JPH06181257A - Dicing apparatus - Google Patents
Dicing apparatusInfo
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- JPH06181257A JPH06181257A JP33494492A JP33494492A JPH06181257A JP H06181257 A JPH06181257 A JP H06181257A JP 33494492 A JP33494492 A JP 33494492A JP 33494492 A JP33494492 A JP 33494492A JP H06181257 A JPH06181257 A JP H06181257A
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Landscapes
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ダイシング装置であっ
て特に小型コンパクトに形成したダイシング装置に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing device, and more particularly to a dicing device formed into a small size and a compact size.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のダイシング装置は、例えば特開昭
63−288642号公報に開示される如く、図3に示
すようにウェーハを収納したカセットが位置付けられる
カセット領域Aと、ダイシング領域Eにウエーハを供給
するためのチャックテーブルが位置付けられるチャック
領域Bと、切断されたウェーハを洗浄するスピン洗浄領
域Cを有し、ウェーハをカセット領域A(カセットa)
から搬出領域B′に、搬出領域B′からチャック領域B
に、チャック領域Bからダイシング領域Eに、切断後に
チャック領域Bに戻り、そこからスピン洗浄領域Cに、
洗浄後にスピン洗浄領域Cから搬入領域C′に、搬入領
域C′から再びカセット領域A(カセットa′)に移動
しながらダイシング作業を連続的に遂行するようになっ
ている。このダイシング装置においては、搬出領域B′
とチャック領域Bとスピン洗浄領域Cと、搬入領域C′
とを同一円周上の等分割した位置に配設し、その円周の
中心に回転軸を有すると共にウェーハを着脱するチャッ
ク部を有し、その回転軸を一定角度回転させることによ
り隣接する2つの位置上のウェーハを同時に搬送できる
回転アームDを備えている。2. Description of the Related Art A conventional dicing apparatus, as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-288642, has a wafer in a dicing area E and a cassette area A in which a cassette accommodating a wafer is positioned as shown in FIG. Has a chuck area B in which a chuck table for supplying the wafer is positioned, and a spin cleaning area C for cleaning the cut wafer, and the wafer is a cassette area A (cassette a).
From the carry-out area B ′ to the carry-out area B ′ to the chuck area B
Then, from the chuck area B to the dicing area E, after cutting, the chuck area B is returned to the spin cleaning area C.
After the cleaning, the dicing operation is continuously performed while moving from the spin cleaning area C to the carry-in area C ′ and from the carry-in area C ′ to the cassette area A (cassette a ′) again. In this dicing device, the carry-out area B '
, Chuck area B, spin cleaning area C, and loading area C '
Are arranged at equally divided positions on the same circumference, and have a rotation axis at the center of the circumference and a chuck portion for attaching and detaching a wafer, and the rotation axis is rotated by a certain angle so that they are adjacent to each other. It has a rotating arm D capable of simultaneously transferring wafers on one position.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のダイシング装置によると、回転アームDを中心とし
てその同一円周上に各領域を配設しなければならないの
で、装置上面に広いスペースを確保しなければならず、
作業者から見て装置の横幅が非常に大きくなってしま
う。このため、ダイシング装置の設置面積を多く必要と
し、クリーンルームの設備費を高騰させる原因になる。
本発明は、ダイシング装置の小型化を図ることにより前
記のような従来の問題を解決することを課題としたもの
である。However, according to the above-mentioned conventional dicing apparatus, since the respective areas must be arranged on the same circumference with the rotating arm D as the center, a wide space is secured on the upper surface of the apparatus. Must be
The width of the device becomes very large when viewed from the operator. For this reason, a large installation area of the dicing device is required, which causes a rise in the equipment cost of the clean room.
An object of the present invention is to solve the above conventional problems by downsizing a dicing device.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】この課題を技術的に解決
するための手段として、本発明は、カセット領域と、チ
ャック領域と、スピン洗浄領域とがスピンドルの軸線に
対して平行線上に配設され、前記チャック領域のチャッ
クテーブルは前記平行線に対して直角方向に往復動可能
に配設されると共に、チャック領域とダイシング領域と
に位置付けられるように構成したことを要旨とする。As a means for technically solving this problem, according to the present invention, a cassette area, a chuck area, and a spin cleaning area are arranged on a line parallel to the axis of the spindle. The chuck table in the chuck area is arranged so as to be capable of reciprocating in a direction perpendicular to the parallel lines, and is positioned in the chuck area and the dicing area.
