JPH06237122A - Microwave semiconductor device - Google Patents

Microwave semiconductor device

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JPH06237122A
JPH06237122A JP50A JP2282593A JPH06237122A JP H06237122 A JPH06237122 A JP H06237122A JP 50 A JP50 A JP 50A JP 2282593 A JP2282593 A JP 2282593A JP H06237122 A JPH06237122 A JP H06237122A
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JP
Japan
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microwave
capacitor
semiconductor device
electrode
circuit
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Application number
JP50A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Sekiguchi
剛 関口
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a microwave semiconductor device having electrode structure capable of measuring quickly and accurately an on-wafer characteristic. CONSTITUTION:In the microwave semiconductor device in which a bonding electrode (not shown) used for bonding a wire is formed to one terminal of a microstrip line 1 through which a microwave signal is transfered with an amplifier 40, a capacitor 10 is inserted and connected in the midway of the transmission line 1 and measurement use electrodes 2a, 2b are formed, which are located at both sides of the microstrip line 11 closer than the amplifier 40 and the high frequency characteristic of the amplifier 40 is measured by having only to make the signal terminal 45 of a microwave probe 44 abut on the microstrip line 11 and to make ground terminals 46, 47 abut on the measurement use electrodes 2a, 2b respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波信号を扱う
モノリシック半導体集積回路(以下、MMIC)に関
し、特に、入出力電極パターンのレイアウトに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a monolithic semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as MMIC) that handles microwave signals, and more particularly to a layout of input / output electrode patterns.

【0002】[0002]

【従来の技術】MMICを用いた高周波回路の設計に際
しては、入出力回路の整合が重要課題となる。特に、低
雑音増幅回路(以下、LNA)の場合には、高利得を確
保しつつ雑音指数NFを最小にしなければならず、高精
度の設計、製造技術が必要となる。
2. Description of the Related Art In designing a high frequency circuit using an MMIC, matching of input / output circuits is an important issue. Particularly, in the case of a low noise amplifier circuit (hereinafter, LNA), it is necessary to minimize the noise figure NF while ensuring a high gain, which requires a highly accurate design and manufacturing technique.

【0003】図4(a)は一般的なLNAの構成図、同
(b)はその信号源インピーダンスの説明図である。図
4(a)中、30は入力回路、31は帰還回路、32は
出力回路であり、30a〜30c、31a、32a〜3
2cはマイクロストリップ線路を表している。また、Γ
optは雑音指数NFが最小となるときの信号源インピ
ーダンスであり、50Ω系の増幅器では純抵抗50Ωと
なるのが望ましい。また、S11は増幅器の入力インピー
ダンスであり、これについても純抵抗50Ωとなるのが
望ましい。S11*は、S11の複素共役値であり、前記Γ
optをこのS11*と一致するように入力回路30の構
成を工夫することで入出力回路の整合が可能となる。
FIG. 4A is a structural diagram of a general LNA, and FIG. 4B is an explanatory diagram of its signal source impedance. In FIG. 4A, 30 is an input circuit, 31 is a feedback circuit, 32 is an output circuit, and 30a to 30c, 31a, 32a to 3 are shown.
2c represents a microstrip line. Also, Γ
opt is a signal source impedance when the noise figure NF is minimum, and is preferably 50Ω pure resistance in a 50Ω system amplifier. Further, S11 is the input impedance of the amplifier, which is also preferably a pure resistance of 50Ω. S11 * is a complex conjugate value of S11, and
The input / output circuits can be matched by devising the configuration of the input circuit 30 so that opt matches with S11 *.

【0004】このような回路のウエハプロセス終了後の
検査は、オンウエハ、即ち、ウエハ状態のままで高周波
特性の測定を行うことが多く、そのため、従来、MMI
Cの入出力ポートに特殊な電極パターンを形成して測定
系との整合が図られている。
In the inspection after the completion of the wafer process of such a circuit, the high frequency characteristics are often measured on-wafer, that is, in the wafer state.
A special electrode pattern is formed on the input / output port of C to match the measurement system.

【0005】図5はこの種のMMICの入力ポートの概
略構成図であり、各半導体チップ49(ただし、オンウ
エハ測定時には、隣接する他のチップと一体化してウエ
ハを構成している)は、増幅器40の入力信号線(マイ
クロストリップ線路、以下同じ)41の両サイドに、接
地パッド42、43を設けた特殊な電極パターンとなっ
ている。これら接地パッド42、43はバイアホールで
裏面の接地導体に接続されている。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an input port of this type of MMIC. Each semiconductor chip 49 (however, at the time of on-wafer measurement, is integrated with another adjacent chip to configure a wafer) is an amplifier. There is a special electrode pattern in which ground pads 42 and 43 are provided on both sides of an input signal line (microstrip line, the same applies hereinafter) 41 of 40. These ground pads 42 and 43 are connected to the ground conductor on the back surface by via holes.

【0006】測定時には、矢示するように、コプレーナ
線路により一定のインピーダンス(好ましくは50Ω純
抵抗)に設定されたマイクロ波プローブ44の信号端子
45をMMICの入力信号線41に、マイクロ波プロー
ブの接地導体46、47を夫々MMICの接地パッド4
2、43の測定用電極42a,43aに夫々当接する。
これら測定用電極42a,43aは、夫々マイクロ波プ
ローブ44の接地導体46、47の間隔に対応して各接
地パッド42、43の外側端部に配設される。
At the time of measurement, as shown by the arrow, the signal terminal 45 of the microwave probe 44 set to a constant impedance (preferably 50Ω pure resistance) by the coplanar line is connected to the input signal line 41 of the MMIC. The ground conductors 46 and 47 are respectively connected to the ground pad 4 of the MMIC.
The measurement electrodes 42a and 43a are in contact with the measurement electrodes 42a and 43a, respectively.
These measuring electrodes 42a and 43a are arranged at the outer end portions of the ground pads 42 and 43 corresponding to the intervals between the ground conductors 46 and 47 of the microwave probe 44, respectively.

【0007】図6は4段構成のLNAの測定時の等価接
続回路図であり、符号50、55はマイクロ波プロー
ブ、51〜54はFET増幅器を表す。また、図7はこ
の構成に係るLNAの高周波測定を図5の構成にて行っ
た場合の諸特性値を示す。
FIG. 6 is an equivalent connection circuit diagram at the time of measurement of a 4-stage LNA. Reference numerals 50 and 55 are microwave probes and 51 to 54 are FET amplifiers. Further, FIG. 7 shows various characteristic values when the high frequency measurement of the LNA according to this configuration is performed with the configuration of FIG.

【0008】図7を参照すると、例えば12[GHZ ]
のときの雑音指数NFは1.19dB、利得(S21)は
25.19dBが得られる。
Referring to FIG. 7, for example, 12 [GHZ]
In this case, the noise figure NF is 1.19 dB and the gain (S21) is 25.19 dB.

【0009】ところで、図5に示した構成のMMICで
は、実装時にワイヤボンディングを用い、ボンディング
電極となる信号線41の先端部と図示省略した外部端子
との電気的接続を行っているのが通常である。このワイ
ヤによるインダクタンスは、低周波帯では無視できる
が、マイクロ波帯では諸特性に影響し、例えば入力イン
ピーダンスが実装前の値から大きくずれてしまう。そこ
で、図8に示すように、入出力ポートの線路70、71
と実装時のワイヤによるインダクタンスL1 、L2 との
間に直列にそれぞれキャパシタTFC1 、TFC2 を付
加し、各インダクタンスL1 、L2 を補正する構成にす
ることがあった。これらキャパシタTFC1 、TFC2
の値Cは、角周波数(2πf)をωとすると次式により
決まる。
By the way, in the MMIC having the structure shown in FIG. 5, usually, wire bonding is used at the time of mounting to electrically connect the tip of the signal line 41 serving as a bonding electrode to an external terminal (not shown). Is. Although the inductance due to this wire can be ignored in the low frequency band, it affects various characteristics in the microwave band, and, for example, the input impedance largely deviates from the value before mounting. Therefore, as shown in FIG.
In some cases, capacitors TFC1 and TFC2 are added in series between the wiring and the inductances L1 and L2 due to the mounting wire to correct the inductances L1 and L2. These capacitors TFC1 and TFC2
The value C of is determined by the following equation when the angular frequency (2πf) is ω.

【0010】[0010]

【数1】 [Equation 1]

【0011】1/ωC = ωL C = 1/ω2 L 例えば、インダクタンス成分Lが0.6[nH]の場
合、0.29[pF]のキャパシタンスCでこれを補正
可能となる。図9はこの構成において、入出力ポートの
線路70、71の幅及び長さを70[μm]、キャパシ
タTFC1 、TFC2 の電極長さを20[μm]、一対
の電極幅を夫々70[μm]、電極間隔を0.3[μ
m]、比誘電率を7とした場合の諸特性値を示してい
る。なお、基板はGaAsである。例えば12[GHZ
]のときの雑音指数NFは1.191dB、利得(S2
1)は25.185dBとなり、図7と比較すると明ら
かなように殆ど特性値の低下がなかった。
1 / ωC = ωL C = 1 / ω 2 L For example, when the inductance component L is 0.6 [nH], it can be corrected by the capacitance C of 0.29 [pF]. In this configuration, the widths and lengths of the lines 70 and 71 of the input / output ports are 70 [μm], the electrode lengths of the capacitors TFC1 and TFC2 are 20 [μm], and the pair of electrode widths are 70 [μm] in this configuration. , The electrode interval is 0.3 [μ
m] and various dielectric constants when the relative permittivity is 7. The substrate is GaAs. For example, 12 [GHZ
], The noise figure NF is 1.191 dB, and the gain (S2
In 1), the value was 25.185 dB, and there was almost no decrease in the characteristic value as is clear from comparison with FIG. 7.

【0012】このような、キャパシタTFC1 、TFC
2 は、チップ外部に設けると、部品数の増加とこれに伴
う部品代、工数の増加で製造コスト面で不利なばかりで
なく、サイズの大型化につながるため、チップ内部に、
例えば金属ー 絶縁膜- 金属のサンドイッチ構造のMIM
キャパシタを形成している。
Such capacitors TFC1 and TFC
2 is not only disadvantageous in terms of manufacturing cost due to the increase in the number of parts, the cost of parts and the increase in man-hours when it is provided outside the chip, but also leads to an increase in size.
For example, metal-insulator-metal sandwich structure MIM
It forms a capacitor.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、LNA
の信号線にキャパシタTFC1 、TFC2 が直列に付加
された状態でオンウエハ測定を行うと、実装時と異なり
ワイヤが介在しないため、図10の測定結果に示すよう
にLNAの入出力ポートが不整合となる。そのため、雑
音指数が1.65dBに、利得が23dBにそれぞれ低
下してしまい、実装後に期待できる性能が得られず、チ
ップ選別に多大な時間を要する問題があった。また、オ
ンウエハ測定専用のモニタ回路を別途設ける必要があ
り、検査時間の長期化、コスト上昇を伴っていた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, LNA
When the on-wafer measurement is performed with the capacitors TFC1 and TFC2 connected in series to the signal line of, the wires do not intervene unlike the case of mounting, so that the input / output ports of the LNA are mismatched as shown in the measurement result of FIG. Become. Therefore, the noise figure is reduced to 1.65 dB and the gain is reduced to 23 dB, so that expected performance cannot be obtained after mounting, and there is a problem that a lot of time is required for chip selection. Further, it is necessary to separately provide a monitor circuit dedicated to the on-wafer measurement, resulting in a longer inspection time and a higher cost.

【0014】本発明は、かかる問題点を解消するマイク
ロ波半導体集積回路及びその特性試験方法を提供するこ
とを目的としている。
It is an object of the present invention to provide a microwave semiconductor integrated circuit and a characteristic test method therefor which solve the above problems.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明のマイクロ波半導体装置は、回路本体に伝送
線路で接続されたワイヤボンディング電極と、伝送線路
の途中に設けられ、ワイヤボンディング電極に接続され
るべきワイヤのインダクタンスを相殺するキャパシタ
と、このキャパシタよりも回路本体側にある伝送線路の
両側に設けられていて裏面の接地導体に接続された測定
用電極とを備え、測定用電極は、コプレーナ線路で作ら
れたマイクロ波プローブの信号端子をキャパシタよりも
回路本体側にある伝送線路に当接したときにそのマイク
ロ波プローブの接地端子が接触する位置に配置されてい
る。
In order to achieve this object, a microwave semiconductor device of the present invention includes a wire bonding electrode connected to a circuit body by a transmission line and a wire bonding electrode provided in the middle of the transmission line. A capacitor for canceling the inductance of the wire to be connected to the electrode, and a measuring electrode provided on both sides of the transmission line on the circuit body side of this capacitor and connected to the ground conductor on the back surface The electrode is arranged at a position where the ground terminal of the microwave probe comes into contact when the signal terminal of the microwave probe made of the coplanar line comes into contact with the transmission line on the circuit body side of the capacitor.

【0016】[0016]

【作用】コプレーナ線路で作られたマイクロ波プローブ
を用いて特性の測定を行う際には、マイクロ波プローブ
の接地端子を測定用電極に合わせて位置決めすると、マ
イクロ波プローブの信号端子が、実装時のワイヤのイン
ダクタンスを相殺するためのキャパシタよりも回路本体
側にある伝送線路に当接する。したがって、回路本体と
マイクロ波プローブの信号端子とが伝送線路のみを介し
て接続される。また、本マイクロ波半導体装置が実装さ
れる際には、ワイヤボンディング電極と外部端子とがワ
イヤで接続されることになるが、ワイヤボンディング電
極と回路本体との間にはキャパシタが介在しているの
で、ワイヤのインダクタ成分がこのキャパシタで相殺さ
れる。
[Operation] When the characteristics are measured using the microwave probe made of the coplanar line, the grounding terminal of the microwave probe is aligned with the measurement electrode, and the signal terminal of the microwave probe is It contacts the transmission line on the circuit body side of the capacitor for canceling the inductance of the wire. Therefore, the circuit body and the signal terminal of the microwave probe are connected only via the transmission line. Further, when the microwave semiconductor device is mounted, the wire bonding electrode and the external terminal are connected by the wire, but the capacitor is interposed between the wire bonding electrode and the circuit body. Therefore, the inductor component of the wire is canceled by this capacitor.

【0017】[0017]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の一実施例に係るMMICの
入力ポートの概略構成図であり、従来回路を示す図5と
同一構成部品については同一符号を付してその説明を省
略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an input port of an MMIC according to an embodiment of the present invention. The same components as those of FIG. 5 showing a conventional circuit are designated by the same reference numerals and their description is omitted and different. Only the part will be described.

【0019】この実施例では、従来の入力信号線41に
代えて、キャパシタ10をその途中に組み込んだマイク
ロストリップ線路1が用いられている。すなわち、マイ
クロストリップ線路1は、マイクロストリップ線路1
1、キャパシタ10およびマイクロストリップ線路12
が直列に接続された構造となっている。マイクロストリ
ップ線路11他端は回路本体である増幅器10の入力端
子に延びている。また、マイクロストリップ線路12の
他端は、実装時にボンディングワイヤが接続されるワイ
ヤボンディング電極となる。キャパシタ10のキャパシ
タンスは、ワイヤボンディング電極に一端がボンディン
グされるワイヤのインダクタンスを相殺する値に設定さ
れている。マイクロストリップ線路1の両脇には、半導
体チップ49の裏面に形成された接地導体に接続するバ
イアホール2、3が設けられている。バイアホール2、
3には、それぞれ測定時にマイクロ波プローブ44の接
地端子46、47と接触させるための測定用電極2a,
3aが設けられている。これらの測定用電極2a,3a
は、マイクロ波プローブ44の信号端子45をキャパシ
タ10よりも増幅器40側にあるマイクロストリップ線
路11に接触させたときに、接地端子46,47が接触
する位置に配置されている。
In this embodiment, instead of the conventional input signal line 41, the microstrip line 1 in which the capacitor 10 is incorporated is used. That is, the microstrip line 1 is
1, capacitor 10 and microstrip line 12
Are connected in series. The other end of the microstrip line 11 extends to the input terminal of the amplifier 10, which is the circuit body. The other end of the microstrip line 12 serves as a wire bonding electrode to which a bonding wire is connected during mounting. The capacitance of the capacitor 10 is set to a value that cancels the inductance of the wire whose one end is bonded to the wire bonding electrode. Via holes 2 and 3 connected to a ground conductor formed on the back surface of the semiconductor chip 49 are provided on both sides of the microstrip line 1. Via hole 2,
3 is a measuring electrode 2a for making contact with the ground terminals 46, 47 of the microwave probe 44 during measurement,
3a is provided. These measuring electrodes 2a, 3a
Is arranged at a position where the ground terminals 46 and 47 come into contact when the signal terminal 45 of the microwave probe 44 comes into contact with the microstrip line 11 on the amplifier 40 side of the capacitor 10.

