明の方法で有用な
光学増白剤は、米国特許第2,784,183号;同第3,664,394
号;および同第3,854,950号中に述べられたようなもの
が含まれる。特に有用な光学増白剤には2−(スチルビ
ル−4″)−(ナフト−1′,2′4,5)−1,2,3−トリア
ゾール−2″−スルホン酸フエニルエステル;および7
−(4′−クロロ−6′−ジエチルアミノ−1′,3′,
5′−トリアジン−4′−イル)アミノ−3−フエニル
クマリンが含まれる。組成物中で用いることのできる、
紫外線吸収剤は米国特許第3,854,950号中に示されてい
る。適当な可塑剤にはトリエチレングリコール、トリエ
チレングリコールジプロピオネート、トリエチレングリ
コールジカプリレート、トリエチレングリコールビス
(2−エチルヘキサノエート)、テトラエチレングリコ
ールジヘプタノエート、ポリエチレングリコール、ジエ
チルアジペート、トリブチルホスフエート、その他など
が含まれる。この他の添加剤等は当業者にとって明らか
であろう。
配合比 一般に、各成分は以下の概略重量比で使用される:バイ
ンダ40〜75%、好ましく50〜65%;モノマ15〜40%、好
ましく20〜23%;開始剤1〜20%、好ましく1〜5%;
連鎖転移剤または水素供与体0〜5%、好ましく0.1〜
4%;チオ尿素またはチオアミド減衰用添加剤0.1〜5
%、好ましく0.2〜0.5%、およびその他の成分0〜4
%。可視光線に増感されおよびレーザ露光に適した高感
光度系では、時として15%までの開始剤を使用するのが
好ましい。前記の重量%は光重合性系の全重量を基準と
するものである。
ンダ40〜75%、好ましく50〜65%;モノマ15〜40%、好
ましく20〜23%;開始剤1〜20%、好ましく1〜5%;
連鎖転移剤または水素供与体0〜5%、好ましく0.1〜
4%;チオ尿素またはチオアミド減衰用添加剤0.1〜5
%、好ましく0.2〜0.5%、およびその他の成分0〜4
%。可視光線に増感されおよびレーザ露光に適した高感
光度系では、時として15%までの開始剤を使用するのが
好ましい。前記の重量%は光重合性系の全重量を基準と
するものである。
使用される比率は、各成分用に選ばれた特定の化合物に
関係し、そして系が用いられる用途にも関連する。例え
ば、高い電導性のモノマは電導性の低いモノマよりも、
前者は未露光区域から電荷を除くのに効率的であるか
ら、少量で使用することができる。
関係し、そして系が用いられる用途にも関連する。例え
ば、高い電導性のモノマは電導性の低いモノマよりも、
前者は未露光区域から電荷を除くのに効率的であるか
ら、少量で使用することができる。
一般に、トーニングされるのを意図していないマスタの
区域は、2秒またはこれ以下の時間内に、トナーと引き
つけない電圧レベル(すなわち5ボルトまたはこれ以
下)まで放電するのが望ましい。このような効果を達成
するため必要な、チオ尿素またはチオアミド静電減衰用
添加剤の量は、選ばれた特定の添加剤により変ることで
あろう。一般的にマスタの他の諸特性に関する潜在的の
不都合な影響を減少させるため、マスタの未重合の区域
に許容し得る電荷の減衰を生じる、最小濃度の減衰用添
加剤を使用するのが好ましい。またある場合に、高レベ
ルの添加量ではトーニングをしたいマスタの区域で、好
ましくない放電が生ずる傾向があるのでより低い添加量
が望ましい。
区域は、2秒またはこれ以下の時間内に、トナーと引き
つけない電圧レベル(すなわち5ボルトまたはこれ以
下)まで放電するのが望ましい。このような効果を達成
するため必要な、チオ尿素またはチオアミド静電減衰用
添加剤の量は、選ばれた特定の添加剤により変ることで
あろう。一般的にマスタの他の諸特性に関する潜在的の
不都合な影響を減少させるため、マスタの未重合の区域
に許容し得る電荷の減衰を生じる、最小濃度の減衰用添
加剤を使用するのが好ましい。またある場合に、高レベ
ルの添加量ではトーニングをしたいマスタの区域で、好
ましくない放電が生ずる傾向があるのでより低い添加量
が望ましい。
開始剤、代表的にHABIの量は必要とされるフイルムの感
度に関係する。10%以上の含有量のHABIをもつ系は高い
感度(高速度)のフイルムを与え、デイジタルカラープ
ルーフのような、デイジタル化された情報を記録するレ
ーザイメージングに用いることができる。アナログ的の
利用、例えばネガを通しての露光では、フイルムの感度
は露光方法に関係する。露光装置がフラツトベツド型で
ある場合、ネガはフオトポリマの上に置かれ、30秒また
はこれ以上の露光をすることができ、おそい感度のフイ
ルムを利用できる。集光された放射線によるドラム露光
装置では、露光の期間は短かく、より高い感度のフイル
ムを用いねばならない。
度に関係する。10%以上の含有量のHABIをもつ系は高い
感度(高速度)のフイルムを与え、デイジタルカラープ
ルーフのような、デイジタル化された情報を記録するレ
ーザイメージングに用いることができる。アナログ的の
利用、例えばネガを通しての露光では、フイルムの感度
は露光方法に関係する。露光装置がフラツトベツド型で
ある場合、ネガはフオトポリマの上に置かれ、30秒また
はこれ以上の露光をすることができ、おそい感度のフイ
ルムを利用できる。集光された放射線によるドラム露光
装置では、露光の期間は短かく、より高い感度のフイル
ムを用いねばならない。
塗布/基体 光重合性組成物は、この系の各成分をメチレンクロライ
ドのような溶剤中に、普通重量比で約15:85〜25:75
(固体:溶剤)に混合することにより作られ、基体上に
塗布され、そして溶剤が蒸発される。塗布は均一に、そ
して乾燥したとき3〜15ミクロン、好ましく7〜12ミク
ロンの厚みをもつようにする。乾燥塗布量は通常約30〜
150mg/dm2、好ましく70〜120mg/dm2である。剥離フイル
ムは溶剤が蒸発後の塗膜上に付与される。
ドのような溶剤中に、普通重量比で約15:85〜25:75
(固体:溶剤)に混合することにより作られ、基体上に
塗布され、そして溶剤が蒸発される。塗布は均一に、そ
して乾燥したとき3〜15ミクロン、好ましく7〜12ミク
ロンの厚みをもつようにする。乾燥塗布量は通常約30〜
150mg/dm2、好ましく70〜120mg/dm2である。剥離フイル
ムは溶剤が蒸発後の塗膜上に付与される。
基体は均一でかつピンホール、凹凸、およびかき傷のよ
うな欠点のないものでなければならない。基体は紙、ガ
ラス、合成樹脂、その他のような支持体の一方または両
方の面上に、アルミ化したポリエチレンテレフタレー
ト、または電導性の紙あるいはポリマフイルムのよう
に、金属、電導性の金属酸化物または金属ハロゲン化物
を、蒸着またはスパツタリングあるいは化学的付着によ
り被着される。ついで、この被着された基体は、印刷装
置の電導性支持体上に直接に取り付けることができる。
うな欠点のないものでなければならない。基体は紙、ガ
ラス、合成樹脂、その他のような支持体の一方または両
方の面上に、アルミ化したポリエチレンテレフタレー
ト、または電導性の紙あるいはポリマフイルムのよう
に、金属、電導性の金属酸化物または金属ハロゲン化物
を、蒸着またはスパツタリングあるいは化学的付着によ
り被着される。ついで、この被着された基体は、印刷装
置の電導性支持体上に直接に取り付けることができる。
これとは別に、基体は非電導性のフイルム、好ましくポ
リエチレンまたはポリプロピレンのような剥離フイルム
とすることができる。保護の剥離フイルムを取り除いた
後、つぎにフイルムは支持体に接している粘着性の、光
硬化性層によって印刷装置上の電導性支持体にラミネー
トされる。基体はカバーシートとして作用し、これは露
光後帯電に先立って取り除かれる。支持体としてアルミ
