JPH06124480A - Optical disk - Google Patents

Optical disk

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JPH06124480A
JPH06124480A JP4273171A JP27317192A JPH06124480A JP H06124480 A JPH06124480 A JP H06124480A JP 4273171 A JP4273171 A JP 4273171A JP 27317192 A JP27317192 A JP 27317192A JP H06124480 A JPH06124480 A JP H06124480A
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JP
Japan
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change material
dielectric layer
phase change
phase
layer
Prior art date
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JP4273171A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Yasuda
宏一 保田
Atsushi Fukumoto
敦 福本
Masumi Ono
真澄 小野
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PURPOSE:To enhance the sensitivity, the repetition durability and the C/N (S/N) ratio of an ultrahigh-resolution playback-type optical disk. CONSTITUTION:At least a first dielectric layer 4, a phase-change material layer 3 and a second dielectric layer 5 are laminated on a transparent substrate 2 in which optically readable phase pits 1 have been formed according to an information signal. The phase change material layer 3 is changed partly into a liquid phase inside the scanning spot of a beam of readout light when the beam of readout light is shone. In an optical disk formed in this manner, a dielectric whose thermal conductivity has a value of 0.006 to 0.25J/cmKs is used for the dielectric layers.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、レーザ光照射により
情報の再生を行なう光ディスク、特に高密度記録に好適
な光ディスクに係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk for reproducing information by irradiating a laser beam, and more particularly to an optical disk suitable for high density recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばディジタルオーディオディスク
(いわゆるコンパクトディスク)や、ビデオディスク等
の光ディスクは、予め情報信号に応じて位相ピットが形
成された透明基板上にアルミニウム反射膜を成膜し、そ
の上に保護膜等を形成することで構成されている。この
ような光ディスクでは、ディスク面に読み出し光を照射
して位相ピットの形成部での光の回折による反射光量の
大幅な減少を検出することによって信号の読み出し(再
生)を行なうようにしている。
2. Description of the Related Art For optical discs such as digital audio discs (so-called compact discs) and video discs, an aluminum reflection film is formed on a transparent substrate on which phase pits are formed in advance according to an information signal, and an aluminum reflection film is formed thereon. It is configured by forming a protective film and the like. In such an optical disc, the signal is read (reproduced) by irradiating the disc surface with the reading light and detecting a large decrease in the amount of reflected light due to the diffraction of the light at the phase pit forming portion.

【0003】ところで、上述のような光ディスクにおい
て、信号再生の分解能は、ほとんど再生光学系の光源の
波長λと対物レンズの開口数NAで決まり、空間周波数
2NA/λが再生限界となる。
By the way, in the above-mentioned optical disk, the resolution of signal reproduction is almost determined by the wavelength λ of the light source of the reproduction optical system and the numerical aperture NA of the objective lens, and the spatial frequency 2NA / λ is the reproduction limit.

【0004】そのため、このような光ディスクにおいて
高密度化を実現するためには、再生光学系の光源(例え
ば半導体レーザ)の波長λを短くすること、あるいは対
物レンズの開口数NAを大きくすることが必要となる。
Therefore, in order to realize high density in such an optical disc, it is necessary to shorten the wavelength λ of the light source (for example, semiconductor laser) of the reproducing optical system or increase the numerical aperture NA of the objective lens. Will be needed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、光源の波長λ
や対物レンズの開口数NAの改善には自ずと限界があ
り、これによって記録密度を飛躍的に高めることは難し
いのが実情である。そこで、本出願人は、読み出し光の
走査スポット内の部分的相変化による反射率変化を利用
することで、上述した波長λや開口数NAによる制限以
上の解像度を得ることができる光ディスクを提案した
(特願平2−94452号出願、特願平3−24951
1号出願)。
However, the wavelength λ of the light source is
There is a limit to the improvement of the numerical aperture NA of the objective lens and the objective lens, and it is difficult to dramatically increase the recording density by this. Therefore, the present applicant has proposed an optical disc that can obtain a resolution higher than the above-mentioned limits by the wavelength λ and the numerical aperture NA by utilizing the reflectance change due to the partial phase change in the scanning spot of the reading light. (Japanese Patent Application No. 2-94452, Japanese Patent Application No. 3-24951)
No. 1 application).

