JPH0621192A - Rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment - Google Patents

Rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment

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JPH0621192A
JPH0621192A JP17272292A JP17272292A JPH0621192A JP H0621192 A JPH0621192 A JP H0621192A JP 17272292 A JP17272292 A JP 17272292A JP 17272292 A JP17272292 A JP 17272292A JP H0621192 A JPH0621192 A JP H0621192A
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JP
Japan
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rolling
rolling bearing
semiconductor manufacturing
base material
manufacturing equipment
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JP17272292A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiromitsu Kondo
博光 近藤
Hiroshi Yamada
博 山田
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NTN Corp
Original Assignee
NTN Corp
NTN Toyo Bearing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment which is suitable to be used in a corrosive atmosphere. CONSTITUTION:Inner and outer rings 1 and 2 and a rolling element 3 are made of iron-base alloy composed of 30-35% of Ni, 19-23% of Cr and the rest of Fe. Matrix-strengthening is applied to the base material surface layers 1b, 2b and 3b of the above mentioned bearing components by the implantation of Mo or B ions. Lubricating films 1a, 2a and 3a made of crystalline PTFE are formed on the surface layers.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造設備に使用
される転がり軸受に関し、特に腐食性雰囲気下での使用
に適したものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rolling bearing used in semiconductor manufacturing equipment, and more particularly to a bearing suitable for use in a corrosive atmosphere.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造設備に使用される軸受は、高
い清浄度が要求される密封真空下で運転されるため、そ
の潤滑には、一般に、二硫化モリブデン等の層状物質、
金、銀、鉛等の軟質金属、PTFE、ポリイミド等の高
分子材料などの固体潤滑剤が用いられている。
2. Description of the Related Art Since bearings used in semiconductor manufacturing equipment are operated under a sealed vacuum which requires high cleanliness, generally, a layered material such as molybdenum disulfide is used for lubrication thereof.
Solid lubricants such as soft metals such as gold, silver and lead, and polymer materials such as PTFE and polyimide are used.

【0003】ところで、近年、半導体製造分野では半導
体の集積度が増すにつれて回路パターンの線幅が微細化
しており、軸受から排出される固体潤滑剤の摩耗粉がパ
ターン上に付着すると種々の弊害を引き起こす可能性が
あることから、固体潤滑剤の特性として、本来の潤滑性
・耐久性の他に、特に低発塵性を要求するようになって
きている。
By the way, in recent years, in the field of semiconductor manufacturing, the line width of circuit patterns has become finer as the degree of integration of semiconductors has increased, and if the abrasion powder of the solid lubricant discharged from the bearing adheres to the pattern, various adverse effects are caused. Because of the possibility of causing it, solid lubricants are required to have particularly low dusting property in addition to the original lubricity and durability.

