JPH06174784A - Burn-in system for semiconductor device - Google Patents

Burn-in system for semiconductor device

Info

Publication number
JPH06174784A
JPH06174784A JP4330727A JP33072792A JPH06174784A JP H06174784 A JPH06174784 A JP H06174784A JP 4330727 A JP4330727 A JP 4330727A JP 33072792 A JP33072792 A JP 33072792A JP H06174784 A JPH06174784 A JP H06174784A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
burn
lead frame
lead
semiconductor device
defective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4330727A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2920859B2 (en
Inventor
Satoru Fukunaga
哲 福永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP4330727A priority Critical patent/JP2920859B2/en
Publication of JPH06174784A publication Critical patent/JPH06174784A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2920859B2 publication Critical patent/JP2920859B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To allow burn-in processing without sacrifice of overall mechanical strength of an IC provided with lead frame. CONSTITUTION:An IC 70 provided with lead frame is subjected to pretest and a detection hole 72 is made on the lead frame 61 of a failed IC 62. When the detection hole 72 is detected by a detecting means 30, i.e., a detection pin 100 of an IC socket 82, at the time of burn-in processing a connecting means 131, i.e., the contact rod 110 of the 1C socket 82, releases electrical connection between a contact electrode 85 and an electrode pin 102 in response to the detecting means 130. Consequently, no potential nor signal is fed from a burn-in system processing section 132 to the lead terminal 63 of falied IC 62.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の最終
テスト前に、熱的および電気的過負荷を半導体集積回路
に与え、初期不良を発生させるバーンイン装置およびこ
れを用いるバーンイン方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a burn-in device which causes a thermal and electrical overload to a semiconductor integrated circuit before the final test of the semiconductor integrated circuit to cause an initial failure, and a burn-in method using the burn-in device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路(以下「IC」と省略す
る)の不良品発生率において、特に初期の不良品発生率
が高く、ある程度の時間を経過すると、不良品発生率が
低くなる。これは、製造工程に起因するICの不良品
が、特に初期に発生しやすいという理由などからであ
る。たとえば、酸化膜欠陥のあるICなどでは、一定時
間の通電によって絶縁破壊が生じる。このため、出荷テ
スト前に初期不良のICを取除くために、ICに熱的お
よび電気的過負荷を与え、初期不良を顕在化させるバー
ンイン処理が行われている。このバーンイン処理につい
ては、特開平4−263450号公報などで開示されて
いる。
2. Description of the Related Art In the defective product generation rate of semiconductor integrated circuits (hereinafter abbreviated as "IC"), the defective product generation rate is particularly high in the initial stage, and the defective product generation rate becomes low after a certain period of time. This is because defective IC products due to the manufacturing process are likely to occur particularly in the initial stage. For example, in an IC or the like having an oxide film defect, dielectric breakdown occurs due to energization for a certain time. For this reason, in order to remove the IC having the initial failure before the shipping test, a burn-in process is performed in which the initial failure is exposed by applying thermal and electrical overload to the IC. This burn-in process is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-263450.

【0003】図11は、従来のバーンイン装置および方
法によるバーンイン処理を含むIC2の製造工程を示す
フローチャートである。また図12は、従来のバーンイ
ン処理に用いられるリードフレーム付きIC10の平面
図である。図11のフローチャートにおいて、ステップ
a1で処理をスタートさせる。ステップa2では、リー
ドフレーム1にICチップを固定するダイボンディング
が行われる。ステップa3では、リードフレーム1のリ
ード端子3とICチップの電極とを接続するワイヤボン
ディングが行われる。ステップa4では、リードフレー
ム1上のICチップを樹脂やセラミックなどから成るパ
ッケージによって封止する。ステップa5では、リード
フレーム1からリード先端部4およびタイバー5のみを
切断して除去し、IC2のリード端子3が相互に接続さ
れないようにする。このときIC2は、リードフレーム
1のIC支持部6にみで支持される。ステップa6で
は、IC2のオープン/ショートを検査するプリテスト
が行われ、不良品であるか否かを判断する。このプリテ
ストによって、不良品と判断されたIC2は、ステップ
a7において、リードフレーム1から除去される。ステ
ップa6において、良品と判断された場合は、リードフ
レーム1に接続されているIC2はそのままの状態でス
テップa8の工程へ送られる。このようにステップa8
のバーンイン処理を行うまでの工程においてプリテスト
を実施し、不良品のIC2を除去することによって、こ
の不良品のIC2によるバーンイン処理装置の破損など
を未然に防止している。ステップa8では、バーンイン
処理が行われる。このバーンイン処理は、最終テストの
前工程において、IC2に熱的および電気的過負荷を与
え、初期不良を顕在化させる。ステップa9では、製品
を出荷するための最終テストが行われる。ステップa1
0では、リードフレーム1の支持部6を切断し、リード
フレーム1からIC2を取り出す。ステップa11で
は、そのIC2のリード端子3を折り曲げるベンディン
グが行われ、IC2は製品として出荷可能な状態とな
る。
FIG. 11 is a flow chart showing a manufacturing process of the IC 2 including burn-in processing by a conventional burn-in apparatus and method. FIG. 12 is a plan view of an IC 10 with a lead frame used in the conventional burn-in process. In the flowchart of FIG. 11, the process is started at step a1. At step a2, die bonding for fixing the IC chip to the lead frame 1 is performed. At step a3, wire bonding is performed to connect the lead terminal 3 of the lead frame 1 and the electrode of the IC chip. At step a4, the IC chip on the lead frame 1 is sealed with a package made of resin or ceramic. At step a5, only the lead tip 4 and the tie bar 5 are cut and removed from the lead frame 1 so that the lead terminals 3 of the IC 2 are not connected to each other. At this time, the IC 2 is supported only by the IC support portion 6 of the lead frame 1. In step a6, a pre-test for inspecting open / short of IC2 is performed to determine whether or not it is a defective product. The IC 2 determined to be defective by this pretest is removed from the lead frame 1 in step a7. If it is determined in step a6 that the product is non-defective, the IC2 connected to the lead frame 1 is sent to the process in step a8 as it is. In this way, step a8
By performing the pre-test in the process up to the burn-in process of 1) and removing the defective IC2, damage to the burn-in processing device due to the defective IC2 is prevented. At step a8, burn-in processing is performed. This burn-in process causes thermal and electrical overload to the IC 2 in the pre-process of the final test, and makes the initial defect manifest. In step a9, a final test for shipping the product is performed. Step a1
At 0, the supporting portion 6 of the lead frame 1 is cut, and the IC 2 is taken out from the lead frame 1. At step a11, bending for bending the lead terminal 3 of the IC 2 is performed, and the IC 2 is ready for shipment as a product.

【0004】図13は、従来のバーンイン処理に用いら
れるリードフレーム付きIC10の斜視図である。複数
のIC2は、前述のようにそれぞれ4箇所のIC支持部
6によって、支持されている。またIC2は、前述のよ
うにプリテストおよびバーンイン処理を行うためにリー
ドカットおよびタイバーカットされ、リード端子3は、
隣接するリード端子3およびリードフレーム1から分離
されている。また、リードフレーム1は、複数の位置決
め孔11が設けられている。バーンイン処理の前工程に
おいて、前述のようにリードフレーム付きIC10のリ
ード端子3間でオープンやショートを検査するプリテス
トを行う。そのプリテストにおいて判別された不良品の
IC12は、リードフレーム10のIC支持部6を切断
境界として、切断打抜きされ、リードフレーム付きIC
10から除去する。この場合、リードフレーム1に固定
されているIC2の不良品が多い場合は、図14で示さ
れるように、大部分の不良品のIC12がリードフレー
ム1から除去されている。
FIG. 13 is a perspective view of an IC 10 with a lead frame used in a conventional burn-in process. The plurality of ICs 2 are respectively supported by the IC support portions 6 at four places as described above. Further, the IC 2 is lead-cut and tie-bar cut in order to perform the pretest and the burn-in process as described above, and the lead terminal 3 is
It is separated from the adjacent lead terminal 3 and lead frame 1. Further, the lead frame 1 is provided with a plurality of positioning holes 11. In the pre-process of the burn-in process, as described above, a pre-test for inspecting an open or short between the lead terminals 3 of the IC 10 with a lead frame is performed. The defective IC 12 determined in the pre-test is cut and punched with the IC supporting portion 6 of the lead frame 10 as a cutting boundary, and the IC with the lead frame is cut.
Remove from 10. In this case, when there are many defective ICs 2 fixed to the lead frame 1, most defective ICs 12 are removed from the lead frame 1 as shown in FIG.

