JPH1129578A - Production of boron-based compound - Google Patents

Production of boron-based compound

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JPH1129578A
JPH1129578A JP18230697A JP18230697A JPH1129578A JP H1129578 A JPH1129578 A JP H1129578A JP 18230697 A JP18230697 A JP 18230697A JP 18230697 A JP18230697 A JP 18230697A JP H1129578 A JPH1129578 A JP H1129578A
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JP
Japan
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group
optionally substituted
general formula
substituted
compound represented
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JP18230697A
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Japanese (ja)
Inventor
Norihide Arai
範英 新井
Morihiko Yamada
守彦 山田
Takeshi Kato
剛 加藤
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing, in a high yield, a high-purity boron-based compound useful for, e.g. a photo-polymerization initiator or the like by using a specific stock material, reaction solvent and reaction process. SOLUTION: This method comprises a series of steps, (1) reacting (A) a Li- or Mg-containing compound, a compound shown by the formula R1 -Y1 (R1 is an alkyl, alkenyl or the like; and Y1 is a halogen) and a borate ester compound shown by formula I (R3 to R5 are each an alkyl, alkenyl, aryl or the like) with each other in a solvent to produce a boronate compound shown by formula II, (2) reacting compound shown by formula II with a compound shown by formula III (R6 to R11 are each an alkyl, H or the like) to produce a boron- based compound shown by formula IV, (3) reacting the compound shown by formula IV, a compound shown by the formula R2 -Y1 (R2 is the same as R1 ) and the component A with each other in a solvent to produce a metallic salt of borate shown by formula V (M is Li or Mg; and (n) is 1 or 2), and (4) ion- exchanging reaction between the metallic salt of borate and an onium halide shown by the formula, Z<+> .X<-> (Z<+> is ammonium cation or the like; and X is a halogen) to produce the objective boron-based compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はホウ素系化合物の製
造方法に関し、さらに詳しくは光重合開始剤あるいは光
吸収性消色剤として有用なホウ素系化合物の製造方法に
関する。
The present invention relates to a method for producing a boron-based compound, and more particularly to a method for producing a boron-based compound useful as a photopolymerization initiator or a light-absorbing decolorizer.

【0002】[0002]

【従来の技術】前記一般式(1)で表されるホウ素系化
合物の一つであるテトラメチルアンモニウムメチルトリ
フェニルボレイトの製造方法は、トリフェニルボランと
メチルリチウムから得られるリチウムメチルトリフェニ
ルボレイトをテトラメチルアンモニウムブロマイドでイ
オン交換して得る方法が一般に知られている[例えば、
J.of Amer.Chem.Soc.,107巻、
(1985年)6710〜6711頁]。
2. Description of the Related Art A method for producing tetramethylammonium methyltriphenylborate, which is one of the boron-based compounds represented by the general formula (1), is based on lithium methyltriphenylborate obtained from triphenylborane and methyllithium. A method for obtaining a late by ion exchange with tetramethylammonium bromide is generally known [for example,
J. of Amer. Chem. Soc. , 107 volumes,
(1985) 6710-6711].

【0003】また、トリフェニルボランの製造方法は、
金属マグネシウムとボロントリフルオライドジエチルエ
ーテレートとフェニルブロマイドをジエチルエーテル中
で反応させて得られる方法が一般に知られている[例え
ば、J. of Organic Chem.,51
巻、(1986年)427〜432頁]。
[0003] Further, a method for producing triphenylborane is as follows.
A method obtained by reacting magnesium metal, boron trifluoride diethyl etherate, and phenyl bromide in diethyl ether is generally known [for example, J. Am. of Organic Chem. , 51
Vol., (1986) 427-432].

【0004】具体的には、上記テトラメチルアンモニウ
ムメチルトリフェニルボレイトの場合、フェニルブロマ
イドをジエチルエーテル中で金属マグネシウムと反応さ
せ、グリニアール試薬を調製した後、これをボロントリ
フルオライドジエチルエーテレートをジエチルエーテル
に溶かした溶液に滴下させる。さらに数時間攪拌させる
ことにより、トリフェニルボランを得る。これを単離す
ることなくメチルリチウムを加え、リチウムメチルトリ
フェニルボレイトとし、これにテトラメチルアンモニウ
ムブロマイドを加え、イオン交換を行うことでテトラメ
チルアンモニウムメチルトリフェニルボレイトが得られ
る。
Specifically, in the case of the above-mentioned tetramethylammonium methyltriphenylborate, phenyl bromide is reacted with metallic magnesium in diethyl ether to prepare a Grignard reagent, which is then reacted with boron trifluoride diethyl etherate to give diethyl ether. Add dropwise to the solution in ether. Further stirring for several hours gives triphenylborane. Without isolation, methyllithium is added to obtain lithium methyltriphenylborate, tetramethylammonium bromide is added thereto, and ion exchange is performed to obtain tetramethylammonium methyltriphenylborate.

【0005】アルキルジアルキルボロネート(または、
アリールジアルキルボロネート)の製造法はトリアルキ
ルホウ酸とグリニアール試薬または有機リチウムをジエ
チルエーテル中で反応させる方法が一般に知られている
[例えば、Organometallics(1993
年)、1058〜1067頁]
[0005] Alkyl dialkyl boronates (or
As a method for producing an aryldialkylboronate, a method of reacting a trialkylboric acid with a Grignard reagent or organolithium in diethyl ether is generally known [for example, Organometallics (1993)].
Year), 1058-1067]

【0006】アルキルボリナン(または、アリールボリ
ナン)の製造方法は、ジヒドロキシアルキルボラン(ま
たは、ジヒドロキシアリールボラン)を原料として製造
する方法が一般に知られている[例えば、J. of
Chem. Soc.(A),(1970)、3339
〜3345頁]
As a method for producing alkylborinane (or arylborinane), a method for producing dihydroxyalkylborane (or dihydroxyarylborane) as a raw material is generally known [for example, J. Am. of
Chem. Soc. (A), (1970), 3339
333345]

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前述の従来の製造方法
による場合、副反応の問題から、グリニアール反応やト
リアリールボランまたはトリアルキルボラン反応の溶媒
は、ジエチルエーテルに限られている[例えば、J.
of Organic Chem.,51巻、(198
6年)、427〜432頁]。しかしながら、一般にグ
リニアール反応はジエチルエーテルよりもテトラヒドロ
フランのほうが起こりやすく[例えば、基礎有機化学
(向山光昭編、丸善)79頁]、ジエチルエーテル中で
グリニアール反応が起こりづらいハロゲン化物の場合
は、ホウ素系化合物の最終収率が低くなるといった問題
がある。
In the above-mentioned conventional production method, the solvent for the Grignard reaction, triarylborane or trialkylborane reaction is limited to diethyl ether due to the side reaction problem [for example, J. .
of Organic Chem. , 51, (198
6 years) 427-432]. However, in general, the Grignard reaction is more likely to occur in tetrahydrofuran than in diethyl ether [eg, Basic Organic Chemistry (Mitsuaki Mukaiyama, edited by Maruzen), p. 79]. There is a problem that the final yield is low.

【0008】本発明の目的は、このような従来の製造方
法における問題を解消し、光重合開始剤あるいは光吸収
性消色剤として有用な高純度のホウ素系化合物を高収率
で得ることが可能な製造方法を提供することである。
[0008] An object of the present invention is to solve such a problem in the conventional production method and to obtain a high-purity boron-based compound useful as a photopolymerization initiator or a light-absorbing decolorizer in a high yield. It is to provide a possible manufacturing method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等はかかる問題
について鋭意研究した結果、特定の出発物質、反応溶媒
および特定の反応工程を用いて行うことにより課題を解
決できることを見いだし、本発明を成すに到った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies on such problems, and as a result, have found that the problems can be solved by using a specific starting material, a reaction solvent and a specific reaction step. It came to accomplish.

【0010】すなわち、本発明の請求項1は、リチウム
またはマグネシウムを含む化合物と一般式(2)で表さ
れる化合物と一般式(3)で表されるホウ酸エステル化
合物を溶媒中で反応させることにより、一般式(4)で
表されるボロネート化合物を製造する第一工程と、一般
式(4)で表されるボロネート化合物と一般式(5)で
表される化合物を反応させる第二工程からなることを特
徴とする一般式(6)で表されるホウ素系化合物(以
下、ボリナン化合物と称すことがある)の製造方法であ
る。
That is, claim 1 of the present invention is to react a compound containing lithium or magnesium with a compound represented by the general formula (2) and a borate compound represented by the general formula (3) in a solvent. Thereby, the first step of producing the boronate compound represented by the general formula (4) and the second step of reacting the boronate compound represented by the general formula (4) with the compound represented by the general formula (5) And a method for producing a boron compound represented by the general formula (6) (hereinafter sometimes referred to as a borinane compound).

【0011】[0011]

【化15】 Embedded image

【0012】(式中R1 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。Y1 はハロゲン原子を表す。)
(Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. Y 1 represents a halogen atom. )

【0013】[0013]

【化16】 Embedded image

【0014】(式中R3 、R4 、およびR5 は同じであ
っても異なっていてもよく、それぞれ置換を有してもよ
いアルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換
を有しても良いアリール基、置換を有してもよいアラル
キル基、置換を有してもよい脂環基を表す。)
(Wherein R 3 , R 4 , and R 5 may be the same or different and each may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, Represents an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, and an alicyclic group which may be substituted.)

【0015】[0015]

【化17】 Embedded image

【0016】(式中R1 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。R4 、R5 は同じであっても異なっていても
よく、それぞれ置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有しても良いアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい脂環基を表す。)
(Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. R 4 and R 5 may be the same or different, and each may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, Represents an aralkyl group which may be possessed, or an alicyclic group which may be substituted. )

【0017】[0017]

【化18】 Embedded image

【0018】(式中R6 、R7 、R8 、R9 、R10、お
よびR11は同じであっても異なっていてもよく、置換を
有してもよいアルキル基、置換を有してもよいアルケニ
ル基、置換を有しても良いアリール基、置換を有しても
よいアラルキル基、置換を有してもよい脂環基、水素原
子を表す。)
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group, Represents an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted alicyclic group, and a hydrogen atom.

【0019】[0019]

【化19】 Embedded image

【0020】(式中R1 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR11
は同じであっても異なっていてもよく、置換を有しても
よいアルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置
換を有しても良いアリール基、置換を有してもよいアラ
ルキル基、置換を有してもよい脂環基、水素原子を表
す。)
(Wherein R 1 represents an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11
May be the same or different, and may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl Represents a group, an alicyclic group which may have a substituent, or a hydrogen atom. )

【0021】本発明の請求項2は、リチウムまたはマグ
ネシウムを含む化合物と一般式(2)で表される化合物
と一般式(3)で表されるホウ酸エステル化合物を溶媒
中で反応させることにより、一般式(4)で表されるボ
ロネート化合物を製造する第一工程と、一般式(4)で
表されるボロネート化合物と一般式(5)で表される化
合物を反応させて、一般式(6)で表されるホウ素系化
合物を製造する第二工程と、リチウムまたはマグネシウ
ムを含む化合物と一般式(7)で表される化合物と一般
式(6)で表されるホウ素系化合物を溶媒中で反応させ
ることにより、一般式(8)で表されるボレイト金属塩
を製造する第三工程と、一般式(8)で表されるボレイ
ト金属塩に一般式(9)で表されるオニウムハライドを
加えてイオン交換反応をさせる第四工程からなることを
特徴とする、一般式(1)で表されるホウ素系化合物の
製造方法である。
A second aspect of the present invention is to react a compound containing lithium or magnesium with a compound represented by the general formula (2) and a borate compound represented by the general formula (3) in a solvent. A first step of producing a boronate compound represented by the general formula (4), and reacting the boronate compound represented by the general formula (4) with the compound represented by the general formula (5) to form a compound represented by the general formula ( A second step of producing a boron-based compound represented by the formula (6), a compound containing lithium or magnesium, a compound represented by the formula (7) and a boron-based compound represented by the formula (6) in a solvent And a third step of producing a borate metal salt represented by the general formula (8) by reacting the onium halide represented by the general formula (9) with the borate metal salt represented by the general formula (8) Ion exchange Characterized by comprising the fourth step of the response, a method for producing a boron-based compound represented by the general formula (1).

【0022】[0022]

【化20】 Embedded image

【0023】(式中R1 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。Y1 はハロゲン原子を表す。)
(Wherein R 1 is an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. Y 1 represents a halogen atom. )

【0024】[0024]

【化21】 Embedded image

【0025】(式中R3 、R4 、およびR5 は同じであ
っても異なっていてもよく、それぞれ置換を有してもよ
いアルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換
を有しても良いアリール基、置換を有してもよいアラル
キル基、置換を有してもよい脂環基を表す。)
(Wherein R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and each may have an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, Represents an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, and an alicyclic group which may be substituted.)

【0026】[0026]

【化22】 Embedded image

【0027】(式中R1 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。R4 、R5 は同じであっても異なっていても
よく、それぞれ置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有しても良いアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい脂環基を表す。)
(Wherein R 1 is an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. R 4 and R 5 may be the same or different, and each may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, Represents an aralkyl group which may be possessed, or an alicyclic group which may be substituted. )

【0028】[0028]

【化23】 Embedded image

【0029】(式中R6 、R7 、R8 、R9 、R10、お
よびR11は同じであっても異なっていてもよく、置換を
有してもよいアルキル基、置換を有してもよいアルケニ
ル基、置換を有しても良いアリール基、置換を有しても
よいアラルキル基、置換を有してもよい脂環基、水素原
子を表す。)
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group, Represents an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted alicyclic group, and a hydrogen atom.

【0030】[0030]

【化24】 Embedded image

【0031】(式中R1 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR11
は同じであっても異なっていてもよく、置換を有しても
よいアルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置
換を有しても良いアリール基、置換を有してもよいアラ
ルキル基、置換を有してもよい脂環基、水素原子を表
す。)
(Wherein R 1 represents an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11
May be the same or different, and may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl Represents a group, an alicyclic group which may have a substituent, or a hydrogen atom. )

【0032】[0032]

【化25】 Embedded image

【0033】(式中R2 は、置換を有してもよいアルキ
ル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有して
もよいアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、
置換を有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環
基を表す。Y1 はハロゲン原子を表す。)
(Wherein R 2 represents an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted,
It represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group. Y 1 represents a halogen atom. )

【0034】[0034]

【化26】 Embedded image

【0035】(式中R1 とR2 は相異なったものであ
り、R1 、R2 はそれぞれ独立して、置換を有してもよ
いアルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換
を有してもよいアリール基、置換を有してもよいアラル
キル基、置換を有してもよい複素環基、置換を有しても
よい脂環基を表す。Mはリチウム原子またはマグネシウ
ム原子を表す。n=1,2。)
(Wherein R 1 and R 2 are different from each other, and R 1 and R 2 are each independently an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, M represents a lithium atom or magnesium, which represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted heterocyclic group, or an optionally substituted alicyclic group. Represents an atom, n = 1, 2.)

【0036】[0036]

【化27】 Embedded image

【0037】(式中Z+ は、アンモニウムカチオン、ス
ルホニウムカチオン、オキソスルホニウムカチオン、ホ
スホニウムカチオン、およびヨードニウムカチオンを表
す。Xはハロゲン原子を表す。)
(In the formula, Z + represents an ammonium cation, a sulfonium cation, an oxosulfonium cation, a phosphonium cation, or an iodonium cation. X represents a halogen atom.)

【0038】[0038]

【化28】 Embedded image

【0039】(式中R1 とR2 は相異なったものであ
り、R1 、R2 はそれぞれ独立して、置換を有してもよ
いアルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換
を有してもよいアリール基、置換を有してもよいアラル
キル基、置換を有してもよい複素環基、置換を有しても
よい脂環基を表す。Z+ はアンモニウムカチオン、スル
ホニウムカチオン、オキソスルホニウムカチオン、ホス
ホニウムカチオン、およびヨードニウムカチオンを表
す。)
(Wherein R 1 and R 2 are different from each other, and R 1 and R 2 are each independently an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, Z + represents an ammonium cation, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, a heterocyclic group which may be substituted, and an alicyclic group which may be substituted; (Representing a sulfonium cation, an oxosulfonium cation, a phosphonium cation, and an iodonium cation.)

