JPH06199871A - Production of triarylboron - Google Patents

Production of triarylboron

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JPH06199871A
JPH06199871A JP28771093A JP28771093A JPH06199871A JP H06199871 A JPH06199871 A JP H06199871A JP 28771093 A JP28771093 A JP 28771093A JP 28771093 A JP28771093 A JP 28771093A JP H06199871 A JPH06199871 A JP H06199871A
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ethyl ether
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Abstract

PURPOSE:To obtain a method for stably producing a high-purity triarylboron in high yield. CONSTITUTION:A boron halide at 0.1-8.0mol/L concentration is made to react with an arylmagnesium halide at 0.1-3.0mol/L concentration in an organic solvent. In the process, the arylmagnesium halide in an amount of 3.1-3.5mol based on 1mol boron halide is made to react therewith and an ethereal solvent is then removed from the reactional system to solidify a magnesium halide salt formed as a by-product. Thereby, the objective triarylboron taken in the magnesium salt is liberated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、トリアリールホウ素の
製造方法に関する。さらに詳しくはハロゲン化ホウ素と
ハロゲン化アリールマグネシウムのモル比を限定するこ
とにより高純度なトリアリールホウ素を安定的に高収率
で製造するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing triarylboron. More specifically, by limiting the molar ratio of boron halide to arylmagnesium halide, highly pure triarylboron is stably produced in high yield.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機マグネシウム反応剤と三フッ化ホウ
素エチルエーテル錯体のようなハロゲン化ホウ素を反応
させて、アルキル及びアリールホウ素化合物が得られる
ことは既に知られている。(例えば、Inorg. Synth., 1
5, 1947, P134)ところがハロゲン化アリールマグネシウ
ムとハロゲン化ホウ素のモル比が、3:1よりもほんの
僅かでもハロゲン化アリールマグネシウム過剰で反応さ
れたり、ハロゲン化アリールマグネシウムの滴下時間が
早い場合にはテトラアリールホウ酸イオンの生成が顕著
となりトリアリールホウ素の収率低下をもたらすと述べ
てあり、製造条件が厳しくなり製造工程の管理が困難と
なる。
It is already known that alkyl and aryl boron compounds can be obtained by reacting an organomagnesium reactant with a boron halide such as boron trifluoride ethyl ether complex. (For example, Inorg. Synth., 1
5, 1947, P134) However, when the arylmagnesium halide and the boron halide are reacted in excess of the arylmagnesium halide even if the molar ratio is slightly smaller than 3: 1, or when the dropping time of the arylmagnesium halide is short, It is stated that the production of tetraaryl borate ion becomes remarkable and the yield of triaryl boron is reduced, and the manufacturing conditions become strict and the management of the manufacturing process becomes difficult.

【0003】また、その他のトリアリールホウ素の製造
法としては、金属マグネシウムと三フッ化ホウ素エチル
エーテル錯体に臭化フェニルを添加しておいて、超音波
を利用する方法(例えば、J. Org. Chem., 51, 1986, P
427)や臭化フェニルマグネシウムとトリアルキルホウ酸
エステルからトリアリールホウ素を合成する方法(例え
ば、米国特許第3,651,146)、さらにフェニルリチウムと
三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体との反応による方法
(例えば、A., 563, 1949, P110)等がある。
Another method for producing triarylboron is to use ultrasonic waves after adding phenyl bromide to metal magnesium and boron trifluoride ethyl ether complex (for example, J. Org. Chem., 51, 1986, P
427) or a method for synthesizing triarylboron from phenylmagnesium bromide and a trialkylborate ester (for example, U.S. Pat.No. 3,651,146), and a method by reacting phenyllithium with boron trifluoride ethyl ether complex (for example, A ., 563, 1949, P110) etc.

