JPH06194679A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JPH06194679A
JPH06194679A JP34584592A JP34584592A JPH06194679A JP H06194679 A JPH06194679 A JP H06194679A JP 34584592 A JP34584592 A JP 34584592A JP 34584592 A JP34584592 A JP 34584592A JP H06194679 A JPH06194679 A JP H06194679A
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JP
Japan
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liquid crystal
common electrode
crystal display
electrode
region
Prior art date
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Pending
Application number
JP34584592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidetaka Noriyama
英孝 乗山
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP34584592A priority Critical patent/JPH06194679A/en
Publication of JPH06194679A publication Critical patent/JPH06194679A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent the degradation in contrast, the generation of crosstalks, etc., by a fluctuation in common electrode potential by extending a gate insulating film formed on a lower layer electrode clown to a sealing region. CONSTITUTION:A signal wire 2 and a protective film 21 are successively laminated via the gate insulating film 20 on the inside main surface of an insulating substrate 10. Spacers 30 are held between insulating substrates 10 and 11 and a sealing material 31 consisting of an org. resin is filled in a gap. On the other hand, the gate insulating film 20 and the protective film 21 are successively laminated in the sealing regions on the leading out side of scanning lines 3 so as to cover these regions. The spacer 30 is hold between the insulating substrates 10, 11 and the sealing material 31 is filled in the gap. A power substrate 10 where the sealing material 31 is formed in a power feed part. On the other hand, a common electrode 6 formed on the inside main surface of the insulating substrate 11 is extended to the position opposing the power feed terminal 7. The common electrode 6 and the power feed terminal 7 are electrically connected via conductive paste 32.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置の電極構
造に関し、特に薄膜トランジスタ(以下、TFTと称す
る)をスイッチング素子として用いた液晶表示装置の電
極構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode structure of a liquid crystal display device, and more particularly to an electrode structure of a liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) as a switching element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年液晶を用いた表示素子は、テレビ表
示やグラフィックディスプレイ等を指向して大容量化、
高密度化が進められている。なかでも、各画素にスイッ
チング素子を配してなるアクティブマトリクス型液晶表
示装置の開発、実用化が盛んである。
2. Description of the Related Art In recent years, display devices using liquid crystal have a large capacity for TV displays and graphic displays.
Higher density is being promoted. Above all, active matrix type liquid crystal display devices in which a switching element is arranged in each pixel are actively developed and put to practical use.

【0003】以下に、TFTをスイッチング素子として
用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置を例にあげ
て、従来の技術を説明する。アクティブマトリクス型液
晶表示装置の基本構成は、スイッチング素子及びこれに
接続される表示画素電極がマトリクス状に形成されたア
レイ基板と、共通電極が全面に形成された対向基板との
間に、液晶を挾持してなる。
A conventional technique will be described below by taking an active matrix type liquid crystal display device using a TFT as a switching element as an example. The active matrix liquid crystal display device has a basic configuration in which liquid crystal is provided between an array substrate on which switching elements and display pixel electrodes connected to the switching elements are formed in a matrix and an opposing substrate on which a common electrode is formed. Hold it.

【0004】図7は、このような液晶表示装置の概略構
造を示す斜視図である。即ち、アレイ基板1の内主面に
は、走査線3及び信号線4がマトリクス状に形成され、
それぞれの交点部分には、TFT5を介して表示画素電
極6が接続されている。一方、対向基板2の内主面に
は、共通電極8が全面に形成され、さらに、表示画素電
極6と対向する領域を囲むように、遮光層9が形成され
ている。そして、アレイ基板1と対向基板2とは、数μ
mの間隔を保って対向配置され、その周辺部をガラスな
どのスペーサが含有されたシール材によって封止されて
おり、その間隙には液晶が挾持されている。
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic structure of such a liquid crystal display device. That is, the scanning lines 3 and the signal lines 4 are formed in a matrix on the inner main surface of the array substrate 1,
Display pixel electrodes 6 are connected to the respective intersections via TFTs 5. On the other hand, on the inner main surface of the counter substrate 2, a common electrode 8 is formed over the entire surface, and a light shielding layer 9 is formed so as to surround a region facing the display pixel electrode 6. The array substrate 1 and the counter substrate 2 are several μ
They are arranged opposite to each other with a space of m, and their peripheral portions are sealed with a sealing material containing a spacer such as glass, and a liquid crystal is held in the space.

【0005】また、アレイ基板1の封止領域外には、給
電端子7が設けられている。一方、共通電極8の端部
は、この給電端子7に対応する領域まで延在されて、矩
形状の給電部35が形成されており、この給電部は給電
端子7と導電ペーストなどを介して電気的に接続されて
いる。
A power supply terminal 7 is provided outside the sealing area of the array substrate 1. On the other hand, the end of the common electrode 8 extends to a region corresponding to the power supply terminal 7 to form a rectangular power supply part 35, and this power supply part is connected to the power supply terminal 7 and a conductive paste or the like. It is electrically connected.

