JPH06236054A - Electrophotographic sensitive material - Google Patents

Electrophotographic sensitive material

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JPH06236054A
JPH06236054A JP31330593A JP31330593A JPH06236054A JP H06236054 A JPH06236054 A JP H06236054A JP 31330593 A JP31330593 A JP 31330593A JP 31330593 A JP31330593 A JP 31330593A JP H06236054 A JPH06236054 A JP H06236054A
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salt
pigment
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milling
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Katsuichi Ota
勝一 大田
Masaomi Sasaki
正臣 佐々木
Tamotsu Ariga
保 有賀
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide an electrophotoraphic sensitive material having high sensitivity for a wide wavelength range from visible ray to near UV, and stable electrification property by incorporating an azo dye subjected to saltmilling into a photoconductive layer. CONSTITUTION:This electrophotographic sensitive material has a photoconductive layer on a conductive supporting body. At least one of layers which constitute the photoconductive layer contains an azo dye which is subjected to pulverization and mixing under high mechanical force in the presence of salt, so-called saltmilling treatment. As for saltmilling method, such means as a ball mill, vibration mill, Attriter, sand mill, paint shaker, and jet mill are used. The salt used for pulverization is preferably a salt of cation such as Na<+> and K<+>. The azo dye is a trisazo dye expressed by formula or a bisazo dye expressed by formula II. (In formulae, Ar<1>, Ar<2>, Ar<3> are coupler residues.)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体に関す
る。更に詳しくは可視光域から近赤外光域に到る幅広い
波長域に高い感度を有する電子写真感光体に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor. More specifically, it relates to an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity in a wide wavelength range from a visible light range to a near infrared light range.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年電子写真方式を用いた情報処理シス
テム機の発展は目覚ましいものがある。特に情報をデジ
タル信号に変換して光によって情報記録を行う光プリン
ターはそのプリント品質、信頼性においてすばらしいも
のがある。このデジタル記録技術はプリンターのみなら
ず通常の複写機にも応用され所謂デジタル複写機が開発
されている。又、従来からあるアナログ複写にこのデジ
タル記録技術を搭載した複写機は種々様々な情報処理機
能が付加されるため今後その需要性が益々高まっていく
であろう。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of information processing system machines using electrophotography has been remarkable. In particular, an optical printer that converts information into a digital signal and records information by light has excellent print quality and reliability. This digital recording technology has been applied not only to printers but also to ordinary copying machines, and so-called digital copying machines have been developed. In addition, since a copier equipped with this digital recording technology in addition to the conventional analog copying has various information processing functions, its demand will increase more and more in the future.

【0003】光プリンターの光源としては現在のところ
小型で安価で信頼性の高い半導体レーザー(LD)や発
光ダイオード(LED)が多く使われている。現在よく
使われているLEDの発光波長は660nmであり、L
Dの発光波長域は近赤外領域にある。このため可視光領
域から近赤外光領域に高い感度を有する電子写真感光体
の開発が望まれている。
As a light source for an optical printer, a semiconductor laser (LD) and a light emitting diode (LED) which are small in size, inexpensive and highly reliable are currently widely used. The emission wavelength of the LED that is often used at present is 660 nm.
The emission wavelength region of D is in the near infrared region. Therefore, development of an electrophotographic photosensitive member having high sensitivity in the visible light region to the near infrared light region is desired.

【0004】電子写真感光体の感光波長域は感光体に使
用される電荷発生物質(CGM)の感光波長域によって
ほぼ決まってしまう。そのため従来から各種アゾ顔料、
多環キノン系顔料、三方晶形セレン、各種フタロシアニ
ン顔料等多くのCGMが開発されている。それらの内、
アゾ顔料はその顔料合成反応の容易性、化学構造の多様
性から数多くの顔料が開発されてきた。特開昭64−7
9753、特開昭59−129857、特公平3−34
503、特公平4−52459、特開昭62−2673
63に記載のジフェニルポリエン骨格を持つビスアゾ顔
料や特開昭57−195767記載のトリスアゾ顔料は
可視光域から近赤外光域にまで感度を有している帯電電
位の保持性の高いCGMであるが、将来の情報処理機の
小型化、高速化に対応するためには感度が未だ充分でな
い。
The photosensitive wavelength range of the electrophotographic photosensitive member is substantially determined by the photosensitive wavelength range of the charge generating material (CGM) used in the photosensitive member. Therefore, conventionally, various azo pigments,
Many CGMs such as polycyclic quinone pigments, trigonal selenium and various phthalocyanine pigments have been developed. Of them,
A large number of pigments have been developed for azo pigments because of the ease of the pigment synthesis reaction and the variety of chemical structures. JP-A-64-7
9753, JP-A-59-129857, JP-B-3-34
503, Japanese Patent Publication No. 4-52459, Japanese Patent Laid-Open No. 62-2673.
The bisazo pigment having a diphenylpolyene skeleton described in 63 and the trisazo pigment described in JP-A-57-195767 are CGMs having a high charge potential retention and having sensitivity in the visible light region to the near infrared light region. However, the sensitivity is not yet sufficient to cope with the downsizing and speeding up of information processing equipment in the future.

【0005】USP5055368には乾式ソルトミリ
ングを施したチタニルフタロシアニン顔料を含有した電
子写真感光体が提案されているがフタロシアニン顔料は
幅広い感光波長域で十分に高い感度を有しているもの
の、感光体製造時の有機溶媒などで結晶型が変質しやす
く品質安定性にかける。又アゾ顔料に較べて帯電電位の
保持安定性に欠ける。以上のように未だ可視光域から近
赤外光域にまで高い感度を有したCGMは開発されてい
ない。
US Pat. No. 5,055,368 proposes an electrophotographic photoreceptor containing a dry salt milled titanyl phthalocyanine pigment. Although the phthalocyanine pigment has a sufficiently high sensitivity in a wide photosensitive wavelength range, the production of the photoreceptor The crystal form is liable to change due to organic solvents, etc., and it affects quality stability. Further, it is less stable in holding the charging potential than azo pigments. As described above, a CGM having high sensitivity in the visible light region to the near infrared light region has not yet been developed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、こうした実
情の下に可視光域より近赤外光域までの広い波長域にわ
たって高感度を有し、帯電特性も安定な電子写真感光体
を提供することを目的とするものである。
Under the circumstances, the present invention provides an electrophotographic photosensitive member which has high sensitivity over a wide wavelength range from the visible light region to the near infrared light region and has stable charging characteristics. The purpose is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
行なった結果、同一容器内で高い機械的力を加えて塩と
同時に粉砕混合する所謂ソルトミリングを行なったアゾ
顔料を含有した感光体の感度がソルトミリングしない顔
料を用いた場合より著しく高くなることを見出し、本発
明に至った。すなわち、本発明は、導電性支持体上に光
導電性層を形成してなる電子写真感光体に於いて、該光
導電性層を形成する少なくとも一層中にソルトミリング
を施したアゾ顔料が含有されていることを特徴とする電
子写真感光体をその要旨とするものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies by the present inventors, a photosensitive material containing a so-called salt milled azo pigment in which a high mechanical force is applied in the same container to pulverize and mix with a salt. It has been found that the sensitivity of the body is significantly higher than that when a pigment not salt milled is used, and the present invention has been completed. That is, the present invention is an electrophotographic photosensitive member comprising a photoconductive layer formed on a conductive support, wherein at least one layer forming the photoconductive layer contains a salt milled azo pigment. The subject of the invention is an electrophotographic photosensitive member.

