JPH0615570A - Surface polishing machine - Google Patents

Surface polishing machine

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JPH0615570A
JPH0615570A JP4214464A JP21446492A JPH0615570A JP H0615570 A JPH0615570 A JP H0615570A JP 4214464 A JP4214464 A JP 4214464A JP 21446492 A JP21446492 A JP 21446492A JP H0615570 A JPH0615570 A JP H0615570A
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JP
Japan
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abrasive
striking
dust
processed
plate
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JP4214464A
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Japanese (ja)
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Katsuo Akimoto
勝夫 秋元
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AKIMOTO SANGYO KK
AKIMOTO TRADING CO Ltd
Original Assignee
AKIMOTO SANGYO KK
AKIMOTO TRADING CO Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working

Abstract

PURPOSE:To enable it to perform a job for delustering, smooth surfacing or the like on the surface of a wide processed work without entailing any shading, and besides, in a uniform manner. CONSTITUTION:This machine is provided with a conveyor system 10 conveying a processed work W in front and in the rear of a skeleton frame 1. A projection device 20, consisting of a striking system forcibly beating abradants dispersed and run down uniformly over the whole area almost orthogonal with a conveying direction of the work W, is set up in this skeleton frame 1. In succession, an eliminator 60 for eliminating the abradants, etc., scrapingly from a surface of the work W, and a dust collector 70 sucking the abradants, dust or the like for cleaning both are installed in the rear of this projection device 20. In addition, there is provided a circulative separation device 90 which selectively separates the abradants and the dust or the others after elimination and sucking, and supplies a reusable abradant to the projection device 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス材、アルミニウ
ム板材、木材その他の被処理材の表面に梨地加工を施
し、艶消し処理、平滑面処理等を濃淡なく、また、均一
に行なえるようにした平面研磨機に関する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides a matte finish on the surface of glass, aluminum plate, wood and other materials to be treated so that matte treatment and smooth surface treatment can be performed uniformly and uniformly. The present invention relates to a flat polishing machine.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、ガラス材、アルミニウム板
材、木材その他の表面に粒径が小さい研磨材を吹き付
け、表面に梨地処理を行なうサンドブラスト加工が提案
されている。このサンドブラスト加工には、圧縮空気の
噴射エネルギーを使用して研磨材を吹き付けるエア方式
として重力式、サイホン式、直圧式等があり、また、圧
縮空気を使用しない遠心投射方式として、回転するイン
ペラの中心部から供給した研磨材をインペラ外周から遠
心力でたたきつけるものがある。更に、研磨材を瀑布の
ように横幅広く自然落下させ、その中間で横幅が広いイ
ンペラを使用して研磨材をたたいて加速する平打式のも
のがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, sandblasting has been proposed in which an abrasive having a small particle size is sprayed on the surface of glass, aluminum plate, wood or the like, and the surface is satinized. In this sandblasting, there are gravity type, siphon type, direct pressure type, etc. as an air system for spraying the abrasive material by using the injection energy of compressed air, and as a centrifugal projection method without using compressed air, a rotating impeller is used. There is one in which the abrasive supplied from the center is struck by centrifugal force from the outer circumference of the impeller. Further, there is a flat type in which an abrasive material is naturally and broadly dropped like a waterfall cloth, and an impeller having a wide lateral width is used in the middle to strike the abrasive material for acceleration.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ただ、従来提案されて
いる上述したエア方式の、一般にはサンドブラスト装置
と呼ばれるものは、細いノズル先端から研磨材を被処理
材に強制的に吹き付けるために、横幅が大きい被処理材
に対しては、その表面上で蛇行させながら行なってい
る。そのため、研磨加工を均一に行なえず、濃淡が生
じ、いわゆる縞模様が出現してしまうことになるから、
この方式のサンドブラスト装置によって、横幅が大きい
被処理材の表面研磨を行なうことは困難なものであっ
た。
However, the above-mentioned conventionally proposed air system, generally called a sandblasting device, has a lateral width in order to forcibly spray the abrasive from the thin nozzle tip onto the material to be treated. For the material to be treated having a large number, it is performed while meandering on the surface. Therefore, the polishing process cannot be carried out uniformly, resulting in light and shade, and a so-called striped pattern appears.
It was difficult to polish the surface of a material having a large width with a sandblasting apparatus of this type.

【0004】また、遠心式のものは、横幅が大きい被処
理材に対応できるよう、その投射口を大きくするとすれ
ば、インペラ自体が極めて大型なものとなって、これの
回転機構、その荷重支持構造、研磨材の供給機構その他
も必然的に大型化するから、多大な設置スペースを必要
とし、機構的に複雑なものとなり、その保守も面倒にな
らざるを得ない。
Further, in the case of the centrifugal type, if the projection port is made large so as to be able to handle a material having a large width, the impeller itself becomes extremely large, and its rotating mechanism and its load bearing are supported. Since the structure, the polishing material supply mechanism, and the like inevitably become large in size, a large installation space is required, the mechanism becomes complicated, and its maintenance must be troublesome.

【0005】一方、平打ち式の研磨機として従来提供さ
れているものは、被処理材における加工可能な処理横幅
の範囲が900mm程度であり、それ以上の幅が広い被
処理材に対する研磨加工は困難なものであった。それ
は、羽根材相互の空隙に研磨材を落下供給させる関係
上、研磨材をたたきつける羽根材を長尺なものとできな
いこと、羽根全域に均一に研磨材を供給できないこと等
が技術的な障害として挙げられるからであった。
On the other hand, what has been conventionally provided as a flat type polishing machine has a processing lateral width range of about 900 mm in the material to be processed, and polishing of a material having a wider width than that is possible. It was difficult. Because of the fact that the abrasive material is dropped and supplied into the space between the blade materials, it is not possible to make the blade material that strikes the abrasive material long, and it is not possible to uniformly supply the abrasive material to the entire blade area. It was because I could be named.

【0006】更に、こうした従来の研磨処理機は、処理
機内に被処理材を搬入して研磨処理を行なった後は、そ
の搬入口から逆方向に搬出させるものとしているから、
搬入、研磨処理、搬出その他の一連の作業に要するその
加工処理時間が実質的に長くなり、能率的でないばかり
でなく、被処理材を一方向に搬送するとする自動化は全
く不可能であった。
Further, in such a conventional polishing processing machine, after the material to be processed is carried into the processing machine and subjected to the polishing processing, it is carried out in the reverse direction from the carry-in port.
The processing time required for a series of operations such as carrying-in, polishing, carrying-out and the like becomes substantially long, which is not only efficient, but automation for carrying the material to be processed in one direction is completely impossible.

【0007】そこで、本発明は、叙上のような従来存し
た諸事情に鑑み創出されたもので、主として、横幅が大
きい被処理材であってもその被加工面全域に亙って濃淡
を生じさせずに均一に研磨処理でき、また、被処理材を
一方向に搬送させながら加工処理できることで、連続的
に自動的に行なうことを用能とし、自動化処理ラインへ
の組み込みを容易にする平面研磨機を提供することを目
的とする。
Therefore, the present invention was created in view of the various existing conditions as described above. Mainly, even for a material to be processed having a large lateral width, the light and shade is distributed over the entire surface to be processed. Since it can be uniformly polished without causing it, and can be processed while conveying the material to be processed in one direction, it can be used continuously and automatically and can be easily incorporated into an automated processing line. An object is to provide a surface polishing machine.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明にあっては、前部に搬入口2、後部に搬出
口3が夫々開口されている躯体フレーム1と、躯体フレ
ーム1内で搬入口2から搬出口3に至るまで被処理材W
を搬送する搬送装置10と、搬入された被処理材Wに対
して、その搬送方向にほぼ直交する全域に均一に分散さ
せて研磨材Sを強制的に叩き付ける打撃方式の投射装置
20と、投射後の被処理材W表面から研磨材S等を掻取
り状に除去し、吸い込む除去装置60と、搬出口3近傍
の研磨材S、その他の塵埃等を吸い込み清掃する吸塵装
置70と、吸い込まれた研磨材Sと塵埃その他とを分離
した後、再使用可能な研磨材Sを投射装置20に再度供
給する循環分離装置90とを備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, according to the present invention, a frame frame 1 and a frame frame 1 each having a carry-in port 2 at the front and a carry-out port 3 at the rear. Inside the workpiece W from the carry-in port 2 to the carry-out port 3
A transporting device 10 for transporting the workpieces, a projection device 20 of a striking system for forcibly striking the abrasives S by uniformly dispersing the abrasives S in the entire region substantially orthogonal to the transporting direction of the workpiece W, and the projection. A removal device 60 that removes the abrasive material S and the like from the surface of the material to be processed W in a scraping manner and sucks it in, a dust suction device 70 that sucks and cleans the abrasive material S and other dust and the like near the carry-out port 3, and It is characterized by further comprising a circulation separation device 90 for supplying the reusable abrasive material S to the projection device 20 again after separating the abrasive material S from dust and the like.

【0009】投射装置20は、被処理材Wの搬送方向に
ほぼ直交して配装された複数の打撃羽根板25を周縁に
有して、回転するドラム状の打撃機構21と、研磨材タ
ンク27から吐出された研磨材Sを被処理材Wの搬送方
向にほぼ直交した方向で分散させて、旋回される前記打
撃羽根板25端縁に沿って打撃羽根板25下方に落下供
給させる研磨材供給機構26とを備えて構成することが
できる。そして、打撃機構21は、被処理材Wの搬送方
向に対してほぼ直交して配置されて底部が開放されてい
るほぼ半円筒状のカバー22内に配装されていて、軸受
によって回転自在に支承されたドラムシャフト23周囲
にこのドラムシャフト23自体の長さ方向で適宜間隔毎
に羽根支持板24を放射状に列設し、これらの羽根支持
板24夫々によってドラムシャフト23自体の長さ方向
に沿う打撃羽根板25を固定支持したものとすることが
できる。一方、研磨材供給機構26は、躯体フレーム1
上に配設形成された研磨材タンク27と、この研磨材タ
ンク27から吐出供給される研磨材Sの落下供給量を調
整して打撃機構21に供給する流量調整器28と、落下
供給された研磨材Sを打撃羽根板25の端縁に沿って被
処理材Wの搬送方向にほぼ直交するよう分散させる分散
手段45とを備えたものとすることができる。更に、分
散手段45は、流量調整器28と打撃機構21との間に
配装されており、流量調整器28下方で、打撃機構21
側に下方傾斜して配装されていて、最下端縁が打撃機構
21における打撃羽根板25端縁位置近傍に至る傾斜盤
46と、この傾斜盤46の下端部上面に突設形成した塞
き止め板47とから成るものとすることができる。
The projection device 20 has a plurality of striking blade plates 25 arranged substantially orthogonal to the conveying direction of the material W to be processed on its periphery, and has a rotating drum-shaped striking mechanism 21 and an abrasive material tank. The abrasive material S discharged from 27 is dispersed in a direction substantially orthogonal to the transport direction of the material W to be processed, and is dropped and supplied below the impacting blade plate 25 along the edge of the rotating impacting blade plate 25. And a supply mechanism 26. The striking mechanism 21 is arranged in a substantially semi-cylindrical cover 22 which is arranged substantially orthogonal to the transport direction of the material W to be processed and has an open bottom, and is rotatably supported by a bearing. Around the supported drum shaft 23, blade support plates 24 are radially arranged at appropriate intervals in the length direction of the drum shaft 23 itself, and these blade support plates 24 respectively extend in the length direction of the drum shaft 23 itself. The striking blade plate 25 may be fixedly supported. On the other hand, the abrasive material supply mechanism 26 is
The abrasive material tank 27 arranged and formed above, the flow rate adjuster 28 for adjusting the drop supply amount of the abrasive material S discharged and supplied from the abrasive material tank 27 and supplying the same to the striking mechanism 21, and the drop supply. It may be provided with a dispersing means 45 for dispersing the abrasive material S along the edge of the striking blade plate 25 so as to be substantially orthogonal to the transport direction of the material W to be processed. Further, the dispersion means 45 is arranged between the flow rate adjuster 28 and the striking mechanism 21, and below the flow rate adjuster 28, the striking mechanism 21.
Slanting plate 46 that is inclined downward to the side, and the lowermost edge reaches the vicinity of the end edge position of the striking blade plate 25 in the striking mechanism 21, and a closure formed by projecting on the upper surface of the lower end portion of this slanting plate 46. And a stop plate 47.