【0006】これら出願に係わる発明は、読み出し光の
レーザスポット内の部分的相変化により反射率を変化さ
せ超解像再生を行うようにした光ディスクあるいはその
再生方式に係わるものである。しかるに、これら出願に
係わる発明においては、相変化材料層を用いたときに、
再生感度及び再生に溶融を伴うために生ずる劣化、つま
り繰り返し耐久性についての考慮がなされていなかっ
た。
The inventions relating to these applications relate to an optical disc or a reproducing system thereof for performing super-resolution reproduction by changing the reflectance by a partial phase change in the laser spot of the reading light. However, in the inventions related to these applications, when the phase change material layer is used,
No consideration was given to reproduction sensitivity and deterioration caused by melting accompanying reproduction, that is, repeated durability.

【0007】本発明においては、このような光ディスク
において上述したような繰り返し耐久性を改善し、高い
キャリア/ノイズ比(C/N)を得られるようにするこ
とを目的とする。
It is an object of the present invention to improve the repetition durability as described above in such an optical disc and to obtain a high carrier / noise ratio (C / N).

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、図1にその要
部の略線的断面図を示すように、光学的に読み出し可能
な記録ピットこの場合位相ピット1が情報信号に応じて
形成された透明基板2上に、少なくとも第1の誘電体層
4が形成され、この第1の誘電体層4上に溶融後反射率
変化し得る相変化材料層3が形成され、この相変化材料
層3の上に第2の誘電体層5が形成されて成り、読み出
し光が照射されたときに、相変化材料層3が読み出し光
の走査スポット内で部分的に液相化して反射率が変化す
るようになされた光ディスクにおいて、少なくとも第1
及び第2の誘電体層4、5に、熱伝導率が0.006J
/cmKs〜0.25J/cmKsの値を有する誘電体
材料を用いる構成とする。
According to the present invention, an optically readable recording pit, in this case, a phase pit 1 is formed according to an information signal, as shown in FIG. At least a first dielectric layer 4 is formed on the transparent substrate 2 thus formed, and a phase change material layer 3 capable of changing the reflectance after melting is formed on the first dielectric layer 4. The second dielectric layer 5 is formed on the layer 3, and when the reading light is irradiated, the phase change material layer 3 is partially liquefied in the scanning spot of the reading light and the reflectance is increased. At least a first optical disc adapted to change
And the second dielectric layers 4 and 5 have a thermal conductivity of 0.006J.
/ CmKs to 0.25 J / cmKs is used as the dielectric material.

【0009】また本発明は、上述の相変化材料層3に、
Ge、Teの組成比が3:1から3:9とされ、且つS
b、Teの組成比が12:3から12:28であって、
Ge、TeとSb、Teの組成比は任意の値をとる材料
を用いて構成する。
Further, the present invention provides the above-mentioned phase change material layer 3 with
The composition ratio of Ge and Te is 3: 1 to 3: 9, and S
The composition ratio of b and Te is 12: 3 to 12:28,
The composition ratio of Ge, Te and Sb, Te is set to an arbitrary value.

【0010】更にまた本発明は、上述の第1及び第2の
誘電体層に、金属及び半導体元素の窒化物か酸化物か硫
化物、或いはこれらの混合物を用いる構成とする。
Furthermore, the present invention has a structure in which a nitride, an oxide, a sulfide of a metal and a semiconductor element, or a mixture thereof is used for the above-mentioned first and second dielectric layers.

【0011】また本発明は、上述の構成において、その
要部の概略的断面図を図2に示すように、第2の誘電体
層5の上に反射膜6を設けて構成し、この反射膜6に、
熱伝導率及び反射率の良好な金属を用いる構成とする。
Further, according to the present invention, the reflection film 6 is provided on the second dielectric layer 5 as shown in FIG. 2 which is a schematic cross-sectional view of the essential part of the above-mentioned structure, and the reflection film 6 is formed. On membrane 6,
A metal having good thermal conductivity and reflectance is used.