【0006】図8は、液晶表示装置の一画素の平面図を
示し、図9は図8の線BBに沿った断面図を示す。即
ち、ガラスなどの絶縁基板10内主面には、走査線3と
一体のゲート電極42が形成され、その上にはゲート絶
縁膜20を介して半導体層45、ソース電極44及び信
号線4と一体のドレイン電極43が順次積層されて、T
FT5が形成されている。また、TFT5に隣接する領
域には、補助容量線41が形成され、この上にゲート絶
縁膜20を介して、ソース電極44と接続された表示画
素電極6が形成されている。さらに、表示画素電極6上
を除く領域には保護膜21が形成され、その上全面に配
向膜46が積層されて、アレイ基板1が構成されてい
る。
FIG. 8 is a plan view of one pixel of the liquid crystal display device, and FIG. 9 is a sectional view taken along the line BB of FIG. That is, the gate electrode 42 integrated with the scanning line 3 is formed on the inner main surface of the insulating substrate 10 such as glass, and the semiconductor layer 45, the source electrode 44, and the signal line 4 are formed on the gate electrode 42 via the gate insulating film 20. The integrated drain electrode 43 is sequentially stacked to form T
FT5 is formed. Further, an auxiliary capacitance line 41 is formed in a region adjacent to the TFT 5, and a display pixel electrode 6 connected to the source electrode 44 via the gate insulating film 20 is formed thereon. Further, the protective film 21 is formed in a region except on the display pixel electrode 6, and the alignment film 46 is laminated on the entire surface thereof to form the array substrate 1.

【0007】一方、ガラスなどの絶縁基板11内主面に
は、表示画素電極6に対向する領域を囲むように遮光膜
9が形成され、この上全面に共通電極8、配向膜47が
順次積層されて、対向基板2が構成されている。
On the other hand, a light-shielding film 9 is formed on the inner main surface of the insulating substrate 11 such as glass so as to surround a region facing the display pixel electrode 6, and a common electrode 8 and an alignment film 47 are sequentially laminated on the entire surface. Thus, the counter substrate 2 is formed.

【0008】次に、上述の液晶表示装置の一般的な駆動
方法を説明する。即ち、走査線3に選択パルスが印加さ
れると、TFT5は導通状態となり、表示画素電極6の
電位が信号線4の電位と同電位に設定される。次いで走
査線3に非選択電圧が印加されると、TFT5は非導通
状態となり、次に選択パルスが与えられるまでの期間、
表示画素電極6は書き込まれた電位を保持する。一方、
共通電極8には、アレイ基板1側の給電端子7から給電
部35を介して所定の電位が与えられている。そして、
表示画素電極6と共通電極8との電位差に応じて液晶の
光透過率が変化し、その結果映像信号に対応して画像表
示が行われる。
Next, a general driving method of the above liquid crystal display device will be described. That is, when the selection pulse is applied to the scanning line 3, the TFT 5 becomes conductive and the potential of the display pixel electrode 6 is set to the same potential as the potential of the signal line 4. Next, when a non-selection voltage is applied to the scanning line 3, the TFT 5 becomes non-conductive, and a period until the next selection pulse is applied,
The display pixel electrode 6 holds the written potential. on the other hand,
A predetermined potential is applied to the common electrode 8 from the power supply terminal 7 on the array substrate 1 side through the power supply section 35. And
The light transmittance of the liquid crystal changes according to the potential difference between the display pixel electrode 6 and the common electrode 8, and as a result, image display is performed according to the video signal.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述の液晶表示装置に
おいては、対向基板及びアレイ基板上に形成された各電
極は、複雑に容量結合している。このため、各電極の電
位は、互いの電位変化に影響を受けて変動する。図10
は、信号線電位の変化による共通電極電位の変動の様子
を示す。信号線電位は、各画素に独立の映像信号を供給
するために、1水平走査期間毎に異なった値をとる。一
方共通電極電位は、信号線電位が変化すると同時に、そ
の電位変化と同極性方向に変動を受け、その後設定され
た電位に徐々に復帰する。そして、次の水平走査期間に
信号線電位が変化すると、再び共通電極電位は変動を受
ける。
In the above-described liquid crystal display device, the electrodes formed on the counter substrate and the array substrate are intricately capacitively coupled. For this reason, the potentials of the electrodes fluctuate under the influence of mutual potential changes. Figure 10
Shows how the common electrode potential changes due to the change in the signal line potential. The signal line potential takes a different value for each horizontal scanning period in order to supply an independent video signal to each pixel. On the other hand, the common electrode potential changes in the same polarity direction as the potential change at the same time as the signal line potential changes, and then gradually returns to the set potential. Then, when the signal line potential changes in the next horizontal scanning period, the common electrode potential changes again.

【0010】ところで、従来の液晶表示装置において
は、共通電極電位が設定された電位に復帰するのに相当
の時間を要し、1水平期間の内相当の期間、共通電極電
位は設定値よりも低くなる。すると、液晶に印加される
実行電圧値が低下してしまい、コントラストの低下や、
クロストークの発生などの表示不良を招いてしまうとい
う問題があった。
In the conventional liquid crystal display device, it takes a considerable time for the common electrode potential to return to the set potential, and the common electrode potential is lower than the set value for a considerable period of one horizontal period. Get lower. Then, the value of the execution voltage applied to the liquid crystal is lowered, the contrast is lowered,
There is a problem that display defects such as crosstalk occur.

