JPH06230194A - Ｘ線反射鏡 - Google Patents
Ｘ線反射鏡Info
- Publication number
- JPH06230194A JPH06230194A JP1524893A JP1524893A JPH06230194A JP H06230194 A JPH06230194 A JP H06230194A JP 1524893 A JP1524893 A JP 1524893A JP 1524893 A JP1524893 A JP 1524893A JP H06230194 A JPH06230194 A JP H06230194A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- element layer
- soft
- reflectance
- multilayer film
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】軟Ｘ線やＸ線の反射率が高く、高強度の軟Ｘ線
源やＸ線源に対して使用可能なＸ線反射鏡を得る。 【構成】ブラッグ回折効果を有する多層膜の軽元素層１
中に、フラーレンを含有させる。
源やＸ線源に対して使用可能なＸ線反射鏡を得る。 【構成】ブラッグ回折効果を有する多層膜の軽元素層１
中に、フラーレンを含有させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、軟Ｘ線を選択する分光
素子や、Ｘ線顕微鏡またはＸ線望遠鏡などに必要なＸ線
反射鏡に関するものである。
素子や、Ｘ線顕微鏡またはＸ線望遠鏡などに必要なＸ線
反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体材料など各種材料の化学状態、化
学組成、不純物濃度、なかでも軽元素の高感度分析装置
に必要な軟Ｘ線、およびＬＳＩ用微細加工や生体観察や
プラズマ観察などのＸ線顕微鏡や太陽コロナ観測用など
のＸ線望遠鏡において、単色、準単色の軟Ｘ線やＸ線を
選択するために、多層膜が使用されるようになってき
た。上記多層膜は一般には図７に示すように、シリコン
や石英などの基板３上に、軽元素層１と重元素層２とを
数１０Å〜数１００Åの一定厚みで規則正しく積層して
形成していた。上記多層膜は、特に軟Ｘ線波長領域で回
折格子や結晶に比し反射率が高いという利点を有してい
る。従来の単層膜では垂直入射に近づくにつれて反射し
なくなり、反射率は０．０００００１以下とほとんど反
射しないが、例えば波長が約１３ｎｍ程度では重元素層
２にモリブデン（Ｍｏ）を使用し、軽元素層１にけい素
（Ｓｉ）を使用した多膜層（Ｍｏ／Ｓｉ多膜層）が直入
射近傍で計算上約５０〜８０％という高い反射率が得ら
れたり、波長が２０Å程度において重元素層２にタング
ステン（Ｗ）を使用し、軽元素層１に通常はアモルファ
ス状態の炭素（Ｃ）を使用した多層膜（Ｗ／Ｃ多層膜）
が、直入射近傍で約７％という回折格子や結晶を使用し
た分光素子に比べて１桁以上高い反射率が得られるた
め、軟Ｘ線やＸ線利用の装置や手法などに適用が検討さ
れている。
学組成、不純物濃度、なかでも軽元素の高感度分析装置
に必要な軟Ｘ線、およびＬＳＩ用微細加工や生体観察や
プラズマ観察などのＸ線顕微鏡や太陽コロナ観測用など
のＸ線望遠鏡において、単色、準単色の軟Ｘ線やＸ線を
選択するために、多層膜が使用されるようになってき
た。上記多層膜は一般には図７に示すように、シリコン
や石英などの基板３上に、軽元素層１と重元素層２とを
数１０Å〜数１００Åの一定厚みで規則正しく積層して
形成していた。上記多層膜は、特に軟Ｘ線波長領域で回
折格子や結晶に比し反射率が高いという利点を有してい
る。従来の単層膜では垂直入射に近づくにつれて反射し
なくなり、反射率は０．０００００１以下とほとんど反
射しないが、例えば波長が約１３ｎｍ程度では重元素層
２にモリブデン（Ｍｏ）を使用し、軽元素層１にけい素
（Ｓｉ）を使用した多膜層（Ｍｏ／Ｓｉ多膜層）が直入