【0005】図15は、従来のバーンイン処理に用いら
れるバーンインボード21の斜視図である。このバーン
インボード21には、複数のICソケット22および抵
抗23が等間隔で配置されている。このバーンインボー
ド21は、後述するバーンイン装置内に装着され、バー
ンイン処理が行われる。ICソケット22のICソケッ
ト本体24には、複数のコンタクト電極25、位置決め
ピン26および逃げ穴27が形成されている。また、I
Cソケット本体24の一端には、参照符28の方向に回
動できる蓋30が取付けられている。蓋30には、複数
のリード押え部31および逃げ穴32が形成されてい
る。蓋30を参照符28の方向に回動させ、ICソケッ
ト本体24と閉じ合わされたとき、蓋30に形成されて
いる係止レバー33とICソケット本体24に形成され
ている係止部34とは係合される。また、ICソケット
本体24と係止部34および蓋30と係止レバー33
は、一体成形され、これらは全て電気絶縁性を有する同
一材質で構成されている。さらに、バーンインボード2
1上には、回路保護用の複数のヒューズ35および後述
するバーンイン装置との回路接続を行うためのコネクタ
端子36が形成されている。
FIG. 15 is a perspective view of a burn-in board 21 used in a conventional burn-in process. On the burn-in board 21, a plurality of IC sockets 22 and resistors 23 are arranged at equal intervals. The burn-in board 21 is mounted in a burn-in device described later, and burn-in processing is performed. A plurality of contact electrodes 25, positioning pins 26 and escape holes 27 are formed in the IC socket body 24 of the IC socket 22. Also, I
At one end of the C-socket body 24, a lid 30 which is rotatable in the direction of reference numeral 28 is attached. The lid 30 is provided with a plurality of lead pressing portions 31 and escape holes 32. When the lid 30 is rotated in the direction of the reference numeral 28 and is closed with the IC socket body 24, the engagement lever 33 formed on the lid 30 and the engagement portion 34 formed on the IC socket body 24 are Engaged. Further, the IC socket body 24 and the locking portion 34, and the lid 30 and the locking lever 33.
Are integrally molded, and they are all made of the same material having electrical insulation. In addition, burn-in board 2
A plurality of fuses 35 for circuit protection and a connector terminal 36 for circuit connection with a burn-in device to be described later are formed on the circuit board 1.

【0006】バーンイン処理を行うために、リードフレ
ーム付きIC10を、参照符40で示される方向に移動
させ、リードフレーム1の複数の位置決め孔11に対応
するICソケット本体24上の位置決めピン26を挿通
し、ICソケット本体24上に搭載する。このときIC
2は、ICソケット本体24に対して位置決めされ、I
C2の複数のリード端子3とICソケット本体24の対
応するコンタクト電極25とは、互いに接触する状態に
なる。また、IC2の下部のパッケージ部分は、逃げ穴
27に収納される。次に、蓋30を参照符28の方向に
回動させると、係止レバー33と係止部34とが係合さ
れ、蓋30とICソケット本体24は係合される。この
とき、蓋30の複数のリード押え部31は、ICソケッ
ト本体24の対応するコンタクト電極25を押圧する。
このとき、ICソケット24本体のコンタクト電極25
は、弾性を有するので、コンタクト電極25およびIC
2のリード端子3は、上下から押圧された状態で接触す
る。したがって、ICソケット本体24のコンタクト電
極25とIC2のリード端子3との接触状態は良好にな
る。これによって、コンタクト電極25とIC2のリー
ド端子3は電気的に接続される。また、IC2の上部の
パッケージ部分は、蓋30の逃げ穴32に収納される。
In order to perform the burn-in process, the IC 10 with lead frame is moved in the direction indicated by reference numeral 40, and the positioning pins 26 on the IC socket body 24 corresponding to the plurality of positioning holes 11 of the lead frame 1 are inserted. Then, it is mounted on the IC socket body 24. IC at this time
2 is positioned with respect to the IC socket body 24, and I
The plurality of lead terminals 3 of C2 and the corresponding contact electrodes 25 of the IC socket body 24 are in contact with each other. Further, the package portion below the IC 2 is housed in the escape hole 27. Next, when the lid 30 is rotated in the direction of the reference numeral 28, the locking lever 33 and the locking portion 34 are engaged with each other, and the lid 30 and the IC socket body 24 are engaged with each other. At this time, the lead pressing portions 31 of the lid 30 press the corresponding contact electrodes 25 of the IC socket body 24.
At this time, the contact electrode 25 of the IC socket 24 main body
Has elasticity, the contact electrode 25 and the IC
The two lead terminals 3 contact each other while being pressed from above and below. Therefore, the contact state between the contact electrode 25 of the IC socket body 24 and the lead terminal 3 of the IC 2 becomes good. As a result, the contact electrode 25 and the lead terminal 3 of the IC 2 are electrically connected. Further, the package portion above the IC 2 is housed in the escape hole 32 of the lid 30.

【0007】図16は、従来のバーンインボード21の
ICソケット22上において、リードフレーム付きIC
10が位置決めされた状態の断面図を示す。図17は、
図16で示されるICソケット22において蓋30を、
参照符28で示される矢印の方向に回動させ、蓋30と
ICソケット本体24とを閉じ合わせた状態のときの断
面図を示す。図17において、係止レバー33と係止部
34とは係合され、その状態が保持されている。係止レ
バー33を参照符40の方向に回動させることによっ
て、係合された状態を解除することができる。また、I
C2のリード端子3と接触しているICソケット本体2
4の対応する各コンタクト電極25は、その下端部がバ
ーンインボード21の配線パターンに半田付けされ、電
気的に接続される。このバーンインボード21の各配線
パターンは、抵抗23およびヒューズ35を介して、バ
ーンインボード21の対応するコネクタ端子36に電気
的に接続される。したがって、IC2の各リード端子3
とバーンインボード21の対応するコネクタ端子36と
は、電気的に接続される。
FIG. 16 shows an IC with a lead frame on the IC socket 22 of the conventional burn-in board 21.
FIG. 10 shows a sectional view of a state in which 10 is positioned. Figure 17
In the IC socket 22 shown in FIG.
A cross-sectional view in a state where the lid 30 and the IC socket body 24 are closed by rotating in the direction of the arrow indicated by the reference numeral 28 is shown. In FIG. 17, the locking lever 33 and the locking portion 34 are engaged and the state is maintained. The engaged state can be released by rotating the locking lever 33 in the direction of reference numeral 40. Also, I
IC socket body 2 in contact with the lead terminal 3 of C2
The lower end of each corresponding contact electrode 25 of 4 is soldered to the wiring pattern of the burn-in board 21 and electrically connected. Each wiring pattern of the burn-in board 21 is electrically connected to the corresponding connector terminal 36 of the burn-in board 21 via the resistor 23 and the fuse 35. Therefore, each lead terminal 3 of IC2
And the corresponding connector terminal 36 of the burn-in board 21 are electrically connected.