化したポリエステルフイルムは、例えば気泡のような故
障を起こすことなく貼り付けるのが困難であるから、こ
の剥離フイルムは好ましいものである。
リエチレンまたはポリプロピレンのような剥離フイルム
とすることができる。保護の剥離フイルムを取り除いた
後、つぎにフイルムは支持体に接している粘着性の、光
硬化性層によって印刷装置上の電導性支持体にラミネー
トされる。基体はカバーシートとして作用し、これは露
光後帯電に先立って取り除かれる。支持体としてアルミ
化したポリエステルフイルムは、例えば気泡のような故
障を起こすことなく貼り付けるのが困難であるから、こ
の剥離フイルムは好ましいものである。
いま1つの別法として、電導性支持体はアルミニウム、
銅、亜鉛、銀、その他のような金属板とすることがで
き;または金属、電導性の金属酸化物、金属ハロゲン化
物、電導性ポリマ、炭素、またはその他の電導性填料、
などを含むポリマバインダで塗布された支持体とするこ
とができる。
銅、亜鉛、銀、その他のような金属板とすることがで
き;または金属、電導性の金属酸化物、金属ハロゲン化
物、電導性ポリマ、炭素、またはその他の電導性填料、
などを含むポリマバインダで塗布された支持体とするこ
とができる。
電気的特性 電荷減衰用添加剤を比較し評価するために、標準的条件
の帯電と実施例中で述べた測定法を用いて、未露光の光
硬化性層について電圧を帯電後1秒以内、帯電後1分間
は15秒毎に、そして帯電後2分目にそれぞれ測定し
た。
の帯電と実施例中で述べた測定法を用いて、未露光の光
硬化性層について電圧を帯電後1秒以内、帯電後1分間
は15秒毎に、そして帯電後2分目にそれぞれ測定し
た。
系の所望の電気的特性は感光性面上に付いた電荷量と、
使用された特定のトナー系の電気的特性とに関係する。
理想的にはトナー分散物に接触する時点で、露光をされ
た区域の電圧(VTe)は、未露光区域の電圧(VTu)よりも少
なくとも10V好ましくは少なくとも100V高くなければ
ならない。
使用された特定のトナー系の電気的特性とに関係する。
理想的にはトナー分散物に接触する時点で、露光をされ
た区域の電圧(VTe)は、未露光区域の電圧(VTu)よりも少
なくとも10V好ましくは少なくとも100V高くなければ
ならない。
最良の結果はVTuがゼロまたはほとんどゼロに減衰した
ときに得られる、トナー系の選択にも関連し、VTeは少
なくとも10V、好ましく少なくとも150V、そして400V
またはこれ以上にまでとすべきである。VTuは好ましく
ゼロまたはほとんどゼロである。もしVTuが5ボルトよ
りも大きいなら、未露光区域中の残留電荷によるトナー
の受入れと移転に起因して、都合の悪い地カブリが一般
に発生する。
ときに得られる、トナー系の選択にも関連し、VTeは少
なくとも10V、好ましく少なくとも150V、そして400V
またはこれ以上にまでとすべきである。VTuは好ましく
ゼロまたはほとんどゼロである。もしVTuが5ボルトよ
りも大きいなら、未露光区域中の残留電荷によるトナー
の受入れと移転に起因して、都合の悪い地カブリが一般
に発生する。
トナー付与のために適切な時期は帯電後5〜15秒であ
る。
る。
露光/帯電/トーニング/転写 必要とされる電導性の相異を生じさせるために、露光は
露光された区域中で実質的の重合が生ずるのに充分でな
ければならない。露光する光はデイジタル的またはアナ
ログ的のいずれかの手段で変調することができる。アナ
ログ的の露光はフイルムと放射線源との間に介在させ
た、ラインまたは網ネガあるいはその他のパターンを利
用する。アナログ露光のためには、光重合性系が短波長
光に対して高感度であるため、紫外線光源が好ましい。
デイジタル露光は、コンピユータで制御されフイルムを
ラスタ状に走査する、可視光放射レーザにより行うこと
ができる。デイジタル露光には高感光度のフイルム、す
なわち高レベルのHABIを含み、そして増感色素で長波長
に増感されているものが好ましい。電子ビーム露光も使
用することができるが、高価な装置を必要とするため推
奨できない。
露光された区域中で実質的の重合が生ずるのに充分でな
ければならない。露光する光はデイジタル的またはアナ
ログ的のいずれかの手段で変調することができる。アナ
ログ的の露光はフイルムと放射線源との間に介在させ
た、ラインまたは網ネガあるいはその他のパターンを利
用する。アナログ露光のためには、光重合性系が短波長
光に対して高感度であるため、紫外線光源が好ましい。
デイジタル露光は、コンピユータで制御されフイルムを
ラスタ状に走査する、可視光放射レーザにより行うこと
ができる。デイジタル露光には高感光度のフイルム、す
なわち高レベルのHABIを含み、そして増感色素で長波長
に増感されているものが好ましい。電子ビーム露光も使
用することができるが、高価な装置を必要とするため推
奨できない。
好ましい帯電手段はコロナ放電である。この他の帯電方
法、例えばコンデンサの放電も使用することができる。
どんな液体トナーでも、そしてどんなトナーの付与方法
でも使用できる。分散媒液体中にピグメントを含む樹脂
のトナー粒子分散物である液体トナーが好ましい。トナ
ーの付与後、このトナー画像は紙(プルーフの作成に特
に有用)、ポリマフイルム、布、またはその他の基体の
ような別の表面に転写される。転写は従来知られた静電
的方法で一般に行われるが、必要があれば他の方法を用
いることもできる。
法、例えばコンデンサの放電も使用することができる。
どんな液体トナーでも、そしてどんなトナーの付与方法
でも使用できる。分散媒液体中にピグメントを含む樹脂
のトナー粒子分散物である液体トナーが好ましい。トナ
ーの付与後、このトナー画像は紙(プルーフの作成に特
に有用)、ポリマフイルム、布、またはその他の基体の
ような別の表面に転写される。転写は従来知られた静電
的方法で一般に行われるが、必要があれば他の方法を用
いることもできる。
光硬化性の静電マスタはグラフイツクアーツの分野、殊
に調製されるプルーフが印刷によって作られる画像を再
現するような、カラープルーフに特に有用である。これ
は光硬化性の静電マスタの、露光と未露光の両区域の電
気電導性のコントロールを通じて、再現される網点のド
ツトゲインを調整することにより達成される。網点ドツ
トにより保持される電圧はドツト面積%にほぼ直線的に
比例するから、液体静電現像液の濃度は現像される特定
のドツトパターンと関係なく画像上のどこでも一定であ
ろう。光重合性マスタのこの他の用途には印刷回路板、
レジスト、ハンダ付け用マスク、および光硬化塗膜など
が含まれる。
に調製されるプルーフが印刷によって作られる画像を再
現するような、カラープルーフに特に有用である。これ
は光硬化性の静電マスタの、露光と未露光の両区域の電
気電導性のコントロールを通じて、再現される網点のド
ツトゲインを調整することにより達成される。網点ドツ
トにより保持される電圧はドツト面積%にほぼ直線的に
比例するから、液体静電現像液の濃度は現像される特定
のドツトパターンと関係なく画像上のどこでも一定であ
ろう。光重合性マスタのこの他の用途には印刷回路板、
レジスト、ハンダ付け用マスク、および光硬化塗膜など
が含まれる。
本発明は以下の各実施例を参照してさらに説明される
が、本発明が限定されるものではない。
が、本発明が限定されるものではない。
実施例 略称 ABT 3−アミノ−2−ブテンチオアミド;CAS 62069-87-8 ATU 1−アリル−2−チオ尿素;CAS 109-57-9 CDM-HABI 2−(o−クロロフエニル)−4,5−ビス(m−メトキ
シフエニル)イミダゾールダイマ;1,1′−ビ−1H−イ
ミダゾール,2,2′−ビス(2−クロロフエニル)−4,