射近傍で計算上約５０〜８０％という高い反射率が得ら
れたり、波長が２０Å程度において重元素層２にタング
ステン（Ｗ）を使用し、軽元素層１に通常はアモルファ
ス状態の炭素（Ｃ）を使用した多層膜（Ｗ／Ｃ多層膜）
が、直入射近傍で約７％という回折格子や結晶を使用し
た分光素子に比べて１桁以上高い反射率が得られるた
め、軟Ｘ線やＸ線利用の装置や手法などに適用が検討さ
れている。
【０００３】各種の軟Ｘ線やＸ線応用の立場からは、反
射率が高ければ高いほど、あるいは安定であればあるほ
ど利用価値が高い。例えば、分光分析の面からは反射率
が高まればそれに比例して感度の向上や精度の向上がは
かれ、また、加工の面からは加工時間の短縮がはかれる
ことになる。さらに、使用する軟Ｘ線源やＸ線源の強度
が強くなると、それに起因する熱負荷に耐えるために、
耐熱性の向上が求められる。
射率が高ければ高いほど、あるいは安定であればあるほ
ど利用価値が高い。例えば、分光分析の面からは反射率
が高まればそれに比例して感度の向上や精度の向上がは
かれ、また、加工の面からは加工時間の短縮がはかれる
ことになる。さらに、使用する軟Ｘ線源やＸ線源の強度
が強くなると、それに起因する熱負荷に耐えるために、
耐熱性の向上が求められる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
Ｗ／Ｃ多層膜（積層数１５０対）においては、波長４０
Å程度における反射率は直入射近傍で約７％程度であ
り、回折格子や結晶利用の分光素子に比べ反射率は高い
ものの、産業界からは常により反射率が高い多層膜が要
求されている。この場合、一般には上記Ｃの代りにより
密度が低い物質を使用すれば、物質の光学定数と密度と
の関係で多層膜による軟Ｘ線およびＸ線の反射率が高く
なる。しかしながら、Ｃよりも密度が低い単体の固体物
質では、リチウム（Ｌｉ）、ベリリウム（Ｂｅ）、ほう
素（Ｂ）しかない。このうち、Ｌｉはそのままでは融点
が１８６℃と低く、これを軽元素層に使用した多層膜で
は耐熱性が極めて悪い。また、Ｂｅは単体では有毒であ
り、皮膚の炎症をおこしたり吸収すれば肺をおかすこと
が知られている。このため、作製する装置の管理や装置
使用時の呼吸法ならびに服装などに注意して、極めて厳
重に扱う必要があるため、作製に時間がかかるだけでは
なく大きな困難を伴う。そのため、Ｃの代替物質として
は実際にＢを使用することが多い。しかしながら、重元
素層が同一物質であって、軽元素層にＣとＢとをそれぞ
れ適用した構造の同じ多層膜を作成しても、上記Ｂを使
用した多層膜の反射率はＣを使用した多層膜の反射率に
比べて、多い場合でも実際には１０〜２０％しか増加し
ない。
Ｗ／Ｃ多層膜（積層数１５０対）においては、波長４０
Å程度における反射率は直入射近傍で約７％程度であ
り、回折格子や結晶利用の分光素子に比べ反射率は高い
ものの、産業界からは常により反射率が高い多層膜が要
求されている。この場合、一般には上記Ｃの代りにより
密度が低い物質を使用すれば、物質の光学定数と密度と
の関係で多層膜による軟Ｘ線およびＸ線の反射率が高く
なる。しかしながら、Ｃよりも密度が低い単体の固体物
質では、リチウム（Ｌｉ）、ベリリウム（Ｂｅ）、ほう
素（Ｂ）しかない。このうち、Ｌｉはそのままでは融点
が１８６℃と低く、これを軽元素層に使用した多層膜で
は耐熱性が極めて悪い。また、Ｂｅは単体では有毒であ
り、皮膚の炎症をおこしたり吸収すれば肺をおかすこと
が知られている。このため、作製する装置の管理や装置
使用時の呼吸法ならびに服装などに注意して、極めて厳
重に扱う必要があるため、作製に時間がかかるだけでは
なく大きな困難を伴う。そのため、Ｃの代替物質として
は実際にＢを使用することが多い。しかしながら、重元
素層が同一物質であって、軽元素層にＣとＢとをそれぞ
れ適用した構造の同じ多層膜を作成しても、上記Ｂを使
用した多層膜の反射率はＣを使用した多層膜の反射率に
比べて、多い場合でも実際には１０〜２０％しか増加し
ない。
