JPH06236509A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH06236509A
JPH06236509A JP23203393A JP23203393A JPH06236509A JP H06236509 A JPH06236509 A JP H06236509A JP 23203393 A JP23203393 A JP 23203393A JP 23203393 A JP23203393 A JP 23203393A JP H06236509 A JPH06236509 A JP H06236509A
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JP
Japan
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glass
magnetic
film
ferrite
films
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JP23203393A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Saito
正 斎藤
Shinji Takahashi
伸司 高橋
Toshinobu Watanabe
利信 渡辺
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH06236509A publication Critical patent/JPH06236509A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To inhibit the cracking of melt bonding glass and ferrite substrates as well as to prevent the corrosion of metallic magnetic films by the melt bonding glass even in the absence of protective films and to suppress the reduction of regenerative output due to decrease of track width. CONSTITUTION:Ferrite substrates 3, 5 are laminated on ferrite substrates 4, 6 with formed metallic magnetic films 1, 2 with glass films 10, 11 in-between and track width regulating grooves 18, 19 are formed in the substrates 3-6 to obtain a pair of magnetic core halves. The objective magnetic head is produced by bonding the magnetic core halves with melt bonding glass 9 with a gap in-between. The glass transition temp. Tg of glass for laminating the substrates 3-6 is made higher than the yield point Tc of the melt bonding glass 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される磁気ヘッドに関し、特にフェライ
ト基板の積層に用いるガラスとギャップ接合に用いる融
着ガラスに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head mounted on, for example, a video tape recorder, and more particularly to a glass used for laminating ferrite substrates and a fused glass used for gap bonding.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、磁気記録の分野においては、高
周波特性に優れる高密度磁気記録用の磁気ヘッドとして
金属磁性薄膜を絶縁膜を介して何層にも積層してなる積
層メタル膜ヘッドの開発が行われている。
2. Description of the Related Art In the field of magnetic recording, for example, as a magnetic head for high-density magnetic recording having excellent high frequency characteristics, development of a laminated metal film head in which metal magnetic thin films are laminated in multiple layers with an insulating film interposed therebetween. Is being done.

【0003】かかる磁気ヘッドとしては、例えば図29
に示すように、膜厚の薄い金属磁性薄膜を絶縁膜を介し
て何層にも積層してなる積層メタル膜101,102を
一対の磁気コア基板103,104及び105,106
によって挟み込んで作製される磁気コア半体107,1
08同士を、上記積層メタル膜101,102の端面同
士を突き合わせて融着ガラス109により接合一体化さ
れてなる。
An example of such a magnetic head is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a pair of magnetic core substrates 103, 104 and 105, 106 are formed by laminating a plurality of laminated metal films 101, 102 in which metal magnetic thin films having a small thickness are laminated with an insulating film interposed therebetween.
Magnetic core halves 107, 1 produced by being sandwiched by
The end surfaces of the laminated metal films 101 and 102 are abutted with each other and joined together by a fused glass 109.

【0004】一般に、上記磁気ヘッドにおいては、積層
メタル膜101,102の膜厚を磁気ギャップgのトラ
ック幅TWとすることから、上記磁気コア基板103,
104及び105,106にはセラミックスや結晶化ガ
ラス等の非磁性材料よりなる基板が用いられる。
Generally, in the magnetic head, since the film thickness of the laminated metal films 101 and 102 is set to the track width TW of the magnetic gap g, the magnetic core substrate 103,
Substrates made of non-magnetic material such as ceramics or crystallized glass are used for 104, 105 and 106.

【0005】しかしながら、かかる磁気ヘッドにおい
て、さらなる高密度記録を達成するためにトラック幅T
Wを狭くして行くと、図30に示すように、積層メタル
膜101,102のコア断面積の減少によってヘッド効
率が劣化する。
However, in such a magnetic head, in order to achieve higher density recording, the track width T
As W is narrowed, as shown in FIG. 30, the head efficiency is deteriorated due to the decrease in the core cross-sectional area of the laminated metal films 101 and 102.

【0006】このため、さらに従来においては、コア断
面積の確保によってヘッド効率の劣化を防止すべく、磁
気コア基板103,104,105,106にフェライ
ト等の酸化物磁性材料を使用することが提案されてい
る。
For this reason, in the prior art, it has been proposed to use an oxide magnetic material such as ferrite for the magnetic core substrates 103, 104, 105 and 106 in order to prevent deterioration of head efficiency by ensuring the core cross-sectional area. Has been done.

【0007】これによれば、トラック幅TWを狭トラッ
ク化した場合でも、図31ないし図33に示すように、
フェライト基板を用いた磁気ヘッドにおいては、非磁性
基板を用いた磁気ヘッドに比べてヘッド効率の劣化によ
るヘッド再生出力の低下を抑制することができる。特
に、トラック幅TWが5μmと非常に狭トラック化され
た場合、その効果は顕著に表れる。
According to this, even when the track width TW is narrowed, as shown in FIGS. 31 to 33,
In a magnetic head using a ferrite substrate, it is possible to suppress a reduction in head reproduction output due to deterioration in head efficiency, as compared with a magnetic head using a non-magnetic substrate. In particular, when the track width TW is extremely narrow, that is, 5 μm, the effect is remarkable.

【0008】ところで、磁気コア基板103,104,
105,106にフェライトを用いた磁気ヘッドを作製
するには、以下の手順に従って作製する。先ず、図34
に示すように、フェライト基板110の一主面110a
に、磁気ギャップ近傍となる部分を予め機械加工等によ
って断面略コ字状をなす溝111を基板全体に亘って形
成する。
By the way, the magnetic core substrates 103, 104,
A magnetic head using ferrite for 105 and 106 is manufactured according to the following procedure. First, FIG.
As shown in FIG.
First, a groove 111 having a substantially U-shaped cross section is formed in advance in the portion near the magnetic gap by machining or the like over the entire substrate.

【0009】次に、図35に示すように、上記溝111
内に非磁性材としてガラス112を充填する。次いで、
上記溝111より溢れたガラス112を上記フェライト
基板110の一主面110aが露出するまで平面研磨し
た後、かかる研磨面を鏡面加工する。
Next, as shown in FIG. 35, the groove 111 is formed.
The inside is filled with glass 112 as a non-magnetic material. Then
The glass 112 overflowing from the groove 111 is flat-polished until the main surface 110a of the ferrite substrate 110 is exposed, and then the polished surface is mirror-finished.

【0010】次に、鏡面加工された主面110a上に膜
厚の薄い金属磁性薄膜を絶縁膜を介して何層にも積層し
て積層メタル膜113を形成する。そして、この積層メ
タル膜113上に後述のフェライト基板を接合一体化す
るためのガラス膜114をスパッタリング等によって積
層する。
Next, a laminated metal film 113 is formed by laminating a thin metal magnetic thin film on the mirror-finished main surface 110a through an insulating film. Then, a glass film 114 for joining and integrating a ferrite substrate, which will be described later, is laminated on the laminated metal film 113 by sputtering or the like.

【0011】次に、図38に示すように、上記ガラス膜
114に重ねて同様にして作製した同一形状のフェライ
ト基板115を重ね合わせ、これらフェライト基板11
0,115同士を上記ガラス膜114によって接合一体
化する。そして、その接合ブロック116をガラス11
2が充填されている溝111の中心から分断して二分す
る。
Next, as shown in FIG. 38, the ferrite substrates 115 of the same shape, which are produced in the same manner as the glass film 114, are superposed on each other.
0 and 115 are bonded and integrated by the glass film 114. Then, the joining block 116 is attached to the glass 11
It divides from the center of the groove 111 filled with 2 and divides into two.

【0012】次に、図39に示すように、その二分され
た各磁気コア半体ブロック117,118にそれぞれコ
イルを巻装するための巻線溝119,120とガラス溝
121,122を形成する。次いで、これら各磁気コア
半体ブロック117,118の磁気ギャップ形成面を鏡
面加工した後、各磁気ギャップ形成面にギャップ膜を成
膜する。
Next, as shown in FIG. 39, winding grooves 119 and 120 and glass grooves 121 and 122 for winding a coil are formed in each of the divided magnetic core half blocks 117 and 118. . Next, after the magnetic gap forming surfaces of each of the magnetic core half blocks 117 and 118 are mirror-finished, a gap film is formed on each magnetic gap forming surface.

【0013】そして、上記磁気コア半体ブロック11
7,118を、図40に示すように融着ガラス123に
よって接合一体化する。次に、その接合一体化されたブ
ロックに対して巻線補助溝124,125を形成すると
ともに、磁気記録媒体に対する摺動面を円筒研磨する。
Then, the magnetic core half block 11 is formed.
As shown in FIG. 40, 7 and 118 are joined and integrated by a fused glass 123. Next, the auxiliary winding grooves 124 and 125 are formed in the joined and integrated block, and the sliding surface for the magnetic recording medium is cylindrically polished.

【0014】そして最後に、所定の大きさにチップ切断
することによって、図41に示す磁気ヘッドを完成す
る。
Finally, by cutting the chip into a predetermined size, the magnetic head shown in FIG. 41 is completed.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の製造
方法においては、トラック幅を規制するための図34か
ら図36までの工程が煩雑となるばかりでなく、図36
のフェライト基板110に形成された溝111内に充填
されたガラス112と該フェライト基板110との間に
段差が発生し、磁性金属膜をスパッタリングする際に膜
特性に悪影響を及ぼす。
However, in the above-mentioned manufacturing method, not only the steps of FIGS. 34 to 36 for regulating the track width are complicated, but also the steps of FIG.
A step is generated between the glass 112 filled in the groove 111 formed in the ferrite substrate 110 and the ferrite substrate 110, which adversely affects the film characteristics when sputtering the magnetic metal film.

【0016】すなわち、図36の積層メタル膜113の
形成面110aを鏡面加工する際に、図42に示すよう
に、これらの硬度の違いによって段差Hが発生する。例
えば、その段差Hは20nm〜30nm程度となる。こ
のように段差Hが発生している面に金属磁性薄膜を絶縁
膜を介して積層した場合、図43に示すように、磁性膜
の連続性が失われ、積層メタル膜113の磁気特性が劣
化する。
That is, when the surface 110a on which the laminated metal film 113 of FIG. 36 is formed is mirror-finished, as shown in FIG. 42, a step H occurs due to the difference in hardness. For example, the step H is about 20 nm to 30 nm. When the metal magnetic thin film is laminated on the surface where the step H is generated via the insulating film, the continuity of the magnetic film is lost and the magnetic characteristics of the laminated metal film 113 are deteriorated, as shown in FIG. To do.

【0017】これを解決するために、さらに従来におい
ては、溝を形成しないフェライト基板に金属磁性薄膜を
絶縁膜を介して何層にも積層し、その上にガラス膜を形
成する。そして、溝を形成しないフェライト基板と接合
一体化し、磁気ギャップとなる面にて分断して二分した
後、かかるフェライト基板にトラック幅を規制するため
のトラック幅規制溝を機械加工によって形成する。
In order to solve this problem, in the prior art, a metal magnetic thin film is laminated in multiple layers on a ferrite substrate having no groove, with an insulating film interposed, and a glass film is formed thereon. Then, it is joined and integrated with a ferrite substrate in which a groove is not formed, and is divided into two parts by a surface serving as a magnetic gap, and then a track width regulating groove for regulating a track width is formed in the ferrite substrate by machining.

【0018】そして、上記フェライト基板に巻線溝及び
ガラス溝を形成した後、これら巻線溝等が形成されたフ
ェライト基板同士をギャップ膜を介して突合わせ、上記
トラック幅規制溝内に融着ガラスを充填する。しかる
後、円筒研磨加工を施し、所定のチップ形状に切断する
ことにより磁気ヘッドを完成する。
After forming the winding groove and the glass groove on the ferrite substrate, the ferrite substrates having the winding groove and the like formed thereon are butted against each other via a gap film, and fused in the track width regulating groove. Fill the glass. After that, cylindrical polishing is performed and the magnetic head is completed by cutting into a predetermined chip shape.

【0019】しかしながら、上述の方法で磁気ヘッドを
作製すると、製造工程の簡略化及び積層メタル膜の磁気
特性の劣化を抑制することができるものの、トラック幅
規制溝内に充填された融着ガラスによって積層メタル膜
が侵食され、実質的なトラック幅が減少し再生出力の低
下が発生する。
However, when the magnetic head is manufactured by the above-mentioned method, the manufacturing process can be simplified and the deterioration of the magnetic characteristics of the laminated metal film can be suppressed, but the fused glass filled in the track width regulating groove can be used. The laminated metal film is eroded, the track width is substantially reduced, and the reproduction output is reduced.

【0020】このため、図44に示すように、積層メタ
ル膜126,127を形成したフェライト基板129,
131をガラス膜140,141を介してフェライト基
板128,130でラミネートしてなる磁気コア半体1
32,133に形成されたトラック幅規制溝134,1
35内に充填される融着ガラス136と接触する積層メ
タル膜126,127に、Cr,Ti,Zr,Ta等の
金属膜、或いはCr23 ,TiO2 ,ZrO2 ,Ta
2 5 等の金属酸化物等の融着ガラス136に侵食され
難い保護膜137,138を形成することが考えられ
る。
Therefore, as shown in FIG. 44, the ferrite substrate 129 on which the laminated metal films 126 and 127 are formed,
Magnetic core half body 1 in which 131 is laminated with ferrite substrates 128 and 130 via glass films 140 and 141
Track width regulating grooves 134, 1 formed in 32, 133
In the laminated metal films 126 and 127 which come into contact with the fused glass 136 filled in the film 35, metal films such as Cr, Ti, Zr and Ta, or Cr 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 and Ta.
It is conceivable to form the protective films 137 and 138 which are not easily corroded by the fused glass 136 such as a metal oxide such as 2 O 5 .