【0004】しかしながら超音波の利用は工業的に好ま
しくなく、ホウ素源としてトリアルキルホウ酸エステル
の使用は収率が低いといった欠点があり、また、アリー
ルリチウムを用いる方法ではテトラアリールホウ酸イオ
ンが主生成するといった問題がある。以上、従来の方法
では、トリアリールホウ素の収率及び純度の低下や再現
性に乏しいといった問題があった。
However, the use of ultrasonic waves is industrially unfavorable, and the use of trialkyl borate ester as a boron source has a drawback that the yield is low, and in the method using aryl lithium, tetraaryl borate ion is mainly used. There is a problem of generation. As described above, the conventional methods have the problems that the yield and purity of triarylboron are lowered and the reproducibility is poor.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、ハロゲ
ン化ホウ素とハロゲン化アリールマグネシウムの反応に
よりトリアリールホウ素の製造条件について種々検討し
た。そしてハロゲン化ホウ素とハロゲン化アリールマグ
ネシウムの使用量が文献記載の1:3のモル比で合成検
討を行った。その結果、文献(例えば、Inorg. Synth.,
15, 1947, P134)記載の合成法ではトリアリールホウ素
の収率、純度共に低く再現性も乏しいことが判った。本
発明の目的とする所は、かかる欠点を改良し、より高い
収率及び高い純度でトリアリールホウ素が得られる製造
法を提供する事である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have made various studies on the production conditions of triarylboron by the reaction of boron halide with arylmagnesium halide. Then, a synthetic study was carried out at a molar ratio of boron halide to arylmagnesium halide of 1: 3 described in the literature. As a result, the literature (eg, Inorg. Synth.,
15, 1947, P134), it was found that the yield and purity of triarylboron were low and reproducibility was poor. An object of the present invention is to improve such drawbacks and to provide a production method capable of obtaining a triarylboron in a higher yield and a higher purity.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を続けた結果、ハロゲン化ホウ素とハロゲン化アリール
マグネシウムを、ハロゲン化ホウ素1モルに対しハロゲ
ン化アリールマグネシウムを 3.1から 3.5モルの間で反
応を行い、更にエーテル系溶媒を反応系から除去するこ
とによって副生するハロゲン化マグネシウム塩を固化さ
せマグネシウム塩中に取り込まれているトリアリールホ
ウ素を遊離させることにより安定的に高収率でトリアリ
ールホウ素が得られることを見いだし本発明を完成する
に至った。
Means for Solving the Problems As a result of continuous studies, the present inventors have found that boron halide and arylmagnesium halide are present in an amount of 3.1 to 3.5 moles of arylmagnesium halide per mole of boron halide. By further removing the ether solvent from the reaction system by solidifying the magnesium halide salt produced as a by-product and liberating the triarylboron incorporated in the magnesium salt, a stable and high yield can be obtained. The inventors have found that triarylboron can be obtained and completed the present invention.

【0007】即ち、本発明は、有機溶媒中において 0.1
〜8.0mol/Lのハロゲン化ホウ素と0.1 〜3.0mol/Lのハロ
ゲン化アリールマグネシウムを反応させる際に、ハロゲ
ン化ホウ素1モルに対してハロゲン化アリールマグネシ
ウムを 3.1モルから 3.5モル反応させ、その後エーテル
系溶媒を反応系から除去することによって副生するハロ
ゲン化マグネシウム塩を固化させマグネシウム塩中に取
り込まれているトリアリールホウ素を遊離させることを
特徴とするトリアリールホウ素の製造方法に関する。
[0007] That is, the present invention is 0.1% in an organic solvent.
When reacting 〜8.0mol / L boron halide with 0.1〜3.0mol / L arylmagnesium halide, 3.1mol to 3.5mol of arylmagnesium halide is reacted with 1mol of boron halide, then ether. The present invention relates to a method for producing triarylboron, which comprises removing a system solvent from a reaction system to solidify a magnesium halide salt produced as a by-product and liberate triarylboron incorporated in the magnesium salt.

【0008】[0008]

【作用】以下に本発明を詳細に説明する。トリアリール
ホウ素とは、一般式(I)で表されるホウ素化合物であ
る。 R3 B (I) ここで、Rは同一又は異なるものであり、アリール基又
は置換アリール基、例えばフェニル、フルオロフェニ
ル、クロルフェニル、ブロムフェニル、メトキシフェニ
ル、トリル、キシリル、メシチル、ビフェニル、ナフチ
ル、ピリジル、トリフルオロフェニル、ペンタフルオロ
フェニル基、トリス(トリフルオロメチル)フェニル基
等のようなものが挙げられる。
The present invention will be described in detail below. Triarylboron is a boron compound represented by the general formula (I). R 3 B (I) wherein R is the same or different and is an aryl group or a substituted aryl group, for example, phenyl, fluorophenyl, chlorophenyl, bromphenyl, methoxyphenyl, tolyl, xylyl, mesityl, biphenyl, naphthyl, Examples include pyridyl, trifluorophenyl, pentafluorophenyl group, tris (trifluoromethyl) phenyl group and the like.