【０００５】本発明は、軟Ｘ線反射率やＸ線反射率が高
く、高強度の軟Ｘ線源やＸ線源に対して使用可能なＸ線
反射鏡を得ることを目的とする。
く、高強度の軟Ｘ線源やＸ線源に対して使用可能なＸ線
反射鏡を得ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は、複数の層対
が積層され、ブラッグ回折効果を有する多層膜構造のＸ
線反射鏡において、上記多層膜の軽元素中にフラーレン
を含むことにより達成される。
が積層され、ブラッグ回折効果を有する多層膜構造のＸ
線反射鏡において、上記多層膜の軽元素中にフラーレン
を含むことにより達成される。
【０００７】
【作用】多層膜よりなるＸ線反射鏡は、一般には重元素
層と軽元素層とを、それぞれ一定の層厚で交互に積層し
たものである。このとき、一般的には重元素層の物質の
密度が重く、軽元素層の物質の密度が軽いほど、Ｘ線や
軟Ｘ線の反射率が高くなる。最近研究が盛んになってき
たフラーレンは、炭素（Ｃ）が数１０個あるいは数１０
０個つながって、中が中空の球形や円柱状になっている
物質であり、もともと比較的軽い物質であるＣにより構
成されていることに加え、空間が多いことから極めて密
度が小さな物質である。従来使用されていたＣの密度は
およそ３〜３．５位であり、うまくグラファイト結晶に
できた場合は２．２５である。また、Ｂはおよそ２．３
である。これに対してフラーレンの代表的物質であるＣ
が６０個結合した球形の物質であるＣ６０は、密度が
１．６５であって通常のＣやＢに比較して軽い元素であ
る。また、さらにＣがたくさん結合したＣ７０などのよ
うに、Ｃが多くなればなる程その密度は小さくなる。そ
のため、上記フラーレンを軽元素層に使用した多層膜で
は反射率が向上するため、高反射率の多層膜Ｘ線反射鏡
を形成することが可能になる。
層と軽元素層とを、それぞれ一定の層厚で交互に積層し
たものである。このとき、一般的には重元素層の物質の
密度が重く、軽元素層の物質の密度が軽いほど、Ｘ線や
軟Ｘ線の反射率が高くなる。最近研究が盛んになってき
たフラーレンは、炭素（Ｃ）が数１０個あるいは数１０
０個つながって、中が中空の球形や円柱状になっている
物質であり、もともと比較的軽い物質であるＣにより構
成されていることに加え、空間が多いことから極めて密
度が小さな物質である。従来使用されていたＣの密度は
およそ３〜３．５位であり、うまくグラファイト結晶に
できた場合は２．２５である。また、Ｂはおよそ２．３
である。これに対してフラーレンの代表的物質であるＣ
が６０個結合した球形の物質であるＣ６０は、密度が
１．６５であって通常のＣやＢに比較して軽い元素であ
る。また、さらにＣがたくさん結合したＣ７０などのよ
うに、Ｃが多くなればなる程その密度は小さくなる。そ
のため、上記フラーレンを軽元素層に使用した多層膜で
は反射率が向上するため、高反射率の多層膜Ｘ線反射鏡
を形成することが可能になる。
【０００８】上記Ｘ線反射鏡を、Ｘ線や軟Ｘ線などを利
用した各種分析に適用した場合には、多層膜の反射率が
高まり感度や精度が向上し、Ｘ線リゾグラフィーに適用
した場合には反射率の向上で生産性が高まり、または露
光時間の短縮化がはかれるなどの効果を有することにな
る。
用した各種分析に適用した場合には、多層膜の反射率が
高まり感度や精度が向上し、Ｘ線リゾグラフィーに適用
した場合には反射率の向上で生産性が高まり、または露
光時間の短縮化がはかれるなどの効果を有することにな
る。
【０００９】
【実施例】つぎに本発明の実施例を図面とともに説明す
る。図１は本発明によるＸ線反射鏡の第１実施例におけ
る多層膜に軟Ｘ線を入射した場合の反射率の変化状態を
示す図、図２は上記第１実施例における多層膜の軟Ｘ線
ピーク反射率と波長との関係を示す図、図３は本発明の
第２実施例における多層膜に軟Ｘ線を入射した場合の反
射率の変化状態を示す図、図４は上記第２実施例の応用
である多層膜の軟Ｘ線ピーク反射率と波長との関係を示
す図、図５は本発明の第３実施例における多層膜に軟Ｘ
