JPH06226472A - 液晶マスク式レーザマーカ - Google Patents
液晶マスク式レーザマーカInfo
- Publication number
- JPH06226472A JPH06226472A JP5018442A JP1844293A JPH06226472A JP H06226472 A JPH06226472 A JP H06226472A JP 5018442 A JP5018442 A JP 5018442A JP 1844293 A JP1844293 A JP 1844293A JP H06226472 A JPH06226472 A JP H06226472A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal mask
- laser light
- laser
- type laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】液晶マスク２を通過したレーザ光１ａは、プリ
ズム３に入射する。プリズム３で２分割されたレーザ光
１ｂ，１ｃは偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂに入射す
る。液晶マスク２上でマーキングに寄与する部分から出
射したレーザ光は、偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂで
反射して、２個の対象物７ａ，７ｂに対して同時にマー
キングされる。 【効果】液晶マスクを通過したレーザ光が２方向に分割
されるため、レーザ光１パスルで離れた２箇所を同時に
マーキングすることができる。
ズム３に入射する。プリズム３で２分割されたレーザ光
１ｂ，１ｃは偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂに入射す
る。液晶マスク２上でマーキングに寄与する部分から出
射したレーザ光は、偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂで
反射して、２個の対象物７ａ，７ｂに対して同時にマー
キングされる。 【効果】液晶マスクを通過したレーザ光が２方向に分割
されるため、レーザ光１パスルで離れた２箇所を同時に
マーキングすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶マスク式レーザマー
カに関する。
カに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶マスク式レーザマーカでは、
パルス動作するＹＡＧレーザ発振器などをその光源に用
いており、レーザ光１パルスによって、一つの対象物に
マーキングしていた。
パルス動作するＹＡＧレーザ発振器などをその光源に用
いており、レーザ光１パルスによって、一つの対象物に
マーキングしていた。
【０００３】尚、従来の液晶マスク式レーザマーカに関
しては、例えば、特開平1−11088号公報において説明さ
れている。
しては、例えば、特開平1−11088号公報において説明さ
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の液晶マスク式レ
ーザマーカでは、レーザ光１パルスによって、２個の対
象物など離れた２箇所にマーキングする場合、２枚の液
晶マスクを用いて、YAGレーザ発振器から取り出される
レーザ光を２分割して、それぞれ異なる液晶マスクに通
して、それぞれに光学系を構成してマーキングしてい
た。しかし、この場合、液晶マスクが２枚必要になるた
め、装置全体のコストが高くなったり、液晶マスクの駆
動装置が複雑になるなどの問題があった。なお、この種
の装置として特公昭62−21887 号公報を挙げることがで
きる。
ーザマーカでは、レーザ光１パルスによって、２個の対
象物など離れた２箇所にマーキングする場合、２枚の液
晶マスクを用いて、YAGレーザ発振器から取り出される
レーザ光を２分割して、それぞれ異なる液晶マスクに通
して、それぞれに光学系を構成してマーキングしてい
た。しかし、この場合、液晶マスクが２枚必要になるた
め、装置全体のコストが高くなったり、液晶マスクの駆
動装置が複雑になるなどの問題があった。なお、この種
の装置として特公昭62−21887 号公報を挙げることがで
きる。
【０００５】本発明の目的は、液晶マスクを１枚用いて
も、レーザ光１パルスによって、離れた２箇所に同時に
マーキングできる装置を提供することにある。
も、レーザ光１パルスによって、離れた２箇所に同時に
マーキングできる装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は液晶マスクと光分岐手段とを含み、前記液
晶マスクを通過するレーザ光を光分岐手段により２方向
に分割したものである。
に、本発明は液晶マスクと光分岐手段とを含み、前記液
晶マスクを通過するレーザ光を光分岐手段により２方向
に分割したものである。
【０００７】また、光分岐手段におけるレーザ光の損失
を小さくするために、前記光分岐手段としてプリズムを
用いたものである。
を小さくするために、前記光分岐手段としてプリズムを
用いたものである。
【０００８】
【作用】液晶マスクを通過したレーザ光が２方向に分割
するため、それぞれのレーザ光を異なる結像光学系に通
過させることができる。それにより、離れた２か所に対
して結像でき、それぞれの位置にマーキングさせること
ができる。しかも、１パルスのレーザ光が２方向に分割
されるため、同時に２か所にマーキングできる。また、
プリズムでは、その頂角を形成する２面から作られる辺
にレーザ光が入射する際に、その辺に当る部分では損失
を受ける。しかし、その辺の幅は一般に０.５mm 以下程
度であるため、数cm程度の幅の液晶マスクに比べて小さ
い。したがって損失を受けるレーザ光の割合は１％以下
程度になり、実用上問題ない。
するため、それぞれのレーザ光を異なる結像光学系に通
過させることができる。それにより、離れた２か所に対
して結像でき、それぞれの位置にマーキングさせること
ができる。しかも、１パルスのレーザ光が２方向に分割
されるため、同時に２か所にマーキングできる。また、
プリズムでは、その頂角を形成する２面から作られる辺
にレーザ光が入射する際に、その辺に当る部分では損失
を受ける。しかし、その辺の幅は一般に０.５mm 以下程
度であるため、数cm程度の幅の液晶マスクに比べて小さ
い。したがって損失を受けるレーザ光の割合は１％以下
程度になり、実用上問題ない。
【０００９】また、この辺は通常ざらざらした梨地状で
あるため、ここに当るレーザ光は四方に拡散して減衰す
るため、ここでの反射光は弱く、マーキング品質や装置
自体に対して悪影響を及ぼさない。
あるため、ここに当るレーザ光は四方に拡散して減衰す
るため、ここでの反射光は弱く、マーキング品質や装置
自体に対して悪影響を及ぼさない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
る。
【００１１】図１は、本発明の一実施例である液晶マス
ク式レーザマーカ１００の光学系の部分を示す構成図で
ある。
ク式レーザマーカ１００の光学系の部分を示す構成図で
ある。
【００１２】液晶マスク式レーザマーカ１００において
光源として用いられているＹＡＧレーザ発振器から取り
出されたレーザ光１ａは、液晶マスク２に入射する。こ
れを通過したレーザ光は、プリズム３に入射する。プリ
ズム３の頂角を形成する２面には、反射膜がコーティン
グされている。それにより、レーザ光はこのプリズム３
で２分割され、レーザ光１ｂ，１ｃのように進み、それ
ぞれ偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂに入射する。偏光
ビームスプリッタ４ａ，４ｂに入射したレーザ光１ｂ，
１ｃのうち、液晶マスク２でマーキングに寄与しない部
分から出射したレーザ光は、これらを通過して、それぞ
れストッパ５ａ，５ｂに当る。これに対して、液晶マス
ク２でマーキングに寄与する部分から出射したレーザ光
は、偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂで反射して、結像
レンズ６ａ，６ｂを通過し、２個の対象物７ａ，７ｂに
対して同時にマーキングされる。
光源として用いられているＹＡＧレーザ発振器から取り
出されたレーザ光１ａは、液晶マスク２に入射する。こ
れを通過したレーザ光は、プリズム３に入射する。プリ
ズム３の頂角を形成する２面には、反射膜がコーティン
グされている。それにより、レーザ光はこのプリズム３
で２分割され、レーザ光１ｂ，１ｃのように進み、それ
ぞれ偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂに入射する。偏光
ビームスプリッタ４ａ，４ｂに入射したレーザ光１ｂ，
１ｃのうち、液晶マスク２でマーキングに寄与しない部
分から出射したレーザ光は、これらを通過して、それぞ
れストッパ５ａ，５ｂに当る。これに対して、液晶マス
ク２でマーキングに寄与する部分から出射したレーザ光
は、偏光ビームスプリッタ４ａ，４ｂで反射して、結像
レンズ６ａ，６ｂを通過し、２個の対象物７ａ，７ｂに
対して同時にマーキングされる。
【００１３】なお、対象物７ａ，７ｂはそれぞれ移動装
置８ａ，８ｂの上に置かれて移動している。図に示され
ているように、移動装置８ａ上では、対象物７ａ′，７
ａ，７ａ″の順にマーキングされ、移動装置８ｂ上で
は、対象物７ｂ′,７ｂ,７ｂ″の順にマーキングされ
る。
置８ａ，８ｂの上に置かれて移動している。図に示され
ているように、移動装置８ａ上では、対象物７ａ′，７
ａ，７ａ″の順にマーキングされ、移動装置８ｂ上で
は、対象物７ｂ′,７ｂ,７ｂ″の順にマーキングされ
る。
【００１４】本実施例では、異なる２個の対象物に同時
にマーキングしているが、１個の対象物の異なる２面に
対して同時にマーキングすることもできる。
にマーキングしているが、１個の対象物の異なる２面に
対して同時にマーキングすることもできる。
【００１５】
【発明の効果】本発明では、以上に示した構成になって
いるため、レーザ光１パスルで離れた２箇所を同時にマ
ーキングすることができる。
いるため、レーザ光１パスルで離れた２箇所を同時にマ
ーキングすることができる。
【００１６】また、レーザ光を２方向に分割するため
に、プリズムを用いているため、レーザ光の損失が小さ
い。
に、プリズムを用いているため、レーザ光の損失が小さ
い。
【図１】本発明の液晶マスク式レーザマーカの光学系の
部分を示す説明図。
部分を示す説明図。
１ａ，１ｂ，１ｃ…レーザ光、２…液晶マスク、３…プ
リズム、４ａ，４ｂ…偏光ビームスプリッタ、５ａ，５
ｂ…ストッパ、６ａ，６ｂ…結像レンズ、７ａ，７ｂ，
７ａ′，７ｂ′，７ａ″，７ｂ″…対象物、８ａ，８ｂ
…移動装置、１００…液晶マスク式レーザマーカ。
リズム、４ａ，４ｂ…偏光ビームスプリッタ、５ａ，５
ｂ…ストッパ、６ａ，６ｂ…結像レンズ、７ａ，７ｂ，
７ａ′，７ｂ′，７ａ″，７ｂ″…対象物、８ａ，８ｂ
…移動装置、１００…液晶マスク式レーザマーカ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５０５ 9017−2Ｋ
Claims (2)
- 【請求項１】液晶マスクと光分岐手段とを含み、前記液
晶マスクを通過するレーザ光が、前記光分岐手段によ