【0008】図18は、従来のバーンイン装置50の斜
視図を示す。バーンイン装置50内には、バーンインボ
ードラック51が等間隔で複数段配置されている。リー
ドフレーム付きIC10を搭載したバーンインボード2
1を、バーンイン装置50のバーンインボードラック5
1に順次参照符52で示される方向に装着する。バーン
イン装置50の背面53には、バーンインボード21の
コネクタ端子36と接続するためのコネクタが、バーン
インラック51の数と同数設置されている。またこのコ
ネクタには、バーンイン装置50からバーンイン処理を
行うための電位および信号が与えられる。バーンインボ
ード21をバーンインラック51に装着したとき、バー
ンインボードラック51のコネクタ端子36とバーンイ
ン装置50背面53のコネクタとは接続される。したが
って、バーンインボード21に搭載されたIC2のリー
ド端子3とバーンイン装置50とは、電気的に接続され
る。次に、バーンイン装置50は、バーンイン処理を行
うためにIC2の各リード端子3に対して電位または信
号を与える。このとき、リードフレーム付きIC10に
おいて、プリテストの結果不良となったIC12は、切
断打抜き除去されているので通電されない。
FIG. 18 shows a perspective view of a conventional burn-in device 50. In the burn-in device 50, a plurality of burn-in board racks 51 are arranged at equal intervals. Burn-in board 2 with IC10 with lead frame
1. Burn-in board rack 5 of burn-in device 50
1 sequentially in the direction indicated by reference numeral 52. On the back surface 53 of the burn-in device 50, the same number of connectors as the burn-in racks 51 are installed to connect to the connector terminals 36 of the burn-in board 21. Further, a potential and a signal for performing a burn-in process are applied to this connector from the burn-in device 50. When the burn-in board 21 is mounted on the burn-in rack 51, the connector terminals 36 of the burn-in board rack 51 and the connectors on the back surface 53 of the burn-in device 50 are connected. Therefore, the lead terminals 3 of the IC 2 mounted on the burn-in board 21 and the burn-in device 50 are electrically connected. Next, the burn-in device 50 gives a potential or a signal to each lead terminal 3 of the IC 2 in order to perform the burn-in process. At this time, in the IC 10 with the lead frame, the IC 12 that has become defective as a result of the pre-test is cut, punched and removed, so that it is not energized.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来のICのバーンイ
ン装置および方法では、前工程のプリテストにおいてI
Cの不良が検出されたとき、リードフレームのIC支持
部が切断され、そのICはリードフレームから除去され
る。リードフレームに接続されている複数のICのうち
不良品のICが大部分を占めたとき、その不良品は除去
されるので、リードフレーム付きIC全体の機械的強度
は低下する。したがって、リードフレーム付きICをバ
ーンインボードのICソケットへの挿入および抜去に作
業ミスが発生したり、またバーンイン処理における熱応
力によってリードフレームおよびその位置決め孔の変形
が生じる。このため、前述の作業ミスによって作業時間
が増大し、またリードフレームおよびその位置決め孔の
変形に対する修正作業が必要となり、バーンイン処理工
程における工数が増大する。
In the conventional IC burn-in apparatus and method, the I-type is used in the pre-test of the previous step.
When a defect of C is detected, the IC support portion of the lead frame is cut and the IC is removed from the lead frame. When a defective IC occupies the majority of the plurality of ICs connected to the lead frame, the defective IC is removed, so that the mechanical strength of the entire IC with the lead frame decreases. Therefore, an operation error occurs in inserting and removing the IC with the lead frame into and from the IC socket of the burn-in board, and the lead frame and its positioning hole are deformed due to thermal stress in the burn-in process. Therefore, the above-mentioned work error increases the work time, and the correction work for the deformation of the lead frame and its positioning hole is required, which increases the number of man-hours in the burn-in process.

【0010】本発明の目的は、リードフレーム付きIC
全体の機械的強度を低下させずにバーンイン処理を行う
ことができる半導体装置のバーンイン装置および方法を
提供することである。
An object of the present invention is an IC with a lead frame.
It is an object of the present invention to provide a burn-in apparatus and method for a semiconductor device, which can perform burn-in processing without lowering the overall mechanical strength.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、リードフレー
ムに複数個ずつ形成される半導体装置を、リードフレー
ムに機械的に接続された状態で処理を施す半導体装置の
バーンイン装置において、各半導体装置を個別的に装着
し、バーンイン処理に必要な電気的接続を行う複数の接
続手段と、各半導体装置が接続手段に装着された状態
で、リードフレームの各接続手段の近傍の予め定められ
る位置に、半導体装置が不良品であることを表す不良表
示が、付加されているか否かを検出する検出手段と、検
出手段からの出力に応答し、不良表示が検出されない半
導体装置を装着した接続手段のみに通電しながらバーン
イン処理を行う処理手段とを含むことを特徴とする半導
体装置のバーンイン装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a burn-in device for a semiconductor device, wherein a plurality of semiconductor devices each formed on a lead frame are processed while being mechanically connected to the lead frame. A plurality of connecting means for individually mounting and connecting each of the semiconductor devices to the connecting means for performing electrical connection necessary for burn-in processing, and at a predetermined position in the vicinity of each connecting means of the lead frame. , A detection unit for detecting whether or not a defect display indicating that the semiconductor device is defective is added, and a connection unit mounted with a semiconductor device that responds to the output from the detection unit and does not detect the defect display. A burn-in device for a semiconductor device, the burn-in device including a processing means for performing a burn-in process while energizing the device.

【0012】また本発明は、リードフレームに複数個ず
つ形成される半導体装置を、リードフレームに機械的に
接続された状態で処理を施す半導体装置のバーンイン方
法において、各半導体装置を個別的に試験し、不良品と
判定された半導体装置には、近傍のリードフレームに予
め定める不良表示を付加し、リードフレームに機械的に
接続されている複数の半導体装置を、個別的に複数の接
続手段に装着して電気的接続を行い、各接続手段近傍の
リードフレームに不良表示が検出されない接続装置のみ
に通電してバーンイン処理を行うことを特徴とする半導
体装置のバーンイン方法である。
Further, according to the present invention, in a burn-in method of a semiconductor device in which a plurality of semiconductor devices formed on a lead frame are processed while being mechanically connected to the lead frame, each semiconductor device is individually tested. However, a semiconductor device determined to be defective is provided with a predetermined defect indication on a lead frame in the vicinity thereof, and a plurality of semiconductor devices mechanically connected to the lead frame are individually connected to a plurality of connecting means. A burn-in method for a semiconductor device, characterized in that the semiconductor device is mounted and electrically connected, and a burn-in process is performed by energizing only a connecting device in which a defective display is not detected in a lead frame near each connecting means.

【0013】[0013]

【作用】本発明に従えば、接続手段と、検出手段と、処
理手段とを含むバーンイン装置が用いられる。接続手段
は、各半導体装置を個別的に装着し、バーンイン処理に
必要な電気的接続を行う。検出手段は、各半導体装置
が、接続手段に装着された状態で、リードフレームの各
接続手段の近傍の予め定められる位置に、半導体装置が
不良品であることを表す不良表示が付加されているか否
かを検出する。処理手段は、検出手段からの出力に応答
し、不良表示が検出されない半導体装置を装着した接続
手段のみに通電しながらバーンイン処理を行う。
According to the present invention, the burn-in device including the connecting means, the detecting means and the processing means is used. The connection means individually mounts each semiconductor device and performs electrical connection required for burn-in processing. In the detection means, in a state where each semiconductor device is mounted on the connection means, is a defect display added to a predetermined position in the vicinity of each connection means of the lead frame, which indicates that the semiconductor device is a defective product? Detect whether or not. The processing means responds to the output from the detecting means, and performs the burn-in processing while energizing only the connecting means mounted with the semiconductor device in which the defective display is not detected.