【0010】除去装置60は、吸気源に連通したクリー
ナーダクト61と、下端に至るに伴ない前後方向で次第
に狭幅となって形成されている吸込ノズル63を下端に
有し、クリーナーダクト61に連通して躯体フレーム1
内に配置されているクリーナーフード62とを備えて構
成することができ、更に、この吸込ノズル63の下端縁
には、被処理材Wの搬送方向に対向するように下方傾斜
し、搬送される被処理材W表面上に摺接するゴム板製の
掻取片64を着脱、交換自在に付設することができる。
The removing device 60 has a cleaner duct 61 communicating with an intake source and a suction nozzle 63 at the lower end, which is gradually narrowed in the front-rear direction as it reaches the lower end. Frame frame 1 in communication
The cleaner hood 62 disposed inside the suction nozzle 63 is further conveyed to the lower end edge of the suction nozzle 63 so as to be inclined downward so as to face the conveyance direction of the processing target material W. A scraping piece 64 made of a rubber plate, which is in sliding contact with the surface of the material W to be processed, can be attached and detached and replaced.

【0011】吸塵装置70は、被処理材W上に高圧空気
を噴射し、被処理材Wに付着している研磨材S、塵埃そ
の他を剥離させる空気噴射機構71と、剥離させた塵埃
その他を吸い込み除去する吸込機構81とを備えて構成
することができる。
The dust suction device 70 injects high-pressure air onto the material W to be processed to separate the abrasive S, dust, and the like adhering to the material W to be processed, and the dust and other materials that have been separated. It can be configured by including a suction mechanism 81 for sucking and removing.

【0012】循環分離装置90は、除去装置60、吸塵
装置70夫々に連通するサイクロン式集塵機構91と、
この集塵機構91によって分離回収された研磨材S中か
ら塵埃を選別分離する選別機構101と、選別分離され
た研磨材Sを投射装置20に供給する供給機構115と
を備えて構成することができる。そして、選別機構10
1は、集塵機構91末端部の取出口94に接続した接続
管102と、この接続管102下部に貯留された研磨材
Sを上方に持ち上げるほぼ直立状の第1エレベーター1
04と、この第1エレベーター104上部から自重落下
される研磨材S中から塵埃を除去する風力選別手段10
6と、自重落下した研磨材Sを貯留する貯留部111と
を備える。供給機構115は、貯留部111下部とほぼ
一体状の筐体に形成された第2エレベーターダクト11
6内で循環するほぼ直立状の第2エレベーターのものと
することができる。
The circulation separating device 90 includes a cyclone type dust collecting mechanism 91 which communicates with the removing device 60 and the dust collecting device 70, respectively.
The dust collecting mechanism 91 can be configured to include a sorting mechanism 101 that sorts and separates dust from the polishing material S that is separated and collected, and a supply mechanism 115 that supplies the sorted polishing material S to the projection device 20. . And the sorting mechanism 10
Reference numeral 1 denotes a connecting pipe 102 connected to an outlet 94 at the end of the dust collecting mechanism 91, and a substantially upright first elevator 1 that lifts up the abrasive S stored in the lower portion of the connecting pipe 102.
04, and the wind force selection means 10 for removing dust from the abrasive S dropped by its own weight from the upper part of the first elevator 104.
6 and a storage section 111 that stores the abrasive material S that has dropped by its own weight. The supply mechanism 115 includes the second elevator duct 11 formed in a housing that is substantially integrated with the lower portion of the storage section 111.
It may be that of a second elevator, which is substantially upright and circulates within 6.

【0013】[0013]

【作用】本発明に係る平面研磨機にあって、搬送装置1
0は、搬入口2から搬入されたガラス材、アルミニウム
板材その他の被処理材Wを搬出口3に至るまで搬送し、
その搬送中の躯体フレーム1内で、研磨処理した後に研
磨材Sその他を除去清掃し、処理後の被処理材Wを搬出
口3から搬出させる。
In the flat polishing machine according to the present invention, the conveying device 1
0 conveys the glass material, the aluminum plate material, and other materials to be treated W that have been carried in from the carry-in port 2 to the carry-out port 3,
In the frame frame 1 during the transportation, the polishing material S and others are removed and cleaned after the polishing processing, and the processed material W after processing is carried out from the carry-out port 3.

【0014】搬送中の被処理材Wに対し、投射装置20
は、研磨材供給機構26によって搬送方向にほぼ直交す
る全域に亙って所定の研磨材Sを均一に分散させ、その
分散させた状態で打撃機構21に流下供給させる。そし
て、打撃機構21は、分散供給された研磨材Sを、回転
する打撃羽根板25端縁によって被処理材W表面に対し
て強制的に叩き付け、この打撃作用が被処理材W表面を
均一に研磨させる。
A projection device 20 is applied to the workpiece W being conveyed.
Is uniformly distributed over the entire area substantially orthogonal to the transport direction by the abrasive material supply mechanism 26, and is supplied to the striking mechanism 21 in the dispersed state. Then, the striking mechanism 21 forcibly strikes the dispersed and supplied abrasive material S against the surface of the workpiece W by the rotating edge of the striking blade plate 25, and this striking action makes the surface of the workpiece W uniform. Polish.

【0015】このとき、流量調整器28は、研磨材Sの
分散供給量を調整させ、また、分散手段45は、流量調
整器28から流下供給された研磨材Sを、打撃羽根板2
5端縁位置近傍に至るまでで下方傾斜した傾斜盤46上
で自然落下させる途中において塞き止め板47が一旦塞
き止めた後に溢流させるから、打撃羽根板25端縁全域
に均一に分散させて供給させる。内部に打撃機構21を
配装させているカバー22は、打撃機構21による強制
的な打撃作用による研磨材Sの周囲への散乱を阻止させ
る。
At this time, the flow rate adjuster 28 adjusts the dispersion supply amount of the abrasive material S, and the dispersion means 45 removes the abrasive material S fed down from the flow rate adjuster 28 into the striking blade plate 2.
5 Since the blocking plate 47 once blocks and then overflows during the natural fall on the inclined plate 46 inclined downward until reaching the vicinity of the 5th edge position, it is evenly distributed over the entire edge of the striking blade plate 25. Let me supply. The cover 22 having the striking mechanism 21 installed therein prevents the abrasive material S from being scattered around by the striking action of the striking mechanism 21.

【0016】研磨処理後に搬送される被処理材Wは、こ
の被処理材Wの処理面上の研磨材S、処理屑その他が除
去装置60において、その掻取片64によって掻取り状
に除去され、クリーナーフード62、クリーナーダクト
61を経て吸気源側に吸込ませる。
The workpiece W conveyed after the polishing process is scraped off by the scraping piece 64 in the removing device 60 of the polishing material S, the processing debris and the like on the processing surface of the processing target material W. , Through the cleaner hood 62 and the cleaner duct 61, and sucked into the intake source side.

【0017】また、吸塵装置70は、被処理材W上に残
置された研磨材S、塵埃その他を空気噴射機構71によ
って吹き飛ばし状に強制的に剥離させ、剥離させた塵埃
その他を吸込機構81を経て、同じく吸気源側に吸込ま
せる。
Further, the dust suction device 70 uses the air jetting mechanism 71 to forcibly peel off the abrasive material S, dust and the like left on the material to be treated W by the air jetting mechanism 71, and sucks the peeled dust and the like on the suction mechanism 81. After that, it is also sucked to the intake source side.

【0018】除去装置60、吸塵装置70によって吸い
込まれ、躯体フレーム1内の被処理材Wから除去された
研磨材Sその他は循環分離装置90内に送り込まれ、循
環分離装置90のサイクロン式集塵機構91、選別機構
101夫々によって、再使用可能な研磨材Sと、研磨材
S以外の不要物である塵埃その他とに重量の相違を利用
して選別分離させる。そして、再使用可能な研磨材Sを
投射装置20に供給して、この投射装置20において再
度利用させる。このときの選別分離に際し、サンクロン
式の遠心分離方式による自身の重量の相違による選別、
また、直立状の第1エレベーター104の自重選別方式
による自重落下するときの風力利用の選別で行なわせ
る。
The polishing material S and the like that have been sucked by the removing device 60 and the dust suction device 70 and removed from the material W to be processed in the frame 1 are sent into the circulation separating device 90, and the cyclone type dust collecting mechanism of the circulation separating device 90 is provided. 91 and the sorting mechanism 101 respectively sort and separate the reusable abrasive material S and dust, which is an unnecessary substance other than the abrasive material S, by using the difference in weight. Then, the reusable abrasive material S is supplied to the projection device 20 and is reused in the projection device 20. At the time of sorting and separating at this time, sorting by the difference in weight of oneself by the Sanklon type centrifugal separation method,
In addition, the upright first elevator 104 is selected by using the wind force when falling by its own weight according to its own weight selection method.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明するに、本発明においては、例えば平面状のガラス材
である被処理材Wを躯体フレーム1前部の搬入口2から
後部の搬出口3に至るまで搬送する搬送装置10と、搬
入された被処理材Wに対して研磨材Sを強制的に叩き付
ける打撃方式で研磨する投射装置20と、投射後の被処
理材W表面から研磨材Sを吸い込み除去する除去装置6
0と、搬出口3近傍の研磨材S、その他を吸い込み清掃
する吸塵装置70と、更に、吸い込まれた研磨材Sを分
離した後、投射装置20に再度供給する循環分離装置9
0とを備える。しかして、前部から後部に至るまでに形
成された搬送装置10上に構枠された空洞状の躯体フレ
ーム1の搬入口2側に投射装置20が配装され、次い
で、除去装置60、吸塵装置70が搬出口3側に設けら
れ、除去装置60、吸塵装置70によって回収された研
磨材Sのうち再度の研磨に使用可能なものが分離された
後、投射装置20に再び供給されるよう、循環分離装置
90が搬送装置10の側方に、これの後部から前部に至
るようにして設けられている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the present invention, a material W to be treated, which is, for example, a flat glass material, is introduced from a carry-in port 2 in the front part of a frame body 1. A conveying device 10 that conveys the material W to the rear outlet 3, a projection device 20 that polishes by a striking method in which the abrasive material S is forcibly hit against the material W that has been carried in, and the processed material W after projection. Removal device 6 for sucking and removing the abrasive S from the surface
0, the dust suction device 70 that sucks and cleans the abrasive S near the carry-out port 3, and the like, and the circulation separator 9 that separates the sucked abrasive S and then supplies it again to the projection device 20.
With 0 and. Then, the projection device 20 is installed on the carry-in port 2 side of the hollow frame body 1 framed on the carrier device 10 formed from the front part to the rear part, and then the removing device 60 and the dust suction The device 70 is provided on the side of the carry-out port 3 so that the polishing material S recovered by the removing device 60 and the dust suction device 70 that can be used for polishing again is separated and then supplied to the projection device 20 again. The circulation separation device 90 is provided laterally of the transfer device 10 from its rear part to its front part.