【0008】後述の実施例から明らかな如くソルトミリ
ングを行なったアゾ顔料の特性X線回折ピーク高さが低
くなっており、このことから顔料がアモルファス状態に
変質したか、結晶が細かくなった事が考えられるが、こ
の増感効果のメカニズムは現在の所明確になっていな
い。本発明で実施するソルトミリングとは、アゾ顔料の
粗結晶をNaCl、KCl、KBr等の塩とともに同一
容器に入れミリングを行ない顔料と塩に同時に圧縮、剪
断、摩砕、摩擦、延伸、衝撃、振動等の機械的エネルギ
ーを与える方法を言う。
As is apparent from the examples described later, the height of the characteristic X-ray diffraction peak of the salt-milled azo pigment is low, which indicates that the pigment has been transformed into an amorphous state or the crystal has become finer. However, the mechanism of this sensitizing effect has not been clarified at present. The salt milling carried out in the present invention means that crude crystals of an azo pigment are put together with salts such as NaCl, KCl and KBr in the same container for milling, and the pigment and the salt are simultaneously compressed, sheared, ground, rubbed, stretched, impacted, It is a method of giving mechanical energy such as vibration.

【0009】ソルトミリングを行なう具体的手段として
はボールミル、振動ミル、円板振動ミル、アトライタ
ー、サンドミル、ペイントシェーカー、ジェットミル
等、顔料と無機塩に圧縮、剪断、摩砕、摩擦、延伸、衝
撃、振動等の機械的エネルギーを与える粉砕混合手段で
あればなんでも使用可能である。ミリング部材としては
スチール、ステンレス、YTZ、部分安定化ジルコニ
ア、メノウ、ガラス製ボールや砂等一般に使用されてい
るミリング材が使用可能である。本発明で使用可能な塩
としてはNaCl、KCl、KBr、Na2SO4、K2
SO4、CaCO3等のアルカリ金属のハロゲン化物、炭
酸化物、硫酸化物、リン酸化物などの無機塩、及びCH
3COONaなどの有機塩である。とくにNa+,K+の
陽イオンの塩が好ましい。次にソルトミリングの具体的
実施方法について述べる。
Specific means for performing salt milling include ball mills, vibration mills, disk vibration mills, attritors, sand mills, paint shakers, jet mills, etc., which are compressed, sheared, ground, rubbed and stretched into pigments and inorganic salts. Any crushing and mixing means that gives mechanical energy such as shock and vibration can be used. As the milling member, commonly used milling materials such as steel, stainless steel, YTZ, partially stabilized zirconia, agate, glass balls and sand can be used. Salts usable in the present invention include NaCl, KCl, KBr, Na 2 SO 4 , and K 2.
Inorganic salts such as alkali metal halides such as SO 4 and CaCO 3 , carbonates, sulfates, and phosphorus oxides, and CH
3 Organic salts such as COONa. Particularly, salts of Na + and K + cations are preferable. Next, a specific method of performing salt milling will be described.

【0010】ミリング容器内にミリング部材とともにア
ゾ顔料と塩を入れミリングを所定時間行なう。塩の投入
適正量はアゾ顔料の処理量、使用装置の大きさ、処理時
間、顔料の種類によって異なるが、投入するアゾ顔料に
対して等量以上から1000倍量入れるのがよい。ミリ
ング終了後は塩を溶媒で溶解し濾過、遠心分離等の手段
でアゾ顔料を塩とミリング部材から分離する。塩の溶媒
としては水やメタノール、エタノール等のアルコール、
アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エ
チル、エチレングリコールなど、又はそれらの混合溶媒
が使用可能である。塩やミリング部材と分離されたアゾ
顔料は加熱乾燥、減圧乾燥等の手段で溶媒を乾燥する。
またソルトミリングの方法には上記の乾式ソルトミリン
グ法のほかに塩が難溶な有機溶媒の存在下でミリングす
るソルベントソルトミリング法がある。本発明において
はこの有機溶媒存在下でソルトミリングすることによっ
てアゾ顔料の増感効果が促進される。
An azo pigment and a salt are put in a milling container together with a milling member and milling is performed for a predetermined time. The appropriate amount of salt to be added varies depending on the amount of the azo pigment to be treated, the size of the apparatus used, the treatment time, and the type of pigment, but it is preferable to add an equivalent amount or more to 1000 times the amount of the azo pigment to be added. After the completion of milling, the salt is dissolved in a solvent, and the azo pigment is separated from the salt and the milling member by means such as filtration and centrifugation. Solvents for salts include water and alcohols such as methanol and ethanol,
Ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol and the like, or a mixed solvent thereof can be used. The azo pigment separated from the salt or the milling member is dried by heating or by drying under reduced pressure.
In addition to the above-mentioned dry salt milling method, the salt milling method includes a solvent salt milling method in which a salt is milled in the presence of an organic solvent in which it is difficult to dissolve. In the present invention, the sensitizing effect of the azo pigment is promoted by salt milling in the presence of this organic solvent.

【0011】有機溶媒としては、使用する塩が難溶なも
のなら何でも使用可能であるが、たとえばメタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、THF、シクロヘキサン、トルエン、キシレ
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジクロロメ
タン、1,2−ジクロロエチレン、1,1,2−トリク
ロロエチレン、又はそれらの混合溶媒が使用可能であ
る。ソルベントソルトミリングはミリング容器にミリン
グ部材、アゾ顔料と塩とともに有機溶媒を入れ所定時間
ミリングを行なった後、有機溶媒と塩を除去したのちア
ゾ顔料を乾燥すればよい。
As the organic solvent, any solvent in which the salt to be used is sparingly soluble can be used. For example, methanol,
Ethanol, propanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, THF, cyclohexane, toluene, xylene, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dichloromethane, 1,2-dichloroethylene, 1,1,2-trichloroethylene, or a mixture thereof. A solvent can be used. The solvent salt milling may be carried out by adding an organic solvent together with a milling member, an azo pigment and a salt to a milling container, performing milling for a predetermined time, removing the organic solvent and the salt, and then drying the azo pigment.

【0012】本発明に使用するアゾ顔料は以下に示す顔
料がよい。すなわち、一般式(1)で表わされるトリス
アゾ顔料、一般式(2)で表わされるビスアゾ顔料が好
ましい。
The azo pigments used in the present invention are preferably the following pigments. That is, the trisazo pigment represented by the general formula (1) and the bisazo pigment represented by the general formula (2) are preferable.

【0013】[0013]

【化1】 [Chemical 1]

【0014】(式中Ar1はカップラー残基を表す。)(In the formula, Ar 1 represents a coupler residue.)