【0011】本発明は、このような技術的背景に鑑み、
共通電極電位の変動によるコントラストの低下やクロス
トークの発生などを防止し、良好な表示状態を実現する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of the above technical background.
It is an object of the present invention to realize a good display state by preventing a decrease in contrast and the occurrence of crosstalk due to a change in the common electrode potential.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の第一の発明であ
る液晶表示装置は、第一の絶縁基板上の表示領域に形成
された共通電極を有する対向基板及び、第二の絶縁基板
上にゲート絶縁膜を介して積層された下層電極及び上層
電極の各交点部分に薄膜トランジスタを介して接続され
た表示画素電極を有するアレイ基板が、互いの電極形成
面が対向するように前記表示領域を囲んで周辺部で封着
され、かつ前記アレイ基板の封着領域外には複数の給電
端子が設けられてなる液晶表示装置において、前記下層
電極及び上層電極は封着領域外の互いに異なる領域まで
延在されると共に、下層電極上の前記ゲート絶縁膜は少
なくとも前記封着領域まで延在され、かつ、前記共通電
極は前記下層電極側の封着領域の少なくとも一部を含ん
で前記給電端子に対向する領域まで延在されていること
を特徴とする。
A liquid crystal display device according to a first aspect of the present invention includes a counter substrate having a common electrode formed in a display region on a first insulating substrate and a second insulating substrate. An array substrate having a display pixel electrode connected via a thin film transistor to each intersection of a lower layer electrode and an upper layer electrode laminated via a gate insulating film is formed on the display area so that their electrode forming surfaces face each other. In a liquid crystal display device which is surrounded and sealed at a peripheral portion, and a plurality of power supply terminals are provided outside the sealing region of the array substrate, the lower layer electrode and the upper layer electrode extend to different regions outside the sealing region. While extending, the gate insulating film on the lower electrode extends to at least the sealing region, and the common electrode includes at least a part of the sealing region on the lower electrode side to the power supply terminal. Characterized in that it extends to the area of direction.

【0013】また、本発明の第二の発明である液晶表示
装置は、第一の絶縁基板上の表示領域全面に形成された
共通電極を有する対向基板及び、第二の絶縁基板上に形
成された下層電極及び上層電極の各交点部分に薄膜トラ
ンジスタを介して接続された表示画素電極を有するアレ
イ基板が、前記表示領域を囲むように周辺部で封着さ
れ、かつ前記アレイ基板の封着領域外には複数の給電端
子が設けられてなる液晶表示層において、前記共通電極
に接しかつ前記表示画素電極同士の間隙に対向する領域
に設けられた遮光層が、前記給電端子に対向する領域ま
で延在されていることを特徴とする。
A liquid crystal display device according to a second invention of the present invention is formed on a counter substrate having a common electrode formed over the entire display area on the first insulating substrate and on the second insulating substrate. An array substrate having a display pixel electrode connected to each intersection of the lower layer electrode and the upper layer electrode via a thin film transistor is sealed at a peripheral portion so as to surround the display region, and outside the sealing region of the array substrate. In the liquid crystal display layer having a plurality of power supply terminals, a light-shielding layer provided in a region in contact with the common electrode and facing the gap between the display pixel electrodes extends to a region facing the power supply terminal. It is characterized by being present.

【0014】[0014]

【作用】発明者らは、上述の課題について鋭意検討した
結果、次のことを見いだした。即ち、従来の液晶表示装
置においては、対向基板側の矩形状の給電部35と共通
電極8との接続領域で、電気的な抵抗値が極めて高い値
を示す。このため、共通電極に対する給電能力が低下
し、一度変動した共通電極電位が設定電位に復帰するた
めには、相当の時間を要していた。
The inventors of the present invention have made extensive studies on the above problems and found the following. That is, in the conventional liquid crystal display device, the electrical resistance value is extremely high in the connection region between the rectangular power supply portion 35 on the counter substrate side and the common electrode 8. For this reason, the power supply capability to the common electrode is reduced, and it takes a considerable time for the once changed common electrode potential to return to the set potential.

【0015】このような問題に対し、例えば接続領域を
構成する電極を厚くして、抵抗値を低減することが考え
られる。しかしながらこのような方法は、液晶表示装置
においては好ましくない。その理由は以下の通りであ
る。即ち、共通電極として一般に用いられるITO(In
dium Tin Oxide)の光透過率は、膜厚に大きく依存して
おり、膜厚が増加すると、光透過率は低下する傾向にあ
る。すると、表示画面が暗くなってしまい、表示品位を
著しく低下させてしまう。
To solve such a problem, for example, it is conceivable to increase the thickness of the electrode forming the connection region to reduce the resistance value. However, such a method is not preferable in a liquid crystal display device. The reason is as follows. That is, the ITO (In
The light transmittance of dium tin oxide) depends greatly on the film thickness, and as the film thickness increases, the light transmittance tends to decrease. Then, the display screen becomes dark and the display quality is significantly deteriorated.