【0020】搬送装置10は、躯体フレーム1の前後方
向に沿って配装した左右一対のローラーフレーム11相
互間に、搬送モーター12の駆動力で循環されるチェー
ン13によって従動回転される複数本の搬送ローラー1
4を装架配列して成り、各搬送ローラー14上に載置さ
れた被処理材Wを躯体フレーム1の搬入口2から搬出口
3に至るまで順次に搬送させるようになっている。ロー
ラーフレーム11相互の間隔は、処理すべき被処理材W
の最大幅員に対応しており、搬入口2に搬入された被処
理材Wを躯体フレーム1内で搬送して搬出口3から搬出
させる。
The transport device 10 includes a plurality of left and right roller frames 11 arranged along the front-rear direction of the body frame 1 and a plurality of rollers 13 driven by a chain 13 circulated by a driving force of a transport motor 12. Transport roller 1
4 are mounted and arranged, and the material to be processed W placed on each of the transport rollers 14 is sequentially transported from the carry-in port 2 of the frame frame 1 to the carry-out port 3. The distance between the roller frames 11 is equal to the material W to be processed.
It corresponds to the maximum width of, and the material W to be processed, which has been carried into the carry-in port 2, is carried in the frame 1 and carried out from the carry-out port 3.

【0021】投射装置20は、被処理材Wの搬送方向に
ほぼ直交して配装された複数の打撃羽根板25を周縁に
有して、回転するドラム状の打撃機構21と、研磨材タ
ンク27から吐出された研磨材Sを被処理材Wの搬送方
向にほぼ直交した方向で分散させて、旋回する打撃羽根
板25端縁に沿って打撃羽根板25下方に落下供給させ
る研磨材供給機構26とを備えて成る。そして、この投
射装置20は、躯体フレーム1の搬入口2近傍に配置さ
れており、搬入口2から搬入された被処理材Wに対し
て、いわゆる梨地加工を施すもので、適当量で供給され
た研磨材Sを強制的に叩き、下方で搬送されている被処
理材Wに対して研磨材Sによる強力な打撃作用を与える
ものとなっている。
The projection device 20 has a plurality of striking blade plates 25 arranged substantially orthogonal to the conveying direction of the material to be processed W on its periphery, and has a rotating drum-shaped striking mechanism 21 and an abrasive material tank. An abrasive material supply mechanism that disperses the abrasive material S discharged from 27 in a direction substantially orthogonal to the transport direction of the material W to be processed and drops and supplies it below the impacting blade plate 25 along the edge of the rotating impacting blade plate 25. And 26. The projection device 20 is disposed in the vicinity of the carry-in port 2 of the body frame 1 and performs so-called satin finish on the material W to be processed carried in from the carry-in port 2 and is supplied in an appropriate amount. Further, the abrasive material S is forcibly hit, and a strong impact action by the abrasive material S is given to the material to be processed W conveyed below.

【0022】打撃機構21は、被処理材Wの搬送方向に
対してほぼ直交して配置されて底部が開放されているほ
ぼ半円筒状のカバー22内に配装されており、図示を省
略したモータによって従動回転されるよう、軸受によっ
て回転自在に支承されたドラムシャフト23周囲にこの
ドラムシャフト23自体の長さ方向で適宜間隔毎に羽根
支持板24を放射状に列設し、これらの羽根支持板24
夫々によってドラムシャフト23自体の長さ方向に沿う
打撃羽根板25を固定支持して、シロッコファン風車構
造に形成したものである。この打撃機構21自体は、被
処理材Wの搬送方向に沿うように、図1に示す側面から
見て半時計方向に回転され、研磨材供給機構26から自
然落下される研磨材Sを打撃羽根板25によって被処理
材Wに叩き付けるもので、例えば1350〜1500/
rpmで回転される。
The striking mechanism 21 is arranged in a substantially semi-cylindrical cover 22 which is arranged substantially orthogonal to the conveying direction of the material W to be processed and has an open bottom, and the illustration thereof is omitted. Blade support plates 24 are radially arranged around the drum shaft 23, which is rotatably supported by bearings, so as to be driven by a motor, at appropriate intervals in the longitudinal direction of the drum shaft 23 itself. Board 24
The striking vane plates 25 along the length direction of the drum shaft 23 themselves are fixedly supported by the respective members to form a sirocco fan wind turbine structure. The striking mechanism 21 itself strikes the abrasive material S that is rotated counterclockwise when viewed from the side surface shown in FIG. It is hit by the plate 25 on the material W to be processed, and is, for example, 1350 to 1500 /
It is rotated at rpm.

【0023】図4に示すように、打撃羽根板25自体
は、金属製の基盤表面に耐磨耗性のゴム板を貼着した積
層構造に形成されていて、羽根支持板24にボルト、ナ
ットによってネジ止めされており、打撃機構21の回転
に伴ない打撃羽根板25自体が被処理材Wに向かうとき
にゴム板が研磨材Sを叩き、被処理材Wに対する打撃作
用を与えるようになっている。
As shown in FIG. 4, the striking blade plate 25 itself has a laminated structure in which a wear-resistant rubber plate is adhered to the surface of a metal base, and the blade supporting plate 24 has bolts and nuts. The rubber plate strikes the abrasive material S when the striking blade plate 25 itself moves toward the workpiece W as the striking mechanism 21 rotates, and exerts a striking action on the workpiece W. ing.

【0024】一方、研磨材供給機構26は、躯体フレー
ム1上に配設形成された研磨材タンク27と、この研磨
材タンク27から吐出供給される研磨材Sの落下供給量
を調整して打撃機構21に供給する流量調整器28と、
落下供給された研磨材Sを打撃羽根板25の端縁に沿っ
て被処理材Wの搬送方向にほぼ直交するよう分散させる
分散手段45とを備える。この研磨材供給機構26は、
図1に示すように、前記の打撃機構21に比しやや搬入
口2に近い躯体フレーム1の端部側の上部に配置されて
おり、研磨材Sとしては、従来からの一般的なものが使
用される。
On the other hand, the abrasive material supply mechanism 26 adjusts the amount of the abrasive material tank 27 arranged on the frame 1 and the amount of the abrasive material S discharged and supplied from the abrasive material tank 27 to be hit. A flow rate regulator 28 that supplies the mechanism 21;
Dispersing means 45 is provided to disperse the abrasive material S that has been dropped and supplied along the edge of the striking blade plate 25 so as to be substantially orthogonal to the transport direction of the material W to be processed. This abrasive material supply mechanism 26
As shown in FIG. 1, it is arranged in the upper part on the end side of the frame 1 that is slightly closer to the carry-in port 2 than the striking mechanism 21. As the abrasive S, a conventional one is used. used.

【0025】研磨材タンク27は、図示例にあって、躯
体フレーム1の幅員とほぼ同一の幅員を有する適当容量
の直方体状に形成されており、底部は開放されていて流
量調整器28に連通され、上部は後述の循環分離装置9
0の末端部分が接続されており、また、内部の貯留量が
外部から視認できるように、適数の覗き窓が形成されて
いる。
In the illustrated example, the abrasive material tank 27 is formed in the shape of a rectangular parallelepiped having a width substantially the same as the width of the skeleton frame 1 and having an appropriate capacity. The bottom is open and communicates with the flow rate regulator 28. And the upper part is a circulation separator 9 which will be described later.
The end portion of 0 is connected, and an appropriate number of viewing windows are formed so that the stored amount inside can be visually recognized from the outside.

【0026】流量調整器28は、図4乃至図7に示すよ
うに、研磨材タンク27下方に、被処理材Wの搬送方向
にほぼ直交して、打撃羽根板25の端縁に沿うよう幅広
く形成配置されており、底部に至るに伴ない前後方向で
次第に狭幅となる固定板29の底部に複数の流下孔31
を開穿し、この固定板29底部外側面に位置させて、同
様に複数のスライド孔33を開穿した左右にスライド調
整される流量調整板32と、この流量調整板32底部外
側面に位置させて、同様に複数の開閉孔35を開穿した
左右にスライドされる開閉板34とを積層状に配装して
成る(図6参照)。そして、移動しない固定板29の流
下孔31に対しスライドされる流量調整板32のスライ
ド孔33との合致部分の大きさ程度によって研磨材Sの
落下流量が適宜に調整され、また、開閉板34の開閉孔
35がスライド孔33に合致するときは合致部分の空隙
を開放して研磨材Sを落下させ、合致しないときは合致
部分を閉塞して研磨材Sを落下させないようになってい
る(図7参照)。
As shown in FIGS. 4 to 7, the flow rate adjuster 28 is wide below the abrasive material tank 27 and along the edge of the striking blade plate 25 substantially orthogonal to the direction in which the material W to be processed is conveyed. A plurality of flow holes 31 are formed at the bottom of the fixed plate 29, which is gradually narrowed in the front-rear direction as it reaches the bottom.
Is located on the outer surface of the bottom portion of the fixed plate 29, and is similarly positioned on the outer surface of the bottom portion of the flow rate adjusting plate 32 that is slidably adjusted to the left and right by opening a plurality of slide holes 33. In the same manner, the opening / closing plate 34 that is slid to the left and right and has a plurality of opening / closing holes 35 formed therein is also provided in a laminated manner (see FIG. 6). Then, the drop flow rate of the abrasive S is appropriately adjusted according to the size of the portion of the flow rate adjusting plate 32 that slides with respect to the downflow hole 31 of the stationary plate 29 that matches the slide hole 33, and the open / close plate 34 is also provided. When the opening / closing hole 35 of FIG. 3 matches the slide hole 33, the gap of the matching portion is opened to drop the abrasive material S, and when the opening / closing hole 35 of the same does not match, the matching portion is closed to prevent the abrasive material S from falling ( (See FIG. 7).