【0009】上に挙げたトリアリールホウ素の中で、特
に有用な化合物としては、トリフェニルホウ素及びトリ
ス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素が選ばれる。トリ
フェニルホウ素は、オレフィン化合物のヒドロホウ素化
反応の促進剤として有用である(例えば、J. Am. Chem.
Soc., 1986, 108. 7410及びJ. Am. Chem. Soc.,1991,
113, 8570)。また、トリス(ペンタフルオロフェニル)
ホウ素は重合用助触媒として有用である(例えば、Macr
omol, Chem, Rapid Commun,. 1991, 2, p.p663〜667)。
Among the triaryl borons listed above, triphenyl boron and tris (pentafluorophenyl) boron are selected as particularly useful compounds. Triphenylboron is useful as a promoter for the hydroboration reaction of olefin compounds (for example, J. Am. Chem.
Soc., 1986, 108.7410 and J. Am. Chem. Soc., 1991,
113, 8570). Also, tris (pentafluorophenyl)
Boron is useful as a co-catalyst for polymerization (eg, Macr
Omol, Chem, Rapid Commun ,. 1991, 2, p. p663-667).

【0010】また、本発明において、ハロゲン化アリー
ルマグネシウムは、一般式(II)ArMgXで示される
化合物である。ここで、Arは先に述べたアリール基を
示し、Xはハロゲンを示す。また、ハロゲン化アリール
マグネシウムに用いられる溶媒は、鎖状エーテルが好ま
しい。特に好ましいのは留去が容易なエチルエーテルで
ある。
In the present invention, arylmagnesium halide is a compound represented by the general formula (II) ArMgX. Here, Ar represents the aryl group described above, and X represents halogen. Further, the solvent used for the arylmagnesium halide is preferably a chain ether. Particularly preferred is ethyl ether, which is easily distilled off.

【0011】本発明において、使用可能なハロゲン化ホ
ウ素としては、一般式(III) BX3で示されるものが含
まれている。ただし、ここでXはハロゲンである。さら
に、ハロゲン化ホウ素のエーテル、チオエーテル等の配
位化合物もこれに含まれる。三塩化ホウ素、三臭化ホウ
素、三ヨウ化ホウ素、三フッ化ホウ素は沸点が低いた
め、エチルエーテル錯体などの化合物がより扱い易く、
望ましい。
In the present invention, usable boron halides include those represented by the general formula (III) BX 3 . However, X is halogen here. Furthermore, coordination compounds such as ethers and thioethers of boron halides are also included in this. Since boron trichloride, boron tribromide, boron triiodide, and boron trifluoride have low boiling points, compounds such as ethyl ether complex are easier to handle,
desirable.

【0012】本発明の方法では、反応物に対して不活性
な有機溶媒として、炭化水素系溶媒あるいは炭化水素系
溶媒と鎖状エーテル系溶媒が好ましい。炭化水素系溶媒
は飽和炭化水素系溶媒芳香族系炭化水素、中でもキシレ
ン、トルエン、ベンゼンのような芳香族系溶媒が好まし
い結果を与える。
In the method of the present invention, a hydrocarbon solvent or a hydrocarbon solvent and a chain ether solvent are preferable as the organic solvent inert to the reaction product. As the hydrocarbon-based solvent, a saturated hydrocarbon-based solvent aromatic hydrocarbon, particularly an aromatic-based solvent such as xylene, toluene or benzene gives preferable results.

【0013】本発明では、ハロゲン化ホウ素の濃度が
0.1〜8.0mol/Lで、ハロゲン化アリールマグネシウムの
濃度が 0.1〜3.0mol/Lの時、反応混合物の濃度も生産性
を著しく落とさず、また、反応混合物の粘度もエーテル
系溶媒の留去を妨げるほど高くないため、特に好ましい
結果を与える。
In the present invention, the concentration of boron halide is
When the concentration of aryl magnesium magnesium is 0.1 to 8.0 mol / L and the concentration of aryl magnesium is 0.1 to 3.0 mol / L, the productivity of the concentration of the reaction mixture does not significantly decrease, and the viscosity of the reaction mixture does not distill the ether solvent. It is not so disturbing that it gives particularly favorable results.