【0016】これに対し、第一の発明である液晶表示装
置においては、対向基板側の共通電極を、下層電極側の
封着領域を含んで給電端子の設けられた領域に対向する
領域まで延在させるために、給電部から実質的に共通電
極として機能する電極部への給電経路を拡大することが
できる。このため、給電経路の抵抗値を大幅に低減させ
ることができる。
On the other hand, in the liquid crystal display device according to the first aspect of the invention, the common electrode on the counter substrate side is extended to a region including the sealing region on the lower layer electrode side and facing the region where the power supply terminal is provided. To be present, the power feeding path from the power feeding portion to the electrode portion that substantially functions as the common electrode can be expanded. Therefore, the resistance value of the power supply path can be significantly reduced.

【0017】このとき、単に共通電極を封着領域まで延
在させると、以下のような問題が生じる。即ち、シール
材中に含有されるスペーサが、アレイ基板側の配線の表
面を削り、シール材中に導電性の粒子が混入されてしま
う。すると、共通電極とアレイ基板側の配線とのショー
トが発生し、正常な表示ができなくなってしまうおそれ
がある。
At this time, if the common electrode is simply extended to the sealing region, the following problems occur. That is, the spacer contained in the sealing material scrapes the surface of the wiring on the array substrate side, and conductive particles are mixed into the sealing material. Then, a short circuit may occur between the common electrode and the wiring on the array substrate side, and normal display may not be performed.

【0018】これに対し、第一の発明の液晶表示装置に
おいては、下層電極の上に形成されたゲート絶縁膜が封
着領域まで延在されているために、下層電極がスペーサ
によって削られることを防ぎ、シール材中に導電性の粒
子が混入されることを防止できる。
On the other hand, in the liquid crystal display device of the first invention, since the gate insulating film formed on the lower electrode extends to the sealing region, the lower electrode is scraped by the spacer. It is possible to prevent the conductive particles from being mixed into the sealing material.

【0019】また、本発明の第二の発明である液晶表示
装置においては、共通電極に接触して設けられたCrな
どの低抵抗な遮光層を給電部に延在させるために、給電
部から実質的に共通電極として機能する部分への給電経
路の抵抗値を大幅に低減させることができる。
Further, in the liquid crystal display device according to the second aspect of the present invention, in order to extend the light-shielding layer having a low resistance such as Cr provided in contact with the common electrode to the power feeding portion, It is possible to significantly reduce the resistance value of the power feeding path to the portion that substantially functions as the common electrode.

【0020】[0020]

【実施例】以下に、本発明の実施例を、図面を参照しつ
つ詳細に説明する。尚、従来技術の構成に対応する部分
には、同じ番号を付与した。 (実施例1)
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The same numbers are given to the parts corresponding to the configuration of the conventional technique. (Example 1)

【0021】図1は、本発明の一実施例である液晶表示
装置の概略構造を示す斜視図である。即ち、アレイ基板
1の内主面には、走査線1及び信号線2がマトリクス状
に形成され、それぞれの交点部分には、TFT3を介し
て表示画素電極4が接続されている。一方、対向基板2
の内主面には、共通電極5が形成されている。そして、
アレイ基板1と対向基板2とは、約5μmの間隔を保っ
て対向配置され、その周辺部を封着されており、その間
隙には液晶が挾持されている。また、走査線1及び信号
線2は、それぞれ封着領域外まで延在されて、図示しな
い外部回路と接続される。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic structure of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. That is, the scanning lines 1 and the signal lines 2 are formed in a matrix on the inner main surface of the array substrate 1, and the display pixel electrodes 4 are connected to the respective intersections via the TFTs 3. On the other hand, the counter substrate 2
A common electrode 5 is formed on the inner main surface of the. And
The array substrate 1 and the counter substrate 2 are arranged so as to face each other with a space of about 5 μm, and their peripheral portions are sealed, and liquid crystal is sandwiched in the gap. Further, the scanning line 1 and the signal line 2 are extended to the outside of the sealing area and are connected to an external circuit (not shown).

【0022】さらに、アレイ基板1の封着領域外には、
給電端子7が設けられている。一方、共通電極8の端部
は、走査線3の延在された側の封着領域を含めて、給電
端子7に対向する領域まで延在されている。
Further, outside the sealing area of the array substrate 1,
A power supply terminal 7 is provided. On the other hand, the end portion of the common electrode 8 extends to a region facing the power supply terminal 7, including the sealing region on the side where the scanning line 3 extends.

【0023】図2は、図1の液晶表示装置の要部断面図
を説明するための図である。図2(a)は液晶表示装置
の斜視図を示し、図2(b)は信号線引出側の封着領域
の断面図、図2(c)は走査線引出側の封着領域の断面
図、図2(d)は共通電極への給電部分の断面図を示
す。
FIG. 2 is a diagram for explaining a cross-sectional view of a main part of the liquid crystal display device of FIG. 2A is a perspective view of the liquid crystal display device, FIG. 2B is a cross-sectional view of the sealing area on the signal line leading side, and FIG. 2C is a cross-sectional view of the sealing area on the scanning line leading side. 2D is a cross-sectional view of a portion for feeding power to the common electrode.