【0027】また、これらの固定板29、流量調整板3
2、開閉板34は、共に断面でほぼV字状に形成されて
積層化されたバケット構造のものとなっていて、例えば
躯体フレーム1の両側壁相互間で装架支承されている。
図示のように、最上層の固定板29は例えば研磨材タン
ク27底部に固定され、中層の流量調整板32は躯体フ
レーム1のいずれか一方の側壁によって支持され、最下
層の開閉板34は躯体フレーム1の両側壁夫々にスライ
ド自在に貫挿した左右の支持シャフト36端に固着した
断面でほぼV字状の支承板37上に固定されている。な
お、この支持シャフト36によって支承板37を介し
て、左右で開閉板34を支持することで、この流量調整
器28自体に付加される研磨材Sの荷重を十分に支持す
るものとなり、その歪形その他が防止されることで、流
量調整器28全般からのほぼ均一な分散形態での研磨材
Sの落下供給に大きく役立つ。
The fixed plate 29 and the flow rate adjusting plate 3 are also provided.
2. The open / close plate 34 has a bucket structure in which both are formed into a substantially V-shape in section and are laminated, and are mounted and supported between both side walls of the frame body 1, for example.
As shown, the uppermost fixing plate 29 is fixed to, for example, the bottom of the abrasive tank 27, the middle-layer flow rate adjusting plate 32 is supported by one of the side walls of the frame 1, and the lowermost opening / closing plate 34 is the frame. The frame 1 is fixed on a support plate 37 having a substantially V-shaped cross section fixed to the ends of the left and right support shafts 36 slidably inserted into both side walls of the frame 1. By supporting the opening / closing plate 34 on the left and right sides through the support plate 37 by the support shaft 36, the load of the abrasive material S added to the flow rate regulator 28 itself can be sufficiently supported, and its distortion The prevention of the shape and the like greatly contributes to the drop supply of the abrasive material S in a substantially uniform dispersed form from the flow rate regulator 28 in general.

【0028】査定板29の流下孔31、流量調整板32
のスライド孔33、開閉板34の開閉孔35夫々は、こ
れらの各板29,32,34夫々のV字型の底部端に1
列状に開穿されている。そして、いずれもほぼ同形、同
大のものとしてあり、図7に示すように、流量調整板3
2、開閉板34夫々がスライドして、スライド孔33が
流下孔31相互間に、あるいは開閉孔35がスライド孔
33相互間に位置するとき、流下孔31を閉塞するもの
としてある。
Downflow hole 31 of evaluation plate 29, flow rate adjusting plate 32
Each of the slide hole 33 and the opening / closing hole 35 of the opening / closing plate 34 has a V-shaped bottom end of each of the plates 29, 32, and 34.
It is perforated in rows. All of them have substantially the same shape and the same size, and as shown in FIG.
2. The open / close plates 34 slide to close the downflow holes 31 when the slide holes 33 are located between the downflow holes 31 or the open / close holes 35 are located between the slide holes 33.

【0029】また、本実施例にあっての流量調整板32
のスライド調整手段41は、図5に示すように、躯体フ
レーム1のいずれか一方の側壁に固定したナット体42
と、このナット体42に進退自在に捩じ込まれ、躯体フ
レーム1側壁に貫挿されて、一端が流量調整板32のい
ずれか一方の側壁に回転自在に貫挿係合したネジ棒材4
3と、このネジ棒材43の他端に固着され、ネジ棒材4
3自体を回転させるハンドル44とから成る。
Further, the flow rate adjusting plate 32 in the present embodiment.
As shown in FIG. 5, the slide adjusting means 41 of the nut body 42 has a nut body 42 fixed to one of the side walls of the body frame 1.
The threaded rod member 4 is screwed into the nut body 42 so as to be able to move back and forth, is inserted into the side wall of the frame body 1, and one end is rotatably inserted into one of the side walls of the flow rate adjusting plate 32.
3 and the other end of the screw rod 43,
3 and a handle 44 for rotating itself.

【0030】更に、同じく、本実施例にあっての開閉板
34のスライド手段38は、図5に示すように、前記の
いずれか一方の支持シャフト36端に開閉シリンダー3
9のシリンダロッドを連繋して成り、この開閉シリンダ
ー39による進退動によって、開閉孔35の開閉を迅速
に行なわせるものとしてある。
Further, similarly, the sliding means 38 of the opening / closing plate 34 in this embodiment, as shown in FIG. 5, has the opening / closing cylinder 3 at the end of one of the support shafts 36.
The cylinder rods 9 are connected to each other, and the opening and closing holes 35 are quickly opened and closed by the forward and backward movements of the opening and closing cylinders 39.

【0031】分散手段45は、図4に示すように、流量
調整器28と打撃機構21との間に配装されており、流
量調整器28から流下供給された研磨材Sを自然落下さ
せる途中で一旦塞き止めた後に溢流させることで、打撃
羽根板25端縁全域に均一に分散させて供給できるよう
にしてある。そのため、この分散手段45は、流量調整
器28下方で、打撃機構21側に下方傾斜して配装され
ていて、最下端縁が打撃機構21における打撃羽根板2
5端縁位置近傍に至る傾斜盤46と、この傾斜盤46の
下端部上面に突設形成した塞き止め板47とから成る。
この分散手段45の前後は、防粒盤48、保護盤49夫
々によって躯体フレーム1内部とは区画されており、ま
た、傾斜盤46の下端部上方は、前記カバー22端縁と
ほぼ合致し、傾斜盤46の下端部上に、塞き止め板47
上縁から溢流する研磨材Sが自然に流下する開口を形成
して、保護盤49下部に調整板取付板51を介して調整
板52を連設してある。更に、傾斜盤46下端部下方で
ある搬入口2の開口側には、打撃機構21による研磨材
Sの散乱を防止するスカート53を付設してある。
As shown in FIG. 4, the dispersing means 45 is arranged between the flow rate adjuster 28 and the striking mechanism 21, and the abrasive S fed down from the flow rate adjuster 28 is naturally dropped. After being temporarily blocked, the flow is made to overflow, so that it can be uniformly dispersed and supplied to the entire edge of the striking blade plate 25. For this reason, the dispersing means 45 is arranged below the flow rate regulator 28 and inclined toward the striking mechanism 21 side, and the lowermost edge of the striking blade plate 2 in the striking mechanism 21.
The slanting plate 46 reaching the vicinity of the 5th edge position and the blocking plate 47 projectingly formed on the upper surface of the lower end portion of the slanting plate 46.
The front and rear of the dispersing means 45 are separated from the inside of the frame 1 by the grain preventer 48 and the protector 49, respectively, and the upper end of the lower end of the inclined plate 46 substantially coincides with the edge of the cover 22, On the lower end of the inclined plate 46, the blocking plate 47
An opening through which the abrasive S overflowing from the upper edge naturally flows down is formed, and an adjusting plate 52 is continuously provided below the protective plate 49 via an adjusting plate attachment plate 51. Further, a skirt 53 for preventing scattering of the abrasive S by the striking mechanism 21 is attached to the opening side of the carry-in port 2 below the lower end of the inclined plate 46.

【0032】傾斜盤46下端縁と打撃機構21における
打撃羽根板25端縁との間隙は、2.5〜3mm程度の
ものとしてあり、傾斜盤46下端縁から自然に流下する
研磨材Sに対して、その流下速度に比し速い回転速度で
旋回される打撃羽根板25が叩き、下方で搬送されてい
る被処理材Wに打撃作用を与える。
The gap between the lower edge of the slant plate 46 and the edge of the striking blade plate 25 of the striking mechanism 21 is about 2.5 to 3 mm, and is smaller than that of the abrasive S that naturally flows down from the lower edge of the slant plate 46. Then, the striking blade plate 25, which is swirled at a rotation speed higher than the flow-down speed, strikes the striking blade plate 25 and gives a striking action to the workpiece W conveyed below.

【0033】また、図示を省略したが、この投射装置2
0に関連して、例えば投射装置20の後方に位置させ
て、研磨材Sの噴射ノズルを備えた重力式、サイホン
式、直圧式等のエア方式のショットブラスト装置を設け
ることも可能であり、局所的な研磨処理をも可能にす
る。
Although not shown, this projection device 2
In relation to 0, it is also possible to provide an air type shot blasting device such as a gravity type, siphon type, direct pressure type, etc., which is provided behind the projection device 20 and is provided with an injection nozzle for the abrasive S. It also enables local polishing.

【0034】このように構成された投射装置20の搬送
方向の後方に、被処埋材W上の研磨材Sを除去する吸い
込み式の除去装置60が躯体フレーム1に配装されてい
る。この除去装置60は、図示を省略した真空ポンプの
如き吸気源に連通したクリーナーダクト61と、下端に
至るに伴ない前後方向で次第に狭幅となって形成されて
いる吸込ノズル63を下端に有し、クリーナーダクト6
1に連通して躯体フレーム1内に配置されているクリー
ナーフード62とを備えて成る。
A suction type removing device 60 for removing the abrasive material S on the material W to be treated is provided on the frame body 1 at the rear of the projection device 20 thus constructed in the transport direction. This removing device 60 has a cleaner duct 61 communicating with an intake source such as a vacuum pump (not shown), and a suction nozzle 63 at the lower end which is gradually narrowed in the front-rear direction along with reaching the lower end. Cleaner duct 6
1 and a cleaner hood 62 disposed in the frame 1 so as to communicate with the cleaner frame 1.

【0035】クリーナーダクト61は、図1、図2に示
すように、躯体フレーム1上方で左右方向に沿って配設
されている角筒状に形成されていて、前部はクリーナー
フード62上部に、後部は循環分離装置90の後述する
サイクロン式集塵機構91に夫々接続されており、この
集塵機構91によって分離された塵埃が吸気源側に集積
されるものとしてある。
As shown in FIGS. 1 and 2, the cleaner duct 61 is formed in the shape of a rectangular tube arranged along the left-right direction above the body frame 1, and the front part is above the cleaner hood 62. The rear part is connected to a cyclone type dust collecting mechanism 91 of the circulation separating device 90 which will be described later, and the dust separated by the dust collecting mechanism 91 is accumulated on the intake source side.