【0004】このような現状に鑑み、本出願人は、転が
り軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦また
は滑り摩擦を生ずる表面に、低分子量のポリテトラフル
オロエチレン(以下、簡単のため、低分子量PTFEと
略記する。)を用いて潤滑被膜を形成することにより、
潤滑性、耐久性、低発塵性等に優れた潤滑皮膜を得るこ
とができることを特願平3−190150号等において
示した。これらの効果は、低分子量PTFEが、従来よ
り固体潤滑剤として用いられている高分子量のPTFE
に比べて、剪断強度が著しく小く、また、転着性に優れ
ていることによるものであった。さらに、本出願人は連
続した島状分布の固体潤滑皮膜を形成した半導体製造設
備用転がり軸受について出願し(実願平3−49946
号等)、この出願において、PTFEの固体潤滑皮膜を
島状分布とすることにより、軸受の低発塵性がさらに向
上することを示した。
In view of the above situation, the applicant of the present invention has found that low-molecular-weight polytetrafluoroethylene (hereinafter, for the sake of simplicity, low-molecular weight) is present on at least the surface of rolling bearings that causes rolling friction or sliding friction. Abbreviated as PTFE) to form a lubricating film,
It was shown in Japanese Patent Application No. 3-190150 and the like that a lubricating film excellent in lubricity, durability and low dust generation can be obtained. These effects are due to the fact that low molecular weight PTFE is a high molecular weight PTFE that has been conventionally used as a solid lubricant.
This is due to the fact that the shear strength is remarkably smaller than that of No. 1, and the transferability is excellent. Further, the present applicant has applied for a rolling bearing for a semiconductor manufacturing facility on which a solid lubricating coating having a continuous island-like distribution is formed (Japanese Patent Application No. 3-49946).
In this application, it has been shown that the low particle generation of the bearing is further improved by making the solid lubricating coating of PTFE in an island distribution.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体のエ
ッチング工程やCVD(化学蒸着)皮膜処理工程では、
シラン系、フッ素系、塩素系などの反応ガスを使用する
ため、処理装置に組込まれた軸受がこれら腐食性を有す
る反応ガスに接触する可能性がある。例えば、CVD装
置においては、軸受は反応槽に使用されることは殆どな
く主にバッファ槽に使用されるので、反応ガスと直接接
触することはないが、槽間でウェーハのやりとりをする
際に、反応ガスが反応槽からバッファ槽に流入し、軸受
に接触する場合がある。したがって、このような雰囲気
下で使用される軸受には、特に耐蝕性が要求される。
By the way, in the semiconductor etching process and the CVD (chemical vapor deposition) film processing process,
Since a silane-based, fluorine-based, or chlorine-based reaction gas is used, the bearing incorporated in the processing apparatus may come into contact with these corrosive reaction gases. For example, in a CVD apparatus, bearings are rarely used in reaction tanks and are mainly used in buffer tanks, so they do not come into direct contact with reaction gas, but when transferring wafers between tanks. The reaction gas may flow from the reaction tank into the buffer tank and come into contact with the bearing. Therefore, the bearings used in such an atmosphere are required to have particularly high corrosion resistance.

【0006】元来、低分子量PTFE自体も化学的に安
定したものであるが、潤滑皮膜が剥離・転着を繰り返す
際に膜厚さが減少する時があり、このような場合、薄く
なった皮膜部分から腐食性ガス等が浸透して母材を侵す
ことがある。また、潤滑皮膜を島状に分布させた場合で
は、島と島との間の皮膜部分はもともと薄く、この部分
から腐食性ガス等が浸透しやすい。
Originally, low molecular weight PTFE itself was chemically stable, but the film thickness sometimes decreased when the lubricating film was repeatedly peeled and transferred, and in such a case, it became thin. Corrosive gas and the like may penetrate from the film portion to attack the base material. Further, when the lubricating coating is distributed in an island shape, the coating portion between the islands is originally thin, and corrosive gas or the like easily penetrates from this portion.

【0007】そこで、本発明の目的は、半導体製造設備
用転がり軸受において、特に腐食性雰囲気下で使用する
のに適した転がり軸受を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a rolling bearing suitable for use in a semiconductor manufacturing facility, particularly in a corrosive atmosphere.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明では、転がり軸受
を構成する部品のうち少なくとも内輪と外輪とをNi3
0〜35%、Cr19〜23%、Fe残部の鉄基合金で
形成し、かつ、この転がり軸受を構成する部品のうち少
なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表面に、結
晶性のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を
形成した。
In the present invention, at least the inner ring and the outer ring of the parts constituting the rolling bearing are made of Ni3.
0 to 35%, Cr 19 to 23%, Fe balance iron-based alloy, and at least the surface of the rolling bearing that causes rolling friction or sliding friction is made of crystalline polytetrafluoroethylene. Formed a lubricating film.

【0009】また、上記鉄基合金で形成した部品のうち
少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる母材表層
を、MoあるいはBによりマトリックス強化した。
Further, among the parts formed of the iron-based alloy, at least the surface layer of the base material which causes rolling friction or sliding friction is matrix-reinforced with Mo or B.