【0040】本発明の請求項3は、請求項1あるいは請
求項2記載のホウ素系化合物の製造方法において、第一
工程がリチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般
式(2)で表される化合物を溶媒中で反応させ、これに
一般式(3)で表される化合物を加えて反応させるか、
一般式(3)で表される化合物に、リチウムまたはマグ
ネシウムを含む化合物と一般式(2)で表される化合物
を溶媒中で反応させたものを加えて反応させるか、ある
いは、リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般
式(2)で表される化合物を溶媒中で反応させたもの
と、一般式(3)で表される化合物を同時に加えて反応
させることにより、一般式(4)で表されるボロネート
化合物を製造することを特徴とする。
In a third aspect of the present invention, in the method for producing a boron compound according to the first or second aspect, the first step comprises the step of combining the compound containing lithium or magnesium with the compound represented by the general formula (2). The reaction is carried out in a solvent, and the compound represented by the general formula (3) is added thereto and reacted.
The compound represented by the general formula (3) is reacted with a compound containing lithium or magnesium and the compound represented by the general formula (2) reacted in a solvent, or lithium or magnesium is reacted. The compound represented by the general formula (4) is reacted with the compound containing the compound represented by the general formula (2) in a solvent and the compound represented by the general formula (3) at the same time to react. And producing a boronate compound.

【0041】本発明の請求項4は、請求項1あるいは請
求項2記載のホウ素系化合物の製造方法において、リチ
ウムまたはマグネシウムを含む化合物が、金属リチウム
または金属マグネシウムまたは有機リチウム化合物であ
ることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method for producing a boron compound according to the first or second aspect, the compound containing lithium or magnesium is metallic lithium, metallic magnesium, or an organic lithium compound. And

【0042】本発明の請求項5は、請求項2記載のホウ
素系化合物の製造方法において、第三工程に用いるリチ
ウムまたはマグネシウムを含む化合物が有機リチウム化
合物であることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method for producing a boron compound according to the second aspect, the compound containing lithium or magnesium used in the third step is an organic lithium compound.

【0043】本発明の請求項6は、請求項2記載のホウ
素系化合物の製造方法において、第三工程に用いる溶媒
がテトラヒドロフランであることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method for producing a boron compound according to the second aspect, the solvent used in the third step is tetrahydrofuran.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】本発明のホウ素系化合物の製造方
法で製造されるホウ素系化合物を示す前記一般式(1)
式中のR1 とR2 は相異なったものであり、R1 、R2
はそれぞれ独立して、置換を有してもよいアルキル基、
置換を有してもよいアルケニル基、置換を有してもよい
アリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を
有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表
す。Z+ はアンモニウムカチオン、スルホニウムカチオ
ン、オキソスルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオ
ン、およびヨードニウムカチオンを表す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The above-mentioned general formula (1) representing a boron compound produced by the method for producing a boron compound of the present invention.
R 1 and R 2 in the formula are different from each other, and R 1 and R 2
Are each independently an alkyl group which may have a substituent,
Optionally substituted alkenyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted heterocyclic group, optionally substituted alicyclic group Represents a group. Z + represents an ammonium cation, a sulfonium cation, an oxosulfonium cation, a phosphonium cation, and an iodonium cation.

【0045】R1 、R2 で置換を有してもよいアルキル
基とは、具体的には、炭素数1から10の置換あるいは
無置換の直鎖あるいは分岐アルキル基が好ましく、例え
ば、それぞれ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、3−メトキシプロピ
ル、4−クロロブチル、2−ジエチルアミノエチルなど
を挙げることができる。
The alkyl group which may be substituted at R 1 and R 2 is specifically preferably a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, pentyl,
Hexyl, heptyl, octyl, 3-methoxypropyl, 4-chlorobutyl, 2-diethylaminoethyl and the like can be mentioned.

【0046】R1 、R2 で置換を有してもよいアルケニ
ル基とは、具体的には、炭素数2から12の置換あるい
は無置換の直鎖あるいは分岐アルケニル基が好ましく、
例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテ
ニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、
ドデシニル基、プレニル基などを挙げることができる。
The alkenyl group which may be substituted at R 1 and R 2 is specifically a substituted or unsubstituted linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms.
For example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group,
Dodecinyl group, prenyl group and the like can be mentioned.

【0047】R1 、R2 で置換を有してもよいアリール
基とは、具体的には、置換あるいは無置換のアリール基
で、例えば、フェニル、トリル、キシル、4−エチルフ
ェニル、4−ブチルフェニル、4−tert−ブチルフ
ェニル、4−メトキシフェニル、4−ジエチルアミノフ
ェニル、2−メチルフェニル、2−メトキシフェニル、
1−ナフチル、2−ナフチル、6−メトキシ−2−ナフ
チル、4−メチル−ナフチルなどを挙げることができ
る。
The aryl group optionally substituted by R 1 and R 2 is specifically a substituted or unsubstituted aryl group, for example, phenyl, tolyl, xyl, 4-ethylphenyl, 4-ethylphenyl, Butylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-methoxyphenyl, 4-diethylaminophenyl, 2-methylphenyl, 2-methoxyphenyl,
Examples thereof include 1-naphthyl, 2-naphthyl, 6-methoxy-2-naphthyl, and 4-methyl-naphthyl.

【0048】R1 、R2 で置換を有してもよいアラルキ
ル基とは、具体的には、置換または無置換のアラルキル
基で、例えば、ベンジル基、フェネチル基、プロピオフ
ェニル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル
基、4−メトキシベンジル基などを挙げることができ
る。
The aralkyl group optionally substituted with R 1 and R 2 is specifically a substituted or unsubstituted aralkyl group, for example, a benzyl group, a phenethyl group, a propiophenyl group, a 1- Examples thereof include a naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, and a 4-methoxybenzyl group.

【0049】R1 、R2 で置換を有してもよい複素環基
とは、具体的には、置換または無置換の複素環基で、例
えば、ピリジル基、キノリル基、メチルピリジル基、イ
ンドリル基などを挙げることができる。
The heterocyclic group which may be substituted at R 1 and R 2 is specifically a substituted or unsubstituted heterocyclic group such as a pyridyl group, a quinolyl group, a methylpyridyl group, an indolyl group. And the like.

【0050】R1 、R2 で置換を有してもよい脂環基と
は、具体的には、置換または無置換の脂環基で、例え
ば、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、
シクロペンチル基、シクロヘプチル基などを挙げること
ができる。
The alicyclic group which may be substituted at R 1 and R 2 is specifically a substituted or unsubstituted alicyclic group, for example, a cyclohexyl group, a 4-methylcyclohexyl group,
Examples thereof include a cyclopentyl group and a cycloheptyl group.

【0051】Z+ でアンモニウムカチオンとは、具体的
には、例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テ
トラエチルアンモニウムカチオン、テトラプロピルアン
モニウムカチオン、テトラノルマルブチルアンモニウム
カチオン、テトラノルマルペンチルアンモニウムカチオ
ン、テトラノルマルオクチルアンモニウムカチオン、テ
トラベンジルアンモニウムカチオン、テトラフェニルア
ンモニウムカチオン、テトラシクロヘキシルアンモニウ
ムカチオン、テトラフェニルアンモニウムカチオン、ト
リフェニルフェナシルアンモニウムカチオン、トリフェ
ニル(4−アミノフェニル)アンモニウムカチオン、N
−メチルピリジニウムカチオン、N−ブチルピリジニウ
ムカチオンなどを挙げることができる。
Specific examples of the ammonium cation for Z + include, for example, tetramethylammonium cation, tetraethylammonium cation, tetrapropylammonium cation, tetranormalbutylammonium cation, tetranormalpentylammonium cation, tetranormaloctylammonium cation, Tetrabenzylammonium cation, tetraphenylammonium cation, tetracyclohexylammonium cation, tetraphenylammonium cation, triphenylphenacylammonium cation, triphenyl (4-aminophenyl) ammonium cation, N
-Methylpyridinium cation, N-butylpyridinium cation and the like.

【0052】Z+ でスルホニウムカチオンとは、具体的
には、例えば、ジメチル−tert−ブチルスルホニウ
ムカチオン、ジメチルベンジルスルホニウムカチオン、
ジメチル(4−クロロベンジル)スルホニウムカチオ
ン、ジブチル(4−ブロモベンジル)スルホニウムカチ
オン、ジメチル(4−シアノベンジル)スルホニウムカ
チオン、ジメチルフェナシルスルホニウムカチオン、ジ
ブチルエトキシスルホニウムカチオン、ジメチルフェノ
キシスルホニウムカチオン、メチル(ジメチルアミノ)
(4−トリル)スルホニウムカチオン、ジメチル(メチ
ルチオ)スルホニウムカチオン、ジメチル(フェニルチ
オ)スルホニウムカチオン、トリフェニルスルホニウム
カチオン、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウ
ムカチオンなどを挙げることができる。
Examples of the sulfonium cation for Z + include, for example, dimethyl-tert-butylsulfonium cation, dimethylbenzylsulfonium cation,
Dimethyl (4-chlorobenzyl) sulfonium cation, dibutyl (4-bromobenzyl) sulfonium cation, dimethyl (4-cyanobenzyl) sulfonium cation, dimethylphenacylsulfonium cation, dibutylethoxysulfonium cation, dimethylphenoxysulfonium cation, methyl (dimethylamino) )
Examples include (4-tolyl) sulfonium cation, dimethyl (methylthio) sulfonium cation, dimethyl (phenylthio) sulfonium cation, triphenylsulfonium cation, and 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium cation.

【0053】Z+ でオキソスルホニウムカチオンとは、
具体的には、例えば、ジメチル−tert−ブチルオキ
ソスルホニウムカチオン、ジメチルベンジルオキソスル
ホニウムカチオン、ジメチル(4−クロロベンジル)オ
キソスルホニウムカチオン、ジブチル(4−ブロモベン
ジル)オキソスルホニウムカチオン、ジメチル(4−シ
アノベンジル)オキソスルホニウムカチオン、ジメチル
フェナシルオキソスルホニウムカチオン、ジブチルエト
キシオキソスルホニウムカチオン、ジメチルフェノキシ
オキソスルホニウムカチオン、メチル(ジメチルアミ
ノ)(4−トリル)オキソスルホニウムカチオン、ジメ
チル(メチルチオ)オキソスルホニウムカチオン、ジメ
チル(フェニルチオ)オキソスルホニウムカチオン、ト
リフェニルオキソスルホニウムカチオン、4−メトキシ
フェニルジフェニルオキソスルホニウムカチオンなどを
挙げることができる。
The oxosulfonium cation at Z + is
Specifically, for example, dimethyl-tert-butyloxosulfonium cation, dimethylbenzyloxosulfonium cation, dimethyl (4-chlorobenzyl) oxosulfonium cation, dibutyl (4-bromobenzyl) oxosulfonium cation, dimethyl (4-cyanobenzyl) ) Oxosulfonium cation, dimethylphenacyloxosulfonium cation, dibutylethoxyoxosulfonium cation, dimethylphenoxyoxosulfonium cation, methyl (dimethylamino) (4-tolyl) oxosulfonium cation, dimethyl (methylthio) oxosulfonium cation, dimethyl (phenylthio) Oxosulfonium cation, triphenyloxosulfonium cation, 4-methoxyphenyldiphenyl , And the like Kiso sulfonium cation.

【0054】Z+ でホスホニウムカチオンとは、具体的
には、例えば、テトラメチルホスホニウムカチオン、テ
トラエチルホスホニウムカチオン、テトラプロピルホス
ホニウムカチオン、テトラノルマルブチルホスホニウム
カチオン、テトラノルマルペンチルホスホニウムカチオ
ン、テトラノルマルオクチルホスホニウムカチオン、テ
トラベンジルホスホニウムカチオン、テトラフェニルホ
スホニウムカチオン、テトラシクロヘキシルホスホニウ
ムカチオン、テトラフェニルホスホニウムカチオン、ト
リフェニルフェナシルホスホニウムカチオン、トリフェ
ニル(4−アミノフェニル)ホスホニウムカチオンなど
を挙げることができる。
Examples of the phosphonium cation for Z + include, for example, tetramethylphosphonium cation, tetraethylphosphonium cation, tetrapropylphosphonium cation, tetranormal butyl phosphonium cation, tetranormal pentyl phosphonium cation, tetranormal octyl phosphonium cation, Examples thereof include a tetrabenzylphosphonium cation, a tetraphenylphosphonium cation, a tetracyclohexylphosphonium cation, a tetraphenylphosphonium cation, a triphenylphenacylphosphonium cation, and a triphenyl (4-aminophenyl) phosphonium cation.

【0055】Z+ でヨードニウムカチオンとは、具体的
には、例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン、4−
ブトキシフェニル(4−メチルフェニル)ヨードニウム
カチオン、ビス(4−アミノフェニル)ヨードニウムカ
チオンなどを挙げることができる。
Specific examples of the iodonium cation for Z + include, for example, diphenyliodonium cation,
Butoxyphenyl (4-methylphenyl) iodonium cation, bis (4-aminophenyl) iodonium cation and the like can be mentioned.

【0056】前記一般式(1)で表されるホウ素系化合
物の例としては、具体的には、例えば、テトラメチルア
ンモニウムエチルトリブチルボレイト、テトラノルマル
ブチルアンモニウムフェネチルトリメチルボレイト、テ
トラエチルアンモニウムフェニルトリイソブチルボレイ
ト、テトラノルマルブチルアンモニウムフェネチルトリ
(4−メチルフェニル)ボレイト、テトラメチルアンモ
ニウムエチルトリフェニルボレイト、テトラノルマルブ
チルアンモニウムフェネチルトリ(4−メチルフェニ
ル)ボレイト、テトラエチルアンモニウムノルマルオク
チルトリ(4,5−ジエチルフェニル)ボレイト、テト
ラノルマルブチルアンモニウムノルマルペンチルトリ
(4−メトキシフェニル)ボレイト、テトラノルマルオ
クチルアンモニウムノルマルブチルトリ(1−ナフチ
ル)ボレイト、テトラノルマルブチルアンモニウムノル
マルブチルトリ(2−ナフチル)ボレイト、テトラノル
マルブチルアンモニウムノルマルブチルトリ(6−メト
キシ−2−ナフチル)ボレイト、テトラノルマルブチル
アンモニウムノルマルブチルトリ(4−メチル−ナフチ
ル)ボレイト、テトラノルマルエチルアンモニウムノル
マルオクチルトリ(4,5−ジエチルナフチル)ボレイ
ト、テトラノルマルブチルアンモニウムエチルトリアセ
ナフチルボレイト、N−メチルピリジニウムノルマルブ
チルトリフェニルボレイト、トリフェニルスルホニウム
ノルマルブチルトリ(1−ナフチル)ボレイト、トリフ
ェニルオキソスルホニウムノルマルブチルトリ(1−ナ
フチル)ボレイト、テトラノルマルブチルホスホニウム
ノルマルブチルトリフェニルボレイト、ジフェニルヨー
ドニウムノルマルブチルトリフェニルボレイトなどを挙
げることができる。
Specific examples of the boron compound represented by the general formula (1) include, for example, tetramethylammonium ethyltributylborate, tetranormalbutylammonium phenethyltrimethylborate, and tetraethylammoniumphenyltriisobutyl. Borate, tetranormal butyl ammonium phenethyl tri (4-methylphenyl) borate, tetramethyl ammonium ethyl triphenyl borate, tetra normal butyl ammonium phenethyl tri (4-methylphenyl) borate, tetraethyl ammonium normal octyl tri (4,5- (Diethylphenyl) borate, tetra-n-butylammonium-n-pentyltri (4-methoxyphenyl) borate, tetra-n-octyl-ammonium Malbutyl tri (1-naphthyl) borate, tetra-n-butyl ammonium normal butyl tri (2-naphthyl) borate, tetra-n-butyl ammonium normal butyl tri (6-methoxy-2-naphthyl) borate, tetra-n-butyl ammonium normal butyl tri (4- Methyl-naphthyl) borate, tetranormalethylammonium normal octyltri (4,5-diethylnaphthyl) borate, tetranormalbutylammoniumethyltriacenaphthylborate, N-methylpyridinium normalbutyltriphenylborate, triphenylsulfonium normalbutyl Tri (1-naphthyl) borate, triphenyloxosulfonium n-butyl tri (1-naphthyl) borate, tetra-n-butyl Suho iodonium n-butyl triphenyl borate, diphenyl iodonium n-butyl triphenyl borate and the like.

【0057】前記一般式(2)中のR1 は、前記一般式
(1)のR1 と同一である。Y1 はハロゲン原子を示
す。
R 1 in the general formula (2) is the same as R 1 in the general formula (1). Y 1 represents a halogen atom.