【0036】クリーナーフード62は、図8、図9に示
すように、クリーナーダクト61に連結するほぼ角筒状
の連結部を上部に有し、正面から見て下部に至るに伴な
い次第に末広がり状で、側面から見て下部に至るに伴な
い次第に狭幅となって形成されており、下端部には、処
理すべき被処理材Wの幅員にほぼ対応した幅員に形成さ
れた吸込ノズル63を有する。この吸込ノズル63に
は、被処理材Wの搬送方向に対向するように下方傾斜し
ているゴム板製の掻取片64が吸込ノズル63の下端縁
に着脱、交換自在に付設されており、搬送される被処理
材W表面上に摺接することで、表面に付着している研磨
材Sを掻取り、吸込ノズル63から吸い込ませるように
してある。
As shown in FIGS. 8 and 9, the cleaner hood 62 has a substantially rectangular tube-shaped connecting portion for connecting to the cleaner duct 61 in the upper portion, and the shape gradually expands toward the lower portion when viewed from the front. The suction nozzle 63 is formed to have a width that gradually narrows from the side to the bottom, and has a width substantially corresponding to the width of the material W to be processed at the lower end. Have. The suction nozzle 63 is provided with a scraping piece 64 made of a rubber plate, which is inclined downward so as to be opposed to the conveyance direction of the workpiece W, at the lower end edge of the suction nozzle 63 so as to be detachable and replaceable. The abrasive material S adhering to the surface of the material W to be conveyed is brought into sliding contact with the surface of the material W to be conveyed, so that the abrasive material S is scraped off and sucked from the suction nozzle 63.

【0037】また、このクリーナーフード62内は、適
当数の区画片65によって区画形成されており、吸込ノ
ズル63の各部位においての吸込圧が平均化するように
配慮してある。
The inside of the cleaner hood 62 is partitioned by an appropriate number of partition pieces 65 so that the suction pressure at each part of the suction nozzle 63 is equalized.

【0038】この除去装置60の搬送方向の後方に、被
処理材W上の研磨材Sを吹き飛ばし、清掃する吸い込み
式の吸塵装置70が搬出口3近傍に位置して躯体フレー
ム1に配装されている。この吸塵装置70は、除去装置
60によっても除去されずに被処理材W表面に付着して
いる塵埃その他を吹き飛ばし分離した後、吸込み除去し
て清掃するもので、被処理材W上に高圧空気を噴射し、
被処理材Wに付着している研磨材S、塵埃その他を強制
的に剥離させる空気噴射機構71と、剥離させた塵埃そ
の他を吸い込み除去する吸込機構81とを備えて成る。
A suction-type dust suction device 70 for blowing and cleaning the abrasive material S on the material W to be processed is disposed near the carry-out port 3 at the rear of the removing device 60 in the conveying direction and is mounted on the frame body 1. ing. The dust suction device 70 blows off and separates dust and the like adhering to the surface of the material to be processed W without being removed by the removing device 60, and then sucks and removes the dust to clean the material W to be processed. And then
An air injection mechanism 71 for forcibly peeling off the abrasive material S, dust and the like adhering to the material to be processed W, and a suction mechanism 81 for sucking and removing the peeled dust and the like are provided.

【0039】空気噴射機構71は、図10、図11に示
すように、被処理材Wの搬送方向にほぼ直交した左右方
向に揺動するシーソーアーム72と、図示を省略した空
気供給源に連通されていて、下面に多数の空気噴射孔7
8を開穿してシーソーアーム72に支持された噴気パイ
プ77とから成る。
As shown in FIGS. 10 and 11, the air injection mechanism 71 communicates with a seesaw arm 72 that swings in the left-right direction substantially orthogonal to the transport direction of the workpiece W, and an air supply source (not shown). And a large number of air injection holes 7 on the lower surface.
8 is opened and is supported by the seesaw arm 72.

【0040】シーソーアーム72は、例えば躯体フレー
ム1上側壁を貫挿させた状態で、躯体フレーム1上側壁
に軸受部材等によって揺動自在に支承させることで左右
で一対に配され、揺動モータ73を駆動源とする揺動手
段74によって左右方向に揺動される。揺動手段74自
体は、例えば躯体フレーム1上部に配置した揺動モータ
73にてチェーン、ベルト等を介して従動回転される偏
心回転盤75といずれか一方のシーソーアーム72上部
とを偏心揺動アーム76にて連繋したものである。
The seesaw arms 72 are arranged in a pair on the left and right by supporting the upper side wall of the body frame 1 so as to be freely swingable by a bearing member or the like in a state where the upper side wall of the body frame 1 is inserted. It is rocked in the left-right direction by a rocking means 74 having a driving source 73. The oscillating means 74 itself eccentrically oscillates an eccentric turntable 75, which is driven to rotate by a swing motor 73 disposed above the frame 1 through a chain, a belt, etc., and an upper portion of one of the seesaw arms 72. It is connected by an arm 76.

【0041】噴気パイプ77は、シーソーアーム72の
下端に搬送方向の前後に沿って連設した支持材79の前
後両端部の左右相互間で架装されることで、搬送方向の
前後で適宜間隔を隔てて前後に一対にして配されてお
り、噴気パイプ77の両端に連通されている空気供給パ
イプから供給された高圧空気を空気噴射孔78から被処
理材W上に噴射する。この噴射に際し、揺動手段74に
よって噴気パイプ77自体が左右に揺動するから、被処
理材W上に満遍なく高圧空気があたり、被処理材W表面
の付着物を吹き飛ばす。
The jet pipe 77 is mounted between the left and right ends of the front and rear ends of a support member 79 which is continuously provided at the lower end of the seesaw arm 72 along the front and rear in the carrying direction, so that it is appropriately spaced before and after the carrying direction. The high pressure air supplied from the air supply pipes, which are arranged in a pair in front and in the back of the air injection pipe 77 and are communicated with both ends of the air jet pipe 77, is jetted onto the workpiece W from the air jet holes 78. At the time of this injection, the squirting means 74 oscillates the fumarolic pipe 77 itself to the left and right, so that the high-pressure air hits the workpiece W uniformly and blows off the deposits on the surface of the workpiece W.

【0042】また、吸込機構81は、躯体フレーム1の
搬出口3近傍の躯体フレーム1上側壁に連通する吸込ダ
クト82から成り、この吸込ダクト82は、前記除去装
置60におけるクリーナーダクト61から分岐された角
筒状の分岐連通フード83に上部が連通されており、下
部は末広がり状にして躯体フレーム1の上側壁に接続さ
れた状態で躯体フレーム1上に配装されている。この吸
込機構81は、躯体フレーム1における搬出口3近傍位
置で、空気噴射機構71によって被処理材W上から剥離
された被処理材W、塵埃その他を吸込み、後述のサイク
ロン式集塵機構91に送り入れるものである。
The suction mechanism 81 is composed of a suction duct 82 communicating with the upper side wall of the frame 1 near the carry-out port 3 of the frame 1, and the suction duct 82 is branched from the cleaner duct 61 of the removing device 60. The upper part is communicated with a rectangular tube-shaped branch communication hood 83, and the lower part is provided on the body frame 1 in a state where the lower part is in a divergent shape and is connected to the upper side wall of the body frame 1. The suction mechanism 81 sucks the material W to be treated separated from the material W to be treated, the dust and the like by the air injection mechanism 71 at a position in the vicinity of the carry-out port 3 in the body frame 1 and sends it to a cyclone type dust collecting mechanism 91 described later. It is something to put.

【0043】そして、前記の除去装置60及び吸塵装置
70によって吸込まれた研磨材S、塵埃その他は、循環
分離装置90によって回収され、再使用可能な研磨材S
と、その他の塵埃とに分離し、研磨材Sは投射装置20
に供給される一方、塵埃その他は所定の集塵箇所に集積
され、廃棄されるものとしてある。そのための循環分離
装置90は、図1乃至図3、図12、図13に示すよう
に、除去装置60、吸塵装置70夫々に連通するサイク
ロン式集塵機構91と、この集塵機構91によって分離
回収された研磨材S中から塵埃を選別分離する選別機構
101と、選別分離された研磨材Sを投射装置20に供
給する供給機構115とを備える。
Then, the polishing material S sucked by the removing device 60 and the dust suction device 70, dust and others are collected by the circulation separating device 90 and can be reused.
And other dust, and the abrasive S is projected onto the projection device 20.
Meanwhile, the dust and the like are accumulated in a predetermined dust collecting place and discarded. The circulation separation device 90 for that purpose, as shown in FIGS. 1 to 3, 12, and 13, is a cyclone type dust collecting mechanism 91 communicating with the removing device 60 and the dust collecting device 70, and is separated and collected by the dust collecting mechanism 91. A sorting mechanism 101 that sorts and separates dust from the polishing material S and a supply mechanism 115 that supplies the sorted polishing material S to the projection device 20.

【0044】集塵機構91は、図12に示すように、適
当な架台上に配置構成されており、除去装置60、吸塵
装置70夫々の末端部に連通する取入口93を上部に有
し、下方に至るに伴ない次第に窄まる円錘状で、下端に
は取出口94を備えた回収取出部95を下部に有する外
筒体92と、図示を省略した吸気源側の集塵機に連通さ
れている集塵ダクト97が上部に接続され、下端が開放
されている内筒体96との二重筒構造に形成されてい
る。この集塵機構91内に吸込まれた研磨材Sその他
は、重力的に重い研磨材Sが外筒体92内側面に沿って
旋回しながら取出口94に落下し、重力的に軽い塵埃そ
の他が集塵ダクト97を経て集塵機に集積される。
As shown in FIG. 12, the dust collecting mechanism 91 is arranged on a suitable mount, has an intake port 93 communicating with the end portions of the removing device 60 and the dust collecting device 70 at the upper part, and has a lower part. The outer cylindrical body 92 has a conical shape that gradually narrows as it goes to the bottom, and has a collection and extraction section 95 provided at the lower end with a collection and extraction section 95, and a dust collector on the intake source side (not shown). The dust collecting duct 97 is connected to the upper part, and is formed in a double-cylinder structure with an inner cylindrical body 96 whose lower end is open. As for the abrasive S and the like sucked into the dust collecting mechanism 91, the abrasive S that is gravity heavy is dropped along the inner surface of the outer cylinder 92 while dropping to the outlet 94, and dust and the like that are light gravity are collected. It is accumulated in the dust collector through the dust duct 97.

【0045】選別機構101は、集塵機構91末端部の
取出口94に接続した接続管102と、この接続管10
2下部に貯留された研磨材Sを上方に持ち上げるほぼ直
立状の第1エレベーター104と、この第1エレベータ
ー104上部から自重落下される研磨材S中から塵埃を
除去する風力選別手段106と、自重落下した研磨材S
を貯留する貯留部111とを備える。
The sorting mechanism 101 includes a connecting pipe 102 connected to the outlet 94 at the end of the dust collecting mechanism 91 and the connecting pipe 10.
2 The first upright elevator 104 that lifts the polishing material S stored in the lower portion upward, the wind force selection means 106 that removes dust from the polishing material S that is dropped by its own weight from the upper portion of the first elevator 104, and its own weight. Abrasive S dropped
And a storage unit 111 that stores the.

【0046】図示にあって、接続管102の上部は、取
出口94に連設したホッパー103に、また、下部は第
1エレベーター104下部に夫々接続されており、上部
のホッパー103から下部に至るまでの傾斜したほぼ角
筒状に形成されている。
In the figure, the upper part of the connecting pipe 102 is connected to the hopper 103 connected to the outlet 94, and the lower part thereof is connected to the lower part of the first elevator 104, respectively, from the upper hopper 103 to the lower part. It is formed in a substantially rectangular tube shape inclined up to.