【0012】[0012]

【作用】本発明による光ディスクは、その記録ピットに
よる記録の読み出し即ち再生に当たっては、その読み出
し光の走査スポット内での温度分布を利用して、スポッ
ト内に生じる高温領域で部分的に相変化材料層に液相状
態を発生させて、例えば此処における反射率が著しく増
加するようにして例えばこの液相状態部分にある位相ピ
ットについては、例えば回折による読み出しが可能とな
るようになされる。
The optical disk according to the present invention utilizes the temperature distribution in the scanning spot of the read light in reading or reproducing the recording by the recording pits, and partially uses the phase change material in the high temperature region generated in the spot. A liquid phase state is generated in the layer so that, for example, the reflectance here is remarkably increased so that, for example, the phase pits in the liquid phase state portion can be read out by, for example, diffraction.

【0013】つまり、読み出し光スポット内において記
録ピットを光学的に出現させる領域を形成してこのスポ
ット内で例えば一の記録ピットのみを読み出すことがで
き、λ/2NAに制約されない超解像再生を行なうこと
ができる。特に、例えば低温部分の反射率を著しく小さ
くし、高温部分の反射率を大きくすると、膜厚が限定さ
れて半導体レーザーでは充分な再生ができなくなる場合
がある。
That is, it is possible to form a region in which a recording pit optically appears in the read light spot and read only one recording pit in this spot, for example, and to perform super-resolution reproduction not restricted by λ / 2NA. Can be done. In particular, for example, if the reflectance in the low temperature portion is remarkably reduced and the reflectance in the high temperature portion is increased, the film thickness may be limited and sufficient reproduction may not be possible with the semiconductor laser.

【0014】本発明においては、特に相変化材料層の上
下に設ける第1及び第2の誘電体層を、熱伝導率が0.
006〜0.25J/cmKsの材料を用いて構成する
ことによって、再生に最適な層構成を得ることができ、
その感度を良好にし、且つ充分な再生出力を得て、また
耐久性の向上をはかることができた。
In the present invention, in particular, the first and second dielectric layers provided above and below the phase change material layer have a thermal conductivity of 0.
By using a material of 006 to 0.25 J / cmKs, it is possible to obtain an optimum layer structure for reproduction,
It was possible to improve the sensitivity, obtain a sufficient reproduction output, and improve the durability.

【0015】[0015]

【実施例】本発明は、図1にその一例のいわば基本的構
成を示すように、記録ピットこの場合位相ピット1が形
成された透明基板2上に、少なくとも第1の誘電体層4
を形成して、この第1の誘電体層4上に、溶融後初期状
態に戻り得る相変化材料層3を形成し、更にこの相変化
材料層3の上に第2の誘電体層5を形成する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 1 showing the basic structure of the present invention, at least a first dielectric layer 4 is formed on a transparent substrate 2 on which recording pits, in this case, phase pits 1 are formed.
To form a phase change material layer 3 on the first dielectric layer 4 that can return to an initial state after melting, and further form a second dielectric layer 5 on the phase change material layer 3. Form.

【0016】そして、読み出し光、例えばレーザ光がこ
の相変化材料層3に照射されたときに、この相変化材料
層4の読み出し光の走査スポット内で部分的に液相状態
となり反射率が増加すると共に読み出し後の状態で初期
状態の反射率に戻るようにする。
When the reading light, for example, a laser beam is applied to the phase change material layer 3, the reading light of the phase change material layer 4 partially enters a liquid phase state and the reflectance increases. At the same time, the reflectance after the reading is returned to the initial state.