線を入射した場合の反射率の変化状態を示す図、図６は
上記第３実施例の応用である多層膜の軟Ｘ線ピーク反射
率と波長との関係を示す図である。
る。図１は本発明によるＸ線反射鏡の第１実施例におけ
る多層膜に軟Ｘ線を入射した場合の反射率の変化状態を
示す図、図２は上記第１実施例における多層膜の軟Ｘ線
ピーク反射率と波長との関係を示す図、図３は本発明の
第２実施例における多層膜に軟Ｘ線を入射した場合の反
射率の変化状態を示す図、図４は上記第２実施例の応用
である多層膜の軟Ｘ線ピーク反射率と波長との関係を示
す図、図５は本発明の第３実施例における多層膜に軟Ｘ
線を入射した場合の反射率の変化状態を示す図、図６は
上記第３実施例の応用である多層膜の軟Ｘ線ピーク反射
率と波長との関係を示す図である。
【００１０】第１実施例 軽元素層にＣおよびフラーレンＣ６０を用い、重元素層
にニッケル（Ｎｉ）を用いて、蒸着法により２種類の多
層膜を形成した。上記各多層膜の構造は、軽元素層の厚
みと重元素層の厚みとを加えた厚みである周期長を３６
Åとし、上記軽元素層の厚みと重元素層の厚みとの比が
２：３で、８０対積層させた多層膜をＳｉウエハ上に形
成した。上記各多層膜の表面に垂直な角度から３度傾け
た角度で、軟Ｘ線を多層膜に入射させた場合における反
射率の変化状態を図１に示す。また、上記各多層膜の軟
Ｘ線ピーク反射率と波長との関係を図２に示す。測定波
長領域では、従来反射率が最も高いとされていた多層膜
Ｎｉ／Ｃに比べて、フラーレンＣ６０を用いた多層膜Ｎ
ｉ／Ｃ６０の方が反射率が高くなるのが確認された。
にニッケル（Ｎｉ）を用いて、蒸着法により２種類の多
層膜を形成した。上記各多層膜の構造は、軽元素層の厚
みと重元素層の厚みとを加えた厚みである周期長を３６
Åとし、上記軽元素層の厚みと重元素層の厚みとの比が
２：３で、８０対積層させた多層膜をＳｉウエハ上に形
成した。上記各多層膜の表面に垂直な角度から３度傾け
た角度で、軟Ｘ線を多層膜に入射させた場合における反
射率の変化状態を図１に示す。また、上記各多層膜の軟
Ｘ線ピーク反射率と波長との関係を図２に示す。測定波
長領域では、従来反射率が最も高いとされていた多層膜
Ｎｉ／Ｃに比べて、フラーレンＣ６０を用いた多層膜Ｎ
ｉ／Ｃ６０の方が反射率が高くなるのが確認された。
【００１１】第２実施例 軽元素層にＣおよびフラーレンＣ７０を用い、重元素層
にＷを用いた２種類の多層膜をスパッタリング法により
形成した。上記各多層膜の構造は、軽元素層の厚みと重
元素層の厚みとを加えた厚みである周期長を３０Åと
し、上記軽元素層の厚みと上記重元素層の厚みとの比が
２：３で、１００対積層した多層膜をＳｉウエハ上に形
成した。上記多層膜の表面に垂直な角度から３度傾けた
角度で、軟Ｘ線を上記多層膜に入射させた場合における
反射率の変化状態を図３に示す。また、上記各多層膜の
軟Ｘ線ピーク反射率と波長との関係を図４に示す。測定
波長領域では、従来反射率が高いとされていたＷ／Ｃに
比べてＷ／Ｃ７０の方が高反射率になることが確認され
た。
にＷを用いた２種類の多層膜をスパッタリング法により
形成した。上記各多層膜の構造は、軽元素層の厚みと重
元素層の厚みとを加えた厚みである周期長を３０Åと
し、上記軽元素層の厚みと上記重元素層の厚みとの比が
２：３で、１００対積層した多層膜をＳｉウエハ上に形
成した。上記多層膜の表面に垂直な角度から３度傾けた
角度で、軟Ｘ線を上記多層膜に入射させた場合における
反射率の変化状態を図３に示す。また、上記各多層膜の
軟Ｘ線ピーク反射率と波長との関係を図４に示す。測定
波長領域では、従来反射率が高いとされていたＷ／Ｃに
比べてＷ／Ｃ７０の方が高反射率になることが確認され
た。
【００１２】第３実施例 軽元素層にＣ：Ｃ６０＝５０：５０の混合層を用い、重
元素層にＷを用いた多層膜をスパッタリング法により形
成した。上記多層膜の構造は、上記軽元素層の厚みと上
記重元素層の厚みとを加えた厚みである周期長を３０Å
とし、上記軽元素層の厚みと上記重元素層の厚みとの比