【0058】前記一般式(2)で表される化合物の例と
しては、具体的には、例えば、メチルブロマイド、エチ
ルクロライド、プロピルクロライド、イソプロピルクロ
ライド、ブチルクロライド、イソブチルブロマイド、ペ
ンチルブロマイド、ヘキシルブロマイド、オクチルクロ
ライド、3−プロピルメトキシブロマイド、ビニルブロ
マイド、プロペニルブロマイド、ブテニルブロマイド、
ペンテニルブロマイド、ヘキセニルブロマイド、ヘプテ
ニルブロマイド、オクテニルブロマイド、ブロモベンゼ
ン、ヨードベンゼン、ブロモトルエン、ブロモキシレ
ン、1−ブロモ−4−エチルベンゼン、1−ブロモ−4
−ブチルベンゼン、1−ブロモ−4−tertブチルベ
ンゼン、1−ブロモ−4−メトキシベンゼン、1−ブロ
モ−4−ジエチルアミノベンゼン、1−ブロモ−2−メ
チルベンゼン、1−ブロモ−2−メトキシベンゼン、1
−ブロモ−ナフタレン、1−ブロモ−4−メチルナフタ
レン、ベンジルクロライド、フェネチルブロマイド、1
−ブロモ−3−フェニルプロパン、1−(ブロモメチ
ル)ナフタレン、2−(ブロモメチル)ナフタレン、2
−ブロモ−6−メトキシナフタレン、4−メトキシベン
ジルクロライド、シクロヘキシルクロライド、1−クロ
ロ−4−メチルシクロヘキサンなどを挙げることができ
る。
Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include, for example, methyl bromide, ethyl chloride, propyl chloride, isopropyl chloride, butyl chloride, isobutyl bromide, pentyl bromide, hexyl bromide, Octyl chloride, 3-propylmethoxy bromide, vinyl bromide, propenyl bromide, butenyl bromide,
Pentenyl bromide, hexenyl bromide, heptenyl bromide, octenyl bromide, bromobenzene, iodobenzene, bromotoluene, bromoxylene, 1-bromo-4-ethylbenzene, 1-bromo-4
-Butylbenzene, 1-bromo-4-tertbutylbenzene, 1-bromo-4-methoxybenzene, 1-bromo-4-diethylaminobenzene, 1-bromo-2-methylbenzene, 1-bromo-2-methoxybenzene, 1
-Bromo-naphthalene, 1-bromo-4-methylnaphthalene, benzyl chloride, phenethyl bromide, 1
-Bromo-3-phenylpropane, 1- (bromomethyl) naphthalene, 2- (bromomethyl) naphthalene, 2
-Bromo-6-methoxynaphthalene, 4-methoxybenzyl chloride, cyclohexyl chloride, 1-chloro-4-methylcyclohexane and the like can be mentioned.

【0059】前記一般式(3)中のR3 、R4 およびR
5 は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ置換
を有してもよいアルキル基、置換を有してもよいアルケ
ニル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有し
てもよい脂環基を表す。
R 3 , R 4 and R in the general formula (3)
5 may be the same or different, and each may have an optionally substituted alkyl group, optionally substituted alkenyl group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted Represents a good alicyclic group.

【0060】R3 、R4 、およびR5 で置換を有しても
よいアルキル基とは、具体的には、炭素数1から10の
置換あるは無置換の直鎖あるいは分岐アルキル基が好ま
しく、例えば、それぞれメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、3−メトキシ
プロピル、4−クロロブチル、2−ジエチルアミノエチ
ルなどを挙げることができる。
The optionally substituted alkyl group at R 3 , R 4 and R 5 is preferably a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples thereof include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, 3-methoxypropyl, 4-chlorobutyl, and 2-diethylaminoethyl.

【0061】R3 、R4 、およびR5 で置換を有しても
よいアルケニル基とは、具体的には、炭素数2から12
の置換あるいは無置換の直鎖あるいは分岐アルケニル基
が好ましく、例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニ
ル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クテニル基、ドデシニル基、プレニル基などを挙げるこ
とができる。
The alkenyl group optionally substituted with R 3 , R 4 and R 5 is specifically defined as having 2 to 12 carbon atoms.
And a substituted or unsubstituted linear or branched alkenyl group is preferred, and examples thereof include a vinyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a dodecynyl group, and a prenyl group.

【0062】R3 、R4 、およびR5 で置換を有しても
よいアリール基とは、具体的には、置換あるいは無置換
のアリール基で、例えば、フェニル、トリル、キシル、
4−エチルフェニル、4−ブチルフェニル、4−ter
t−ブチルフェニル、4−メトキシフェニル、4−ジエ
チルアミノフェニル、2−メチルフェニル、2−メトキ
シフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、4−メチル
−ナフチルなどを挙げることができる。
The aryl group optionally substituted with R 3 , R 4 and R 5 is specifically a substituted or unsubstituted aryl group, for example, phenyl, tolyl, xyl,
4-ethylphenyl, 4-butylphenyl, 4-ter
Examples thereof include t-butylphenyl, 4-methoxyphenyl, 4-diethylaminophenyl, 2-methylphenyl, 2-methoxyphenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, and 4-methyl-naphthyl.

【0063】R3 、R4 、およびR5 で置換を有しても
よいアラルキル基とは、具体的には、置換または無置換
のアラルキル基で、例えば、ベンジル基、フェネチル
基、プロピオフェニル基、1−ナフチルメチル基、2−
ナフチルメチル基、p−メトキシベンジル基などを挙げ
ることができる。
The aralkyl group which may be substituted at R 3 , R 4 and R 5 is specifically a substituted or unsubstituted aralkyl group, for example, benzyl group, phenethyl group, propiophenyl Group, 1-naphthylmethyl group, 2-
Examples include a naphthylmethyl group and a p-methoxybenzyl group.

【0064】R3 、R4 、およびR5 で置換を有しても
よい脂環基とは、具体的には、置換または無置換の脂環
基で、例えば、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘ
キシル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基などを
挙げることができる。
The alicyclic group which may be substituted at R 3 , R 4 and R 5 is specifically a substituted or unsubstituted alicyclic group, for example, a cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl Group, cyclopentyl group, cycloheptyl group and the like.

【0065】前記一般式(3)で表される化合物の例と
しては、具体的には、例えば、トリメチルホウ酸、トリ
エチルホウ酸、トリノルマルプロピルホウ酸、トリイソ
プロピルホウ酸、トリノルマルブチルホウ酸、トリイソ
ブチルホウ酸、トリノルマルオクチルホウ酸、ブチルジ
エチルホウ酸、エチルジ(2−フェネチル)ホウ酸、ト
リフェニルホウ酸、ジエチル−4−メトキシフェニルホ
ウ酸、ジエチルシクロヘキシルホウ酸などを挙げること
ができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include, for example, trimethyl boric acid, triethyl boric acid, trinormal propyl boric acid, triisopropyl boric acid, and trinormal butyl boric acid. , Triisobutyl boric acid, trinormal octyl boric acid, butyl diethyl boric acid, ethyl di (2-phenethyl) boric acid, triphenyl boric acid, diethyl-4-methoxyphenyl boric acid, diethyl cyclohexyl boric acid, and the like. .

【0066】前記一般式(4)中のR1 は前記一般式
(1)のR1 と同一である。R4 、R5 は、それぞれ前
記一般式(3)のR4 、R5 と同一である。
R 1 in the general formula (4) is the same as R 1 in the general formula (1). R 4 and R 5 are respectively the same as R 4 and R 5 in the general formula (3).

【0067】前記一般式(4)で表されるボロネート化
合物の例としては、具体的には、例えば、ジメチルエチ
ルボロネート、ジエチルノルマルプロピルボロネート、
ジイソプロピルノルマルブチルボロネート、ジイソブチ
ルメチルボロネート、ジノルマルオクチルベンジルボロ
ネート、ジ(2−フェネチル)ノルマルブチルボロネー
ト、ジフェニルノルマルプロピルボロネート、ジイソプ
ロピルフェニルボロネート、ジエチル(4−メトキシフ
ェニル)ボロネート、ジシクロヘキシルノルマルオクチ
ルボロネートなどを挙げることができる。
Specific examples of the boronate compound represented by the general formula (4) include, for example, dimethylethyl boronate, diethyl normal propyl boronate,
Diisopropyl normal butyl boronate, diisobutyl methyl boronate, di normal octyl benzyl boronate, di (2-phenethyl) normal butyl boronate, diphenyl normal propyl boronate, diisopropyl phenyl boronate, diethyl (4-methoxyphenyl) boronate, dicyclohexyl Normal octyl boronate and the like can be mentioned.

【0068】前記一般式(5)中のR6 、R7 、R8
9 、R10、およびR11は同じであっても異なっていて
もよく、置換を有してもよいアルキル基、置換を有して
もよいアルケニル基、置換を有してもよいアリール基、
置換を有してもよいアラルキル基、置換を有してもよい
脂環基、水素原子を表す。
In the general formula (5), R 6 , R 7 , R 8 ,
R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, and an optionally substituted aryl group. ,
Represents an aralkyl group which may be substituted, an alicyclic group which may be substituted, and a hydrogen atom.

【0069】R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR
11で置換を有してもよいアルキル基とは、具体的には、
炭素数1から10の置換あるいは無置換の直鎖あるいは
分岐アルキル基が好ましく、例えば、それぞれメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、sec−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、3−メトキシプロピル、4−クロロブチル、
2−ジエチルアミノエチルなどを挙げることができる。
R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R
The alkyl group which may have a substituent at 11 , specifically,
A substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable.
Ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, pentyl, hexyl, heptyl,
Octyl, 3-methoxypropyl, 4-chlorobutyl,
2-diethylaminoethyl and the like can be mentioned.

【0070】R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR
11で置換を有してもよいアルケニル基とは、具体的に
は、炭素数2から12の置換あるいは無置換の直鎖ある
いは分岐アルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、
プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル
基、ヘプテニル基、オクテニル基、ドデシニル基、プレ
ニル基などを挙げることができる。
R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R
The alkenyl group optionally having a substituent at 11 is specifically preferably a substituted or unsubstituted linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, for example, a vinyl group,
Examples include a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a dodecynyl group, and a prenyl group.

【0071】R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR
11で置換を有してもよいアリール基とは、具体的には、
置換あるいは無置換のアリール基で、例えば、フェニ
ル、トリル、キシル、4−エチルフェニル、4−ブチル
フェニル、4−tert−ブチルフェニル、4−メトキ
シフェニル、4−ジエチルアミノフェニル、2−メチル
フェニル、2−メトキシフェニル、1−ナフチル、2−
ナフチル、4−メチル−ナフチルなどを挙げることがで
きる。
R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R
The aryl group which may have a substituent at 11 , specifically,
A substituted or unsubstituted aryl group such as phenyl, tolyl, xyl, 4-ethylphenyl, 4-butylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-methoxyphenyl, 4-diethylaminophenyl, 2-methylphenyl, -Methoxyphenyl, 1-naphthyl, 2-
Examples include naphthyl and 4-methyl-naphthyl.

【0072】R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR
11で置換を有してもよいアラルキル基とは、具体的に
は、置換または無置換のアラルキル基で、例えば、ベン
ジル基、フェネチル基、プロピオフェニル基、1−ナフ
チルメチル基、2−ナフチルメチル基、p−メトキシベ
ンジル基などを挙げることができる。
R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R
The aralkyl group optionally having a substituent at 11 is specifically a substituted or unsubstituted aralkyl group, for example, a benzyl group, a phenethyl group, a propiophenyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthyl Examples include a methyl group and a p-methoxybenzyl group.

【0073】R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR
11で置換を有してもよい脂環基とは、具体的には、置換
または無置換の脂環基で、例えば、シクロヘキシル基、
4−メチルシクロヘキシル基、シクロペンチル基、シク
ロヘプチル基などを挙げることができる。
R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R
The alicyclic group which may have a substituent at 11 is specifically a substituted or unsubstituted alicyclic group, for example, a cyclohexyl group,
Examples thereof include a 4-methylcyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a cycloheptyl group.

【0074】前記一般式(5)で表される化合物の例と
しては、具体的には、例えば、1,3−プロパンジオー
ル、1,3−ブタンジオール、1,3−ヘキサンジオー
ル、2,4−ペンタンジオール、3−メチル−1,3−
ブタンジオール、2−フェニル−1,3−プロパンジオ
ール、2−ベンジル−1,3−プロパンジオール、2−
シクロヘキシル−1,3−プロパンジオールなどを挙げ
ることができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (5) include, for example, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,3-hexanediol, 2,4 -Pentanediol, 3-methyl-1,3-
Butanediol, 2-phenyl-1,3-propanediol, 2-benzyl-1,3-propanediol, 2-
Cyclohexyl-1,3-propanediol and the like can be mentioned.

【0075】前記一般式(6)中のR1 は前記一般式
(1)のR1 と同一である。R6 、R7 、R8 、R9
10、R11は、それぞれ一般式(5)のR6 、R7 、R
8 、R9 、R10、R11と同一である。
R 1 in the general formula (6) is the same as R 1 in the general formula (1). R 6 , R 7 , R 8 , R 9 ,
R 10 and R 11 are respectively R 6 , R 7 and R in the general formula (5).
8 , R 9 , R 10 and R 11 are the same.

【0076】前記一般式(6)で表されるホウ素系化合
物の例としては、具体的には、例えば、2−メチル−
1,3,2−ジオキサボリナン、2−エチル−1,3,
2−ジオキサボリナン、2−ノルマルプロピル−1,
3,2−ジオキサボリナン、2−ノルマルブチル−1,
3,2−ジオキサボリナン、2−フェニル−1,3,2
−ジオキサボリナン、2−ナフチル−1,3,2−ジオ
キサボリナン、2−ノルマルブチル−4−メチル−1,
3,2−ジオキサボリナン、2−ノルマルブチル−5−
フェニル−1,3,2−ジオキサボリナン、2−ノルマ
ルブチル−4−メチル−1,3,2−ジオキサボリナ
ン、などを挙げることができる。
As an example of the boron compound represented by the general formula (6), specifically, for example, 2-methyl-
1,3,2-dioxaborinane, 2-ethyl-1,3,3
2-dioxaborinane, 2-normalpropyl-1,
3,2-dioxaborinane, 2-normalbutyl-1,
3,2-dioxaborinane, 2-phenyl-1,3,2
-Dioxaborinane, 2-naphthyl-1,3,2-dioxaborinane, 2-normalbutyl-4-methyl-1,
3,2-dioxaborinane, 2-normalbutyl-5-
Phenyl-1,3,2-dioxaborinane, 2-normalbutyl-4-methyl-1,3,2-dioxaborinane, and the like can be given.

【0077】前記一般式(7)中のR2 は前記一般式
(1)のR2 と同一である。Y1 はハロゲン原子を表
す。
R 2 in the general formula (7) is the same as R 2 in the general formula (1). Y 1 represents a halogen atom.

【0078】前記一般式(7)で表される化合物の例と
しては、具体的には、例えば、メチルブロマイド、エチ
ルクロライド、プロピルクロライド、イソプロピルクロ
ライド、ブチルクロライド、イソブチルブロマイド、ペ
ンチルブロマイド、ヘキシルブロマイド、オクチルクロ
ライド、3−プロピルメトキシブロマイド、ビニルブロ
マイド、プロペニルブロマイド、ブテニルブロマイド、
ペンテニルブロマイド、ヘキセニルブロマイド、ヘプテ
ニルブロマイド、オクテニルブロマイド、ブロモベンゼ
ン、ヨードベンゼン、ブロモトルエン、ブロモキシレ
ン、1−ブロモ−4−エチルベンゼン、1−ブロモ−4
−ブチルベンゼン、1−ブロモ−4−tertブチルベ
ンゼン、1−ブロモ−4−メトキシベンゼン、1−ブロ
モ−4−ジエチルアミノベンゼン、1−ブロモ−2−メ
チルベンゼン、1−ブロモ−2−メトキシベンゼン、1
−ブロモ−ナフタレン、1−ブロモ−4−メチルナフタ
レン、ベンジルクロライド、フェネチルブロマイド、1
−ブロモ−3−フェニルプロパン、1−(ブロモメチ
ル)ナフタレン、2−(ブロモメチル)ナフタレン、2
−ブロモ−6−メトキシナフタレン、4−メトキシベン
ジルクロライド、シクロヘキシルクロライド、1−クロ
ロ−4−メチルシクロヘキサンなどを挙げることができ
る。
Specific examples of the compound represented by the general formula (7) include, for example, methyl bromide, ethyl chloride, propyl chloride, isopropyl chloride, butyl chloride, isobutyl bromide, pentyl bromide, hexyl bromide, Octyl chloride, 3-propylmethoxy bromide, vinyl bromide, propenyl bromide, butenyl bromide,
Pentenyl bromide, hexenyl bromide, heptenyl bromide, octenyl bromide, bromobenzene, iodobenzene, bromotoluene, bromoxylene, 1-bromo-4-ethylbenzene, 1-bromo-4
-Butylbenzene, 1-bromo-4-tertbutylbenzene, 1-bromo-4-methoxybenzene, 1-bromo-4-diethylaminobenzene, 1-bromo-2-methylbenzene, 1-bromo-2-methoxybenzene, 1
-Bromo-naphthalene, 1-bromo-4-methylnaphthalene, benzyl chloride, phenethyl bromide, 1
-Bromo-3-phenylpropane, 1- (bromomethyl) naphthalene, 2- (bromomethyl) naphthalene, 2
-Bromo-6-methoxynaphthalene, 4-methoxybenzyl chloride, cyclohexyl chloride, 1-chloro-4-methylcyclohexane and the like can be mentioned.