【0021】しかし、上記保護膜137,138に使用
される材料は、積層メタル膜126,127、融着ガラ
ス136、フェライト基板128,129及び130,
131に比べてテープ摺動時の耐摩耗性が高いため、ヘ
ッドが摩耗してくると、図45に示すように保護膜13
7,138が突出する。この状態で磁気テープ139を
走行させ情報信号の再生を行うと、図46に示すよう
に、保護膜137,138の突出量Sの分だけスペーシ
ングロスとなり、再生出力が低下するという問題が発生
する。
However, the materials used for the protective films 137 and 138 are the laminated metal films 126 and 127, the fused glass 136, the ferrite substrates 128, 129 and 130,
Since the abrasion resistance when the tape slides is higher than that of 131, when the head is worn out, as shown in FIG.
7,138 protrudes. When the information signal is reproduced by running the magnetic tape 139 in this state, as shown in FIG. 46, a spacing loss is generated by the protrusion amount S of the protective films 137 and 138, and the reproduction output is lowered. To do.

【0022】また、上述の方法で磁気ヘッドを作製した
場合には、融着の際にトラック幅規制溝134,135
内に流し込んだ融着ガラス136にクラックが発生し、
ギャップ長精度が著しく悪化する。また、積層メタル膜
126,127を形成した後、フェライト基板128,
129及び130,131を積層する際の加熱温度を高
くしすぎると、積層メタル膜126,127の膜特性に
悪影響を及ぼすのみならず、この積層メタル膜126,
127とフェライト基板129,131の熱膨張率の差
により、該フェライト基板129,131にクラックが
発生する。
When the magnetic head is manufactured by the above method, the track width regulating grooves 134 and 135 are formed at the time of fusion.
Cracks were generated in the fused glass 136 poured inside,
Gap length accuracy deteriorates significantly. After forming the laminated metal films 126 and 127, the ferrite substrate 128,
If the heating temperature at the time of stacking 129, 130 and 131 is too high, not only the film characteristics of the stacked metal films 126 and 127 are adversely affected, but also the stacked metal films 126 and 127
Due to the difference in coefficient of thermal expansion between 127 and the ferrite substrates 129 and 131, cracks occur in the ferrite substrates 129 and 131.

【0023】また、ガラス膜140,141に注目する
と、フェライト基板とガラス膜の接触部において、フェ
ライト基板を積層する際の加熱時に、フェライトとガラ
スの反応により、フェライトの強度が劣化し、基板積層
後の各種加工において、図47に示すフェライト内部で
の破断142が発生する。さらに、フェライトとガラス
の反応により、ガラス膜内には気泡143が発生し、こ
の気泡143内に磁気記録媒体、例えばテープの摩耗粉
等が堆積してしまい、これがヘッドクロッグの原因とな
る。
Also, paying attention to the glass films 140 and 141, at the contact portion between the ferrite substrate and the glass film, the strength of the ferrite is deteriorated due to the reaction between the ferrite and the glass during heating when laminating the ferrite substrates, and the substrate lamination. In various subsequent processes, the fracture 142 inside the ferrite shown in FIG. 47 occurs. Furthermore, due to the reaction between the ferrite and the glass, a bubble 143 is generated in the glass film, and a magnetic recording medium such as abrasion powder of a tape is deposited in the bubble 143, which causes a head clog.

【0024】そこで本発明は、かかる従来の技術的な実
情に鑑みて提案されたものであって、保護膜が無くても
金属磁性膜の融着ガラスによる侵食を防止し、トラック
幅減少による再生出力の低下を抑制するとともに、融着
ガラス及びフェライト基板のクラックの発生を抑制で
き、ガラス膜とフェライト基板の反応を防止し、フェラ
イトの破断や、ガラス膜内の気泡の発生を抑制できる信
頼性に優れた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional technical situation, and prevents the metal magnetic film from being corroded by the fused glass even without the protective film, and the reproduction is performed by reducing the track width. Reliability that suppresses the decrease in output, suppresses the occurrence of cracks in the fused glass and the ferrite substrate, prevents the reaction between the glass film and the ferrite substrate, and suppresses the fracture of ferrite and the generation of bubbles in the glass film. It is an object of the present invention to provide an excellent magnetic head.

【0025】また本発明は、狭トラック化した場合でも
高出力化が図れ、高密度磁気記録媒体に対して良好に記
録再生することができる磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
It is another object of the present invention to provide a magnetic head capable of achieving high output even when the track is narrowed and capable of favorably recording / reproducing on / from a high density magnetic recording medium.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、金属磁性膜が形成されたフェライト基
板にガラスよりなる膜を介してフェライト基板を積層
し、これにトラック幅規制溝を形成してなる一対の磁気
コア半体を、融着ガラスによりギャップ接合して作製さ
れる磁気ヘッドにおいて、上記フェライト基板の積層に
用いられるガラスのガラス転移点Tgが、融着ガラスの
ガラス屈伏点Tcよりも高いことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a ferrite substrate on which a metal magnetic film is formed with a glass substrate on which a ferrite substrate is laminated, and track width regulation is performed on the ferrite substrate. In a magnetic head manufactured by gap-bonding a pair of magnetic core halves each having a groove formed with fused glass, the glass transition point Tg of the glass used for laminating the ferrite substrates is the glass of fused glass. It is characterized in that it is higher than the yield point Tc.

【0027】請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、フェ
ライト基板の積層に用いられるガラスのガラス転移点T
gが450℃以上、ガラス屈伏点Tcが650℃以下で
あることを特徴とする。
In the magnetic head according to claim 1, the glass transition point T of the glass used for laminating the ferrite substrates.
g is 450 ° C. or higher, and the glass deformation point Tc is 650 ° C. or lower.

【0028】請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、融着
ガラスが500℃以上、600℃以下の温度範囲内の任
意の温度におけるガラスの粘度が103 Pa・s以上、
10 4 Pa・s以下のいずれかに該当する粘度であり、
且つ融着される際の融着ガラスの粘度が104 Pa・s
以上であることを特徴とする。
In the magnetic head according to claim 1, fusion bonding
The temperature of the glass is within the temperature range of 500 ℃ to 600 ℃.
The viscosity of the glass at the desired temperature is 103Pa · s or more,
10 FourIt has a viscosity corresponding to one of Pa · s or less,
In addition, the viscosity of the fused glass when fused is 10FourPa · s
The above is characterized.

【0029】請求項1又は請求項3記載の磁気ヘッドに
おいて、融着ガラスがPbO系低融点ガラスであること
を特徴とする。
In the magnetic head according to claim 1 or 3, the fused glass is a PbO-based low melting point glass.

【0030】請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、トラ
ック幅が15μm以下であることを特徴とする。
The magnetic head according to claim 1 is characterized in that the track width is 15 μm or less.

【0031】請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、フェ
ライト基板の積層に用いられるガラスとフェライト基板
との間に、高融点非磁性金属膜、或いは酸化物材料より
なる界面膜が設けられていることを特徴とする。
In the magnetic head according to the first aspect, a high melting point nonmagnetic metal film or an interface film made of an oxide material is provided between the glass used for laminating the ferrite substrates and the ferrite substrate. Characterize.

【0032】[0032]

【作用】先ず、始めにガラス転移点Tgとガラス屈伏点
Tcについて簡単に説明する。ガラス転移点Tgとガラ
ス屈伏点Tcは、図4に示すガラスの熱膨張曲線から求
められる。熱膨張曲線というのは、温度と伸び率から求
められる。伸び率は、例えば図3に示すように、標準温
度(一般に室温)より高いある温度tまでに生じた試料
Tの長さの伸びΔLと標準温度での長さL0 との比を百
分率で表したものである。すなわち、伸び率=(ΔL/
0 )×100(%)となる。上記熱膨張曲線におい
て、ある温度から急激に伸び率が上昇する点がガラス転
移点Tg、伸び率が極大値を示す点がガラス屈伏点Tc
となる。
First, the glass transition point Tg and the glass deformation point Tc will be briefly described. The glass transition point Tg and the glass deformation point Tc are obtained from the thermal expansion curve of glass shown in FIG. The thermal expansion curve is obtained from temperature and elongation. The elongation rate is, for example, as shown in FIG. 3, a ratio of the elongation ΔL of the length T of the sample T generated up to a certain temperature t higher than the standard temperature (generally room temperature) and the length L 0 at the standard temperature in percentage. It is a representation. That is, elongation rate = (ΔL /
It becomes L 0 ) × 100 (%). In the above thermal expansion curve, the point at which the elongation rate rises sharply from a certain temperature is the glass transition point Tg, and the point at which the elongation rate shows the maximum value is the glass yield point Tc.
Becomes

【0033】ここで、ギャップ接合に用いる融着ガラス
のガラス屈伏点Tcが、フェライト基板の積層に用いら
れるガラスのガラス転移点Tgよりも高い場合には、以
下に示すメカニズムによって融着ガラスにクラックが発
生する。融着ガラスが固まり始めた後、基板の積層に用
いられるガラスが固まるまでの間において、図5に示す
磁気ギャップgを境にした一方の磁気コア半体201に
ついて、線A−A´,線B−B´上の金属磁性膜の動き
を熱膨張(収縮)の面から考察する。
When the glass deformation point Tc of the fused glass used for gap bonding is higher than the glass transition point Tg of the glass used for laminating the ferrite substrates, the fused glass is cracked by the mechanism described below. Occurs. After the fused glass begins to harden until the glass used for stacking the substrates hardens, the line A-A ', the line of the one magnetic core half 201 with the magnetic gap g shown in FIG. The movement of the metal magnetic film on BB ′ will be considered from the viewpoint of thermal expansion (contraction).

【0034】かかる磁気コア半体201は、金属磁性膜
202が形成されたフェライト基板203と、金属磁性
膜が形成されていないフェライト基板204とをガラス
をスパッタリングしてなるスパッタガラス膜205によ
って接合一体化し、これにトラック幅規制溝206及び
巻線溝並びにガラス溝を形成することにより作製された
ものである。そして、同様にして作製された他方の磁気
コア半体とこの磁気コア半体とを融着ガラス207によ
ってギャップ接合してなる。
The magnetic core half body 201 is integrally bonded by a sputtered glass film 205 formed by sputtering glass on a ferrite substrate 203 having a metal magnetic film 202 formed thereon and a ferrite substrate 204 having no metal magnetic film formed thereon. It is manufactured by forming a track width regulation groove 206, a winding groove, and a glass groove in this. Then, the other magnetic core half body manufactured in the same manner and this magnetic core half body are gap-bonded by the fused glass 207.

【0035】ここで、融着ガラス207のガラス屈伏点
をTcw、スパッタガラス膜205のガラス転移点をT
gs、フェライト基板203,204の熱膨張係数をα
f、金属磁性膜202の熱膨張係数をαm、磁気コア半
体201のテープ摺動方向の長さをLとした場合、融着
ガラス207のガラス屈伏点Tcwがスパッタガラス膜
205のガラス転移点Tgsよりも高い(Tcw>Tg
s)ため、ガラス屈伏点Tcwで融着ガラス207が固
まり始めた後、ガラス転移点Tgsでスパッタガラス膜
205のガラスが完全に固まるまでの間、熱膨張(収
縮)の面からみた金属磁性膜202の動きは、収縮方向
の動きとなり、線A−A´上,線B−B´上の金属磁性
膜202の収縮量は、次のように表される。
Here, the glass deformation point of the fused glass 207 is Tcw, and the glass transition point of the sputtered glass film 205 is Tcw.
gs, the thermal expansion coefficient of the ferrite substrates 203 and 204 is α
f, the coefficient of thermal expansion of the metal magnetic film 202 is αm, and the length of the magnetic core half 201 in the tape sliding direction is L, the glass deformation point Tcw of the fused glass 207 is the glass transition point of the sputtered glass film 205. Higher than Tgs (Tcw> Tg
s) Therefore, after the fused glass 207 starts to solidify at the glass deformation point Tcw, until the glass of the sputtered glass film 205 completely solidifies at the glass transition point Tgs, the metal magnetic film viewed from the surface of thermal expansion (contraction). The movement of 202 becomes the movement in the contraction direction, and the contraction amount of the metal magnetic film 202 on the line AA ′ and the line BB ′ is expressed as follows.

【0036】線A−A´上の金属磁性膜202の収縮量
Δaは、Δa≒L×αf×(Tcw−Tgs)となる。
ここでフェライトの熱膨張係数αfを用いた理由は、こ
の線A−A´上の金属磁性膜202は、スパッタリング
等によりフェライト基板203に強固に接合されてお
り、上記フェライト基板203の厚み>>金属磁性膜2
02の膜厚のため、その動きはフェライトの熱膨張係数
により決定されるためである。
The contraction amount Δa of the metal magnetic film 202 on the line AA ′ is Δa≈L × αf × (Tcw-Tgs).
The reason for using the thermal expansion coefficient αf of ferrite here is that the metal magnetic film 202 on the line AA ′ is firmly bonded to the ferrite substrate 203 by sputtering or the like, and the thickness of the ferrite substrate 203 >> Metal magnetic film 2
This is because, due to the film thickness of 02, the movement is determined by the thermal expansion coefficient of ferrite.

【0037】一方、線B−B´上の金属磁性膜202の
収縮量Δbは、Δb=L×αm×(Tcw−Tbs)と
なる。この線B−B´上の金属磁性膜202は、スパッ
タガラス膜205のガラスが完全に固まるまでは、フェ
ライト基板204による動きの規制を受けないため、金
属磁性膜202の熱膨張係数に従って収縮する。
On the other hand, the shrinkage amount Δb of the metal magnetic film 202 on the line BB ′ is Δb = L × αm × (Tcw-Tbs). The metal magnetic film 202 on the line BB ′ is not restricted in movement by the ferrite substrate 204 until the glass of the sputtered glass film 205 is completely hardened, and thus contracts according to the thermal expansion coefficient of the metal magnetic film 202. .

【0038】ここで一般に、金属磁性膜202の熱膨張
係数αmはフェライト基板203,204の熱膨張係数
αfよりも大きい(αm>αf)ため、線B−B´側の
収縮量が大となる。そのため、図6に示すように、磁気
コア半体201,208の突合わせ面に形成される磁気
ギャップgを境にして、この磁気ギャップgを開く方向
の力Fが発生する。そして、かかる応力Fによって、先
ず線B−B´側の融着ガラス207にクラックが入り、
その後磁気ギャップgを介して線A−A´側の融着ガラ
ス207にまでクラックが成長する。
Generally, the coefficient of thermal expansion αm of the metal magnetic film 202 is larger than the coefficient of thermal expansion αf of the ferrite substrates 203 and 204 (αm> αf), so that the shrinkage amount on the line BB ′ side becomes large. . Therefore, as shown in FIG. 6, a force F in the direction of opening the magnetic gap g is generated with the magnetic gap g formed on the abutting surfaces of the magnetic core halves 201 and 208 as a boundary. Then, the stress F first causes cracks in the fused glass 207 on the line BB ′ side,
After that, a crack grows up to the fused glass 207 on the line AA ′ side through the magnetic gap g.

【0039】これを防ぐには、融着ガラス207の固化
が始まる前にスパッタガラス膜205のガラスが完全に
固まって、線B−B´側の金属磁性膜202の動きがフ
ェライト基板204にて規制されていればよい。すなわ
ち、スパッタガラス膜205のガラスのガラス転移点T
gが融着ガラス207のガラス屈伏点Tcより高いこと
が必要となる。
To prevent this, the glass of the sputtered glass film 205 is completely solidified before the solidification of the fused glass 207 is started, and the movement of the metal magnetic film 202 on the line BB ′ side is caused by the ferrite substrate 204. It just has to be regulated. That is, the glass transition point T of the glass of the sputtered glass film 205
It is necessary that g is higher than the glass deformation point Tc of the fused glass 207.

【0040】かかる観点より、本発明に係る磁気ヘッド
においては、フェライト基板の積層に用いられるガラス
のガラス転移点Tgを、融着ガラスのガラス屈伏点Tc
よりも高くしているので、ギャップ接合に用いる融着ガ
ラスにクラックが入るようなことがない。
From this point of view, in the magnetic head according to the present invention, the glass transition point Tg of the glass used for laminating the ferrite substrates is set to the glass deformation point Tc of the fused glass.
Since it is higher than the above, the fused glass used for gap bonding does not crack.

【0041】また、本発明に係る磁気ヘッドにおいて
は、ガラス転移点Tgが450℃以上、ガラス屈伏点T
cが650℃以下のガラスをフェライト基板を積層する
に際して使用することにより、基板積層時におけるフェ
ライト基板のクラックの発生が抑制されるとともに、ギ
ャップ接合時に信頼性の高い融着ガラスをクラックの発
生することなく使用できる。
Further, in the magnetic head according to the present invention, the glass transition point Tg is 450 ° C. or higher and the glass deformation point T is
By using glass having c of 650 ° C. or lower when laminating ferrite substrates, cracking of the ferrite substrate during substrate lamination is suppressed, and highly reliable fused glass is cracked during gap bonding. Can be used without

【0042】また、本発明に係る磁気ヘッドにおいて
は、融着ガラスが500℃以上、600℃以下の温度範
囲内の任意の温度におけるガラスの粘度が103 Pa・
s以上、104 Pa・s以下のいずれかに該当するPb
O系低融点ガラスとされ、且つ融着される際の融着ガラ
スの粘度が104 Pa・s以上とされているので、金属
磁性膜と融着ガラスとの間に保護膜が無くても該融着ガ
ラスによる金属磁性膜の侵食が抑制され、磁気ギャップ
のトラック幅が減少することにより生ずる再生出力の低
下が起こらない。
Further, in the magnetic head according to the present invention, the viscosity of the fused glass at a given temperature within the temperature range of 500 ° C. to 600 ° C. is 10 3 Pa.
Pb corresponding to any of s or more and 10 4 Pa · s or less
Since it is an O-based low melting glass and the viscosity of the fused glass when fused is 10 4 Pa · s or more, even if there is no protective film between the metallic magnetic film and the fused glass. Erosion of the metal magnetic film by the fused glass is suppressed, and the reproduction output is not reduced due to the reduction of the track width of the magnetic gap.

【0043】また、本発明に係る磁気ヘッドにおいて
は、トラック幅が15μm以下とした場合でも、トラッ
ク幅の減少が無いことから、再生出力の劣化が生じず、
高密度記録化が達成される。
Further, in the magnetic head according to the present invention, even when the track width is 15 μm or less, there is no reduction in the track width, so that the reproduction output does not deteriorate,
High density recording is achieved.

【0044】また、本発明に係る磁気ヘッドにおいて
は、フェライト基板の積層に用いられるガラスとフェラ
イト基板との間に、高融点非磁性金属膜、或いは酸化物
材料からなる界面膜が設けられていることから、フェラ
イト基板を積層する際の加熱時において、フェライトと
ガラスの反応によるフェライト基板の強度劣化や、ガラ
ス膜内の気泡の発生は起こらない。
In the magnetic head according to the present invention, a high melting point nonmagnetic metal film or an interface film made of an oxide material is provided between the glass used for laminating the ferrite substrates and the ferrite substrate. Therefore, during heating when laminating the ferrite substrates, the strength of the ferrite substrate is not deteriorated due to the reaction between the ferrite and the glass, and bubbles are not generated in the glass film.

【0045】[0045]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図1に示すように、金属磁性膜1,2がそ
の膜厚方向より一対のフェライト基板3,4及び5,6
によって挟み込まれてなる一対の磁気コア半体7,8か
らなり、これら磁気コア半体7,8が上記金属磁性膜
1,2の端面同士を突合わせるようにして融着ガラス9
によりギャップ接合されてなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. In the magnetic head of this embodiment, as shown in FIG. 1, the metallic magnetic films 1 and 2 are a pair of ferrite substrates 3, 4 and 5, 6 from the thickness direction.
It is composed of a pair of magnetic core halves 7 and 8 sandwiched between the magnetic core halves 7 and 8 so that the end faces of the metal magnetic films 1 and 2 abut each other and the fused glass 9
The gap is joined by.

【0046】上記磁気コア半体7,8は、磁気記録媒体
摺動面を拡大して表す図2に示すように、金属磁性膜
1,2と一対のフェライト基板3,4及び5,6から構
成され、一方のフェライト基板4,6の一主面に被着形
成される金属磁性膜1,2を挾み込むようにして他方の
フェライト基板3,5が積層のためのガラス膜10,1
1によって接合一体化されている。
The magnetic core halves 7 and 8 are composed of a metal magnetic film 1 and a pair of ferrite substrates 3, 4 and 5, 6 as shown in FIG. The glass films 10, 1 for stacking the other ferrite substrates 3, 5 so as to sandwich the metal magnetic films 1, 2 formed on one main surface of the one ferrite substrate 4, 6
1 is joined and integrated.

【0047】上記金属磁性膜1,2は、高周波特性を向
上させる目的で膜厚の薄い磁性金属薄膜1a,1b,1
c及び2a,2b,2cを絶縁膜12a,12b及び1
3a,13bを介して何層にも積層してなる積層メタル
膜とされている。また、この金属磁性膜1,2は、上記
フェライト基板4,6との付着力を向上させるために、
該フェライト基板4,6の被着面に下地膜14,15を
介して形成されている。
The metal magnetic films 1 and 2 are thin magnetic metal thin films 1a, 1b and 1 for the purpose of improving high frequency characteristics.
c and 2a, 2b, 2c as insulating films 12a, 12b and 1
It is a laminated metal film formed by laminating multiple layers via 3a and 13b. In addition, the metal magnetic films 1 and 2 improve the adhesion with the ferrite substrates 4 and 6,
It is formed on the adhered surfaces of the ferrite substrates 4 and 6 with underlying films 14 and 15 interposed therebetween.

【0048】磁性金属薄膜1a,1b,1c及び2a,
2b,2cには、例えばセンダスト(Fe−Al−S
i)やFe−Ru−Ga−Si、又はこれらにO,N等
を添加した結晶質磁性金属材料或いはFe系又はCo系
の微結晶磁性金属材料よりなる膜がいずれも使用でき
る。なかでも、ギャップ接合に用いられる融着ガラス9
として強度、耐候性、耐摩耗性に優れる融着ガラスを使
用することから、結晶質磁性金属材料あるいは、微結晶
磁性金属材料よりなる膜が好適である。膜厚に関して
は、例えば1層当たり2〜5μmとすることが望まし
い。
Magnetic metal thin films 1a, 1b, 1c and 2a,
2b and 2c include, for example, sendust (Fe-Al-S
Any of i) and Fe-Ru-Ga-Si, or a film made of a crystalline magnetic metal material obtained by adding O, N or the like to these or a Fe-based or Co-based microcrystalline magnetic metal material can be used. Among them, fused glass 9 used for gap bonding
Since a fused glass having excellent strength, weather resistance and abrasion resistance is used as the above, a film made of a crystalline magnetic metal material or a microcrystalline magnetic metal material is suitable. Regarding the film thickness, it is desirable to set it to 2 to 5 μm per layer, for example.

【0049】そして、上記絶縁膜2には、例えばSiO
2 ,Ta2 5 ,Al2 3 等の酸化物膜やSi3 4
等の窒化物膜等が使用される。膜厚に関しては、0.1
〜0.3μm程度が好ましい。
The insulating film 2 is made of, for example, SiO.
Oxide films such as 2 , Ta 2 O 5 , Al 2 O 3 and Si 3 N 4
A nitride film or the like is used. Regarding the film thickness, 0.1
It is preferably about 0.3 μm.

【0050】一方、下地膜14,15には、SiO2
Ta2 5 等の酸化物膜、Si3 4 等の窒化物膜、C
r,Al,Si,Pt,Ti等の金属膜及びそれらの合
金膜或いはそれらを組合わせた積層膜等が使用される。
本実施例では、膜厚が50nmのSiO2 よりなる膜を
使用した。
On the other hand, the base films 14 and 15 are formed of SiO.2
Ta2OFiveOxide film such as Si3N FourNitride film such as C
Metal films of r, Al, Si, Pt, Ti, etc. and their combination
A gold film or a laminated film combining them is used.
In this embodiment, the SiO 2 film has a thickness of 50 nm.2A film consisting of
used.

【0051】上記ガラス膜10,11は、上記一対のフ
ェライト基板3,4及び5,6の接合のために使用され
る低融点ガラスよりなる膜で、それぞれのフェライト基
板3,4及び5,6に被着形成されている。かかるガラ
ス膜10,11としては、例えばスパッタリングによっ
て作製されるガラススパッタ膜、又はスピンコーティン
グ等によって塗布されてなるフリットガラス膜等が使用
される。本実施例では、0.1〜0.5μm厚のガラス
スパッタ膜を使用した。
The glass films 10 and 11 are films made of low-melting glass used for joining the pair of ferrite substrates 3, 4 and 5, 6 to the respective ferrite substrates 3, 4 and 5, 6. Is formed on the surface. As the glass films 10 and 11, for example, a glass sputtered film produced by sputtering, a frit glass film applied by spin coating, or the like is used. In this example, a glass sputtered film having a thickness of 0.1 to 0.5 μm was used.

【0052】また、上記ガラス膜10,11と磁性金属
膜1a,2aとの間には、これらの間の反応を防止する
ために界面膜16b,17bが設けられている。また、
ガラス膜10,11とフェライト基板3,5との間に
は、フェライト基板を積層する際の加熱時において、フ
ェライトとガラスの反応によるフェライトの強度劣化
や、ガラス膜内の気泡の発生を防止するため、高融点非
磁性金属膜、或いは酸化物材料よりなる界面膜16a,
17aが設けられている。
Further, interface films 16b and 17b are provided between the glass films 10 and 11 and the magnetic metal films 1a and 2a in order to prevent a reaction between them. Also,
Between the glass films 10 and 11 and the ferrite substrates 3 and 5, it is possible to prevent the strength of ferrite from deteriorating due to the reaction between the ferrite and glass and the generation of bubbles in the glass film during heating when laminating the ferrite substrates. Therefore, the high melting point non-magnetic metal film or the interface film 16a made of an oxide material,
17a is provided.

【0053】かかる界面膜16a,16b及び17a,
17bとしては、例えばSiO2 ,Ta2 5 ,Cr2
3 ,TiO2 ,ZrO2 ,Al2 3 等の酸化物膜、
Si 3 4 等の窒化物膜、Cr,Ti,Zr,Ta等の
金属膜及びそれらの合金膜或いはそれらを組合わせた積
層膜等が使用される。本実施例では、膜厚が0.1μm
のCrよりなる膜を用いた。
The interface films 16a, 16b and 17a,
As 17b, for example, SiO2, Ta2OFive, Cr2
O3, TiO2, ZrO2, Al2O3Oxide film, etc.
Si 3NFourSuch as nitride film, Cr, Ti, Zr, Ta, etc.
Metallic films and their alloy films or products combining them
A layer film or the like is used. In this embodiment, the film thickness is 0.1 μm
A film made of Cr was used.