が２：３で１００対積層した多層膜をＳｉウエハ上に形
成した。上記多層膜の表面に垂直な角度から３度傾けた
角度で軟Ｘ線を多層膜に入射した場合の反射率の状態を
Ｗ／Ｃの場合と比較して図５に示す。また、上記多層膜
の軟Ｘ線反射率と波長との関係を図６にＷ／Ｃの場合と
比較して示す。この場合は上記軟Ｘ線入射角はブラッグ
の式を満足する関係で変化している。測定波長領域で
は、従来反射率が高いとされていたＷ／Ｃに比べて、Ｗ
／Ｃ：Ｃ６０＝５０：５０の方が高反射率になることが
確認された。
元素層にＷを用いた多層膜をスパッタリング法により形
成した。上記多層膜の構造は、上記軽元素層の厚みと上
記重元素層の厚みとを加えた厚みである周期長を３０Å
とし、上記軽元素層の厚みと上記重元素層の厚みとの比
が２：３で１００対積層した多層膜をＳｉウエハ上に形
成した。上記多層膜の表面に垂直な角度から３度傾けた
角度で軟Ｘ線を多層膜に入射した場合の反射率の状態を
Ｗ／Ｃの場合と比較して図５に示す。また、上記多層膜
の軟Ｘ線反射率と波長との関係を図６にＷ／Ｃの場合と
比較して示す。この場合は上記軟Ｘ線入射角はブラッグ
の式を満足する関係で変化している。測定波長領域で
は、従来反射率が高いとされていたＷ／Ｃに比べて、Ｗ
／Ｃ：Ｃ６０＝５０：５０の方が高反射率になることが
確認された。
【００１３】上記各実施例では数例を示したに過ぎない
が、当然推定されるように、上記以外のフラーレンまた
はこれらのフラーレンを混合させた物質を使用しても、
高反射率の多層膜Ｘ線反射鏡を形成できる効果があるこ
とはいうまでもない。また、重元素層にはＮｉとＷを用
いた例を記したが、上記重元素層には、金属はもちろん
軽元素層に適用したフラーレンよりも密度が高い物質で
あれば、Ｘ線反射の効果を示すことはいうまでもない。
が、当然推定されるように、上記以外のフラーレンまた
はこれらのフラーレンを混合させた物質を使用しても、
高反射率の多層膜Ｘ線反射鏡を形成できる効果があるこ
とはいうまでもない。また、重元素層にはＮｉとＷを用
いた例を記したが、上記重元素層には、金属はもちろん
軽元素層に適用したフラーレンよりも密度が高い物質で
あれば、Ｘ線反射の効果を示すことはいうまでもない。
【００１４】
【発明の効果】上記のように本発明によるＸ線反射鏡
は、複数の層対が積層され、ブラッグ回折効果を有する
多層膜構造のＸ線反射鏡において、上記多層膜の軽元素
層中にフラーレンを含むことにより、反射率を向上させ
ることが可能になり、このような高反射率の多層膜Ｘ線
反射鏡を、Ｘ線や軟Ｘ線を利用した各種分析に適用した
場合には、反射鏡が高反射率であるために分析の感度や
精度が向上し、また、Ｘ線リソグラフィーに適用した場
合は、生産性の向上または露光時間の短縮化をはかるこ
とができるなどの効果がある。
は、複数の層対が積層され、ブラッグ回折効果を有する
多層膜構造のＸ線反射鏡において、上記多層膜の軽元素
層中にフラーレンを含むことにより、反射率を向上させ
ることが可能になり、このような高反射率の多層膜Ｘ線
反射鏡を、Ｘ線や軟Ｘ線を利用した各種分析に適用した
場合には、反射鏡が高反射率であるために分析の感度や
精度が向上し、また、Ｘ線リソグラフィーに適用した場
合は、生産性の向上または露光時間の短縮化をはかるこ
とができるなどの効果がある。
【図１】本発明によるＸ線反射鏡の第１実施例における
多層膜に軟Ｘ線を入射した場合の反射率の変化状態を示
す図である。
多層膜に軟Ｘ線を入射した場合の反射率の変化状態を示
す図である。
【図２】上記第１実施例における多層膜の軟Ｘ線ピーク
反射率と波長との関係を示す図である。
反射率と波長との関係を示す図である。
【図３】本発明の第２実施例における多層膜に軟Ｘ線を
入射した場合の反射率の変化状態を示す図である。
入射した場合の反射率の変化状態を示す図である。
【図４】上記第２実施例の応用である多層膜の軟Ｘ線ピ
ーク反射率と波長との関係を示す図である。
ーク反射率と波長との関係を示す図である。
【図５】本発明の第３実施例における多層膜に軟Ｘ線を