【0010】さらに、転動体をセラミックで形成した。Further, the rolling element is made of ceramic.

【0011】[0011]

【作用】Niを30〜35%含有する鉄基合金は良好な
耐蝕性を有する。したがって、腐食性雰囲気下において
も、母材に腐食が生じにくい。
The iron-based alloy containing 30 to 35% Ni has good corrosion resistance. Therefore, the base material is unlikely to be corroded even in a corrosive atmosphere.

【0012】母材表層をMoでマトリックス強化するこ
とにより、孔食を抑止する効果が得られ、耐蝕性がさら
に改善される。
By matrix-strengthening the surface layer of the base material with Mo, the effect of suppressing pitting corrosion is obtained, and the corrosion resistance is further improved.

【0013】母材表層をBでマトリックス強化すること
により、キャビテーション侵食を抑止する効果が得ら
れ、耐蝕性がさらに改善される。
By matrix-strengthening the surface layer of the base material with B, the effect of suppressing cavitation erosion is obtained, and the corrosion resistance is further improved.

【0014】ここで、マトリックス強化とは、母材表層
のマトリックス組織にMoあるいはB元素が入り込んだ
状態を言う。
Here, the matrix strengthening means a state in which Mo or B element has entered the matrix structure of the base material surface layer.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.

【0016】図1に示す実施例は、本発明を深溝玉軸受
に適用したものである。この転がり軸受は、内輪1、外
輪2、内・外輪1、2間に介在する複数の転動体3、転
動体3を円周等間隔に保持する保持器4といった軸受部
品で構成される。内・外輪1、2および転動体3は、そ
れぞれ、Ni30〜35%、Cr19〜23%、Fe残
部の鉄基合金で形成され、それらの表面には結晶性のP
TFEからなる潤滑皮膜1a、2a、3aが形成されて
いる。これらの潤滑皮膜1a、2a、3aは、例えば、
低分子量PTFE(日本アチソン製ARC7等)を25
cm離れた位置から被膜形成面にスプレーして付着させ
たもので、その平均被膜暑さは0.6μm程度である。
結晶性のPTFEからなる潤滑被膜は、いわゆるスパッ
タリング処理皮膜のようにPTFE分子が必要以上に細
分化さていないので、PTFE本来の潤滑性能等の特性
が維持されている。結晶性のPTFE被膜をコーティン
グする方法としては上記スプレー法の他、浸漬法等があ
る。
The embodiment shown in FIG. 1 is an application of the present invention to a deep groove ball bearing. This rolling bearing is composed of bearing components such as an inner ring 1, an outer ring 2, a plurality of rolling elements 3 interposed between the inner and outer rings 1, 2 and a cage 4 for holding the rolling elements 3 at equal intervals around the circumference. The inner and outer rings 1 and 2 and the rolling element 3 are each formed of an iron-based alloy containing Ni of 30 to 35%, Cr of 19 to 23%, and the balance of Fe.
Lubricating films 1a, 2a and 3a made of TFE are formed. These lubricating coatings 1a, 2a, 3a are, for example,
25 low molecular weight PTFE (ARC7 etc. made by Nippon Acheson)
It was sprayed and attached to the film-forming surface from a position distant by cm, and the average film heat is about 0.6 μm.
Unlike the so-called sputtered film, the lubricating film made of crystalline PTFE does not have the PTFE molecules subdivided more than necessary, so that the characteristics such as the original lubricating performance of PTFE are maintained. As a method for coating the crystalline PTFE film, there is an immersion method in addition to the above-mentioned spray method.

【0017】この転がり軸受は、内・外輪1、2および
転動体3がNi30〜35%、Cr19〜23%、Fe
残部の鉄基合金で形成されているため、良好な耐蝕性を
有し、シラン等の反応性ガスを用いる雰囲気下でも腐食
が生じず、耐久性、低発塵性等といった本来の特性を長
期にわたって発揮する。尚、PTFEとして、バイダッ
クスAR(デュポン社製)、MP1200、MP130
0(いずれも三井フロロケミカル社製)を用いても同様
の効果が得られる。
In this rolling bearing, the inner / outer rings 1 and 2 and the rolling element 3 have Ni of 30 to 35%, Cr of 19 to 23%, and Fe.
Since it is made up of the rest of the iron-based alloy, it has good corrosion resistance, does not corrode even in an atmosphere using a reactive gas such as silane, and has its original properties such as durability and low dust generation for a long time. Exerts over. In addition, as PTFE, by Dux AR (manufactured by DuPont), MP1200, MP130
The same effect can be obtained by using 0 (both manufactured by Mitsui Fluorochemical Co., Ltd.).

【0018】ところで、シランよりもさらに反応性の強
い塩素ガス、フッ素ガス、あるいはこれらの混合ガス等
を用いる雰囲気下では、さらに強い耐蝕性が必要になる
場合がある。図2に示す転がり軸受は、このような場合
を考慮し、耐蝕性のさらなる改善を図ったものである。
この転がり軸受は、上記鉄基合金で形成された内・外輪
1、2および転動体3の母材表層1b、2b、3bにM
oあるいはB元素をイオン注入したものである。母材表
層1b、2b、3bは、MoあるいはB元素によりマト
リックス強化され、母材元素とMoあるいはB元素との
混合層状をなしている。ただ、マトリックス強化された
母材表層と母材とは、同図に示すような明確な界面をも
っているわけではない。イオン注入法は、公知なよう
に、注入したい元素をイオン化することによって一定の
エネルギーに加速して母材表面に打ち込む方法である
が、CVD法等と違って本質的に非熱平衡プロセスであ
り低温処理が可能なこと、打ち込まれたイオンが母材の
マトリックス組織に入り込み強固な密着性が得られると
いった特徴がある。例えば、Moをイオン注入した場合
では孔食を抑止する効果が得られ、耐蝕性がさらに改善
される。また、Bをイオン注入した場合では、キャビテ
ーション侵食を抑止する効果が得られ、耐蝕性がさらに
改善される。MoあるいはBを母材表層1b、2b、3
bにイオン注入し、深さ0.3μmまで改質した場合で
は、イオン注入しない場合に比べて、発錆時間が共に2
倍以上遅延することが実験により確認されている。マト
リックス強化する手段はイオン注入法に限らず、例え
ば、母材の製鋼時に、MoあるいはBを含有させるよう
にしても良い。
By the way, in an atmosphere using chlorine gas, fluorine gas, or a mixed gas thereof, which is more reactive than silane, stronger corrosion resistance may be required. The rolling bearing shown in FIG. 2 has further improved corrosion resistance in consideration of such a case.
This rolling bearing has M on the inner and outer rings 1 and 2 and the base material surface layers 1b, 2b and 3b of the rolling element 3 which are formed of the iron-based alloy.
This is the result of ion implantation of o or B element. The base material surface layers 1b, 2b, 3b are matrix-reinforced with Mo or B element to form a mixed layer of the base material element and Mo or B element. However, the matrix-reinforced base material surface layer and the base material do not have a clear interface as shown in the figure. As is well known, the ion implantation method is a method of accelerating to a constant energy by implanting an element to be implanted and implanting it on the surface of the base material, but unlike the CVD method or the like, it is essentially a non-thermal equilibrium process and is low temperature. It is characterized in that it can be treated and that the implanted ions enter the matrix structure of the base material to obtain strong adhesion. For example, when Mo is ion-implanted, the effect of suppressing pitting corrosion is obtained, and the corrosion resistance is further improved. When B is ion-implanted, the effect of suppressing cavitation erosion is obtained, and the corrosion resistance is further improved. Mo or B is used as the base material surface layer 1b, 2b, 3
When ion-implanted into b and modified to a depth of 0.3 μm, the rusting time is 2
It has been confirmed by experiments that the delay is more than double. The means for strengthening the matrix is not limited to the ion implantation method, and for example, Mo or B may be contained at the time of steelmaking of the base material.