【0005】[0005]
【作 用】各領域を円周上ではなくカセット領域と、チ
ャック領域と、スピン洗浄領域とは作業者から見て前後
方向(スピンドルの軸線に対して平行方向)の直線上に
配設し、ダイシング領域はその直線に対して直角方向に
配設したので、装置の横幅を大幅に短縮することが可能
となり、しかも各領域を互いに近接配置できることから
装置全体を小型コンパクトに纏めることができる。[Operation] Arrange each area on the straight line in the front-back direction (parallel to the axis of the spindle) when viewed from the operator, rather than on the circumference, the cassette area, the chuck area, and the spin cleaning area. Since the dicing region is arranged in the direction perpendicular to the straight line, the lateral width of the device can be greatly reduced, and since the regions can be arranged close to each other, the entire device can be compact and compact.
【0006】[0006]
【実施例】以下、図示の実施例により本発明を更に詳し
く説明する。図1において、1はダイシング装置であ
り、前端側部にウェーハを収納したカセット2′が位置
付けられるカセット領域2が配設され、このカセット領
域2の中心を通る直線L上にチャック領域3とスピン洗
浄領域4とが近接配置されている。The present invention will be described in more detail with reference to the embodiments shown in the drawings. In FIG. 1, reference numeral 1 is a dicing device, and a cassette area 2 in which a cassette 2'containing a wafer is positioned is arranged on the front end side, and a chuck area 3 and a spin area are formed on a straight line L passing through the center of the cassette area 2. The cleaning area 4 is arranged in close proximity.
【0007】5はダイシング装置1の側端部に設けられ
た搬送手段であり、前記直線Lに対し平行に移動できる
ようにしてあり、前記カセット領域2に位置付けられて
いるカセット2′からテープを介してフレームに保持さ
れたウェーハ(図略)を取り出してチャック領域3に搬
送し、或は切断されたウェーハを洗浄した後にスピン洗
浄領域4からカセット領域2に搬送できるようにしてあ
る。Denoted at 5 is a conveying means provided at a side end portion of the dicing device 1 so that it can be moved in parallel with the straight line L, and a tape is ejected from a cassette 2'positioned in the cassette area 2. The wafer (not shown) held on the frame is taken out and transferred to the chuck area 3, or the cut wafer can be cleaned and then transferred from the spin cleaning area 4 to the cassette area 2.
【0008】前記搬送手段5は、図2に示すように垂直
基板51が送りねじ52によってガイドレール53に沿
って直線L方向に摺動自在に設けられ、この垂直基板5
1に対して断面L型のアーム板54が送りねじ55によ
ってガイドレール56に沿って上下移動可能に取り付け
られ、更にアーム板54の前端側にはウェーハを保持し
たフレームの一端部を把持するためのハンド機構57が
取り付けられ、後端側にはウェーハを着脱するための吸
着機構58が設けられ、この吸着機構58はシリンダー
59によって上下方向に移動可能に形成されている。
又、前記カセット領域2は送りねじ21によって上下動
可能になっている。As shown in FIG. 2, in the conveying means 5, a vertical substrate 51 is provided slidably in a straight line L direction along a guide rail 53 by a feed screw 52.
1, an arm plate 54 having an L-shaped cross section is attached by a feed screw 55 so as to be vertically movable along a guide rail 56. Further, the front end side of the arm plate 54 holds one end of a frame holding a wafer. A hand mechanism 57 is attached, and a suction mechanism 58 for attaching and detaching a wafer is provided on the rear end side, and the suction mechanism 58 is formed by a cylinder 59 so as to be vertically movable.
The cassette area 2 can be moved up and down by a feed screw 21.
【0009】前記チャック領域3は回転可能なチャック
テーブル31を有し、前記直線Lに対して直角方向の直
線Mに沿って往復動可能に配設され、チャック領域3と
ダイシング領域6とに位置付けられると共に、その中間
位置に配設されているアライメント領域7にも位置付け
られる。The chuck area 3 has a rotatable chuck table 31 and is arranged so as to be capable of reciprocating along a straight line M perpendicular to the straight line L and positioned in the chuck area 3 and the dicing area 6. In addition to being positioned, it is also positioned in the alignment region 7 arranged at the intermediate position.