【0014】また本発明に従えば、まず各半導体装置を
個別的に試験し、不良品と判定された半導体装置には、
近傍のリードフレームに予め定める不良表示を付加す
る。次に、リードフレームに機械的に接続されている複
数の半導体装置を、個別的に複数の接続手段に装着して
電気的接続を行い、各接続手段近傍のリードフレームに
不良表示が検出されない接続装置のみに通電してバーン
イン処理を行う。
Further, according to the present invention, first, each semiconductor device is individually tested, and a semiconductor device determined to be defective is
A predetermined defect display is added to the nearby lead frame. Next, a plurality of semiconductor devices mechanically connected to the lead frame are individually attached to a plurality of connecting means to electrically connect them, and a defective display is not detected in the lead frame near each connecting means. Burn-in processing is performed by energizing only the equipment.

【0015】したがって、リードフレーム付き半導体装
置全体の機械的強度を低下させず、バーンイン処理を行
うことができるバーンイン処理装置および方法を得るこ
とができる。
Therefore, it is possible to obtain a burn-in processing apparatus and method capable of performing burn-in processing without lowering the mechanical strength of the entire semiconductor device with a lead frame.

【0016】[0016]

【実施例】図1は、本発明によるバーンイン処理を含む
IC62の製造工程を示すフローチャートである。図2
は、本発明の一実施例のリードフレーム付きIC70の
平面図である。図1のフローチャートにおいて、ステッ
プb1で処理をスタートさせる。ステップb2では、リ
ードフレーム61にICチップを固定するダイボンディ
ングが行われる。ステップb3では、リードフレーム6
1のリード端子63とICチップの電極とを接続するワ
イヤボンディングが行われる。ステップb4では、リー
ドフレーム61上のICチップを樹脂やセラミックなど
から成るパッケージによって封止する。ステップb5で
は、リードフレーム61からリード先端部64およびタ
イバー65のみを切断して除去し、IC62のリード端
子63が互いに接続されないようにする。このとき、I
C62はリードフレーム61のIC支持部66のみで支
持される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT FIG. 1 is a flow chart showing a manufacturing process of an IC 62 including a burn-in process according to the present invention. Figure 2
FIG. 4 is a plan view of an IC 70 with a lead frame according to an embodiment of the present invention. In the flowchart of FIG. 1, the process is started at step b1. At step b2, die bonding for fixing the IC chip to the lead frame 61 is performed. In step b3, the lead frame 6
Wire bonding for connecting the lead terminal 63 of No. 1 and the electrode of the IC chip is performed. At step b4, the IC chip on the lead frame 61 is sealed with a package made of resin or ceramic. At step b5, only the lead tip portion 64 and the tie bar 65 are cut and removed from the lead frame 61 so that the lead terminals 63 of the IC 62 are not connected to each other. At this time, I
C62 is supported only by the IC support portion 66 of the lead frame 61.

【0017】ステップb6では、各リード端子63間で
IC62のオープンあるいはショートを検査するプリテ
ストが行われ、不良品であるか否かを判断する。このプ
リテストによって不良品と判断されたIC62は、ステ
ップb7において、そのIC62の近傍のリードフレー
ム61の予め定められた位置に検出孔72が加工によっ
て形成されて付加される。この検出孔72は、不良品を
識別するために用いられる。ステップb6において、良
品と判断されたIC62の近傍のフレームは加工され
ず、そのままの状態でステップb8の工程へ送られる。
ステップb8のバーンイン処理の前工程においてプリテ
ストを実施し、ステップb7において不良品のIC62
を識別することによって、この不良品のIC62による
バーンイン装置の破損を未然に防止している。ステップ
b8では、バーンイン処理が行われる。このバーンイン
処理は、最終テストの前工程において、IC62に電気
的および熱的過負荷を与え、初期不良を発生させる。こ
れは、IC62の不良品発生率において、特に初期の不
良品発生率が高いので、そのIC62を取除くためであ
る。ステップb9では、製品としての最終テストが行わ
れる。ステップb10では、リードフレーム61のIC
支持部66を切断し、リードフレーム61からIC62
を除去する。ステップb11では、IC62のリード端
子63を折り曲げるベンディングが行われ、そのIC6
2は製品として出荷可能となる。
At step b6, a pre-test for inspecting whether the IC 62 is open or short-circuited between the lead terminals 63 is performed to determine whether or not the IC 62 is defective. In step b7, the IC 62 determined to be a defective product by this pretest has a detection hole 72 formed by machining at a predetermined position in the lead frame 61 near the IC 62 and added. The detection hole 72 is used to identify a defective product. In step b6, the frame in the vicinity of the IC 62 which is determined to be non-defective is not processed and is sent to the process of step b8 as it is.
A pre-test was performed in the step before the burn-in process in step b8, and in step b7, the defective IC 62
Is identified, the damage of the burn-in device due to the defective IC 62 is prevented in advance. At step b8, burn-in processing is performed. This burn-in process causes an electrical and thermal overload on the IC 62 in the pre-process of the final test, causing an initial failure. This is because the defective product generation rate of the IC 62 is particularly high in the initial stage, so that the IC 62 is removed. At step b9, a final test as a product is performed. In step b10, the IC of the lead frame 61
The support portion 66 is cut, and the lead frame 61 is removed from the IC 62.
To remove. In step b11, bending for bending the lead terminal 63 of the IC 62 is performed, and the IC 6
2 can be shipped as a product.

【0018】図3は、本発明の一実施例のリードフレー
ム付きIC70の斜視図である。複数のIC62は、前
述のようにそれぞれ4箇所のIC支持部66によって、
支持されている。またIC62は、前述のようにプリテ
ストおよびバーンイン処理を行うためにリードカットお
よびタイバーカットされ、リード端子63は、隣接する
リード端子63およびリードフレーム61から分離され
ている。リードフレーム61は、複数の位置決め孔71
が設けられている。さらに、検出孔72は、前述のよう
に不良品のIC62を識別するために用いられる。
FIG. 3 is a perspective view of an IC 70 with a lead frame according to an embodiment of the present invention. As described above, the plurality of ICs 62 are respectively provided by the IC support portions 66 at four locations.
It is supported. Further, the IC 62 is lead-cut and tie-bar cut in order to perform the pretest and the burn-in process as described above, and the lead terminal 63 is separated from the adjacent lead terminal 63 and lead frame 61. The lead frame 61 has a plurality of positioning holes 71.
Is provided. Further, the detection hole 72 is used to identify the defective IC 62 as described above.

【0019】図4は、本発明の一実施例のバーンインボ
ード81の斜視図である。このバーンインボード81に
は、複数のICソケット82および抵抗83が等間隔で
配置されている。このバーンインボード81は、後述す
るバーンイン装置内に装着され、バーンイン処理が行わ
れる。ICソケット82のICソケット本体84には、
複数のコンタクト電極85および電極リードピン10
2、ガイドブロック101、位置決めピン86および逃
げ穴87が形成されている。また、ICソケット本体8
4の一端には、参照符88の方向に回動できる蓋90が
取付けられている。蓋90には、複数のリード押え部9
1、逃げ穴92および検出ピン100が形成されてい
る。蓋90を参照符88の方向に回動させ、ICソケッ
ト本体84と閉じ合わせた場合、蓋90に形成されてい
る係止レバー93とICソケット本体84に形成されて
いる係止部94とは係合される。またICソケット本体
84と、係止部94および蓋90とリード押え部91
は、それぞれ一体で成形され、これらは全て電気絶縁性
を有する同一材質で構成されている。さらに、バーンイ
ンボード81上には、回路保護用の複数のヒューズ95
および後述するバーンイン装置との回線接続を行うため
のコネクタ端子96が形成されている。
FIG. 4 is a perspective view of the burn-in board 81 according to one embodiment of the present invention. On the burn-in board 81, a plurality of IC sockets 82 and resistors 83 are arranged at equal intervals. The burn-in board 81 is mounted in a burn-in device described later, and burn-in processing is performed. In the IC socket body 84 of the IC socket 82,
A plurality of contact electrodes 85 and electrode lead pins 10
2, the guide block 101, the positioning pin 86 and the escape hole 87 are formed. Also, the IC socket body 8
A lid 90 that can rotate in the direction of reference numeral 88 is attached to one end of 4. The lid 90 has a plurality of lead holding portions 9
1, an escape hole 92 and a detection pin 100 are formed. When the lid 90 is rotated in the direction of reference numeral 88 and closed with the IC socket main body 84, the locking lever 93 formed on the lid 90 and the locking portion 94 formed on the IC socket main body 84 are Engaged. Further, the IC socket body 84, the locking portion 94, the lid 90, and the lead pressing portion 91.
Are integrally molded, and they are all made of the same material having electrical insulation. Furthermore, a plurality of fuses 95 for circuit protection are provided on the burn-in board 81.
Also, a connector terminal 96 for making a line connection with a burn-in device described later is formed.