【0014】本発明の反応では、ハロゲン化ホウ素がハ
ロゲン化アリールマグネシウムと反応する場合には、芳
香族系溶媒に溶解されたハロゲン化ホウ素中に、ハロゲ
ン化アリールマグネシウムのエーテル系溶媒溶液を滴下
する方法で反応させる。
In the reaction of the present invention, when the boron halide reacts with the arylmagnesium halide, a solution of the arylmagnesium ether in an ether solvent is added dropwise to the boron halide dissolved in the aromatic solvent. React by the method.

【0015】その場合、混合温度は15から65℃の範囲で
あることが望ましい。混合温度が15℃未満では、生成す
るトリアリールホウ素あるいは副生するマグネシウム塩
が結晶として析出し、攪拌を妨げる事がある。また、混
合温度が65℃を越えるようになると、収率が低下するこ
とが多い。また、ハロゲン化アリールマグネシウムの滴
下時間は、トリアリールホウ素の収率に影響しない。
In that case, the mixing temperature is preferably in the range of 15 to 65 ° C. If the mixing temperature is lower than 15 ° C, the produced triarylboron or the by-produced magnesium salt may be precipitated as crystals and hinder stirring. Further, when the mixing temperature exceeds 65 ° C., the yield often decreases. Further, the dropping time of arylmagnesium halide does not affect the yield of triarylboron.

【0016】最後に反応混合物中からエーテルを除去し
ながら反応を完結させるために 110℃以上に加熱する事
により、トリアリールホウ素の反応収率を向上させ更に
副生するマグネシウム塩を固化させることによりマグネ
シウム塩に取り込まれているトリアリールホウ素を遊離
させ回収率を向上させることができまた再現性も向上さ
せる事ができる。
Finally, by heating at 110 ° C. or higher to complete the reaction while removing ether from the reaction mixture, the reaction yield of triarylboron is improved and the magnesium salt by-produced is solidified. The triarylboron incorporated in the magnesium salt can be released to improve the recovery rate and also improve the reproducibility.

【0017】反応圧力は、常圧下でもオートクレープを
用いた加圧下でもかまわない。しかし、トリアリールホ
ウ素は、酸素や水分に敏感であることを考えると、それ
らの影響の除去という意味で、加圧下での反応は、より
好ましい。
The reaction pressure may be normal pressure or pressure using an autoclave. However, considering that triarylboron is sensitive to oxygen and moisture, the reaction under pressure is more preferable in the sense of eliminating these influences.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明によればハロゲン化アリールマグ
ネシウムとハロゲン化ホウ素の反応において、ハロゲン
化ホウ素に対してハロゲン化アリールマグネシウムを
3.1当量よりも少しだけ過剰に用いる事により、安定的
に高い純度、収率でトリアリールホウ素を得る事ができ
る。
According to the present invention, in the reaction of arylmagnesium halide and boron halide, arylmagnesium halide is added to boron halide.
Triarylboron can be stably obtained with high purity and yield by using a slight excess of 3.1 equivalent.

【0019】後述する比較例で示すように、ハロゲン化
アリールマグネシウムの使用がハロゲン化ホウ素に対し
て 3.1当量よりも少なかったり、また 3.5当量よりも過
剰すぎたりすれば生成するトリアリールホウ素の安定性
が悪くなり、収率、純度の低下をもたらす。これに対し
て、実施例では、安定的に高収率、高純度でトリアニー
ルホウ素が得られているのである。
The stability of the triarylboron formed when the amount of arylmagnesium halide used is less than 3.1 equivalents, or more than 3.5 equivalents, relative to the boron halide, as shown in the comparative examples described below. Deteriorates, resulting in a decrease in yield and purity. On the other hand, in the example, triannealed boron is stably obtained in high yield and high purity.

【0020】本発明において、少し過剰のハロゲン化ア
リールマグネシウムを使用する意義は、単にトリアリー
ルホウ素の収率を増加させるにとどまらず、安定性の増
加にも寄与するのである。この特徴は、工業化に際して
再現性のあるトリアリールホウ素製造を可能にするもの
であり、大きなメリットとなるものである。
In the present invention, the significance of using a slight excess of arylmagnesium halide not only increases the yield of triarylboron, but also contributes to the increase in stability. This feature makes it possible to reproducibly produce triarylboron upon industrialization, which is a great advantage.