【0024】信号線引出側の封着領域における構成は、
以下の通りである。即ち、絶縁基板10の内主面には、
ゲート絶縁膜20を介し、信号線2、保護膜21が順次
積層されている。そして、絶縁基板10,11間にはス
ペーサ30が挾持されており、空隙には有機樹脂からな
るシール材31が充填されている。
The structure in the sealing area on the signal line lead-out side is
It is as follows. That is, on the inner main surface of the insulating substrate 10,
The signal line 2 and the protective film 21 are sequentially stacked via the gate insulating film 20. A spacer 30 is sandwiched between the insulating substrates 10 and 11, and a void is filled with a sealing material 31 made of an organic resin.

【0025】一方、走査線引出側の封着領域において
は、絶縁基板10の内主面に、走査線3が形成され、こ
れらを覆うようにゲート絶縁膜20,保護膜21が順次
積層されている。一方、絶縁基板11の内主面には、共
通電極6が形成されている。そして、絶縁基板10,1
1間にはスペーサ30が挾持されており、その空隙には
シール材31が充填されている。
On the other hand, in the sealing region on the scanning line lead-out side, the scanning line 3 is formed on the inner main surface of the insulating substrate 10, and the gate insulating film 20 and the protective film 21 are sequentially laminated so as to cover them. There is. On the other hand, the common electrode 6 is formed on the inner main surface of the insulating substrate 11. And the insulating substrates 10 and 1
A spacer 30 is sandwiched between the gaps 1, and a gap is filled with a sealing material 31.

【0026】また、給電部における構成は以下の通りで
ある。即ち、絶縁基板10のシール材形成領域外には、
給電端子7が形成され、一方、絶縁基板11の内主面に
形成された共通電極6は、給電端子7に対向する位置ま
で延在される。そして、共通電極6と給電端子7は、導
電ペースト32を介して、電気的に接続されている。次
に、本実施例の液晶表示装置の製造方法を説明する。画
素領域の構成は、図8及び図9に示すものと同じ構成を
用いた。まず、絶縁基板10上に、Ta膜をスパッタリ
ング法を用いて形成し、所定の形状にパターニングし
て、走査線3及びこれと一体のゲート電極42、補助容
量線41、給電端子7を形成する。次いで全面に、Si
Ox膜を、CVD(Chemical Vapor Deposition )法を
用いて形成し、ゲート絶縁膜20を形成する。
The structure of the power feeding section is as follows. That is, outside the sealing material forming region of the insulating substrate 10,
The power supply terminal 7 is formed, while the common electrode 6 formed on the inner main surface of the insulating substrate 11 extends to a position facing the power supply terminal 7. The common electrode 6 and the power supply terminal 7 are electrically connected via the conductive paste 32. Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device of this embodiment will be described. As the structure of the pixel region, the same structure as that shown in FIGS. 8 and 9 was used. First, a Ta film is formed on the insulating substrate 10 by using a sputtering method, and is patterned into a predetermined shape to form the scanning line 3 and the gate electrode 42 integrated with the scanning line 3, the auxiliary capacitance line 41, and the power supply terminal 7. . Then, on the entire surface, Si
An Ox film is formed by using a CVD (Chemical Vapor Deposition) method to form a gate insulating film 20.

【0027】次にa−Si膜を、CVD法を用いて形成
し、所定の形状にパターニングして、半導体層45を形
成する。そして、ITO膜をスパッタリング法を用いて
形成し、所定の形状にパターニングして、表示画素電極
6を形成する。さらに、Al膜をスパッタリング法を用
いて形成し、所定の形状にパターニングして、信号線2
と一体のドレイン電極43ならびにソース電極44を形
成する。
Next, an a-Si film is formed by the CVD method and patterned into a predetermined shape to form a semiconductor layer 45. Then, an ITO film is formed by using a sputtering method and patterned into a predetermined shape to form the display pixel electrode 6. Further, an Al film is formed by using the sputtering method, and is patterned into a predetermined shape, so that the signal line 2
A drain electrode 43 and a source electrode 44, which are integrated with, are formed.

【0028】そして、表示画素電極6上を除く領域にS
iNx膜を、CVD法を用いて形成し、保護膜21を形
成する。さらに全面にポリイミド膜を印刷塗布し、所定
の表面処理を施して、配向膜46を形成する。
Then, S is applied to the area excluding the display pixel electrode 6
The iNx film is formed by the CVD method to form the protective film 21. Further, a polyimide film is applied by printing on the entire surface and a predetermined surface treatment is applied to form an alignment film 46.

【0029】一方絶縁基板11上には、ITO膜をスパ
ッタリング法を用いて200〜400オングストローム
形成し、図1に示す形状にパターニングして、共通電極
6を形成する。そしてその上に全面にポリイミド膜を印
刷塗布し、所定の表面処理を施して、配向膜47を形成
する。このようにして得られたアレイ基板1と対向基板
2とを、周辺部をスペーサ30の含有されたシール材3
1で封着する。このとき、予め給電端子7上に導電ペー
ストを塗布しておき、対向基板側の給電部と接続する。
こうして本実施例の液晶表示装置が得られた。
On the other hand, an ITO film is formed on the insulating substrate 11 by a sputtering method to have a thickness of 200 to 400 Å and is patterned into a shape shown in FIG. 1 to form a common electrode 6. Then, a polyimide film is applied by printing on the entire surface and a predetermined surface treatment is performed to form an alignment film 47. The array substrate 1 and the counter substrate 2 thus obtained are sealed with a sealant 3 containing a spacer 30 in the peripheral portion.
Seal with 1. At this time, a conductive paste is applied on the power supply terminal 7 in advance and connected to the power supply unit on the counter substrate side.
Thus, the liquid crystal display device of this example was obtained.