【0020】このバーンインボード81を、バーンイン
処理を行うために、リードフレーム付きIC70を、参
照符100で示される方向に移動させ、リードフレーム
61の複数の位置決め孔71をICソケット本体84上
の対応する位置決めピン86に挿通し、ICソケット本
体84上に搭載する。このときIC62は、ICソケッ
ト本体84に対して位置決めされ、IC62の複数のリ
ード端子63とICソケット本体84の対応するコンタ
クト電極85とは接触した状態になる。またIC62の
下部のパッケージ部分は、逃げ穴87に収納される。
In order to perform a burn-in process on the burn-in board 81, the IC 70 with a lead frame is moved in the direction indicated by reference numeral 100, and a plurality of positioning holes 71 of the lead frame 61 are formed on the IC socket body 84. The positioning pin 86 is inserted and mounted on the IC socket body 84. At this time, the IC 62 is positioned with respect to the IC socket body 84, and the lead terminals 63 of the IC 62 and the corresponding contact electrodes 85 of the IC socket body 84 are in contact with each other. The package portion below the IC 62 is housed in the escape hole 87.

【0021】次に、蓋90を参照符88の方向に回動さ
せると、係止レバー93と係止部94とは係合され、蓋
90とICソケット本体84とは閉じ合う。このとき、
蓋90の複数のリード押え部91は、ICソケット本体
84の対応するコンタクト電極85を押圧する。ICソ
ケット本体84のコンタクト電極85は、弾性を有する
ので、コンタクト電極85およびIC62のリード端子
63は、上下から押圧された状態で接触する。したがっ
て、ICソケット本体84のコンタクト電極85とIC
62のリード端子63との接触状態は良好になる。これ
によって、コンタクト電極85とリード端子63とは、
電気的に接続される。また、リードフレーム61に不良
品のIC62を検出するための検出孔72が形成されて
いる場合、蓋90の対応する検出ピン100は、検出孔
72を挿通し、ガイドブロック101に当接する。ガイ
ドブロック101は、コンタクト電極85の外周部に設
けられ、下方から後述するバネによる弾性上昇力を付与
され、ICソケット本体84に案内されて昇降可能であ
る。しかし、検出ピン100も後述するバネによる弾性
力が付与されているけれども、ガイドブロック101に
付与されている弾性力よりも大きいので、検出ピン10
0は、ガイドブロック101を押下する。また、リード
フレーム61に検出孔72が形成されていない場合は、
検出ピン100は、リードフレーム61に当接する。I
C62の上部のパッケージ部分は、蓋90の逃げ穴92
に収納される。
Next, when the lid 90 is rotated in the direction of reference numeral 88, the locking lever 93 and the locking portion 94 are engaged with each other, and the lid 90 and the IC socket body 84 are closed. At this time,
The plurality of lead pressing portions 91 of the lid 90 press the corresponding contact electrodes 85 of the IC socket body 84. Since the contact electrode 85 of the IC socket body 84 has elasticity, the contact electrode 85 and the lead terminal 63 of the IC 62 come into contact with each other while being pressed from above and below. Therefore, the contact electrode 85 of the IC socket body 84 and the IC
The contact state of 62 with the lead terminal 63 becomes good. As a result, the contact electrode 85 and the lead terminal 63 are
It is electrically connected. When the lead frame 61 has a detection hole 72 for detecting the defective IC 62, the corresponding detection pin 100 of the lid 90 is inserted through the detection hole 72 and abuts on the guide block 101. The guide block 101 is provided on the outer peripheral portion of the contact electrode 85, is provided with an elastic uplifting force from below by a spring, and is guided by the IC socket body 84 to be able to move up and down. However, although the detection pin 100 is also given an elastic force by a spring described later, it is larger than the elastic force given to the guide block 101.
0 pushes down the guide block 101. If the lead frame 61 does not have the detection hole 72,
The detection pin 100 contacts the lead frame 61. I
The package portion on the upper part of C62 is an escape hole 92 of the lid 90.
Is stored in.

【0022】図5は、図4で示されるICソケット82
における電極リードピン102およびコンタクト電極8
5とコンタクト棒110との接触状態を示す。この接触
状態の理解を妨げないために、ICソケット本体84お
よびコンタクト電極85および電極リードピン102を
大幅に省略している。コンタクト電極85および電極リ
ードピン102は、それらに対しそれぞれ当接している
導電性性質のコンタクト棒110によって電気的に接続
されている。コンタクト棒110は、その先端部がガイ
ドブロック101に埋設されている。ガイドブロック1
01は、前述のように弾性上昇力を付与され昇降可能で
あるので、コンタクト棒110は、コンタクト電極85
および電極リードピン102を押圧し、その接触状態を
良好にしている。また、検出ピン100の押下によっ
て、ガイドブロック101が下降したとき、コンタクト
棒110も連動して参照符103の方向に下降するの
で、コンタクト電極85と電極リードピン102との電
気的接続は解除される。
FIG. 5 shows the IC socket 82 shown in FIG.
Lead pin 102 and contact electrode 8 in
5 shows the contact state between 5 and the contact rod 110. The IC socket body 84, the contact electrode 85, and the electrode lead pin 102 are largely omitted in order not to obstruct the understanding of the contact state. The contact electrode 85 and the electrode lead pin 102 are electrically connected by a contact rod 110 of a conductive property that is in contact with them. The tip of the contact rod 110 is embedded in the guide block 101. Guide block 1
Since 01 can be moved up and down by being given an elastic lifting force as described above, the contact rod 110 is
And the electrode lead pin 102 is pressed to make the contact state good. Further, when the guide block 101 is lowered by pressing the detection pin 100, the contact rod 110 is also lowered in the direction of the reference numeral 103 in conjunction therewith, so that the electrical connection between the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102 is released. .

【0023】図6は、図4で示されるICソケット82
上において、リードフレーム付きIC70が位置決めさ
れた状態のときの断面図を示す。図7は、図6で示され
るICソケット82において、リードフレーム61に検
出孔72が形成されている場合に、蓋90を参照符88
で示される矢印の方向に回動させ、蓋90とICソケッ
ト本体84とを閉じ合わせた状態の断面図を示す。図7
において、係止レバー93と係止部94とは係合され、
その状態は保持される。係止レバー93を参照符115
の方向に回動させることによって、係合された状態を解
除することができる。また、検出ピン100は、検出孔
72を挿通し、ガイドブロック101に当接している。
このとき、ガイドブロック101のバネ111による弾
性力よりも、検出ピン100のバネ112による弾性力
の方が大きいので、検出ピン100はガイドブロック1
01を押下している。したがって、コンタクト棒110
はガイドブロック101に連動して下降するので、コン
タクト棒110とコンタクト電極85および電極リード
ピン102の接触は解除される。すなわち、コンタクト
電極85と電極リードピン102の電気的接続は解除さ
れる。
FIG. 6 shows the IC socket 82 shown in FIG.
A cross-sectional view when the IC 70 with the lead frame is positioned is shown above. FIG. 7 shows the lid 90 in the IC socket 82 shown in FIG. 6 when the detection hole 72 is formed in the lead frame 61.
A cross-sectional view of a state in which the lid 90 and the IC socket body 84 are closed by rotating the lid 90 in the direction of the arrow is shown. Figure 7
, The locking lever 93 and the locking portion 94 are engaged,
That state is retained. See the locking lever 93 for reference numeral 115.
The engaged state can be released by rotating in the direction of. Further, the detection pin 100 is inserted through the detection hole 72 and is in contact with the guide block 101.
At this time, the elastic force of the spring 112 of the detection pin 100 is larger than the elastic force of the spring 111 of the guide block 101.
01 is pressed. Therefore, the contact rod 110
Is lowered in conjunction with the guide block 101, the contact between the contact rod 110, the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102 is released. That is, the electrical connection between the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102 is released.