【0021】[0021]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが、これは説明を具体的に行うための例であっ
て、本発明は以下の実施例によりなんらの制限を受ける
ものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which are examples for specifically explaining the present invention, and the present invention is not limited to the following examples. Absent.

【0022】以下の実施例1〜4、比較例1,2の収率
は、ブチルリチウムとの反応により安定な錯体としてか
ら、液体クロマトグラフィーを用いた内部標準法で求め
たものであり、ハロゲン化ホウ素に基づくものである。
また、実施例3と比較例3は、ブチルリチウムより生成
する錯体が吸湿性で不安定であるので、さらにテトラメ
チルアンモニウム塩またはN,N−ジメチルアニリニウ
ム塩の形に導き、乾燥重量より収率を求め、更にフッ素
核磁気共鳴スペクトルを用いて内部標準法で収率及び純
度を求めた。特に実施例3ではトリアリールホウ素自体
の収率及び純度をフッ素核磁気共鳴スペクトルを用いて
内部標準法で直接求められたのでその値も添記した。
The yields of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 below were obtained by an internal standard method using liquid chromatography after forming a stable complex by a reaction with butyl lithium. It is based on boron iodide.
In addition, in Example 3 and Comparative Example 3, since the complex formed from butyllithium is hygroscopic and unstable, it was further led to the form of tetramethylammonium salt or N, N-dimethylanilinium salt, and the dry weight yielded it. The rate was determined, and the yield and purity were determined by the internal standard method using the fluorine nuclear magnetic resonance spectrum. Particularly in Example 3, since the yield and purity of triarylboron itself were directly obtained by the internal standard method using the fluorine nuclear magnetic resonance spectrum, the values are also added.

【0023】実施例1 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素で十分に脱気したキシレン30mlと三フッ化ホウ素
エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)を装入した。
また、滴下ロートに35wt%の臭化フェニルマグネシウム
のエチルエーテル溶液 33.51g(0.0647モル)を装入し
た。攪拌した反応槽中に、臭化フェニルマグネシウムの
エチルエーテル溶液を滴下ロートより滴下する。その時
の反応温度は、18.6から29.9℃であった。滴下終了後、
反応槽を加熱し、エチルエーテルの除去を行った。
Example 1 A 200 ml glass flask is equipped with a 50 ml glass dropping funnel and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of xylene that had been sufficiently degassed with nitrogen and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex were charged into the flask.
Also, 33.51 g (0.0647 mol) of a 35 wt% phenylmagnesium bromide in ethyl ether solution was charged into the dropping funnel. A solution of phenylmagnesium bromide in ethyl ether is dropped from a dropping funnel into the stirred reaction tank. The reaction temperature at that time was 18.6 to 29.9 ° C. After the dropping is completed,
The reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0024】反応槽の温度が沸点になった後、その温度
で1時間・3時間・5時間熟成させ、それぞれサンプリ
ングを行い、グラスフィルターでフッ化臭化マグネシウ
ムを除去した後、薄黄色透明の液体にブチルリチウムを
投入し、安定な錯体として得られた化合物より収率を求
めたところ、それぞれ88.7%、87.7%、86.2%であっ
た。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point, it was aged at that temperature for 1 hour, 3 hours, 5 hours, sampled respectively, and magnesium fluoride bromide was removed by a glass filter. When butyllithium was added to the liquid and the yields were calculated from the compounds obtained as stable complexes, the yields were 88.7%, 87.7%, and 86.2%, respectively.