【0020】このように構成されたマイクロ波半導体装
置を実装するときには、不図示の外部端子と、ワイヤボ
ンディング電極となるマイクロストリップ線路12の端
部とをボンディングワイヤで接続する。このときのボン
ディングワイヤのインダクタンスは、キャパシタ10で
相殺される。
When the microwave semiconductor device having the above structure is mounted, an external terminal (not shown) is connected to the end of the microstrip line 12 serving as a wire bonding electrode with a bonding wire. The inductance of the bonding wire at this time is canceled by the capacitor 10.

【0021】また、オンウエハでの高周波特性の測定時
には、矢示するように、マイクロ波プローブ44の信号
端子45をマイクロ波ストリップ線路11に、マイクロ
波プローブの接地導体46、47を夫々MMICの測定
用電極2a,3aに夫々当接し、増幅器40の諸特性値
を直接求める。
When the high-frequency characteristics are measured on-wafer, the signal terminal 45 of the microwave probe 44 is measured on the microwave strip line 11 and the ground conductors 46, 47 of the microwave probe are measured on the MMIC as shown by arrows. The respective characteristic values of the amplifier 40 are directly obtained by contacting the respective electrodes 2a and 3a.

【0022】このとき、キャパシタンス10からボンデ
ィング用電極までの線路12がオープンスタブを形成す
るが、オープンスタブ部分のサイズを、使用周波数の波
長に比べて十分小さくなるように設計しておけば、マイ
クロストリップ線路11からキャパシタ10側をみたイ
ンピーダンスを無視することができる。
At this time, the line 12 from the capacitance 10 to the bonding electrode forms an open stub, but if the size of the open stub portion is designed to be sufficiently smaller than the wavelength of the operating frequency, the micro The impedance seen from the strip line 11 to the capacitor 10 side can be ignored.

【0023】図2はこのときの等価接続回路図であり、
図6又は図8に対応する。図3はこの構成により得られ
た諸特性値であり、キャパシタンスTFC1 、TFC2
のサイズを図6の場合と同一とし、その両側線路20〜
23の長さ及び幅を70[μm]、基板をGaAsとし
た場合の例が示されている。
FIG. 2 is an equivalent connection circuit diagram at this time.
It corresponds to FIG. 6 or 8. FIG. 3 shows various characteristic values obtained by this configuration, and the capacitances TFC1 and TFC2.
The same size as in the case of FIG.
An example in which the length and width of 23 are 70 [μm] and the substrate is GaAs is shown.

【0024】図3を参照すると、例えば12[GHZ ]
のときの雑音指数NFは1.207dB、利得(S21)
は25.083dBであり、実装時の測定結果(図9)
と比較するといずれもわずかの低下に留まった。従っ
て、図10に示した特性値に比べて格段に改善されてお
り、実装前の検査として十分判断となる値が得られてい
る。
Referring to FIG. 3, for example, 12 [GHZ]
The noise figure NF is 1.207 dB and gain (S21)
Is 25.083 dB, which is the measurement result during mounting (Fig. 9).
Compared with the above, all of them decreased only slightly. Therefore, the characteristic values are remarkably improved as compared with the characteristic values shown in FIG. 10, and a sufficient judgment value is obtained as the inspection before mounting.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
マイクロ波半導体装置では、ボンディング用電極と回路
本体との間の線路にキャパシタを挿入接続するととも
に、測定用の接地電極を最適な位置に配置したので、マ
イクロ波プローブを当接するだけで半導体チップの正確
なオンウエハ測定が可能となり、これにより、オンウエ
ハ測定専用のモニタ回路が不要となり、設計時の検査時
間が短縮される。
As described above in detail, in the microwave semiconductor device of the present invention, the capacitor is inserted and connected to the line between the bonding electrode and the circuit body, and the ground electrode for measurement is optimized. Since it is arranged at the position, the on-wafer measurement of the semiconductor chip can be accurately performed only by bringing the microwave probe into contact, which eliminates the need for a monitor circuit dedicated to the on-wafer measurement and shortens the inspection time at the time of design.

【0026】また、キャパシタを金属ー 絶縁膜- 金属の
サンドイッチ構造として伝送線路に一体に組み込めるよ
うにしたので、サイズの小型化、部品点数及び組立行程
数の低減、コストの低減が図れる。
Further, since the capacitor is integrated into the transmission line as a metal-insulator-metal sandwich structure, the size can be reduced, the number of parts and the number of assembling steps can be reduced, and the cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るMMICの入力ポート
の概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an input port of an MMIC according to an embodiment of the present invention.

【図2】この実施例による高周波特性測定時の等価接続
回路図。
FIG. 2 is an equivalent connection circuit diagram at the time of measuring high frequency characteristics according to this embodiment.

【図3】図2の構成により得られた高周波特性値を示す
図。
3 is a diagram showing high-frequency characteristic values obtained by the configuration of FIG.

【図4】(a)は一般的な低雑音増幅器(LNA)の構
成図、(b)はその信号源インピーダンスの説明図。
4A is a configuration diagram of a general low noise amplifier (LNA), and FIG. 4B is an explanatory diagram of a signal source impedance thereof.

【図5】本発明が適用される従来のMMICの入力ポー
トの概略構成図。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an input port of a conventional MMIC to which the present invention is applied.

【図6】図5の構成による高周波特性測定時の等価接続
回路図。
FIG. 6 is an equivalent connection circuit diagram at the time of measuring high-frequency characteristics according to the configuration of FIG.

【図7】図6の構成により得られた高周波特性値示す
図。
7 is a diagram showing high-frequency characteristic values obtained by the configuration of FIG.

【図8】ボンディングワイヤのインダクタンスを打ち消
すためのキャパシタを設けてオンウエハ測定を行うとき
の従来の等価接続回路図。
FIG. 8 is a conventional equivalent connection circuit diagram when an on-wafer measurement is performed by providing a capacitor for canceling the inductance of a bonding wire.

【図9】図8の構成により得られた高周波特性値を示す
図。
9 is a diagram showing high frequency characteristic values obtained by the configuration of FIG.

【図10】図9の構成でオンウエハ測定を行ったときの
高周波特性値を示す図。
10 is a diagram showing high-frequency characteristic values when on-wafer measurement is performed with the configuration of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,20〜23,70,71,41…マイクロストリッ
プ線路、L…ボンディングワイヤのインダクタンス、1
0,TFC1 ,TFC2 …キャパシタ、2a,3a,4
2a,43a…測定用電極、2,3,42,43…接地
パッド(バイアホール)、40…増幅器、44…マイク
ロ波プローブ、45…信号端子、46,47…接地端
子。
1, 20-23, 70, 71, 41 ... Microstrip line, L ... Bonding wire inductance, 1
0, TFC1, TFC2 ... Capacitors 2a, 3a, 4
2a, 43a ... Measuring electrode, 2, 3, 42, 43 ... Ground pad (via hole), 40 ... Amplifier, 44 ... Microwave probe, 45 ... Signal terminal, 46, 47 ... Ground terminal.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路本体と、 この回路本体に伝送線路で接続されたワイヤボンディン
グ電極と、 前記伝送線路の途中に設けられ、前記ワイヤボンディン
グ電極に接続されるべきワイヤのインダクタンスを相殺
するキャパシタと、 このキャパシタよりも前記回路本体側にある前記伝送線
路の両側に設けられ、裏面の接地導体に接続された測定
用電極とを備え、 前記測定用電極は、コプレーナ線路で作られたマイクロ
波プローブの信号端子を前記キャパシタよりも前記回路
本体側にある前記伝送線路に当接したときにそのマイク
ロ波プローブの接地端子が接触する位置に配置されてい
ることを特徴とするマイクロ波半導体装置。
1. A circuit main body, a wire bonding electrode connected to the circuit main body by a transmission line, and a capacitor provided in the middle of the transmission line to cancel the inductance of a wire to be connected to the wire bonding electrode. A microwave probe made of a coplanar line, the measurement electrode being provided on both sides of the transmission line closer to the circuit body than the capacitor, and being connected to a ground conductor on the rear surface. The microwave semiconductor device is arranged at a position where the ground terminal of the microwave probe comes into contact with the signal terminal when the signal terminal comes into contact with the transmission line on the circuit body side of the capacitor.
【請求項2】 前記キャパシタは、金属−絶縁膜−金属
のサンドイッチ構造のものであることを特徴とする請求
項1に記載のマイクロ波半導体装置。
2. The microwave semiconductor device according to claim 1, wherein the capacitor has a metal-insulating film-metal sandwich structure.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000188501A (en) * 1998-12-22 2000-07-04 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor switch
JP2003289149A (en) * 2002-03-28 2003-10-10 Sumitomo Electric Ind Ltd Light-receiving module
JP2005006031A (en) * 2003-06-11 2005-01-06 Sony Corp Amplifier and receiving circuit
US6859990B2 (en) 2002-02-26 2005-03-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Characteristics evaluation method of intermediate layer circuit

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