【0030】本実施例の液晶表示装置においては、給電
部から実質的に共通電極として機能する領域への給電経
路の抵抗値を大幅に低減させることができるため、共通
電極電位の所定電位への復帰時間を大幅に短縮すること
ができ、共通電極電位の変動によるクロストークやコン
トラストの低下は見られなかった。なお、従来の共通電
極の形状で、給電経路の抵抗値を本実施例と同様にする
ためには、共通電極の膜厚を2倍以上厚く形成する必要
がある。すると、光透過率が10%程度低下してしま
い、表示品位を著しく損ねてしまう。また、共通電極の
成膜にかなりの時間を要するため、生産効率を大幅に低
下させることになってしまう。
In the liquid crystal display device of the present embodiment, the resistance value of the power feeding path from the power feeding portion to the region substantially functioning as the common electrode can be significantly reduced, so that the common electrode potential is kept at a predetermined potential. The recovery time could be shortened significantly, and no crosstalk or contrast reduction was observed due to fluctuations in the common electrode potential. In order to make the resistance value of the power feeding path similar to that of the present embodiment in the shape of the conventional common electrode, it is necessary to form the common electrode to be twice or more thick. Then, the light transmittance is reduced by about 10%, and the display quality is significantly impaired. Further, since it takes a considerable time to form the common electrode, the production efficiency will be significantly reduced.

【0031】これに対し、本実施例の液晶表示装置にお
いては、従来の液晶表示装置の製造工程を大幅に変更す
ることなく、極めて良好な表示特性を有する液晶表示装
置を得ることができた。
On the other hand, in the liquid crystal display device of this embodiment, a liquid crystal display device having extremely good display characteristics could be obtained without significantly changing the manufacturing process of the conventional liquid crystal display device.

【0032】また、走査線直上部には、ゲート絶縁膜が
延在されるため、走査線表面がスペーサ粒子によって削
られることを防止し、封止領域における走査線と共通電
極とのショートを防止することができる。
Further, since the gate insulating film extends right above the scanning line, the surface of the scanning line is prevented from being scraped by the spacer particles, and the short circuit between the scanning line and the common electrode in the sealing region is prevented. can do.

【0033】さらに、ゲート絶縁膜を信号線の引出部に
も延在させることによって、走査線と信号線の引出部
で、基板間隔を等しくすることができる。このため、基
板間隔のばらつきを防止することができる。
Further, by extending the gate insulating film also to the lead-out portion of the signal line, the substrate spacing can be made equal in the lead-out portion of the scanning line and the signal line. Therefore, it is possible to prevent the variation in the substrate interval.

【0034】なお、本実施例においては、走査線が下層
電極となる構成の液晶表示装置について説明したが、こ
のような構成に限られるものではなく、例えば信号線を
下層電極、走査線を上層電極として用いた場合にも適用
可能であることはいうまでもない。 (実施例2)
In this embodiment, the liquid crystal display device in which the scanning line serves as the lower layer electrode has been described, but the present invention is not limited to such a configuration, and for example, the signal line is the lower layer electrode and the scanning line is the upper layer electrode. Needless to say, it can be applied when used as an electrode. (Example 2)

【0035】以下に、本発明の液晶表示装置の別の例を
説明する。本実施例の液晶表示装置は、対向基板上に共
通電極と接する遮光層を形成し、共通電極の給電部にこ
の遮光層を延在させることを特徴とするものである。図
3は、本実施例の液晶表示装置の概略構造を示す斜視図
であり、実施例1の図1に相当する。また、図4は、給
電部の断面図であり、実施例1の図2(d)に相当す
る。
Another example of the liquid crystal display device of the present invention will be described below. The liquid crystal display device of this embodiment is characterized in that a light-shielding layer that is in contact with the common electrode is formed on the counter substrate, and the light-shielding layer is extended to the power feeding portion of the common electrode. FIG. 3 is a perspective view showing a schematic structure of the liquid crystal display device of the present embodiment and corresponds to FIG. 1 of the first embodiment. Further, FIG. 4 is a cross-sectional view of the power feeding portion and corresponds to FIG. 2D of the first embodiment.