【0015】[0015]

【化2】 [Chemical 2]

【0016】(式中Ar2,Ar3はカップラー残基を表
し、又lは1〜6の整数を表す。)前記Ar1,Ar2
Ar3のカップラー残基としてはたとえば
(In the formula, Ar 2 and Ar 3 represent a coupler residue, and l represents an integer of 1 to 6.) Ar 1 , Ar 2 and
As the coupler residue of Ar 3 , for example,

【0017】[0017]

【化3】 [Chemical 3]

【0018】(上記式中、Xはベンゼン環と結合してな
るナフタレン環、アントラセン環、カルバゾール環、ベ
ンゾカルバゾール環、ジベンゾフラン環及びジベンゾチ
オフェン環から選ばれる多環芳香環又はヘテロ環を形成
するに必要な残基を示し、R4及びR5は水素原子、置換
若しくは非置換のアルキル、アリール及びヘテロ環基か
ら選ばれる基を示し、R4,R5は結合する窒素原子とと
もに環を形成してもよい。R6及びR7は置換若しくは非
置換のアルキル基、及びアリール基から選ばれる基を、
Yは芳香族炭化水素の2価の基又は窒素原子を環内に含
むヘテロ環の2価の基を、R8,R9,R10及びR11は水
素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、アラルキル
基、アリール基及びヘテロ環から選ばれる基を示し、R
10,R11は5員あるいは6員環を形成してもよく、この
場合この5員あるいは6員環は縮合芳香族環を有しても
よい。
(In the above formula, X represents a polycyclic aromatic ring or hetero ring selected from a naphthalene ring, an anthracene ring, a carbazole ring, a benzocarbazole ring, a dibenzofuran ring and a dibenzothiophene ring, which are bonded to a benzene ring. R 4 and R 5 represent a necessary residue, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, a group selected from substituted or unsubstituted alkyl, aryl and heterocyclic groups, and R 4 and R 5 form a ring together with a nitrogen atom to which they are bonded. R 6 and R 7 are each a group selected from a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group,
Y represents a divalent group of an aromatic hydrocarbon or a divalent group of a hetero ring containing a nitrogen atom in the ring, and R 8 , R 9 , R 10 and R 11 represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group. , A group selected from an aralkyl group, an aryl group and a heterocycle, R
10 and R 11 may form a 5- or 6-membered ring, in which case the 5- or 6-membered ring may have a condensed aromatic ring.

【0019】Zはベンゼン環と結合してなるナフタレン
環、アントラセン環、カルバゾール環、ベンゾカルバゾ
ール環、ジベンゾフラン環、ベンゾナフトフラン環及び
ジベンゾチオフェン環から選ばれる多環芳香環又はヘテ
ロ環を形成するに必要な残基を示す。R13及びR15はベ
ンゼン環、ナフタレン環などの芳香環及びそれらの置換
体、R12及びR14は水素原子、低級アルキル基、カルボ
キシル基又はそのエステルを示す。)次に、前記のよう
にソルトミリング処理された顔料を電荷発生物質として
用いた電子写真感光体の作り方をのべる。
Z represents a polycyclic aromatic ring or hetero ring selected from a naphthalene ring, an anthracene ring, a carbazole ring, a benzocarbazole ring, a dibenzofuran ring, a benzonaphthofuran ring and a dibenzothiophene ring, which are bonded to a benzene ring. Indicates the required residue. R 13 and R 15 are aromatic rings such as benzene ring and naphthalene ring and their substitution products, and R 12 and R 14 are hydrogen atom, lower alkyl group, carboxyl group or ester thereof. ) Next, a method for producing an electrophotographic photosensitive member using the salt-milled pigment as a charge generating substance as described above will be described.

【0020】本発明の電子写真感光体の感光層は、電荷
発生物質、電荷輸送物質を組み合わせて、分散型若しく
は機能分離型をとることができる。層構成としては分散
型の場合、導電性基体の上に、結着剤中に電荷発生物
質、電荷輸送物質を分散させた感光層を設ける。機能分
離型の場合は、基体上に電荷発生物質及び結着剤を含む
電荷発生層、その上に電荷輸送物質及び結着剤を含む電
荷輸送層を形成するものであるが、正帯電型とする場合
には、電荷発生層、電荷輸送層を逆に積層してもよい。
なお、機能分離型の場合、電荷発生層中に電荷輸送物質
を含有させてもよい。特に正帯電構成の場合感度が良好
となる。また、接着性、電荷ブロッキング性を向上させ
るために、感光層と基体との間に中間層を設けてもよ
い。更に耐摩耗性等、機械的耐久性を向上させるため
に、感光層上に保護層を設けてもよい。電荷発生層、電
荷輸送層及び分散型感光層形成時に用いる結着剤として
は、絶縁性がよい従来から知られている電子写真感光体
用結着剤であれば何でも使用でき、特に限定はない。1
例をあげればポリカーボネート(ビスフェノールAタイ
プ、ビスフェノールZタイプ)、ポリエステル、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルカルバゾール、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリア
リレート、ポリアクリルアミド、ポリアミド、フェノキ
シ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは単独又
は2種以上の混合物として用いることができる。
The photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member of the present invention can be of a dispersion type or a function separation type by combining a charge generating substance and a charge transporting substance. In the case of a dispersion type layer structure, a photosensitive layer in which a charge generating substance and a charge transporting substance are dispersed in a binder is provided on a conductive substrate. In the case of the function separation type, a charge generation layer containing a charge generating substance and a binder is formed on a substrate, and a charge transporting layer containing a charge transporting substance and a binder is formed on the base. In that case, the charge generation layer and the charge transport layer may be laminated in reverse.
In the case of the function separation type, a charge transport material may be contained in the charge generation layer. Particularly, in the case of the positive charging structure, the sensitivity is good. An intermediate layer may be provided between the photosensitive layer and the substrate in order to improve the adhesiveness and the charge blocking property. Further, in order to improve mechanical durability such as abrasion resistance, a protective layer may be provided on the photosensitive layer. As the binder used in the formation of the charge generation layer, the charge transport layer and the dispersion type photosensitive layer, any conventionally known binder having a good insulating property can be used, and there is no particular limitation. . 1
Examples include polycarbonate (bisphenol A type, bisphenol Z type), polyester, methacrylic resin, acrylic resin, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polystyrene, phenol resin,
Epoxy resin, polyurethane, polyvinylidene chloride, alkyd resin, silicone resin, polyvinyl carbazole, polyvinyl butyral, polyvinyl carbazole,
Polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyarylate, polyacrylamide, polyamide, phenoxy resin and the like are used. These binders can be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0021】以上のような層構成、物質を用いて感光体
を作成する場合には、膜厚、物質の割合に好ましい範囲
がある。負帯電型(基体/電荷発生層/電荷輸送層の積
層)の場合、電荷発生層において、結着剤に対する電荷
発生物質の割合は20重量%以上、膜厚は0.01〜5
μmが好ましい。電荷輸送層においては、結着剤に対す
る電荷輸送物質の割合は、20〜200重量%、膜厚は
5〜100μmとするのが好ましい。正帯電型(基体/
電荷輸送層/電荷発生層の積層)の場合、電荷輸送層に
おいては、結着剤に対する電荷輸送物質の割合は、20
〜200重量%、膜厚は5〜100μmとするのが好ま
しい。電荷発生層においては電荷発生物質を結着剤に対
し20重量%以上含有することが好ましい。更に、電荷
発生層中には電荷輸送物質を含有させることが好まし
く、含有させることにより残留電位の抑制、感度の向上
に対し効果をもつ。この場合の電荷輸送物質は、結着剤
に対し20〜200重量%含有させることが好ましい。
また、電荷発生物質と電荷輸送物質を結着剤樹脂中に分
散してなる所謂、分散型の感光体の場合は、その感度層
中に結着剤樹脂に対する電荷発生物質としてのソルトミ
リングを施した顔料の割合は5〜95重量%、膜厚は1
0〜100μmが好ましい。またその場合の結着剤樹脂
に対する電荷輸送物質の割合は30〜200重量%が好
ましい。
When a photoconductor is prepared by using the above-mentioned layer structure and substances, the film thickness and the ratio of the substances have preferable ranges. In the case of a negative charge type (lamination of substrate / charge generation layer / charge transport layer), the ratio of the charge generation substance to the binder in the charge generation layer is 20% by weight or more, and the film thickness is 0.01 to 5
μm is preferred. In the charge transport layer, the ratio of the charge transport material to the binder is preferably 20 to 200% by weight, and the film thickness is preferably 5 to 100 μm. Positively charged type (base /
In the case of the charge transport layer / charge generation layer stacking), the ratio of the charge transport material to the binder is 20 in the charge transport layer.
˜200 wt%, and the film thickness is preferably 5 to 100 μm. The charge generation layer preferably contains the charge generation substance in an amount of 20% by weight or more based on the binder. Furthermore, it is preferable to include a charge transporting substance in the charge generating layer, and by containing it, it is effective in suppressing the residual potential and improving the sensitivity. In this case, the charge transport material is preferably contained in the binder in an amount of 20 to 200% by weight.
In the case of a so-called dispersion type photoreceptor in which a charge generating substance and a charge transporting substance are dispersed in a binder resin, the sensitivity layer is subjected to salt milling as the charge generating substance for the binder resin. The pigment content is 5 to 95% by weight, and the film thickness is 1
0 to 100 μm is preferable. In that case, the ratio of the charge transport material to the binder resin is preferably 30 to 200% by weight.