【0017】図1に示した例においては、位相ピット1
を有する透明基板2上に第1の誘電体層4を介して相変
化材料層3が形成され、さらにこれの上に第2の誘電体
層5を形成するようにした場合であるが、例えば図2に
その要部の略線的拡大断面図を示すように位相ピット1
を有する透明基板2上に第1の誘電体層4を介して相変
化材料層3が形成され、さらにこれの上に第2の誘電体
層5が形成され、これの上に反射膜6さらにこの上に第
3の誘電体層7が形成され、さらにある場合はこの上に
保護膜(図示せず)が形成されてなり、第1及び第2の
誘電体層4及び5によって光学特性例えば反射率等の設
定がなされる構成とすることもできる。この場合、第3
の誘電体層7によって積層膜の機械強度を向上させ、繰
り返し読み出し耐久性の向上をはかることができる。
In the example shown in FIG. 1, phase pit 1
In this case, the phase change material layer 3 is formed on the transparent substrate 2 having the first dielectric layer 4 and the second dielectric layer 5 is further formed thereon. The phase pit 1 is shown in FIG.
A phase change material layer 3 is formed on a transparent substrate 2 having a first dielectric layer 4, a second dielectric layer 5 is further formed on the phase change material layer 3, and a reflective film 6 is further formed on the second dielectric layer 5. A third dielectric layer 7 is formed on this, and a protective film (not shown) is further formed on the third dielectric layer 7 if there is any, and the first and second dielectric layers 4 and 5 provide optical characteristics such as It is also possible to adopt a configuration in which the reflectance and the like are set. In this case, the third
The dielectric layer 7 can improve the mechanical strength of the laminated film and improve the repeated read durability.

【0018】そして、本発明による光ディスクは、その
再生に当たってその読み出し光の走査スポット内での温
度分布を利用して、そのスポット内に生じる高温領域で
部分的に相変化材料層3に液相状態を発生させて例えば
此処における反射率が著しく増加するようにして、例え
ばこの液相状態部分にある位相ピットについては、例え
ば回折による読み出しが超解像をもって再生可能とな
る。
The optical disc according to the present invention utilizes the temperature distribution of the reading light in the scanning spot upon reproduction thereof, so that the phase change material layer 3 is partially in a liquid phase state in a high temperature region generated in the spot. Is generated to cause the reflectance here to increase remarkably, for example, the phase pits in this liquid phase state portion can be reproduced with super-resolution by reading by diffraction, for example.

【0019】すなわち、本発明による光ディスクにレー
ザスポットを照射した場合を図3を参照して説明する。
図3において横軸はスポットの走査方向に関する位置を
示したもので、今光ディスクにレーザの照射によるレー
ザ光スポットLが照射された状態についてみると、この
場合その光強度は同図中破線Aの分布を示す。これに対
して相変化材料層3における温度分布に対応した温度分
布は、同図中実線Bで示すように、レーザスポットLの
走査速度に対応して僅かに矢印Cで示すスポットLの走
査方向に対し遅れた分布となり、その反射率も同様の分
布を示す。
That is, the case where the optical disk according to the present invention is irradiated with a laser spot will be described with reference to FIG.
In FIG. 3, the horizontal axis represents the position of the spot in the scanning direction. Looking at the state where the optical disk is irradiated with the laser light spot L by laser irradiation, in this case, the light intensity is shown by the broken line A in FIG. The distribution is shown. On the other hand, the temperature distribution corresponding to the temperature distribution in the phase change material layer 3 corresponds to the scanning speed of the laser spot L, as indicated by the solid line B in FIG. The distribution is delayed, and the reflectance also shows the same distribution.

【0020】此処で上述したようにレーザスポットL
が、図3中矢印Cで示す方向に走査されているとする
と、光ディスクは、レーザスポットLの走行方向の先端
側から次第に温度が上昇し、次に相変化材料層3の融点
MP以上の温度となる。この段階で相変化材料層3は初
期の結晶状態から溶融状態になり、この溶融状態への移
行によって反射率が増加する。つまりレーザ光スポット
L内には図中斜線を付して示した反射率が高い領域即ち
位相ピット1の読み出しが可能な領域Pxと、反射率が
低い領域Pzとが存在する。
Here, as described above, the laser spot L
However, if the optical disc is scanned in the direction indicated by arrow C in FIG. 3, the temperature of the optical disc gradually rises from the leading end side in the traveling direction of the laser spot L, and then the temperature of the melting point MP of the phase change material layer 3 or higher. Becomes At this stage, the phase-change material layer 3 changes from the initial crystalline state to the molten state, and the transition to this molten state increases the reflectance. That is, in the laser light spot L, there are a region Px having a high reflectance, that is, a region Px in which the phase pit 1 can be read, and a region Pz having a low reflectance, which are shaded in the drawing.

【0021】従ってこの場合、図示のように同一スポッ
トL内に例えば2つの位相ピット1a及び1bが存在し
ている場合においても、反射率が大なる領域Pxに存在
する1つの位相ピット1aに関してのみその読み出しを
行なうことができ、他の位相ピット1bに関してはこれ
が反射率がきわめて低い領域Pzにあってこれの読み出
しがなされない。このように同一スポットL内に複数の
位相ピット1a、1bが存在しても、単一の位相ピット
1aに関してのみその読み出しを行なうことができるこ
とから、レンズ系の開口数NA、読み出し光の波長λに
制限されることなく超解像再生が可能となる。
Therefore, in this case, even if, for example, two phase pits 1a and 1b exist in the same spot L as shown in the figure, only one phase pit 1a existing in the region Px having a high reflectance is shown. The reading can be performed, and the other phase pits 1b are not read because they are in the region Pz where the reflectance is extremely low. Even if a plurality of phase pits 1a and 1b are present in the same spot L as described above, since the reading can be performed only with respect to a single phase pit 1a, the numerical aperture NA of the lens system and the wavelength λ of the read light. Super resolution reproduction is possible without being limited to.

【0022】このとき各層の構成材料の光学定数及び膜
厚により反射率は特定される。そこで光学定数が同一
で、熱伝導率が異なる誘電体を用いることにより感度を
調整することができる。ここで、本発明における超解像
再生では、溶融を伴うために相変化材料層の流動が発生
して繰り返し再生が困難になる。よって感度が良ければ
いいと言うものではなく、感度と繰り返し耐久性の兼ね
合いが必要となる。
At this time, the reflectance is specified by the optical constant and the film thickness of the constituent material of each layer. Therefore, the sensitivity can be adjusted by using dielectrics having the same optical constant but different thermal conductivity. Here, in the super-resolution reproduction in the present invention, since the phase change material layer flows due to the melting, repeated reproduction becomes difficult. Therefore, it does not mean that sensitivity is good, but it is necessary to strike a balance between sensitivity and repeated durability.

【0023】本実施例においては、各誘電体材料として
所定の範囲の熱伝導率を有する同一材料を用いて構成
し、その膜厚を異ならしめることによりいわばその熱容
量の異なる誘電体を用いて光ディスクを構成し、その再
生特性を測定した。以下これを説明する。
In the present embodiment, optical disks are constructed by using the same material having a thermal conductivity in a predetermined range as each dielectric material, and by making the film thicknesses different from each other, that is, dielectric materials having different heat capacities. Was constructed and its reproduction characteristics were measured. This will be described below.

【0024】実施例1 この例においては、図2で説明した構成を採った場合
で、透明基板2として、ガラス2P基板を使用した。こ
こでいう2Pとは、フォトポリマー法のことである。そ
して、本例においては、トラックピッチP=1.6μ
m、ピット深さ約120nm、ピット幅W=0.3、
0.4、0.5、0.8、1.2、2.0μmの設定条
件で形成した。
Example 1 In this example, a glass 2P substrate was used as the transparent substrate 2 when the configuration described in FIG. 2 was adopted. The 2P referred to here is a photopolymer method. In this example, the track pitch P = 1.6μ
m, pit depth about 120 nm, pit width W = 0.3,
It was formed under the setting conditions of 0.4, 0.5, 0.8, 1.2 and 2.0 μm.

【0025】そして、このピット1を有する透明基板2
の一主面に厚さ90nmで熱伝導率が0.25J/cm
KsであるAlNより成る第1の誘電体層4を被着形成
し、これの上に厚さ17nmのGe2 Sb2 Te5 三元
合金よりなる相変化材料層3を被着形成した。さらにこ
れの上に厚さ66nmのAlNより成る第2の誘電体層
5を被着形成した。さらにこれの上にAl反射膜6を1
80nmの厚さに被着形成し、さらにこれの上に厚さ9
0nmのAlNによる第3の誘電体層7を被着形成し
た。
Then, the transparent substrate 2 having the pits 1
90nm thick with thermal conductivity of 0.25J / cm
A first dielectric layer 4 made of AlN, which is Ks, was deposited, and a phase change material layer 3 made of Ge 2 Sb 2 Te 5 ternary alloy with a thickness of 17 nm was deposited on the first dielectric layer 4. Further, a second dielectric layer 5 made of AlN and having a thickness of 66 nm was deposited thereon. Further, an Al reflection film 6 is formed on top of this.
Deposition to a thickness of 80 nm, and then a thickness of 9
A third dielectric layer 7 of 0 nm AlN was deposited.