【0054】通常、積層メタル膜ヘッドにおいては、メ
タル膜とガラスとの濡れ性がセラミクス、結晶化ガラス
等の非磁性材料や、フェライト等の酸化物磁性材料等と
の濡れ性に比べて極端に劣ることから、メタル膜とガラ
スの界面にはガラスとの濡れ性が良好な界面膜を設ける
方法が一般的に用いられている(特開昭61−8051
1、特開平4−255902、特開平4−32410
4)。
Generally, in a laminated metal film head, the wettability between the metal film and the glass is extremely higher than the wettability between ceramics, a non-magnetic material such as crystallized glass, and an oxide magnetic material such as ferrite. Since it is inferior, a method of providing an interface film having good wettability with glass at the interface between the metal film and glass is generally used (JP-A-61-8051).
1, JP-A-4-255902, JP-A-4-32410
4).

【0055】しかしながら、基板にフェライトを用いた
場合、従来のようななメタル膜とガラスの界面にのみ界
面膜を設けた構造にすると、フェライト基板を積層する
際の加熱時においてフェライトとガラスの反応により、
フェライトの強度が劣化し、基板積層後の各種加工にお
いてフェライト内部からの破断が発生する。さらに、フ
ェライトとガラスの反応により、ガラス膜内には気泡が
発生し、この気泡内に磁気記録媒体、例えばテープの摩
耗粉等が堆積し、ヘッドクロッグ等の問題が発生する。
そこで本実施例では、フェライト基板3,5とガラス膜
10,11との間にも界面膜16a,17aを設けるこ
とにより、フェライトとガラスとの反応に起因する問題
を防止している。
However, when ferrite is used as the substrate, if a conventional interface film is provided only at the interface between the metal film and the glass, the reaction between the ferrite and the glass during heating when stacking the ferrite substrates. Due to
The strength of the ferrite deteriorates, and fracture occurs from the inside of the ferrite in various processes after the substrate is laminated. Further, due to the reaction between the ferrite and the glass, bubbles are generated in the glass film, and magnetic recording media, for example, abrasion powder of the tape are accumulated in the bubbles, which causes a problem such as head clogs.
Therefore, in this embodiment, the interfacial films 16a and 17a are also provided between the ferrite substrates 3 and 5 and the glass films 10 and 11 to prevent the problem caused by the reaction between the ferrite and the glass.

【0056】そして、上記磁気コア半体7,8には、記
録再生ギャップとして動作する磁気ギャップgのトラッ
ク幅TWを規制するためのトラック幅規制溝18,19
が、それぞれの突合わせ面に呈する金属磁性膜1,2の
膜厚方向の両端部を切り欠くようにして形成されてい
る。
The magnetic core halves 7 and 8 have track width regulating grooves 18 and 19 for regulating the track width TW of the magnetic gap g which operates as a recording / reproducing gap.
Are formed by notching both end portions in the film thickness direction of the metal magnetic films 1 and 2 present on the respective butting surfaces.

【0057】また、上記磁気コア半体7,8には、それ
ぞれの突合わせ面の中途部にコイルを巻装させるための
巻線溝20,21が断面略コ字状をなす溝として設けら
れている。そして、この巻線溝20,21と相対向する
磁気コア半体7,8の側面には、コイルの巻装状態を良
好なものとなすために、巻線補助溝22,23がやはり
断面略コ字状をなす浅い溝として形成されている。さら
に、この磁気コア半体7,8には、これらの磁気コア半
体7,8の接合強度をより強固なものとなすために、磁
気ギャップgと反対側の後端縁部にガラス溝24,25
が形成されている。
The magnetic core halves 7 and 8 are provided with winding grooves 20 and 21 for winding a coil in the middle of the abutting surfaces as grooves having a substantially U-shaped cross section. ing. Further, on the side surfaces of the magnetic core halves 7 and 8 facing the winding grooves 20 and 21, winding auxiliary grooves 22 and 23 are also substantially cross-sectional in order to make the winding state of the coil good. It is formed as a shallow U-shaped groove. Further, in order to make the bonding strength of the magnetic core halves 7 and 8 stronger, the glass cores 24 are formed in the rear end edge portion on the side opposite to the magnetic gap g. , 25
Are formed.

【0058】そして、上述のようにして構成された磁気
コア半体7,8は、突合わせ面に呈する金属磁性膜1,
2の端面同士を図示しないギャップ膜を介して突合わ
せ、融着ガラス9によりギャップ接合されて一体化さ
れ、その金属磁性膜1,2の突合わせ面間に記録再生ギ
ャップとして動作する磁気ギャップgを構成するように
なっている。
The magnetic core halves 7 and 8 configured as described above are the metal magnetic films 1 and 1 present on the abutting surfaces.
The end faces of the two are abutted via a gap film (not shown), and are bonded together by a fused glass 9 to be integrated, and a magnetic gap g that operates as a recording / reproducing gap between the abutting faces of the metal magnetic films 1, 2. Is configured.

【0059】これら磁気コア半体7,8よりなる磁気ヘ
ッドにおいては、金属磁性膜1,2とフェライト基板
3,4及び5,6とによって閉磁路が構成されるため、
上記磁気ギャップgのトラック幅TWを狭トラック化
(例えば、15μm以下)してもコア断面積の確保によ
り、ヘッド効力の低下を防止でき、高密度磁気記録が可
能になる。また、かかる磁気ヘッドにおいては、各磁気
コア半体7,8に形成された相対向するトラック幅規制
溝18,19内に融着ガラス9が充填されることにな
り、上記融着ガラス9によって磁気記録媒体に対する当
たりが確保される。
In the magnetic head composed of these magnetic core halves 7 and 8, since the metal magnetic films 1 and 2 and the ferrite substrates 3, 4 and 5 and 6 form a closed magnetic path,
Even if the track width TW of the magnetic gap g is narrowed (for example, 15 μm or less), the core cross-sectional area is ensured, so that the reduction of the head effectiveness can be prevented and high-density magnetic recording can be performed. Further, in such a magnetic head, the fused glass 9 is filled in the track width regulating grooves 18 and 19 formed in each of the magnetic core halves 7 and 8 and facing each other. The contact with the magnetic recording medium is secured.

【0060】そして特に、この実施例の磁気ヘッドにお
いては、ギャップ接合に用いられる融着ガラス9にクラ
ックが発生するのを防止するために、フェライト基板
3,4及び5,6の積層に用いられるガラス膜10,1
1のガラス転移点Tgと、融着ガラス9のガラス屈伏点
Tcを以下のように規定している。
In particular, the magnetic head of this embodiment is used for laminating the ferrite substrates 3, 4 and 5, 6 in order to prevent cracks from occurring in the fused glass 9 used for gap bonding. Glass film 10,1
The glass transition point Tg of No. 1 and the glass deformation point Tc of the fused glass 9 are defined as follows.

【0061】すなわち、ガラス膜10,11のガラス転
移点Tgを、融着ガラス9のガラス屈伏点Tcより高く
している。このように規定することにより、前述したメ
カニズムによって融着ガラス9の固化が始まる前にガラ
ス膜10,11のガラスが完全に固まって、該ガラス膜
10,11と接する側の磁性金属薄膜1a,2aの動き
がフェライト基板3,5にて規制されるために、融着ガ
ラス9にクラックが入ることが防止される。
That is, the glass transition point Tg of the glass films 10 and 11 is set higher than the glass deformation point Tc of the fused glass 9. By defining in this way, the glass of the glass films 10 and 11 is completely solidified before solidification of the fused glass 9 is started by the mechanism described above, and the magnetic metal thin film 1a on the side in contact with the glass films 10 and 11 is formed. Since the movement of 2a is restricted by the ferrite substrates 3 and 5, the fused glass 9 is prevented from cracking.

【0062】また、本実施例においては、基板積層時に
おいてフェライト基板4,6にクラックが発生すること
を抑制するとともに、信頼性の高い融着ガラス9を用い
て該融着ガラス9にクラックが発生することなくギャッ
プ接合を行うために、基板積層のために用いるガラス膜
10,11のガラス転移点Tgとガラス屈伏点Tcを以
下のように規定している。
Further, in this embodiment, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the ferrite substrates 4 and 6 during the lamination of the substrates and to use the highly reliable fused glass 9 to prevent the cracks in the fused glass 9. The glass transition point Tg and the glass deformation point Tc of the glass films 10 and 11 used for stacking the substrates are defined as follows in order to perform the gap bonding without the generation.

【0063】すなわち、ガラス膜10,11のガラス転
移点Tgを450℃以上、ガラス屈伏点Tcを650℃
以下とする。このように規定することにより、フェライ
ト基板4,6にクラックが発生せず、しかも信頼性の高
い融着ガラス9をクラックが発生することなく使用する
ことができる。
That is, the glass transition point Tg of the glass films 10 and 11 is 450 ° C. or higher, and the glass deformation point Tc is 650 ° C.
Below. By defining as above, the ferrite substrates 4 and 6 are not cracked, and the highly reliable fused glass 9 can be used without cracking.

【0064】ここで、基板積層の際に最大かけられる温
度は、金属磁性膜1,2の磁気特性の劣化が生じない7
00℃が限界である。したがって、基板積層のためのガ
ラスのガラス屈伏点Tcの上限は、これ以下でなければ
ならず650℃以下とされる。これ以上となると、基板
積層の際にフェライト基板4,6にクラックが発生す
る。一方、ガラス転移点Tgが450℃以下であると、
ギャップ接合時に信頼性の高い融着ガラス9を使用した
場合、該融着ガラス9にクラックが発生する。
Here, the maximum temperature applied during the lamination of the substrates does not cause deterioration of the magnetic characteristics of the metal magnetic films 1 and 7.
The limit is 00 ° C. Therefore, the upper limit of the glass deformation point Tc of the glass for stacking the substrates must be lower than 650 ° C. If it is more than this, cracks occur in the ferrite substrates 4 and 6 when the substrates are laminated. On the other hand, when the glass transition point Tg is 450 ° C. or lower,
When a highly reliable fused glass 9 is used at the time of gap bonding, cracks occur in the fused glass 9.

【0065】さらに、本実施例においては、ギャップ接
合に用いられる融着ガラス9による金属磁性膜1,2の
侵食を抑制しトラック幅TWの減少を低減させるため
に、融着ガラス9の粘度及び融着時におけるガラスの粘
度を以下のように規定している。
Further, in this embodiment, in order to suppress the erosion of the metal magnetic films 1 and 2 by the fused glass 9 used for gap bonding and reduce the decrease in the track width TW, the viscosity of the fused glass 9 and The viscosity of glass at the time of fusion is specified as follows.

【0066】すなわち、融着ガラス9が500℃以上、
600℃以下の温度範囲内の任意の温度におけるガラス
の粘度が103 Pa・s以上、104 Pa・s以下のい
ずれかに該当する粘度であり、且つ融着される際の融着
ガラス9の粘度を104 Pa・s以上とする。金属磁性
膜1,2に結晶質磁性金属膜又は微結晶磁性金属膜を使
用したときのガラス充填時の温度は、熱による金属膜の
磁気特性劣化防止のため、先に説明したようにその上限
が700℃であることから、融着ガラス9としてはPb
O系の低融点ガラスが用いられる。
That is, if the fused glass 9 is 500 ° C. or higher,
Viscosity of glass at an arbitrary temperature within a temperature range of 600 ° C. or lower is a viscosity corresponding to any one of 10 3 Pa · s or more and 10 4 Pa · s or less, and the fused glass 9 when fused Viscosity of 10 4 Pa · s or more. When a crystalline magnetic metal film or a microcrystalline magnetic metal film is used for the metal magnetic films 1 and 2, the temperature at the time of glass filling is set to the upper limit as described above in order to prevent deterioration of magnetic properties of the metal film due to heat. Is 700 ° C., the fusion glass 9 is Pb
O-based low melting point glass is used.

【0067】通常、金属磁性膜を使用した磁気ヘッドの
ギャップ融着に用いられるPbO系低融点ガラスは、そ
のガラスの粘度が103 Pa・sとなる温度、いわゆる
作業点Twと呼ばれる温度が300℃〜600℃とされ
ており、融着作業においては103 Pa・s〜104
a・sの粘度にて使用されている。作業点Twが500
℃よりも低いガラスは、耐熱性の低いアモルファス磁性
合金を金属膜にした磁気ヘッドに主として用いられてい
るが、作業点Twが500℃以上のガラスに比べ強度、
耐候性、耐摩耗性の何れも大きく劣っている。
Usually, a PbO-based low melting point glass used for gap fusion of a magnetic head using a metal magnetic film has a temperature at which the viscosity of the glass becomes 10 3 Pa · s, that is, a so-called working point Tw is 300. ℃ ~ 600 ℃, 10 3 Pa · s ~ 10 4 P in fusion work
It is used with a viscosity of a · s. Working point Tw is 500
Glass whose temperature is lower than ℃ is mainly used for a magnetic head which uses an amorphous magnetic alloy having a low heat resistance as a metal film.
Both weather resistance and wear resistance are greatly inferior.

【0068】したがって、アモルファス磁性合金と比べ
高い耐熱性を有する結晶質磁性金属膜、又は、微結晶磁
性金属膜を使用した磁気ヘッドに用いる融着ガラスは、
作業点Twが500℃以上であることが望ましい。ま
た、ガラス充填時のガラスの粘度を104 Pa・s以上
と規定しているのは、104 Pa・s以下であると金属
磁性膜1,2が図21に示すように侵食されるためであ
る。
Therefore, the fused glass used for the magnetic head using the crystalline magnetic metal film or the microcrystalline magnetic metal film having higher heat resistance than the amorphous magnetic alloy is
It is desirable that the working point Tw is 500 ° C. or higher. Further, the viscosity of the glass during the glass filling are defined as 10 4 Pa · s or more, 10 4 for Pa · s is not more than the metallic magnetic film 2 is eroded as shown in FIG. 21 Is.