【0047】第1エレベーター104は、接続管102
下部とほぼ一体状の筐体に形成された第1エレベーター
ダクト105内で循環するバケットエレベーターのもの
としてあり、接続管102内で流下する研磨材S等を順
次に第1エレベーターダクト105の上部にまで待ち来
すようにしている。
The first elevator 104 is connected to the connecting pipe 102.
It is a bucket elevator that circulates in a first elevator duct 105 that is formed in a housing that is almost integrated with the lower part, and the abrasive S and the like that flow down in the connecting pipe 102 are sequentially transferred to the upper part of the first elevator duct 105. I'm trying to wait until.

【0048】風力選別手段106は、第1エレベーター
104のバケット夫々が第1エレベーターダクト105
上部で反転するとき投入される上下二重構造の金網体1
07を上部に配し、この金網体107の下方に、図示を
省略した送風機からの送風によって重量選別する送風選
別室108を区画形成し、送風によって排除された軽量
の塵埃その他の不要物以外のものである重量の研磨材S
を自重落下させて、貯留部111に案内する下方傾斜の
案内筒109を配設して成る。排除される軽量の塵埃そ
の他の不要物は、送風選別室108前方に配置した集積
区画内に集積貯留されることで、纏めて廃棄されるよう
になっている。
In the wind power selection means 106, each bucket of the first elevator 104 has a first elevator duct 105.
Wire mesh body 1 with a double upper and lower structure that is thrown in when turning over at the top
07 is arranged in the upper part, and below this wire mesh body 107, a blower sorting chamber 108 for weight-selecting by blower from a blower (not shown) is sectioned, and light dust and other unnecessary substances removed by the blower are not formed. The weight of the abrasive S
Is provided by arranging a downwardly inclined guide cylinder 109 for guiding the same to the storage portion 111. Light weight dust and other unnecessary substances to be removed are accumulated and stored in an accumulation section arranged in front of the air blowing and sorting chamber 108, so that they are collectively discarded.

【0049】貯留部111は、案内筒109と一体的な
ボックス状に形成され、この貯留部111内に貯留され
た再使用可能な研磨材Sは供給機構115によって投射
装置20に供給される。
The storage section 111 is formed in a box shape integral with the guide cylinder 109, and the reusable abrasive S stored in the storage section 111 is supplied to the projection device 20 by the supply mechanism 115.

【0050】供給機構115は、貯留部111下部とほ
ぼ一体状の筐体に形成された第2エレベーターダクト1
16内で循環するバケットエレベーターであるほぼ直立
状の第2エレベーターのものとしてあり、貯留部111
内に貯留された研磨材Sを順次に第2エレベーターダク
ト116の上部にまで待ち来すようにしている。第2エ
レベーターダクト116内で循環する第2エレベーター
(115)の各バケットが第2エレベーターダクト11
6内上部で反転するとき、各バケット内の研磨材Sが投
射装置20における研磨材供給機構26の研磨材タンク
27内に投入されるようになっている。
The supply mechanism 115 is a second elevator duct 1 which is formed in a housing which is substantially integrated with the lower portion of the storage section 111.
The second elevator, which is a bucket elevator that circulates in 16 and is substantially upright, is provided in the storage unit 111.
The abrasives S stored therein are sequentially waited up to the upper part of the second elevator duct 116. Each bucket of the second elevator (115) circulating in the second elevator duct 116 is the second elevator duct 11
The abrasive S in each bucket is thrown into the abrasive tank 27 of the abrasive supply mechanism 26 in the projection device 20 when the inside of the bucket 6 is turned over.

【0051】また、このようにして、躯体フレーム1に
連設している除去装置60のクリーナーダクト61、同
じく吸塵装置70の吸込ダクト82、循環分離装置90
の集塵機構91、選別機構101夫々は、その内部が一
連に連続されるように、それらの筐体が外部とはほぼ遮
断された密閉一体状に形成されており、内部で循環する
研磨材S、及び被処理材Wから削剥された処理屑、その
他の塵埃等が外部に漏出しないようにしてあるものであ
る。
In this way, the cleaner duct 61 of the removing device 60 connected to the frame 1 of the frame, the suction duct 82 of the dust collecting device 70, and the circulation separating device 90 are also provided.
Each of the dust collecting mechanism 91 and the sorting mechanism 101 has a housing integrally formed in a hermetically sealed manner in which the inside thereof is substantially cut off from the outside so that the inside thereof is continuous. , And the processing scraps and other dusts scraped off from the material W to be processed are prevented from leaking to the outside.

【0052】そしてまた、搬送装置10下方には、投射
装置20によって強制的に叩き付けられた研磨材Sが被
処理材W下方に回り込んだときのそれらを回収する回収
装置120が設けられている。この回収装置120は、
図1、図3、図12、図13に示すように、躯体フレー
ム1位置に対応した搬送装置10下方に配装されてお
り、平面から見て被処理材Wの搬送方向の前後で長い長
方形を呈するほぼ逆角錐状にして、搬送方向に沿った左
右夫々で形成された回収ホッパー121と、この回収ホ
ッパー121底部に形成した溝状の第1送り部122内
に配置した第1送りスクリューコンベア部材123と、
第1送り部122にほぼ直交させた搬送方向の前後に沿
って、第1送り部122の底部に連設させて形成した溝
状の第2送り部124内に配置され、終端が前記循環分
離装置90における第1エレベーターダクト105底部
に位置するようにした第2送りスクリューコンベア部材
125とを備えて成る。
Further, below the carrying device 10, there is provided a recovery device 120 for recovering the abrasive material S forcibly struck by the projection device 20 when it goes around below the material W to be processed. . This recovery device 120 is
As shown in FIG. 1, FIG. 3, FIG. 12, and FIG. 13, a rectangle that is arranged below the transporting device 10 corresponding to the position of the frame 1 and is long in the front and rear in the transporting direction of the material W to be processed when seen in a plan view. And a first feed screw conveyor arranged in a groove-shaped first feed section 122 formed at the bottom of the recovery hopper 121, which is formed in a substantially inverted pyramid shape and is formed on the left and right sides in the transport direction. Member 123,
It is arranged in a groove-shaped second feed portion 124 formed continuously on the bottom of the first feed portion 122 along the front and rear in the transport direction which is substantially orthogonal to the first feed portion 122, and the end is the circulation separation. The apparatus 90 comprises a second feed screw conveyor member 125 located at the bottom of the first elevator duct 105.

【0053】したがって、躯体フレーム1内において、
投射装置20によって強制的に打撃投射された研磨材S
等が搬送装置10下方に回り込んだとき、回収ホッパー
121底部の第1送り部122内に集積された後、第1
送りスクリューコンベア部材123、及び第2送りスク
リューコンベア部材125夫々によって循環分離装置9
0における選別機構101の第1エレベーターダクト1
05底部に送られる。すると、この循環分離装置90に
よって選別分離される研磨材Sその他と共に選別分離さ
れた後、投射装置20の研磨材タンク27内に供給さ
れ、再使用されるものとなっている。
Therefore, in the frame body 1,
Abrasive material S forcibly hit by the projection device 20
Etc., when they wrap around below the transfer device 10, after being accumulated in the first feeding part 122 at the bottom of the recovery hopper 121, the first
The circulation separation device 9 includes the feed screw conveyor member 123 and the second feed screw conveyor member 125, respectively.
First elevator duct 1 of sorting mechanism 101 at 0
05 sent to the bottom. Then, after being sorted and separated together with the polishing material S and the like which are sorted and separated by the circulation separation device 90, they are supplied into the polishing material tank 27 of the projection device 20 and reused.

【0054】次に、以上のように構成された本発明の一
実施例における使用の一例を説明するに、図示を省略し
たが、一連の加工処理ライン中に組み込まれるもので、
研磨加工すべき被処理材Wが躯体フレーム1の搬入口2
から投入されると、搬送装置10によって搬出口3に至
るまで搬送される。その搬送中に、投射装置20におい
て、研磨材供給機構26から順次に供給された研磨材S
に打撃機構21によって強制的な打撃作用が付与されて
これSが被処理材W表面に投射されると、表面全域に均
一した所定の研磨処理が施される。
Next, in order to explain an example of use in one embodiment of the present invention configured as described above, although not shown, it is incorporated into a series of processing lines,
The material W to be polished is the carry-in port 2 of the frame 1
When it is put in from, it is carried by the carrying device 10 to the carry-out port 3. During the transportation, in the projection device 20, the abrasive material S sequentially supplied from the abrasive material supply mechanism 26.
When the striking mechanism 21 exerts a forcible striking action on the surface of the workpiece W and the S is projected onto the surface of the material W to be treated, the entire surface of the workpiece W is uniformly polished.

【0055】そして、研磨処理後の被処理材W表面に付
着した研磨材S、及び被処理材Wから削剥された処理屑
等は、除去装置60において、被処理材W表面から掻取
り状に剥離された後、クリーナーフード62、クリーナ
ーダクト61を経て循環分離装置90におけるサイクロ
ン式の集塵機構91に送られる。被処理材Wの搬送方向
の前方、搬出口3近傍に配置した吸塵装置70におい
て、空気噴射機構71が被処理材W表面に付着している
細かな研磨材Sその他の塵埃等を吹き飛ばすようにして
剥離し、吸込機構81を経て同じく循環分離装置90に
おけるサイクロン式の集塵機構91に送られる。
Then, the polishing material S adhering to the surface of the material to be processed W after the polishing processing, the processing scraps scraped off from the material to be processed W and the like are scraped off from the surface of the material to be processed W in the removing device 60. After being peeled off, it is sent to the cyclone type dust collecting mechanism 91 in the circulation separator 90 through the cleaner hood 62 and the cleaner duct 61. In the dust suction device 70 disposed in the front of the workpiece W in the transport direction and in the vicinity of the carry-out port 3, the air jetting mechanism 71 blows off the fine abrasive S and other dust adhering to the surface of the workpiece W. Then, it is separated and sent to the cyclone type dust collecting mechanism 91 in the circulation separator 90 through the suction mechanism 81.

【0056】このようにして集塵機構91内に集められ
た躯体フレーム1内の使用後の研磨材S、処理屑、塵埃
その他は、重力的に分別され、塵埃は適当な集塵機に集
められる一方、研磨材S等は選別機構101へ送られ、
再度の重力的な選別処理が行なわれて、再使用可能な研
磨材Sのみが投射装置20における研磨材供給機構26
の研磨材タンク27に供給される。
The used abrasive material S, processing waste, dust and the like in the body frame 1 collected in the dust collecting mechanism 91 in this way are gravitationally separated, and the dust is collected in an appropriate dust collector. The abrasive material S and the like are sent to the sorting mechanism 101,
The gravitational sorting process is performed again, and only the reusable abrasive material S is used as the abrasive material supply mechanism 26 in the projection device 20.
Is supplied to the abrasive material tank 27.