【0010】8はスピンドルユニットであり、スピンド
ル81の先端部には回転ブレード82が取り付けられ、
直線Lと平行な軸線N方向にダイシングの割り出し移動
ができると共に、紙面に対して垂直方向に移動して深さ
調整ができるように構成され、この回転ブレード82に
より前記ダイシング領域6にてウェーハ面に形成された
ストリートに沿ってウェーハをダイシングできるように
してある。Reference numeral 8 is a spindle unit, and a rotary blade 82 is attached to the tip of the spindle 81,
The dicing can be indexed and moved in the direction of the axis N parallel to the straight line L, and the depth can be adjusted by moving the dicing in the direction perpendicular to the paper surface. The wafer can be diced along the formed streets.
【0011】本発明に係るダイシング装置は上記のよう
に構成され、先ず搬送手段5をPの位置まで前進させて
カセット領域2のカセット2′からフレームの一端部を
ハンド機構57で把持してウェーハを取り出すと共に、
搬送手段をQの位置まで後退させてウェーハをチャック
領域3に位置付けられているチャックテーブル31上に
供給する。The dicing apparatus according to the present invention is constructed as described above. First, the carrier means 5 is advanced to the position P to hold one end of the frame from the cassette 2'in the cassette area 2 by the hand mechanism 57. With taking out
The transfer means is retracted to the position of Q and the wafer is supplied onto the chuck table 31 located in the chuck area 3.
【0012】次に、ウエーハを吸着固定したチャックテ
ーブル31を直線M方向に移動してアライメント領域7
に位置付け、公知のアライメント手段にてウェーハを正
しく位置決めする。Next, the chuck table 31 on which the wafer is sucked and fixed is moved in the direction of the straight line M to move the alignment area 7.
Then, the wafer is correctly positioned by a known alignment means.
【0013】この後、チャックテーブル31をダイシン
グ領域6まで移動し、直線M方向に往復動して一方のス
トリートを切削(ダイシング)した後、チャックテーブ
ルを90°回転して他方のストリートを切削してウェー
ハのダイシングが遂行される。尚、前記スピンドルユニ
ット8は少なくともスピンドル81の軸線N方向及び紙
面に垂直方向に移動され、前記チャックテーブル31が
ダイシング領域6において直線M方向に往復動すること
でダイシングが遂行されるが、チャックテーブル31は
ダイシング領域6で保持してスピンドルユニット8の方
を往復動させるようにしても良い。何れにしても相対的
に直線M方向に動かしてダイシングが遂行される。After that, the chuck table 31 is moved to the dicing area 6 and reciprocated in the direction of the straight line M to cut (dicing) one street, and then the chuck table is rotated 90 ° to cut the other street. Wafer dicing is performed. The spindle unit 8 is moved at least in the direction of the axis N of the spindle 81 and in the direction perpendicular to the paper surface, and the chuck table 31 reciprocates in the direction M of the dicing region 6 to perform dicing. 31 may be held in the dicing area 6 and the spindle unit 8 may be reciprocated. In any case, the dicing is performed by relatively moving in the direction of the straight line M.
【0014】ダイシング後に、チャックテーブル31は
チャック領域3まで戻り、搬送手段5をQからPまで前
進させて吸着機構58でチャック領域3のウェーハを吸
着すると共に、ハンド機構57でカセット領域2内の次
にダイシングされる2番目のウェーハを把持し、その状
態を保持して搬送手段5をQまで後退させる。After the dicing, the chuck table 31 is returned to the chuck area 3, the transport means 5 is advanced from Q to P, the suction mechanism 58 sucks the wafer in the chuck area 3, and the hand mechanism 57 moves the inside of the cassette area 2. Next, the second wafer to be diced is gripped, the state is held, and the transfer means 5 is retracted to Q.