入射した場合の反射率の変化状態を示す図である。
入射した場合の反射率の変化状態を示す図である。
【図６】上記第３実施例の応用である多層膜の軟Ｘ線ピ
ーク反射率と波長との関係を示す図である。
ーク反射率と波長との関係を示す図である。
【図７】多層膜の構造を示す図である。
１ 軽元素層 ２ 重元素層
フロントページの続き (72)発明者 川村 朋晃 東京都千代田区内幸町一丁目１番６号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 林 孝好 東京都千代田区内幸町一丁目１番６号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 石井 芳一 東京都千代田区内幸町一丁目１番６号 日 本電信電話株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】複数の層対が積層され、ブラッグ回折効果
を有する多層膜構造のＸ線反射鏡において、上記多層膜
の軽元素層中にフラーレンを含むことを特徴とするＸ線
反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1524893A JPH06230194A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | Ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1524893A JPH06230194A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | Ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06230194A true JPH06230194A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=11883558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1524893A Pending JPH06230194A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | Ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06230194A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1416329A1 (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7342715B2 (en) | 2004-03-26 | 2008-03-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Multilayer film reflector for soft X-rays and manufacturing method thereof |
-
1993
- 1993-02-02 JP JP1524893A patent/JPH06230194A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1416329A1 (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7342715B2 (en) | 2004-03-26 | 2008-03-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Multilayer film reflector for soft X-rays and manufacturing method thereof |
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