【0025】実施例2 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素で十分に脱気したトルエン30mlと三フッ化ホウ素
エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)を装入した。
また、滴下ロートに35wt%の臭化フェニルマグネシウム
のエチルエーテル溶液 33.51g(0.0647モル)を装入し
た。攪拌した反応槽中に、臭化フェニルマグネシウムの
エチルエーテル溶液を滴下ロートより滴下する。その時
の反応温度は、18.6から29.9℃であった。滴下終了後、
反応槽を加熱し、エチルエーテルの除去を行った。
Example 2 A 200 ml glass flask was equipped with a 50 ml glass dropping funnel and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of toluene that had been sufficiently degassed with nitrogen and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex were charged into the flask.
Also, 33.51 g (0.0647 mol) of a 35 wt% phenylmagnesium bromide in ethyl ether solution was charged into the dropping funnel. A solution of phenylmagnesium bromide in ethyl ether is dropped from a dropping funnel into the stirred reaction tank. The reaction temperature at that time was 18.6 to 29.9 ° C. After the dropping is completed,
The reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0026】反応槽の温度が沸点になった後、その温度
で1時間・3時間・5時間熟成させ、それぞれサンプリ
ングを行い、グラスフィルターでフッ化臭化マグネシウ
ムを除去した後、薄黄色透明の液体にブチルリチウムを
投入し、安定な錯体として得られた化合物より収率を求
めたところ、それぞれ91.0%、90.7%、90.7%であっ
た。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point, it was aged for 1 hour, 3 hours, and 5 hours at that temperature, sampled respectively, and magnesium fluoride bromide was removed with a glass filter. When butyllithium was added to the liquid and the yields were calculated from the compounds obtained as stable complexes, they were 91.0%, 90.7%, and 90.7%, respectively.

【0027】実施例3 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素で十分に脱気したトルエン30mlと三フッ化ホウ素
エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)を装入した。
また、滴下ロートに20wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのエチルエーテル溶液84.99 g(0.0627
モル)を装入した。攪拌した反応槽中に、臭化ペンタフ
ルオロフェニルマグネシウムのエチルエーテル溶液を滴
下ロートより滴下する。その時の反応温度は、26℃程度
で発熱はほとんどなかった。滴下終了後、反応槽を加熱
し、エチルエーテルの除去を行った。
Example 3 A 200 ml glass flask was equipped with a 50 ml glass dropping funnel and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of toluene that had been sufficiently degassed with nitrogen and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex were charged into the flask.
Moreover, 84.99 g (0.0627 g) of 20 wt% pentafluorophenyl magnesium bromide in ethyl ether was added to the dropping funnel.
Mol). A solution of pentafluorophenylmagnesium bromide in ethyl ether is dropped from a dropping funnel into the stirred reaction tank. At that time, the reaction temperature was about 26 ° C and almost no exotherm was generated. After completion of dropping, the reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0028】反応槽の温度がトルエンの沸点になった
後、その温度で1時間熟成を行い、それぞれサンプリン
グを行い、グラスフィルターでフッ化臭化マグネシウム
を除去した。溶媒を濃縮・乾固し、フッ素核磁気共鳴ス
ペクトルでペンタフルオロトルエンを内部標準物質に使
用して定量すると収率は92%だった。薄茶色の液体にブ
チルリチウムを投入し、次いで塩化トリメチルアンモニ
ウム水溶液を加えて得られた化合物の乾燥重量は、理論
値の85%であった。また、ブチルリチウムのかわりに臭
化ペンタフルオロベンゼンとブチルリチウムよりエチル
エーテル・ヘキサン混合溶媒中−70℃で調製したペンタ
フルオロフェニルリチウムと反応させた後、塩化N,N
−ジメチルアニリニウムの水溶液を加えて得られた化合
物の乾燥重量は理論値の85%でフッ素核磁気共鳴スペク
トルでペンタフルオロトルエンを内部標準物質に使用し
て定量すると収率は85%だった。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point of toluene, aging was carried out for 1 hour at that temperature, sampling was carried out for each, and magnesium fluorobromide was removed with a glass filter. The solvent was concentrated to dryness, and pentafluorotoluene was used as an internal standard substance in the fluorine nuclear magnetic resonance spectrum for quantification. The yield was 92%. The dry weight of the compound obtained by adding butyllithium to a light brown liquid and then adding an aqueous trimethylammonium chloride solution was 85% of the theoretical value. Also, instead of butyllithium, pentafluorobenzene bromide and butyllithium were reacted with pentafluorophenyllithium prepared at -70 ° C. in a mixed solvent of ethyl ether / hexane, and then N, N chloride
The dry weight of the compound obtained by adding an aqueous solution of dimethylanilinium was 85% of the theoretical value, and the yield was 85% when quantified using pentafluorotoluene as the internal standard substance in the fluorine nuclear magnetic resonance spectrum.