【0024】図8は、図6で示されるICソケット82
において、リードフレーム付きIC70に検出孔72が
加工されていない場合に、蓋90を参照符88で示され
る矢印の方向に回動させ、蓋90とICソケット本体8
4とを閉合させたときの状態の断面図を示す。この場
合、リードフレーム61に検出孔72が形成されていな
いので、検出ピン100は、リードフレーム61に当接
し、バネ110の弾性によって、バネ110を圧縮させ
ながら蓋90の内部に押込まれる。また、検出ピン10
0は、ガイドブロック101に当接しないので、コンタ
クト棒110はそのままの状態になる。したがって、コ
ンタクト棒110は、ガイドブロック101のバネ11
1による弾性上昇力によって、コンタクト電極85およ
び電極リードピン102に良好に接触する。したがっ
て、コンタクト電極85と電極リードピン102とは電
気的に接続される。
FIG. 8 shows the IC socket 82 shown in FIG.
In the case where the detection hole 72 is not formed in the IC 70 with the lead frame, the lid 90 is rotated in the direction of the arrow indicated by the reference numeral 88, and the lid 90 and the IC socket body 8 are
4 is a sectional view showing a state in which 4 and 4 are closed. In this case, since the detection hole 72 is not formed in the lead frame 61, the detection pin 100 abuts the lead frame 61 and is pushed into the inside of the lid 90 while compressing the spring 110 by the elasticity of the spring 110. In addition, the detection pin 10
Since 0 does not contact the guide block 101, the contact rod 110 remains as it is. Therefore, the contact rod 110 is connected to the spring 11 of the guide block 101.
The elastic rising force of 1 makes good contact with the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102. Therefore, the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102 are electrically connected.

【0025】図6〜図8において、各電極リードピン1
02の下端部は、バーンインボード81の対応する配線
パターンと電気的に接続される。その各配線パターン
は、抵抗83およびヒューズ95を介して対応するコネ
クタ端子96と電気的に接続される。したがって、リー
ドフレーム付きIC70のIC62のリード端子63と
バーンインボード81の対応するコネクタ端子96と
は、IC62が不良品のときは電気的に接続されず、I
C62が不良品でないときは電気的に接続される。すな
わち、リードフレーム61の検出孔72の有無を検出す
ることによって、良品のIC62のみに通電することが
できる。
6 to 8, each electrode lead pin 1
The lower end of 02 is electrically connected to the corresponding wiring pattern of the burn-in board 81. Each wiring pattern is electrically connected to the corresponding connector terminal 96 via the resistor 83 and the fuse 95. Therefore, the lead terminal 63 of the IC 62 of the IC 70 with the lead frame and the corresponding connector terminal 96 of the burn-in board 81 are not electrically connected when the IC 62 is defective, and I
If C62 is not defective, it is electrically connected. That is, by detecting the presence or absence of the detection hole 72 in the lead frame 61, it is possible to energize only the good IC 62.

【0026】図9は、本発明の一実施例のバーンイン装
置120の斜視図を示す。バーンイン装置120内に
は、バーンインボードラック121が等間隔で複数段配
置されている。リードフレーム付きIC70を搭載した
バーンインボード81を、バーンイン装置120のバー
ンインボードラック121に順次参照符122で示され
る方向に装着する。バーンイン装置120の背面123
には、バーンインボード81のコネクタ端子96と接続
するためのコネクタが、バーンインラック121の数と
同数設置されている。また、このコネクタには、バーン
イン装置120からバーンイン処理を行うための電位お
よび信号が与えられる。バーンインボード81をバーン
インラック121に装着したとき、バーンインボード8
1のコネクタ端子96とバーンイン装置120のコネク
タとは電気的に接続される。したがって、バーンインボ
ード81に搭載されたIC62が良品のとき、バーンイ
ン装置120からIC62のリード端子63に、電位お
よび信号を与えることができる。また、バーンインボー
ド81に搭載されたIC62が不良品のとき、バーンイ
ン装置120から、電位および信号を与えても、前述の
ようにICソケット82内部でIC62との電気的接続
は解除されているので、IC62のリード端子63には
電位および信号は与えられない。
FIG. 9 shows a perspective view of the burn-in device 120 of one embodiment of the present invention. In the burn-in device 120, a plurality of burn-in board racks 121 are arranged at equal intervals. The burn-in board 81 on which the IC 70 with the lead frame is mounted is sequentially mounted on the burn-in board rack 121 of the burn-in device 120 in the direction indicated by reference numeral 122. Back surface 123 of burn-in device 120
In this case, the same number of connectors as the number of burn-in racks 121 are installed to connect to the connector terminals 96 of the burn-in board 81. Further, a potential and a signal for performing burn-in processing are applied to this connector from the burn-in device 120. When the burn-in board 81 is mounted on the burn-in rack 121, the burn-in board 8
The connector terminal 96 of No. 1 and the connector of the burn-in device 120 are electrically connected. Therefore, when the IC 62 mounted on the burn-in board 81 is a non-defective product, a potential and a signal can be applied from the burn-in device 120 to the lead terminal 63 of the IC 62. Further, when the IC 62 mounted on the burn-in board 81 is a defective product, even if a potential and a signal are applied from the burn-in device 120, the electrical connection with the IC 62 is canceled inside the IC socket 82 as described above. , A potential is not applied to the lead terminal 63 of the IC 62.

【0027】図10は、図9で示されるバーンイン装置
120の概略的な電気的構成を示すブロック図である。
バーンインボード81上に搭載されたリードフレーム付
きIC70において、IC62が不良品の場合、そのI
C62の近傍の検出孔72は、検出手段130であるI
Cソケット82の検出ピン100によって検出される。
このとき、検出手段130に応答して、接続手段131
であるICソケット82のコンタクト棒110は、コン
タクト電極85と電極リードピン102との電気的接続
を解除する。したがって、この場合にバーンイン装置1
20によってバーンイン処理を行うとき、バーンイン装
置処理部132からIC62のリード端子63へ電位ま
たは信号が与えられない。また、IC62が良品の場
合、そのIC62の近傍の予め定められた位置におい
て、検出孔72は検出手段130であるICソケット8
2の検出ピン100によって検出されない。このとき、
検出手段130に応答して、接続手段131であるIC
ソケット82のコンタクト棒110は、コンタクト電極
85と電極リードピン102とを電気的に接続する。し
たがって、この場合にバーンイン装置120によってバ
ーンイン処理を行うとき、バーンイン装置処理部132
から、IC62のリード端子63へ電位および信号が与
えられる。
FIG. 10 is a block diagram showing a schematic electrical configuration of the burn-in device 120 shown in FIG.
In the IC 70 with a lead frame mounted on the burn-in board 81, if the IC 62 is defective, I
The detection hole 72 in the vicinity of C62 is the detection means 130 I
It is detected by the detection pin 100 of the C socket 82.
At this time, in response to the detection means 130, the connection means 131
The contact rod 110 of the IC socket 82 disconnects the electrical connection between the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102. Therefore, in this case, the burn-in device 1
When the burn-in process is performed by 20, the potential or signal is not applied from the burn-in device processing unit 132 to the lead terminal 63 of the IC 62. When the IC 62 is a non-defective product, the detection hole 72 is the IC socket 8 serving as the detection means 130 at a predetermined position near the IC 62.
Not detected by the second detection pin 100. At this time,
In response to the detection means 130, the IC that is the connection means 131
The contact rod 110 of the socket 82 electrically connects the contact electrode 85 and the electrode lead pin 102. Therefore, in this case, when the burn-in device 120 performs the burn-in process, the burn-in device processing unit 132
From, a potential and a signal are applied to the lead terminal 63 of the IC 62.