【0019】図3、図4、図5は、図2に示す構成の軸
受について行なった発塵試験の結果を示す。図3はAR
C7(平均分子量3000)、図4はバイダックスAR
(平均分子量5000)、図5はMP1200(平均分
子量20万)を用いて潤滑被膜を形成した場合の結果で
ある。試験条件は、回転数:50rpm、スラスト荷
重:1kgf、真空度:10-7Torrである。いずれ
も、良好な低発塵性を示している。MP1300(平均
分子量30万)を用いて潤滑被膜を形成した場合は、図
5に示すMP1200の場合とほぼ同様の低発塵性を示
した。
3, 4, and 5 show the results of a dusting test conducted on the bearing having the structure shown in FIG. Figure 3 is AR
C7 (average molecular weight 3000), Fig. 4 shows Bidax AR
(Average molecular weight 5000), FIG. 5 shows the results when a lubricating coating was formed using MP1200 (average molecular weight 200,000). The test conditions are: rotation speed: 50 rpm, thrust load: 1 kgf, and vacuum degree: 10 −7 Torr. All show good low dust generation. When a lubricating coating was formed using MP1300 (average molecular weight 300,000), the same low dusting property as that of MP1200 shown in FIG. 5 was exhibited.

【0020】尚、以上説明した実施例では、内・外輪
1、2の転走面および転動体3の表面に潤滑皮膜を形成
してあるが、潤滑皮膜は少なくとも転動体3の表面に形
成すれば良い。また、図1aおよび図2aでは内・外輪
1、2の外表面全体に潤滑皮膜1a、2aが形成されて
いるが、図1bおよび図2bに示すように、嵌合面等の
潤滑皮膜が本来不要な部分については、マスキングによ
って皮膜処理を施さない、あるいは、最終製品となる前
に除去するようにすると良い。また、母材表層のマトリ
ックス強化は、少なくとも内・外輪1、2の転走面につ
いて行なえば良い。また、転動体3をセラミックで形成
すると、軸受の耐蝕性は一層向上する。さらに、軸受の
形式は、図1および図2に示すような深溝玉軸受に限ら
ず、広く転がり軸受一般に適用することができる。
In the embodiment described above, the lubricating film is formed on the rolling surfaces of the inner and outer races 1 and 2 and the surface of the rolling element 3, but the lubricating film is formed on at least the surface of the rolling element 3. Good. Further, in FIGS. 1a and 2a, the lubricating coatings 1a and 2a are formed on the entire outer surfaces of the inner and outer races 1 and 2. However, as shown in FIGS. 1b and 2b, the lubricating coatings such as the mating surfaces are originally formed. Unnecessary portions should not be subjected to a film treatment by masking, or may be removed before the final product. Further, the matrix reinforcement of the base material surface layer may be performed at least on the rolling surfaces of the inner and outer races 1, 2. Further, when the rolling elements 3 are made of ceramic, the corrosion resistance of the bearing is further improved. Further, the type of bearing is not limited to the deep groove ball bearing as shown in FIGS. 1 and 2, but can be widely applied to rolling bearings in general.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の転がり軸
受は、この軸受を構成する部品のうち少なくとも内輪と
外輪とをNi30〜35%、Cr19〜23%、Fe残
部の鉄基合金で形成し、かつ、この軸受を構成する部品
のうち少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表
面に、結晶性のポリテトラフルオロエチレンからなる潤
滑皮膜を形成したものであるから、腐食性雰囲気下で使
用された場合でも腐食が生じにくく、その優れた低発塵
性、大気・真空両用性、低トルク性(二硫化モリブデン
のスパッタリング皮膜と同程度)、耐熱性(潤滑皮膜の
軟化点は320oC以上)等を長期にわたって発揮す
る。
As described above, in the rolling bearing of the present invention, at least the inner ring and the outer ring of the components constituting the bearing are made of an iron-based alloy of Ni 30 to 35%, Cr 19 to 23%, and the balance of Fe. In addition, since a lubricating film made of crystalline polytetrafluoroethylene was formed on at least the surface that causes rolling friction or sliding friction among the components constituting this bearing, it was used in a corrosive atmosphere. Corrosion hardly occurs, excellent low dust generation, compatibility with atmosphere and vacuum, low torque (similar to sputtering film of molybdenum disulfide), heat resistance (lubrication film has softening point of 320 ° C or more) And so on.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に係わる深溝玉軸受を示す断面
図(a)、嵌合面等の潤滑皮膜を除去等した状態を示す
断面図(図b)である。
FIG. 1 is a cross-sectional view (a) showing a deep groove ball bearing according to an embodiment of the present invention, and a cross-sectional view (FIG. B) showing a state in which a lubricating film such as a fitting surface is removed.