4′,5,5′−テトラキス(3−メトキシフエニル)−;C
AS 29777-36-4 o-C−HABI 1,1′−ビイミダゾール,2,2′−ビス(o−クロロフエ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニル−;CAS 1707-68
-2 CMTU 1−シクロヘキシル−3−(2−モルフオリノエチル)
−2−チオ尿素;CAS 21545-54-0 DBTU 1,3−ジブチル−2−チオ尿素;CAS 109-46-6 DPTU チオカルバアニライド;1,3−ジフエニル−2−チオ尿
素;CAS 102-08-9 ETU 1−エチル−2−チオ尿素;CAS 625-53-6 GDTS グリオキザールジチオセミカルバゾン;CAS 1072-12-44 JAW シクロペンタノン,2,5−ビス〔(1H,5H−ベンゾ〔i,
j〕キノリジン−1−イル)メチレン〕− MBT 2−メルカプトベンゾチアゾール;2−ベンゾチアゾー
ルチオール;CAS 49-30-4 MTI 2−メチルチオ−2−イミダゾリンハイドロアイオダイ
ド;CAS 5464-11-9 NPG N−フエニルグリシン PSMMA 70/30ポリ(スチレン/メチルメタアクリレート) TAOBN 1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾビシクロ(3,2,2)−ノ
ン−2−エン−2,3−ジオキシド TCTM-HABI 1H−イミダゾール,2,5−ビス〔o−クロロフエニル〕
−4−〔3,4−ジメトキシフエニル〕−,ダイマ;CAS 7
9070-04-5 THPT 3,4,5,6−テトラヒドロ−2−ピリミジンチオール;CAS
2055-46-1 TLA-454 トリス(4−ジエチルアミノ−o−トリル)メタン;ベ
ンゼンアミン,4,4′,4″−メチリデイントリス(N,N−
ジエチル−3−メチル−;CAS 4482-70-6 TMPEOTA エポキシ化されたトリメチロールプロパンのトリアクリ
レートエステル TPA トリフエニルアミン;CAS 603-34-9 p-TSA p−トルエンスルホン酸;CAS 6192-52-5 一般的方法 特に記載しない限り、すべての実施例に以下の方法が用
いられた。
シフエニル)イミダゾールダイマ;1,1′−ビ−1H−イ
ミダゾール,2,2′−ビス(2−クロロフエニル)−4,
4′,5,5′−テトラキス(3−メトキシフエニル)−;C
AS 29777-36-4 o-C−HABI 1,1′−ビイミダゾール,2,2′−ビス(o−クロロフエ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニル−;CAS 1707-68
-2 CMTU 1−シクロヘキシル−3−(2−モルフオリノエチル)
−2−チオ尿素;CAS 21545-54-0 DBTU 1,3−ジブチル−2−チオ尿素;CAS 109-46-6 DPTU チオカルバアニライド;1,3−ジフエニル−2−チオ尿
素;CAS 102-08-9 ETU 1−エチル−2−チオ尿素;CAS 625-53-6 GDTS グリオキザールジチオセミカルバゾン;CAS 1072-12-44 JAW シクロペンタノン,2,5−ビス〔(1H,5H−ベンゾ〔i,
j〕キノリジン−1−イル)メチレン〕− MBT 2−メルカプトベンゾチアゾール;2−ベンゾチアゾー
ルチオール;CAS 49-30-4 MTI 2−メチルチオ−2−イミダゾリンハイドロアイオダイ
ド;CAS 5464-11-9 NPG N−フエニルグリシン PSMMA 70/30ポリ(スチレン/メチルメタアクリレート) TAOBN 1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾビシクロ(3,2,2)−ノ
ン−2−エン−2,3−ジオキシド TCTM-HABI 1H−イミダゾール,2,5−ビス〔o−クロロフエニル〕
−4−〔3,4−ジメトキシフエニル〕−,ダイマ;CAS 7
9070-04-5 THPT 3,4,5,6−テトラヒドロ−2−ピリミジンチオール;CAS
2055-46-1 TLA-454 トリス(4−ジエチルアミノ−o−トリル)メタン;ベ
ンゼンアミン,4,4′,4″−メチリデイントリス(N,N−
ジエチル−3−メチル−;CAS 4482-70-6 TMPEOTA エポキシ化されたトリメチロールプロパンのトリアクリ
レートエステル TPA トリフエニルアミン;CAS 603-34-9 p-TSA p−トルエンスルホン酸;CAS 6192-52-5 一般的方法 特に記載しない限り、すべての実施例に以下の方法が用
いられた。
約86.5部のメチレンクロライドと13.5部の固体とを含
んだ液が、アルミ加工された厚み0.004インチ(0.0102c
m)のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布され
た。フイルムはメチレンクロライドを除くため60〜95℃
で乾燥した後、この乾いた層に厚み0.0075インチ(0.019
cm)のポリプロピレンカバーシートがラミネートされ
た。フイルムは露光と現像までの間ロール状に巻きとら
れていた。
んだ液が、アルミ加工された厚み0.004インチ(0.0102c
m)のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布され
た。フイルムはメチレンクロライドを除くため60〜95℃
で乾燥した後、この乾いた層に厚み0.0075インチ(0.019
cm)のポリプロピレンカバーシートがラミネートされ
た。フイルムは露光と現像までの間ロール状に巻きとら
れていた。
各フオトポリマ組成物の画質を試験するために、フオト
ポリマ層は以下に述べるように露光され、現像され、黒
色トナーでトーニングされ、そして用紙に画像転写され
た。すべての場合に、「黒色トナー」とは以下述べられ
る4色プルーフを作るために用いられた、標準的な黒色
トナーを意味している。画質の評価は用紙上のドツトの
範囲とドツトゲインを基にして行った。標準的な用紙
は、プレインウエル製紙社のソリタイレ 、オフセツト
エナメルテキスト紙の60ポンド(27.2kg)のものである。
しかし試験をした各種の用紙には60ポンド(27.2kg)プレ
インウエルオフセツトエナメルテキスト、70ポンド(31.
7kg)プレインウエルオフセツトエナメルテキスト、150
ポンド(68kg)ホワイトリーガルタフワイト ウエツトス
トレングスタグ、60ポンド(27.2kg)ホワイトLOEグロス
カバー、70ポンド(31.7kg)ホワイトフロコート テキス
ト、60ポンド(27.2kg)オールパーパスリス、110ポンド
(49.9kg)ホワイトスコツトインデクス、70ポンド(31.7k
g)ホワイトネコーサベーラムオフセツトおよび80ポンド
(36.3kg)ホワイトソブ テキストなどが含まれている。
本発明の方法はどの用紙にも用いることができるけれど
も、インクの付着性は使用した紙の繊維の性質により変
るという結果が示された。
ポリマ層は以下に述べるように露光され、現像され、黒
色トナーでトーニングされ、そして用紙に画像転写され
た。すべての場合に、「黒色トナー」とは以下述べられ
る4色プルーフを作るために用いられた、標準的な黒色
トナーを意味している。画質の評価は用紙上のドツトの
範囲とドツトゲインを基にして行った。標準的な用紙
は、プレインウエル製紙社のソリタイレ 、オフセツト
エナメルテキスト紙の60ポンド(27.2kg)のものである。
しかし試験をした各種の用紙には60ポンド(27.2kg)プレ
インウエルオフセツトエナメルテキスト、70ポンド(31.