【0028】以上のように、本実施例においては、IC
62が良品であるか否かに拘わらず、常にIC62をリ
ードフレーム61に接続した状態でバーンイン処理を行
っているので、リードフレーム61の機械的強度が低下
することはない。また、不良品のIC62には通電を行
わないので、バーンイン装置120が破損することはな
い。さらに本実施例では、フラットパッケージ型ICが
用いられているけれども、このようなパッケージ型のI
Cに限定せず、他のパッケージ型のICを用いてもよい
のは勿論である。その場合、使用するパッケージに適合
するICソケット、リードフレーム、検出孔などを用い
てバーンイン処理を行う。
As described above, in this embodiment, the IC
Regardless of whether or not 62 is a non-defective product, the burn-in process is always performed with the IC 62 connected to the lead frame 61, so the mechanical strength of the lead frame 61 does not decrease. Further, since the defective IC 62 is not energized, the burn-in device 120 is not damaged. Further, although a flat package type IC is used in this embodiment, such a package type IC is used.
Of course, the package IC is not limited to C, and other package type ICs may be used. In that case, burn-in processing is performed using an IC socket, a lead frame, a detection hole, etc. which are suitable for the package used.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、各半導体
装置を個別的に試験し、不良品と判定された半導体装置
には、近傍のリードフレームに予め定める不良表示を付
加する。その不良表示が検出されないとき、その半導体
装置のみ通電してバーンイン処理を行うことができるバ
ーンイン装置および方法を得ることができる。したがっ
て、このバーンイン装置および方法を用いることによっ
て、不良品の半導体装置には通電されないので、短絡な
どによってバーンイン装置が破損することはない。また
半導体装置が良品であるか否かに拘わらず、常に半導体
装置をリードフレームに接続した状態でバーンイン処理
を行うので、リードフレームの機械的強度が低下するこ
とはない。これによって、リードフレームの変形による
作業ミスおよび修正作業がなくなり、バーンイン処理工
程の作業を効率的に行うことができ、またバーンイン処
理工程のコストの低減化を図ることができる。
As described above, according to the present invention, each semiconductor device is individually tested, and a semiconductor device determined to be defective is provided with a predetermined defect indication on a nearby lead frame. When the defective display is not detected, it is possible to obtain a burn-in device and a method capable of performing burn-in processing by energizing only the semiconductor device. Therefore, by using this burn-in device and method, the defective semiconductor device is not energized, so that the burn-in device is not damaged by a short circuit or the like. In addition, regardless of whether the semiconductor device is a good product or not, since the burn-in process is always performed with the semiconductor device connected to the lead frame, the mechanical strength of the lead frame does not decrease. As a result, work errors and correction work due to deformation of the lead frame are eliminated, the work of the burn-in process can be efficiently performed, and the cost of the burn-in process can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるバーンイン処理を含むIC62の
製造工程を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing manufacturing steps of an IC 62 including burn-in processing according to the present invention.

【図2】本発明の一実施例のリードフレーム付きIC7
0の平面図である。
FIG. 2 is an IC 7 with a lead frame according to an embodiment of the present invention.
It is a top view of 0.

【図3】本発明の一実施例のリードフレーム付きIC7
0の斜視図である。
FIG. 3 is an IC 7 with a lead frame according to an embodiment of the present invention.
It is a perspective view of 0.

【図4】本発明の一実施例のバーンインボード81の斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a burn-in board 81 according to an embodiment of the present invention.

【図5】図4で示されるICソケット82における電極
リードピン102およびコンタクト電極85とコンタク
ト棒110の接触状態を示す。
5 shows a contact state between an electrode lead pin 102, a contact electrode 85 and a contact rod 110 in the IC socket 82 shown in FIG.

【図6】図4で示されるICソケット82上において、
リードフレーム付きIC70が位置決めされた状態のと
きの断面図を示す。
6 is a schematic view of the IC socket 82 shown in FIG.
A sectional view when the IC 70 with a lead frame is positioned is shown.

【図7】図6で示されるICソケット82上において、
リードフレーム付きIC70に検出孔が形成されている
場合に、蓋90とICソケット本体84とを閉合させた
状態の断面図を示す。
7 is a schematic diagram of an IC socket 82 shown in FIG.
A sectional view of a state in which the lid 90 and the IC socket body 84 are closed when the detection hole is formed in the IC 70 with a lead frame is shown.

【図8】図6で示されるICソケット82上において、
リードフレーム付きIC70に検出孔72が形成されて
いない場合に、蓋90とICソケット本体84とを閉合
させた状態の断面図を示す。
FIG. 8 is a diagram showing the IC socket 82 shown in FIG.
A cross-sectional view of a state in which the lid 90 and the IC socket body 84 are closed when the detection hole 72 is not formed in the IC 70 with the lead frame is shown.

【図9】本発明の一実施例のバーンイン装置120の斜
視図を示す。
FIG. 9 shows a perspective view of a burn-in device 120 of one embodiment of the present invention.

【図10】図9で示されるバーンイン装置120の概略
的な電気的構成を示すブロック図である。
10 is a block diagram showing a schematic electrical configuration of the burn-in device 120 shown in FIG.

【図11】従来のバーンイン装置50および方法を含む
IC2の製造工程を示すフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart showing a manufacturing process of an IC 2 including a conventional burn-in device 50 and a method.

【図12】従来のバーンイン装置50に用いられるリー
ドフレーム付きIC10の平面図である。
FIG. 12 is a plan view of an IC 10 with a lead frame used in a conventional burn-in device 50.

【図13】従来のバーンイン装置50に用いられるリー
ドフレーム付きIC10の斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view of an IC 10 with a lead frame used in a conventional burn-in device 50.

【図14】従来のバーンイン処理に用いられ、不良品の
IC12が多い場合のフレーム付きIC10の斜視図で
ある。
FIG. 14 is a perspective view of an IC 10 with a frame used in a conventional burn-in process and having a large number of defective ICs 12;

【図15】従来のバーンインボード21の斜視図であ
る。
FIG. 15 is a perspective view of a conventional burn-in board 21.

【図16】従来のバーンインボード21のICソケット
22上において、フレーム付きIC10が位置決めされ
た状態の断面図を示す。
FIG. 16 is a sectional view showing a state in which the framed IC 10 is positioned on the IC socket 22 of the conventional burn-in board 21.

【図17】図16に示されるICソケット22におい
て、蓋30とICソケット本体24とを閉合させた状態
の断面図を示す。
FIG. 17 is a cross-sectional view of the IC socket 22 shown in FIG. 16 with the lid 30 and the IC socket body 24 closed.