【0079】前記一般式(8)中のR1 およびR2 は一
般式(1)のR1 およびR2 と同一である。Mはリチウ
ム原子またはマグネシウム原子を表す。
[0079] R 1 and R 2 in the general formula (8) is identical to R 1 and R 2 in the general formula (1). M represents a lithium atom or a magnesium atom.

【0080】前記一般式(8)で表されるボレイト金属
塩の例としては、具体的には、例えば、リチウムエチル
トリブチルボレイト、リチウムフェネチルトリメチルボ
レイト、リチウムフェニルトリイソブチルボレイト、リ
チウムフェネチルトリ(4−メチルフェニル)ボレイ
ト、リチウムエチルトリフェニルボレイト、マグネシウ
ムビス(フェネチルトリ(4−メチルフェニル)ボレイ
ト)、マグネシウムビス(ノルマルオクチルトリ(4,
5−ジエチルフェニル)ボレイト)、マグネシウムビス
(ノルマルペンチルトリ(4−メトキシフェニル)ボレ
イト)、リチウムノルマルブチルトリ(1−ナフチル)
ボレイト、マグネシウムビス(ノルマルブチルトリ(2
−ナフチル)ボレイト)、マグネシウムビス(ノルマル
ブチルトリ(4−メチルナフチル)ボレイト)、リチウ
ムノルマルオクチルトリ(4,5−ジエチルナフチル)
ボレイト、マグネシウムビス(エチルトリアセナフチル
ボレイト)などを挙げることができる。
Specific examples of the borate metal salt represented by the general formula (8) include, for example, lithium ethyl tributyl borate, lithium phenethyl trimethyl borate, lithium phenyl triisobutyl borate, and lithium phenethyl tributyl borate. (4-methylphenyl) borate, lithium ethyltriphenylborate, magnesium bis (phenethyltri (4-methylphenyl) borate), magnesium bis (normal octyltri (4,
5-diethylphenyl) borate), magnesium bis (normalpentyltri (4-methoxyphenyl) borate), lithium normalbutyltri (1-naphthyl)
Borate, magnesium bis (normal butyl tri (2
-Naphthyl) borate), magnesium bis (normal butyltri (4-methylnaphthyl) borate), lithium normal octyltri (4,5-diethylnaphthyl)
And borate, magnesium bis (ethyltriacenaphthyl borate) and the like.

【0081】前記一般式(9)中のZ+ は、それぞれ一
般式(1)のZ+ と同一である。Xはハロゲン原子を表
す。
Z + in the general formula (9) is the same as Z + in the general formula (1). X represents a halogen atom.

【0082】前記一般式(9)で表されるオニウムハラ
イドの例としては、具体的には、例えば、テトラメチル
アンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブ
ロマイド、テトラプロピルアンモニウムヨージド、テト
ラノルマルブチルアンモニウムブロマイド、テトラノル
マルペンチルアンモニウムクロライド、テトラノルマル
オクチルアンモニウムブロマイド、テトラベンジルアン
モニウムブロマイド、テトラフェニルアンモニウムブロ
マイド、テトラシクロヘキシルアンモニウムブロマイ
ド、N−メチルピリジニウムクロライド、N−ブチルピ
リジニウムブロマイド、ジメチル−tert−ブチルス
ルホニウムブロマイド、ジメチルベンジルスルホニウム
ブロマイド、ジメチル(4−クロロベンジル)スルホニ
ウムブロマイド、ジブチル(4−ブロモベンジル)スル
ホニウムクロライド、ジメチル(4−シアノベンジル)
スルホニウムブロマイド、ジメチルフェナシルスルホニ
ウムクロライド、ジブチルエトキシスルホニウムクロラ
イド、ジメチルフェノキシスルホニウムブロマイド、メ
チル(ジメチルアミノ)(4−トリル)スルホニウムブ
ロマイド、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムブロマ
イド、ジメチル(フェニルチオ)スルホニウムブロマイ
ド、トリフェニルスルホニウムクロライド、4−メトキ
シフェニルジフェニルスルホニウムブロマイド、ジメチ
ル−tert−ブチルオキソスルホニウムブロマイド、
ジメチルベンジルオキソスルホニウムブロマイド、ジメ
チル(4−クロロベンジル)オキソスルホニウムクロラ
イド、ジブチル(4−ブロモベンジル)オキソスルホニ
ウムクロライド、ジメチル(4−シアノベンジル)オキ
ソスルホニウムクロライド、ジメチルフェナシルオキソ
スルホニウムクロライド、ジブチルエトキシオキソスル
ホニウムブロマイド、ジメチルフェノキシオキソスルホ
ニウムクロライド、メチル(ジメチルアミノ)(4−ト
リル)オキソスルホニウムクロライド、ジメチル(メチ
ルチオ)オキソスルホニウムブロマイド、ジメチル(フ
ェニルチオ)オキソスルホニウムブロマイド、トリフェ
ニルオキソスルホニウムクロライド、4−メトキシフェ
ニルジフェニルオキソスルホニウムヨージド、テトラメ
チルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウ
ムクロライド、テトラプロピルホスホニウムクロライ
ド、テトラノルマルブチルホスホニウムブロマイド、テ
トラノルマルペンチルホスホニウムブロマイド、テトラ
ノルマルオクチルホスホニウムクロライド、テトラベン
ジルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニ
ウムヨージド、テトラシクロヘキシルホスホニウムブロ
マイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、トリ
フェニルフェナシルホスホニウムクロライド、トリフェ
ニル(4−アミノフェニル)ホスホニウムブロマイド、
ジフェニルヨードニウムクロライド、4−ブトキシフェ
ニル(4−メチルフェニル)ヨードニウムクロライド、
ビス(4−アミノフェニル)ヨードニウムクロライドな
どを挙げることができる。
Specific examples of the onium halide represented by the general formula (9) include, for example, tetramethylammonium bromide, tetraethylammonium bromide, tetrapropylammonium iodide, tetranormal butylammonium bromide, tetranormal Pentyl ammonium chloride, tetra normal octyl ammonium bromide, tetrabenzyl ammonium bromide, tetraphenyl ammonium bromide, tetracyclohexyl ammonium bromide, N-methyl pyridinium chloride, N-butyl pyridinium bromide, dimethyl-tert-butyl sulfonium bromide, dimethyl benzyl sulfonium bromide, Dimethyl (4-chlorobenzyl) sulfonium bromide, di Chill (4-bromobenzyl) sulfonium chloride, dimethyl (4-cyanobenzyl)
Sulfonium bromide, dimethylphenacylsulfonium chloride, dibutylethoxysulfonium chloride, dimethylphenoxysulfonium bromide, methyl (dimethylamino) (4-tolyl) sulfonium bromide, dimethyl (methylthio) sulfonium bromide, dimethyl (phenylthio) sulfonium bromide, triphenylsulfonium chloride , 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium bromide, dimethyl-tert-butyloxosulfonium bromide,
Dimethylbenzyloxosulfonium bromide, dimethyl (4-chlorobenzyl) oxosulfonium chloride, dibutyl (4-bromobenzyl) oxosulfonium chloride, dimethyl (4-cyanobenzyl) oxosulfonium chloride, dimethylphenacyloxosulfonium chloride, dibutylethoxyoxosulfonium chloride Bromide, dimethylphenoxyoxosulfonium chloride, methyl (dimethylamino) (4-tolyl) oxosulfonium chloride, dimethyl (methylthio) oxosulfonium bromide, dimethyl (phenylthio) oxosulfonium bromide, triphenyloxosulfonium chloride, 4-methoxyphenyldiphenyloxo Sulfonium iodide, tetramethylphosphonium Chloride, tetraethylphosphonium chloride, tetrapropylphosphonium chloride, tetranormalbutylbutylphosphonium bromide, tetranormalpentylphosphonium bromide, tetranormaloctylphosphonium chloride, tetrabenzylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium iodide, tetracyclohexylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, Triphenylphenacylphosphonium chloride, triphenyl (4-aminophenyl) phosphonium bromide,
Diphenyliodonium chloride, 4-butoxyphenyl (4-methylphenyl) iodonium chloride,
Bis (4-aminophenyl) iodonium chloride and the like can be mentioned.

【0083】本発明で使用するリチウムまたはマグネシ
ウムを含む化合物としては、具体的には、例えば、金属
リチウム、金属マグネシウム、メチルリチウム、エチル
リチウム、ノルマルブチルリチウムなどを挙げることが
できる。
As the compound containing lithium or magnesium used in the present invention, specifically, for example, metal lithium, metal magnesium, methyl lithium, ethyl lithium, normal butyl lithium and the like can be mentioned.

【0084】本発明で使用する溶媒としては、具体的に
は、例えば、ジエチルエーテル、ノルマルブチルエチル
エーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジノルマルブチルエーテル、1,2−ジメ
トキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ンなどのエーテル系溶媒や、ヘキサン、シクロヘキサン
などの炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族系溶媒が挙げられるが、これらの中でも、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ト
ルエンが好ましく使用できる。
As the solvent used in the present invention, specifically, for example, diethyl ether, normal butyl ethyl ether, dinormal propyl ether, diisopropyl ether, dinormal butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran, Ether solvents such as 4-dioxane, and hydrocarbon solvents such as hexane and cyclohexane, benzene, toluene, and aromatic solvents such as xylene, among these,
Diethyl ether, tetrahydrofuran, hexane and toluene can be preferably used.

【0085】本発明においては、前記一般式(6)で表
されるホウ素系化合物は次の第一工程および第二工程で
製造される。 (第一工程) リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般式
(2)で表される化合物を溶媒中で反応させ、これに一
般式(3)で表される化合物を加えて反応させるか、 一般式(3)で表される化合物に、リチウムまたはマ
グネシウムを含む化合物と一般式(2)で表される化合
物を溶媒中で反応させたものを加えて反応させるか、あ
るいは、 リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般式
(2)で表される化合物を溶媒中で反応させたものと、
一般式(3)で表される化合物を同時に加えて反応させ
ることにより、一般式(4)で表されるボロネート化合
物を製造し、 (第二工程)一般式(4)で表されるボロネート化合物
と一般式(5)で表される化合物を反応させて、一般式
(6)で表されるホウ素系化合物を製造する。
In the present invention, the boron compound represented by the general formula (6) is produced in the following first step and second step. (First step) A compound containing lithium or magnesium is reacted with a compound represented by the general formula (2) in a solvent, and a compound represented by the general formula (3) is added thereto and reacted. A compound obtained by reacting a compound containing lithium or magnesium with a compound represented by the general formula (2) in a solvent to the compound represented by (3), or reacting the compound; or a compound containing lithium or magnesium And a compound represented by the general formula (2) reacted in a solvent;
The boronate compound represented by the general formula (4) is produced by simultaneously adding and reacting the compound represented by the general formula (3), and (second step) the boronate compound represented by the general formula (4) And the compound represented by the general formula (5) to produce a boron-based compound represented by the general formula (6).

【0086】本発明においては、前記一般式(1)で表
されるホウ素系化合物は次の第一〜四工程で製造され
る。 (第一〜二工程)前記第一工程および第二工程に引き続
いて、 (第三工程) リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般式
(7)で表される化合物を溶媒中で反応させ、これに一
般式(6)で表されるホウ素系化合物を加えて反応させ
るか、 一般式(6)で表されるホウ素系化合物に、リチウム
またはマグネシウムを含む化合物と一般式(7)で表さ
れる化合物を溶媒中で反応させたものを加えて反応させ
るか、 リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般式
(7)で表される化合物を溶媒中で反応させたものと、
一般式(6)で表されるホウ素系化合物を同時に加えて
反応させるか、あるいは 一般式(6)で表されるホウ素系化合物存在下で、リ
チウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般式(7)
で表される化合物を溶媒中で反応させることにより、一
般式(8)で表されるボレイト金属塩を製造し (第四工程)この一般式(8)で表されるボレイト金属
塩に一般式(9)で表されるオニウムハライドを加えて
イオン交換反応させて一般式(1)で表されるホウ素系
化合物を製造する。
In the present invention, the boron compound represented by the general formula (1) is produced in the following first to fourth steps. (First and second steps) Subsequent to the first and second steps, (third step) A compound containing lithium or magnesium is reacted with a compound represented by the general formula (7) in a solvent. A boron-based compound represented by the general formula (6) is added and reacted, or a compound containing lithium or magnesium and a compound represented by the general formula (7) are added to the boron-based compound represented by the general formula (6). Is reacted in a solvent, or a compound containing lithium or magnesium is reacted with a compound represented by the general formula (7) in a solvent;
A boron-based compound represented by the general formula (6) is simultaneously added and reacted, or a compound containing lithium or magnesium and a compound containing the general formula (7) in the presence of the boron-based compound represented by the general formula (6)
Is reacted in a solvent to produce a borate metal salt represented by the general formula (8) (fourth step). The boron-based compound represented by the general formula (1) is produced by adding an onium halide represented by the formula (9) and conducting an ion exchange reaction.

【0087】具体的には、例えば、第一工程において、
リチウムまたはマグネシウムを含む化合物として金属マ
グネシウムを用い、前記一般式(2)で表される化合物
としてハロゲン化物を用いて、上記の、、のいず
れかの方法を用いて前記一般式(4)で表されるボロネ
ート化合物を製造できる。
Specifically, for example, in the first step,
Using metal magnesium as the compound containing lithium or magnesium, and using a halide as the compound represented by the general formula (2), the compound represented by the general formula (4) is obtained by using any one of the above methods. Can be produced.

【0088】また、第一工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として金属リチウムを用い
て、前記一般式(2)で表される化合物としてハロゲン
化物を用いて、上記の、、のいずれかの方法を用
いて前記一般式(4)で表されるボロネート化合物を製
造できる。
In the first step, any one of the above-mentioned methods may be used, using metal lithium as a compound containing lithium or magnesium, and using a halide as a compound represented by the general formula (2). Can be used to produce the boronate compound represented by the general formula (4).

【0089】また、第一工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として有機リチウム化合物を
用いて、前記一般式(2)で表される化合物としてハロ
ゲン化物を用いて、上記の、、のいずれかの方法
を用いて前記一般式(4)で表されるボロネート化合物
を製造できる。
In the first step, an organic lithium compound is used as a compound containing lithium or magnesium, and a halide is used as a compound represented by the general formula (2). The boronate compound represented by the general formula (4) can be produced by the method.

【0090】また、第三工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として金属マグネシムを用
い、前記一般式(7)で表される化合物としてハロゲン
化物を用いて、上記の、、、のいずれかの方法
を用いて前記ボレイト金属塩を製造できる。
In the third step, metal magnesium is used as the compound containing lithium or magnesium, and a halide is used as the compound represented by the general formula (7). Can be used to produce the above borate metal salt.

【0091】また、第三工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として金属リチウムを用い
て、前記一般式(VII)で表される化合物としてハロ
ゲン化物を用いて、上記の、、のいずれかの方法
を用いて前記ボレイト金属塩を製造できる。
In the third step, any one of the above-mentioned methods may be used, using metal lithium as the compound containing lithium or magnesium, and using a halide as the compound represented by the general formula (VII). Can be used to produce the above borate metal salt.

【0092】また、第三工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として有機リチウム化合物を
用いて、前記一般式(7)で表される化合物としてハロ
ゲン化物を用いて、上記の、、のいずれかの方法
を用いて前記ボレイト金属塩を製造できる。
Further, in the third step, an organic lithium compound is used as a compound containing lithium or magnesium, and a halide is used as a compound represented by the above general formula (7). The borate metal salt can be produced using a method.