【0036】次に本実施例の液晶表示装置の液晶表示装
置の製造方法を説明する。アレイ基板1は、上記の実施
例と同様にして得られる。一方対向基板は、次のように
して製造される。即ち、絶縁基板11上に、Cr膜をス
パッタリング法により1000オングストローム程度形
成し、所定の形状にパターニングして、遮光層9を形成
する。次いでこの上に、ITO膜を200〜400オン
グストローム形成し、図3に示す形状にパターニングし
て、共通電極8を形成する。このようにして、給電部は
Cr膜とITO膜が積層されて形成される。さらにこの
上に配向膜を形成して、本実施例の対向基板が得られ
る。そして、実施例1と同様にして、本実施例の液晶表
示装置を得た。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device of the liquid crystal display device of this embodiment will be described. The array substrate 1 is obtained in the same manner as in the above embodiment. On the other hand, the counter substrate is manufactured as follows. That is, a Cr film is formed on the insulating substrate 11 by a sputtering method to have a thickness of about 1000 Å and patterned into a predetermined shape to form the light shielding layer 9. Then, an ITO film is formed thereon to have a thickness of 200 to 400 Å and patterned into a shape shown in FIG. 3 to form a common electrode 8. In this way, the power feeding portion is formed by stacking the Cr film and the ITO film. Further, an alignment film is formed on this to obtain the counter substrate of this embodiment. Then, in the same manner as in Example 1, a liquid crystal display device of this example was obtained.

【0037】本実施例の液晶表示装置においては、共通
電極の抵抗がITO膜厚にほとんど依存しなくなり、本
実施例では、共通電極の膜厚を、ITOが安定に成膜で
きる極限まで薄くできる。したがって、共通電極電位の
設定電位への復帰時間を大幅に短縮でき、共通電極電位
の変動によるクロストークの発生やコントラストの低下
は見られなかった。さらに、本実施例の共通電極の光透
過率は、従来800〜1000オングストローム程度の
膜厚で形成されていた共通電極と比較して、約10%向
上した。
In the liquid crystal display device of this embodiment, the resistance of the common electrode hardly depends on the ITO film thickness, and in this embodiment, the common electrode film thickness can be made as thin as possible so that ITO can be stably formed. . Therefore, the time required for the common electrode potential to return to the set potential can be significantly shortened, and the occurrence of crosstalk and the decrease in contrast due to the fluctuation of the common electrode potential were not observed. Further, the light transmittance of the common electrode of the present embodiment is improved by about 10% as compared with the common electrode conventionally formed with a film thickness of about 800 to 1000 angstroms.

【0038】尚、遮光層としては、Cr以外の例えばA
lなどの金属を用いることができる。このとき、遮光層
表面が酸化すると、コンタクト不良となる可能性があ
る。したがって、上述したように、給電部の遮光層上に
は、ITOを被覆しておいても良い。また、遮光層をC
rO/Crの二層構造とし、給電部ではCrOを除去し
て導電ペーストと接続しても良い。 (実施例3)
The light-shielding layer is made of, for example, A other than Cr.
A metal such as 1 can be used. At this time, if the surface of the light-shielding layer is oxidized, contact failure may occur. Therefore, as described above, ITO may be coated on the light shielding layer of the power feeding unit. In addition, the light shielding layer is C
A two-layer structure of rO / Cr may be used, and CrO may be removed at the power feeding portion to connect with the conductive paste. (Example 3)

【0039】以下に、実施例2の変形例を示す。即ち、
実施例2は、共通電極と遮光層の積層構造によって給電
部分を形成するものであるが、成膜条件によっては、こ
れらの膜同士の付着強度が低下し、封着部が破断される
おそれがある。
A modification of the second embodiment will be shown below. That is,
In the second embodiment, the power feeding portion is formed by the laminated structure of the common electrode and the light shielding layer. However, depending on the film forming conditions, the adhesion strength between these films may be reduced and the sealing portion may be broken. is there.

【0040】本実施例の液晶表示装置においては、この
点を考慮して、給電部における強度の向上を目的とした
ものである。図5は、本実施例の液晶表示装置の給電部
における対向基板の拡大図を示し、図6は図5の線B
B’に沿った断面図を示す。即ち、給電部において、遮
光層をメッシュ状に形成し、その上にITOを積層して
所定の形状に形成し、共通電極を形成する。遮光層の形
成は、通常のPEP工程を用いることによって、実現す
ることができる。以下、実施例2と同様にして、本発明
の液晶表示装置が得られた。
In consideration of this point, the liquid crystal display device of the present embodiment is intended to improve the strength of the power feeding portion. FIG. 5 is an enlarged view of the counter substrate in the power feeding portion of the liquid crystal display device of this embodiment, and FIG. 6 is a line B in FIG.
A sectional view along B ′ is shown. That is, in the power feeding portion, the light shielding layer is formed in a mesh shape, and ITO is laminated on the light shielding layer to form a predetermined shape to form a common electrode. The formation of the light shielding layer can be realized by using a normal PEP process. Hereinafter, in the same manner as in Example 2, the liquid crystal display device of the present invention was obtained.