【0015】搬送手段5をQまで後退させたところで、
吸着機構58のウェーハを前記スピン洗浄領域4に供給
し、ハンド機構57のウェーハはチャック領域に供給す
る。つまり、ダイシング後のウェーハをチャック領域3
からスピン洗浄領域4に搬送するのと、次にダイシング
されるウェーハをカセット領域2からチャック領域3に
搬送するのとを同時に行うことができる。When the conveying means 5 is retracted to Q,
The wafer of the suction mechanism 58 is supplied to the spin cleaning area 4, and the wafer of the hand mechanism 57 is supplied to the chuck area. That is, the wafer after dicing is chucked in the chuck area 3
It is possible to simultaneously transfer the wafer from the cassette area 2 to the chuck area 3 simultaneously with the transfer from the cassette cleaning area 4 to the spin cleaning area 4.
【0016】この後、スピン洗浄領域4ではウェーハの
洗浄が行われ、洗浄後に搬送手段5を図1に示すように
QからRの位置まで後退させ、ハンド機構で洗浄後のウ
ェーハを把持(フレームの一端部を把持)すると共に搬
送手段5をRからPまで前進させ、洗浄後のウェーハを
カセット領域2の所定の箇所に収納する。After that, the wafer is cleaned in the spin cleaning area 4, and the carrier means 5 is retracted from the position Q to the position R as shown in FIG. 1 after the cleaning, and the cleaned wafer is held by the hand mechanism (frame). (1) is gripped) and the transfer means 5 is advanced from R to P, and the cleaned wafer is stored in a predetermined area of the cassette area 2.
【0017】この間、チャック領域3のウェーハは前記
のようにアライメント工程を経てダイシング領域6にて
ダイシングされ、ダイシング後に再びチャック領域3に
戻されて待機する。During this time, the wafer in the chuck area 3 undergoes the alignment process as described above and is diced in the dicing area 6, and after dicing, is returned to the chuck area 3 again and stands by.
【0018】前記洗浄後のウェーハをカセット領域2に
収納した後、搬送手段5の吸着機構58で前記チャック
領域3に待機しているウェーハを吸着すると共に、ハン
ド機構57でカセット領域2内の3番目のウェーハを把
持し、その状態を保持して搬送手段5をQまで後退させ
て吸着機構58のウェーハはスピン洗浄領域4に供給
し、ハンド機構57のウェーハはチャック領域3に供給
し、前記と同じ工程が繰り返される。これにより、一連
の工程が連続的に且つ能率的に遂行される。After storing the cleaned wafers in the cassette area 2, the suction mechanism 58 of the transfer means 5 sucks the wafers waiting in the chuck area 3 and the hand mechanism 57 holds the wafers in the cassette area 2. The second wafer is gripped, the state is held and the transfer means 5 is retracted to Q, the wafer of the suction mechanism 58 is supplied to the spin cleaning area 4, and the wafer of the hand mechanism 57 is supplied to the chuck area 3. The same process as is repeated. As a result, a series of steps are continuously and efficiently performed.
【0019】この場合には、カセット領域2の直線L上
にチャック領域3とスピン洗浄領域4が近接して配設さ
れ、チャック領域3のチャックテーブル31をスピンド
ル81の軸線Nに対して直角方向に移動させ、搬送手段
5を直線L上に沿って往復動させるように形成したの
で、ダイシング装置1の横幅寸法Wを従来よりも縮小す
ることができる。しかも、搬送手段5はダイシング装置
1の上面に装着できて横方向にはみ出さないので、装置
全体を小型コンパクトに纏めることが可能である。尚、
搬送手段5のハンド機構57はカセット内のウェーハの
搬出と、洗浄後のウエーハをカセット内に搬入する場合
に使用され、吸着機構58はダイシング後のウェーハを
スピン洗浄領域まで搬送する場合に使用されるのでクロ
スコンタミを防止することができる。In this case, the chuck area 3 and the spin cleaning area 4 are arranged close to each other on the straight line L of the cassette area 2, and the chuck table 31 of the chuck area 3 is perpendicular to the axis N of the spindle 81. Since the conveying means 5 is formed so as to reciprocate along the straight line L, the lateral width W of the dicing device 1 can be reduced as compared with the conventional case. Moreover, since the transfer means 5 can be mounted on the upper surface of the dicing device 1 and does not protrude laterally, the entire device can be compact and compact. still,
The hand mechanism 57 of the transfer means 5 is used for carrying out the wafer in the cassette and for carrying the cleaned wafer into the cassette, and the suction mechanism 58 is used for transferring the wafer after the dicing to the spin cleaning area. Therefore, it is possible to prevent cross contamination.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ダイシング装置におけるカセット領域と、チャック領域
と、スピン洗浄領域とは作業者から見て前後方向(スピ
ンドルの軸線に対して平行方向)の直線上に配設し、ダ
イシング領域はチャック領域に対して直角方向に配設し
たので、装置の横幅を大幅に短縮することが可能とな
り、しかも各領域を互いに近接配置できることから装置
全体を小型コンパクトに纏めることができる等の優れた
効果を奏する。As described above, according to the present invention,
The cassette area, the chuck area, and the spin cleaning area in the dicing machine are arranged on a straight line in the front-back direction (parallel to the spindle axis) when viewed from the operator, and the dicing area is perpendicular to the chuck area. Since they are arranged in the same direction, the lateral width of the device can be greatly reduced, and since the respective regions can be arranged close to each other, the entire device can be made compact and compact.