【0026】このように形成された光ディスクに対し
て、その線速を3.6m/sに設定して再生パワーを1
0mWにして再生を行った。このときの各ピット幅のC
/Nとピット長との関係を図4に示す。その再生を行な
ってそのC/Nが劣化するのに要した繰り返し回数は1
00000回であった。ここで言う劣化とは、当初のC
/Nから1dB以上低下したときをいう。
With respect to the optical disc thus formed, the linear velocity is set to 3.6 m / s and the reproducing power is set to 1
Regeneration was performed at 0 mW. C of each pit width at this time
The relationship between / N and the pit length is shown in FIG. The number of repetitions required to deteriorate the C / N by performing the reproduction is 1
It was 00000 times. The deterioration referred to here is the original C
/ N means a decrease of 1 dB or more.

【0027】実施例2 この例においては、第1、第2及び第3の誘電体層4、
5及び7に熱伝導率が0.03J/cmKsであるSi
3 4 を用いた以外は実施例1と同様の構成とした。
Example 2 In this example, the first, second and third dielectric layers 4,
Si having thermal conductivity of 0.03 J / cmKs in 5 and 7
The same structure as in Example 1 was used except that 3 N 4 was used.

【0028】このように形成された光ディスクに対し
て、その線速を3.6m/sに設定して再生パワーを1
0mWにしたときのC/Nとピット長との関係を図5に
示した。その再生を行なってそのC/Nが劣化するのに
要した繰り返し回数は10000回であった。
With respect to the optical disc thus formed, the linear velocity is set to 3.6 m / s and the reproduction power is set to 1
The relationship between the C / N and the pit length at 0 mW is shown in FIG. The number of repetitions required for the regeneration to deteriorate the C / N was 10,000 times.

【0029】実施例3 この例においては、第1、第2及び第3の誘電体層に熱
伝導率が0.006J/cmKsであるZnSとSi2
3 を原子比で8:2とした混合物を用いた以外は実施
例1と同様の構成とした。
Example 3 In this example, ZnS and Si 2 having a thermal conductivity of 0.006 J / cmKs are applied to the first, second and third dielectric layers.
The structure was the same as in Example 1 except that a mixture of O 3 in an atomic ratio of 8: 2 was used.

【0030】このように形成された光ディスクに対し
て、その線速を3.6m/sに設定して再生パワーを1
0mWとして再生を行ったときのC/Nとピット長との
関係を図5に示した。その再生を行なってそのC/Nが
劣化するのに要した繰り返し回数は1000回であっ
た。
For the optical disc thus formed, the linear velocity is set to 3.6 m / s and the reproduction power is set to 1
FIG. 5 shows the relationship between the C / N and the pit length when reproduction was performed at 0 mW. The number of repetitions required for the regeneration to deteriorate the C / N was 1000 times.

【0031】これに対し、上述の構成において、第2の
誘電体層を省略した構成として光ディスクを形成した。
これを以下の比較例として示す。 比較例 上述の構成において、相変化材料層3上に直接的に、熱
伝導率が2.144J/cmKsであるAl反射膜6を
形成して、他部は上述の例と同様の材料構成をもって光
ディスクを構成した。この光ディスクに対して、その線
速を1.0m/sに設定して再生パワーを10mWにし
たときのピット長0.3μmのC/Nは20dBであり
実用に適さないものとなった。
On the other hand, in the above-mentioned structure, the optical disk was formed by omitting the second dielectric layer.
This is shown as a comparative example below. Comparative Example In the above structure, the Al reflective film 6 having a thermal conductivity of 2.144 J / cmKs is formed directly on the phase change material layer 3, and the other parts have the same material structure as the above example. An optical disc was constructed. With respect to this optical disk, the C / N of a pit length of 0.3 μm was 20 dB when the linear velocity was set to 1.0 m / s and the reproduction power was set to 10 mW, which was not suitable for practical use.