【0022】更に、これら感光層中には、分散型、機能
分離型共に、帯電性の向上、耐ガス性の向上を目的に、
フェノール化合物、ハイドキノン化合物、ヒンダードフ
ェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、ヒンダード
アミンとヒンダードフェノールが同一分子中に存在する
化合物など、所謂酸化防止剤を添加することができる。
Further, in these photosensitive layers, both of the dispersion type and the function separation type, for the purpose of improving charging property and gas resistance,
So-called antioxidants such as phenol compounds, hydoquinone compounds, hindered phenol compounds, hindered amine compounds, and compounds in which hindered amine and hindered phenol are present in the same molecule can be added.

【0023】本発明において、導電性基体としては、体
積抵抗1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例え
ば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、
銀、金、白金等の金属又はそれら金属や酸化インジウ
ム、酸化錫等の金属酸化物、沃化銅等を蒸着又はスパッ
タリング法によって、フィルム状若しくは円筒ドラム
状、ベルト状フィルム、紙等に被覆したもの、あるいは
アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレ
ス等の板及びそれらをD.I.、I.I.、押出し、引
抜き等の工法で素管化後、切削超仕上げ、研摩等で表面
処理した素管を使用することができる。また、カーボン
ブラック、酸化インジウム、酸化錫等の導電性粉末を適
当な樹脂に分散し、プラスチック等の上に被覆したもの
を使用してもよい。本発明に使用される電荷輸送物質と
しては、公知のものが何れも使用できる。その具体例と
しては、例えば次の一般式(3)で表わされる基本構造
を有する化合物が挙げられる(特開平1−302260
号公報参照)。
In the present invention, the conductive substrate has a volume resistance of 10 10 Ω · cm or less, such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper,
A metal such as silver, gold, or platinum, or a metal oxide such as indium oxide or tin oxide, copper iodide, or the like is coated on a film or a cylindrical drum, a belt-shaped film, paper, or the like by an evaporation or a sputtering method. Or aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel plates, etc. I. , I. I. It is possible to use a raw pipe which has been subjected to a surface treatment by cutting superfinishing, polishing or the like after being made into a raw pipe by a method such as extrusion, drawing or the like. Alternatively, a conductive powder of carbon black, indium oxide, tin oxide or the like dispersed in a suitable resin and coated on plastic or the like may be used. As the charge transport material used in the present invention, any known material can be used. Specific examples thereof include compounds having a basic structure represented by the following general formula (3) (JP-A-1-302260).
(See Japanese Patent Publication).

【0024】[0024]

【化4】 [Chemical 4]

【0025】(式中、R1及びR4は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は置換アミノ基を、
2及びR3は水素原子、アルキル基又は置換若しくは無
置換のフェニル基を示す。
(In the formula, R 1 and R 4 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom or a substituted amino group,
R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0026】[0026]

【化5】 [Chemical 5]

【0027】はベンゼン環、ナフタレン基、アントラセ
ン環、インドール環又はカルバゾール環を示す。nは0
又は1、mは0,1,2又は3の整数を示す。)(3)
式で表わされる好ましいものを以下の表に示す。
Is a benzene ring, naphthalene group, anthracene ring, indole ring or carbazole ring. n is 0
Alternatively, 1 and m represent an integer of 0, 1, 2, or 3. ) (3)
The preferred ones represented by the formula are shown in the table below.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】[0030]

【表3】 [Table 3]

【0031】[0031]

【表4】 [Table 4]

【0032】[0032]

【表5】 [Table 5]

【0033】[0033]

【表6】 [Table 6]

【0034】[0034]

【表7】 [Table 7]

【0035】[0035]

【表8】 [Table 8]

【0036】[0036]

【表9】 [Table 9]

【0037】[0037]

【表10】 [Table 10]

【0038】[0038]

【表11】 [Table 11]

【0039】[0039]

【表12】 [Table 12]

【0040】[0040]

【表13】 [Table 13]

【0041】[0041]

【表14】 [Table 14]

【0042】[0042]

【表15】 [Table 15]

【0043】[0043]

【表16】 [Table 16]

【0044】また、本発明において用いることのできる
他の電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質が
ある。正孔輸送物質としては、例えば以下の一般式
(4)〜(15)に示されるような化合物が例示でき
る。
Other charge transport materials that can be used in the present invention include hole transport materials and electron transport materials. Examples of the hole transport material include compounds represented by the following general formulas (4) to (15).

【0045】[0045]

【化6】 [Chemical 6]

【0046】(式中、R1はメチル基、エチル基、2−
ヒドロキシエチル基又は2−クロルエチル基を表わし、
2はメチル基、エチル基、ベンジル基、又はフェニル
基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭
素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシル
基、ジアルキルアミノ基又はニトロ基を表わす。)
(In the formula, R 1 is a methyl group, an ethyl group, 2-
Represents a hydroxyethyl group or a 2-chloroethyl group,
R 2 represents a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, or a phenyl group, and R 3 represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, or dialkylamino. Represents a group or a nitro group. )

【0047】[0047]

【化7】 [Chemical 7]

【0048】(式中、Arはナフタレン類、アントラセ
ン類、スチリル基及びそれらの置換体あるいはピリジン
類、フラン類、チオフェン類を表わし、Rはアルキル基
又はベンジル基を表わす。)
(In the formula, Ar represents naphthalene, anthracene, styryl group and their substitution products or pyridines, furans and thiophenes, and R represents an alkyl group or a benzyl group.)

【0049】[0049]

【化8】 [Chemical 8]

【0050】(式中、R1はアルキル基、ベンジル基、
フェニル基、ナフチル基を表わし、R2は水素原子、炭
素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ
基、ジアルキルアミノ基、ジアラルキルアミノ基又はジ
アリールアミノ基を表わし、nは1〜4の整数を表わ
し、nが2以上のときはR2は同じでも異なっていても
よい。R3は水素原子又はメトキシ基を表わす。)
(In the formula, R 1 is an alkyl group, a benzyl group,
Represents a phenyl group or a naphthyl group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a dialkylamino group, a diaralkylamino group or a diarylamino group, and n is 1 Represents an integer of 4 and when n is 2 or more, R 2 may be the same or different. R 3 represents a hydrogen atom or a methoxy group. )

【0051】[0051]

【化9】 [Chemical 9]

【0052】(式中、R1は炭素数1〜11のアルキル
基、置換若しくは無置換のフェニル基又は複素環基を表
わし、R2,R3はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、クロルアルキル基、置換又は無置換のアラ
ルキル基を表わし、また、R2とR3は互いに結合し窒素
を含む複素環を形成していてもよい。R4は同一でも異
なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル
基、アルコキシ基又はハロゲンを表わす。)
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group or a heterocyclic group, and R 2 and R 3 may be the same or different and each is a hydrogen atom. Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyalkyl group, a chloroalkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, and R 2 and R 3 are bonded to each other to form a heterocycle containing nitrogen. R 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group or halogen.)

【0053】[0053]

【化10】 [Chemical 10]

【0054】(式中、Rは水素原子又はハロゲン原子を
表わし、Arは置換又は無置換のフェニル基、ナフチル
基、アントリル基あるいはカルバゾリル基を表わす。)
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a halogen atom, and Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, anthryl group or carbazolyl group.)

【0055】[0055]

【化11】 [Chemical 11]

【0056】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜
4のアルキル基を表わし、Arは
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom,
Cyano group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or 1 to 4 carbon atoms
4 represents an alkyl group of 4 and Ar is

【0057】[0057]

【化12】 [Chemical 12]

【0058】R1は炭素1〜4のアルキル基を表わし、
2,R3は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のア
ルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又はジアルキル
アミノ基を表わし、nは1又は2であって、nが2のと
きはR3は同一でも異なってもよく、R4又はR5は水素
原子、炭素数1〜4の置換又は無置換のアルキル基ある
いは置換又は無置換のベンジル基を表わす。)
R 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a dialkylamino group, and n is 1 or 2 and when n is 2. R 3 may be the same or different, and R 4 or R 5 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted benzyl group. )

【0059】[0059]

【化13】 [Chemical 13]

【0060】(式中、Rはカルバゾリル基、ピリジン
基、チエニル基、インドリル基、フリル基あるいは置換
若しくは非置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基
又はアントリル基であって、これらの置換基がジアルキ
ルアミノ基、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシ基
又はそのエステル、ハロゲン原子、シアノ基、アラルキ
ルアミノ基、N−アルキル−N−アラルキルアミノ基、
アミノ基、ニトロ基及びアセチルアミノ基からなる群か
ら選ばれた基を表わす。)
(Wherein R is a carbazolyl group, a pyridine group, a thienyl group, an indolyl group, a furyl group or a substituted or unsubstituted phenyl group, a styryl group, a naphthyl group or an anthryl group, and these substituents are dialkyl. Amino group, alkyl group, alkoxy group, carboxy group or ester thereof, halogen atom, cyano group, aralkylamino group, N-alkyl-N-aralkylamino group,
It represents a group selected from the group consisting of an amino group, a nitro group and an acetylamino group. )

【0061】[0061]

【化14】 [Chemical 14]

【0062】(式中、R1は低級アルキル基又はベンジ
ル基又は置換若しくは非置換のアリール基を表わし、R
2は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級アルキル
基又はベンジル基で置換されたアミノ基を表わし、nは
1または2の整数を表わす。)
(Wherein R 1 represents a lower alkyl group, a benzyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, and R 1
2 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, an amino group or an amino group substituted by a lower alkyl group or a benzyl group, and n represents an integer of 1 or 2. )

【0063】[0063]

【化15】 [Chemical 15]

【0064】(式中、R1は水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基又はハロゲン原子を表わし、R2及びR3はア
ルキル基、置換又は無置換のアラルキル基あるいは置換
又は無置換アリール基を表わし、R4は水素原子又は置
換若しくは無置換のフェニル基を表わし、また、Arは
フェニル基又はナフチル基を表わす。)
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom, R 2 and R 3 represent an alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, R 4 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted phenyl group, and Ar represents a phenyl group or a naphthyl group.)

【0065】[0065]

【化16】 [Chemical 16]

【0066】(式中、nは0又は1の整数、R1,R2
3は水素原子、アルキル基又は置換若しくは無置換の
フェニル基を示し、Aは
(Where n is an integer of 0 or 1, R 1 , R 2 ,
R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a substituted or unsubstituted phenyl group, and A is

【0067】[0067]

【化17】 [Chemical 17]

【0068】9−アントリル基又は置換若しくは無置換
のN−アルキルカルバゾリル基を表わし、ここでR4
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子 又は、
It represents a 9-anthryl group or a substituted or unsubstituted N-alkylcarbazolyl group, wherein R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or

【0069】[0069]

【化18】 [Chemical 18]

【0070】(但し、R5及びR6はアルキル基、置換又
は無置換のアラルキル基、置換又は無置換のアリール基
を示し、R5及びR6は環を形成してもよい)を表わし、
mは0,1,2又は3の整数であって、mが2以上のと
きはR4は同一でも異なってもよい。)
(Wherein R 5 and R 6 represent an alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and R 5 and R 6 may form a ring),
m is an integer of 0, 1, 2 or 3, and when m is 2 or more, R 4 may be the same or different. )

【0071】[0071]

【化19】 [Chemical 19]

【0072】(式中、R1,R2およびR3は水素原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、ジアルキルアミノ
基又はハロゲン原子を表わし、nは0又は1を表わ
す。)
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms,
It represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a dialkylamino group or a halogen atom, and n represents 0 or 1. )

【0073】[0073]

【化20】 [Chemical 20]

【0074】(式中、R1は水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン原子を表わし、R2,R3は同一で
も異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基又はハロゲン原子を表わす。)一般式(4)で表
わされる化合物には、例えば9−エチルカルバゾール−
3−アルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾ
ン、9−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−1−ベ
ンジル−1−フェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾ
ール−3−アルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン
などである。また、一般式(5)で表わされる化合物に
は、例えば4−ジエチルアミノスチレン−β−アルデヒ
ド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、4−メトキ
シナフタレン−1−アルデヒド−1−ベンジル−1−フ
ェニルヒドラゾンなどがある。一般式(6)で表わされ
る化合物には例えば、4−メトキシベンズアルデヒド−
1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、2,4−ジメト
キシベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒ
ドラゾン、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,
1−ジフェニルヒドラゾン、4−メトキシベンズアルデ
ヒド−1−ベンジル−1−(4−メトキシ)フェニルヒ
ドラゾン、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−1
−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジベンジル
アミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾ
ンなどがある。また、一般式(7)で表わされる化合物
には、例えば1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェ
ニル)プロパン、トリス(4−ジエチルアミノフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェ
ニル)プロパン、2,2’−ジメチル−4,4’−ビス
(ジエチルアミノ)−トリフェニルメタンなどがある。
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom, R 2 and R 3 may be the same or different, and a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom may be formed. The compound represented by the general formula (4) includes, for example, 9-ethylcarbazole-
3-aldehyde-1-methyl-1-phenylhydrazone, 9-ethylcarbazole-3-aldehyde-1-benzyl-1-phenylhydrazone, 9-ethylcarbazole-3-aldehyde-1,1-diphenylhydrazone and the like. In addition, examples of the compound represented by the general formula (5) include 4-diethylaminostyrene-β-aldehyde-1-methyl-1-phenylhydrazone and 4-methoxynaphthalene-1-aldehyde-1-benzyl-1-phenylhydrazone. and so on. Examples of the compound represented by the general formula (6) include 4-methoxybenzaldehyde-
1-methyl-1-phenylhydrazone, 2,4-dimethoxybenzaldehyde-1-benzyl-1-phenylhydrazone, 4-diethylaminobenzaldehyde-1,
1-diphenylhydrazone, 4-methoxybenzaldehyde-1-benzyl-1- (4-methoxy) phenylhydrazone, 4-diphenylaminobenzaldehyde-1
-Benzyl-1-phenylhydrazone, 4-dibenzylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone and the like. Further, the compound represented by the general formula (7) includes, for example, 1,1-bis (4-dibenzylaminophenyl) propane, tris (4-diethylaminophenyl) methane and 1,1-bis (4-dibenzylamino). Phenyl) propane, 2,2'-dimethyl-4,4'-bis (diethylamino) -triphenylmethane and the like.

【0075】一般式(8)で表わされる化合物には、例
えば9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ン、9−ブロム−10−(4−ジエチルアミノスチリ
ル)アントラセンなどがある。また、一般式(9)で表
わされる化合物には、例えば9−(4−ジメチルアミノ
ベンジリデン)フルオレン、3−(9−フルオレニリデ
ン)−9−エチルカルバゾールなどがある。一般式(1
0)で表わされる化合物には、例えば1,2−ビス(4
−ジエチルアミノスチリル)ベンゼン、1,2−ビス
(2,4−ジメトキシスチリル)ベンゼンがある。ま
た、一般式(11)で表わされる化合物には、例えば3
−スチリル−9−エチルカルバゾール、3−(4−メト
キシスチリル)−9−エチルカルバゾールなどがある。
Examples of the compound represented by the general formula (8) include 9- (4-diethylaminostyryl) anthracene and 9-bromo-10- (4-diethylaminostyryl) anthracene. In addition, examples of the compound represented by the general formula (9) include 9- (4-dimethylaminobenzylidene) fluorene and 3- (9-fluorenylidene) -9-ethylcarbazole. General formula (1
Examples of the compound represented by 0) include 1,2-bis (4
-Diethylaminostyryl) benzene and 1,2-bis (2,4-dimethoxystyryl) benzene. Further, the compound represented by the general formula (11) includes, for example, 3
Examples include -styryl-9-ethylcarbazole and 3- (4-methoxystyryl) -9-ethylcarbazole.

【0076】一般式(12)で表わされる化合物には、
例えば4−ジフェニルアミノスチルベン、4−ジベンジ
ルアミノスチルベン、4−ジトリルアミノスチルベン、
1−(4−ジフェニルアミノスチリル)ナフタレン、1
−(4−ジエチルアミノスチリル)ナフチレンなどがあ
る。一般式(13)で表わされる化合物には、例えば
4’−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、
4’−メチルフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン
などがある。一般式(14)で表わされる化合物には、
例えば1−フェニル−3−(4−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−フェニル−3−(4−ジメチルアミノスチリ
ル)−5−(4−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン
などがある。また、一般式(15)で表わされる化合物
には、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メ
チルフェニル)−〔1,1’−ビスフェニル〕−4,
4’−ジアミン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビ
ス(クロロフェニル)−〔1,1’−ビフェニル〕−
4,4’−ジアミン、3,3’−ジメチルベンジジンな
どがある。
The compound represented by the general formula (12) includes
For example, 4-diphenylaminostilbene, 4-dibenzylaminostilbene, 4-ditolylaminostilbene,
1- (4-diphenylaminostyryl) naphthalene, 1
-(4-diethylaminostyryl) naphthylene and the like. The compound represented by the general formula (13) includes, for example, 4′-diphenylamino-α-phenylstilbene,
4′-methylphenylamino-α-phenylstilbene and the like. The compound represented by the general formula (14) includes
For example, 1-phenyl-3- (4-diethylaminostyryl) -5- (4-diethylaminophenyl) pyrazoline, 1-phenyl-3- (4-dimethylaminostyryl) -5- (4-dimethylaminophenyl) pyrazoline, etc. is there. The compound represented by the general formula (15) includes N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1′-bisphenyl] -4,
4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (chlorophenyl)-[1,1'-biphenyl]-
4,4'-diamine, 3,3'-dimethylbenzidine and the like.

【0077】この他の正孔輸送物質としては、例えば
2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス〔4−(4−
ジエチルアミノスチリル)フェニル〕−1,3,4−オ
キシジアゾール、2−(9−エチルカルバゾリル−3
−)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,
4−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール化合物、
2−ビニル−4−(2−クロロフェニル)−5−(4−
ジエチルアミノフェニル)オキサゾール、2−(4−ジ
エチルアミノフェニル)−4−フェニルオキサゾールな
どのオキサゾール化合物などの低分子化合物がある。ま
た、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−
N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルアントラセン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾールホルムアルデヒド樹脂などの高分子化合物
も使用できる。電子輸送物質としては、例えば、クロル
アニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−
フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フ
ルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサント
ン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,
8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフ
ェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオ
フェン−5,5−ジオキサイドなどがある。
Other hole transporting substances include, for example, 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,
3,4-oxadiazole, 2,5-bis [4- (4-
Diethylaminostyryl) phenyl] -1,3,4-oxydiazole, 2- (9-ethylcarbazolyl-3
-)-5- (4-Diethylaminophenyl) -1,3,
Oxadiazole compounds such as 4-oxadiazole,
2-Vinyl-4- (2-chlorophenyl) -5- (4-
There are low molecular weight compounds such as oxazole compounds such as diethylaminophenyl) oxazole and 2- (4-diethylaminophenyl) -4-phenyloxazole. In addition, poly-N-vinylcarbazole, halogenated poly-
Polymer compounds such as N-vinylcarbazole, polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, pyreneformaldehyde resin, ethylcarbazoleformaldehyde resin can also be used. Examples of the electron transport substance include chloranil, bromanil, tetracyanoethylene, tetracyanoquinone dimethane, 2,4,7-trinitro-9-
Fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,6
Examples include 8-trinitro-4H-indeno [1,2-b] thiophen-4-one and 1,3,7-trinitrodibenzothiophene-5,5-dioxide.

【0078】[0078]

【実施例】【Example】

実施例1 アゾ顔料P1 1g Example 1 1 g of azo pigment P1

【0079】[0079]

【化21】 [Chemical 21]

【0080】 NaCl 40g を5mmφのPSZボール100gを入れた50ccの
ガラス容器に入れ5日間ボールミリングを行った。次に
イオン交換水100ccでNaClを溶解したアゾ顔料
の分散液をガラス容器から取り出し、紙フィルターで濾
過した後、更に900ccのイオン交換水でNaClを
溶解し、顔料を洗浄した。洗浄後の顔料は120℃温度
下で5日間減圧乾燥した。このソルトミリング処理した
アゾ顔料をSP−1とする。図1にソルトミリング処理
前後の顔料のX線回折パターンを示す。
40 g of NaCl was placed in a 50 cc glass container containing 100 g of PSZ balls of 5 mmφ and ball milling was performed for 5 days. Next, the dispersion liquid of the azo pigment in which NaCl was dissolved with 100 cc of ion-exchanged water was taken out from the glass container, filtered with a paper filter, and further NaCl was dissolved with 900 cc of ion-exchanged water to wash the pigment. The washed pigment was dried under reduced pressure at 120 ° C. for 5 days. This salt milled azo pigment is designated as SP-1. FIG. 1 shows the X-ray diffraction patterns of the pigment before and after the salt milling treatment.

【0081】 SP−1 0.25g ポリビニルブチラール樹脂(UCC社製XYHL) 5.0g のシクロヘキサノン2%溶液 シクロヘキサノン 7g を5mmφのPSZボール100gを入れた50ccの
ガラス容器に入れ5日間ボールミリングを行った後、シ
クロヘキサノンを10g追加し更に1日ボールミリング
をおこなってCGL塗工液を作成した。アルミ蒸着をし
た75μmのポリエステルフィルム上に上記のCGL塗
工液を30μmのギャップを有したブレードで塗工した
後80℃で3分間加熱乾燥しCGLを形成した。次に、
下記組成のCTL塗工液を作成し、前記CGL上にブレ
ード塗工を行った後80℃、2分間 Z型ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製) 10g 下記化学構造式のα−フェニルスチルベン化合物(1) 8g
SP-1 0.25 g Polyvinyl butyral resin (XYHL manufactured by UCC) 5.0 g 2% cyclohexanone solution Cyclohexanone 7 g was put in a 50 cc glass container containing 100 mm PSZ balls of 5 mmφ, and ball milling was performed for 5 days. Thereafter, 10 g of cyclohexanone was added, and ball milling was further performed for 1 day to prepare a CGL coating liquid. The above CGL coating liquid was applied onto a 75 μm polyester film vapor-deposited on aluminum with a blade having a gap of 30 μm, and then dried by heating at 80 ° C. for 3 minutes to form CGL. next,
After preparing a CTL coating liquid having the following composition and performing blade coating on the CGL, 80 ° C., 2 minutes Z-type polycarbonate resin (manufactured by Teijin Chemicals) 10 g α-phenyl stilbene compound (1 ) 8g

【0082】[0082]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0083】 トルエン 72g で加熱乾燥し、更に130℃で5分間加熱乾燥して約2
0μmのCTL膜を形成し、感光体を作成した。
Heat and dry with 72 g of toluene, and further heat and dry at 130 ° C. for 5 minutes to obtain about 2
A 0 μm CTL film was formed to prepare a photoconductor.

【0084】実施例2 実施例1のCTL塗工液中のα−フェニルスチルベン化
合物(1)を下記式のα−フェニルスチルベン化合物
(2)に代えた以外は実施例1と同様に感光体を作成し
た。
Example 2 A photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the α-phenylstilbene compound (1) in the CTL coating liquid of Example 1 was replaced with the α-phenylstilbene compound (2) represented by the following formula. Created.

【0085】[0085]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0086】比較例1 実施例1のCGL液に使用したSP−1の代わりにソル
トミリング処理しないアゾ顔料P1を用いた以外は実施
例1と同様に感光体を作成した。 比較例2 実施例2のCGL液に使用したSP−1の代わりにソル
トミリング処理しないアゾ顔料P1を用いた以外は実施
例2と同様に感光体を作成した。実施例1,2、比較例
1,2で作成した感光体を川口電機社製の静電特性測定
装置EPA8100で−5.5kVで2秒間帯電した時
の帯電電位V2と感光体に−800volt帯電した後
2856Kのタングステンランプの光4.5luxを照
射して白色感度を測定した。更に780nm(半値幅2
0nm)のバンドパスフィルターを通して照射して78
0nm光に対する光感度を測定した。結果を表1に示
す。表中、E1/10(lux.sec)、E’1/10(μJ
/cm2)は表面電位が800v〜80vに減衰するに
必要な光量を表している。
Comparative Example 1 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that SP-1 used in the CGL liquid of Example 1 was replaced with azo pigment P1 which was not subjected to salt milling. Comparative Example 2 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 2 except that the azo pigment P1 not subjected to the salt milling treatment was used instead of SP-1 used in the CGL liquid of Example 2. The photoconductors prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were charged with a static electricity characteristic measuring apparatus EPA8100 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. at -5.5 kV for 2 seconds to obtain a charging potential V 2 and a photoconductor of -800 volt. After charging, the white sensitivity was measured by irradiating light of 4.5lux of a 2856K tungsten lamp. Furthermore, 780 nm (half width 2
Irradiate through a bandpass filter of 0 nm) 78
The photosensitivity to 0 nm light was measured. The results are shown in Table 1. In Table, E 1/10 (lux.sec) , E '1/10 (μJ
/ Cm 2 ) represents the amount of light necessary for the surface potential to be attenuated to 800 v to 80 v.

【0087】[0087]

【表17】 [Table 17]

【0088】図2に実施例1,比較例1の分光感度を示
す。ソルトミリング処理したアゾ顔料を用いた感光体は
未処理の顔料を用いた場合に比べ可視光域から近赤外光
領域まで光感度が2倍増感されている。
FIG. 2 shows the spectral sensitivities of Example 1 and Comparative Example 1. The photosensitivity of the photoreceptor using the salt milled azo pigment is twice as sensitive as that of the untreated pigment in the visible light region to the near infrared light region.

【0089】実施例3 実施例1のアゾ顔料P1の代わりに下記式P2を用いた
以外は実施例1と同様にしてソルトミリング処理した顔
料SP−2を作成し、その顔料を用いた以外は実施例1
と同様に感光体を作成した。実施例1と同様に帯電電位
と感度を測定した。結果を表2に示す。
Example 3 A salt-milled pigment SP-2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following formula P2 was used in place of the azo pigment P1 of Example 1, and the pigment SP-2 was used. Example 1
A photoconductor was prepared in the same manner as in. The charging potential and the sensitivity were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0090】[0090]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0091】比較例3 比較例1の顔料P1の代わりに未処理顔料P2を用いた
以外は比較例1と同様にして感光体を作成し、実施例1
と同様にして帯電電位V2とE1/10を測定した。結果を
表2に示す。 実施例4 実施例1のアゾ顔料P1の代わりに下記式のP3を用い
た以外は実施例1と同様にしてソルトミリング処理した
顔料SP−3を作成し、その顔料を用いた以外は実施例
1と同様に感光体を作成した。実施例1と同様に帯電電
位と白色感度を測定した。結果を表2に示す。
Comparative Example 3 A photoconductor was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the untreated pigment P2 was used in place of the pigment P1 of Comparative Example 1.
It was measured charge potential V 2 and E 1/10 in the same manner as. The results are shown in Table 2. Example 4 A salt-milled pigment SP-3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that P3 of the following formula was used instead of the azo pigment P1 of Example 1, and the pigment was used. A photoconductor was prepared in the same manner as in 1. The charging potential and white sensitivity were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0092】[0092]

【化25】 [Chemical 25]

【0093】比較例4 比較例1の顔料P1の代わりに未処理顔料P3を用いた
以外は比較例1と同様にして感光体を作成し、実施例3
と同様にして帯電電位と白色感度を測定した。結果を表
2に示す。
Comparative Example 4 A photoconductor was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the untreated pigment P3 was used in place of the pigment P1 of Comparative Example 1.
The charging potential and white sensitivity were measured in the same manner as in. The results are shown in Table 2.

【0094】[0094]

【表18】 [Table 18]

【0095】実施例5 SP−1 2.5g シクロヘキサノン 30g をメノウボールの入ったガラスポット容器に入れ3日間
ボールミリングを行い顔料分散液A液を作成した。次
に、下記組成の感光層塗工液を作成した。 ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製 C−1400) 5g 下記化学構造式のα−フェニルスチルベン化合物(1) 5g
Example 5 2.5 g of SP-1 30 g of cyclohexanone was placed in a glass pot container containing agate balls and ball milled for 3 days to prepare a pigment dispersion A liquid. Next, a photosensitive layer coating liquid having the following composition was prepared. Polycarbonate resin (C-1400 manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) 5 g α-phenyl stilbene compound (1) 5 g represented by the following chemical structural formula

【0096】[0096]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0097】 2,5ジターシャルブチルハイドロキノン 0.05g 上記顔料分散液A液 15g THF 30g 中間層としてアルコール可溶性ポリアミド樹脂(東レ社
製アミランCM8000)を0.3μm塗布したアルミ
蒸着ポリエステルフィルム上にこの感光層塗工液を25
0μmのギャップを有したブレードで塗工した後80℃
で5分間加熱乾燥し、更に120℃で1時間加熱乾燥し
て約20μmの感光層膜を形成し感光体を作成した。実
施例1と同様に評価したところ、V2=850v、78
0nm光に対する感度E1/10=0.68(μJ/c
2)であった。
2,5 ditertiary butyl hydroquinone 0.05 g The above pigment dispersion A liquid 15 g THF 30 g This photosensitive material was formed on an aluminum-deposited polyester film coated with 0.3 μm of an alcohol-soluble polyamide resin (Amilan CM8000 manufactured by Toray Industries, Inc.) as an intermediate layer. 25 layer coating liquid
80 ° C after coating with a blade having a gap of 0 μm
Was heated and dried for 5 minutes, and further dried for 1 hour at 120 ° C. to form a photosensitive layer film having a thickness of about 20 μm to prepare a photoreceptor. When evaluated in the same manner as in Example 1, V 2 = 850v, 78
Sensitivity to 0nm light E 1/10 = 0.68 (μJ / c
m 2 ).

【0098】比較例5 P1 2.5g シクロヘキサノン 30g をメノウボールの入ったガラスポット容器に入れ3日間
ボールミリングを行い顔料分散液B液を作成した。次
に、下記組成の感光層塗工液を作成した。 ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製 C−1400) 5g 下記化学構造式のα−フェニルスチルベン化合物(1) 5g
Comparative Example 5 P1 (2.5 g) Cyclohexanone (30 g) was placed in a glass pot container containing agate balls, and ball milling was carried out for 3 days to prepare a pigment dispersion liquid B. Next, a photosensitive layer coating liquid having the following composition was prepared. Polycarbonate resin (C-1400 manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) 5 g α-phenyl stilbene compound (1) 5 g represented by the following chemical structural formula

【0099】[0099]

【化27】 [Chemical 27]

【0100】 2,5ジターシャルブチルハイドロキノン 0.05g 上記分散顔料B液 15g THF 30g 中間層としてアルコール可溶性ポリアミド樹脂(東レ社
製アミランCM8000)を0.3μm塗布したアルミ
蒸着ポリエステルフィルム上にこの感光層塗工液をブレ
ード塗工した後80℃で5分間加熱乾燥し、更に120
℃で1時間加熱乾燥して約20μmの感光層膜を形成し
感光体を作成した。実施例1と同様に評価したところ、
2=700v、E1/10=1.50(μJ/cm2)であ
った。
2,5 ditertiary butyl hydroquinone 0.05 g Dispersion pigment B liquid 15 g THF 30 g This photosensitive layer was formed on an aluminum-deposited polyester film coated with 0.3 μm of an alcohol-soluble polyamide resin (Amilan CM8000 manufactured by Toray Industries, Inc.) as an intermediate layer. After coating the coating solution with a blade, heat-dry at 80 ° C for 5 minutes, and further 120
It was heated and dried at ℃ for 1 hour to form a photosensitive layer film having a thickness of about 20 μm to prepare a photoreceptor. When evaluated in the same manner as in Example 1,
V 2 = 700 V, was E 1/10 = 1.50 (μJ / cm 2).

【0101】実施例6 アゾ顔料(P1) 1g NaCl 20g シクロヘキサノン 20g を5mmφのPSZボール100gを入れた50ccの
ガラス容器に入れ5日間ボールミリングを行った。次に
メチルエチルケトン50ccでガラス容器からアゾ顔料
とNaClを取り出し濾過によって溶媒を除去する。次
にイオン交換水500ccでNaClを溶解し、アゾ顔
料を洗浄した。洗浄後の顔料は120℃温度下で5日間
減圧乾燥した。このソルベントソルトミリング処理した
アゾ顔料をSSP1とする。実施例1のアゾ顔料SP−
1をSSP−1に代えた以外は実施例1と同様に感光体
を作成し、帯電性と感度を測定した。
Example 6 1 g of azo pigment (P1) 1 g of NaCl 20 g of cyclohexanone 20 g was placed in a 50 cc glass container containing 100 g of PSZ balls of 5 mmφ and ball milling was carried out for 5 days. Next, the azo pigment and NaCl are taken out of the glass container with 50 cc of methyl ethyl ketone and the solvent is removed by filtration. Next, NaCl was dissolved in 500 cc of ion-exchanged water to wash the azo pigment. The washed pigment was dried under reduced pressure at 120 ° C. for 5 days. This solvent salt milled azo pigment is designated as SSP1. Azo pigment SP of Example 1-
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that SSP-1 was used instead of 1, and the charging property and the sensitivity were measured.

【0102】V2=929(volts) E1/10=0.52(lux.sec) E’1/10=0.45(μJ/cm2) 実施例1の結果と較べるとソルベントソルトミリングを
行なうと乾式ミリングより更に増感効果が促進される事
がわかる。
[0102] The V 2 = 929 (volts) results and compare the solvent salt milling E 1/10 = 0.52 (lux.sec ) E '1/10 = 0.45 (μJ / cm 2) Example 1 It can be seen that the sensitization effect is further promoted when dry milling is performed.

【0103】実施例7〜16 アゾ顔料P1のソルトミリングに使用する塩を実施例1
のNaClの代りに、各々NaCO3,NaHSO3,N
aNO3,Na247・10H2O,NaPO4・12H
2O、K2SO4,KBr,NaI,KI,CH3COON
aを用いて、P1をソルトミリングし、そのソフトミリ
ングした顔料を用いて、実施例1と同様に感光体を作成
し、評価した。その結果を表3に示す。
Examples 7 to 16 The salt used in the salt milling of the azo pigment P1 was used in Example 1.
Instead of NaCl, NaCO 3 , NaHSO 3 , N
aNO 3 , Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O, NaPO 4 · 12H
2 O, K 2 SO 4 , KBr, NaI, KI, CH 3 COON
P1 was salt milled using a, and a photoreceptor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 using the soft milled pigment. The results are shown in Table 3.

【0104】[0104]

【表19】 [Table 19]

【0105】以上の結果から明らかな様にソルトミリン
グ処理を施したアゾ顔料を用いて作成した感光体は帯電
特性の低下もなく、感度が著しく向上している。
As is clear from the above results, the photoreceptor prepared by using the azo pigment subjected to the salt milling treatment has no deterioration in the charging characteristic and the sensitivity is remarkably improved.

【0106】[0106]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子写真
感光体は可視光域から近赤外域までの広い波長域にわた
って感度が顕著に向上しており、又帯電特性も安定であ
る。
As described above, the electrophotographic photosensitive member of the present invention has markedly improved sensitivity over a wide wavelength range from the visible light region to the near infrared region and has stable charging characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1のソルトミリング顔料SP−1のX線
回折パターン(a)及び同ソルトミリング前のX線回折
パターン。
FIG. 1 is an X-ray diffraction pattern (a) of salt-milling pigment SP-1 of Example 1 and an X-ray diffraction pattern before salt-milling.

【図2】実施例1及び比較例1の電子写真感光体の分光
感度を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing the spectral sensitivity of the electrophotographic photosensitive members of Example 1 and Comparative Example 1.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性支持体上に光導電性層を形成して
なる電子写真感光体に於いて、該光導電性層を形成する
少なくとも一層中にソルトミリングを施したアゾ顔料が
含有されていることを特徴とする電子写真感光体。
1. An electrophotographic photoreceptor comprising a photoconductive layer formed on a conductive support, wherein at least one layer forming the photoconductive layer contains a salt milled azo pigment. An electrophotographic photosensitive member characterized in that
【請求項2】 顔料がトリスアゾ顔料であることを特徴
とする請求項1記載の電子写真感光体。
2. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the pigment is a trisazo pigment.
【請求項3】 顔料がビスアゾ顔料であることを特徴と
する請求項1記載の電子写真感光体。
3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the pigment is a bisazo pigment.
【請求項4】 ソルトミリング用の塩の陽イオンがNa
+、又はK+であることを特徴とする請求項1記載の電子
写真感光体。
4. The salt cation for salt milling is Na.
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, which is + or K +.
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