【0069】また、先に説明した通り、基板積層の際の
フェライト基板のクラック発生を抑制するために、基板
積層に用いるガラスの屈服点Tcの上限が650℃とさ
れていることから、この上限に相当するガラスを基板積
層に用いた場合、ギャップ融着ガラスとして粘度が10
4 Pa・sとなる温度が、600℃以下のガラスまでが
ガラスにクラックが入ることなく使用可能となる。
Further, as described above, the upper limit of the yield point Tc of the glass used for substrate lamination is 650 ° C. in order to suppress the occurrence of cracks in the ferrite substrate during substrate lamination. When a glass corresponding to the above is used for the substrate lamination, the viscosity of the gap-fused glass is 10
Glass with a temperature of 4 Pa · s at 600 ° C. or lower can be used without cracks in the glass.

【0070】ここで実際に、以下のような条件の下に実
験を行った結果に基づいて、上述のようにガラス転移点
Tg等を規定した理由について説明する。先ず、基板積
層のために用いたガラスのガラス転移点Tgを融着ガラ
ス9のガラス屈伏点Tcよりも大きくすることで、該融
着ガラス9にクラックが発生するのを防止できることの
実験を行った。
Here, the reason why the glass transition point Tg and the like are specified as described above will be explained based on the results of experiments actually conducted under the following conditions. First, an experiment was conducted to make it possible to prevent cracks from occurring in the fused glass 9 by making the glass transition point Tg of the glass used for laminating substrates larger than the glass deformation point Tc of the fused glass 9. It was

【0071】実験条件 (a) 基板積層のためのガラスとして、以下に示すような
3種類のガラスを用いた。 ガラスA:Tg=400℃,Tc=440℃ ガラスB:Tg=430℃,Tc=480℃ ガラスC:Tg=465℃,Tc=495℃
Experimental conditions (a) As the glass for laminating the substrates, the following three types of glass were used. Glass A: Tg = 400 ° C., Tc = 440 ° C. Glass B: Tg = 430 ° C., Tc = 480 ° C. Glass C: Tg = 465 ° C., Tc = 495 ° C.

【0072】(b) 融着ガラス9には、以下のものを用い
た。 ガラスD:Tg=380℃,Tc=410℃,Tw=5
20℃ ガラスE:Tg=410℃,Tc=440℃,Tw=5
50℃ ガラスF:Tg=420℃,Tc=450℃,Tw=5
80℃
(B) The following materials were used for the fused glass 9. Glass D: Tg = 380 ° C., Tc = 410 ° C., Tw = 5
20 ° C. Glass E: Tg = 410 ° C., Tc = 440 ° C., Tw = 5
50 ° C. Glass F: Tg = 420 ° C., Tc = 450 ° C., Tw = 5
80 ° C

【0073】(c) 上記(a),(b) のガラスの組合せで磁気
ヘッドを作製し、融着ガラス9にクラックが発生したか
否かを観察した。その結果を表1に示す。なお、表1中
○はクラックが発生しなかったことを、×はクラックが
発生したことを示す。
(C) A magnetic head was prepared from the combination of the glasses of (a) and (b) above, and it was observed whether or not cracks were generated in the fused glass 9. The results are shown in Table 1. In Table 1, ◯ means that no crack was generated, and × means that crack was generated.

【0074】[0074]

【表1】 [Table 1]

【0075】この結果より、基板積層のためのガラスの
ガラス転移点Tgが融着ガラス9のガラス屈伏点Tcよ
りも低い場合には、いずれも図20に示すように融着ガ
ラス9にクラックが発生する。これに対して、基板積層
のためのガラスのガラス転移点Tgが融着ガラス9のガ
ラス屈伏点Tcよりも高い場合には、融着ガラス9にク
ラックが見られない。
From these results, when the glass transition point Tg of the glass for stacking the substrates is lower than the glass deformation point Tc of the fused glass 9, the fused glass 9 is cracked as shown in FIG. Occur. On the other hand, when the glass transition point Tg of the glass for stacking the substrates is higher than the glass deformation point Tc of the fused glass 9, cracks are not seen in the fused glass 9.

【0076】また、この実験では、ギャップ長として
0.2μmとすることを目標としたのに対して、融着ガ
ラス9にクラックが発生したものでは全て0.3〜0.
4μmとギャップ不良となった。それに対して、クラッ
クの発生の無いものでは略目標通りのギャップ長が得ら
れた。したがって、クラックの発生を抑えることでギャ
ップ長精度を著しく向上させることができる。
In addition, in this experiment, the gap length was set to 0.2 μm, whereas in the case where the fused glass 9 had cracks, the gap length was 0.3 to 0.
The gap was 4 μm, which resulted in a defective gap. On the other hand, in the case where no crack was generated, the gap length was almost the target. Therefore, by suppressing the occurrence of cracks, the gap length accuracy can be significantly improved.

【0077】次に、基板積層のためのガラスのガラス転
移点Tgを450℃以上、ガラス屈伏点Tcを650℃
以下とすることで、基板積層の際のフェライト基板4,
6のクラックの発生及び、ギャップ接合時に信頼性の高
い融着ガラスを用いた場合のクラックの発生を防止でき
ることの実験を行った。
Next, the glass transition point Tg of the glass for stacking the substrates is 450 ° C. or higher, and the glass deformation point Tc is 650 ° C.
By doing the following, the ferrite substrate 4,
An experiment was conducted to prevent the occurrence of cracks in No. 6 and the occurrence of cracks when using a fused glass having high reliability during gap bonding.

【0078】実験条件 (a) 基板積層のためのガラスとして、以下に示すような
3種類のガラスを用いた。 ガラスA:Tg=430℃,Tc=480℃ ガラスB:Tg=465℃,Tc=495℃ ガラスC:Tg=580℃,Tc=650℃
Experimental Conditions (a) As the glass for laminating the substrates, the following three types of glass were used. Glass A: Tg = 430 ° C., Tc = 480 ° C. Glass B: Tg = 465 ° C., Tc = 495 ° C. Glass C: Tg = 580 ° C., Tc = 650 ° C.

【0079】(b) 融着ガラス9には、以下のものを用い
た。 ガラスD:Tg=410℃,Tc=440℃,Tw=5
50℃ ガラスE:Tg=420℃,Tc=450℃,Tw=5
80℃
(B) The following glass was used as the fusing glass 9. Glass D: Tg = 410 ° C., Tc = 440 ° C., Tw = 5
50 ° C. Glass E: Tg = 420 ° C., Tc = 450 ° C., Tw = 5
80 ° C

【0080】(c) 上記(a),(b) のガラスの組合せで磁気
ヘッドを作製し、基板積層の際にフェライト基板4,6
にクラックが発生したか否か、又はギャップ接合の際に
融着ガラス9にクラックが発生したか否かを観察した。
その結果を表2に示す。
(C) A magnetic head was produced from the combination of the glasses of (a) and (b) above, and the ferrite substrates 4 and 6 were used when laminating the substrates.
It was observed whether or not cracks were generated in the glass, or whether or not cracks were generated in the fused glass 9 during the gap bonding.
The results are shown in Table 2.

【0081】[0081]

【表2】 [Table 2]

【0082】この結果からわかるように、基板積層のた
めのガラスのガラス転移点Tgが450℃以下としたガ
ラスAを用いた磁気ヘッドでは、融着ガラス9にクラッ
クが発生した。これに対してガラス転移点Tgを450
℃以上、ガラス屈伏点Tcを650℃以下としたガラス
Bを用いた磁気ヘッドでは、いずれの融着ガラス9を使
用した場合にもクラックの発生は見られなかった。
As can be seen from these results, in the magnetic head using the glass A in which the glass transition point Tg of the glass for stacking the substrates was 450 ° C. or less, cracks were generated in the fused glass 9. On the other hand, the glass transition point Tg is 450
In the magnetic head using the glass B having the glass deformation point Tc of 650 ° C. or higher and the glass deformation point Tc of 650 ° C. or lower, no crack was observed when any of the fused glass 9 was used.

【0083】また、ガラスCを用いた磁気ヘッドでは、
ガラス屈伏点Tcが650℃であるために基板積層の際
の加熱を700℃の温度で行ったところ、フェライト基
板3,4,5,6と金属磁性膜1,2の熱膨張率の差に
より発生するストレスが過大となり、基板積層後に図2
2に示すようにフェライト基板4,6にクラックが発生
した。
Further, in the magnetic head using the glass C,
Since the glass deformation point Tc is 650 ° C., heating at the time of stacking the substrates was performed at a temperature of 700 ° C., and due to the difference in thermal expansion coefficient between the ferrite substrates 3, 4, 5, 6 and the metal magnetic films 1, 2. The stress generated becomes too large, and after the substrates are laminated,
As shown in 2, cracks occurred in the ferrite substrates 4 and 6.

【0084】金属磁性膜1,2の磁気特性面での耐熱性
は、700℃が上限であることも考慮すると、基板積層
に用いるガラスのガラス屈伏点Tcの上限は650℃で
あることが好ましいと言える。したがって、基板積層の
際に用いるガラスのガラス転移点Tgを450℃以上、
ガラス屈伏点Tcを650℃以下とすることで、基板積
層の際のフェライト基板4,6のクラック発生を抑制で
きるとともに、ギャップ接合時に信頼性の高い融着ガラ
ス9をクラックの発生することなく使用することができ
る。
Considering that the upper limit of the heat resistance in terms of magnetic properties of the metal magnetic films 1 and 2 is 700 ° C., the upper limit of the glass deformation point Tc of the glass used for laminating the substrates is preferably 650 ° C. Can be said. Therefore, the glass transition point Tg of the glass used for stacking the substrates is 450 ° C. or higher,
By setting the glass deformation point Tc to 650 ° C. or less, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the ferrite substrates 4 and 6 when laminating the substrates, and to use the highly reliable fused glass 9 at the time of gap bonding without the occurrence of cracks. can do.

【0085】次に、融着ガラス9のガラス充填時におけ
るガラスの粘度を規定することで、この融着ガラス9に
よる金属磁性膜1,2の侵食を防止できることの実験を
行った。
Next, an experiment was conducted in which the erosion of the metallic magnetic films 1 and 2 by the fused glass 9 can be prevented by defining the viscosity of the fused glass 9 at the time of filling the glass.

【0086】実験条件 (a) 融着ガラス9として以下に示す作業点Twの異なる
3種類のPbO系低融点ガラスを用いた。 ガラスA:Tg=445℃,Tc=470℃,Tw=6
00℃ ガラスB:Tg=420℃,Tc=450℃,Tw=5
80℃ ガラスC:Tg=380℃,Tc=410℃,Tw=5
20℃
Experimental Conditions (a) As the fused glass 9, three kinds of PbO-based low melting point glass having different working points Tw shown below were used. Glass A: Tg = 445 ° C., Tc = 470 ° C., Tw = 6
00 ° C glass B: Tg = 420 ° C, Tc = 450 ° C, Tw = 5
80 ° C. Glass C: Tg = 380 ° C., Tc = 410 ° C., Tw = 5
20 ° C

【0087】(b) 磁気ヘッドにガラスを充填する時のガ
ラスの粘度は、一般的に103 Pa・s〜104 Pa・
sとされ、充填時において所定の粘度が得られる温度で
の保持時間、いわゆる安定時間は60分とされている。
そこで、今回充填ガラスとして用いたガラスA,ガラス
B,ガラスCそれぞれについて、図23に示すガラスの
粘性特性データから以下に示す5点の粘度a,b,c,
d,eが得られる温度にて、それぞれ安定時間を60分
としてガラス充填を行い磁気ヘッドを作製した。これら
の組合せは、表3に示す。
(B) When the magnetic head is filled with glass, the viscosity of the glass is generally 10 3 Pa · s to 10 4 Pa ·
s, and the holding time at the temperature at which a predetermined viscosity is obtained at the time of filling, that is, the so-called stabilization time is set to 60 minutes.
Therefore, for each of the glass A, the glass B, and the glass C used as the filled glass this time, the following five viscosities a, b, c, from the viscosity characteristic data of the glass shown in FIG.
At a temperature at which d and e were obtained, the stabilization time was set to 60 minutes and glass filling was performed to manufacture a magnetic head. These combinations are shown in Table 3.

【0088】[0088]

【表3】 [Table 3]

【0089】(c) 表3の組合せで作製された磁気ヘッド
について、融着ガラス9が金属磁性膜1,2を侵食する
ことにより発生するトラック幅TWの減少量を走査型電
子顕微鏡を用いて測定した。その結果を図25に示す。
なお、トラック幅TWの減少量は、図24に示すよう
に、ガラス融着する前のトラック幅TWより、ガラス融
着後侵食されて残ったトラック幅TW´を引いた値を示
す。
(C) With respect to the magnetic heads produced by the combinations shown in Table 3, the reduction amount of the track width TW caused by the erosion of the metal magnetic films 1 and 2 by the fused glass 9 was measured by using a scanning electron microscope. It was measured. The result is shown in FIG.
Note that, as shown in FIG. 24, the reduction amount of the track width TW indicates a value obtained by subtracting the track width TW ′ that has been left after the glass fusion is eroded from the track width TW before the glass fusion.

【0090】この結果より、融着ガラス9が金属磁性膜
1,2を侵食することにより発生するトラック幅TWの
減少量の大小は、ガラス充填時の粘度に大きく依存し、
ガラス充填時の粘度が104 Pa・s以上の場合、いず
れのガラスにおいても0.1μm以下のトラック幅TW
の減少量となっていることが判明した。また、従来より
採用されてきた103 Pa・s〜104 Pa・sのガラ
ス粘度の場合、トラック幅TWの減少量が最大1.5μ
m程度になることがわかった。
From this result, the amount of decrease in the track width TW caused by the fusion glass 9 corroding the metal magnetic films 1 and 2 largely depends on the viscosity at the time of glass filling,
When the viscosity at the time of glass filling is 10 4 Pa · s or more, track width TW of 0.1 μm or less in any glass
It was found that the amount decreased. Further, in the case of the glass viscosity of 10 3 Pa · s to 10 4 Pa · s which has been conventionally adopted, the maximum reduction amount of the track width TW is 1.5 μm.
It turns out that it will be about m.

【0091】なお、図25において、ガラス充填時の粘
度が104.5 Pa・sのときのデータが欠けているが、
これは104.5 Pa・sの粘度にてガラスを充填した場
合のトラック幅TWの減少量が皆無に近く識別不可能な
レベルとなっているためである。
In FIG. 25, the data when the viscosity when the glass is filled is 10 4.5 Pa · s is missing,
This is because the reduction amount of the track width TW when the glass is filled with the viscosity of 10 4.5 Pa · s is almost indistinguishable.

【0092】次に、トラック幅TWの減少量と、ヘッド
再生出力の低下量との関係を図26に示す。図26から
わかるように、トラック幅TWの減少量が0.1μmの
場合、トラック幅TWが5μmのヘッド、10μmのヘ
ッド、及び15μmのヘッドいずれも、再生出力の低下
が0.1dB以下となっており、再生出力の低下として
は実用上問題の無いレベルとなっていることがわかっ
た。
Next, FIG. 26 shows the relationship between the reduction amount of the track width TW and the reduction amount of the head reproduction output. As can be seen from FIG. 26, when the reduction amount of the track width TW is 0.1 μm, the reproduction output reduction is 0.1 dB or less in any of the heads having the track width TW of 5 μm, 10 μm, and 15 μm. Therefore, it was found that the reduction in the reproduction output was at a level at which there was no practical problem.

【0093】以上のことから、トラック幅規制溝18,
19への融着ガラス9の充填を10 4 Pa・s以上の粘
度にて行うことにより、融着ガラス9と接する金属磁性
膜1,2の端面に保護膜を付けなくとも、融着ガラス9
が金属磁性膜1,2を侵食するために発生するトラック
幅TWの減少量を0.1μm以下に抑えることができ、
このトラック幅TWの減少による再生出力の低下を0.
1dB以下とすることができる。
From the above, the track width regulating groove 18,
Filling 19 with fused glass 9 FourViscosity over Pa · s
The magnetic properties of the fused glass 9
Even if a protective film is not attached to the end faces of the films 1 and 2, the fused glass 9
Generated by erosion of metal magnetic films 1 and 2
The reduction amount of the width TW can be suppressed to 0.1 μm or less,
The decrease in reproduction output due to the decrease in the track width TW is set to 0.
It can be 1 dB or less.

【0094】そして最後に、フェライト基板の積層に用
いられるガラス膜10,11とフェライト基板3,5と
の間に界面膜16a,17aを設けることにより、当該
ガラス膜10,11とフェライト基板3,5との反応を
防止できることの実験を行なった。
Finally, by providing the interface films 16a and 17a between the glass films 10 and 11 used for laminating the ferrite substrates and the ferrite substrates 3 and 5, the glass films 10 and 11 and the ferrite substrates 3 and 5 are provided. Experiments were carried out to prevent the reaction with 5.

【0095】実験条件 (a) 基板積層のためのガラスとして以下に示す2種類の
ガラスを用いた。 ガラスA:Tg=430℃、Tc=480℃ ガラスB:Tg=465℃、Tc=495℃ (b) 界面膜としては0.1μm厚のCrを用いた。 (c) 上記(a),(b) の組合せ、及び界面膜無しにて磁気ヘ
ッドを作成し、フェライト内での破断が発生したか否
か、ガラス膜内に気泡が発生したか否かを観察した。そ
の結果を表4に示す。
Experimental Conditions (a) The following two types of glass were used as the glass for laminating the substrates. Glass A: Tg = 430 ° C., Tc = 480 ° C. Glass B: Tg = 465 ° C., Tc = 495 ° C. (b) 0.1 μm thick Cr was used as the interface film. (c) A magnetic head was created without using the combination of (a) and (b) above, and without an interface film, to determine whether breakage occurred in the ferrite and whether bubbles were generated in the glass film. I observed. The results are shown in Table 4.

【0096】[0096]

【表4】 [Table 4]

【0097】この結果から分かるように、ガラス膜1
0,11とフェライト基板3,5との間に界面膜16
a,17aを設けた磁気ヘッドでは、ガラスA、ガラス
Bいずれにおいても、フェライト内部での破断の発生及
びガラス膜内の気泡の発生は見られなかった。また、界
面膜16a,17aを設けなかった磁気ヘッドでは、ガ
ラスA、ガラスBいずれにおいても、フェライト内での
破断発生及びガラス内での気泡の発生が見られた。
As can be seen from these results, the glass film 1
An interfacial film 16 is provided between 0 and 11 and the ferrite substrates 3 and 5.
In the magnetic heads provided with a and 17a, neither glass A nor glass B was found to have fractures inside the ferrite or bubbles inside the glass film. Further, in the magnetic heads in which the interface films 16a and 17a were not provided, breakage in the ferrite and generation of bubbles in the glass were observed in both the glass A and the glass B.

【0098】なお、フェライト基板上にCr膜を介して
ガラス膜を設けた場合と、フェライト基板上に直接ガラ
ス膜を形成した場合の熱処理後の付着強度を引張付着強
度試験機により各々測定する実験も行なった。
Experiments in which the tensile bond strength tester measures the bond strength after heat treatment when a glass film is provided on a ferrite substrate through a Cr film and when the glass film is directly formed on the ferrite substrate Also did.

【0099】この結果、Cr膜(界面膜)を設けない場
合は213.5Kg/cm2 、Cr膜(界面膜)を設け
た場合は749.7Kg/cm2 と明らかにCr膜を設
けた場合の方が、付着強度に優れていることがわかっ
た。また、Cr膜を設けた場合には、ガラス膜内にて破
断していないのに対し、Cr膜を設けない場合にはフェ
ライト内にて破断しており、その付着力の低下はガラス
とフェライトの反応によるものであることが、この実験
で確認出来た。
As a result, when the Cr film (interface film) was not provided, it was 213.5 Kg / cm 2 , and when the Cr film (interface film) was provided, it was 749.7 Kg / cm 2 and clearly the Cr film was provided. It was found that the adhesive strength was better. Moreover, when the Cr film is provided, the glass film is not broken in the glass film, whereas when the Cr film is not provided, the glass film is broken in the ferrite film. It was confirmed in this experiment that it was due to the reaction of.

【0100】以上のことから、フェライト基板の積層に
用いられるガラス膜10,11とフェライト基板3,5
との間に界面膜16a,17aを設けることにより、ガ
ラス膜10,11とフェライト基板3,5との反応によ
るフェライト強度の劣化が防止でき、基板積層後の各種
加工時におけるフェライト内部からの破断が防止でき
る。さらに、ガラス膜10,11とフェライト基板3,
5との間に界面膜16a,17aを設けることにより、
ガラス膜10,11とフェライト基板3,5との反応に
よるガラス膜内の気泡の発生が防止でき、この気泡内に
磁気記録媒体、例えばテープの摩耗粉等が堆積すること
による、ヘッドクロッグ等の発生を防止できる。
From the above, the glass films 10 and 11 and the ferrite substrates 3 and 5 used for laminating the ferrite substrates are formed.
By providing the interface films 16a and 17a between and, it is possible to prevent the deterioration of the ferrite strength due to the reaction between the glass films 10 and 11 and the ferrite substrates 3 and 5, and to break the ferrite from the inside during various processing after the substrate is laminated. Can be prevented. Further, the glass films 10, 11 and the ferrite substrate 3,
By providing the interface films 16a and 17a between the
Bubbles in the glass film due to the reaction between the glass films 10 and 11 and the ferrite substrates 3 and 5 can be prevented, and the magnetic recording medium, for example, the abrasion powder of the tape is accumulated in the bubbles to prevent head clogs. Occurrence can be prevented.

【0101】なお、前述した磁気ヘッドにおいては、ト
ラック幅規制溝18,19を磁気記録媒体摺動面側より
バック側に亘って連続して形成したが、図27に示すよ
うに磁気記録媒体摺動面側にのみトラック幅規制溝1
8,19を形成した磁気ヘッドに対しても本発明を適用
でき、その作用効果は同じである。また、前述の磁気ヘ
ッドにおいては、金属磁性膜1,2を磁気記録媒体の摺
動方向と平行となるように形成したが、例えば図28
(a),(b)に示すように、磁気記録媒体の摺動方向
に対して非平行となるように形成した磁気ヘッドに対し
ても本発明を適用できる。
In the above-described magnetic head, the track width restricting grooves 18 and 19 are continuously formed from the sliding surface side of the magnetic recording medium to the back side, but as shown in FIG. Track width regulation groove 1 only on the moving surface side
The present invention can be applied to the magnetic heads having Nos. 8 and 19 and the same operation and effect. In the magnetic head described above, the metal magnetic films 1 and 2 are formed so as to be parallel to the sliding direction of the magnetic recording medium.
The present invention can be applied to a magnetic head formed so as not to be parallel to the sliding direction of the magnetic recording medium as shown in (a) and (b).

【0102】次に、前述した図1に示す磁気ヘッドを製
造する方法について、工程順に従って図面を参照しなが
ら説明する。先ず、磁性コア基板として図7及び図9に
示すような同一形状の一対のフェライト基板26,27
を用意し、これらフェライト基板26,27の一主面2
6a,27aをポリッシング加工等を用いて鏡面加工す
る。
Next, a method of manufacturing the above-described magnetic head shown in FIG. 1 will be described in the order of steps with reference to the drawings. First, as a magnetic core substrate, a pair of ferrite substrates 26 and 27 having the same shape as shown in FIGS.
Is prepared, and one main surface 2 of these ferrite substrates 26, 27 is prepared.
6a and 27a are mirror-finished by polishing or the like.

【0103】なお、フェライト基板26,27には、単
結晶フェライト又は多結晶フェライトよりなる基板、或
いは単結晶フェライトと多結晶フェライトとの接合基
板、又は面指数の異なる単結晶フェライトの接合基板を
用いてもよい。
As the ferrite substrates 26 and 27, substrates made of single crystal ferrite or polycrystalline ferrite, a bonding substrate of single crystal ferrite and polycrystalline ferrite, or a bonding substrate of single crystal ferrite having different plane indices is used. May be.

【0104】次に、一方のフェライト基板26の一主面
26aに、マスクスパッタを用いて必要最小限の面積に
金属磁性膜28,29を所定間隔を持って平行となるよ
うに被着形成する。金属磁性膜28,29を形成するに
際しては、図8に示すように、フェライト基板26との
付着力向上等のために、SiO2 よりなる下地膜30を
その膜厚が50nmとなるように形成した。そして、高
周波特性を向上させるために、金属磁性膜28,29は
絶縁膜31a,31bを介して磁性金属薄膜28a,2
8b,28cを何層にも積層することにより形成した。
Next, on one main surface 26a of the one ferrite substrate 26, metal magnetic films 28 and 29 are formed by mask sputtering so as to be parallel to each other with a predetermined interval in a required minimum area. . When forming the metal magnetic films 28 and 29, as shown in FIG. 8, a base film 30 made of SiO 2 is formed to have a film thickness of 50 nm in order to improve the adhesion with the ferrite substrate 26 and the like. did. In order to improve the high frequency characteristics, the metal magnetic films 28 and 29 are magnetic metal thin films 28a and 2 via the insulating films 31a and 31b.
It was formed by stacking 8b and 28c in multiple layers.

【0105】なお、磁性金属薄膜28a,28b,28
cは、1層当たりの膜厚を2〜5μmとし、後述のトラ
ック幅規制溝によって所定値のトラック幅を出すため、
所定値のトラック幅の1.2〜3倍程度の膜厚となるよ
うに絶縁膜31a,31bを介して積層形成する。
The magnetic metal thin films 28a, 28b, 28
c has a film thickness per layer of 2 to 5 μm, and a track width regulation groove described later provides a predetermined track width,
The insulating films 31a and 31b are laminated so that the film thickness is about 1.2 to 3 times the predetermined track width.

【0106】本実施例では、トラック幅を5μmと設定
した場合、1層当たりの磁性金属薄膜28a,28b,
28cの膜厚を3μmとし、0.2μm厚のSiO2
を絶縁膜31a,31bとして3層重ねた。なお、トラ
ック幅を10μm及び15μmとした場合には、1層当
たりの磁性金属薄膜28a,28b,28c及び絶縁膜
31a,31bの厚みは、それぞれトラック幅5μmの
ヘッドと同一として6層重ねた。
In this embodiment, when the track width is set to 5 μm, the magnetic metal thin films 28a, 28b per layer are
The film thickness of 28c was set to 3 μm, and SiO 2 films of 0.2 μm thickness were stacked as three insulating films 31a and 31b. When the track widths were set to 10 μm and 15 μm, the magnetic metal thin films 28a, 28b and 28c and the insulating films 31a and 31b per layer had the same thickness as the head having a track width of 5 μm, and six layers were stacked.

【0107】次に、金属磁性膜28,29上及び金属磁
性膜28,29が形成されていないフェライト基板27
の一主面27aに、図10及び図11に示すようにスパ
ッタリングによって0.1〜0.5μm厚の低融点ガラ
ス膜31,32を形成する。その際、金属磁性膜28,
29上及びフェライト表面27aに、当該金属磁性膜2
8,29及びフェライトとガラスとの反応を防止するた
めに、界面膜33,34を形成した。
Next, the ferrite substrate 27 on the metal magnetic films 28 and 29 and on which the metal magnetic films 28 and 29 are not formed.
As shown in FIGS. 10 and 11, low melting point glass films 31 and 32 having a thickness of 0.1 to 0.5 μm are formed on one main surface 27a by sputtering. At that time, the metal magnetic film 28,
The metal magnetic film 2 is formed on the surface 29 and on the ferrite surface 27a.
8 and 29 and interface films 33 and 34 were formed to prevent the reaction between ferrite and glass.