【0057】また、投射装置20下方に回り込んだ研磨
材S等は回収装置120によって循環分離装置90に送
られ、同様に選別分離された後、研磨材タンク27内に
供給される。
Further, the polishing material S and the like sneaking down below the projection device 20 are sent to the circulation separation device 90 by the recovery device 120, similarly sorted and separated, and then supplied into the polishing material tank 27.

【0058】[0058]

【発明の効果】木発明は以上のように構成されており、
これがため、相当に横幅が大きい広幅な被処理材Wであ
ってもその被加工面全域に亙って研磨材Sを分散状に均
一な打撃作用で投射できるから、濃淡を生じさせずに均
一に研磨処理でき、また、その研磨処理に際し、被処理
材Wは搬入口2から搬出口3に至る一方向に搬送させな
がら加工処理するから、連続自動的に行なえ、自動化処
理ラインへの組み込みを容易にすることができる。
The tree invention is constructed as described above,
As a result, even with a wide workpiece W having a considerably large width, the abrasive S can be dispersed and uniformly projected over the entire surface of the workpiece by a uniform striking action. In addition, since the workpiece W is processed while being conveyed in one direction from the carry-in port 2 to the carry-out port 3, it can be continuously and automatically integrated into an automated processing line. Can be easy.

【0059】すなわち、本発明は、ガラス材、アルミニ
ウム板材、木材その他の所定の被処理材Wを躯体フレー
ム1前部の搬入口2から後部の搬出口3に至るまで投射
装置20によって搬送する間で、被処理材Wに対して、
その搬送方向にほぼ直交する全域に均一に分散させて研
磨材Sを強制的に叩き付ける打撃方式の投射装置20に
よって研磨し、研磨投射後の被処理材W表面から研磨材
S等を除去装置60によって掻取り状に除去し、吸い込
み、また、搬出口3近傍の研磨材S、その他の塵埃を吸
塵装置70によって吸い込み清掃し、更に、吸い込まれ
た研磨材Sと塵埃その他とを分離した後、再使用可能な
研磨材Sを循環分離装置90によって投射装置20に再
度供給するようにしたからであり、これによって、艶消
し処理、平滑面処埋等を濃淡なく、均一に行なえるもの
としたのである。
That is, according to the present invention, while the glass material, the aluminum plate material, the wood, and other predetermined material W to be processed are conveyed by the projection device 20 from the front carry-in port 2 of the body frame 1 to the rear carry-out port 3. Then, for the workpiece W,
A polishing device S that removes the polishing material S and the like from the surface of the processing target material W after polishing and blasting is performed by using a striking type projection device 20 that uniformly disperses the polishing material S in a region substantially orthogonal to the transport direction and forcibly strikes the polishing material S. After being removed by scraping and sucking, the abrasive S and other dust in the vicinity of the carry-out port 3 is also sucked and cleaned by the dust suction device 70, and further, after the sucked abrasive S and dust are separated, This is because the reusable abrasive material S is supplied again to the projection device 20 by the circulation separation device 90, and thereby, the matting treatment, the smooth surface treatment, etc. can be performed uniformly without light and shade. Of.

【0060】また、打撃機構21、研磨材供給機構26
を備えた投射装置20は、被処理材Wの搬送方向にほぼ
直交して配装された複数の打撃羽根板25が旋回される
とき、これの下方に順次落下供給される研磨材Sに強制
的な打撃作用を与えるから、打撃羽根板25下方で搬送
されている被処理材Wに対して、それの幅員が広いもの
であっても、処理面全域に均一な研磨処理を施すことが
できる。そのため、従来のように局所的な濃淡、縞模様
その他が生じることがなく、美麗な、体裁のよい良好な
処理品を得ることができるばかりでなく、ガラス材、ア
ルミニウム材、木材、その他の所定の各種の素材への研
磨処理を可能にする。
Further, the striking mechanism 21 and the abrasive supply mechanism 26
When the plurality of striking blade plates 25 arranged substantially orthogonal to the conveyance direction of the material to be processed W are swung, the projection device 20 equipped with is forced to the abrasive material S which is sequentially dropped and supplied below the impact blade plates 25. Since the object W to be processed conveyed below the hitting blade plate 25 has a wide width, it is possible to perform uniform polishing processing on the entire processing surface. . Therefore, it is possible to obtain a beautiful processed product having a good appearance without causing local light and shade, a striped pattern and the like as in the conventional case, and also to obtain a glass material, an aluminum material, wood, and other predetermined materials. It enables polishing of various materials.

【0061】更に、この研磨材供給機構26における流
量調整器28は、被処理材Wに対して打撃する研磨材S
の供給量を自在に変更し、研磨の深浅、粗細の程度その
他を微妙に調整できるのであり、また、分散手段45
は、流量調整器28から落下供給された研磨材Sを被処
理材Wの搬送方向にほぼ直交した方向に沿って均一に分
散させ、研磨処理を満遍なく行なわせるものである。打
撃羽根板25を有して回転する打撃機構21は、カバー
22内に配装されているから、研磨材Sの打撃に際し、
周囲に研磨材Sを散乱させず、躯体フレーム1内におい
ての除去、清掃の負担を加重しない。
Further, the flow rate adjuster 28 in the abrasive material supply mechanism 26 has the abrasive material S which strikes the material W to be processed.
It is possible to freely change the supply amount of the powder to finely adjust the depth of polishing, the degree of coarseness and fineness, and the dispersion means 45.
Is to uniformly disperse the abrasive material S dropped and supplied from the flow rate regulator 28 along a direction substantially orthogonal to the transport direction of the material W to be processed, and to uniformly perform the polishing processing. Since the striking mechanism 21 having the striking blade plate 25 and rotating is arranged in the cover 22, when striking the abrasive S,
The abrasive S is not scattered around and the burden of removal and cleaning in the frame 1 is not added.

【0062】クリーナーダクト61、クリーナーフード
62を備えた除去装置60、空気噴射機構71、吸込機
構81を備えた吸塵装置70は、躯体フレーム1内にお
いて、投射装置20によって被処理材W上に打撃され、
被処理材W表面に付着、ないしは残置された研磨材S、
更には研磨後で付着している処理屑、その他の塵埃を除
去でき、搬出口3から搬出された被処理材W自体をその
まま次工程にて処理できるようにするものである。この
とき、除去装置60にあっては掻取片64が被処理材W
上から研磨材Sその他を掻取り状に集め、また、吸塵装
置70にあっては、空気噴射機構71によって強制的に
剥離するよう被処埋材W上から不要物を吹き飛ばした
後、真空式に吸込み除去するので、不要物が被処理材W
上に残置されることは極めて少ない。
The dust removing device 70 including the cleaner duct 61, the cleaner hood 62, the air injection mechanism 71, and the suction mechanism 81 hits the workpiece W by the projection device 20 in the frame frame 1. Is
An abrasive material S attached to or left on the surface of the material W to be processed,
Further, it is possible to remove the processing wastes and other dusts attached after polishing, so that the processing target material W carried out from the carry-out port 3 can be directly processed in the next step. At this time, in the removing device 60, the scraping piece 64 is the workpiece W.
The abrasive material S and the like are collected in a scraped manner from above, and in the dust suction device 70, after the unnecessary material is blown off from the material to be treated W so that it is forcibly separated by the air injection mechanism 71, the vacuum type Since it is sucked into and removed by the
Very little is left on top.

【0063】循環分離装置90は、集塵機構91、選別
機構101、供給機構115を備えており、除去装置6
0、吸塵装置70によって吸い込まれ、躯体フレーム1
内の被処理材Wから除去された研磨材S 塵埃その他
を、再使用可能な研磨材Sと不要物である塵埃その他と
に選別した後、再使用可能な研磨材Sを回収して投射装
置20に供給するから、研磨材Sの無駄がないものであ
る。
The circulation separation device 90 comprises a dust collecting mechanism 91, a sorting mechanism 101, and a supply mechanism 115, and the removing device 6
0, it is sucked in by the dust suction device 70, and the body frame 1
Abrasive S removed from the material to be treated W in the interior is sorted into reusable abrasive S and unnecessary dust and the like, and then the reusable abrasive S is collected and projected. Since it is supplied to No. 20, the polishing material S is not wasted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】全体の概略側断面図である。FIG. 1 is an overall schematic side sectional view.

【図2】同じく概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of the same.

【図3】同じく概略正面図である。FIG. 3 is a schematic front view of the same.

【図4】投射装置の側面図である。FIG. 4 is a side view of the projection device.

【図5】同じく一部省略の正面図である。FIG. 5 is a partially omitted front view of the same.

【図6】流量調整器の側断面図である。FIG. 6 is a side sectional view of a flow rate regulator.

【図7】流量調整器における研磨材の流量調整作動時の
要部平面図である。
FIG. 7 is a plan view of a main part when a flow rate adjusting operation of an abrasive is performed in the flow rate adjuster.

【図8】除去装置の側面図である。FIG. 8 is a side view of the removing device.

【図9】同じく正面図である。FIG. 9 is a front view of the same.

【図10】吸塵装置の側面図である。FIG. 10 is a side view of the dust suction device.

【図11】同じく正面図である。FIG. 11 is a front view of the same.

【図12】循環分離装置における集塵機構の側断面図で
ある。
FIG. 12 is a side sectional view of a dust collecting mechanism in the circulation separator.

【図13】同じく、選別機構、供給機構の側断面図であ
る。
FIG. 13 is likewise a side sectional view of the sorting mechanism and the supply mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