【0032】これらの結果から、上述の各実施例1〜3
及び比較例からわかるように、少なくとも層変化材料層
3の上の第2の誘電体層5の材料を、熱伝導率が0.0
06J/cmKs〜0.25J/cmKsとされた材料
を用いる本発明構成による光ディスクによれば、感度を
良好にして、30〜40dB程度以上の実用に充分なC
/Nが得られると共に、その繰り返し再生の耐久性を充
分高めることができることがわかる。
From these results, the above-mentioned first to third embodiments
And as can be seen from the comparative example, at least the material of the second dielectric layer 5 on the layer change material layer 3 has a thermal conductivity of 0.0
According to the optical disk of the present invention, which uses the material of which the amount is set to 06 J / cmKs to 0.25 J / cmKs, the sensitivity is improved and the C which is about 30 to 40 dB or more is sufficient for practical use.
It is understood that / N can be obtained and the durability of repeated reproduction can be sufficiently enhanced.

【0033】尚、上述の透明基板2の材料としては、ア
クリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ガラス等を用い
ることができる。
As the material of the above-mentioned transparent substrate 2, acrylic resin, polyolefin resin, glass or the like can be used.

【0034】さらに、相変化材料層3としては、Ge、
Teの組成比が、3:1から3:9かつ、Sb、Teの
組成比が12:3から12:28であって、Ge、Te
とSb、Teの組成比は任意の値をとるものならばこの
発明の光ディスクに適用することができる。特に、2:
2:5、1:2:4、1:4:7の値をとるものは高C
/N(S/N)を得ることができる。
Further, as the phase change material layer 3, Ge,
The composition ratio of Te is 3: 1 to 3: 9, and the composition ratio of Sb and Te is 12: 3 to 12:28.
The composition ratio of Sb and Te can be applied to the optical disc of the present invention as long as it takes an arbitrary value. Especially 2:
Those with values of 2: 5, 1: 2: 4, 1: 4: 7 are high C
/ N (S / N) can be obtained.

【0035】また、第1及び第2の誘電体層4及び5と
しては、Al、Si等金属及び半導体元素の窒化物、酸
化物、硫化物があげられ、これらの化合物で半導体レー
ザ波長領域において吸収の無いもので、熱伝導率が0.
006J/cmKsから0.25J/cmKsの範囲の
ものならば何でもよい。
The first and second dielectric layers 4 and 5 include nitrides, oxides and sulfides of metals such as Al and Si and semiconductor elements, and these compounds are used in the semiconductor laser wavelength region. It has no absorption and has a thermal conductivity of 0.
Any value in the range of 006 J / cmKs to 0.25 J / cmKs may be used.

【0036】さらに、反射膜6としては、Al、Au等
反射率及び熱伝導率の良好な金属であれば用いることが
できる。
Further, as the reflective film 6, any metal such as Al or Au having a good reflectance and thermal conductivity can be used.

【0037】また、上の各実施例においては、透明基板
2上に位相ピット1を形成するものであるが、本発明は
その他の光学的に読み出し可能な記録ピットを形成する
場合にも適用でき、種々の変形変更が可能であることは
いうまでもない。
Further, in each of the above embodiments, the phase pit 1 is formed on the transparent substrate 2, but the present invention can be applied to the case of forming other optically readable recording pits. Needless to say, various modifications and changes are possible.

【0038】[0038]

【発明の効果】上述したように本発明においては、その
読み出し光スポット内の温度分布の差によって反射率の
差を生じさせて、光スポット内の特定の位相ピットに関
してのみ読み出しがなされるようにして超解像再生を行
うことができると共に、特にこの発明においては、少な
くとも第2の誘電体層に熱伝導率が0.006J/cm
Ksから0.25J/cmKsの値を有する誘電体を用
いることにより、C/N(S/N)の高い再生を行なう
ことができ、その繰り返し読み出しの耐久性を格段に向
上することができる。
As described above, according to the present invention, the difference in the reflectance is caused by the difference in the temperature distribution in the read light spot so that the read can be performed only with respect to a specific phase pit in the light spot. Super-resolution reproduction can be performed, and particularly in the present invention, at least the second dielectric layer has a thermal conductivity of 0.006 J / cm.
By using a dielectric having a value of Ks to 0.25 J / cmKs, reproduction with high C / N (S / N) can be performed, and the durability of repeated reading can be significantly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光ディスクの一例の要部の略線的拡大断面図で
ある。
FIG. 1 is an enlarged schematic cross-sectional view of a main part of an example of an optical disc.