【0108】本実施例では、Crを0.1μm厚となる
ように形成した後、PbO系ガラスを0.2μm厚とな
るように積層した。なお、低融点ガラス膜31,32
は、いずれか一方のフェライト基板26,27に形成す
るようにしてもよい。
In this example, Cr was formed to have a thickness of 0.1 μm, and then PbO glass was laminated to have a thickness of 0.2 μm. The low melting point glass films 31, 32
May be formed on either one of the ferrite substrates 26 and 27.

【0109】次いで、図12に示すように、金属磁性膜
28,29を挟み込むようにして一方のフェライト基板
27を他方のフェライト基板26上に積層し、圧着しな
がら金属磁性膜28,29の磁気特性の劣化が生じない
500℃〜650℃の熱を加える。この結果、図13に
示すように、上記低融点ガラス膜31,32が溶けあっ
て融合し、冷却されることにより上記フェライト基板2
6,27同士が接合一体化される。
Next, as shown in FIG. 12, one ferrite substrate 27 is laminated on the other ferrite substrate 26 so as to sandwich the metal magnetic films 28 and 29, and the magnetic force of the metal magnetic films 28 and 29 is magnetically bonded while being pressure-bonded. Heat at 500 ° C. to 650 ° C. is applied so that deterioration of characteristics does not occur. As a result, as shown in FIG. 13, the low-melting-point glass films 31 and 32 are melted and fused with each other, and are cooled, whereby the ferrite substrate 2 is cooled.
6, 27 are joined and integrated.

【0110】次に、この接合一体化された接合基板34
を、作製する磁気ヘッドに付与するアジマス角と同じ角
度θを持って図14中線A−A´,線B−B´,線C−
C´で示す位置で切断する。次いで、フェライトの不要
部分を平面研削盤等を用いて除去した後、各磁気コア半
体ブロック35,36に、図15及び図16に示すよう
にコイルを巻装するための巻線溝37,38とガラス融
着する際のガラス溝39,40をそれぞれの突合わせ面
に形成する。
Next, the joined substrate 34 joined and integrated is formed.
With the same angle θ as the azimuth angle given to the magnetic head to be manufactured, the line AA ′, the line BB ′, and the line C− in FIG.
Cut at the position indicated by C '. Then, after removing unnecessary portions of the ferrite by using a surface grinder or the like, winding grooves 37 for winding the coil are formed on the magnetic core half blocks 35, 36 as shown in FIGS. 15 and 16. Glass grooves 39 and 40 for glass fusion with 38 are formed on the respective butting surfaces.

【0111】上記巻線溝37,38とガラス溝39,4
0は、いずれも断面略コ字状をなす溝として形成する
が、巻線溝37,38の一方の側面37a,38aは傾
斜面とする。なお、巻線溝37,38の他方の側面37
b,38bは、傾斜面又は垂直面のいずれでもよい。
The winding grooves 37, 38 and the glass grooves 39, 4
Although 0 is formed as a groove having a substantially U-shaped cross section, one side surface 37a, 38a of each winding groove 37, 38 is an inclined surface. The other side surface 37 of the winding grooves 37, 38
b and 38b may be inclined surfaces or vertical surfaces.

【0112】次に、上記各磁気コア半体ブロック35,
36に、トラック幅を規制するためのトラック幅規制溝
41,42をそれぞれ形成する。上記トラック幅規制溝
41,42は、上記巻線溝37,38及びガラス溝3
9,40と略直交する方向に上記金属磁性膜28,29
の膜厚方向の両端部の一部を削り取るようにして断面略
コ字状をなす溝としてブロック全体に亘って形成する。
Next, the magnetic core half blocks 35,
Track width restricting grooves 41 and 42 for restricting the track width are formed in 36, respectively. The track width regulating grooves 41, 42 are the winding grooves 37, 38 and the glass groove 3
In the direction substantially orthogonal to 9, 40, the metal magnetic films 28, 29
Part of both ends in the film thickness direction is shaved off to form a groove having a substantially U-shaped cross section over the entire block.

【0113】次に、上記各磁気コア半体ブロック35,
36の突合わせ面であるギャップ形成面35a,36a
をポリッシングにより鏡面加工する。そして、一方の磁
気コア半体ブロック35のギャップ形成面35a又は双
方の磁気コア半体ブロックのギャップ形成面35a及び
36aにギャップ膜を形成した後、図19に示すよう
に、これら磁気コア半体ブロック35,36をトラック
位置合わせしながら突合わせ、融着ガラス43を流し込
みながらギャップ接合を行う。
Next, the magnetic core half blocks 35,
Gap forming surfaces 35a, 36a which are abutting surfaces of 36
Is mirror-finished by polishing. Then, after forming a gap film on the gap forming surface 35a of one magnetic core half block 35 or the gap forming surfaces 35a and 36a of both magnetic core half blocks, as shown in FIG. The blocks 35 and 36 are butted while aligning the tracks, and the gap bonding is performed while pouring the fused glass 43.

【0114】この結果、これら磁気コア半体ブロック3
5,36は、融着ガラス43によって接合一体化され、
金属磁性膜28,29の突合わせ面間に記録再生ギャッ
プとして動作する磁気ギャップgが構成される。また、
ガラス融着時には、基板積層のためのガラス31,32
と融着ガラス43のガラス転移点Tgやガラス屈伏点T
c等を前述のように規定しているので、融着ガラス43
やフェライト基板26,27にクラックが入ることがな
く、またガラス融着時の融着ガラス43の粘度も前述の
ように規定しているので、金属磁性膜28,29が侵食
されてトラック幅が減少することもない。
As a result, these magnetic core half blocks 3
5, 36 are joined and integrated by the fused glass 43,
A magnetic gap g that operates as a recording / reproducing gap is formed between the abutting surfaces of the metal magnetic films 28 and 29. Also,
At the time of glass fusion, glass 31, 32 for stacking substrates
And the glass transition point Tg of the fused glass 43 and the glass deformation point T
Since c and the like are defined as described above, the fused glass 43
Since the ferrite substrates 26 and 27 are not cracked, and the viscosity of the fused glass 43 at the time of glass fusion is defined as described above, the metal magnetic films 28 and 29 are eroded and the track width is reduced. It will not decrease.

【0115】そして、融着ガラス43によって接合一体
化されたフェライトブロックに、巻線補助溝を形成した
後、磁気記録媒体摺動面に円筒研磨を行い当たり幅加工
を施して、所定チップ形状となるように切断する。
Then, after forming a winding auxiliary groove in the ferrite block joined and integrated by the fused glass 43, the sliding surface of the magnetic recording medium is cylindrically polished to give a predetermined width to a predetermined chip shape. Cut so that

【0116】なお、フェライト基板の積層に用いられる
ガラス膜31,32とフェライト基板27との間には、
前述の通り界面膜34が設けられているので、ガラス膜
31,32とフェライト基板27との反応によるフェラ
イトの強度の劣化は発生せず、基板積層からチップ形状
完成に至るまでの各種加工においてフェライト内から破
断することもない。また、ガラス膜31,32とフェラ
イト基板27との反応によるガラス膜内の気泡の発生も
ないことから、この気泡内に磁気記録媒体、例えばテー
プの摩耗粉等が堆積することもなく、ヘッドクロッグ等
の問題も発生しない。
Between the glass films 31 and 32 used for stacking the ferrite substrates and the ferrite substrate 27,
Since the interface film 34 is provided as described above, the strength of the ferrite does not deteriorate due to the reaction between the glass films 31 and 32 and the ferrite substrate 27, and the ferrite is used in various processes from the substrate lamination to the completion of the chip shape. It does not break from inside. Further, since no bubbles are generated in the glass film due to the reaction between the glass films 31 and 32 and the ferrite substrate 27, the magnetic recording medium, for example, abrasion powder of tape is not deposited in the bubbles, and the head clogs are not formed. There is no such problem.

【0117】この結果、図1に示す高密度記録媒体に対
して良好に記録再生が行える磁気ヘッドが完成する。
As a result, the magnetic head capable of excellent recording and reproduction on the high density recording medium shown in FIG. 1 is completed.

【0118】[0118]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、フェライト基板の積層に用
いられるガラスのガラス転移点を、ギャップ接合に用い
る融着ガラスのガラス屈伏点よりも高くしているので、
融着ガラスにクラックが発生するのを防止でき、磁気ギ
ャップのギャップ長精度を高精度なものとすることがで
きる。
As is clear from the above description, in the magnetic head of the present invention, the glass transition point of the glass used for laminating the ferrite substrates is set to be higher than the glass deformation point of the fused glass used for the gap bonding. Because it is high,
It is possible to prevent cracks from occurring in the fused glass, and it is possible to make the gap length accuracy of the magnetic gap highly accurate.

【0119】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、フ
ェライト基板の積層に用いられるガラスのガラス転移点
Tgが450℃以上、ガラス屈伏点Tcが650℃以下
としているので、基板積層時の加熱によりフェライト基
板にクラックが発生するのを回避でき、ギャップ接合時
に信頼性の高い融着ガラスをクラックが入ることなく使
用することができ、ヘッドの信頼性を大幅に高めること
ができる。
In the magnetic head of the present invention, the glass used for laminating the ferrite substrates has a glass transition point Tg of 450 ° C. or higher and a glass deformation point Tc of 650 ° C. or lower. It is possible to avoid the occurrence of cracks in the substrate, it is possible to use fused glass with high reliability without cracks during gap bonding, and it is possible to greatly improve the reliability of the head.

【0120】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、ギ
ャップ接合に用いる融着ガラスとしてPbO系低融点ガ
ラスを使用し、そのガラス充填時の粘度を104 Pa・
s以上としているので、金属膜の侵食防止のための保護
膜を付けなくても、融着ガラスによる金属膜の侵食を防
止することができ、トラック幅の減少を大幅に抑制する
ことができる。したがって、トラック幅が15μm以下
という極めて狭いトラック幅とした磁気ヘッドの場合で
も、トラック幅減少による再生出力の低下を0.1dB
以下とすることができる。よって、本発明の磁気ヘッド
によれば、高密度記録媒体に対しても良好な状態で記録
再生が可能となる。
Further, in the magnetic head of the present invention, PbO-based low melting point glass is used as the fusion glass used for the gap bonding, and the viscosity at the time of filling the glass is 10 4 Pa.
Since it is set to s or more, the metal film can be prevented from being corroded by the fused glass without a protective film for preventing the metal film from being corroded, and the reduction of the track width can be significantly suppressed. Therefore, even in the case of a magnetic head having an extremely narrow track width of 15 μm or less, the decrease in reproduction output due to the decrease in track width is 0.1 dB.
It can be: Therefore, according to the magnetic head of the present invention, recording / reproducing can be performed in a good state even on a high density recording medium.

【0121】また本発明においては、フェライト基板の
積層に用いられるガラスとフェライト基板との間に、高
融点非磁性金属膜、或いは酸化物材料よりなる界面膜が
設けられているので、ガラスとフェライトとの反応によ
るフェライトの強度の劣化は発生せず、基板堆積後の各
種加工においてフェライト内から破断することはない。
さらに、ガラスとフェライトの反応によるガラス膜内の
気泡の発生もないことから、この気泡内に磁気記録媒
体、例えばテープの摩耗粉等が堆積することもない。し
たがって、ヘッドクロッグ等の問題は発生せず、ヘッド
の信頼性を大幅に高めることができる。
Further, in the present invention, since the high melting point nonmagnetic metal film or the interface film made of an oxide material is provided between the glass used for laminating the ferrite substrates and the ferrite substrate, the glass and the ferrite are provided. The strength of the ferrite does not deteriorate due to the reaction with, and it does not break from inside the ferrite during various processing after the substrate is deposited.
Further, since bubbles do not occur in the glass film due to the reaction between the glass and the ferrite, the magnetic recording medium, for example, abrasion powder of tape is not deposited in the bubbles. Therefore, problems such as head clogs do not occur and the reliability of the head can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head to which the present invention is applied.

【図2】本発明を適用した磁気ヘッドの磁気ギャップ部
分を拡大して示す要部拡大平面図である。
FIG. 2 is an enlarged plan view of an essential part showing an enlarged magnetic gap portion of a magnetic head to which the present invention is applied.

【図3】ガラスの伸び率を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the elongation rate of glass.

【図4】ガラスの熱膨張曲線を示す特性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram showing a thermal expansion curve of glass.

【図5】融着ガラスにクラックが発生するメカニズムを
説明するための要部拡大平面図である。
FIG. 5 is an enlarged plan view of an essential part for explaining a mechanism in which a fused glass is cracked.

【図6】融着ガラスにクラックが発生した状態を示す要
部拡大平面図である。
FIG. 6 is an enlarged plan view of an essential part showing a state where cracks have occurred in the fused glass.

【図7】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、一方のフェライト基板に金属磁性膜を形成する
工程を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a process of forming a metal magnetic film on one ferrite substrate.

【図8】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、一方のフェライト基板に形成された金属磁性膜
部分を拡大して示す要部拡大断面図である。
FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention in order and showing an enlarged part of the metal magnetic film formed on one ferrite substrate.

【図9】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、他方のフェライト基板の主面を鏡面加工する工
程を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view sequentially showing the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing the step of mirror-finishing the main surface of the other ferrite substrate.

【図10】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、金属磁性膜上にガラス膜を形成する工程を示
す要部拡大断面図である。
FIG. 10 is a fragmentary enlarged cross-sectional view showing a step of forming a glass film on a metal magnetic film, sequentially showing steps of manufacturing the magnetic head of the present invention.