【図2】本発明の他の実施例に係わる深溝玉軸受を示す
断面図(a)、嵌合面等の潤滑皮膜を除去等した状態を
示す断面図(図b)である。
FIG. 2 is a cross-sectional view (a) showing a deep groove ball bearing according to another embodiment of the present invention, and a cross-sectional view (FIG. B) showing a state in which a lubricating film on the fitting surface and the like has been removed.

【図3】発塵試験の結果を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a result of a dusting test.

【図4】発塵試験の結果を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a result of a dusting test.

【図5】発塵試験の結果を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a result of a dusting test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内輪 1a 潤滑皮膜 1b 母材表層 2 外輪 2a 潤滑皮膜 2b 母材表層 3 転動体 3a 潤滑皮膜 3b 母材表層 4 保持器 1 Inner ring 1a Lubrication film 1b Base material surface layer 2 Outer ring 2a Lubrication film 2b Base material surface layer 3 Rolling element 3a Lubrication film 3b Base material surface layer 4 Cage

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 転がり軸受を構成する部品のうち少なく
とも内輪と外輪とをNi30〜35%、Cr19〜23
%、Fe残部の鉄基合金で形成し、かつ、この転がり軸
受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦または滑
り摩擦を生ずる表面に、結晶性のポリテトラフルオロエ
チレンからなる潤滑皮膜を形成したことを特徴とする半
導体製造設備用転がり軸受。
1. At least an inner ring and an outer ring of a component constituting a rolling bearing have Ni of 30 to 35% and Cr of 19 to 23.
%, The balance of Fe is formed of an iron-based alloy, and a lubricating film made of crystalline polytetrafluoroethylene is formed on the surface of at least rolling friction or sliding friction of the components constituting the rolling bearing. A characteristic rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment.
【請求項2】 上記鉄基合金で形成した部品のうち少な
くとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる母材表層が、
Moによりマトリックス強化された請求項1の半導体製
造設備用転がり軸受。
2. A base material surface layer which causes at least rolling friction or sliding friction among the parts formed of the iron-based alloy,
The rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment according to claim 1, which is matrix-reinforced with Mo.
【請求項3】 上記鉄基合金で形成した部品のうち少な
くとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる母材表層が、
Bによりマトリックス強化された請求項1の半導体製造
設備用転がり軸受。
3. A base material surface layer which causes at least rolling friction or sliding friction among the parts formed of the iron-based alloy,
The rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment according to claim 1, which is matrix-reinforced by B.
【請求項4】 転動体がセラミックで形成された請求項
1、2、3または4の半導体製造設備用転がり軸受。
4. The rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein the rolling elements are formed of ceramics.
JP17272292A 1992-06-30 1992-06-30 Rolling bearing for semiconductor manufacturing equipment Pending JPH0621192A (en)

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