S 研磨材 W 被処理材 1 躯体フレーム 2 搬入口 3 搬出口 10 搬送装置 11 ローラー
フレーム 12 搬送モーター 13 チェーン 14 搬送ローラー 20 投射装置 21 打撃機構 22 カバー 23 ドラムシ
ャフト 24 羽根支持板 25 打撃羽根
板 26 研磨材供給機構 27 研磨材タ
ンク 28 流量調整器 29 固定板 31 流下孔 32 流量調整
板 33 スライド孔 34 開閉板 35 開閉孔 36 支持シャ
フト 37 支承板 38 スライド
手段 39 開閉シリンダ 41 スライド
調整手段 42 ナット体 43 ネジ棒材 44 ハンドル 45 分散手段 46 傾斜盤 47 塞き止め
板 48 防粒盤 49 保護盤 51 調整板取付板 52 調整板 53 スカート 60 除去装置 61 クリーナ
ーダクト 62 クリーナーフード 63 吸込ノズ
ル 64 掻取片 65 区画片 70 吸塵装置 71 空気噴射
機構 72 シーソーアーム 73 揺動モー
タ 74 揺動手段 75 偏心回転
盤 76 偏心揺動アーム 77 噴気パイ
プ 78 空気噴射孔 79 支持材 81 吸込機構 82 吸込ダク
ト 83 分岐連通フード 90 循環分離装置 91 集塵機構 92 外筒体 93 取入口 94 取出口 95 回収取出
部 96 内筒体 97 集塵ダク
ト 101 選別機構 102 接続管 103 ホッパー 104 第1エ
レベーター 105 第1エレベーターダクト 106 風力選
別手段 107 金網体 108 送風選
別室 109 案内筒 111 貯留部 115 供給機構 116 第2エ
レベーターダクト 120 回収装置 121 回収ホ
ッパー 122 第1送り部 123 第1送
りスクリューコンベア 部材 124 第2送
り部 125 第2送りスクリューコンベア部材
S Abrasive material W Material to be treated 1 Frame frame 2 Carry-in port 3 Carry-out port 10 Conveying device 11 Roller frame 12 Conveying motor 13 Chain 14 Conveying roller 20 Projection device 21 Strike mechanism 22 Cover 23 Drum shaft 24 Blade support plate 25 Striking blade plate 26 Abrasive supply mechanism 27 Abrasive tank 28 Flow controller 29 Fixing plate 31 Downflow hole 32 Flow rate adjusting plate 33 Slide hole 34 Opening / closing plate 35 Opening / closing hole 36 Support shaft 37 Bearing plate 38 Sliding means 39 Opening / closing cylinder 41 Sliding adjusting means 42 Nut body 43 Screw Rod Material 44 Handle 45 Dispersing Means 46 Inclined Plate 47 Blocking Plate 48 Granulating Plate 49 Protective Plate 51 Adjusting Plate Mounting Plate 52 Adjusting Plate 53 Skirt 60 Removing Device 61 Cleaner Duct 62 Cleaner Hood 63 Suction Nozzle 64 Scraping Piece 5 Partitions 70 Dust Collection Device 71 Air Injection Mechanism 72 Seesaw Arm 73 Swing Motor 74 Swinging Means 75 Eccentric Rotating Disk 76 Eccentric Swing Arm 77 Fume Pipe 78 Air Injection Hole 79 Support Material 81 Suction Mechanism 82 Suction Duct 83 Branch Communication Hood 90 Circulation Separation Device 91 Dust Collection Mechanism 92 Outer Cylinder 93 Intake 94 Outlet 95 Recovery Ejection Section 96 Inner Cylinder 97 Dust Collection Duct 101 Sorting Mechanism 102 Connection Pipe 103 Hopper 104 First Elevator 105 First Elevator Duct 106 Wind Power Sorting Means 107 Wire Mesh 108 108 Blast Sorting Chamber 109 Guide Tube 111 Reservoir 115 Supply Mechanism 116 Second Elevator Duct 120 Recovery Device 121 Recovery Hopper 122 First Feeding Section 123 First Feeding Screw Conveyor Member 124 Second Feeding Section 125 Second Feeding Scribing Konbea member

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 前部に搬入口、後部に搬出口が夫々開口
されている躯体フレームと、躯体フレーム内で搬入口か
ら搬出口に至るまで被処理材を搬送する搬送装置と、搬
入された被処理材に対して、その搬送方向にほぼ直交す
る全域に均一に分散させて研磨材を強制的に叩き付ける
打撃方式の投射装置と、投射後の被処理材表面から研磨
材等を掻取り状に除去し、吸い込む除去装置と、搬出口
近傍の研磨材、その他の塵埃等を吸い込み清掃する吸塵
装置と、吸い込まれた研磨材と塵埃その他とを分離した
後、再使用可能な研磨材を投射装置に再度供給する循環
分離装置とを備えたことを特徴とする平面研磨機。
1. A skeleton frame in which a carry-in port is opened in the front part and a carry-out port is opened in the rear part, and a carrying device for carrying the material to be processed from the carry-in port to the carry-out port in the skeleton frame is carried in. A striking type projection device that evenly disperses the material to be processed uniformly in the entire region substantially orthogonal to the conveying direction, and a scraping method for scraping the material from the surface of the material after projection. To remove and suck in, a dust suction device that sucks in and cleans the abrasives and other dusts near the carry-out port, and after separating the sucked abrasives and dusts, reusable abrasives are projected. A plane polishing machine, comprising: a circulation separation device for re-supplying the device.
【請求項2】 投射装置は、被処理材の搬送方向にほぼ
直交して配装された複数の打撃羽根板を周縁に有して、
回転するドラム状の打撃機構と、研磨材タンクから吐出
された研磨材を被処理材の搬送方向にほぼ直交した方向
で分散させて、旋回される前記打撃羽根板端縁に沿って
打撃羽根板下方に落下供給させる研磨材供給機構とを備
えている請求項1記載の平面研磨機。
2. The projection device has a plurality of striking blade plates arranged substantially orthogonal to the conveying direction of the material to be processed on the periphery,
A rotating drum-shaped striking mechanism and an abrasive material discharged from an abrasive material tank are dispersed in a direction substantially orthogonal to the transport direction of the material to be treated, and the impacting blade plate is swung along the edge of the impacting blade plate that is swung. The flat-surface polishing machine according to claim 1, further comprising a polishing material supply mechanism for dropping and supplying the same.
【請求項3】 打撃機構は、被処理材の搬送方向に対し
てほぼ直交して配置されて底部が開放されているほぼ半
円筒状のカバー内に配装されていて、軸受によって回転
自在に支承されたドラムシャフト周囲にこのドラムシャ
フト自体の長さ方向で適宜間隔毎に羽根支持板を放射状
に列設し、これらの羽根支持板夫々によってドラムシャ
フト自体の長さ方向に沿う打撃羽根板を固定支持して成
る請求項1または2記載の平面研磨機。
3. The striking mechanism is arranged in a substantially semi-cylindrical cover which is arranged substantially orthogonal to the conveying direction of the material to be processed and has an open bottom, and is rotatably supported by a bearing. Around the supported drum shaft, blade support plates are radially arranged at appropriate intervals in the length direction of the drum shaft itself, and by each of these blade support plates, a striking blade plate along the length direction of the drum shaft itself is provided. The flat polishing machine according to claim 1, which is fixedly supported.
【請求項4】 研磨材供給機構は、躯体フレーム上に配
設形成された研磨材タンクと、この研磨材タンクから吐
出供給される研磨材の落下供給量を調整して打撃機構に
供給する流量調整器と、落下供給された研磨材を打撃羽
根板の端縁に沿って被処理材の搬送方向にほぼ直交する
よう分散させる分散手段とを備えている請求項2または
3記載の平面研磨機。
4. The polishing material supply mechanism adjusts a falling supply amount of the polishing material tank, which is disposed and formed on the body frame, and the abrasive material discharged and supplied from the polishing material tank, and supplies it to the striking mechanism. The flat polishing machine according to claim 2 or 3, further comprising: an adjuster; and a dispersion unit that disperses the dropped and supplied abrasive along the edge of the striking blade plate so as to be substantially orthogonal to the direction in which the material to be processed is conveyed. .
【請求項5】 分散手段は、流量調整器と打撃機構との
間に配装されており、流量調整器下方で、打撃機構側に
下方傾斜して配装されていて、最下端縁が打撃機構にお
ける打撃羽根板端縁位置近傍に至る傾斜盤と、この傾斜
盤の下端部上面に突設形成した塞き止め板とから成る請
求項4記載の平面研磨機。
5. The dispersing means is arranged between the flow rate adjuster and the striking mechanism, and is arranged below the flow rate regulator so as to incline downward to the striking mechanism side, and the lowermost edge is striking. 5. The plane polishing machine according to claim 4, comprising a slant plate reaching near the edge position of the striking blade plate in the mechanism, and a blocking plate projectingly formed on the upper surface of the lower end portion of the slant plate.
【請求項6】 除去装置は、吸気源に連通したクリーナ
ーダクトと、下端に至るに伴ない前後方向で次第に狭幅
となって形成されている吸込ノズルを下端に有し、クリ
ーナーダクトに連通して躯体フレーム内に配置されてい
るクリーナーフードとを備えている請求項1乃至5のい
ずれか記載の平面研磨機。
6. The removing device has a cleaner duct communicating with an intake source and a suction nozzle at the lower end, which is gradually narrowed in the front-rear direction as it reaches the lower end, and communicates with the cleaner duct. The flat polishing machine according to any one of claims 1 to 5, further comprising a cleaner hood disposed inside the frame body.
【請求項7】 吸込ノズルの下端縁には、被処理材の搬
送方向に対向するように下方傾斜し、搬送される被処理
材表面上に摺接するゴム板製の掻取片を着脱、交換自在
に付設してある請求項1乃至6のいずれか記載の平面研
磨機。
7. A scraping piece made of a rubber plate, which is inclined downward so as to face the direction in which the material to be processed is conveyed and is in sliding contact with the surface of the material to be processed, is attached to and detached from the lower edge of the suction nozzle. 7. The flat polishing machine according to claim 1, which is attached freely.
【請求項8】 吸塵装置は、被処理材上に高圧空気を噴
射し、被処理材に付着している研磨材、塵埃その他を剥
離させる空気噴射機構と、剥離させた塵埃その他を吸い
込み除去する吸込機構とを備えている請求項1乃至7の
いずれか記載の平面研磨機。
8. The dust suction device injects high-pressure air onto a material to be processed to separate abrasives, dust, and the like adhering to the material to be processed, and sucks and removes the separated dust and other materials. The flat surface polishing machine according to any one of claims 1 to 7, further comprising a suction mechanism.
【請求項9】 循環分離装置は、除去装置、吸塵装置夫
々に連通するサイクロン式集塵機構と、この集塵機構に
よって分離回収された研磨材中から塵埃を選別分離する
選別機構と、選別分離された研磨材を投射装置に供給す
る供給機構とを備えている請求項1乃至8のいずれか記
載の平面研磨機。
9. The circulation separating device is separated by a cyclone type dust collecting mechanism communicating with the removing device and the dust collecting device, and a sorting mechanism sorting and separating dust from the abrasives separated and collected by the dust collecting mechanism. The surface polishing machine according to any one of claims 1 to 8, further comprising: a supply mechanism that supplies an abrasive to the projection device.
【請求項10】 選別機構は、集塵機構末端部の取出口
に接続した接続管と、この接続管下部に貯留された研磨
材を上方に持ち上げるほぼ直立状の第1エレベーター
と、この第1エレベーター上部から自重落下される研磨
材中から塵埃を除去する風力選別手段と、自重落下した
研磨材を貯留する貯留部とを備えている請求項9記載の
平面研磨機。
10. The sorting mechanism comprises a connecting pipe connected to an outlet at the end of the dust collecting mechanism, a substantially upright first elevator for lifting up the abrasive stored in the lower part of the connecting pipe, and the first elevator. The flat polishing machine according to claim 9, further comprising: a wind force selection unit that removes dust from the abrasive material that is dropped by its own weight from an upper portion, and a storage unit that stores the abrasive material that is dropped by its own weight.
【請求項11】 供給機構は、貯留部下部とほぼ一体状
の筐体に形成された第2エレベーターダクト内で循環す
るほぼ直立状の第2エレベーターのものとしてある請求
項9または10記載の平面研磨機。
11. The plane according to claim 9 or 10, wherein the supply mechanism is of a substantially upright second elevator that circulates in a second elevator duct that is formed in a housing that is substantially integral with the lower portion of the storage section. Polishing machine.
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