【0041】本実施例の液晶表示装置においては、実施
例2の液晶表示装置の効果に加えて、給電部における共
通電極と遮光層の膜剥がれが生じ難く、歩留を大幅に改
善することができた。
In the liquid crystal display device of the present embodiment, in addition to the effect of the liquid crystal display device of the second embodiment, film peeling between the common electrode and the light-shielding layer in the power feeding portion is unlikely to occur and the yield can be greatly improved. did it.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の液晶表示
装置においては、共通電極の給電部分から表示領域への
給電経路の抵抗値を大幅に低減できるため、次のような
効果が得られる。即ち、アレイ基板上の配線と共通電極
との容量結合によって生じる共通電極電位の変動後の復
帰時間を大幅に短縮できるため、コントラストの低下や
クロストークなどの表示不良の発生を低減することがで
きる。また、共通電極の光透過率を損なうことなく、明
るい表示画面を得ることができる。このように、きわめ
て良好な表示特性を有する液晶表示装置を、従来の液晶
表示装置の製造工程を大幅に変更することなく、実現す
ることができる。
As described in detail above, in the liquid crystal display device of the present invention, the resistance value of the power feeding path from the power feeding portion of the common electrode to the display area can be significantly reduced, and therefore the following effects can be obtained. To be That is, since the recovery time after the change of the common electrode potential caused by the capacitive coupling between the wiring on the array substrate and the common electrode can be significantly shortened, it is possible to reduce the occurrence of display defects such as reduction in contrast and crosstalk. . Moreover, a bright display screen can be obtained without impairing the light transmittance of the common electrode. Thus, a liquid crystal display device having extremely good display characteristics can be realized without significantly changing the manufacturing process of the conventional liquid crystal display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第一の発明の液晶表示装置の一実施例を示す斜
視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a liquid crystal display device of the first invention.

【図2】図1の液晶表示装置の要部構造を示す断面図で
ある。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a main part structure of the liquid crystal display device of FIG.

【図3】第二の発明の液晶表示装置の一実施例を示す斜
視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of the liquid crystal display device of the second invention.

【図4】図3の液晶表示装置の要部構造を示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a main part structure of the liquid crystal display device of FIG.

【図5】第二の発明の液晶表示装置のさらに別の例を示
す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing still another example of the liquid crystal display device of the second invention.

【図6】図5の線BB´に沿った断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.

【図7】従来の液晶表示装置の一例を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a conventional liquid crystal display device.

【図8】液晶表示装置の一画素の平面図である。FIG. 8 is a plan view of one pixel of the liquid crystal display device.

【図9】図8の線CC´に沿った断面図である。9 is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG.

【図10】液晶表示装置の駆動波形の一例を示すチャー
ト図である。
FIG. 10 is a chart showing an example of drive waveforms of a liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…アレイ基板 2…対向基板 3…走査線 4…信号線 5…TFT 6…表示画素電極 7…給電端子 8…共通電極 9…遮光層 1 ... Array substrate 2 ... Counter substrate 3 ... Scan line 4 ... Signal line 5 ... TFT 6 ... Display pixel electrode 7 ... Power supply terminal 8 ... Common electrode 9 ... Shading layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第一の絶縁基板上の表示領域に形成された
共通電極を有する対向基板及び、第二の絶縁基板上にゲ
ート絶縁膜を介して積層された下層電極及び上層電極の
各交点部分に薄膜トランジスタを介して接続された表示
画素電極を有するアレイ基板が、互いの電極形成面が対
向するように前記表示領域を囲んで周辺部で封着され、
かつ前記アレイ基板の封着領域外には複数の給電端子が
設けられてなる液晶表示装置において、 前記下層電極及び上層電極は封着領域外の互いに異なる
領域まで延在されると共に、 下層電極上の前記ゲート絶縁膜は少なくとも前記封着領
域まで延在され、 かつ、前記共通電極は前記下層電極側の封着領域の少な
くとも一部を含んで前記給電端子に対向する領域まで延
在されていることを特徴とする液晶表示装置。
1. An intersection of a counter substrate having a common electrode formed in a display region on a first insulating substrate and a lower layer electrode and an upper layer electrode laminated on a second insulating substrate via a gate insulating film. An array substrate having a display pixel electrode connected to a portion via a thin film transistor is sealed in a peripheral portion surrounding the display region so that their electrode forming surfaces face each other,
In the liquid crystal display device, in which a plurality of power supply terminals are provided outside the sealing region of the array substrate, the lower layer electrode and the upper layer electrode extend to different regions outside the sealing region, and on the lower layer electrode. The gate insulating film extends at least to the sealing region, and the common electrode extends to a region facing the power supply terminal including at least a part of the sealing region on the lower layer electrode side. A liquid crystal display device characterized by the above.
【請求項2】第一の絶縁基板上の表示領域全面に形成さ
れた共通電極を有する対向基板及び、第二の絶縁基板上
に形成された下層電極及び上層電極の各交点部分に薄膜
トランジスタを介して接続された表示画素電極を有する
アレイ基板が、前記表示領域を囲むように周辺部で封着
され、かつ前記アレイ基板の封着領域外には複数の給電
端子が設けられてなる液晶表示層において、 前記共通電極に接しかつ前記表示画素電極同士の間隙に
対向する領域に設けられた遮光層が、前記給電端子に対
向する領域まで延在されていることを特徴とする液晶表
示装置。
2. A thin film transistor is provided at each intersection of a counter substrate having a common electrode formed on the entire surface of a display region on a first insulating substrate and a lower layer electrode and an upper layer electrode formed on a second insulating substrate. A liquid crystal display layer in which an array substrate having display pixel electrodes connected to each other is sealed at a peripheral portion so as to surround the display region, and a plurality of power supply terminals are provided outside the sealing region of the array substrate. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a light shielding layer provided in a region in contact with the common electrode and facing a gap between the display pixel electrodes extends to a region facing the power supply terminal.
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