7kg)プレインウエルオフセツトエナメルテキスト、150
ポンド(68kg)ホワイトリーガルタフワイト ウエツトス
トレングスタグ、60ポンド(27.2kg)ホワイトLOEグロス
カバー、70ポンド(31.7kg)ホワイトフロコート テキス
ト、60ポンド(27.2kg)オールパーパスリス、110ポンド
(49.9kg)ホワイトスコツトインデクス、70ポンド(31.7k
g)ホワイトネコーサベーラムオフセツトおよび80ポンド
(36.3kg)ホワイトソブ テキストなどが含まれている。
本発明の方法はどの用紙にも用いることができるけれど
も、インクの付着性は使用した紙の繊維の性質により変
るという結果が示された。
ドツトの大きさに対するドツトゲインまたはドツト面積
の増加は、プルーフと印刷プルーフとの間の差をどのよ
うにとらえるかということの1つの標準的な目安であ
る。ドツトゲインは、ブルンナターゲツトと呼ばれるシ
ステムブルンナUSA社から入手できる形式の、特別に設
計されたパターンを用いて測定された。ドツトの範囲
は、グラフイツクアーツテクニカルフアウンデーシヨン
の、URGAターゲツトを用いて容易に試験することがで
き、このターゲツトには133線/mmのスクリーンの0.5%
ハイライトドツドから99.5%シヤドウドツトまでが含ま
れ、ハイライトとシヤドウに4ミクロンのマイクロライ
ンを含んでいる。
の増加は、プルーフと印刷プルーフとの間の差をどのよ
うにとらえるかということの1つの標準的な目安であ
る。ドツトゲインは、ブルンナターゲツトと呼ばれるシ
ステムブルンナUSA社から入手できる形式の、特別に設
計されたパターンを用いて測定された。ドツトの範囲
は、グラフイツクアーツテクニカルフアウンデーシヨン
の、URGAターゲツトを用いて容易に試験することがで
き、このターゲツトには133線/mmのスクリーンの0.5%
ハイライトドツドから99.5%シヤドウドツトまでが含ま
れ、ハイライトとシヤドウに4ミクロンのマイクロライ
ンを含んでいる。
光硬化性静電マスタはTU 64型ビオルクス5002光源装置
(エクスポジユアシステムズ社製)とNO.5027型フオト
ポリマランプとを備えた、ドウシツトオプシヨン×露光
ユニツト(ドウシツト社製)を用い分解ネガを通じてま
ず露光された。露光の時間は処方に応じて1〜100秒に
変化された。露光をしたマスタはつぎにドラムの表面に
とり付けた。べた部分のSWOP濃度(ウエブオフセツトパ
ブリケーシヨン規格)は、ホトポリマの充分に露光され
た区域を、100〜200に帯電させることにより得られる。
帯電潜像はつぎに液体静電現像液、またはトナー、によ
り二重ロール現像部と現像液層規制部とを用いて現像さ
れた。現像部と規制部とはそれぞれ5時と6時の位置に
配置されている。トナー画像は2.2インチ/秒(5.59cm
/秒)の速度で、転写コロナ電圧4.35〜4.88kV、転写電
流50〜150μAおよびタツクダウンロール電圧-2.5〜-4.
0kVを用いて紙の上にコロナ転写され、そして100℃で10
秒間オーブン中で定着された。
(エクスポジユアシステムズ社製)とNO.5027型フオト
ポリマランプとを備えた、ドウシツトオプシヨン×露光
ユニツト(ドウシツト社製)を用い分解ネガを通じてま
ず露光された。露光の時間は処方に応じて1〜100秒に
変化された。露光をしたマスタはつぎにドラムの表面に
とり付けた。べた部分のSWOP濃度(ウエブオフセツトパ
ブリケーシヨン規格)は、ホトポリマの充分に露光され
た区域を、100〜200に帯電させることにより得られる。
帯電潜像はつぎに液体静電現像液、またはトナー、によ
り二重ロール現像部と現像液層規制部とを用いて現像さ
れた。現像部と規制部とはそれぞれ5時と6時の位置に
配置されている。トナー画像は2.2インチ/秒(5.59cm
/秒)の速度で、転写コロナ電圧4.35〜4.88kV、転写電
流50〜150μAおよびタツクダウンロール電圧-2.5〜-4.
0kVを用いて紙の上にコロナ転写され、そして100℃で10
秒間オーブン中で定着された。
ドツトゲイン曲線はヒユーレツトパツカード社の#9836
型コンピユータにインタフエイスした、プログラム化で
きるマクベス社の#RD 918型濃度計を用いて測定され
た。ドツトゲイン曲線は網点の光学濃度、用紙(グロシ
イ)の光学濃度、およびブルンナターゲツト中の各%ド
ツト面積の光学濃度を含んだ簡単な数式を用いて計算し
た。
型コンピユータにインタフエイスした、プログラム化で
きるマクベス社の#RD 918型濃度計を用いて測定され
た。ドツトゲイン曲線は網点の光学濃度、用紙(グロシ
イ)の光学濃度、およびブルンナターゲツト中の各%ド
ツト面積の光学濃度を含んだ簡単な数式を用いて計算し
た。
表面電圧の測定は以下のようにして行われた:ソレノイ
ドに連結された摩擦のない移動ステージ上に取り付けた
アルミニウム板の上に、1×0.5インチ(2.52×1.27c
m)の5枚の試料がはり付けられた。この5枚の試料は
ソレノイドを付勢することにより、約1インチ(2.54cm)
離れたAの位置からBへと移動する。Aの位置で、これ
らは帯電のためのスコロトロンの直下に置かれる。帯電
の条件はコロナ電流50〜200μA、電圧4.35〜5.11kV、
そして帯電時間2秒である。帯電の完了後、ソレノイド
は付勢され、試料はBの位置に移動され、スコロトロン
から離れてアイソプローベ静電マルチメータ(モンロエ
レクトロニクス社製の#174型)の直下に動かされる。
マルチメータからの出力はデータ捕捉ボツクス(ヒユー
レツトパツカード社製#3852A型)を通じてコンピユー
タ(ヒユーレツトパツカード社製#9836型)に入れら
れ、ここで時間−電圧のデータが各試料ごとに記録され
る。試料の移動に約1秒かかるので、「ゼロ時間」の測
定は帯電後約1秒後になされている。
ドに連結された摩擦のない移動ステージ上に取り付けた
アルミニウム板の上に、1×0.5インチ(2.52×1.27c
m)の5枚の試料がはり付けられた。この5枚の試料は
ソレノイドを付勢することにより、約1インチ(2.54cm)
離れたAの位置からBへと移動する。Aの位置で、これ
らは帯電のためのスコロトロンの直下に置かれる。帯電
の条件はコロナ電流50〜200μA、電圧4.35〜5.11kV、
そして帯電時間2秒である。帯電の完了後、ソレノイド
は付勢され、試料はBの位置に移動され、スコロトロン
から離れてアイソプローベ静電マルチメータ(モンロエ
レクトロニクス社製の#174型)の直下に動かされる。
マルチメータからの出力はデータ捕捉ボツクス(ヒユー
レツトパツカード社製#3852A型)を通じてコンピユー
タ(ヒユーレツトパツカード社製#9836型)に入れら
れ、ここで時間−電圧のデータが各試料ごとに記録され
る。試料の移動に約1秒かかるので、「ゼロ時間」の測
定は帯電後約1秒後になされている。
4色カラープルーフは以下述べる工程に従って得られ
る。最初に、露光に先立って光重合性層の各マスタに位
置合わせマークが切り込まれる。4色分解の各マスタ
は、4つの光重合性エレメントをシアン、イエロ、マゼ
ンタおよび黒の各色に対応する、4つの色分解ネガの1
つに対して露光することにより作られる。4つの光重合
性マスタの各々は、前述したドウシツトオプシヨン×露
光ユニツトを用いて約3秒間露光した。光源から放出さ
れる可視光線は、可視光吸収紫外光透過のココモ ガラ
スフイルタ(ココモ乳白ガラス社製のNO.400)により弱
められ、そして全放出強度は25%透過スクリンの使用に
よって75%に減少された。カバーシートを取り除き、各
マスタは対応する色モジユールドラムの上の、各マスタ
から受像用紙に順次転写される、4色画像の位置決めの
正しい所に取り付けられる。前端クランプはフオトポリ
マのアルミ背面をドラムに接地するのにも利用される。
マスタはドラムに対して平らとなるようにその後端にか
けられたばねにより緊張させられる。
る。最初に、露光に先立って光重合性層の各マスタに位
置合わせマークが切り込まれる。4色分解の各マスタ
は、4つの光重合性エレメントをシアン、イエロ、マゼ
ンタおよび黒の各色に対応する、4つの色分解ネガの1
つに対して露光することにより作られる。4つの光重合
性マスタの各々は、前述したドウシツトオプシヨン×露
光ユニツトを用いて約3秒間露光した。光源から放出さ
れる可視光線は、可視光吸収紫外光透過のココモ ガラ
スフイルタ(ココモ乳白ガラス社製のNO.400)により弱
められ、そして全放出強度は25%透過スクリンの使用に
よって75%に減少された。カバーシートを取り除き、各
マスタは対応する色モジユールドラムの上の、各マスタ
から受像用紙に順次転写される、4色画像の位置決めの
正しい所に取り付けられる。前端クランプはフオトポリ
マのアルミ背面をドラムに接地するのにも利用される。
マスタはドラムに対して平らとなるようにその後端にか
けられたばねにより緊張させられる。
各モジユールは3時の位置の帯電用スコロトロン、6時
の現像部、7時の規制部そして9時の位置のクリーニン
グ部とから構成されている。帯電、トーニングおよび規
制法はこの実施例の前に述べたのと同様である。転写部
はタツクダウンロール、転写コロナ、給紙、および4回
の転写操作における用紙とマスタとの相対的位置を決定
する位置決め装置などで構成される。
の現像部、7時の規制部そして9時の位置のクリーニン
グ部とから構成されている。帯電、トーニングおよび規
制法はこの実施例の前に述べたのと同様である。転写部
はタツクダウンロール、転写コロナ、給紙、および4回
の転写操作における用紙とマスタとの相対的位置を決定
する位置決め装置などで構成される。
4色プルーフの調製における4種の現像液、またはトナ
ー、は以下の組成をもっている: 最初に、イエロマスタが帯電され、現像されそして規制
される。転写部は位置決めされ、トーニングされたイエ
ロ画像は用紙上に転写される。イエロの転写が完了後、
マゼンタマスタは帯電され、現像され、規制され、そし
てマゼンタ画像はイエロ画像の上に位置決めの下に転写
される。その後、シアンマスタがコロナ帯電され、現像
され、規制され、そしてシアン画像は前の2つの画像の
上に転写される。最後に、黒のマスタがコロナ帯電さ
れ、現像され、規制され、そしてトーニングされたこの
黒画像は、前に転写されている3つの画像の上に位置決
めの下に転写される。工程が完了後、用紙は転写部から
注意深くとり外され、画像は100℃で15秒間定着され
る。
ー、は以下の組成をもっている: 最初に、イエロマスタが帯電され、現像されそして規制
される。転写部は位置決めされ、トーニングされたイエ
ロ画像は用紙上に転写される。イエロの転写が完了後、
マゼンタマスタは帯電され、現像され、規制され、そし
てマゼンタ画像はイエロ画像の上に位置決めの下に転写
される。その後、シアンマスタがコロナ帯電され、現像
され、規制され、そしてシアン画像は前の2つの画像の
上に転写される。最後に、黒のマスタがコロナ帯電さ
れ、現像され、規制され、そしてトーニングされたこの
黒画像は、前に転写されている3つの画像の上に位置決
めの下に転写される。工程が完了後、用紙は転写部から
注意深くとり外され、画像は100℃で15秒間定着され
る。
プルーフ作成のために用いられた各パラメータは:ドラ
ム速度2.2インチ/秒(5.588cm/秒);グリツドスコロ
トロン電圧100〜400V;スコロトロン電流200〜800μA
(5.11〜5.84kV);規制ロール電圧20〜50V;タツクダウ
ンロール電圧-2.5〜-5.0kV;転写コロナ電流50〜150μA
(4.35〜4.88kV;規制ロール速度4〜8インチ/秒(10.
16〜20.32cm/秒);規制ロールギヤツプ0.002〜0.005
インチ(0.051〜0.127mm);現像液の電導度12〜30pmhos/
cm);現像液濃度1〜1.5%固体分。
ム速度2.2インチ/秒(5.588cm/秒);グリツドスコロ
トロン電圧100〜400V;スコロトロン電流200〜800μA
(5.11〜5.84kV);規制ロール電圧20〜50V;タツクダウ
ンロール電圧-2.5〜-5.0kV;転写コロナ電流50〜150μA
(4.35〜4.88kV;規制ロール速度4〜8インチ/秒(10.
16〜20.32cm/秒);規制ロールギヤツプ0.002〜0.005
インチ(0.051〜0.127mm);現像液の電導度12〜30pmhos/
cm);現像液濃度1〜1.5%固体分。
対照例A〜Eと実施例1 対照例Aは減衰用添加剤のない、未重合モノマ/バイン
ダ表面からの電荷減衰を示すものである。対照例B〜E
は、未重合モノマ/バインダ表面からの電荷減衰に及ぼ
す、公知減衰用添加剤の効果を示すものである。実施例
1は未重合モノマ/バインダ表面からの電荷減衰に及ぼ
すATUの効果を示している。
ダ表面からの電荷減衰を示すものである。対照例B〜E
は、未重合モノマ/バインダ表面からの電荷減衰に及ぼ
す、公知減衰用添加剤の効果を示すものである。実施例
1は未重合モノマ/バインダ表面からの電荷減衰に及ぼ
すATUの効果を示している。
約86.5部のメチレンクロライドと13.5部の固体分とを含
む液が、厚み0.004インチ(0.0102cm)のアルミ加工した
ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布された。固
体は3/7の割合のTMPEOTAとPSMMAとからなり、もし減
衰用添加剤があるときは表中に示した分量が加えられ
た。塗布量は約70mg/dm2から約120mg/dm2までに変えら
れ、モノマ/バインダ層に対し約7〜12μmの厚みに相
当する。
む液が、厚み0.004インチ(0.0102cm)のアルミ加工した
ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布された。固
体は3/7の割合のTMPEOTAとPSMMAとからなり、もし減
衰用添加剤があるときは表中に示した分量が加えられ
た。塗布量は約70mg/dm2から約120mg/dm2までに変えら
れ、モノマ/バインダ層に対し約7〜12μmの厚みに相
当する。
実施例2 実施例2は未重合モノマ/バインダ表面からの電荷減衰
に及ぼす、各種の減衰用添加剤の効果を示している。
に及ぼす、各種の減衰用添加剤の効果を示している。
3/7の割合のTMPEOTAとPSMMAとからなり、減衰用添加
剤のあるときは全固体の3%が加えられた塗膜が、実施
例1で述べられたようにして作られた。帯電の5秒後に
保有されている電圧(V5)は、一般的方法中で述べたよう
にして測定された。
剤のあるときは全固体の3%が加えられた塗膜が、実施
例1で述べられたようにして作られた。帯電の5秒後に
保有されている電圧(V5)は、一般的方法中で述べたよう
にして測定された。
実施例3 実施例3は未重合の光硬化性静電マスタ表面からの電荷
減衰に及ぼす本発明の各種の減衰用添加剤の効果を示し
ている。
減衰に及ぼす本発明の各種の減衰用添加剤の効果を示し
ている。
次の表中に示された水準の減衰用添加剤が加えられた下
記の組成の調製物が用意され、一般的方法中で述べたよ
うに塗布された。
記の組成の調製物が用意され、一般的方法中で述べたよ
うに塗布された。
PSMMA(減衰用添加剤の添加前において全固形物の58
%) TMPEOTA(30%) TCTM-HABI(9%) 2-MBO(3%) TAOBN(0.03%) 帯電の5秒後に保有されている電圧(V5)が一般的方法中
で述べられたようにして測定された。
%) TMPEOTA(30%) TCTM-HABI(9%) 2-MBO(3%) TAOBN(0.03%) 帯電の5秒後に保有されている電圧(V5)が一般的方法中
で述べられたようにして測定された。
実施例4 この実施例は、光硬化性静電マスタの未露光区域と露光
区域とから、電荷が減衰するのに及ぼす、電荷減衰用添
加剤の濃度の効果を示すものである。表中に示した組成
物F、GおよびHが作られ、光硬化性静電マスタを作る
ために塗布された。
区域とから、電荷が減衰するのに及ぼす、電荷減衰用添
加剤の濃度の効果を示すものである。表中に示した組成
物F、GおよびHが作られ、光硬化性静電マスタを作る
ために塗布された。
帯電の5秒後に未露光区域表面上に保有されている電圧
(V5)と、露光区域の表面上に15秒と120秒に保有され
ている電圧(V15とV120)とが、一般的方法中で述べ
たようにして測定された。
(V5)と、露光区域の表面上に15秒と120秒に保有され
ている電圧(V15とV120)とが、一般的方法中で述べ
たようにして測定された。
実施例5〜7 これらの実施例は、光源とフイルムとの間に介在された
ネガを使用する、アナログ露光によりプルーフを作るた
めの、光硬化性静電マスタの利用を示している。
ネガを使用する、アナログ露光によりプルーフを作るた
めの、光硬化性静電マスタの利用を示している。
実施例4中の組成物F、GおよびHにより説明されたよ
うな、それぞれ異なる光硬化性層を含んでいる3種の静
電マスタが作られた。各々はブルンナーターゲツトとUR
GAターゲツトとを通じ、可視光線用のフイルタなしのド
ウシツトオプシヨン×露光ユニツトからの、紫外光と可
視光との混ざった光で露光され、帯電され、黒色トナー
でトーニングされ、そしてトナー像は用紙に転写され
た。使用された露光のエネルギは、Fには20mJ/cm2、G
とHの両者には10mJ/cm2であった。
うな、それぞれ異なる光硬化性層を含んでいる3種の静
電マスタが作られた。各々はブルンナーターゲツトとUR
GAターゲツトとを通じ、可視光線用のフイルタなしのド
ウシツトオプシヨン×露光ユニツトからの、紫外光と可
視光との混ざった光で露光され、帯電され、黒色トナー
でトーニングされ、そしてトナー像は用紙に転写され
た。使用された露光のエネルギは、Fには20mJ/cm2、G
とHの両者には10mJ/cm2であった。
組成物Fを含む光硬化性静電マスタからは、ドツト範囲
3〜97%のドツト、ドツトゲイン+14、そして光学濃度
1.49をもつプルーフが得られた。組成物Gを含む光硬化
性静電マスタからは、ドツト範囲1〜97%のドツト、ド
ツトゲイン+12、解像力4μ、そして光学濃度1.81をも
つプルーフが得られた。組成物Hを含む光硬化性静電マ
スタからは、ドツト範囲2〜98%のドツト、ドツトゲイ
ン+15、解像力8μ、そして光学濃度1.76をもつプルー
フが得られた。
3〜97%のドツト、ドツトゲイン+14、そして光学濃度
1.49をもつプルーフが得られた。組成物Gを含む光硬化
性静電マスタからは、ドツト範囲1〜97%のドツト、ド
ツトゲイン+12、解像力4μ、そして光学濃度1.81をも
つプルーフが得られた。組成物Hを含む光硬化性静電マ
スタからは、ドツト範囲2〜98%のドツト、ドツトゲイ
ン+15、解像力8μ、そして光学濃度1.76をもつプルー
フが得られた。
以下の2つの実施例は、コンピユータ制御の可視光放出
レーザによりプルーフを作るための、可視光用増感剤を
含む光硬化性静電マスタの使用を示すものである。
レーザによりプルーフを作るための、可視光用増感剤を
含む光硬化性静電マスタの使用を示すものである。
実施例8 以下の組成物が作られた:メチレンクロライド2333g、P
SMMA 550g(全固形物の55.0%)、TMPEOTA 285g(28.5
%)、o-CHABI 106g(10.6%)、2-MBO 39g(3.9%)、ATU 1.
0g(0.1%)、DMJDI 19g(1.9%)、およびTAOBN 0.3g(0.03
%)。溶液はすべての成分を適切に溶解するために24時間
攪拌した。これは塗布速度150ft/分(45.7m/分)で、
アルミ加工したポリエチレンテレフタレート上に塗布さ
れた。塗布量は110mg/dm2である。ポリプロピレンのカ
バーシートが、乾燥後直ちにフオトポリマの表面上に被
着された。約20×30インチ(50.8×76.2cm)のフイルム
が、2.5W(9.42mJ/cm2)で作動させたアルゴンイオンレ
ーザの488mmの光で露光された。ポリプロピレンのカバ
ーシートを取り除いた後、マスタは帯電され、黒色トナ
ーでトーニングされ、そしてトナー像は用紙に転写され
た。ドツト範囲3〜98%、ドツトゲイン+15、解像力10
μ、そして光学濃度1.63のプルーフが得られた。イメー
ジングに要したエネルギは1.6mJ/cm2である。
SMMA 550g(全固形物の55.0%)、TMPEOTA 285g(28.5
%)、o-CHABI 106g(10.6%)、2-MBO 39g(3.9%)、ATU 1.
0g(0.1%)、DMJDI 19g(1.9%)、およびTAOBN 0.3g(0.03
%)。溶液はすべての成分を適切に溶解するために24時間
攪拌した。これは塗布速度150ft/分(45.7m/分)で、
アルミ加工したポリエチレンテレフタレート上に塗布さ
れた。塗布量は110mg/dm2である。ポリプロピレンのカ
バーシートが、乾燥後直ちにフオトポリマの表面上に被
着された。約20×30インチ(50.8×76.2cm)のフイルム
が、2.5W(9.42mJ/cm2)で作動させたアルゴンイオンレ
ーザの488mmの光で露光された。ポリプロピレンのカバ
ーシートを取り除いた後、マスタは帯電され、黒色トナ
ーでトーニングされ、そしてトナー像は用紙に転写され
た。ドツト範囲3〜98%、ドツトゲイン+15、解像力10
μ、そして光学濃度1.63のプルーフが得られた。イメー
ジングに要したエネルギは1.6mJ/cm2である。
実施例9 以下の組成物が作られた:メチレンクロライド2333g、P
SMMA 550g(全固形物の55.0%)、TMPEOTA 285g(28.5
%)、o-CHABI 106g(10.6%)、2-MBO 39g(3.9%)、ATU 1.
0g(0.1%)、DMJDI 16g(1.6%)、JAW 3g(0.3%)、およびTAO
BN 0.3g(0.03%)。溶液はすべての成分を適切に溶解する
ために24時間攪拌した。これは実施例8で述べたように
塗布し露光をされた。塗布量は114mg/dm2である。ポリ
プロピレンのカバーシートを取り除いた後、マスタは帯
電され、黒色トナーでトーニングされ、そしてトナー像
は用紙に転写された。ドツト範囲2〜98%、ドツトゲイ
ン+15、解像力6μ、そして光学濃度1.54のプルーフが
得られた。イメージングに要したエネルギは0.8mJ/cm2
である。
SMMA 550g(全固形物の55.0%)、TMPEOTA 285g(28.5
%)、o-CHABI 106g(10.6%)、2-MBO 39g(3.9%)、ATU 1.
0g(0.1%)、DMJDI 16g(1.6%)、JAW 3g(0.3%)、およびTAO
BN 0.3g(0.03%)。溶液はすべての成分を適切に溶解する
ために24時間攪拌した。これは実施例8で述べたように
塗布し露光をされた。塗布量は114mg/dm2である。ポリ
プロピレンのカバーシートを取り除いた後、マスタは帯
電され、黒色トナーでトーニングされ、そしてトナー像
は用紙に転写された。ドツト範囲2〜98%、ドツトゲイ
ン+15、解像力6μ、そして光学濃度1.54のプルーフが
得られた。イメージングに要したエネルギは0.8mJ/cm2
である。
実施例10 この実施例は4色カラープルーフを作るための、光硬化
性静電マスタの使用を示している。
性静電マスタの使用を示している。
以下の組成物が作られた:メチレンクロライド2333g、P
SMMA 530g(全固形物の53.0%)、TMPEOTA 290g(29.0
%)、o-CHABI 155g(15.5%)、MPG 1.0g(0.1%)、ATU 5.0
g(0.5%)、DMJDI 15g(1.5%)、JAW 3g(0.3%)、そしてTAOB
N 0.3g(0.03%)。すべての成分を適切に溶解するため
に、24時間攪拌された溶液は150ft/分(45.7m/分)の
塗布速度で、アルミ加工したポリエチレンテレフタレー
ト上に塗布された。塗布量は121mg/dm2である。ポリプ
ロピレンのカバーシートが、乾燥後直ちにフオトポリマ
表面上に被着された。このようにして作られた材料は、
4色カラープルーフを作るために、約20×30インチ(50.
8×76.2cm)の大きさに4枚切りとられた。
SMMA 530g(全固形物の53.0%)、TMPEOTA 290g(29.0
%)、o-CHABI 155g(15.5%)、MPG 1.0g(0.1%)、ATU 5.0
g(0.5%)、DMJDI 15g(1.5%)、JAW 3g(0.3%)、そしてTAOB
N 0.3g(0.03%)。すべての成分を適切に溶解するため
に、24時間攪拌された溶液は150ft/分(45.7m/分)の
塗布速度で、アルミ加工したポリエチレンテレフタレー
ト上に塗布された。塗布量は121mg/dm2である。ポリプ
ロピレンのカバーシートが、乾燥後直ちにフオトポリマ
表面上に被着された。このようにして作られた材料は、
4色カラープルーフを作るために、約20×30インチ(50.
8×76.2cm)の大きさに4枚切りとられた。
4色カラープルーフは、露光がドウシツトオプシヨン×
露光ユニツトによって行われる代りに、アルゴンイオン
レーザの488mmの線により行われた点を除いて、4色カ
ラープルーフのための一般的方法に従って行われた。露
光エネルギは約4mJ/cm2であった。
露光ユニツトによって行われる代りに、アルゴンイオン
レーザの488mmの線により行われた点を除いて、4色カ
ラープルーフのための一般的方法に従って行われた。露
光エネルギは約4mJ/cm2であった。
以上、本発明を詳細に説明したが、本発明はさらに次の
実施態様によってこれを要約して示すことができる。
実施態様によってこれを要約して示すことができる。
1)エチレン性不飽和モノマ、有機ポリマバインダ、お
よび光開始剤系で作った、光重合性組成物を担持する電
導性基体からなる静電マスタにおいて、該光重合性組成
物が静電減衰用添加剤のチオ尿素またはチオアミドを含
むものである、改良された静電マスタ。
よび光開始剤系で作った、光重合性組成物を担持する電
導性基体からなる静電マスタにおいて、該光重合性組成
物が静電減衰用添加剤のチオ尿素またはチオアミドを含
むものである、改良された静電マスタ。
2)静電減衰用添加剤は1−アルリル−2−チオ尿素;
1,3−ジブチル−2−チオ尿素;ジフエニルチオ尿素;
および1−エチル−2−チオ尿素からなる群より選ばれ
たものである、前項1記載の静電マスタ。
1,3−ジブチル−2−チオ尿素;ジフエニルチオ尿素;
および1−エチル−2−チオ尿素からなる群より選ばれ
たものである、前項1記載の静電マスタ。
3)チオ尿素静電減衰用添加剤はチオ尿素のチオエノー
ルである、前項1記載の静電マスタ。
ルである、前項1記載の静電マスタ。
4)静電減衰用添加剤はチオアミドである、前項1記載
の静電マスタ。
の静電マスタ。
5)チオ尿素またはチオアミド静電減衰用添加剤は、2
秒で5ボルト以下に未重合区域の表面電圧を低下させる
ために効果的な分量で存在するものである、前項1記載
の静電マスタ。
秒で5ボルト以下に未重合区域の表面電圧を低下させる
ために効果的な分量で存在するものである、前項1記載
の静電マスタ。
6)静電減衰用添加剤は、重量で光重合性組成物の0.1
〜5%の分量で存在するものである、前項5記載の静電
マスタ。
〜5%の分量で存在するものである、前項5記載の静電
マスタ。
7)静電減衰用添加剤は1−アルリル−2−チオ尿素;
1,3−ジブチル−2−チオ尿素;ジフエニルチオ尿素;
および1−エチル−2−チオ尿素からなる群より選ばれ
たものである、前項6記載の静電マスタ。
1,3−ジブチル−2−チオ尿素;ジフエニルチオ尿素;
および1−エチル−2−チオ尿素からなる群より選ばれ
たものである、前項6記載の静電マスタ。
8)チオ尿素静電減衰用添加剤はチオ尿素のチオエノー
ルである、前項6記載の静電マスタ。
ルである、前項6記載の静電マスタ。
9)静電減衰用添加剤はチオアミドである、前項6記載
の静電マスタ。
の静電マスタ。
Claims (1)
- 【請求項1】エチレン性不飽和モノマ、有機ポリマバイ
ンダ、および光開始剤系で作った、光重合性組成物を担
持する電導性基体からなる静電マスタにおいて、該光重
合性組成物が静電減衰用添加剤のチオ尿素またはチオア
ミドを含むものである、改良された静電マスタ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US284,891 | 1981-07-20 | ||
US07/284,891 US4911999A (en) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | Electrostatic master containing thiourea or thioamide electrostatic decay additive for high speed xeroprinting |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02230258A JPH02230258A (ja) | 1990-09-12 |
JPH0623869B2 true JPH0623869B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=23091925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1320744A Expired - Lifetime JPH0623869B2 (ja) | 1988-12-13 | 1989-12-12 | 高速ゼロプリンテイング用の改良された静電マスタ |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4911999A (ja) |
EP (1) | EP0373533A3 (ja) |
JP (1) | JPH0623869B2 (ja) |
KR (1) | KR900009304A (ja) |
CN (1) | CN1043575A (ja) |
AU (1) | AU601339B2 (ja) |
CA (1) | CA2004954A1 (ja) |
DK (1) | DK626489A (ja) |
NO (1) | NO894991L (ja) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4945020A (en) * | 1989-06-30 | 1990-07-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive leuco dye containing electrostatic master with printout image |
US5139905A (en) * | 1990-10-09 | 1992-08-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photohardenable electrostatic master containing a conductive sealant layer |
US5865784A (en) | 1995-06-07 | 1999-02-02 | Alliance Pharmaceutical Corp. | Method of hemodilution facilitated by monitoring oxygenation status |
JP3912705B2 (ja) * | 1998-03-05 | 2007-05-09 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性樹脂版 |
US20010010893A1 (en) * | 1998-03-05 | 2001-08-02 | Hiroshi Takanashi | Negative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same |
KR101319273B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2013-10-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 인쇄판 스테이지, 인쇄시스템 및 그를 이용한 액정표시소자제조방법 |
CN101470351B (zh) * | 2007-12-25 | 2011-11-30 | 乐凯集团第二胶片厂 | 一种防静电柔性固体感光树脂版及其制备方法 |
JP5680015B2 (ja) | 2011-05-24 | 2015-03-04 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および電子写真装置 |
JP5875455B2 (ja) | 2011-05-24 | 2016-03-02 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置、電子写真感光体の製造方法、及びウレア化合物 |
JP5546574B2 (ja) | 2011-11-30 | 2014-07-09 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
US9868873B2 (en) | 2012-05-17 | 2018-01-16 | Xerox Corporation | Photochromic security enabled ink for digital offset printing applications |
US20130310517A1 (en) | 2012-05-17 | 2013-11-21 | Xerox Corporation | Methods for manufacturing curable inks for digital offset printing applications and the inks made therefrom |
US9611403B2 (en) | 2012-05-17 | 2017-04-04 | Xerox Corporation | Fluorescent security enabled ink for digital offset printing applications |
US9499701B2 (en) | 2013-05-17 | 2016-11-22 | Xerox Corporation | Water-dilutable inks and water-diluted radiation curable inks useful for ink-based digital printing |
US9745484B2 (en) | 2013-09-16 | 2017-08-29 | Xerox Corporation | White ink composition for ink-based digital printing |
US9644105B2 (en) | 2013-12-23 | 2017-05-09 | Xerox Corporation | Aqueous dispersible polymer inks |
US9724909B2 (en) | 2013-12-23 | 2017-08-08 | Xerox Corporation | Methods for ink-based digital printing with high ink transfer efficiency |
US10113076B2 (en) | 2014-09-30 | 2018-10-30 | Xerox Corporation | Inverse emulsion acrylate ink compositions for ink-based digital lithographic printing |
US9416285B2 (en) | 2014-12-17 | 2016-08-16 | Xerox Corporation | Acrylate ink compositions for ink-based digital lithographic printing |
US9956760B2 (en) | 2014-12-19 | 2018-05-01 | Xerox Corporation | Multilayer imaging blanket coating |
US9815992B2 (en) | 2015-01-30 | 2017-11-14 | Xerox Corporation | Acrylate ink compositions for ink-based digital lithographic printing |
US9890291B2 (en) | 2015-01-30 | 2018-02-13 | Xerox Corporation | Acrylate ink compositions for ink-based digital lithographic printing |
US10323154B2 (en) | 2015-02-11 | 2019-06-18 | Xerox Corporation | White ink composition for ink-based digital printing |
US9751326B2 (en) | 2015-02-12 | 2017-09-05 | Xerox Corporation | Hyperbranched ink compositions for controlled dimensional change and low energy curing |
US9434848B1 (en) | 2015-03-02 | 2016-09-06 | Xerox Corporation | Process black ink compositions and uses thereof |
US9956757B2 (en) | 2015-03-11 | 2018-05-01 | Xerox Corporation | Acrylate ink compositions for ink-based digital lithographic printing |
US9744757B1 (en) | 2016-08-18 | 2017-08-29 | Xerox Corporation | Methods for rejuvenating an imaging member of an ink-based digital printing system |
US11939478B2 (en) | 2020-03-10 | 2024-03-26 | Xerox Corporation | Metallic inks composition for digital offset lithographic printing |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2953505A (en) * | 1954-12-01 | 1960-09-20 | Hogan Faximile Corp | Electrolytic recording medium |
US3046127A (en) * | 1957-10-07 | 1962-07-24 | Du Pont | Photopolymerizable compositions, elements and processes |
US3354058A (en) * | 1963-10-07 | 1967-11-21 | Milton Alden | Electrolytic recording paper containing a polyhydroxy benzene marking compound and an organic dicarboxylic acid |
US3342705A (en) * | 1964-07-03 | 1967-09-19 | Hogan Faximile Corp | Electrolytic recording medium containing a halogenated polyhydric phenol |
US3342704A (en) * | 1964-07-03 | 1967-09-19 | Hogan Faximile Corp | Electrolytic recording medium containing a polynuclear phenol |
US3341431A (en) * | 1964-07-03 | 1967-09-12 | Hogan Faximile Corp | Electrolytic recording medium containing a phenolic ether |
US3344044A (en) * | 1964-07-03 | 1967-09-26 | Hogan Faximile Corp | Electrolytic recording medium containing a quaternary ammonium compounds |
GB1166451A (en) * | 1965-06-16 | 1969-10-08 | Kodak Ltd | Photographic Reproduction |
US3469979A (en) * | 1965-11-26 | 1969-09-30 | Dennison Mfg Co | Electrophotographic recording element with increased speed |
US3630729A (en) * | 1969-06-25 | 1971-12-28 | Dick Co Ab | Electrophotographic multicolor copy process employing solubilizable dyes |
US3728112A (en) * | 1970-12-01 | 1973-04-17 | Dick Co Ab | Electrophotographic multicolor copy process employing solubilizable dyes |
US4077802A (en) * | 1970-12-01 | 1978-03-07 | A. B. Dick Company | Single color electrophotographic copy process |
US3754907A (en) * | 1970-12-01 | 1973-08-28 | Dick Co Ab | Method for transferring a dye image and electrophotographic copy process embodying same |
US3717463A (en) * | 1971-06-25 | 1973-02-20 | Dick Co Ab | Electrophotographic multicolor copy developed receptor employing solubilizable dyes |
US4115289A (en) * | 1973-08-02 | 1978-09-19 | A. B. Dick Company | Dry powdered or liquid developer compositions |
JPS532361B2 (ja) * | 1974-02-23 | 1978-01-27 | ||
JPS55133030A (en) * | 1979-04-03 | 1980-10-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
DE3409888A1 (de) * | 1984-03-17 | 1985-09-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung |
US4732831A (en) * | 1986-05-01 | 1988-03-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Xeroprinting with photopolymer master |
EP0243934A3 (en) * | 1986-05-01 | 1990-04-18 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Xeroprinting with photopolymer master |
US4681828A (en) * | 1986-09-02 | 1987-07-21 | Eastman Kodak Company | Method of chemical electrographic image amplification using chemically active toner particles |
US4849314A (en) * | 1987-11-04 | 1989-07-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photohardenable electrostatic master containing electron acceptor or donor |
US4818660A (en) * | 1987-11-04 | 1989-04-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photohardenable electrostatic master having improved backtransfer and charge decay |
-
1988
- 1988-12-13 US US07/284,891 patent/US4911999A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-11-30 AU AU45743/89A patent/AU601339B2/en not_active Ceased
- 1989-12-08 EP EP19890122693 patent/EP0373533A3/en not_active Withdrawn
- 1989-12-08 CA CA002004954A patent/CA2004954A1/en not_active Abandoned
- 1989-12-12 KR KR1019890018393A patent/KR900009304A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-12-12 DK DK626489A patent/DK626489A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-12-12 JP JP1320744A patent/JPH0623869B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-12 NO NO89894991A patent/NO894991L/no unknown
- 1989-12-13 CN CN89109248A patent/CN1043575A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02230258A (ja) | 1990-09-12 |
CN1043575A (zh) | 1990-07-04 |
CA2004954A1 (en) | 1990-06-13 |
NO894991D0 (no) | 1989-12-12 |
KR900009304A (ko) | 1990-07-04 |
NO894991L (no) | 1990-06-14 |
US4911999A (en) | 1990-03-27 |
EP0373533A3 (en) | 1991-09-04 |
AU4574389A (en) | 1990-07-05 |
AU601339B2 (en) | 1990-09-06 |
DK626489A (da) | 1990-06-14 |
DK626489D0 (da) | 1989-12-12 |
EP0373533A2 (en) | 1990-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0623869B2 (ja) | 高速ゼロプリンテイング用の改良された静電マスタ | |
US5120629A (en) | Positive-working photosensitive electrostatic master | |
US4732831A (en) | Xeroprinting with photopolymer master | |
JPH0646326B2 (ja) | 光硬化性の静電マスターを用いてポジおよびネガ画像を作る方法 | |
US5028503A (en) | Photohardenable electrostatic element with improved backtransfer characteristics | |
US4945020A (en) | Photosensitive leuco dye containing electrostatic master with printout image | |
US4849314A (en) | Photohardenable electrostatic master containing electron acceptor or donor | |
US5043237A (en) | Inhibitor-containing photohardenable electrostatic master compositions having improved resolution | |
US4818660A (en) | Photohardenable electrostatic master having improved backtransfer and charge decay | |
US4897327A (en) | Correct-reading images from photopolymer electrographic master | |
US5006434A (en) | Photohardenable electrostatic element with improved environmental latitude | |
US4960660A (en) | High resolution superimposed images from photopolymer electrographic master | |
JPH021868A (ja) | 光電写真材料及び光電写真法 | |
US5064740A (en) | Photohardenable electrostatic element with improved environmental latitude | |
US5139905A (en) | Photohardenable electrostatic master containing a conductive sealant layer | |
CA2050947A1 (en) | Electrophotographic, peel-apart color proofing system | |
JPH0233154A (ja) | 光電写真材料及び光電写真法 |