【0093】本発明における第一工程は、具体的に、例
えば、以下のように進めることができる。第一工程にお
いて、リチウム化合物またはマグネシウム化合物として
金属マグネシウムを用いて前記一般式(4)で表される
ボロネート化合物を製造する反応の例を具体的に説明す
る。この場合上記、、の反応は、グリニアール試
薬を調製する反応である。
The first step in the present invention can be specifically carried out, for example, as follows. In the first step, an example of a reaction for producing a boronate compound represented by the general formula (4) using metal magnesium as a lithium compound or a magnesium compound will be specifically described. In this case, the above reaction is a reaction for preparing a Grignard reagent.

【0094】金属マグネシウムに一般式(2)で表され
るハロゲン化物のエーテル系溶液を少量加え、攪拌して
いくとやがて反応温度が上昇し、反応(グリニアール反
応)が開始する。反応が起こりづらい時は開始剤として
ヨウ素、ヨウ化メチルなどを加えてもよい。反応温度は
用いる溶媒の沸点付近であることが望ましく、この温度
を保つように一般式(2)で表されるハロゲン化物のエ
ーテル系溶液を加えていく。
When a small amount of an ether solution of a halide represented by the general formula (2) is added to metallic magnesium and the mixture is stirred, the reaction temperature eventually rises, and the reaction (a Grignard reaction) starts. When the reaction hardly occurs, iodine, methyl iodide and the like may be added as an initiator. The reaction temperature is preferably near the boiling point of the solvent used, and an ether-based solution of a halide represented by the general formula (2) is added so as to maintain this temperature.

【0095】例えば、テトラヒドロフラン中では67〜
72℃付近で反応させるようにハロゲン化物のテトラヒ
ドロフラン溶液を加えていくことが望ましい。一般式
(2)で表されるハロゲン化物のエーテル系溶液を加え
た後、さらに室温〜溶媒の沸点付近で、30分〜20時
間程度攪拌させ反応を完了させる。ここで調製された化
合物がグリニアール試薬である。
For example, in tetrahydrofuran,
It is desirable to add a halide solution in tetrahydrofuran so as to react at around 72 ° C. After adding the ether solution of the halide represented by the general formula (2), the mixture is further stirred at room temperature to around the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 20 hours to complete the reaction. The compound prepared here is the Grignard reagent.

【0096】上記の反応の場合は、このグリニアール
試薬に一般式(3)で表される化合物の溶液(好ましく
は、グリニアール反応の溶媒と同じ溶媒を用いた溶液)
を反応温度が−100℃〜溶媒の沸点付近となるように
加え、加えた後も−100℃〜溶媒の沸点付近で30分
〜2時間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a solution of the compound represented by the general formula (3) in the Grignard reagent (preferably a solution using the same solvent as the Grignard reaction solvent)
Is added so that the reaction temperature becomes about -100 ° C to around the boiling point of the solvent.

【0097】上記の反応の場合は、一般式(3)で表
される化合物の溶液(好ましくは、グリニアール反応の
溶媒と同じ溶媒を用いた溶液)にグリニアール試薬を反
応温度が−100℃〜溶媒の沸点付近となるように加
え、加えた後も−100℃〜溶媒の沸点付近で30分〜
2時間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a Grignard reagent is added to a solution of the compound represented by the general formula (3) (preferably a solution using the same solvent as the Grignard reaction solvent) at a reaction temperature of -100 ° C to a solvent. -100 ° C. after addition, and 30 minutes at around the boiling point of the solvent.
Let react for about 2 hours.

【0098】上記の反応の場合は、グリニアール試薬
と、一般式(3)で表される化合物の溶液(好ましく
は、グリニアール反応の溶媒と同じ溶媒を用いた溶液)
を反応温度が−100℃〜溶媒の沸点付近となるように
同時に加え、加えた後も−100℃〜溶媒の沸点付近で
30分〜2時間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a solution of the Grignard reagent and the compound represented by the general formula (3) (preferably, a solution using the same solvent as the Grignard reaction solvent)
Is added simultaneously so that the reaction temperature becomes about -100 ° C to around the boiling point of the solvent, and after the addition, the reaction is carried out at about -100 ° C to around the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours.

【0099】反応終了後の反応液を加熱して溶媒を留去
し、さらに加熱して、前記一般式(4)で表されるボロ
ネート化合物を蒸留する、あるいは、反応終了後の反応
液に適当な有機溶媒(好ましくは、酢酸エチルやジエチ
ルエーテル)を加え、必要ならば水および/または酸を
加えて有機相のみを分離し、必要ならば蒸留を行い精製
することで、第一工程が終了する。
After completion of the reaction, the reaction solution is heated to distill off the solvent, and further heated to distill the boronate compound represented by the general formula (4). The first step is completed by adding an organic solvent (preferably ethyl acetate or diethyl ether) and, if necessary, adding water and / or an acid to separate only the organic phase and, if necessary, purifying by distillation. I do.

【0100】第一工程において、リチウムまたはマグネ
シウムを含む化合物として金属リチウムを用いて前記一
般式(4)で表されるボロネート化合物を製造する反応
の例を具体的に説明する。
In the first step, an example of the reaction for producing the boronate compound represented by the general formula (4) using lithium metal as the compound containing lithium or magnesium will be specifically described.

【0101】前記のようにリチウムまたはマグネシウム
を含む化合物として金属リチウムを用い、そして、一般
式(2)で表されるハロゲン化物を用いて、上記、
、のいずれかの方法を用いて製造できるが、この場
合、溶媒はジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど
のエーテル系溶媒やヘキサン、シクロヘキサンなどの溶
媒を使用できる。この場合は一般に反応は不活性ガス
下、−100℃〜室温付近で行われる。
As described above, metal lithium is used as the compound containing lithium or magnesium, and the halide represented by the general formula (2) is used.
In this case, the solvent may be an ether-based solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran, or a solvent such as hexane or cyclohexane. In this case, the reaction is generally carried out at -100 ° C to around room temperature under an inert gas.

【0102】具体的には、金属リチウムに上記のような
溶媒を加え、これにハロゲン化物溶液を加える。反応温
度は用いるハロゲン化物、溶媒によって異なる。例えば
ジエチルエーテル中での金属リチウムとブロモベンゼン
との反応は、反応温度が−78〜−70℃となるように
ブロモベンゼンのジエチルエーテル溶液を加えていくこ
とが望ましい。ハロゲン化物の溶液を加えた後、さらに
−100℃〜室温付近で30分〜2時間程度攪拌させ有
機リチウム化合物を調製する。
Specifically, the above-mentioned solvent is added to lithium metal, and a halide solution is added thereto. The reaction temperature varies depending on the halide and solvent used. For example, in the reaction between lithium metal and bromobenzene in diethyl ether, it is desirable to add a diethyl ether solution of bromobenzene so that the reaction temperature becomes -78 to -70 ° C. After adding the halide solution, the mixture is further stirred at -100 ° C to around room temperature for about 30 minutes to 2 hours to prepare an organolithium compound.

【0103】そして、上記の反応の場合は、この有機
リチウム化合物に一般式(3)で表される化合物を上記
のような溶媒(好ましくはエーテル系溶媒)に溶かした
溶液を反応温度が−100℃〜室温付近となるように加
え、加えた後も−100℃〜室温付近で、30分〜2時
間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a solution obtained by dissolving the compound represented by the general formula (3) in the above-mentioned solvent (preferably an ether-based solvent) in this organolithium compound has a reaction temperature of -100. The reaction is carried out at -100 ° C to room temperature for about 30 minutes to 2 hours.

【0104】上記の反応の場合は、一般式(3)で表
される化合物を上記のような溶媒(好ましくはエーテル
系溶媒)に溶かした溶液に有機リチウム化合物を反応温
度が−100℃〜室温付近で30分〜2時間程度反応さ
せる。
In the case of the above reaction, an organic lithium compound is added to a solution obtained by dissolving the compound represented by the general formula (3) in the above-mentioned solvent (preferably an ether solvent) at a reaction temperature of -100 ° C. to room temperature. The reaction is carried out for about 30 minutes to 2 hours.

【0105】上記の反応の場合は、有機リチウム化合
物と、一般式(3)で表される化合物の溶液(好ましく
はエーテル系溶媒)を反応温度が−100℃〜溶媒の沸
点付近となるように同時に加え、加えた後も−100℃
〜溶媒の沸点付近で30分〜2時間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a solution of an organic lithium compound and a compound represented by the general formula (3) (preferably an ether solvent) is adjusted so that the reaction temperature is from -100 ° C. to around the boiling point of the solvent. Add at the same time.
The reaction is carried out at about the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours.

【0106】反応終了後の反応液を加熱して溶媒を留去
し、さらに加熱して、前記一般式(IV)で表されるボ
ロネート化合物を蒸留する、あるいは、反応終了後の反
応液に適当な有機溶媒(好ましくは、酢酸エチルやジエ
チルエーテル)を加え、必要ならば水および/または酸
を加えて有機相のみを分離し、必要ならば蒸留を行い精
製することで、第一工程が終了する。
After the reaction is completed, the reaction solution is heated to remove the solvent, and further heated to distill the boronate compound represented by the above general formula (IV). The first step is completed by adding an organic solvent (preferably ethyl acetate or diethyl ether) and, if necessary, adding water and / or an acid to separate only the organic phase and, if necessary, purifying by distillation. I do.

【0107】次に、第一工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として有機リチウム化合物を
用いて前記ボレイト金属塩を製造する反応の例を具体的
に説明する。
Next, an example of the reaction for producing the above-mentioned borate metal salt in the first step using an organic lithium compound as a compound containing lithium or magnesium will be specifically described.

【0108】上記のようにリチウムまたはマグネシウム
を含む化合物として有機リチウム化合物を用い、そして
一般式(2)で表される芳香族ハロゲン化物を用いて、
上記、、のいずれかの方法を用いても製造でき
る。
As described above, an organic lithium compound is used as a compound containing lithium or magnesium, and an aromatic halide represented by the general formula (2) is used.
It can also be manufactured using any of the above methods.

【0109】有機リチウム化合物のいくつかはヘキサン
溶液、シクロヘキサン溶液、ジエチルエーテル溶液など
の溶液状態で市販されており、容易に入手することがで
きる。この場合、反応の溶媒はジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなどのエーテル系溶媒やヘキサン、シク
ロヘキサンなどの溶媒を使用できる。
Some of the organic lithium compounds are commercially available in the form of a solution such as a hexane solution, a cyclohexane solution, and a diethyl ether solution, and can be easily obtained. In this case, a solvent for the reaction may be an ether solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran, or a solvent such as hexane or cyclohexane.

【0110】一般に反応は不活性ガス下、−100℃〜
室温付近で行われる。有機リチウム化合物溶液に、ハロ
ゲン化物の溶液を反応温度が−100℃〜室温付近とな
るように加え、有機リチウム化合物を調製する。反応温
度は、用いるハロゲン化物、溶媒によって異なる。例え
ばジエチルエーテル中でのノルマルブチルリチウムと1
−ブロモ2,5−ジメチルベンゼンとの反応は、−78
〜−10℃で反応させるように1−ブロモ2,5−ジメ
チルベンゼンのジエチルエーテル溶液を加えていくこと
が望ましい。ハロゲン化物の溶液を加えた後、さらに−
100℃〜室温付近で30分〜2時間程度攪拌させ有機
リチウム化合物を調製する。また、ハロゲン化物の溶液
に有機リチウム化合物を同様な条件で加えても有機リチ
ウム化合物を調製することができる。
In general, the reaction is carried out at -100 ° C. under an inert gas.
Performed at around room temperature. An organic lithium compound is prepared by adding a halide solution to the organic lithium compound solution so that the reaction temperature is in the range of −100 ° C. to room temperature. The reaction temperature varies depending on the halide and solvent used. For example, normal butyl lithium in diethyl ether and 1
The reaction with -bromo-2,5-dimethylbenzene gives -78
It is preferable to add a diethyl ether solution of 1-bromo 2,5-dimethylbenzene so that the reaction is carried out at -10C. After the addition of the halide solution,
Stir at about 100 ° C. to room temperature for about 30 minutes to 2 hours to prepare an organic lithium compound. Alternatively, the organolithium compound can be prepared by adding the organolithium compound to the halide solution under the same conditions.

【0111】そして、上記の反応の場合は、この有機
リチウム化合物に一般式(3)で表される化合物を上記
のような溶媒(好ましくは、エーテル系溶媒)に溶かし
た溶液を反応温度が−100℃〜室温付近となるように
加え、加えた後も−100℃〜室温付近で30分〜2時
間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a solution obtained by dissolving the compound represented by the general formula (3) in this organic lithium compound in the above-mentioned solvent (preferably an ether solvent) has a reaction temperature of-. The reaction mixture is added at about 100 ° C. to room temperature, and after the addition, the reaction is carried out at −100 ° C. to room temperature for about 30 minutes to 2 hours.

【0112】上記の反応の場合は、一般式(3)で表
される化合物を上記のような溶媒(好ましくは、エーテ
ル系溶媒)に溶かした溶液に有機リチウム化合物を反応
温度が−100℃〜室温付近となるように加え、加えた
後も−100℃〜室温付近で30分〜2時間程度反応さ
せる。
In the case of the above reaction, an organic lithium compound is added to a solution of the compound represented by the general formula (3) in a solvent as described above (preferably an ether solvent) at a reaction temperature of -100 ° C. After the addition, the reaction is carried out at -100 ° C to around room temperature for about 30 minutes to 2 hours.

【0113】上記の反応の場合は、有機リチウム化合
物と、一般式(3)で表される化合物の溶液(好ましく
はエーテル系溶媒)を反応温度が−100℃〜溶媒の沸
点付近となるように同時に加え、加えた後も−100℃
〜溶媒の沸点付近で30分〜2時間程度反応させる。
In the case of the above reaction, a solution (preferably an ether solvent) of the organolithium compound and the compound represented by the general formula (3) is adjusted so that the reaction temperature becomes -100 ° C. to around the boiling point of the solvent. Add at the same time.
The reaction is carried out at about the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours.

【0114】反応終了後の反応液を加熱して溶媒を留去
し、さらに加熱して、前記一般式(4)で表されるボロ
ネート化合物を蒸留する、あるいは、反応終了後の反応
液に適当な有機溶媒(好ましくは、酢酸エチルやジエチ
ルエーテル)を加え、必要ならば水および/または酸を
加えて有機相のみを分離し、必要ならば蒸留を行い精製
することで、第一工程が終了する。
After the reaction is completed, the reaction solution is heated to distill off the solvent, and further heated to distill the boronate compound represented by the general formula (4). The first step is completed by adding an organic solvent (preferably ethyl acetate or diethyl ether) and, if necessary, adding water and / or an acid to separate only the organic phase and, if necessary, purifying by distillation. I do.

【0115】本発明における第二工程は、具体的に、例
えば、以下のように進めることができる。第一工程で得
られたボロネート化合物、またはボロネート化合物溶液
に、前記一般式(5)で表される化合物と、必要ならば
適当な有機溶媒(好ましくは、ヘキサンやトルエン)を
加え、反応温度が室温〜溶媒の沸点付近で攪拌し、エス
テル交換反応を行う。この時、必要ならば、水および/
または酸を加えて反応を促進してもよい。エステル交換
反応は、水を留去しながら行ってもよい。エステル交換
反応終了後の反応液を蒸留し、前記一般式(6)で表さ
れるホウ素系化合物を得ることができる。
The second step in the present invention can be specifically carried out, for example, as follows. To the boronate compound or the boronate compound solution obtained in the first step, the compound represented by the general formula (5) and, if necessary, an appropriate organic solvent (preferably hexane or toluene) are added. The mixture is stirred at room temperature to around the boiling point of the solvent to carry out transesterification. At this time, if necessary, water and / or
Alternatively, an acid may be added to accelerate the reaction. The transesterification reaction may be performed while distilling off water. The reaction solution after the transesterification reaction is distilled to obtain the boron compound represented by the general formula (6).

【0116】本発明における第三工程は、第二工程に引
き続いて、具体的に、例えば、以下のように進めること
ができる。第三工程において、リチウム化合物またはマ
グネシウム化合物として金属マグネシウムを用いて前記
一般式(8)で表されるボレイト金属塩を製造する反応
の例を具体的に説明する。この場合前記、、、
の反応は、グリニアール試薬を調製する反応である。
The third step in the present invention can be carried out following the second step, specifically, for example, as follows. In the third step, an example of a reaction for producing a borate metal salt represented by the general formula (8) using metal magnesium as a lithium compound or a magnesium compound will be specifically described. In this case,
Is a reaction for preparing a Grignard reagent.

【0117】金属マグネシウムに一般式(7)で表され
るハロゲン化物のエーテル系溶液を少量加え、攪拌して
いくとやがて反応温度が上昇し、反応(グリニアール反
応)が開始する。反応が起こりづらい時は開始剤として
ヨウ素、ヨウ化メチルなどを加えてもよい。反応温度は
用いる溶媒の沸点付近であることが望ましく、この温度
を保つように一般式(7)で表されるハロゲン化物のエ
ーテル系溶液を加えていく。
When a small amount of an ether solution of a halide represented by the general formula (7) is added to magnesium metal, and the mixture is agitated, the reaction temperature rises soon and the reaction (a Grignard reaction) starts. When the reaction hardly occurs, iodine, methyl iodide and the like may be added as an initiator. The reaction temperature is preferably around the boiling point of the solvent used, and an ether solution of a halide represented by the general formula (7) is added so as to maintain this temperature.

【0118】例えば、テトラヒドロフラン中では67〜
72℃付近で反応させるようにハロゲン化物のテトラヒ
ドロフラン溶液を加えていくことが望ましい。ハロゲン
化物のエーテル系溶液を加えた後、さらに室温〜溶媒の
沸点付近で、30分〜20時間程度攪拌させ反応を完了
させる。ここで調製された化合物がグリニアール試薬で
ある。
For example, in tetrahydrofuran,
It is desirable to add a halide solution in tetrahydrofuran so as to react at around 72 ° C. After adding the ether solution of the halide, the reaction is further completed by stirring at room temperature to near the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 20 hours. The compound prepared here is the Grignard reagent.

【0119】上記の反応の場合は、このグリニアール
試薬に一般式(6)で表されるホウ素系化合物の溶液
(好ましくは、グリニアール反応の溶媒と同じ溶媒を用
いた溶液)を反応温度が室温〜溶媒の沸点付近となるよ
うに加え、加えた後も室温〜溶媒の沸点付近で30分〜
2時間程度反応させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, a solution of the boron compound represented by the general formula (6) (preferably a solution using the same solvent as the solvent for the Grignard reaction) is added to this Grignard reagent at a reaction temperature of room temperature to room temperature. The solvent is added so as to be in the vicinity of the boiling point of the solvent.
The reaction is completed for about 2 hours to complete the third step.

【0120】上記の反応の場合は、一般式(6)で表
されるホウ素系化合物の溶液(好ましくは、グリニアー
ル反応の溶媒と同じ溶媒を用いた溶液)にグリニアール
試薬を反応温度が室温〜溶媒の沸点付近となるように加
え、加えた後も室温〜溶媒の沸点付近で30分〜2時間
程度反応させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, a Grignard reagent is added to a solution of the boron compound represented by the general formula (6) (preferably a solution using the same solvent as the Grignard reaction solvent) at a reaction temperature of room temperature to the solvent. And the reaction is carried out at room temperature to near the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours after the addition to complete the third step.

【0121】上記の反応の場合は、グリニアール試薬
と、一般式(6)で表されるホウ素系化合物の溶液(好
ましくは、グリニアール反応の溶媒と同じ溶媒を用いた
溶液)を反応温度が−100℃〜溶媒の沸点付近となる
ように同時に加え、加えた後も−100℃〜溶媒の沸点
付近で30分〜2時間程度反応させることで第三工程が
終了する。
In the case of the above reaction, a Grignard reagent and a solution of the boron compound represented by the general formula (6) (preferably a solution using the same solvent as the Grignard reaction solvent) are reacted at a temperature of −100. C. to the boiling point of the solvent at the same time, and after the addition, the reaction is allowed to proceed at −100 ° C. to about the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours, thereby completing the third step.

【0122】上記の反応の場合は、例えば、金属マグ
ネシウムと一般式(6)で表されるホウ素系化合物に一
般式(7)で表されるハロゲン化物のエーテル系溶液を
少量加え、攪拌していくとやがて反応温度が上昇し、反
応が開始する。反応が起こりづらい時は開始剤としてヨ
ウ素、ヨウ化メチルなどを加えてもよい。反応温度は用
いる溶媒の沸点付近であることが望ましく、この温度を
保つように一般式(7)で表されるハロゲン化物のエー
テル系溶液を加えていく。例えば、テトラヒドロフラン
中では67〜72℃付近で反応させるようにハロゲン化
物のテトラヒドロフラン溶液を加えていくことが望まし
い。ハロゲン化物のエーテル系溶液を加えた後、さらに
室温〜溶媒の沸点付近で、30分〜20時間程度反応さ
せることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, for example, a small amount of an ether-based solution of a halide represented by the general formula (7) is added to metallic magnesium and a boron-based compound represented by the general formula (6), followed by stirring. Eventually, the reaction temperature rises and the reaction starts. When the reaction hardly occurs, iodine, methyl iodide and the like may be added as an initiator. The reaction temperature is preferably around the boiling point of the solvent used, and an ether solution of a halide represented by the general formula (7) is added so as to maintain this temperature. For example, it is desirable to add a halide solution of tetrahydrofuran so as to cause the reaction in tetrahydrofuran at around 67 to 72 ° C. After adding the ether solution of the halide, the third step is completed by further reacting the mixture at room temperature to near the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 20 hours.

【0123】第三工程において、リチウムまたはマグネ
シウムを含む化合物として金属リチウムを用いて前記ボ
レイト金属塩を製造する反応の例を具体的に説明する。
In the third step, an example of the reaction for producing the above borate metal salt by using lithium metal as a compound containing lithium or magnesium will be specifically described.

【0124】前記のようにリチウムまたはマグネシウム
を含む化合物として金属リチウムを用い、そして、一般
式(7)で表されるハロゲン化物を用いて、上記、
、のいずれかの方法を用いて製造できるが、この場
合、溶媒はジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど
のエーテル系溶媒やヘキサン、シクロヘキサンの溶媒を
使用できる。この場合は一般に反応は不活性ガス下、−
100℃〜室温付近で行われる。
As described above, using lithium metal as a compound containing lithium or magnesium, and using a halide represented by the general formula (7),
In this case, an ether solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran, or a solvent of hexane or cyclohexane can be used. In this case, the reaction is generally carried out under an inert gas,
It is performed at about 100 ° C. to about room temperature.

【0125】具体的には、金属リチウムに上記のような
溶媒を加え、これにハロゲン化物溶液を加える。反応温
度は用いるハロゲン化物、溶媒によって異なる。例えば
ジエチルエーテル中での金属リチウムとブロモベンゼン
との反応は、反応温度が−78〜−70℃となるように
ブロモベンゼンのジエチルエーテル溶液を加えていくこ
とが望ましい。ハロゲン化物の溶液を加えた後、さらに
−100℃〜室温付近で30分〜2時間程度攪拌させ有
機リチウム化合物を調製する。
More specifically, the above-mentioned solvent is added to lithium metal, and a halide solution is added thereto. The reaction temperature varies depending on the halide and solvent used. For example, in the reaction between lithium metal and bromobenzene in diethyl ether, it is desirable to add a diethyl ether solution of bromobenzene so that the reaction temperature becomes -78 to -70 ° C. After adding the halide solution, the mixture is further stirred at -100 ° C to around room temperature for about 30 minutes to 2 hours to prepare an organolithium compound.

【0126】そして、上記の反応の場合は、この有機
リチウム化合物に一般式(6)で表されるホウ素系化合
物を上記のような溶媒(好ましくはエーテル系溶媒)に
溶かした溶液を反応温度が−100℃〜室温付近となる
ように加え、加えた後も−100℃〜室温付近で、30
分〜2時間程度反応させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, a solution obtained by dissolving the boron-based compound represented by the general formula (6) in the above-mentioned solvent (preferably an ether-based solvent) in this organolithium compound has a reaction temperature. -100 ° C. to room temperature, and after the addition, at −100 ° C. to room temperature, 30
The third step is completed by allowing the reaction to proceed for about 1 minute to 2 hours.

【0127】上記の反応の場合は、一般式(6)で表
されるホウ素系化合物を上記のような溶媒(好ましくは
エーテル系溶媒)に溶かした溶液に有機リチウム化合物
を反応温度が−100℃〜室温付近で30分〜2時間程
度反応させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, an organic lithium compound is added to a solution of the boron compound represented by the general formula (6) in the above-mentioned solvent (preferably an ether solvent) at a reaction temperature of -100 ° C. The reaction is completed for about 30 minutes to 2 hours at about room temperature to complete the third step.

【0128】上記の反応の場合は、有機リチウム化合
物と、一般式(6)で表されるホウ素系化合物の溶液
(好ましくはエーテル系溶媒)を反応温度が−100℃
〜溶媒の沸点付近となるように同時に加え、加えた後も
−100℃〜溶媒の沸点付近で30分〜2時間程度反応
させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, a solution (preferably an ether solvent) of an organolithium compound and a boron compound represented by the general formula (6) is reacted at a temperature of -100 ° C.
To about the boiling point of the solvent at the same time. After the addition, the reaction is carried out at -100 ° C to about the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours, thereby completing the third step.

【0129】次に、第三工程において、リチウムまたは
マグネシウムを含む化合物として有機リチウム化合物を
用いて前記ボレイト金属塩を製造する反応の例を具体的
に説明する。上記のようにリチウムまたはマグネシウム
を含む化合物として有機リチウム化合物を用い、そして
一般式(7)で表される芳香族ハロゲン化物を用いて、
上記、、のいずれかの方法を用いても製造でき
る。
Next, an example of the reaction for producing the above-mentioned borate metal salt in the third step by using an organic lithium compound as the compound containing lithium or magnesium will be specifically described. Using an organolithium compound as the compound containing lithium or magnesium as described above, and using an aromatic halide represented by the general formula (7),
It can also be manufactured using any of the above methods.

【0130】有機リチウム化合物のいくつかはヘキサン
溶液、シクロヘキサン溶液、ジエチルエーテル溶液など
の溶液状態で市販されており、容易に入手することがで
きる。この場合、反応の溶媒はジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなどのエーテル系溶媒やヘキサン、シク
ロヘキサンなどの溶媒を使用できる。
Some of the organic lithium compounds are commercially available in the form of a solution such as a hexane solution, a cyclohexane solution, and a diethyl ether solution, and can be easily obtained. In this case, a solvent for the reaction may be an ether solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran, or a solvent such as hexane or cyclohexane.

【0131】一般に反応は不活性ガス下、−100℃〜
室温付近で行われる。有機リチウム化合物溶液に、ハロ
ゲン化物の溶液を反応温度が−100℃〜室温付近とな
るように加え、有機リチウム化合物を調製する。反応温
度は、用いるハロゲン化物、溶媒によって異なる。例え
ば、ジエチルエーテル中でのノルマルブチルリチウムと
1−ブロモ2,5−ジメチルベンゼンとの反応は、−7
8〜−10℃で反応させるように1−ブロモ2,5−ジ
メチルベンゼンのジエチルエーテル溶液を加えていくこ
とが望ましい。ハロゲン化物の溶液を加えた後、さらに
−100℃〜室温付近で30分〜2時間程度攪拌させ有
機リチウム化合物を調製する。また、ハロゲン化物の溶
液に有機リチウム化合物を同様な条件で加えても有機リ
チウム化合物を調製することができる。
In general, the reaction is carried out at -100 ° C. under an inert gas.
Performed at around room temperature. An organic lithium compound is prepared by adding a halide solution to the organic lithium compound solution so that the reaction temperature is in the range of −100 ° C. to room temperature. The reaction temperature varies depending on the halide and solvent used. For example, the reaction of normal butyl lithium and 1-bromo 2,5-dimethylbenzene in diethyl ether is -7
It is preferable to add a diethyl ether solution of 1-bromo 2,5-dimethylbenzene so that the reaction is carried out at 8 to -10 ° C. After adding the halide solution, the mixture is further stirred at -100 ° C to around room temperature for about 30 minutes to 2 hours to prepare an organolithium compound. Alternatively, the organolithium compound can be prepared by adding the organolithium compound to the halide solution under the same conditions.

【0132】そして、上記の反応の場合は、この有機
リチウム化合物に一般式(6)で表されるホウ素系化合
物を上記のような溶媒(好ましくは、エーテル系溶媒)
に溶かした溶液を反応温度が−100℃〜室温付近とな
るように加え、加えた後も−100℃〜室温付近で30
分〜2時間程度反応させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, the organolithium compound is combined with a boron compound represented by the general formula (6) as described above in a solvent (preferably an ether solvent).
Is added so that the reaction temperature becomes about -100 ° C. to room temperature.
The third step is completed by allowing the reaction to proceed for about 1 minute to 2 hours.

【0133】上記の反応の場合は、一般式(6)で表
されるホウ素系化合物を上記のような溶媒(好ましく
は、エーテル系溶媒)に溶かした溶液に有機リチウム化
合物を反応温度が−100℃〜室温付近となるように加
え、加えた後も−100℃〜室温付近で30分〜2時間
程度反応させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, an organic lithium compound is added to a solution of the boron compound represented by the general formula (6) in the above-mentioned solvent (preferably an ether solvent) at a reaction temperature of -100. The third step is completed by adding the mixture so that the temperature becomes about 0 ° C. to room temperature, and allowing the mixture to react at about −100 ° C. to about room temperature for about 30 minutes to 2 hours.

【0134】上記の反応の場合は、有機リチウム化合
物と、一般式(6)で表されるホウ素系化合物の溶液
(好ましくはエーテル系溶媒)を反応温度が−100℃
〜溶媒の沸点付近となるように同時に加え、加えた後も
−100℃〜溶媒の沸点付近で30分〜2時間程度反応
させることで第三工程が終了する。
In the case of the above reaction, a solution (preferably an ether solvent) of an organolithium compound and a boron compound represented by the general formula (6) is reacted at a temperature of -100 ° C.
To about the boiling point of the solvent at the same time. After the addition, the reaction is carried out at -100 ° C to about the boiling point of the solvent for about 30 minutes to 2 hours, thereby completing the third step.

【0135】本発明における第四工程は、具体的には、
例えば、以下のように進めることができる。第三工程終
了後の反応液に水と適当な有機溶媒(好ましくは、酢酸
エチルやジエチルエーテル)に分配させ、水相に一般式
(9)で表されるオニウムハライドを1.2〜5等量加
え、激しく攪拌し、ボレートの金属カチオン部をイオン
交換させる。さらに1〜2回水で洗浄し、有機相のみを
減圧留去する。残査にジエチルエーテル、ヘキサン、メ
タノール、などの溶媒を加え、析出物を濾取し、ジエチ
ルエーテルやヘキサンなどの溶媒でよく洗浄すること
で、一般式(1)で表されるホウ素系化合物を得ること
ができる。
The fourth step in the present invention is, specifically,
For example, it can proceed as follows. After the completion of the third step, the reaction solution is partitioned between water and an appropriate organic solvent (preferably, ethyl acetate or diethyl ether), and the onium halide represented by the general formula (9) is added to the aqueous phase in an amount of 1.2 to 5 or the like. Then, the mixture is vigorously stirred to ion-exchange the metal cation portion of the borate. After washing with water one or two more times, only the organic phase is distilled off under reduced pressure. A solvent such as diethyl ether, hexane, or methanol is added to the residue, and the precipitate is collected by filtration and washed well with a solvent such as diethyl ether or hexane to remove the boron compound represented by the general formula (1). Obtainable.

【0136】従来の製造方法によると、例えば一般式
(1)で表される化合物がテトラメチルアンモニウムメ
チル(4−メチルフェニル)ボレイトの場合、トリ(4
−メチルフェニル)ボランを製造する際に、副反応とし
てテトラ(4−メチルフェニル)ボレイトが副生し、純
度を下げる可能性があるが、本発明によると、この副反
応の可能性はなく、高純度のホウ素系化合物が得られ
る。
According to the conventional production method, for example, when the compound represented by the general formula (1) is tetramethylammonium methyl (4-methylphenyl) borate, tri (4
When producing (-methylphenyl) borane, tetra (4-methylphenyl) borate may be by-produced as a side reaction to lower the purity, but according to the present invention, there is no possibility of this side reaction, A high-purity boron compound can be obtained.

【0137】[0137]

【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り、本発明は
実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples unless departing from the gist of the present invention.