【図11】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、フェライト基板上にガラス膜を形成する工程
を示す要部拡大断面図である。
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a step of manufacturing the magnetic head of the present invention in sequence, showing a step of forming a glass film on a ferrite substrate.

【図12】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、フェライト基板の接合工程を示す斜視図であ
る。
FIG. 12 is a perspective view showing a step of manufacturing a magnetic head of the present invention in sequence, showing a step of joining ferrite substrates.

【図13】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、接合されたフェライト基板の金属磁性膜部分
を拡大して示す要部拡大断面図である。
FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing in sequence the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing the metal magnetic film portion of the bonded ferrite substrate in an enlarged manner.

【図14】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、接合されたフェライト基板を切断する工程を
示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view sequentially showing the steps of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing the step of cutting the bonded ferrite substrate.

【図15】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、一方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガ
ラス溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a process of forming a winding groove and a glass groove in one magnetic core half block.

【図16】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、他方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガ
ラス溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view sequentially showing a step of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a step of forming a winding groove and a glass groove in the other magnetic core half block.

【図17】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、一方の磁気コア半体ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 17 is a perspective view sequentially showing a step of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a step of forming a track width regulating groove in one magnetic core half block.

【図18】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、他方の磁気コア半体ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view sequentially showing a step of manufacturing the magnetic head of the present invention, showing a step of forming a track width regulating groove in the other magnetic core half block.

【図19】本発明の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、ガラス融着工程を示す斜視図である。
FIG. 19 is a perspective view showing a glass fusing step, which sequentially shows steps for manufacturing the magnetic head of the present invention.

【図20】融着ガラスにクラックが発生した様子を示す
磁気ギャップ部分の要部拡大平面図である。
FIG. 20 is an enlarged plan view of an essential part of a magnetic gap portion showing a state in which a crack has occurred in the fused glass.

【図21】金属磁性膜が融着ガラスによって侵食された
様子を示す磁気ギャップ部分の要部拡大平面図である。
FIG. 21 is an enlarged plan view of an essential part of a magnetic gap portion showing a state in which the metal magnetic film is eroded by the fused glass.

【図22】フェライト基板にクラックが発生した様子を
示す磁気ギャップ部分の要部拡大平面図である。
FIG. 22 is an enlarged plan view of an essential part of a magnetic gap portion showing how a crack is generated in a ferrite substrate.

【図23】実験に用いたガラスの粘度特性を示す特性図
である。
FIG. 23 is a characteristic diagram showing the viscosity characteristic of the glass used in the experiment.

【図24】トラック幅減少量を説明するための磁気ギャ
ップ部分の要部拡大平面図である。
FIG. 24 is an enlarged plan view of an essential part of a magnetic gap portion for explaining a track width reduction amount.

【図25】実験に用いたガラスの粘度とトラック幅減少
量との関係を示す特性図である。
FIG. 25 is a characteristic diagram showing the relationship between the viscosity of the glass used in the experiment and the track width reduction amount.

【図26】実験に用いた磁気ヘッドのトラック幅減少量
とヘッド出力低下量との関係を示す特性図である。
FIG. 26 is a characteristic diagram showing the relationship between the track width reduction amount and the head output reduction amount of the magnetic head used in the experiment.

【図27】本実施例の磁気ヘッドの他の例を示す斜視図
である。
FIG. 27 is a perspective view showing another example of the magnetic head of the present embodiment.

【図28】本実施例の磁気ヘッドのさらに他の例を示す
もので、いずれも金属磁性膜が磁気記録媒体摺動方向と
非平行な例を示す平面図であり、(a)は金属磁性膜が
磁気ギャップと逆方向に傾斜している例であり、(b)
は金属磁性膜が磁気ギャップと同一方向に傾斜している
例を示す。
FIG. 28 is a plan view showing still another example of the magnetic head of the present embodiment, in which the metal magnetic film is not parallel to the sliding direction of the magnetic recording medium, and FIG. This is an example in which the film is tilted in the direction opposite to the magnetic gap, (b)
Shows an example in which the metal magnetic film is inclined in the same direction as the magnetic gap.

【図29】磁気コア基板として非磁性材料を用いてなる
磁気ヘッドの斜視図である。
FIG. 29 is a perspective view of a magnetic head using a non-magnetic material as a magnetic core substrate.

【図30】磁気コア基板として非磁性材料を用いてなる
磁気ヘッドのトラック幅とヘッド効率との関係を示す特
性図である。
FIG. 30 is a characteristic diagram showing a relationship between track width and head efficiency of a magnetic head made of a non-magnetic material as a magnetic core substrate.

【図31】磁気コア基板として非磁性材料又はフェライ
トを用いてなる磁気ヘッドのトラック幅を20μmとし
たときの周波数と相対出力との関係を示す特性図であ
る。
FIG. 31 is a characteristic diagram showing the relationship between frequency and relative output when the track width of a magnetic head made of a non-magnetic material or ferrite as a magnetic core substrate is set to 20 μm.

【図32】磁気コア基板として非磁性材料又はフェライ
トを用いてなる磁気ヘッドのトラック幅を15μmとし
たときの周波数と相対出力との関係を示す特性図であ
る。
FIG. 32 is a characteristic diagram showing the relationship between frequency and relative output when the track width of a magnetic head made of a non-magnetic material or ferrite as a magnetic core substrate is set to 15 μm.

【図33】磁気コア基板として非磁性材料又はフェライ
トを用いてなる磁気ヘッドのトラック幅を5μmとした
ときの周波数と相対出力との関係を示す特性図である。
FIG. 33 is a characteristic diagram showing the relationship between frequency and relative output when the track width of a magnetic head made of a non-magnetic material or ferrite is set to 5 μm as a magnetic core substrate.

【図34】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、ガラス充填溝加工工程を示す斜視
図である。
FIG. 34 is a perspective view showing a glass filling groove processing step, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by using a non-magnetic material as a magnetic core substrate and a method of forming no track width regulating groove.

【図35】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、ガラス充填工程を示す斜視図であ
る。
FIG. 35 is a perspective view showing a glass filling step, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head using a method in which a non-magnetic material is used as a magnetic core substrate and a track width regulating groove is not formed.

【図36】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁性膜形成面鏡面加工工程を示す
斜視図である。
FIG. 36 is a perspective view showing a magnetic film forming surface mirror surface processing step, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by using a non-magnetic material as a magnetic core substrate and without forming track width regulating grooves.

【図37】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、金属磁性膜及びガラス膜形成工程
を示す斜視図である。
FIG. 37 is a perspective view showing a step of forming a magnetic metal film and a glass film, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by using a non-magnetic material as a magnetic core substrate without forming track width regulating grooves.

【図38】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、基板接合工程を示す斜視図であ
る。
FIG. 38 is a perspective view showing a substrate bonding step, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by a method using a non-magnetic material as a magnetic core substrate without forming track width regulating grooves.

【図39】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、切断及び巻線溝並びにガラス溝形
成工程を示す斜視図である。
FIG. 39 is a perspective view showing a cutting, winding groove, and glass groove forming step sequentially showing steps of manufacturing a magnetic head by using a non-magnetic material as a magnetic core substrate and not forming track width regulating grooves. .

【図40】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、ギャップ接合工程を示す斜視図で
ある。
FIG. 40 is a perspective view showing a gap bonding step, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by using a non-magnetic material as a magnetic core substrate and a method of forming no track width regulating groove.

【図41】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、チップ切断工程を示す斜視図であ
る。
FIG. 41 is a perspective view showing a chip cutting step, which sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by a method in which a non-magnetic material is used as a magnetic core substrate and a track width regulating groove is not formed.

【図42】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁性膜形成面を鏡面加工したとき
のガラス充填部分を拡大して示す要部拡大断面図であ
る。
FIG. 42 sequentially shows steps of manufacturing a magnetic head by using a non-magnetic material as a magnetic core substrate without forming track width regulating grooves, and enlarging a glass filling portion when a magnetic film forming surface is mirror-finished. FIG.

【図43】磁気コア基板として非磁性材料を用いトラッ
ク幅規制溝を形成しない方式で磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、金属磁性膜形成部分を拡大して示
す要部拡大断面図である。
FIG. 43 is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a step of manufacturing a magnetic head by a method using a non-magnetic material as a magnetic core substrate and not forming a track width regulating groove, showing a metal magnetic film formation portion in an enlarged manner is there.

【図44】金属磁性膜と融着ガラスとの界面にガラスに
よる侵食を防止する保護膜を介在させた磁気ヘッドの要
部拡大平面図である。
FIG. 44 is an enlarged plan view of an essential part of a magnetic head in which a protective film for preventing corrosion by glass is interposed at the interface between the metal magnetic film and the fused glass.

【図45】金属磁性膜と融着ガラスとの界面にガラスに
よる侵食を防止する保護膜を介在させた磁気ヘッドの磁
気記録媒体摺動面が摩耗した状態を示す要部拡大断面図
である。
FIG. 45 is an enlarged cross-sectional view of essential parts showing a state in which the sliding surface of the magnetic recording medium of the magnetic head in which the protective film for preventing erosion by glass is interposed at the interface between the metal magnetic film and the fused glass is worn.

【図46】金属磁性膜と融着ガラスとの界面にガラスに
よる侵食を防止する保護膜を介在させた磁気ヘッドの磁
気記録媒体摺動面が摩耗したときの磁気記録媒体に対す
る当たり状態を示す要部拡大断面図である。
FIG. 46 is a diagram showing a contact state with respect to a magnetic recording medium when a sliding surface of the magnetic recording medium of a magnetic head in which a protective film for preventing corrosion by glass is interposed at an interface between the metal magnetic film and the fused glass is worn. FIG.

【図47】ガラス膜とフェライト基板が直接触れている
場合にフェライト内での破断及びガラス膜内の気泡が発
生している様子を示す要部拡大図である。
FIG. 47 is an enlarged view of an essential part showing a state in which breakage in the ferrite and bubbles in the glass film are generated when the glass film and the ferrite substrate are in direct contact with each other.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2・・・金属磁性膜 1a,1b,1c,2a,2b,2c・・・磁性金属薄
膜 3,4,5,6・・・フェライト基板 7,8・・・磁気コア半体 9・・・融着ガラス 10,11・・・ガラス膜 12a,12b,13a,13b・・・絶縁膜 16a,16b,17a,17b・・・界面膜 18,19・・・トラック幅規制溝 20,21・・・巻線溝 22,23・・・巻線補助溝 24,25・・・ガラス溝
1, 2 ... Metal magnetic film 1a, 1b, 1c, 2a, 2b, 2c ... Magnetic metal thin film 3, 4, 5, 6 ... Ferrite substrate 7, 8 ... Magnetic core half body 9. ..Fused glass 10, 11 ... Glass film 12a, 12b, 13a, 13b ... Insulating film 16a, 16b, 17a, 17b ... Interfacial film 18, 19 ... Track width regulating groove 20, 21・ ・ ・ Winding groove 22, 23 ・ ・ ・ Winding auxiliary groove 24, 25 ・ ・ ・ Glass groove

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属磁性膜が形成されたフェライト基板
にガラスよりなる膜を介してフェライト基板を積層し、
これにトラック幅規制溝を形成してなる一対の磁気コア
半体を、融着ガラスによりギャップ接合して作製される
磁気ヘッドにおいて、 上記フェライト基板の積層に用いられるガラスのガラス
転移点Tgが、融着ガラスのガラス屈伏点Tcよりも高
いことを特徴とする磁気ヘッド。
1. A ferrite substrate having a metal magnetic film formed thereon, and a ferrite substrate laminated on the ferrite substrate via a film made of glass,
In a magnetic head manufactured by gap-bonding a pair of magnetic core halves each having a track width regulating groove formed therein with a fused glass, the glass transition point Tg of the glass used for laminating the ferrite substrates is: A magnetic head having a glass deformation point Tc higher than that of a fused glass.
【請求項2】 上記フェライト基板の積層に用いられる
ガラスのガラス転移点Tgが450℃以上、ガラス屈伏
点Tcが650℃以下であることを特徴とする請求項1
記載の磁気ヘッド。
2. The glass used for laminating the ferrite substrate has a glass transition point Tg of 450 ° C. or higher and a glass deformation point Tc of 650 ° C. or lower.
The magnetic head described.
【請求項3】 融着ガラスが500℃以上、600℃以
下の温度範囲内の任意の温度におけるガラスの粘度が1
3 Pa・s以上、104 Pa・s以下のいずれかに該
当する粘度であり、且つ融着される際の融着ガラスの粘
度が104 Pa・s以上であることを特徴とする請求項
1記載の磁気ヘッド。
3. The viscosity of the fused glass at a given temperature within a temperature range of 500 ° C. or more and 600 ° C. or less is 1 or less.
A viscosity corresponding to any of 0 3 Pa · s or more and 10 4 Pa · s or less, and the viscosity of the fused glass at the time of fusing is 10 4 Pa · s or more. Item 1. The magnetic head according to Item 1.
【請求項4】 融着ガラスがPbO系低融点ガラスであ
ることを特徴とする請求項1又は請求項3記載の磁気ヘ
ッド。
4. The magnetic head according to claim 1, wherein the fused glass is a PbO-based low melting point glass.
【請求項5】 トラック幅が15μm以下であることを
特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
5. The magnetic head according to claim 1, wherein the track width is 15 μm or less.
【請求項6】 フェライト基板の積層に用いるガラスと
フェライト基板との間に、高融点非磁性金属膜或いは酸
化物材料よりなる界面膜が設けられていることを特徴と
する請求項1記載の磁気ヘッド。
6. The magnetic film according to claim 1, wherein a high melting point nonmagnetic metal film or an interface film made of an oxide material is provided between the glass used for laminating the ferrite substrates and the ferrite substrate. head.
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JP4-352819 1992-12-14
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