【図18】従来のバーンイン装置50の斜視図を示す。FIG. 18 shows a perspective view of a conventional burn-in device 50.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

61 リードフレーム 62 IC 63,96 リード端子 64 リード先端部 65 タイバー 66 IC支持部 70 リードフレーム付きIC 71 位置決め孔 72 検出孔 81 バーンインボード 82 ICソケット 83 抵抗 84 ICソケット本体 85 コンタクト電極 86 位置決めピン 87,92 逃げ穴 90 蓋 91 リード押え部 101 ガイドブロック 102 電極リードピン 110 コンタクト棒 111,112 バネ 120 バーンイン装置 130 検出手段 131 接続手段 132 バーンイン装置処理部 61 Lead Frame 62 IC 63, 96 Lead Terminal 64 Lead Tip 65 Tie Bar 66 IC Support 70 IC with Lead Frame 71 Positioning Hole 72 Detection Hole 81 Burn-in Board 82 IC Socket 83 Resistor 84 IC Socket Body 85 Contact Electrode 86 Positioning Pin 87 , 92 Clearance hole 90 Lid 91 Lead pressing part 101 Guide block 102 Electrode lead pin 110 Contact rod 111, 112 Spring 120 Burn-in device 130 Detecting means 131 Connecting means 132 Burn-in device processing part

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードフレームに複数個ずつ形成される
半導体装置を、リードフレームに機械的に接続された状
態で処理を施す半導体装置のバーンイン装置において、 各半導体装置を個別的に装着し、バーンイン処理に必要
な電気的接続を行う複数の接続手段と、 各半導体装置が接続手段に装着された状態で、リードフ
レームの各接続手段の近傍の予め定められる位置に、半
導体装置が不良品であることを表す不良表示が、付加さ
れているか否かを検出する検出手段と、 検出手段からの出力に応答し、不良表示が検出されない
半導体装置を装着した接続手段のみに通電しながらバー
ンイン処理を行う処理手段とを含むことを特徴とする半
導体装置のバーンイン装置。
1. A burn-in apparatus for a semiconductor device, wherein a plurality of semiconductor devices each formed on a lead frame are processed while being mechanically connected to the lead frame. The semiconductor device is defective at a predetermined position in the vicinity of each connection means of the lead frame in a state where the plurality of connection means for performing electrical connection necessary for processing and each semiconductor device are mounted on the connection means. A burn-in process is performed while energizing only the connecting means equipped with the semiconductor device in which the defect display indicating that the defect display is added and the output from the detecting device and the defect display are not detected in response to the output from the detecting means. A burn-in device for a semiconductor device, comprising: a processing means.
【請求項2】 リードフレームに複数個ずつ形成される
半導体装置を、リードフレームに機械的に接続された状
態で処理を施す半導体装置のバーンイン方法において、 各半導体装置を個別的に試験し、不良品と判定された半
導体装置には、近傍のリードフレームに予め定める不良
表示を付加し、 リードフレームに機械的に接続されている複数の半導体
装置を、個別的に複数の接続手段に装着して電気的接続
を行い、 各接続手段近傍のリードフレームに不良表示が検出され
ない接続装置のみに通電してバーンイン処理を行うこと
を特徴とする半導体装置のバーンイン方法。
2. A burn-in method for a semiconductor device, wherein a plurality of semiconductor devices each formed on a lead frame are processed while being mechanically connected to the lead frame. For a semiconductor device that is determined to be non-defective, a predetermined defect indication is added to the nearby lead frame, and a plurality of semiconductor devices mechanically connected to the lead frame are individually attached to a plurality of connecting means. A burn-in method for a semiconductor device, comprising electrically connecting and conducting a burn-in process by energizing only a connecting device in which a defective display is not detected on a lead frame near each connecting means.
JP4330727A 1992-12-10 1992-12-10 Semiconductor device burn-in apparatus and method Expired - Fee Related JP2920859B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4330727A JP2920859B2 (en) 1992-12-10 1992-12-10 Semiconductor device burn-in apparatus and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4330727A JP2920859B2 (en) 1992-12-10 1992-12-10 Semiconductor device burn-in apparatus and method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06174784A true JPH06174784A (en) 1994-06-24
JP2920859B2 JP2920859B2 (en) 1999-07-19

Family

ID=18235886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4330727A Expired - Fee Related JP2920859B2 (en) 1992-12-10 1992-12-10 Semiconductor device burn-in apparatus and method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2920859B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7095242B2 (en) * 2000-02-23 2006-08-22 Micron Technology, Inc. In-tray burn-in board, device and test assembly for testing integrated circuit devices in situ on processing trays
JP2006292715A (en) * 2005-03-18 2006-10-26 Alps Electric Co Ltd Apparatus and method for inspection
CN102468412A (en) * 2010-11-16 2012-05-23 三星Led株式会社 Apparatus and method for manufacturing light emitting diode package
JP2014109543A (en) * 2012-12-04 2014-06-12 Kyushu Nissho Co Ltd Thermostatic device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009294187A (en) 2008-06-09 2009-12-17 Fujitsu Microelectronics Ltd Component for testing device of electronic component, and test method

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7095242B2 (en) * 2000-02-23 2006-08-22 Micron Technology, Inc. In-tray burn-in board, device and test assembly for testing integrated circuit devices in situ on processing trays
US7365558B2 (en) 2000-02-23 2008-04-29 Micron Technology, Inc. In-tray burn-in board, device and test assembly for testing integrated circuit devices in situ on processing trays
JP2006292715A (en) * 2005-03-18 2006-10-26 Alps Electric Co Ltd Apparatus and method for inspection
JP4516901B2 (en) * 2005-03-18 2010-08-04 アルプス電気株式会社 Inspection apparatus and inspection method
CN102468412A (en) * 2010-11-16 2012-05-23 三星Led株式会社 Apparatus and method for manufacturing light emitting diode package
CN102468412B (en) * 2010-11-16 2014-09-24 三星电子株式会社 Manufacturing apparatus and manufacturing method of LED package
US20150017748A1 (en) * 2010-11-16 2015-01-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing led package
US9627279B2 (en) 2010-11-16 2017-04-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for removing defective light emitting diode (LED) package from LED package arrary
JP2014109543A (en) * 2012-12-04 2014-06-12 Kyushu Nissho Co Ltd Thermostatic device
TWI603105B (en) * 2012-12-04 2017-10-21 Kyushu Nissho Co Ltd Thermostat

Also Published As

Publication number Publication date
JP2920859B2 (en) 1999-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2746763B2 (en) Burn-in apparatus and burn-in method using the same
US6258609B1 (en) Method and system for making known good semiconductor dice
US5008614A (en) TAB frame and process of testing same
CN1083577C (en) Handler contact checking device and method of testing integrated circuit devices
US20080211072A1 (en) Testing and burn-in using a strip socket
US5008615A (en) Means and method for testing integrated circuits attached to a leadframe
JP2920859B2 (en) Semiconductor device burn-in apparatus and method
US5897193A (en) Semiconductor wafer
US5929627A (en) Surface mount polarized electrical components on a printed circuit board and method thereof
JPH11121569A (en) Burn-in device
US5585281A (en) Process and apparatus for forming and testing semiconductor package leads
US6323666B1 (en) Apparatus and method for testing test burn-in board and device under test, and test burn-in board handler
US6040706A (en) Contactor and semiconductor device inspecting method
JPH07106038A (en) Test device for semiconductor integrated circuit package
JP3384442B2 (en) Bonding wire defect detection method
US5220280A (en) Method and an apparatus for testing the assembly of a plurality of electrical components on a substrate
JP3208095B2 (en) Inspection equipment for semiconductor devices
US6750667B2 (en) Adapting apparatus with detecting and repairing functions and method thereof
KR100439308B1 (en) Apparatus and method of chip test
US20050194984A1 (en) Testing apparatus and testing method
JP2004514142A (en) Component inspection IC socket and component IC inspection method
JPH05206233A (en) Aging equipment for semiconductor
JP2917553B2 (en) Aging method for semiconductor device
JPH1073634A (en) Ic socket and test method of ic using the ic socket
KR0176519B1 (en) QEP, IC inspection device and inspection method

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080430

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees