JPH06183152A - Optical disk - Google Patents

Optical disk

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Publication number
JPH06183152A
JPH06183152A JP4340473A JP34047392A JPH06183152A JP H06183152 A JPH06183152 A JP H06183152A JP 4340473 A JP4340473 A JP 4340473A JP 34047392 A JP34047392 A JP 34047392A JP H06183152 A JPH06183152 A JP H06183152A
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JP
Japan
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phase
material layer
change material
phase change
reflectance
Prior art date
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Pending
Application number
JP4340473A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Kasami
裕 笠見
Koichi Yasuda
宏一 保田
Atsushi Fukumoto
敦 福本
Masumi Ono
真澄 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP4340473A priority Critical patent/JPH06183152A/en
Publication of JPH06183152A publication Critical patent/JPH06183152A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To perform ultrahigh resolving power reproduction good in C/N (S/N) by using a Bi-Te alloy in the phase change material layer of an optical disk of an ultrahigh resolving power reproduction system to increase the change quantity of reflectivity as the partial liquid phase state due to temp. distribution. CONSTITUTION:In an optical disk wherein a phase change material layer 4 is formed on a transparent substrate 2 having phase pits 1 optically readable corresponding to a data signal formed therein and partially becomes a liquid phase within the scanning spot of reading light at the time of the irradiation with reading light to change in its reflectivity, a Bi-Te alloy is used in the phase change material layer 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、レーザ光照射により
情報の再生を行なう光ディスク、特に高密度記録に好適
な光ディスクに係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk for reproducing information by irradiating a laser beam, and more particularly to an optical disk suitable for high density recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばディジタルオーディオディスク
(いわゆるコンパクトディスク)や、ビデオディスク等
の光ディスクは、予め情報信号に応じて位相ピットが形
成された透明基板上にアルミニウム反射膜を成膜し、そ
の上に保護膜等を形成することで構成されている。
2. Description of the Related Art For optical discs such as digital audio discs (so-called compact discs) and video discs, an aluminum reflection film is formed on a transparent substrate on which phase pits are formed in advance according to an information signal, and an aluminum reflection film is formed thereon. It is configured by forming a protective film and the like.

【0003】このような光ディスクでは、ディスク面に
読み出し光を照射して位相ピットの形成部での光の回折
による反射光量の大幅な減少を検出することによって信
号の読み出し即ち再生を行なうようにしている。
In such an optical disk, a signal is read out or reproduced by irradiating the disk surface with a reading light and detecting a large decrease in the amount of reflected light due to the diffraction of the light in the phase pit forming portion. There is.

【0004】ところで、上述のような光ディスクにおい
て、信号再生の分解能は、ほとんど再生光学系の光源の
波長λと対物レンズの開口数NAで決まり、空間周波数
2NA/λが再生限界となる。
By the way, in the optical disc as described above, the resolution of signal reproduction is almost determined by the wavelength λ of the light source of the reproduction optical system and the numerical aperture NA of the objective lens, and the spatial frequency 2NA / λ is the reproduction limit.

【0005】そのため、このような光ディスクにおいて
高密度化を実現するためには、再生光学系の光源、例え
ば半導体レーザの波長λを短くすること、あるいは対物
レンズの開口数NAを大きくすることが必要となる。
Therefore, in order to realize high density in such an optical disc, it is necessary to shorten the wavelength λ of the light source of the reproducing optical system, for example, the semiconductor laser, or increase the numerical aperture NA of the objective lens. Becomes

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光源の
波長λや対物レンズの開口数NAの改善には自ずと限界
があり、これによって記録密度を飛躍的に高めることは
難しいのが実情である。そこで本出願人は、読み出し光
の走査スポット内の部分的相変化による反射率変化を利
用することで、上述した波長λや開口数NAによる制限
以上の解像度を得ることができる光ディスクを提案した
(特開平3−292632号、特願平3−249511
号参照)。
However, the improvement of the wavelength λ of the light source and the numerical aperture NA of the objective lens is naturally limited, and it is difficult to dramatically increase the recording density. Therefore, the present applicant has proposed an optical disc that can obtain a resolution higher than the above-mentioned limits by the wavelength λ and the numerical aperture NA by utilizing the reflectance change due to the partial phase change in the scanning spot of the reading light ( JP-A-3-292632, Japanese Patent Application No. 3-249511
No.).

【0007】これら出願に係わる発明は、読み出し光の
レーザスポット内の部分的相変化により反射率を変化さ
せ超解像再生を行うようにした光ディスクあるいはその
再生方式に係わるものである。
The inventions relating to these applications relate to an optical disk or a reproducing system thereof for performing super-resolution reproduction by changing the reflectance by a partial phase change in the laser spot of the reading light.

【0008】本発明においては、このように再生レーザ
光スポット内の部分的相変化による反射率変化を利用し
た超解像再生方式を採り、反射率変化を生ずる相変化材
料層の材料及び組成の最適化をはかることによって、目
的とする読み出し位相ピットと他部との反射率差をより
顕著にして安定確実に高C/N(キャリア/ノイズ比)
または高S/N(サウンド/ノイズ比)をもって超解像
再生を行うことができるようにした光ディスクを提供す
る。
In the present invention, as described above, the super-resolution reproducing system utilizing the reflectance change due to the partial phase change in the reproducing laser beam spot is adopted, and the material and composition of the phase change material layer causing the reflectance change By optimizing, the difference in reflectance between the target read-out phase pit and other parts is made more noticeable and stable and high C / N (carrier / noise ratio) is ensured.
Alternatively, an optical disk capable of performing super-resolution reproduction with a high S / N (sound / noise ratio) is provided.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、図1にその要
部の概略的拡大断面図を示すように、情報信号に応じて
光学的に読み出し可能な位相ピット1が形成された透明
基板2上に相変化材料層4が形成されて成り、読み出し
光が照射されたときに、この相変化材料層4が読み出し
光の走査スポット内で部分的に液相化して反射率が変化
する光ディスクにおいて、相変化材料層4にBiTe合
金を用いて構成する。
According to the present invention, as shown in FIG. 1 which is a schematic enlarged sectional view of a main part thereof, a transparent substrate having a phase pit 1 which is optically readable according to an information signal is formed. An optical disc having a phase-change material layer 4 formed on the optical disc 2, and when the read-out light is irradiated, the phase-change material layer 4 is partially liquefied in a scanning spot of the read-out light to change the reflectance. In, the phase change material layer 4 is made of a BiTe alloy.

【0010】また本発明は、上述の構成による光ディス
クにおいて、BiとTeの組成比を、1:1から1:3
の範囲に選定して構成する。
Further, according to the present invention, in the optical disk having the above-mentioned structure, the composition ratio of Bi and Te is 1: 1 to 1: 3.
Select and configure within the range.

【0011】[0011]

【作用】本発明による光ディスクは、 位相ピット1が
形成された透明基板2上に溶融後反射率変化し得るBi
Te合金を用いた相変化材料層4が形成されてなり、読
み出し光が照射されたときに相変化材料層4が読み出し
光の走査スポット内の特に高温部分において部分的に液
相化して反射率が変化し、読み出し後温度が低下した状
態で反射率が初期状態に戻る構成とするものであり、記
録密度の向上をはかると共に、目的とする読み出し位相
ピットと他部との反射率差をより顕著にすることができ
て、より安定確実に高C/Nまたは高S/Nをもって超
解像再生を行うことができる。
In the optical disk according to the present invention, the reflectance may change after melting on the transparent substrate 2 on which the phase pits 1 are formed.
The phase change material layer 4 made of a Te alloy is formed, and when the reading light is irradiated, the phase change material layer 4 is partially liquefied in a scanning spot of the reading light, particularly in a high temperature portion, and the reflectance is increased. Changes, and the reflectance is returned to the initial state in a state where the temperature decreases after reading and the recording density is improved, and the difference in reflectance between the target read phase pit and other parts is further improved. It is possible to make it remarkable, and it is possible to more stably and reliably perform super-resolution reproduction with high C / N or high S / N.

【0012】即ちその位相ピット1による記録の再生に
当たっては、読み出し光の走査スポット内での温度分布
を利用して、つまりスポット内に生じる高温領域で部分
的に相変化材料層4に液相状態を発生させて例えば此処
における反射率が著しく増加するようにして例えばこの
液相状態部分にある位相ピットについては、例えば回折
による読み出しを可能とすることができる。
That is, in reproducing the recording by the phase pit 1, the temperature distribution in the scanning spot of the reading light is utilized, that is, in the high temperature region generated in the spot, the phase change material layer 4 is partially in the liquid phase state. Can be generated, and the reflectance here can be remarkably increased, for example, so that the phase pits in the liquid phase state portion can be read out by, for example, diffraction.

【0013】つまり、読み出し光スポット内において位
相スポットを光学的に出現させる領域を部分的に形成し
てこのスポット内に存在する複数の位相ピットのうち
の、例えば1の位相ピットのみを読み出すことができ、
λ/2NAに制約されない超解像再生を行なうことがで
きる。
That is, it is possible to partially form a region where the phase spot optically appears in the read light spot and read only one phase pit, for example, of the plurality of phase pits existing in this spot. You can
Super-resolution reproduction that is not limited to λ / 2NA can be performed.

【0014】そして特にその材料としてBiTe合金の
組成を適切に選定することによって、C/NまたはS/
Nをより安定確実に向上させることができる。即ちBi
とTeの材料組成比を1:1から1:3の範囲に選定す
ることによって、格段にC/NまたはS/Nの向上をは
かることができる。
And, in particular, by appropriately selecting the composition of the BiTe alloy as the material, C / N or S /
N can be improved more stably and reliably. That is Bi
By selecting the material composition ratio of and Te in the range of 1: 1 to 1: 3, the C / N or S / N can be remarkably improved.

【0015】[0015]

【実施例】本発明は、図1にその一例のいわば基本的構
成における例を示すように、位相ピット1が形成された
透明基板2上に、溶融後初期状態に戻り得る相変化材料
層4を形成する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 1 showing an example of the basic structure of the present invention, a phase change material layer 4 capable of returning to an initial state after melting on a transparent substrate 2 on which phase pits 1 are formed. To form.

【0016】そして、読み出し光、例えばレーザ光がこ
の材料層4に照射されたときに、この相変化材料層4の
読み出し光の走査スポット内で部分的に液相状態となり
反射率が増加すると共に読み出し後の常態で初期状態の
反射率に戻るようにする。
When the reading light, for example, a laser beam is applied to the material layer 4, the reading light of the phase change material layer 4 partially enters a liquid phase state and the reflectance increases. The reflectance is returned to the initial state in the normal state after reading.

【0017】図1に示した例においては、透明基板2上
に直接的に相変化材料層4を形成するようにした場合で
あるが、例えば図2にその要部の略線的拡大断面図を示
すように、位相ピット1を有する透明基板2上に、第1
の誘電体層3を介して相変化材料層4が形成され、更に
これの上に第2の誘電体層5が形成され、これの上に反
射膜6、更にこの上に第3の誘電体層7が形成され、更
にある場合はこの上に保護膜(図示せず)が形成されて
なり、第1及び第2の誘電体層3及び5によって光学特
性例えば反射率等の設定がなされる構成とすることがで
きる。また、第3の誘電体層7によって積層膜の機械強
度が向上し、繰り返し読み出し耐久性が向上する。
In the example shown in FIG. 1, the phase change material layer 4 is formed directly on the transparent substrate 2. For example, FIG. On the transparent substrate 2 having the phase pits 1 as shown in FIG.
A phase change material layer 4 is formed via the dielectric layer 3 of the above, a second dielectric layer 5 is further formed thereon, a reflection film 6 is formed thereon, and a third dielectric layer is formed thereon. A layer 7 is formed, and a protective film (not shown) is further formed on the layer 7 if any, and optical characteristics such as reflectance are set by the first and second dielectric layers 3 and 5. It can be configured. Further, the third dielectric layer 7 improves the mechanical strength of the laminated film and improves the repeated read durability.

【0018】実施例1 この例においては、図2で説明した構成を採った場合
で、透明基板2として、ガラス2P基板を使用した。こ
こでいう2Pとは、フォトポリマー法のことである。
Example 1 In this example, a glass 2P substrate was used as the transparent substrate 2 when the configuration described in FIG. 2 was adopted. The 2P referred to here is a photopolymer method.

【0019】そして、本例においては、トラックピッチ
P=1.6μm、ピット深さ約120nm、ピット長
0.3μm(繰り返し周期0.6μm)の設定条件で形
成した。
In this example, the track pitch P was 1.6 μm, the pit depth was about 120 nm, and the pit length was 0.3 μm (repetition period 0.6 μm).

【0020】そしてこのピット1を有する透明基板2の
一主面に厚さ136nmのZnS−SiO2 よりなる第
1の誘電体層3を被着形成し、これの上に厚さ34nm
のBi2 Te3 合金よりなる相変化材料層4を被着形成
した。更にこれの上に厚さ116nmのZnS−SiO
2 による第2の誘電体層5を被着形成した。更にこれの
上にAlTi反射膜6を200nmの厚さに被着形成
し、更にこれの上に厚さ150nmのZnS−SiO2
による第3の誘電体層7を被着形成した。
Then, a first dielectric layer 3 made of ZnS-SiO 2 having a thickness of 136 nm is deposited on one main surface of the transparent substrate 2 having the pits 1, and a thickness of 34 nm is formed thereon.
The phase change material layer 4 made of Bi 2 Te 3 alloy was deposited. On top of this, a ZnS-SiO layer having a thickness of 116 nm is formed.
A second dielectric layer 5 of 2 was deposited. Further, an AlTi reflection film 6 is formed thereon to a thickness of 200 nm, and a ZnS-SiO 2 film having a thickness of 150 nm is further formed thereon.
The third dielectric layer 7 was deposited and formed.

【0021】このように形成された光ディスクに対し
て、再生パワーを10mWに設定して線速を3.7m/
sから徐々に上げていったときのC/Nの値を図3に示
した。その再生を行なって信号部分を再生したところ、
信号のC/Nは45dBであった。
With respect to the optical disk thus formed, the reproducing power is set to 10 mW and the linear velocity is 3.7 m /
The value of C / N when gradually increasing from s is shown in FIG. When that reproduction was performed and the signal part was reproduced,
The C / N of the signal was 45 dB.

【0022】実施例2 この例においても上述の実施例1と同様に図2で説明し
た構成を採った場合で、実施例1と同様の材料の透明基
板2を構成し、また同様の形状のピット1を形成して構
成した。
Example 2 In this example as well, the transparent substrate 2 made of the same material as in Example 1 is formed in the case of adopting the structure described in FIG. It was constructed by forming pit 1.

【0023】そしてこのピット1を有する透明基板2の
一主面に厚さ146nmのZnS−SiO2 よりなる第
1の誘電体層3を被着形成し、これの上に厚さ17nm
のBi2 Te3 合金よりなる相変化材料層4を被着形成
した。更にこれの上に厚さ140nmのZnS−SiO
2 による第2の誘電体層5を被着形成した。更にこれの
上にAlTi反射膜6を200nmの厚さに被着形成
し、更にこれの上に厚さ150nmのZnS−SiO2
による第3の誘電体層7を被着形成した。
Then, a first dielectric layer 3 made of ZnS-SiO 2 having a thickness of 146 nm is deposited on one main surface of the transparent substrate 2 having the pits 1, and a thickness of 17 nm is formed thereon.
The phase change material layer 4 made of Bi 2 Te 3 alloy was deposited. On top of this, ZnS-SiO with a thickness of 140 nm
A second dielectric layer 5 of 2 was deposited. Further, an AlTi reflection film 6 is formed thereon to a thickness of 200 nm, and a ZnS-SiO 2 film having a thickness of 150 nm is further formed thereon.
The third dielectric layer 7 was deposited and formed.

【0024】このように形成された光ディスクに対し
て、再生パワーを10mWに設定して線速を3.7m/
sから徐々に上げていったときのC/Nの値を図4に示
した。その再生を行なっての信号部分を再生したところ
その信号のC/Nは40dBであった。
For the optical disc thus formed, the reproducing power is set to 10 mW and the linear velocity is 3.7 m /
The value of C / N when gradually increasing from s is shown in FIG. When the signal portion after the reproduction was reproduced, the C / N of the signal was 40 dB.

【0025】比較例1 この例においては、相変化材料層4にBi2 Te合金を
用いた以外は上述の実施例1と同様の構成とした。この
ように形成された光ディスクに対して、再生パワーを1
0mWに設定して線速を3.7m/sから徐々に上げて
いったが、信号の再生はできなかった。
Comparative Example 1 In this example, the same structure as in Example 1 was used except that the phase change material layer 4 was made of Bi 2 Te alloy. A reproduction power of 1 is applied to an optical disc formed in this way.
Although it was set to 0 mW and the linear velocity was gradually increased from 3.7 m / s, the signal could not be reproduced.

【0026】比較例2 この例においては、相変化材料層4にBiTe4 合金を
用いた以外は上述の実施例1と同様の構成とした。この
ように形成された光ディスクに対して、再生パワーを1
0mWに設定して線速を3.7m/sから徐々に上げて
いったが、信号の再生はできなかった。
Comparative Example 2 In this example, the structure was the same as that of the above-described Example 1 except that BiTe 4 alloy was used for the phase change material layer 4. A reproduction power of 1 is applied to an optical disc formed in this way.
Although it was set to 0 mW and the linear velocity was gradually increased from 3.7 m / s, the signal could not be reproduced.

【0027】これらの結果からわかるように、相変化材
料層4として、Bi、Teの組成比が2:1、1:4の
場合は再生出力が十分得られず、実用に供しない。従っ
て本発明においてはその組成比を1:1〜1:3に選定
するものである。そして特に本実施例においては、その
組成比を2:3と選定することによって、高いC/Nを
得ることができた。従ってBi及びTeの組成比はほぼ
2:3に選定することが望ましい。
As can be seen from these results, when the phase change material layer 4 has a composition ratio of Bi and Te of 2: 1 and 1: 4, a reproduction output cannot be sufficiently obtained and it is not practically used. Therefore, in the present invention, the composition ratio is selected to be 1: 1 to 1: 3. In particular, in this example, high C / N could be obtained by selecting the composition ratio as 2: 3. Therefore, it is desirable to select the composition ratio of Bi and Te to be approximately 2: 3.

【0028】尚、透明基板2の材料としては、アクリル
系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ガラス等を用いること
ができる。
As the material of the transparent substrate 2, acrylic resin, polyolefin resin, glass or the like can be used.

【0029】また、誘電体層3及び5としては、Al、
Si等金属及び半導体元素の窒化物、酸化物、硫化物が
あげられ、これらの化合物で半導体レーザ波長領域にお
いて吸収の無いものならば何でもよい。
As the dielectric layers 3 and 5, Al,
Examples thereof include nitrides, oxides, and sulfides of metals such as Si and semiconductor elements, and any compound that does not absorb in the semiconductor laser wavelength region may be used.

【0030】更に、反射膜6としては、反射率及び熱伝
導率の良好な金属ならばなんでもよく、Al、Au、T
i、Ag、Cu等が使用され、これらの元素に小量の添
加物が添加されたものであっても差し支えない。
Further, the reflection film 6 may be made of any metal having good reflectance and thermal conductivity, such as Al, Au and T.
i, Ag, Cu, etc. may be used, and a small amount of additive may be added to these elements.

【0031】そして、本発明による光ディスクは、その
再生に当たってその読み出し光の走査スポット内での温
度分布を利用して、そのスポット内に生じる高温領域で
部分的に相変化材料層4に液相状態を発生させて例えば
此処における反射率が著しく増加するようにして例えば
この液相状態部分にある位相ピットについては、例えば
回折による読み出しが超解像をもって再生可能となる。
The optical disc according to the present invention utilizes the temperature distribution of the reading light in the scanning spot upon reproduction thereof, so that the phase change material layer 4 is partially in the liquid phase state in the high temperature region generated in the spot. Is generated, and the reflectance here is remarkably increased, for example, the phase pits in this liquid phase state portion can be read with super-resolution by reading by, for example, diffraction.

【0032】すなわち、本発明による光ディスクにレー
ザスポットを照射した場合を図5を参照して説明する。
図5において横軸はスポットの走査方向に関する位置を
示したもので、今光ディスクにレーザの照射によるレー
ザ光スポットLが照射された状態についてみると、この
場合その光強度は同図中波線Aの分布を示す。これに対
応して相変化材料層4に生じる温度分布は、レーザスポ
ットLの走査速度に対応して僅かに矢印Cで示すスポッ
トLの走査方向に対し遅れた同図中実線Bの温度分布を
示し、これに対応した反射率分布が得られる。
That is, the case where the optical disk according to the present invention is irradiated with a laser spot will be described with reference to FIG.
In FIG. 5, the horizontal axis represents the position of the spot in the scanning direction. Looking at the state where the optical disk is irradiated with the laser light spot L by laser irradiation, in this case, the light intensity is shown by the wavy line A in the figure. The distribution is shown. Corresponding to this, the temperature distribution generated in the phase change material layer 4 corresponds to the scanning speed of the laser spot L, and corresponds to the temperature distribution of the solid line B in the figure slightly delayed with respect to the scanning direction of the spot L indicated by the arrow C. The reflectance distribution corresponding to this is obtained.

【0033】此処で上述したようにレーザスポットL
が、同図中矢印Cで示す方向に走査されているとする
と、光ディスクは、レーザスポットLの走行方向の先端
側から次第に温度が上昇し次に相変化材料層4の融点M
P以上の温度となる。この段階で相変化材料層4は初期
の結晶状態から溶融状態になり、この溶融状態への移行
によって反射率が増加する。つまりレーザ光スポットL
内では、図中斜線を付して示した反射率が高い、即ち位
相ピット1の読み出しが可能な領域Pxと、反射率が低
い領域Pzとが存在する。
Here, as described above, the laser spot L
However, if the optical disc is scanned in the direction indicated by arrow C in the figure, the temperature of the optical disc gradually rises from the tip side in the traveling direction of the laser spot L, and then the melting point M of the phase change material layer 4 is reached.
The temperature is P or higher. At this stage, the phase change material layer 4 changes from the initial crystalline state to the molten state, and the transition to this molten state increases the reflectance. That is, the laser beam spot L
In the figure, there are a region Px having a high reflectance, that is, a region Px in which the reading of the phase pit 1 is possible, and a region Pz having a low reflectance, which are shaded in the figure.

【0034】従ってこの場合、図示のように同一スポッ
トL内に例えば2つの位相ピット1が存在している場合
においても、反射率が大なる領域Pxに存在する1つの
位相ピット1に関してのみその読み出しを行なうことが
でき、他の位相ピットに関してはこれが反射率がきわめ
て低い領域Pzにあってこれの読み出しがなされない。
このように同一スポットL内に複数の位相ピット1が存
在しても、単一の位相ピット1に関してのみその読み出
しを行なうことができることから、レンズ系の開口数N
A、読み出し光の波長λに制限されることなく超解像再
生が可能となる。
Therefore, in this case, even if, for example, two phase pits 1 exist in the same spot L as shown in the figure, only one phase pit 1 existing in the region Px having a high reflectance is read out. For other phase pits, this is in the region Pz where the reflectance is extremely low, and the readout is not performed.
Even if a plurality of phase pits 1 are present in the same spot L as described above, the readout can be performed only for a single phase pit 1, so that the numerical aperture N of the lens system is
A. Super-resolution reproduction is possible without being limited by the wavelength λ of the read light.

【0035】一方、従来の相変化による反射率変化のみ
による光記録方式を採る場合、BiTe共晶合金を相変
化材料層として用いることが例えば特開平62−200
544号公開公報に報告されている。しかしながらこの
場合においては記録ピット部をアモルファス化して情報
の記録再生を行うものであって、長期間にわたり安定し
たアモルファス状態を得ることを目的としており、例え
ばBiとTeとの組成比は15:85(≒1:5.7)
程度とされている。
On the other hand, in the case of adopting the conventional optical recording method only by changing the reflectance due to the phase change, it is preferable to use a BiTe eutectic alloy as the phase change material layer, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 62-200.
It is reported in Japanese Patent Publication No. 544. However, in this case, information is recorded / reproduced by amorphizing the recording pit portion, and the purpose is to obtain a stable amorphous state for a long period of time. For example, the composition ratio of Bi and Te is 15:85. (≈1: 5.7)
It is considered as a degree.

【0036】この構成をそのまま本発明に適用して超解
像再生を行った場合、上述の比較例2から、良好な再生
出力が得られないことが予想される。
When super-resolution reproduction is performed by directly applying this configuration to the present invention, it is expected from Comparative Example 2 described above that a good reproduction output cannot be obtained.

【0037】これに対し本発明は、上述したように超解
像再生を行う場合において、その再生特性の向上をはか
るためにBiTe合金が有用であり、且つその組成比を
特に1:1〜1:3の範囲とすることによって、より安
定確実に再生特性の向上をはかることができるようにし
たものである。
On the other hand, in the present invention, the BiTe alloy is useful in order to improve the reproduction characteristics in the case of performing super-resolution reproduction as described above, and the composition ratio thereof is particularly 1: 1 to 1. By setting the ratio to be in the range of 3 :, it is possible to more stably and surely improve the reproduction characteristics.

【0038】尚、上述の実施例においては、透明基板2
上に位相ピット1を形成するものであるが、この発明は
その他の光学的に読み出し可能な記録ピットを形成する
ものにも適用できる。またその材料構成においても、種
々の変形変更が可能であることはいうまでもない。
In the above embodiment, the transparent substrate 2
Although the phase pit 1 is formed on the upper side, the present invention can be applied to other optical readable recording pits. Needless to say, various modifications and changes can be made to the material configuration.

【0039】[0039]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、その読
み出し光スポット内の温度分布の差によって反射率の差
を生じさせて、光スポット内の特定の位相ピットに関し
てのみ読み出しがなされるようにして超解像再生を行な
うことができると共に、特に相変化材料にBiTe合金
を用いることによりC/N(S/N)の高い再生を行な
うことができる記録密度の高い光ディスクとなる。
As described above, according to the present invention, the difference in the reflectance is caused by the difference in the temperature distribution in the read light spot so that the read can be performed only with respect to a specific phase pit in the light spot. Thus, an optical disc with a high recording density can be obtained which can be reproduced at a high resolution and can be reproduced with a high C / N (S / N) by using a BiTe alloy as a phase change material.

【0040】また、BiとTeの組成比を1:1から
1:3とし、特にほぼ2:3の組成とすることによっ
て、安定確実に高C/N又は高S/Nをもって超解像再
生を行うことができる。
Further, by setting the composition ratio of Bi and Te to 1: 1 to 1: 3, and particularly to a composition of about 2: 3, super-resolution reproduction can be stably and reliably achieved with high C / N or high S / N. It can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基本的構成を示す要部概略断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a basic configuration of the present invention.

【図2】本発明実施例の構成を示す要部概略断面図であ
る。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an essential part showing the configuration of an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施例の説明に供する線速とC/
Nの関係を示す図である。
FIG. 3 is a drawing showing the linear velocity and C / used to explain the first embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the relationship of N.

【図4】本発明の第2実施例の説明に供する線速とC/
Nの関係を示す図である。
FIG. 4 is a graph showing a linear velocity and C / used for explaining a second embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the relationship of N.

【図5】光スポットと光ディスクの温度分布との関係を
示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between a light spot and a temperature distribution of an optical disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 位相ピット 2 透明基板 3 第1の誘電体層 4 相変化材料層 5 第2の誘電体層 6 反射膜 7 第3の誘電体層 1 Phase Pit 2 Transparent Substrate 3 First Dielectric Layer 4 Phase Change Material Layer 5 Second Dielectric Layer 6 Reflective Film 7 Third Dielectric Layer

フロントページの続き (72)発明者 小野 真澄 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内Front page continued (72) Inventor Masumi Ono 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 情報信号に応じて光学的に読み出し可能
な位相ピットが形成された透明基板上に相変化材料層が
形成されて成り、読み出し光が照射されたときに、上記
相変化材料層が読み出し光の走査スポット内で部分的に
液相化して反射率が変化する光ディスクにおいて、 上記相変化材料層にBiTe合金を用いて成ることを特
徴とする光ディスク。
1. A phase-change material layer is formed on a transparent substrate on which optically readable phase pits are formed according to an information signal, and the phase-change material layer is formed when read light is irradiated. In the optical disc in which the reflectance is changed by partially liquefying in the scanning spot of the reading light, a BiTe alloy is used for the phase change material layer.
【請求項2】 上記請求項1に記載の光ディスクにおい
て、 BiとTeの組成比が、1:1から1:3の範囲に選定
されることを特徴とする光ディスク。
2. The optical disk according to claim 1, wherein the composition ratio of Bi and Te is selected in the range of 1: 1 to 1: 3.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6901036B2 (en) 2000-09-04 2005-05-31 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Method and apparatus for reproducing an optical signal
US7830766B2 (en) 2006-03-14 2010-11-09 Ricoh Company, Ltd. Data reproduction method and apparatus, disk, and recording/reproduction apparatus, using PRML method

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