【0029】実施例4 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素で十分に脱気したトルエン30mlと三フッ化ホウ素
エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)を装入した。
また、滴下ロートに20wt%の臭化p−トリルマグネシウ
ムのエチルエーテル溶液 61.42g(0.0619モル)を装入
した。攪拌した反応槽中に、臭化p−トリルマグネシウ
ムのエチルエーテル溶液を滴下ロートより滴下する。そ
の時の反応温度は20〜30℃程度で発熱はほとんどなかっ
た。滴下終了後、反応槽を加熱し、エチルエーテルの除
去を行った。
Example 4 A 200 ml glass flask was equipped with a 50 ml glass dropping funnel and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of toluene that had been sufficiently degassed with nitrogen and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex were charged into the flask.
Further, 61.42 g (0.0619 mol) of a 20 wt% p-tolylmagnesium bromide solution in ethyl ether was charged into the dropping funnel. A solution of p-tolylmagnesium bromide in ethyl ether is added dropwise to the stirred reaction tank from a dropping funnel. At that time, the reaction temperature was about 20 to 30 ° C and almost no heat generation. After completion of dropping, the reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0030】反応槽の温度が沸点になった後、その温度
で3時間熟成させ、グラスフィルターでフッ化臭化マグ
ネシウムを除去した後、薄黄色透明の液体にブチルリチ
ウムを投入し、安定な錯体として得られた化合物より収
率を求めたところ89.6%であり液体クロマトグラフィー
で純度を測定したところ面積百分率で91.6%であった。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point, it was aged for 3 hours at that temperature, magnesium fluoride bromide was removed by a glass filter, and then butyllithium was added to a light yellow transparent liquid to obtain a stable complex. When the yield was determined from the compound obtained as above, the yield was 89.6%, and when the purity was measured by liquid chromatography, the area percentage was 91.6%.

【0031】比較例1 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素をバブリングし十分に脱気したトルエン30mlと三
フッ化ホウ素エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)
を装入した。また、滴下ロートに35wt%の臭化フェニル
マグネシウムのエチルエーテル溶液30.83 g(0.0597モ
ル)を装入した。攪拌した反応槽中に、臭化フェニルマ
グネシウムのエチルエーテル溶液を滴下ロートより滴下
する。滴下終了後、反応槽を加熱し、エチルエーテルの
除去を行った。
Comparative Example 1 A 200 ml glass flask was equipped with a 50 ml dropping funnel made of glass and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of toluene that had been thoroughly degassed by bubbling nitrogen through the flask and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex.
Charged. Also, 30.83 g (0.0597 mol) of a 35 wt% phenylmagnesium bromide in ethyl ether solution was charged into the dropping funnel. A solution of phenylmagnesium bromide in ethyl ether is dropped from a dropping funnel into the stirred reaction tank. After completion of dropping, the reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0032】反応槽の温度が溶媒沸点になった後、その
温度で1時間・3時間・5時間熟成させ、それぞれサン
プリングを行い、先に述べた方法で収率を求めたとこ
ろ、それぞれ90.0%、86.5%、83.8%と収率に減少傾向
が認められた。また、熟成時間の増加とともにフルオロ
ジフェニルボラン由来の副生物の増加も認められた。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point of the solvent, it was aged at that temperature for 1 hour, 3 hours, and 5 hours, respectively sampled, and the yield was determined by the above-mentioned method. , 86.5%, 83.8%, and a decreasing tendency was observed in the yield. In addition, an increase in by-products derived from fluorodiphenylborane was observed with the increase in aging time.

【0033】比較例2 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素をバブリングし十分に脱気したトルエン30mlと三
フッ化ホウ素エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)
を装入した。また、滴下ロートに35wt%の臭化フェニル
マグネシウムのエチルエーテル溶液38.23 g(0.0738モ
ル)を装入した。攪拌した反応槽中に、臭化フェニルマ
グネシウムのエチルエーテル溶液を滴下ロートより滴下
する。滴下終了後、反応槽を加熱し、エチルエーテルの
除去を行った。
Comparative Example 2 A 200 ml glass flask was equipped with a 50 ml glass dropping funnel and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of toluene that had been thoroughly degassed by bubbling nitrogen through the flask and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex.
Charged. Further, 38.23 g (0.0738 mol) of a 35 wt% phenylmagnesium bromide in ethyl ether solution was charged into the dropping funnel. A solution of phenylmagnesium bromide in ethyl ether is dropped from a dropping funnel into the stirred reaction tank. After completion of dropping, the reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0034】反応槽の温度が溶媒沸点になった後、その
温度で1時間・3時間・5時間熟成させ、それぞれサン
プリングを行い、先に述べた方法で収率を求めたとこ
ろ、それぞれ65.0%、64.5%、64.5%と収率は低かった
が、減少傾向はほとんど認められ無かった。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point of the solvent, it was aged at that temperature for 1 hour, 3 hours, 5 hours, sampled, and the yield was determined by the above-mentioned method. , 64.5%, 64.5%, the yield was low, but there was almost no tendency to decrease.