り、２方向に分割されることを特徴とする液晶マスク式
レーザマーカ。 - 【請求項２】請求項１において、前記光分岐手段がプリ
ズムであることを特徴とする液晶マスク式レーザマー
カ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5018442A JPH06226472A (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 液晶マスク式レーザマーカ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5018442A JPH06226472A (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 液晶マスク式レーザマーカ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06226472A true JPH06226472A (ja) | 1994-08-16 |
Family
ID=11971756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5018442A Pending JPH06226472A (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 液晶マスク式レーザマーカ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06226472A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0776725A1 (en) * | 1994-08-17 | 1997-06-04 | Komatsu Ltd. | Method of marking works |
| US6262388B1 (en) * | 1998-12-21 | 2001-07-17 | Micron Electronics, Inc. | Laser marking station with enclosure and method of operation |
| US6774340B1 (en) * | 1998-11-25 | 2004-08-10 | Komatsu Limited | Shape of microdot mark formed by laser beam and microdot marking method |
| KR100492748B1 (ko) * | 2002-09-11 | 2005-06-07 | (주)하드램 | 셀렉터블 다중 스캔헤드를 이용한 시분할 레이저 마킹장치및 방법 |
| JP2006289415A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置 |
| US7528341B2 (en) * | 2004-11-05 | 2009-05-05 | Lg Display Co., Ltd. | Scribing apparatus, substrate cutting apparatus equipped with the scribing apparatus, and substrate cutting method using the substrate cutting apparatus |
-
1993
- 1993-02-05 JP JP5018442A patent/JPH06226472A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0776725A1 (en) * | 1994-08-17 | 1997-06-04 | Komatsu Ltd. | Method of marking works |
| EP0776725A4 (en) * | 1994-08-17 | 1997-11-19 | Komatsu Mfg Co Ltd | MARKING PROCEDURE OF ARTICLES |
| US6774340B1 (en) * | 1998-11-25 | 2004-08-10 | Komatsu Limited | Shape of microdot mark formed by laser beam and microdot marking method |
| US6262388B1 (en) * | 1998-12-21 | 2001-07-17 | Micron Electronics, Inc. | Laser marking station with enclosure and method of operation |
| KR100492748B1 (ko) * | 2002-09-11 | 2005-06-07 | (주)하드램 | 셀렉터블 다중 스캔헤드를 이용한 시분할 레이저 마킹장치및 방법 |
| US7528341B2 (en) * | 2004-11-05 | 2009-05-05 | Lg Display Co., Ltd. | Scribing apparatus, substrate cutting apparatus equipped with the scribing apparatus, and substrate cutting method using the substrate cutting apparatus |
| JP2006289415A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置 |
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