【図2】光ディスクの他の例の要部の略線的拡大断面図
である。
FIG. 2 is a schematic enlarged cross-sectional view of a main part of another example of an optical disc.

【図3】レーザスポットの光強度分布と光ディスクの温
度分布との関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a light intensity distribution of a laser spot and a temperature distribution of an optical disc.

【図4】本発明の一実施例におけるピット長とC/Nの
関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a pit length and C / N in one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施例におけるピット長とC/N
の関係を示す図である。
FIG. 5 is a pit length and C / N in another embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the relationship of.

【図6】本発明の他の実施例におけるピット長とC/N
の関係を示す図である。
FIG. 6 is a pit length and C / N in another embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the relationship of.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 位相ピット 2 透明基板 3 相変化材料層 4 第1の誘電体層 5 第2の誘電体層 6 反射膜 7 第3の誘電体層 1 Phase Pit 2 Transparent Substrate 3 Phase Change Material Layer 4 First Dielectric Layer 5 Second Dielectric Layer 6 Reflective Film 7 Third Dielectric Layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学的に読み出し可能な記録ピットが情
報信号に応じて形成された透明基板上に、少なくとも第
1の誘電体層が形成され、上記第1の誘電体層上に相変
化材料層が形成され、上記相変化材料層上に第2の誘電
体層が形成されて成り、読み出し光が照射されたとき
に、上記相変化材料層が上記読み出し光の走査スポット
内で部分的に液相化して反射率が変化するようになされ
た光ディスクにおいて、 少なくとも上記第1及び第2の誘電体層に、熱伝導率が
0.006J/cmKs〜0.25J/cmKsの値を
有する誘電体材料が用いられて成ることを特徴とする光
ディスク。
1. At least a first dielectric layer is formed on a transparent substrate on which optically readable recording pits are formed according to an information signal, and a phase change material is formed on the first dielectric layer. A layer is formed, and a second dielectric layer is formed on the phase change material layer, and when the read light is irradiated, the phase change material layer is partially formed in the scanning spot of the read light. An optical disk which is made to be in a liquid phase and whose reflectance is changed, wherein at least the first and second dielectric layers have a thermal conductivity of 0.006 J / cmKs to 0.25 J / cmKs. An optical disc comprising a material.
【請求項2】 上記相変化材料層に、Ge、Teの組成
比が3:1から3:9とされ且つSb、Teの組成比が
12:3から12:28であって、Ge、TeとSb、
Teの組成比は任意の値をとる材料が用いられて成るこ
とを特徴とする上記請求項1に記載の光ディスク。
2. In the phase change material layer, the composition ratio of Ge and Te is 3: 1 to 3: 9 and the composition ratio of Sb and Te is 12: 3 to 12:28. And Sb,
2. The optical disk according to claim 1, wherein a material having an arbitrary Te composition ratio is used.
【請求項3】 上記第1及び第2の誘電体層に、金属及
び半導体元素の窒化物か酸化物か硫化物、或いはこれら
の混合物が用いられて成ることを特徴とする上記請求項
1に記載の光ディスク。
3. The first and second dielectric layers according to claim 1, wherein a nitride, an oxide, a sulfide of a metal and a semiconductor element, or a mixture thereof is used. The described optical disc.
【請求項4】 上記第2の誘電体層の上に少なくとも反
射膜が形成され、 上記反射膜に、熱伝導率及び反射率の良好な金属が用い
られて成ることを特徴とする上記請求項1に記載の光デ
ィスク。
4. The at least reflective film is formed on the second dielectric layer, and the reflective film is made of a metal having good thermal conductivity and reflectance. 1. The optical disc according to 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7313056B2 (en) 2002-08-30 2007-12-25 Fujitsu Limited Magneto-optical recording medium and magneto-optical recording device

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