【0138】(実施例1)2−メチル−1,3,2−ジ
オキサボリナンの製造例を示す。 (第一工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)にヨウ素を10mgとジエチルエーテル10m
lを加え、これに窒素雰囲気下、メチルブロマイドの
2.0Mジエチルエーテル溶液を15.0ml(30.
0mmol)を反応温度が−20〜−10℃になるよう
に滴下し、さらに−10〜0℃で2時間攪拌させる。こ
れにトリエチルホウ酸4.38g(30.0mmol)
を−78〜−70℃で加え、さらに室温で2時間攪拌さ
せる。反応終了後、反応液にジエチルエーテルを200
ml加え、濃塩酸10mlを少しずつ加え、次いで水5
0mlを少しずつ加えていく。反応液を分液ロートに移
液し、水80mlで洗浄後、濃縮する。
Example 1 An example of the production of 2-methyl-1,3,2-dioxaborinane will be described. (First step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) with 10 mg of iodine and 10 m of diethyl ether
15.0 ml of a 2.0 M solution of methyl bromide in diethyl ether (30.
0 mmol) is added dropwise so that the reaction temperature becomes -20 to -10 ° C, and the mixture is further stirred at -10 to 0 ° C for 2 hours. To this, 4.38 g (30.0 mmol) of triethyl boric acid
At −78 to −70 ° C., and further stirred at room temperature for 2 hours. After the completion of the reaction, 200 ml of diethyl ether was added to the reaction solution.
10 ml of concentrated hydrochloric acid, little by little,
Add 0 ml little by little. The reaction solution is transferred to a separating funnel, washed with 80 ml of water and concentrated.

【0139】(第二工程)第一工程終了後の溶液に、ト
ルエン10mlと1,3−プロパンジオール2.28g
を加え、80℃で30分還流させる。この反応液を減圧
蒸留し、2−メチル1,3,2−ジオキサボリナンを
2.48g得た。
(Second Step) To the solution after the first step was added 10 ml of toluene and 2.28 g of 1,3-propanediol.
And refluxed at 80 ° C. for 30 minutes. This reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 2.48 g of 2-methyl-1,3,2-dioxaborinane.

【0140】(実施例2)2−ノルマルブチル−1,
3,2−ジオキサボリナンの製造例を示す。 (第一工程)トリエチルホウ酸4.38g(30.0m
mol)をテトラヒドロフラン20mlに溶かした溶液
に、ノルマルブチルリチウムの1.59Mヘキサン溶液
18.8ml(30.0mmol)を−78〜−70℃
で加え、さらに室温で2時間攪拌させる。反応終了後、
反応液にジエチルエーテルを200ml加え、濃塩酸1
0mlを少しずつ加え、次いで水50mlを少しずつ加
えていく。反応液を分液ロートに移液し、水80mlで
洗浄後、濃縮する。 (第二工程)第一工程終了後の溶液に、トルエン10m
lと1,3−プロパンジオール2.28gを加え、80
℃で30分還流させる。この反応液を減圧蒸留し、2−
ノルマルブチル−1,3,2−ジオキサボリナンを3.
65g得た。
Example 2 2-N-Butyl-1,
The production example of 3,2-dioxaborinane is shown. (First step) 4.38 g of triethyl boric acid (30.0 m
mol) was dissolved in 20 ml of tetrahydrofuran, and 18.8 ml (30.0 mmol) of a 1.59 M solution of normal butyl lithium in hexane was added at -78 to -70 ° C.
And further stirred at room temperature for 2 hours. After the reaction,
200 ml of diethyl ether was added to the reaction solution, and concentrated hydrochloric acid 1 was added.
0 ml is added little by little, then 50 ml of water is added little by little. The reaction solution is transferred to a separating funnel, washed with 80 ml of water and concentrated. (Second step) To the solution after the first step, 10 m
l and 2.28 g of 1,3-propanediol were added.
Reflux at C for 30 minutes. The reaction solution was distilled under reduced pressure to give 2-
2. normal butyl-1,3,2-dioxaborinane;
65 g were obtained.

【0141】(実施例3)2−フェニル−1,3,2−
ジオキサボリナンの製造例を示す。 (第一工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)にヨウ素を10mgとテトラヒドロフラン10
mlを加え、これに窒素雰囲気下、フェニルブロマイド
4.71g(30.0mmol)をテトラヒドロフラン
20mlに溶かした溶液を反応温度が68〜72℃にな
るように滴下し、さらに30〜50℃で2時間攪拌させ
て、グリニアール試薬を調製する。このグリニアール試
薬を、トリエチルホウ酸4.38g(30.0mmo
l)をテトラヒドロフラン20mlに溶かした溶液に−
78〜−70℃で加え、さらに室温で2時間攪拌させ
る。反応終了後、反応液にジエチルエーテルを200m
l加え、濃塩酸10mlを少しずつ加え、次いで水50
mlを少しずつ加えていく。反応液を分液ロートに移液
し、水80mlで洗浄後、濃縮する。 (第二工程)第一工程終了後の溶液に、トルエン10m
lと1,3−プロパンジオール2.28gを加え、80
℃で30分還流させる。この反応液を減圧蒸留し、2−
フェニル−1,3,2−ジオキサボリナンを3.94g
得た。
Example 3 2-Phenyl-1,3,2-
The production example of dioxaborinane is shown. (First step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) and 10 mg of iodine and 10
Then, a solution of 4.71 g (30.0 mmol) of phenyl bromide in 20 ml of tetrahydrofuran was added dropwise thereto under a nitrogen atmosphere so that the reaction temperature would be 68 to 72 ° C, and further at 30 to 50 ° C for 2 hours. Stir to prepare the Grignard reagent. This Grignard reagent was added to 4.38 g (30.0 mmol) of triethyl boric acid.
l) in a solution of 20 ml of tetrahydrofuran
It is added at 78 to -70 ° C, and further stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, diethyl ether was added to the reaction solution for 200 m.
10 ml of concentrated hydrochloric acid, and then add 50 ml of water.
Add ml little by little. The reaction solution is transferred to a separating funnel, washed with 80 ml of water and concentrated. (Second step) To the solution after the first step, 10 m
l and 2.28 g of 1,3-propanediol were added.
Reflux at C for 30 minutes. The reaction solution was distilled under reduced pressure to give 2-
3.94 g of phenyl-1,3,2-dioxaborinane
Obtained.

【0142】(実施例4)2−イソプロピル−1,3,
2−ジオキサボリナンの製造例を示す。 (第一工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)にヨウ素を10mgとジエチルエーテル10m
lを加え、これに窒素雰囲気下、イソプロピルブロマイ
ド3.69g(30.0mmol)をジエチルエーテル
20mlに溶かした溶液を反応温度が36〜40℃にな
るように滴下し、さらに30〜40℃で2時間攪拌させ
て、グリニアール試薬を調製する。このグリニアール試
薬に、トリエチルホウ酸4.38g(30.0mmo
l)をテトラヒドロフラン20mlに溶かした溶液を−
78〜−70℃で加え、さらに室温で2時間攪拌させ
る。反応終了後、反応液を加熱し、溶媒を留去すると無
色の固体が析出してくる。この固体をさらに減圧下で加
熱すると、無色の液体が留出してくる。 (第二工程)第一工程終了後の無色の液体に、トルエン
10mlと1,3−プロパンジオール2.28gと濃塩
酸0.1mlを加え、80℃で30分還流させる。この
反応液を減圧蒸留し、2−イソプロピル−1,3,2−
ジオキサボリナンを3.14g得た。
Example 4 2-isopropyl-1,3,3
The production example of 2-dioxaborinane is shown. (First step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) with 10 mg of iodine and 10 m of diethyl ether
Then, a solution of 3.69 g (30.0 mmol) of isopropyl bromide in 20 ml of diethyl ether was added dropwise thereto under a nitrogen atmosphere so that the reaction temperature would be 36 to 40 ° C. Stir for hours to prepare the Grignard reagent. 4.38 g (30.0 mmol) of triethyl boric acid was added to the Grignard reagent.
l) in 20 ml of tetrahydrofuran is
It is added at 78 to -70 ° C, and further stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is heated and the solvent is distilled off, whereby a colorless solid precipitates. When this solid is further heated under reduced pressure, a colorless liquid evaporates. (Second step) 10 ml of toluene, 2.28 g of 1,3-propanediol and 0.1 ml of concentrated hydrochloric acid are added to the colorless liquid after the first step, and the mixture is refluxed at 80 ° C for 30 minutes. The reaction solution was distilled under reduced pressure to give 2-isopropyl-1,3,2-
3.14 g of dioxaborinane was obtained.

【0143】(実施例5)テトラノルマルブチルアンモ
ニウムメチルトリ(4−メチルフェニル)ボレイトの製
造例を示す。 (第三工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)にヨウ素を10mgとテトラヒドロフラン10
mlを加え、これに窒素雰囲気下、4−ブロモトルエン
5.64g(33.0mmol)をテトラヒドロフラン
20mlに溶かした溶液を反応温度が67〜72℃にな
るように滴下し、さらに30〜50℃で2時間攪拌させ
る。これに実施例1で製造した2−メチル−1,3,2
−ジオキサボリナン1.00g(10.0mmol)を
同温度で加え、さらに30〜50℃で2時間攪拌させ
る。 (第四工程)反応液が室温にまで下がったら、ジエチル
エーテルを200ml加え、次いで水50mlを少しず
つ加えていく。反応液を分液ロートに移液し、水80m
l、0.2Mテトラノルマルブチルアンモニウムブロマ
イド水溶液60ml、水80mlの順で洗浄後、濃縮す
る。残査にジエチルエーテルを200ml加え、析出し
た固体を濾取し、白色固体の目的物5.00g(9.2
3mmol)を収率92%で得た。この白色固体のマス
スペクトルを測定したところ、アニオン部が299、カ
チオン部が242で理論値と一致していた。また元素分
析の測定により、目的物の構造を確認した。この結果を
表1に示した。
Example 5 An example of the production of tetra-n-butylammonium methyl tri (4-methylphenyl) borate will be described. (Third step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) and 10 mg of iodine and 10
Then, a solution of 5.64 g (33.0 mmol) of 4-bromotoluene dissolved in 20 ml of tetrahydrofuran was added dropwise thereto under a nitrogen atmosphere so that the reaction temperature became 67 to 72 ° C, and further at 30 to 50 ° C. Stir for 2 hours. The 2-methyl-1,3,2 produced in Example 1
-1.00 g (10.0 mmol) of dioxaborinane are added at the same temperature, and the mixture is further stirred at 30 to 50 ° C for 2 hours. (Fourth step) When the reaction solution has dropped to room temperature, 200 ml of diethyl ether is added, and then 50 ml of water is added little by little. The reaction solution was transferred to a separating funnel,
l, wash in the order of 60 ml of a 0.2 M aqueous solution of tetra-n-butylammonium bromide and 80 ml of water, and then concentrate. 200 ml of diethyl ether was added to the residue, and the precipitated solid was collected by filtration, and 5.00 g of the desired product as a white solid (9.2 g).
3 mmol) in 92% yield. When the mass spectrum of this white solid was measured, the anion part was 299 and the cation part was 242, which were in agreement with the theoretical values. The structure of the target product was confirmed by elemental analysis. The results are shown in Table 1.

【0144】(実施例6)テトラメチルアンモニウムノ
ルマルブチルトリノルマルオクチルボレイトの製造例を
示す。 (第三工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)に窒素雰囲気下、1−クロロオクタン4.91
g(33.0mmol)をジエチルエーテル20mlに
溶かした溶液を滴下し、グリニアール試薬を調製する。
このグリニアール試薬を、実施例2で製造した2−ノル
マルブチル−1,3,2−ジオキサボリナン1.42g
(10.0mmol)をテトラヒドロフラン10mlに
溶かした溶液に、反応温度が50℃を越えないように滴
下させる。さらに30〜50℃で2時間攪拌させること
により、反応を完結させる。 (第四工程)反応液が室温にまで下がったら、ジエチル
エーテルを200ml加え、次いで水50mlを少しず
つ加えていく。反応液を分液ロートに移液し、水80m
l、0.2Mテトラメチルアンモニウムブロマイド水溶
液60ml、水80mlの順で洗浄後、濃縮する。残査
にジエチルエーテルを200ml加え、析出した固体を
濾取し、白色固体の目的物4.39g(9.11mmo
l)を収率91%で得た。この白色固体のマススペクト
ルを測定したところ、アニオン部が407、カチオン部
が74で理論値と一致していた。また元素分析の測定に
より、目的物の構造を確認した。この結果を表1に示し
た。
Example 6 An example of the production of tetramethylammonium normal butyl trinormal octyl borate will be described. (Third step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) in a nitrogen atmosphere, 1-chlorooctane 4.91
g (33.0 mmol) in 20 ml of diethyl ether is added dropwise to prepare a Grignard reagent.
This Grignard reagent was treated with 1.42 g of 2-normalbutyl-1,3,2-dioxaborinane prepared in Example 2.
(10.0 mmol) is added dropwise to a solution of 10 ml of tetrahydrofuran so that the reaction temperature does not exceed 50 ° C. Further, the reaction is completed by stirring at 30 to 50 ° C. for 2 hours. (Fourth step) When the reaction solution has dropped to room temperature, 200 ml of diethyl ether is added, and then 50 ml of water is added little by little. The reaction solution was transferred to a separating funnel,
l, wash in the order of 0.2 M tetramethylammonium bromide aqueous solution 60 ml and water 80 ml, and concentrate. 200 ml of diethyl ether was added to the residue, and the precipitated solid was collected by filtration, and 4.39 g (9.11 mmol) of the target substance as a white solid was collected.
l) was obtained in 91% yield. When the mass spectrum of this white solid was measured, the anion part was 407 and the cation part was 74, which were in agreement with the theoretical values. The structure of the target product was confirmed by elemental analysis. The results are shown in Table 1.

【0145】(実施例7)テトラノルマルブチルアンモ
ニウムノルマルブチルトリ(4−tert−ブチルフェ
ニル)ボレイトの製造例を示す。 (第三工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)にヨウ素を10mgと実施例2で製造した2−
ノルマルブチル−1,3,2−ジオキサボリナン1.4
2g(10.0mmol)とテトラヒドロフラン10m
lを加え、これに窒素雰囲気下、1−ブロモ−4−te
rt−ブチルベンゼン7.03g(33.0mmol)
をテトラヒドロフラン20mlに溶かした溶液を反応温
度が67〜72℃になるように滴下し、さらに30〜5
0℃で2時間攪拌させることにより、反応を完結させ
る。 (第四工程)反応液が室温にまで下がったら、ジエチル
エーテルを200ml加え、次いで水50mlを少しず
つ加えていく。反応液を分液ロートに移液し、水80m
l、0.2Mテトラノルマルブチルアンモニウムブロマ
イド水溶液60ml、水80mlの順で洗浄後、濃縮す
る。残査にジエチルエーテルを200ml加え、析出し
た固体を濾取し、白色固体の目的物6.80g(9.5
7mmol)を収率95%で得た。この白色固体のマス
スペクトルを測定したところ、アニオン部が467、カ
チオン部が242で理論値と一致していた。また元素分
析の測定により、目的物の構造を確認した。この結果を
表1に示した。
Example 7 An example of the production of tetra-n-butylammonium-n-butyltri (4-tert-butylphenyl) borate is shown. (Third step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) and 10 mg of iodine,
Normal butyl-1,3,2-dioxaborinane 1.4
2 g (10.0 mmol) and 10 m of tetrahydrofuran
and 1-bromo-4-te under nitrogen atmosphere.
7.03 g (33.0 mmol) of rt-butylbenzene
In 20 ml of tetrahydrofuran was added dropwise so that the reaction temperature became 67 to 72 ° C., and 30 to 5
The reaction is completed by stirring at 0 ° C. for 2 hours. (Fourth step) When the reaction solution has dropped to room temperature, 200 ml of diethyl ether is added, and then 50 ml of water is added little by little. The reaction solution was transferred to a separating funnel,
l, wash in the order of 60 ml of a 0.2 M aqueous solution of tetra-n-butylammonium bromide and 80 ml of water, and then concentrate. 200 ml of diethyl ether was added to the residue, and the precipitated solid was collected by filtration, and 6.80 g of the desired product as a white solid (9.5).
7 mmol) in 95% yield. When the mass spectrum of this white solid was measured, the anion part was 467 and the cation part was 242, which were in agreement with the theoretical values. The structure of the target product was confirmed by elemental analysis. The results are shown in Table 1.