【0035】比較例3 200ml のガラス製フラスコに50mlのガラス製の滴下ロー
トを装着し、十分に窒素で置換する。そして、フラスコ
に窒素で十分に脱気したトルエン30mlと三フッ化ホウ素
エチルエーテル錯体2.78g(0.0196モル)を装入した。
また、滴下ロートに20wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのエチルエーテル溶液79.67 g(0.0588
モル)を装入した。攪拌した反応槽中に、臭化ペンタフ
ルオロフェニルマグネシウムのエチルエーテル溶液を滴
下ロートより滴下する。その時の反応温度は26℃程度で
発熱はほとんどなかった。滴下終了後、反応槽を加熱
し、エチルエーテルの除去を行った。
Comparative Example 3 A 200-ml glass flask was equipped with a 50-ml glass dropping funnel and sufficiently replaced with nitrogen. Then, 30 ml of toluene that had been sufficiently degassed with nitrogen and 2.78 g (0.0196 mol) of boron trifluoride ethyl ether complex were charged into the flask.
In addition, 79.67 g (0.0588) of a 20 wt% pentafluorophenyl magnesium bromide in ethyl ether solution was added to the dropping funnel.
Mol). A solution of pentafluorophenylmagnesium bromide in ethyl ether is dropped from a dropping funnel into the stirred reaction tank. At that time, the reaction temperature was about 26 ° C and almost no exotherm was generated. After completion of dropping, the reaction tank was heated to remove ethyl ether.

【0036】反応槽の温度がトルエンの沸点になった
後、その温度で1時間熟成を行い、それぞれサンプリン
グを行い、グラスフィルターでフッ化臭化マグネシウム
を除去した。薄茶色の液体にブチルリチウムを投入し、
次いで塩化トリメチルアンモニウム水溶液を加えて得ら
れた化合物の乾燥重量は、理論値の65%であった。
After the temperature of the reaction tank reached the boiling point of toluene, aging was carried out for 1 hour at that temperature, sampling was carried out for each, and magnesium fluorobromide was removed with a glass filter. Add butyllithium to the light brown liquid,
Then, the dry weight of the compound obtained by adding an aqueous trimethylammonium chloride solution was 65% of the theoretical value.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加地 栄一 山口県新南陽市宮の前1丁目1番地31号一 心寮 (72)発明者 石丸 研二 山口県新南陽市宮の前1丁目1番地31号一 心寮 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Eiichi Kaji 1-1-1, 31, Shinmae, Shinnanyo-shi, Yamaguchi Prefecture Shinshin Dormitory (72) Kenji Ishimaru 1-1-1, 31-1, Shinmae, Shinnanyo, Yamaguchi Prefecture Dormitory

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反応物に対して不活性な有機溶媒中にお
いて 0.1〜8.0mol/Lのハロゲン化ホウ素と 0.1〜3.0mol
/Lのハロゲン化アリールマグネシウムの鎖状エーテル系
溶媒溶液を反応させる際に、ハロゲン化ホウ素1モルに
対してハロゲン化アリールマグネシウムを 3.1モルから
3.5モル反応させ、その後鎖状エーテル系溶媒を反応系
内から留去することによって反応を充分進行させ更に副
生するハロゲン化マグネシウム塩を結晶化させることに
よって回収率を向上させることを特徴とする高純度のト
リアリールホウ素を高収率で製造する方法。
1. A 0.1 to 3.0 mol / l boron halide and 0.1 to 3.0 mol in an organic solvent inert to the reactants.
When reacting a chain ether solvent solution of / L arylmagnesium halide, from 3.1 mol of arylmagnesium halide to 1 mol of boron halide.
It is characterized by improving the recovery rate by reacting 3.5 mols and then distilling off the chain ether solvent from the reaction system to allow the reaction to proceed sufficiently and to further crystallize the by-produced magnesium halide salt. A method for producing high-purity triarylboron in high yield.
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