【図1】 本発明の実施例を示す概略平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view showing an embodiment of the present invention.
【図2】 搬送手段の分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of a conveying unit.
【図3】 従来例の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a conventional example.
1…ダイシング装置 2…カセット領域 2′…カ
セット 21…送りねじ 3…チャック領域 3
1…チャックテーブル 4…スピン洗浄領域 5…搬送手段 51…垂直基板 52…送りねじ
53…ガイドレール 54…アーム板 55…送
りねじ 56…ガイドレール 57…ハンド機構
58…吸着機構 59…シリンダー 6…ダイシ
ング領域 7…アライメント領域 8…スピンドルユニット
81…スピンドル 82…回転ブレード1 ... Dicing device 2 ... Cassette area 2 '... Cassette 21 ... Feed screw 3 ... Chuck area 3
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chuck table 4 ... Spin cleaning area 5 ... Conveying means 51 ... Vertical substrate 52 ... Feed screw
53 ... Guide rail 54 ... Arm plate 55 ... Feed screw 56 ... Guide rail 57 ... Hand mechanism
58 ... Adsorption mechanism 59 ... Cylinder 6 ... Dicing area 7 ... Alignment area 8 ... Spindle unit
81 ... Spindle 82 ... Rotating blade
Claims (1)
ン洗浄領域とがスピンドルの軸線に対して平行線上に配
設され、前記チャック領域のチャックテーブルは前記平
行線に対して直角方向に往復動可能に配設されると共
に、チャック領域とダイシング領域とに位置付けられる
ように構成されているダイシング装置。1. A cassette area, a chuck area, and a spin cleaning area are arranged on a line parallel to an axis of a spindle, and a chuck table in the chuck area can reciprocate in a direction perpendicular to the parallel line. And a dicing device configured to be positioned in the chuck area and the dicing area.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33494492A JPH06181257A (en) | 1992-11-24 | 1992-11-24 | Dicing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33494492A JPH06181257A (en) | 1992-11-24 | 1992-11-24 | Dicing apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06181257A true JPH06181257A (en) | 1994-06-28 |
Family
ID=18282984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33494492A Pending JPH06181257A (en) | 1992-11-24 | 1992-11-24 | Dicing apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06181257A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001358093A (en) * | 2000-06-16 | 2001-12-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting machine |
JP2016021492A (en) * | 2014-07-14 | 2016-02-04 | 株式会社ディスコ | Processing device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60216567A (en) * | 1985-03-11 | 1985-10-30 | Hitachi Ltd | Wafer-dicing device |
JPS63288642A (en) * | 1987-05-18 | 1988-11-25 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Method and device for transferring work in die forming machine |
JPH04212422A (en) * | 1990-10-16 | 1992-08-04 | Sony Corp | Semiconductor processing equipment |
-
1992
- 1992-11-24 JP JP33494492A patent/JPH06181257A/en active Pending
Patent Citations (3)
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JP4616969B2 (en) * | 2000-06-16 | 2011-01-19 | 株式会社ディスコ | Cutting machine |
JP2016021492A (en) * | 2014-07-14 | 2016-02-04 | 株式会社ディスコ | Processing device |
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