【0146】(実施例8)テトラノルマルブチルアンモ
ニウムノルマルブチルトリ(4−メチル−ナフチル)ボ
レイトの製造例を示す。 (第三工程)金属マグネシウム1.00g(41.1m
mol)にヨウ素を10mgと実施例2で製造した2−
ノルマルブチル−1,3,2−ジオキサボリナン1.4
2g(10.0mmol)とテトラヒドロフラン10m
lを加え、これに窒素雰囲気下、1−ブロモ−4−メチ
ルナフタレン7.30g(33.0mmol)をテトラ
ヒドロフラン20mlに溶かした溶液を反応温度が67
〜72℃になるように滴下し、さらに30〜50℃で2
時間攪拌させることにより、反応を完結させる。 (第四工程)反応液が室温にまで下がったら、ジエチル
エーテルを200ml加え、次いで水50mlを少しず
つ加えていく。反応液を分液ロートに移液し、水80m
l、0.2Mテトラノルマルブチルアンモニウムブロマ
イド水溶液60ml、水80mlの順で洗浄後、濃縮す
る。残査にジエチルエーテルを200ml加え、析出し
た固体を濾取し、白色固体の目的物6.75g(9.1
9mmol)を収率91%で得た。この化合物のマスス
ペクトルを測定したところ、アニオン部が491、カチ
オン部が242で理論値と一致していた。また元素分析
の測定により、目的物の構造を確認した。この結果を表
1に示した。
Example 8 An example of the production of tetra-n-butylammonium-n-butyltri (4-methyl-naphthyl) borate will be described. (Third step) 1.00 g (41.1 m) of metallic magnesium
mol) and 10 mg of iodine,
Normal butyl-1,3,2-dioxaborinane 1.4
2 g (10.0 mmol) and 10 m of tetrahydrofuran
Under a nitrogen atmosphere, a solution of 7.30 g (33.0 mmol) of 1-bromo-4-methylnaphthalene in 20 ml of tetrahydrofuran was added at a reaction temperature of 67 ml.
To 72 ° C, and further at 30 to 50 ° C for 2 hours.
The reaction is completed by stirring for an hour. (Fourth step) When the reaction solution has dropped to room temperature, 200 ml of diethyl ether is added, and then 50 ml of water is added little by little. The reaction solution was transferred to a separating funnel,
l, wash in the order of 60 ml of a 0.2 M aqueous solution of tetra-n-butylammonium bromide and 80 ml of water, and then concentrate. 200 ml of diethyl ether was added to the residue, and the precipitated solid was collected by filtration, and 6.75 g (9.1 g) of the target product as a white solid was collected.
9 mmol) in 91% yield. When the mass spectrum of this compound was measured, the anion part was 491 and the cation part was 242, which were in agreement with the theoretical values. The structure of the target product was confirmed by elemental analysis. The results are shown in Table 1.

【0147】(実施例9)テトラエチルアンモニウムフ
ェニルトリ(2、5−ジメチルフェニル)ボレイトの製
造例を示す。 (第三工程)金属リチウム0.3g(43.2mmo
l)にジエチルエーテルを10mlを加え、これに窒素
雰囲気下、1−ブロモ2、5−ジメチルベンゼン6.1
1g(33.0mmol)をジエチルエーテル20ml
に溶かした溶液を反応温度が−75〜−65℃になるよ
うに滴下し、さらに同温度で2時間攪拌させる。これを
実施例3で製造した2−フェニル−1,3,2−ジオキ
サボリナン1.62g(1.0mmol)をテトラヒド
ロフラン10mlに溶かした溶液に、反応温度が5℃を
越えないように滴下させる。さらに0〜5℃で2時間攪
拌させることにより、反応を完結させる。 (第四工程)反応液が室温にまで上がったら、ジエチル
エーテルを200ml加え、次いで水50mlを少しず
つ加えていく。反応液を分液ロートに移液し、水80m
l、0.2Mテトラエチルアンモニウムブロマイド水溶
液60ml、水80mlの順で洗浄後、濃縮する。残査
にジエチルエーテルを200ml加え、析出した固体を
濾取し、白色固体の目的物3.80g(7.10mmo
l)を収率71%で得た。このもののマススペクトルを
測定したところ、アニオン部が403、カチオン部が1
30で理論値と一致していた。また元素分析の測定によ
り、目的物の構造を確認した。この結果を表1に示し
た。
Example 9 An example of the production of tetraethylammonium phenyl tri (2,5-dimethylphenyl) borate will be described. (Third step) Metal lithium 0.3 g (43.2 mmol)
10 ml of diethyl ether was added to 1), and 1-bromo-2,5-dimethylbenzene 6.1 was added thereto under a nitrogen atmosphere.
1 g (33.0 mmol) of diethyl ether 20 ml
Is added dropwise so that the reaction temperature becomes -75 to -65 ° C, and the mixture is further stirred at the same temperature for 2 hours. This is added dropwise to a solution prepared by dissolving 1.62 g (1.0 mmol) of 2-phenyl-1,3,2-dioxaborinane prepared in Example 3 in 10 ml of tetrahydrofuran so that the reaction temperature does not exceed 5 ° C. The reaction is completed by further stirring at 0-5 ° C for 2 hours. (Fourth step) When the temperature of the reaction solution reaches room temperature, 200 ml of diethyl ether is added, and then 50 ml of water is added little by little. The reaction solution was transferred to a separating funnel,
l, wash with 0.2 M tetraethylammonium bromide aqueous solution 60 ml and water 80 ml in this order, and concentrate. 200 ml of diethyl ether was added to the residue, and the precipitated solid was collected by filtration, and 3.80 g (7.10 mmol) of the target substance as a white solid was collected.
l) was obtained with a yield of 71%. When the mass spectrum of this product was measured, the anion part was 403 and the cation part was 1
At 30, it was in agreement with the theoretical value. The structure of the target product was confirmed by elemental analysis. The results are shown in Table 1.

【0148】[0148]

【表1】 [Table 1]

【0149】[0149]

【発明の効果】本発明のホウ素系化合物の製造方法によ
り、従来の方法で製造した場合と比べ、光開始剤あるい
は光吸収性消色剤として有用な高純度のホウ素系化合物
を高収率で得ることができる。
According to the method for producing a boron-based compound of the present invention, a high-purity boron-based compound useful as a photoinitiator or a light-absorbing decolorizer can be obtained in a high yield, as compared with the conventional method. Obtainable.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リチウムまたはマグネシウムを含む化合
物と一般式(2)で表される化合物と一般式(3)で表
されるホウ酸エステル化合物を溶媒中で反応させること
により、一般式(4)で表されるボロネート化合物を製
造する第一工程と、一般式(4)で表されるボロネート
化合物と一般式(5)で表される化合物を反応させる第
二工程からなることを特徴とする一般式(6)で表され
るホウ素系化合物の製造方法。 【化1】 (式中R1 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。Y
1 はハロゲン原子を表す。) 【化2】 (式中R3 、R4 、およびR5 は同じであっても異なっ
ていてもよく、それぞれ置換を有してもよいアルキル
基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有しても
良いアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置
換を有してもよい脂環基を表す。) 【化3】 (式中R1 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。R
4 、R5 は同じであっても異なっていてもよく、それぞ
れ置換を有してもよいアルキル基、置換を有してもよい
アルケニル基、置換を有しても良いアリール基、置換を
有してもよいアラルキル基、置換を有してもよい脂環基
を表す。) 【化4】 (式中R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR11は同
じであっても異なっていてもよく、置換を有してもよい
アルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を
有しても良いアリール基、置換を有してもよいアラルキ
ル基、置換を有してもよい脂環基、水素原子を表す。) 【化5】 (式中R1 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。R
6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR11は同じであっ
ても異なっていてもよく、置換を有してもよいアルキル
基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有しても
良いアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置
換を有してもよい脂環基、水素原子を表す。)
1. A compound containing lithium or magnesium, a compound represented by the general formula (2) and a borate compound represented by the general formula (3) are reacted in a solvent to obtain a compound represented by the general formula (4): And a second step of reacting the boronate compound represented by the general formula (4) with the compound represented by the general formula (5). A method for producing a boron-based compound represented by the formula (6). Embedded image (Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, Y represents a heterocyclic group which may be substituted, or an alicyclic group which may be substituted.
1 represents a halogen atom. ) (Wherein R 3 , R 4 , and R 5 may be the same or different, and each represents an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, Represents an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, and an alicyclic group which may be substituted.) (Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, Represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group.
4 and R 5 may be the same or different, and each have an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, Represents an aralkyl group which may be substituted and an alicyclic group which may be substituted. ) (Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group or may have a substitution. An alkenyl group, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, an alicyclic group which may be substituted, and a hydrogen atom. (Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, Represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group.
6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, Represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted alicyclic group, or a hydrogen atom. )
【請求項2】 リチウムまたはマグネシウムを含む化合
物と一般式(2)で表される化合物と一般式(3)で表
されるホウ酸エステル化合物を溶媒中で反応させること
により、一般式(4)で表されるボロネート化合物を製
造する第一工程と、一般式(4)で表されるボロネート
化合物と一般式(5)で表される化合物を反応させて、
一般式(6)で表されるホウ素系化合物を製造する第二
工程と、リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一
般式(7)で表される化合物と一般式(6)で表される
ホウ素系化合物を溶媒中で反応させることにより、一般
式(8)で表されるボレイト金属塩を製造する第三工程
と、一般式(8)で表されるボレイト金属塩に一般式
(9)で表されるオニウムハライドを加えてイオン交換
反応をさせる第四工程からなることを特徴とする、一般
式(1)で表されるホウ素系化合物の製造方法。 【化6】 (式中R1 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。Y
1 はハロゲン原子を表す。) 【化7】 (式中R3 、R4 、およびR5 は同じであっても異なっ
ていてもよく、それぞれ置換を有してもよいアルキル
基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有しても
良いアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置
換を有してもよい脂環基を表す。) 【化8】 (式中R1 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。R
4 、R5 は同じであっても異なっていてもよく、それぞ
れ置換を有してもよいアルキル基、置換を有してもよい
アルケニル基、置換を有しても良いアリール基、置換を
有してもよいアラルキル基、置換を有してもよい脂環基
を表す。) 【化9】 (式中R6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR11は同
じであっても異なっていてもよく、置換を有してもよい
アルキル基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を
有しても良いアリール基、置換を有してもよいアラルキ
ル基、置換を有してもよい脂環基、水素原子を表す。) 【化10】 (式中R1 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。R
6 、R7 、R8 、R9 、R10、およびR11は同じであっ
ても異なっていてもよく、置換を有してもよいアルキル
基、置換を有してもよいアルケニル基、置換を有しても
良いアリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置
換を有してもよい脂環基、水素原子を表す。) 【化11】 (式中R2 は、置換を有してもよいアルキル基、置換を
有してもよいアルケニル基、置換を有してもよいアリー
ル基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を有して
もよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表す。Y
1 はハロゲン原子を表す。) 【化12】 (式中R1 とR2 は相異なったものであり、R1 、R2
はそれぞれ独立して、置換を有してもよいアルキル基、
置換を有してもよいアルケニル基、置換を有してもよい
アリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を
有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表
す。Mはリチウム原子またはマグネシウム原子を表す。
n=1,2。) 【化13】 (式中Z+ は、アンモニウムカチオン、スルホニウムカ
チオン、オキソスルホニウムカチオン、ホスホニウムカ
チオン、およびヨードニウムカチオンを表す。Xはハロ
ゲン原子を表す。) 【化14】 (式中R1 とR2 は相異なったものであり、R1 、R2
はそれぞれ独立して、置換を有してもよいアルキル基、
置換を有してもよいアルケニル基、置換を有してもよい
アリール基、置換を有してもよいアラルキル基、置換を
有してもよい複素環基、置換を有してもよい脂環基を表
す。Z+ はアンモニウムカチオン、スルホニウムカチオ
ン、オキソスルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオ
ン、およびヨードニウムカチオンを表す。)
2. A compound containing lithium or magnesium, a compound represented by the general formula (2) and a borate compound represented by the general formula (3) are reacted in a solvent to obtain a compound represented by the general formula (4): Reacting a boronate compound represented by the general formula (4) with a compound represented by the general formula (5),
A second step of producing a boron-based compound represented by the general formula (6), a compound containing lithium or magnesium, a compound represented by the general formula (7), and a boron-based compound represented by the general formula (6) Is reacted in a solvent to produce a borate metal salt represented by the general formula (8), and a borate metal salt represented by the general formula (8) is represented by the general formula (9). A method for producing a boron-based compound represented by the general formula (1), comprising a fourth step of adding an onium halide to cause an ion exchange reaction. Embedded image (Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, Y represents a heterocyclic group which may be substituted, or an alicyclic group which may be substituted.
1 represents a halogen atom. ) (Wherein R 3 , R 4 , and R 5 may be the same or different, and each represents an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, Represents an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, and an alicyclic group which may be substituted.) (Wherein R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, Represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group.
4 and R 5 may be the same or different, and each have an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, Represents an aralkyl group which may be substituted and an alicyclic group which may be substituted. ) (Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group or may have a substitution. An alkenyl group, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, an alicyclic group which may be substituted, and a hydrogen atom. (In the formula, R 1 represents an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, Represents an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted alicyclic group.
6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 may be the same or different, and may have an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, Represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted alicyclic group, or a hydrogen atom. ) (In the formula, R 2 represents an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, Y represents a heterocyclic group which may be substituted, or an alicyclic group which may be substituted.
1 represents a halogen atom. ) (Wherein R 1 and R 2 are different, and R 1 , R 2
Are each independently an alkyl group which may have a substituent,
Optionally substituted alkenyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted heterocyclic group, optionally substituted alicyclic group Represents a group. M represents a lithium atom or a magnesium atom.
n = 1,2. ) (In the formula, Z + represents an ammonium cation, a sulfonium cation, an oxosulfonium cation, a phosphonium cation, and an iodonium cation. X represents a halogen atom.) (Wherein R 1 and R 2 are different, and R 1 , R 2
Are each independently an alkyl group which may have a substituent,
Optionally substituted alkenyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted heterocyclic group, optionally substituted alicyclic group Represents a group. Z + represents an ammonium cation, a sulfonium cation, an oxosulfonium cation, a phosphonium cation, and an iodonium cation. )
【請求項3】 第一工程がリチウムまたはマグネシウム
を含む化合物と一般式(2)で表される化合物を溶媒中
で反応させ、これに一般式(3)で表される化合物を加
えて反応させるか、一般式(3)で表される化合物に、
リチウムまたはマグネシウムを含む化合物と一般式
(2)で表される化合物を溶媒中で反応させたものを加
えて反応させるか、あるいは、リチウムまたはマグネシ
ウムを含む化合物と一般式(2)で表される化合物を溶
媒中で反応させたものと、一般式(3)で表される化合
物を同時に加えて反応させることにより、一般式(4)
で表されるボロネート化合物を製造することを特徴とす
る請求項1あるいは請求項2記載のホウ素系化合物の製
造方法。
3. In the first step, a compound containing lithium or magnesium is reacted with a compound represented by the general formula (2) in a solvent, and a compound represented by the general formula (3) is added thereto and reacted. Or a compound represented by the general formula (3):
A compound obtained by reacting a compound containing lithium or magnesium with a compound represented by the general formula (2) in a solvent is added and reacted, or a compound containing lithium or magnesium and a compound represented by the general formula (2) are added. A compound obtained by reacting a compound in a solvent and a compound represented by the general formula (3) are simultaneously added and reacted to obtain a compound represented by the general formula (4):
The method for producing a boron-based compound according to claim 1, wherein the boronate compound represented by the following formula is produced.
【請求項4】 リチウムまたはマグネシウムを含む化合
物が、金属リチウムまたは金属マグネシウムまたは有機
リチウム化合物であることを特徴とする請求項1あるい
は請求項2記載のホウ素系化合物の製造方法。
4. The method for producing a boron compound according to claim 1, wherein the compound containing lithium or magnesium is a metal lithium, a metal magnesium, or an organic lithium compound.
【請求項5】 第三工程に用いるリチウムまたはマグネ
シウムを含む化合物が有機リチウム化合物であることを
特徴とする請求項2記載のホウ素系化合物の製造方法。
5. The method for producing a boron-based compound according to claim 2, wherein the compound containing lithium or magnesium used in the third step is an organic lithium compound.
【請求項6】 第三工程に用いる溶媒がテトラヒドロフ
ランであることを特徴とする請求項2記載のホウ素系化
合物の製造方法。
6. The method according to claim 2, wherein the solvent used in the third step is tetrahydrofuran.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11242360B2 (en) 2016-11-09 2022-02-08 Covestro Deutschland Ag Process for the manufacturing of triaryl-organo borates

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KR100680403B1 (en) 2003-10-06 2007-02-08 주식회사 하이닉스반도체 Photoresist Polymer and Photoresist Composition Containing it
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